JP2016125662A - パルス式流体噴出を作り出すための供給システム、供給システムを有する施与システム、および供給システムを作動させるための制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】流体の送出をより効率的にすることを可能にする供給システムを提供する。【解決手段】制御装置５１が、少なくとも１つの弁５５、５５’を制御し、それにより、４秒未満、特に２秒未満の施与時間インターバル内で、ａ）第１の流体が、少なくとも１つの第１の搬送インターバル中、第１の圧力によって第１の供給ライン１１内で搬送され、ｂ）第２の流体が、第１の搬送インターバルに続く第２の搬送インターバル中、第２の圧力によって第２の供給ライン１２内で搬送され、ｃ）前記第１の流体が、少なくとも１つの第３の搬送インターバル中、第３の圧力によって前記第１の供給ライン１１内で搬送される。【選択図】図１０

Description

本発明は、パルス式流体噴出を作り出すための供給システム、供給システムを有する対応する施与システム、および供給システムを作動させるための制御方法に関する。

物質または懸濁液、特に細胞を生体組織内に導入するのに適した適切な施与器具が知られている。たとえば、米国特許出願公開第２００１／００２７２９６Ａ１号明細書は、細胞を処理するために組織から取得し、続いてこれらを組織内に戻すことができる施与器具を説明している。

米国特許出願公開第２０１１／０２８２３８１Ａ１号明細書の器具は、本質的には、物質を導入するための適切な管が、組織内にすでに存在しているということに基づく。時折、適切な管が、先端部によって刺されることがある。適切な管を設けた結果、治療される組織に大きな損傷を与える。さらに、説明されている器具では、導入される物質の広範囲かつ一様な分配を達成することは非常に難しい。

欧州特許第２７２２００８号明細書から、物質を水噴出によって組織内に導入するように働く供給システムを有する施与システムが知られている。施与システムは、アプリケータの弾性伸びおよびシステム内に存在するデッドスペース（＝流体管内の空気充填領域）により、流体がノズル開口部から流れ続ける（滴下し続ける）ことが見られることがあるという問題を被っている。流れ続ける段階における噴出のエネルギー密度は、組織に浸透するほど十分高くないため、一定量の懸濁液が損失される。さらに、知られているシステムは、システム内に予想される（たとえば摩擦による）圧力低減中に十分に高い圧力が出口ノズルにおいて発生するように、圧力は、アプリケータの出口ノズルより、供給システムの出口の方が極めて高くなることを必要とする。これは、懸濁液内に混合された細胞に損傷を与え得る。

この従来技術に基づき、本発明の目的は、流体の送出をより効率的にすることを可能にする供給システムを提供することである。特に、供給システムは、懸濁液が過剰応力を受けることなく、ノズルから高速の出口速度で流体噴出を送出するのに適するよう意図される。送出中、懸濁液の一様な分配を達成するよう意図される。

この目的は、請求項１の主題によって解決される。

特に、上記目的は、施与器具に連結する少なくとも１つの出口を有し、制御装置を有する供給システムであって、制御装置が、少なくとも１つの弁を制御し、それにより、４秒未満の１つの施与時間インターバル内で、
ａ）第１の流体が、少なくとも１つの第１の搬送インターバル中、第１の圧力によって第１の供給ライン内で搬送され、
ｂ）第２の流体が、第１の搬送インターバルに続く第２の搬送インターバル中、第２の圧力によって第２の供給ライン内で搬送され、
ｃ）第１の流体が、少なくとも１つの第３の搬送インターバル中、第３の圧力によって第１の供給ライン内で搬送される、供給システムによって解決される。

本発明の１つの態様は、ステップｃにおいて、第１の流体が、推進剤として利用されて第２の流体を高い圧力によって施与器具から排出することにある。圧力伝送は、故に、非常に遠位で、たとえばノズル近くで発生することができる。このようにして、第２の流体が、本質的には流体がノズルを出るときのものに類似する圧力レベルを受けることが確実にされる。損失を補償するためにより高い圧力を印加することは、第２の流体に関しては必要ではない。本発明によれば、細胞の高生存率を伴って深い組織層内に導入することがこうして可能となる。本発明によれば、第１および／第２の流体を駆動するための圧力パルスを作り出すことが可能である。

１つの実施形態では、第１の送出インターバルにおける第１の圧力は、第２の圧力よりかなり大きい。さらに、第１の圧力は、好ましくは、第３の圧力よりかなり大きい。１つの実施形態では、第１の流体を第１の送出インターバル内で搬送することは、組織内に、第２の流体を導入するための管を作り出す（管開口手順）ために使用され得る。第２の流体を第２の送出インターバル内で搬送することは、既存の貯蔵装置またはリザーバを充填するために使用されてよく、この場合、その後、第３の搬送インターバルにおいて、リザーバ内に貯蔵された流体が押し出される。懸濁液を有効に導入するのに必須となるものは、第１および第３の圧力であり、この場合、第３の圧力は、第２の流体が組織にどれだけ深く浸透するのかについて決定的なものである。

施与時間インターバルは、４秒未満になり得る。１つの実施形態では、施与時間インターバルは、３秒未満またはさらには２秒未満である。本発明によれば、施与時間インターバルは、管を切開するために第１の流体を送出することで開始し、別の管切開手順の前に流体を最後に送出することで終結する時間期間として理解され得る。施与時間インターバルは、したがって、正確には、１つの切開手順と、懸濁液が組織内に導入される少なくとも１つの送出手順とを含む。

供給システムは、少なくとも１つのポンプを備えることができ、このポンプは、好ましくは、第１の流体の本質的に一定の体積流が達成されるように制御装置によって制御される。本発明によれば、ポンプの指定された搬送速度を事前設定することによって、第１の圧力および／または第２の圧力および／または第３の圧力を事前設定することが可能である。しかし、少なくとも１つの実施形態では、ポンプの体積流、たとえば容積流量は、本質的には、施与時間インターバルを通じて一定に維持される。この場合、圧力制御は、１つの／前記弁によって、特に制御弁によって達成され得る。

１つの実施形態では、施与時間インターバルは、少なくとも１つの送出段階および少なくとも１つのバイパス段階を含む。本発明によれば、送出段階は、流体が、施与器具によって施与され得るように、供給システムを介して出口に送出されるものと定義され得る。本発明によれば、バイパス段階は、流体が、施与器具の周りに方向付けられ、好ましくは施与器具から排出されるものとして理解され得る。

供給システムの迅速な反応を達成するために、ポンプが本質的に一定の体積流で機能することが有利である。迅速に変化可能な圧力設定は、バイパスダクトまたはバイパス分岐それぞれを介した流体の特異的排出によって行われ得る。

