JP2016095615A - Touch sensor substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent electrode signal extraction wiring from breaking at a process of production of a touch sensor, the electrode signal extraction wiring configured to connect electrode wiring of the touch sensor substrate used in the process of production of the touch sensor to an external connection terminal.SOLUTION: A touch sensor substrate is used at a process of production of a touch sensor. The touch sensor substrate includes: an intersection part where X-direction electrode wiring and Y-direction electrode wiring are insulated and intersect; and electrode signal extraction wiring configured to connect the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring to an external connection terminal. The electrode signal extraction wiring includes a bundle of plural element wires.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、座標入力手段として使用される静電容量型タッチパネルの製造過程で加工するタッチセンサー用基板に関する。   The present invention relates to a touch sensor substrate that is processed during the manufacturing process of a capacitive touch panel used as coordinate input means.

近年、携帯電話機や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを初め、様々な電子機器の操作部にタッチパネル型入力装置(以下、タッチセンサー又は単にセンサーと記す)が採用されている。タッチセンサーは、液晶表示装置、有機EL装置等の表示用パネルの表示面上に、指先やペン先の接触位置を検出する入力装置として貼り合わせて使用されるものである。タッチセンサーには、その構造及び検出方式の違いにより、抵抗膜型や静電容量型等の様々なタイプがある。   2. Description of the Related Art In recent years, touch panel type input devices (hereinafter referred to as touch sensors or simply referred to as sensors) have been adopted for operation units of various electronic devices such as mobile phones, personal digital assistants, and car navigation systems. The touch sensor is used as an input device that detects a contact position of a fingertip or a pen tip on a display surface of a display panel such as a liquid crystal display device or an organic EL device. There are various types of touch sensors such as a resistance film type and a capacitance type depending on the structure and detection method.

静電容量方式タッチセンサーには表面型と投影型の2つがある。両方式とも指先と導電膜との間での静電容量の変化を捉えて位置を検出する。指がセンサ表面に近づくだけで静電結合が起きるため、接触する寸前にカーソル表示をするようなことも可能である。センサ表面に押し付けるものは指や指と同等の静電的な導電性のものにする必要があるが、静電容量の変化に応じて流れる交流電流は、接触する媒体のインピーダンスにはよらない。   There are two types of capacitive touch sensors: surface type and projection type. Both methods detect the position by capturing the change in capacitance between the fingertip and the conductive film. Since electrostatic coupling occurs only when the finger approaches the sensor surface, it is also possible to display a cursor immediately before contact. What is pressed against the sensor surface needs to be a finger or a material having electrostatic conductivity equivalent to that of the finger, but the alternating current that flows in accordance with the change in capacitance does not depend on the impedance of the contact medium.

特に、投影型の静電容量方式は、特許文献1のように、電極層と制御ICを搭載する透明基板を保護用の絶縁性樹脂で被覆した構成である。電極層は、ガラスやプラスチックなどの透明基板上に、金属細線のメッシュ構造のX方向電極配線群とY方向電極配線群で構成されている。   In particular, the projection-type capacitance method has a configuration in which a transparent substrate on which an electrode layer and a control IC are mounted is covered with a protective insulating resin, as in Patent Document 1. The electrode layer is composed of an X-direction electrode wiring group and a Y-direction electrode wiring group having a mesh structure of fine metal wires on a transparent substrate such as glass or plastic.

また、特許文献2では、単に一方向に伸びるストライプ状の金属配線と、それから絶縁させて垂直方向に伸びるストライプ状の金属配線を、透明基板上に敷設している。   Further, in Patent Document 2, stripe-shaped metal wiring that extends in only one direction and stripe-shaped metal wiring that is insulated from the metal wiring and extends in the vertical direction are laid on a transparent substrate.

タッチセンサーでは、操作者の指が、タッチセンサーのX方向電極配線とY方向電極配線の交差部に触れたり近づくと、その指を介する環境の接地媒体と電極配線との間に容量結合が生じる。その変化の影響を受ける縦横1組の電極列を検出することで指のタッチ位置を検出する。   In the touch sensor, when the operator's finger touches or approaches the intersection of the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring of the touch sensor, capacitive coupling occurs between the environment ground medium and the electrode wiring through the finger. . The touch position of the finger is detected by detecting a set of electrode rows that are affected by the change.

指がタッチした電極配線の検出方法は、詳しくは、各X方向電極配線とY方向電極配線に電極信号取出し配線を接続して、その電極信号取出し配線の端部に接続した外部接続用端子から電流を引き出すことで電気信号を観察する。そして、その電気信号が変化した外部接続用端子を検出することで指がタッチした位置のX方向電極配線とY方向電極配線を検出する。   Specifically, the method of detecting the electrode wiring touched by the finger is connected to each X-direction electrode wiring and Y-direction electrode wiring from an external connection terminal connected to the end of the electrode signal extraction wiring. Observe