１つの実施形態では、供給システムは、流体を排出するためのバイパスダクトであって、好ましくは、絞り要素、特に絞り弁を備える、バイパスダクトを備える。制御装置は、第１の弁、特に３／２方弁を少なくとも制御することができ、それにより、第１の流体の（パルス式の）送出のために、出口において、送出段階ではポンプと圧力ダクトの間に、および１つの／前記バイパス段階ではポンプとバイパスダクトの間に流体連通が、確立される。バイパス段階を設けることは、流体のパルス式送出を実現することを非常に効率的に可能にする。最後に、第１の弁が制御されてよく、それにより、バイパスダクトを介して間欠的な排出および出口を介して間欠的な送出が実行される。この制御戦略により、流体を搬送する間、非常に急峻な圧力エッジが達成され、それにより、送出された流体は、非常に短時間で所望のエネルギーレベルに到達する。

この制御戦略は、既存の圧力レベルを非常に短時間で低減するためにも使用されてよく、それにより、上昇時間以外に、減衰時間も最小限に抑えられる。

制御装置は、少なくとも１つの弁を制御することができ、それにより、施与時間インターバル内で、正確には１つの送出段階および少なくとも１つのバイパス段階が実行される。本発明によれば、１つの送出段階によって、前述したステップａ〜ｃを実現することが可能である。１つの好ましい実施形態では、ステップａ毎およびステップｃ毎に、送出段階は、好ましくはバイパス段階が先行するように制御装置によって実行される。

少なくとも１つの第１の弁は、電気弁でよく、この電気弁は、励起された段階において、ポンプと圧力ダクトの間の流体連通が確立されるように配置され形成される。最後に、少なくとも１つの第１の弁を励起することは、送出段階につながる。この配置はいくつかの利点を有する。一方では、第１の制御弁は、パルスシーケンスの送出のための起動中、短時間だけ励起されることが必要とされる。他方では、バイパス分岐によって設定された圧力レベルは、パルスの第１の送出においてすでに利用可能である。しかし、この前提条件は、バイパスダクトにおいて、適切な弁、特に絞り弁が提供されることである。

基本的には、第１の弁は、逆に設置され、それにより、非通電段階において、圧力ダクトは、ポンプと流体連通することが可能である。この場合、ポンプおよび弁の結合された起動が、有利になり得る。たとえば、ポンプを起動している間、切り替え信号が弁に送られて、第１のパルスの送出前に弁を閉じることができる。

すでに説明されたように、１つの実施形態では、バイパスダクトには、絞り要素が設けられ得る。絞り要素は、少なくとも１つの第１の弁において、バイパス圧力が印加されるように構成されてよく、この圧力は、第３の圧力より大きく、特に第３の圧力の少なくとも５０％または少なくとも１００％大きい。圧力レベルｐｍａｘを有する指定されたパルスを作り出すために、圧力を、供給システム内でかなり高く、たとえば過剰圧力ｐ’ｍａｘになるように設定することが有利になり得、それにより、弁を開いた際、供給システム内または施与器具の近位側において、最初に、所望の圧力を上回る圧力波形が発せられる。この圧力波形が広がる間、減衰がすべてのシステムにおいて不可避的に発生し、それにより、最後には、所望の圧力が、エファクタ、たとえばノズルに到着する。この過剰な高圧は、適切なことに、バイパスダクトを、説明された絞り要素と共に使用することによって達成され得る。１つの実施形態では、ポンプは、流体が出口を介して送出されない場合でも絞り要素に対して作動し、それにより、圧力が、供給システム内に蓄積される。この圧力は、バイパス圧力になり得る。好ましくは、バイパス圧力は、これが比較的速く低減されるように設定される。すでに説明された圧力波形の伝播に続いて、ポンプの動力は、流体が最終的にそれによって送出される圧力に必須のものになり得る。

本発明によれば、好ましくはバイパス圧力を貯蔵するように配置される圧力リザーバが提供され得る。圧力リザーバは、バイパス圧力が、圧力波形がエファクタに到達するのに必要とされる時間中、低減されていくように寸法設定され得る。

加えてまたは代替的に、絞り要素は、バイパス圧力が印加されるように構成されてよく、このバイパス圧力は、第１の圧力より大きく、特に第１の圧力の５％または少なくとも１０％大きい。好ましくは、上記で説明された手段は、第１の時間インターバル（ステップａ）中、送出において最大限のパルス形状圧力エッジを達成するために使用される。

加えてまたは代替的に、この手段は、第３の時間インターバル（ステップｃ）中、流体送出において本質的にパルス形状の圧力エッジを達成するためにも使用され得る。１つの実施形態では、制御装置は、絞り要素を直接的に設定することができ、または絞り要素の上流側または下流側の弁を設定することができ、それにより、バイパス圧力は、予想される段階ステップａ）またはステップｃ）に応じて変化する。このようにして、両方の第１の送出インターバルおよび第３の送出インターバル中、急峻な圧力エッジが達成される対策が講じられる。

加えて、またはすでに説明されたバイパスダクトの代わりに、この対策手段は、（他の）バイパスダクトを備えることができる。

この他のバイパスダクトは、ベント段階中、圧力ダクトをベントするために、（第３の）弁を介して圧力ダクトと流体連通してよく、または流体連通にもっていかれてよい。第３の弁は、２／２方弁になり得る。他のバイパスダクトは、圧力ダクトを即座にベントするために使用され得る。その結果、事前設定された圧力の蓄積後、当該圧力は迅速に低減され得る。第３の弁は、たとえば、第１および／または第３の送出インターバルの終了時、適切なベントが行われるように制御され得る。

１つの実施形態では、制御装置は第３の弁を制御し、それにより、施与時間インターバル内で、少なくとも１つのベント段階が実施される。

上記で述べられた目的は、さらに、施与システムによって解決される。

施与システムは、施与器具およびすでに説明されたような供給システムを備えることができる。

施与システムでは、供給システムに関連してすでに説明されたものに類似する利点が、生じる。１つの実施形態では、施与システムは、施与器具内または施与器具のところに配置された少なくとも１つの弁を備える。この少なくとも１つの弁は、好ましくは、供給システムの制御装置によって制御される。

本発明によれば、パルス形状を作り出すために必要とされる制御弁の少なくとも一部を、施与器具の最大限近くにまたはその中に配置し、それにより、非常に急峻なパルスエッジが、圧力蓄積および／または低減において達成されることが探求される。総合的に、弁を器具の近くに配置すること、特に弁をノズルの近くに配置することは、施与システムの反応性を促進し、それにより、いかなる所望の圧力も実現され得る。

さらに、最初に述べられた目的は、供給システムを作動させるための制御方法によって解決される。好ましくは、この供給システムは、すでに説明されたような供給システムである。

１つの実施形態では、制御プロセスは、
ａ）バイパス段階において、バイパス圧力が蓄積するように第１の流体源を起動させるステップと、
ｂ）送出段階において、第１の流体が、バイパス圧力によって圧力ダクト内に送出されるように少なくとも１つの弁を開くステップと、
ｃ）バイパス段階後、および送出段階中、圧力ダクト内に、バイパス圧力より低く、特に少なくとも５％または少なくとも６％低い圧力が存在するように流体源を作動させるステップとを含む。

この制御方法の本発明の必須の態様は、指定された圧力を解放する前、すでに説明されたような、すなわち過剰圧力ｐ’ｍａｘが蓄積されて圧力パルスの伝播中の減衰を防止することにある。本発明によれば、供給システムの最適な作動のための２つのパラメータが存在する。必須となるものは、一方では、バイパス圧力であり、他方では、好ましくはポンプである流体源の送出動力である。

１つの実施形態では、制御方法は、第１の流体が第２の流体を一時的に駆動するように少なくとも１つの弁をオンにするステップを含む。

さらに、上記で述べられた目的は、説明された方法を実施するための指示を有するコンピュータ可読の記憶装置によって、当該指示がコンピュータユニット上で実行される場合に解決される。

以下では、本発明が、いくつかの説明例によって説明される。

中空器官の層状設計の概略図である。 流体が内部供給管から流れている状態の、第１の実施形態（シャトル弁のみ）による施与器具の概略図である。 流体が外部供給管から流れている状態の、第１の実施形態に係る施与器具の概略図である。 流体が内部供給管から流れている状態の、第２の実施形態（シャトル弁および遠位逆止弁）に係る施与器具の概略図である。 流体が外部供給管から流れている状態の、第２の実施形態に係る施与器具の概略図である。 流体が外部供給管から流れている状態の、第３の実施形態（可撓性ノズル）に係る器具ヘッドの概略図である。 流体が内部供給管から流れている状態の、第３の実施形態に係る器具ヘッドの概略図である。 第４の実施形態の器具ヘッド（また、外部供給管による細胞懸濁液の供給を伴う可撓性ノズル）の図である。 流体が外部供給管から流れている状態の、第５の実施形態（ベント装置）に係る施与器具の概略図である。 流体が内部供給管から流れている状態の、第５の実施形態に係る施与器具の概略図である。 流体が外部供給管を通って流れている状態の、第６の実施形態（シャトル弁および可撓性要素の近位逆止弁）に係る施与器具の概略図である。 図７Ａからの可撓性要素の詳細図である。 内部供給管におけるシャトル弁の第１の代替的実施形態の概略図である。 内部供給管におけるシャトル弁の第２の代替的実施形態の概略図である。 内部供給管におけるシャトル弁の弁座の第３の代替的実施形態の概略図である。 第７の実施形態に係る施与器具の概略図である。 図９Ａにおける器具ヘッドの詳細図である。 すべての制御弁が供給システム内に組み込まれた、第１の説明例に係る供給システムの概略図である。 制御弁が施与器具内に組み込まれた、第２の説明例に係る供給システムの概略図である。 パルス式水噴出を作り出すための第１の代替設計の概略図である。 パルス式水噴出を作り出すための第２の代替設計の概略図である。 パルス式水噴出を作り出すための第３の代替設計の概略図である。 パルス式水噴出を作り出すための第４の代替設計の概略図である。 パルス式水噴出を作り出すための第５の代替設計の概略図である。 第１の制御アルゴリズムによる、供給システムによって生成された圧力履歴を示す図である。 第２の制御アルゴリズムによる、供給システムによって生成された圧力履歴を示す図である。 追加的に示されたバイパスおよびベント段階を有する図１８による圧力履歴を示す図である。

以下の説明では、等しい参照番号が、等しい部材に使用される。

図１は、輸出尿路の中空器官の層設計の概略図を示す。必須の組織層は、粘膜１および筋層２である。尿路は、最上部に表されている。この後に、上皮組織が続き、さらに上皮組織の後に、固有層３が続く。次に、縦走筋および環状筋４が表される。本発明の施与システムは、表された尿路の括約筋の欠陥をより早く再生することを確実するために使用され得る。

施与システムは、再生医学ベースの治療、すなわち懸濁液、たとえばニュートリエントブロス内の細胞が、尿道括約筋の上流側に位置するいくつかの組織層を通って、細胞の十分に高い生存率を有して尿道括約筋に進められ、可能な限り小さい損失で尿道括約筋内に堆積されることを可能にする。理想的には、そのようにする際、無傷のままの括約筋組織の損傷が防止される。故に、図１の環状筋４は、本発明の施与システム向けの可能な標的組織を表しており、この場合、施与される水噴出は、物質を筋層２に輸送するために最初に粘膜１を穿孔するために必要とされる。

本発明のシステムの代替的適用性は数多く存在し、たとえば、胆管、胃腸壁、血管壁、気管支壁などである。

図２は、本発明に係る施与器具１０の第１の説明例を示す。施与器具１０の必須の構成要素は、プローブシャフト１４であり、当該プローブシャフト１４は、好ましくは、少なくとも部分的に可撓性であり、近位に器具ヘッド２０を有する。この器具ヘッド２０は、流体の送出のためのノズル２３を有する。流体は、生理食塩水でよく、またはすでに述べられた、細胞部分を有する懸濁液でもよい。流体を供給するために、内部供給管２１が、プローブシャフト１４の管腔内に同軸に配置される。内部供給管２１の外部領域は、内部供給管２１を取り囲む外部供給管２２を形成する。内部供給管２１は、図２Ａに示されるように、側方開口部２６を介して遠位リザーバ２４と流体連通している。内部供給管２１の遠位先端部に配置されたシャトル弁２５は、第１の流体を、内部管２１から遠位リザーバ２４内へと進めることを可能にし、遠位リザーバ２４と外部供給管２２の間の流体連通を遮断する。

内部供給管２１には、第１の流体が第１の入口１１を介して提供され、外部供給管２２には、第２の流体が第２の入口１２を介して提供される。

図２Ｂは、図２Ａにおける器具ヘッド２０の詳細図を示す。図２Ａに係る図とは対照的に、図２Ｂのシャトル弁２５は、側方開口部２６を遮断し、それにより、遠位リザーバ２４と外部供給管２２の間の直接的な流体連通が確立される。

本発明の態様は、供給流体を、ほぼ完全なパルス形状で、出口開口部２３、すなわちノズル２３を介して送出することである。本発明に係る器具ヘッド２０は、比較的低い圧力での流体パルスの送出を可能にし、この圧力によって、流体は、標的組織内へと適切に浸透することができる。現存する圧力の効率的な利用により、細胞は、この施与では、「助命」される。

本発明の別の態様は、パルスを制御することによって、流体、特に、細胞懸濁液を、標的組織の異なるレベル内に導入することである。この施与において現存の圧力を効率的に使用することにより、細胞懸濁液は、「助命されて」標的組織内へと、特にさまざまな場所に導入され得る。

施与時間インターバル内で懸濁液を効果的に導入するために、たとえば、図１７に示されるように、第１の流体は、第１の時間インターバルＴ１内で、最初に、高圧ｐｈによって搬送される。この第１の時間インターバルＴ１では、器具ヘッド２０は、図２Ａに示されるような状態にある。第１の流体は、内部供給管２１を退出し、遠位リザーバ２４を充填し、規定されたノズル直径を有するノズル２３を介して送出される。したがって、第１の流体は、高運動エネルギーで組織上に衝突し、導入管を作り出すために利用され得る。後続の第２の時間インターバルＴ２では、第２の流体は、非常に低い圧力ｐｚで駆動され、それにより、遠位リザーバ２４は、第２の流体、すなわち懸濁液で充填されるようになる。この段階では、器具ヘッド２０は、図２Ｂに示されるような状態をとることができる。シャトル弁２５は、内部供給管２１を遮断し、それにより、第１の流体が流れ続けることが、防止される。遠位リザーバ２４の充填に続いて、第３の時間インターバルＴ３では、第１の流体は、圧力ｐｌによって搬送される。好ましくは、この圧力ｐｌは、高圧ｐｈよりかなり低く、それにより、懸濁液の穏やかな施与が行われる。第３の時間インターバルＴ３内では、器具ヘッド２０は、ここでも、図２Ａに示されるような状態にある。第１の流体は、遠位リザーバ２４内に浸透し、第２の流体を押しのける。すなわち、第１の流体は推進剤であり、所与の圧力ｐｚにおける第２の流体を放出するためのものである。この構成によれば、遠位リザーバ２４は、施与時間インターバル内の別の時間（第４の時間インターバルＴ４を参照）の間充填されてよく、懸濁液は、別の時間（時間インターバルＴ５を参照）の間送出されてよい。

図３Ａは、本発明に係る施与器具１０の別の実施形態を示す。図２Ａおよび２Ｂの実施形態とは対照的に、図３Ａに係る実施形態では、別の弁が、器具ヘッド２０内に設けられる。前記別の弁である、逆止弁２５’、ならびにシャトル弁２５が、外部供給管２２内に位置する。シャトル弁２５とは反対に、逆止弁２５’は、施与器具１０の遠位先端部より離れて配置される。逆止弁２５’は、外部供給管２２を圧力が無い状態に完全に遮断するゴムリップである。図３Ａは、対応する圧力が無い状態を示し、この中では、第１の流体が搬送され、ノズル２３を介して出力される。

第２の流体を外部供給管２２内で第２の入口を介して搬送する際、逆止弁２５’は開き、すでに例示されたように、シャトル弁２５は側方開口部２６を係止する。対応する状態が、図３Ｂに示される。この状態で、遠位リザーバ２４は、充填され得る。外部供給管２２内の流体の流れが停止するとすぐに、逆止弁２５’は閉じる。この点において、第２の流体は、流れ続けることが防止される。内部供給管２１内において、圧力が遠位リザーバ２４の圧力を超える場合、シャトル弁２５は開く。その結果、非常に急峻な外部エッジが、パルス噴出において精力的に作り出され得る。

説明された実施形態は、図４Ａおよび４Ｂに例示されるように、特に有利には可撓性ノズル２３と共に使用されることを可能にする。しかし、可撓性ノズル２３もまた、逆止弁２５’が存在するかしないかに関係無く、有利なものになり得る。

図４Ａにおける可撓性ノズル２３は、圧力が無い状態で閉じられる。このために、可撓性ノズル本体は、施与器具１０内に組み込まれ、それにより、特定の押圧が、ノズル本体に径方向に作用し、初期の状態においてノズル開口部を閉止する。遠位リザーバ２４内のノズル本体の近位の圧力が、たとえば、第２の流体を供給することによって増大する場合、ノズル本体は、最初、ノズルを開くことなく外方向にわずかに曲げられる（図示せず）。こうして、遠位リザーバ２４内の規定された体積量が、事前投与され得る。続いて、すでに説明されたような事前投与された体積が、次の高圧パルス（第３または第５の時間インターバルＴ３、Ｔ５を参照）で、組織内に開かれている管内に導入され得る。この説明例において説明されるノズル本体は、径方向にテーパ状の円周方向リップを有する。ノズル本体はまた、二部分構成で設計され得る。たとえば、円周方向リップは、可撓性材料からなることができ、一方で、その基部においては、これは、硬質材料の支持体によって包み込まれる。可撓性ノズル２３のパフォーマンス、特に事前投与および充填段階それぞれにおけるその膨張は、材料の選択および組み込まれた状態における押圧の程度によって決定的に決まる。本発明によれば、可撓性ノズル２３は、十分な膨張、したがって遠位リザーバ２４内の事前投与された量の収容が、たとえば２０バールより大きい高圧を要求することなく達成され得るように構成される。さらに、可撓性ノズルは、開状態において、ノズル開口部２３が、噴出効果、すなわち流体の十分な加速が達成されることが可能にされるのに十分大きくなるように構成される。

本発明における可撓性ノズル２３は、第１および／または第２の流体の施与に続いて、流体が流れ続けることを防止するために使用され得る。それと同時に、遠位リザーバ２４の適切な充填時、ある一定の予圧が保存され、これは、その後、回収され得る。さらに、可撓性ノズル２３は、施与器具１０を詰まらすリスクを最小限に抑える。本発明に係る構成では、詰まりは結果として圧力の上昇を生じさせるだけであり、これはさらに、ノズル２３の膨張を引き起こし、それにより有害粒子が通過し得る。

図４Ｂは、たとえば、第３の時間インターバルＴ３内において、可撓性ノズル２３が開いている状態の器具ヘッド２０を示す。

図５は、図４Ａおよび４Ｂにおける器具ヘッドの代替の実施形態を示す。ここでは、外部供給管２２は、第１の流体を供給するためのものであり、内部供給管２１は、第２の流体を供給するためのものである。図５に示される状態は、たとえば、第１の時間インターバルＴ１において、第１の流体が組織管を作り出すために使用される場合に発生する。また、すでに説明された、本発明に係る他の実施形態では、内部供給管２１は、第２の流体に使用されてよく、外部供給管２２は、第１の流体に使用されてよい。

図６Ａおよび６Ｂは、本発明に係る別の説明例を示し、ここでは、可撓性要素は、第２の受動弁として使用される。図２Ａおよび２Ｂに係る説明例とは異なり、図６Ａの施与器具１０は、第２の入口内にベント装置４０を有する。ベント装置４０の必須の構成要素は、第２の入口１２が終端するベント室４４、ベント口４１、およびベント弁４５である。ベント口４１の機能は、ベント弁４５によって制御される。ベント口４１は、第２の入口１２をベントし、したがって、外部供給管２２の少なくとも一セクションをベントすることを可能にする。第２の入口１２が加圧されると、ベント弁４５は、後退後に遮断する（第２の入口１２とベント口４１の間のシール効果）。ベント弁４５から遠位に、ベント室４４内において過剰圧力が存在する。その結果、第２の流体は、器具ヘッドに向かって流れることができ、（たとえば第３の時間インターバルＴ３中）送出され得る。この状態は、図６Ａに示される。

第２の入口１２内の圧力が低下する場合、ベント弁４５は、その初期状態に変化し、第２の入口１２の近位部分をベント室４４に対して遮断する（図６Ｂによる状態を参照）。それと同時に、第２の入口１２の遠位領域内の過剰圧力は、ベント口４１を介して迅速に低減される。その結果、ノズル２３を流れ続けることが非常に速く停止され、理想的には防止されるが、その理由は、ベント口４１内の流れ抵抗は、ノズル２３内のものよりかなり小さいためである。この点において、送出されたパルス式の流体噴出の圧力エッジは、極めて急峻に低下し得る。シャトル弁２５は、この状態において、外部供給管２２を遮断するため、非常に小さい量の第２の流体しかベント口４１を通じて逃げない。本発明によれば、ベント口を出る物質を受け入れるための装置を提供し、時折その物質を回収することが考えられる。本発明によれば、いくつかのベント口４１もまた、提供され得ることが理解される。

別の説明例では、ベント弁４５は、受動弁ではなく、能動弁または制御弁それぞれである。たとえば、施与器具１０のハンドル内では、電磁弁が、ベント弁４５の機能を引き継いで設けられ得る。この電磁弁は、供給システム５０によって制御され得る（図１０を参照）。

図７Ａは、その作動形態において図３Ａおよび３Ｂのものに類似する施与器具１０の実施形態を示す。逆止弁２５’は、外部供給管２２内に入る第２の入口１２のオリフィスにおいて可撓性要素によって形成される。可撓性要素は、図示されていない初期状態では、第２の入口１２を遮断するよう押圧することが実現されるように設計される。それによって達成された緊張は、無圧状態においてシール効果を生み出す。第２の入口１２が加圧されると、可撓性要素は変形し（図７Ａを参照）、それにより、外部供給管２２につながる流体連通が達成される。第２の入口１２内の圧力が再度低減する場合、リセット力は、特異的な圧力閾値のずれが小さくなった後、可撓性要素を初期の状態にリセットし、逆止弁２５’は閉じる。

説明例では、可撓性要素は、可撓性の管状体から構成される。たとえば、図７Ｂに示される、長手方向軸の方向に延びるリブ５および／または比較的堅固な材料の強化繊維６などの強化構造を適用することにより、逆止弁２５’のより強い押圧、およびその結果としてのより高い係止力が、達成され得る。

図８Ａ、８Ｂ、８Ｃは、シャトル弁２５の異なる実施形態を示す。好ましい実施形態では、これは、可撓性材料によって形成され、この可撓性材料は、内部供給管２１の外側に配置され、したがってその中で終端する側方開口部２６を遮断する。

図８Ａに係る実施形態は、内部供給管２１の遠位端部において部分的に配置された可撓性管体３０を示す。可撓性管体３０の固定は、クランプリング３１によって行われる。図８Ａに係る実施形態の１つの有意な態様は、可撓性管体３０が内部供給管２１の遠位端部において部分的に突出することにある。最後に、内部供給管２１上の可撓性管体が当接する第１のセクション３４と、可撓性管体３０がテーパ状になる第２のセクション３５とが、結果として生じる。したがって、可撓性管体３０は、例外的に高い表面圧力を有するシーリング縁３２にわたって延びる。このようにして、優れたシーリング効果が達成される。

図８Ｂに係る実施形態では、内部供給管２１は、径方向の外方に突出する隆起を部分的に有する。この隆起は、側方開口部２６が位置する場所に配置される。隆起の近位および遠位では、内部供給管２１は、より小さい直径を有する。その結果、可撓性管体３０に関して、より大きい直径を有する第１のセクション３４、小さい直径を有する第２のセクション３５、および小さい直径を有する第３のセクション３６が、結果として生じる。第２および第３のセクション３５および３６の直径は、同一になり得る。別の説明例（図示されず）では、第２および第３のセクション３５および３６の直径もまた、異なる値を有することができる。第１のセクション３４および第２のセクション３５および／または第３のセクション３６セクションの異なる直径により、シャトル弁２５の遮断機能を増大させるシーリング縁３２が作り出される。さらに、第１のセクション３４におけるより大きい直径は、可撓性要素の予備伸長および予張を引き起こし、これもまた、優れたシーリング効果を生じさせる。

より高い表面圧力もまた、内部供給管２１の側方開口部２６を取り囲むシリンダセグメントによって達成され得る（図８Ｃを参照）。最後に、前記シリンダセグメントもまた、シーリング縁３２を形成し、これは、弁の遮断機能を増大させる。

図９Ａおよび図９Ｂは、施与器具１０、特に器具ヘッド２０の別の実施形態を示す。ここでは、プローブシャフト１４は、多腔型の管体である（２腔型の管体が示される）。したがって、この説明例では、互いに同軸に配置され、内部供給管２１および外部供給管２２を構成する管は存在しない。その代わり、第１の流体用の第１の供給管２１’が、第２の供給管２２’に対して平行に延びる。第１の供給管２１’と第２の供給管２２’の間には、分離壁２８が設けられる。図示される説明例では、第１の供給管２１’の断面積は、第２の供給管２２’のものとはかなり異なる。たとえば、第１の供給管２１’は、第２の供給管２２’の２倍の大きさの断面積を有することができる。これらのかなり異なる断面プロファイルは、異なる量が流れることを確実にすることができ、たとえば、異なる容積流量（本発明によれば、第１の流体の体積流は、第２の流体のものより多い）が、考えられる。本発明によれば、第１の供給管２１’の断面プロファイルは、第２の供給管２２’の断面プロファイルの２倍を上回ることができる。

図９Ａおよび９Ｂに係る実施形態において、第１の供給管２１’は、遠位端部においてテーパ状になり、次いで、ノズル２３と直接流体連通するかなり広い遠位リザーバ２４内で終端する。第２の供給管２２’の側部開口部２６は、第１の供給管２１’のテーパ状になるセクションのほぼ中央の側方に終端する。テーパ状になるセクション（＝ホルダ）では、リップ逆止弁２５を形成するための可撓性要素が配置される。最後に、双方向弁が結果として生じ、これは、すでに説明されたシャトル弁２５の機能を引き受ける。リップ逆止弁は、好ましくは、硬質（非可撓性）材料のホルダによって第１の供給管２１’内に軸方向に装着される。テーパ状になるセクションの内部輪郭は、リップ逆止弁の遠位部分の外側輪郭に概ね対応する。このとき、テーパ状になるセクションの開口部は、初期状態（可撓性要素は、図９Ａに示されるようなものであり、すなわち膨張されていない）では、空隙が、可撓性要素のリップとホルダの内部壁との間に結果として生じるように寸法設定される。たとえば、第１の流体が第１の入口管２１’を通って流れると、可撓性要素の遠位セクション−弁のリップは、膨張されていき、それにより、当該リップは、圧力閾値を上回って開かれ、第１の流体は、遠位リザーバ２４内に入ることができる。それと同時に、下側弁リップは、圧力によってテーパ状になるセクションの壁に対して押圧される。こうして、可撓性要素は、側部開口部２６を第２の供給管２２’から遮断する。第１の供給管２１’の圧力状態は、この状態において、第２の供給管２２’の圧力状態から切り離される。第１の供給管２１’内の圧力が低下する場合（たとえば、第１の時間インターバルＴ１後）、シャトル弁２５は、初期状態に戻り、それにより、側部開口部２６は、図９Ｂに示されるように解放される。第２の時間インターバルＴ２では、第２の流体は、ほとんど速度を落とさずに空隙を通過することができ、それにより、低圧での遠位リザーバ２４の充填が可能である。可撓性要素は、このとき、遮断方向に作動するため、これは、ここでも、第１の供給管２１’と第２の供給管２２’の間の障壁として作用する。好ましくは、空隙は、第２の流体が、低圧でほとんど速度を落とさずに流れることができ、他方では、シャトル弁２５が、第２の流体が第１の供給管２１’に入ることを回避するように安全に遮断されるように寸法設定される。

同じ効果（双方向弁効果）はまた、内部の作用する弁をボール弁と組み合わせて使用することによって達成されてもよい。両方の弁は、管腔（好ましくは大きい方）内に順次配置される。その一方で、ボール弁は、可撓性要素に関連して近位に配置される。この配置では、弁の各々１つは、流体の遮断を各々１つの方向で実行し、その間の流れは、各々１つの他方の方向で速度を落とすことなく維持される。

これまで説明されてきたすべての実施形態は、第１の供給管２１’および内部供給管２１内それぞれで、ならびに第２の供給管２２’および外部供給管２２内それぞれで異なる圧力レベルを達成する本発明の目的を有する。このために、管は、弁の助けによって互いから切り離される。それと同時に、説明された形態の受動弁の使用は、流れ続けることの抑制、および圧力リザーバ機能の実現を可能にする。これら２つの機能は、近位に配備された能動弁の使用と組み合わせると特に有利である。次に、前述した施与器具を作動させるための本発明のいくつかの供給システム５０が説明される。本発明によれば、供給システム５０はまた、他の施与器具１０、たとえば共通施与器具でも使用されて、以下で説明される有利な効果を達成することができる。

図１０は、供給システム５０を示し、これを通じて、第１の入口１１および第２の入口１２が、説明された施与器具１０に連結される。図１０に示される説明例では、第２の入口１２内には、媒体分離装置６０が設けられ、それにより、供給システム５０は、第１の流体、好ましくは生理用食塩水を、さまざまな連結を介して送出することができ、この場合、選択された入口に応じて、異なる流体が、最終的に施与器具１０に到着することができる（第１の入口１１には第１の流体および第２の入口１２には第２の流体）。

供給システム５０は、制御方法を実施する制御装置を備え、この制御方法では、１つの施与時間インターバル内で、以下のステップ：
−第１の流体を第１の搬送インターバルＴ１中、高圧ｐｈによって第１の供給ライン１１内へと搬送するステップと、
−媒体分離装置６０を使用しながら、第２の流体を第２の搬送インターバルＴ２中、第２の圧力ｐｚによって第２の供給ライン１２内で間接的に搬送するステップと、
−第１の流体を第３の搬送インターバルＴ３中、第３の圧力ｐｌによって第１の供給ライン内で搬送するステップとが実行される。

本発明によれば、制御方法は、第４の搬送インターバルＴ４および第５の搬送インターバルＴ５中、適切な制御戦略を追加的に提供するように設計され得る（図１７を参照）。

制御方法の実現のために、制御装置５１は、たとえば、ポンプ５２の流体源、第１の制御弁５５および第２の制御弁５５’と相互作用する。

ポンプ５２は、供給システム５０の圧力リザーバ５３と流体連通する。図示される説明例では、ポンプ５２は、連続的に作動し、流れ制御される。圧力リザーバ５３と流体連通する第１の制御弁５５の制御は、所望のパルス形状（周波数、負荷係数、有効パルスパフォーマンス）を設定することを可能にする。ポンプの流れ制御は、第１の制御弁５５の切り替え位置に関係無く、供給システム５０内に第１の流体の一定の体積流を生じさせる。

第１の制御弁５５は、好ましくは、３／２方弁であり、この３／２方弁は、励起された状態において、圧力ダクト５４を介して圧力リザーバ５３と第２の制御弁５５’の間に流体連通を確立する。第１の制御弁５５は、本質的には、所望の圧力レベルを蓄積するように働き、一方で第２の制御弁５５’は、設定された圧力レベルを第１の入口または第２の入口１２に加える。

第１の制御弁５５の無電解状態下（図１０を参照）では、圧力リザーバ５３−その結果さらにポンプ５２と、第１のバイパスダクトＢＹ１との間に流体連通が存在する。流体の流れは、バイパスダクトＢＹ１を介して排出され、それにより、ポンプ５２に対する誤りの無い作動状態が発生する。好ましくは、図１０に示されるような第１のバイパスダクトＢＹ１には、絞り弁５８が設けられ、絞り弁５８は、ある一定の圧力レベルを上流側のシステムセクションまたは第１の制御弁５５内で維持することを実現する。この圧力レベルを設定するために、絞り弁５８での水圧抵抗は、手動で、または制御装置５１を介して設定され得る（図１３を参照）。図１０に示される説明例では、抵抗は事前に設定される。圧力リザーバ５３内における図１０に示される状態では、絞り弁５８によって事前に設定された圧力レベルが設定される。この圧力レベルが、第１の制御弁５５を介して２つの入口１１、１２のうち１つに加えられるとすぐに、その入口内の圧力が回復する。この点において、急峻なエッジを有する流体パルスが発せられ得る。本発明によれば、バイパス段階ＵＤ１、ＵＤ２（図１９を参照）において、所望の圧力、たとえば第１の圧力ｐｈまたは第３の圧力ｐｌを超える圧力レベルｐ’ｍａｘに達することがこうして可能である。前記圧力は、好ましくは、ポンプ５２の効率性によって設定される。この圧力増大の結果、圧力パルスはライン内で非常に速く広がる。この点において、非常に急峻なパルスエッジが、ノズル２３において達成され得る。さらに、過剰圧力が、入口１１、１２内の圧力の損失を補償することができる。しかし、過剰圧力は、速い力の増大が達成され、一方でノズル２３のところの所望の圧力を超えないように選択されなければならない。

第１の制御弁５５から開始して、励起された状態（図示せず）では、圧力は、圧力ダクト５４を介して第２の制御弁５５’まで広がる。説明される例では、第２の制御弁５５’は、入口１１、１２を選択する。

別の説明例では、過剰圧力の効果は、後続の物質入力のための予備ステップとして生体組織の初期の穿孔を実行するために使用され得る。この説明例では、供給システムは、したがって、時間と共に低下する、急峻に増大する圧力プロファイルを生成する。第２の制御弁５５’は、低下する圧力エッジの経過中、組織の穿孔（第１の時間インターバルＴ１）が、最初に実行され、次いで、遠位リザーバ２４の充填（第２の時間インターバルＴ２）、および最後に物質の入力（第３の時間インターバルＴ３）が、実行されるように設定される。

別の説明例（図１１を参照）では、第２の制御弁５５’は、器具１０内に一体化される。好ましくは、第２の制御弁５５’の制御は、制御装置５１を介して依然として行われる。別の好ましい説明例では、第１の制御弁５５も、追加的に、施与器具に組み込まれる。好ましくは、施与器具１０のハンドル内のそれぞれの組み込みが、行われる。これにより、圧力パルスは、長くおよび／または可撓性の供給ラインによって減衰されることが防止され得る。本発明の１つの態様によれば、必要とされる制御弁５５、５５’は、施与器具１０のできる限り近くにまたはその中に配置される。

１つの実施形態では、第１の制御弁５５の配置は、非通電状態において、これが、圧力ダクト５４とポンプ５２の間の連通を遮断するように選択される。圧力ダクト５４は、したがって、それぞれ、バイパス段階ＵＤ１、ＵＤ２中、無圧であり、または残留圧力によって加圧される。この構成は２つの利点を有する：一方では、第１の制御弁５５は、パルスシーケンスの送達のための起動中、短時間だけ励起されことが必要とされる。他方では、絞り弁５８によって設定された圧力レベルは、送出された第１のパルスにおいてすでに利用可能である。

図１２は、流体パルスを効果的に生成するための別の実施形態を表す。この実施形態では、両方向弁が、第１の制御弁５５として使用される。上記で説明した実施形態のように、ポンプ５２と圧力リザーバ５３の間に流体連通が存在する。さらに、２／２方弁による、圧力リザーバから第１の制御弁５５までの流体連通が存在する。

さらに、圧力リザーバ５３から、下流側絞り弁５８が後に続く第１のバイパス内のリリーフ弁５９までの流体連通が存在する。２／２方弁は、事前に設定された持続時間を伴う水噴出パルスの送出のためのものであり、一方でリリーフ弁５９は、バイパス段階ＵＤ１、ＵＤ２中、所望の圧力レベルの生成を可能にする。このために、リリーフ弁５９は、指定された圧力に到達した際、第１のバイパスダクトを、圧力が低減され得るように解放するように設定され得る。リリーフ弁５９は、好ましくは制御装置５１によって制御される制御装置として機能することができる。別の態様では、リリーフ弁５９の圧力−圧力流れ特性曲線は、弁を通過する間、いくらかの圧力が弁において低下するように設計され得る。１つの実施形態では、リリーフ弁５９は、完全に省略される。

図１３は、２つの２／２方弁が使用される、別の説明例を示す。最後に、第１の制御弁５５は、システム内に存在する圧力を施与器具１０まで行き渡らせるのを制御するように依然として働く２／２方弁として設計される。これも同様に２／２方弁である第３の制御弁は、第１のバイパスＢＹ１を解放または遮断することによってシステム内の圧力設定を可能にする。第３の制御弁５５’’は、本質的には、いくらかの過剰圧力を蓄積するのに寄与することができる。

パルスの送出後、降下時間を短縮するために、別のバイパスダクトＢＹ２が、第１の制御弁の流れそらし側に設けられ得る。図１４は、初期の状態の弁の配置の対応する実施形態を示し、この場合、弁は、施与ステップによって制御される。第４の制御弁５５’’’は、入口１１、１２’内の現在の圧力の迅速かつ特異的な低減を可能にする。この実施形態は、図１９に示されるような、ベント段階ＥＮＴ１、ＥＮＴ２の実現を可能にする。図１４に示される実施形態では、第１のバイパス段階ＵＤ１内で過剰圧力を蓄積し、これを施与器具１０に特異的に移送することがこうして可能であり、それにより、そのノズル２３において、可能な限り急峻なエッジを有するパルスが発せられる。続いて、ポンプ５２は、流体をさらに駆動して、第１の時間インターバルＴ１中、第１の圧力を維持する。続いて、第１の制御弁５５は、パルスを終結させるために遮断される（時間点ｔ２）。それと同時に、第４の制御弁５５’’’が開かれて、第２のバイパスダクトＢＹ２との流体連通を作り出す。このようにして、第１のベント段階ＥＮＴ１が実施される。降下時間は、非常に短く、たとえば遠位リザーバ２４内の直接的な圧力低減につながる。同様に、第３の時間インターバルＴ３−懸濁液の施与中、開始時（バイパス段階ＵＤ２）および終了時（ベント段階ＥＮＴ２）において、可能な限り急峻なパルスエッジが達成され得る。

図１５は、２／２方弁が、第１の制御弁５５として使用される説明例を示す。２／２方弁は、バイパスダクトＢＹ１内に組み込まれ、一方で施与器具１０は、ポンプに直接的に連結される。この設計の利点は、これによって、ベント段階ＥＮＴ１、ＥＮＴ２もまた、より速い圧力低減のために実施され得ることにある。これまで説明された実施形態と比較して、この実施形態は、非常に簡単で安定的である。

図１６は、本発明に係る供給システム５０の別の説明例を示す。ここでは、２つの３／２方弁が、すでに説明された機能を実現するために使用される。

説明された能動弁および制御弁は、それぞれ、電磁ドライブまたは当該技術分野で知られている別のドライブを有することができる。たとえば、圧電アクタ、空圧ドライブユニットまたは類似するものが使用されてよい。さらに、実施形態は、いかなるやり方でも互いに組み合わせられてよい。本発明の実現のために、ニードル弁、膜弁、ロッカ弁および他のものが、使用されてよい。説明された２／２方弁の実現のために、たとえば、その滅菌性によって好まれるクランプ弁が、使用されてよい。

図１７および図１８は、異なる圧力履歴を示し、その各々は、組織の穿孔のための１つのパルス（第１の時間インターバルＴ１）および物質の施与のための２つのパルス（第３および第５の時間インターバルＴ３およびＴ５）を有する。第２の時間インターバルＴ２は、遠位リザーバ２４を充填するために使用される。図１７によれば、遠位リザーバ２４の再充填が、第４の時間インターバルＴ４内で行われる。図１８によれば、対応する再充填は省略される。

図１９は、時間インターバルＴ１からＴ５に関連するバイパス段階ＢＹ１、ＢＹ２およびベント段階ＥＮＴ１、ＥＮＴ２の時間配置を示す。第１のバイパス段階は、時間ｔ１における第１の時間インターバルＴ１の開始で終結する。第１のベント段階ＥＮＴ１は、時間ｔ２における第１の時間インターバルＴ１の終了で開始する。ｔ２とｔ３の間のインターバル内では、第２のバイパス段階ＢＹ２が開始し、これは、時間ｔ３において第３の時間インターバルＴ３の開始で終結する。時間ｔ４における、第３の時間インターバルＴ３の終了時、第２のベント段階ＥＮＴ２が開始し、これは、時間ｔ５で終結する。

１ 粘膜
２ 筋層
３ 固有層
４ 環状筋
５ リブ
６ 補強繊維
１０ 施与器具
１１ 第１の入口、第１の供給ライン
１２ 第２の入口、第２の供給ライン
１４ プローブシャフト
２０ 器具ヘッド
２１ 内部供給管
２１’ 第１の供給管
２２ 外部供給管
２２’ 第２の供給管
２３ 出口開口部、ノズル、
２４ 遠位リザーバ
２５ シャトル弁
２５ 逆止弁
２６ 側部開口部
２８ 分離壁
３０ 可撓性管体
３１ クランプリング
３２ シーリング縁
３４ 第１のセクション
３５ 第２のセクション
３６ 第３のセクション
４０ ベント装置
４１ ベント口
４４ ベント室
４５ ベント弁
５０ 供給システム
５１ 制御器
５２ ポンプ
５３ 圧力リザーバ
５４ 圧力ダクト
５５、５５’ 制御弁
５８ 絞り弁
５９ リリーフ弁
６０ 媒体分離装置
１００ 施与システム
Ａｄ 外部直径
ＢＹ１、ＢＹ２ バイパスダクト
ＵＤ１、ＵＤ２ バイパス段階
ＥＮＴ１、ＥＮＴ２ ベント段階
ｔ１〜ｔ６ 時間点
Ｔ１〜Ｔ５ 時間インターバル
ｐｚ、ｐｌ、ｐｈ 圧力

Claims (13)

1. 施与器具に連結する少なくとも１つの出口を有するとともに、制御装置（５１）を有する供給システムであって、前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの弁（５５、５５’、５５’’、５５’’’）を制御し、それにより、４秒未満、特に２秒未満の施与時間インターバル内で、
   ａ）第１の流体が、少なくとも１つの第１の搬送インターバル（Ｔ１）中、第１の圧力（ｐｈ）によって第１の供給ライン（１１）内で搬送され、
   ｂ）第２の流体が、前記第１の搬送インターバル（Ｔ１）に続く第２の搬送インターバル（Ｔ２）中、第２の圧力（ｐｚ）によって第２の供給ライン（１２）内で搬送され、
   ｃ）前記第１の流体が、少なくとも１つの第３の搬送インターバル（Ｔ３）中、第３の圧力（ｐｌ）によって前記第１の供給ライン（１１）内で搬送される、供給システム。
2. 好ましくは前記制御装置（５１）によって制御される、少なくとも１つのポンプ（５２）であって、それにより、前記第１の流体の本質的に一定の体積流が、特に送出段階およびバイパス段階（ＵＤ１、ＵＤ２）中、達成されることを特徴とする、請求項１に記載の供給システム。
3. 前記流体を排出するためのバイパスダクト（ＢＹ１）であって、好ましくは絞り要素、特に絞り弁（５８）を備え、前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの第１の弁（５５）、特に３／２方弁を制御し、それにより、前記第１の流体のパルス式送出のために、前記出口において、送出段階では前記ポンプ（５２）と圧力ダクト（５４）の間、および１つの／前記バイパス段階（ＵＤ１、ＵＤ２）では前記ポンプ（５２）と前記バイパスダクト（ＢＹ１）の間に流体連通が交互に確立される、バイパスダクト（ＢＹ１）を特徴とする、請求項１または２に記載の供給システム。
4. 前記制御装置（５１）が、前記少なくとも１つの第１の弁（５５）を制御し、それにより、前記施与時間インターバル内で、少なくとも１つの送出段階および少なくとも１つのバイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）が実行されることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項、特に請求項３に記載の供給システム。
5. 前記少なくとも１つの第１の弁（５５、）が電気弁であり、当該電気弁は、励起された段階において、前記ポンプ（５２）と前記圧力ダクトの間に流体連通（送出段階）が存在するように配置され形成されることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項、特に請求項３または４に記載の供給システム。
6. 前記／１つの絞り要素が設定され、および／または前記制御装置（５１）が、前記／１つのバイパスダクトのところで第３の弁（５５’’）を設定し、それにより、当該第３の弁（５５’’）において、前記第３の圧力（ｐｌ）より大きく、特に前記第３の圧力（ｐｌ）の少なくとも５０％または少なくとも１００％大きいバイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が印加され、および／または
   前記絞り要素が設定され、および／または前記制御装置（５１）が、前記バイパスダクト（ＢＹ１）のところで前記第３の弁（５５’’）を設定し、それにより、前記第１の圧力（ｐｈ）より大きく、特に前記第１の圧力（ｐｈ）の少なくとも５％、または少なくとも１０％大きいバイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が、印加されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項、特に請求項３から５のいずれか一項に記載の供給システム。
7. 前記制御装置（５１）が、少なくとも１つの第２の弁（５５’）を制御し、それにより、前記／１つの圧力ダクト（５４）と前記第１の供給ライン（１１）の間、および前記圧力ダクト（５４）と前記第２の供給ライン（１２）の間の流体連通が、交互に確立されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の供給システム。
8. 前記制御装置（５１）によって制御される、第４の弁（５４’’’）、特に２／２方弁を介して、前記／１つの圧力ダクト（５４）との流体連通にもっていかれて前記圧力ダクト（５４）をベント段階（ＥＮＴ１、ＥＮＴ２）においてベントするように適合された１つの（他の）バイパスダクト（ＢＹ２）を特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の供給システム。
9. 前記制御装置（５１）が、前記第４の弁（５４’’’）を制御し、それにより、前記施与時間インターバル内で、少なくとも１つのベント段階（ＥＮＴ１、ＥＮＴ２）が、特に前記ステップａ）の終了時および／または前記ステップｃ）の終了時に実施されることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項、特に請求項８に記載の供給システム。
10. 施与システムであって、
    ａ）施与器具と、
    ｂ）請求項１から９のいずれか一項に記載の供給システム（５０）とを備え、
    前記弁（５５、５５’、５５’’、５５’’’）の少なくとも１つが、前記施与器具内に配置され、少なくとも１つの制御ダクトを介して、前記制御装置（５１）によって制御される、施与システム。
11. 特に請求項１から１０のいずれか一項に記載の供給システム（５０）を作動させるための制御方法であって、
    ａ）バイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）において、バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）が蓄積されるように第１のポンプ（５２）を起動させるステップと、
    ｂ）送出段階において、第１の流体が、前記バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）によって圧力ダクト（５４）内へと送出されるように少なくとも１つの弁を開くステップと、
    ｃ）前記バイパス段階（ＵＤ１，ＵＤ２）に続いて、および前記送出段階中、前記圧力ダクト（５４）内に、特に前記バイパス圧力（ｐ’ｍａｘ）より少なくとも５％または少なくとも６％低い圧力が存在するように前記ポンプ（５２）を作動させるステップとを含む、制御方法。
12. ｄ）前記第１の流体が一時的に第２の流体を駆動するように少なくとも１つの弁を切り替えるステップを特徴とする、請求項１１に記載の制御方法。
13. 請求項１１または１２のいずれか一項に記載の前記方法を実施するための指示を有し、当該指示がコンピュータ装置上で実行される場合の、コンピュータ可読の記憶装置。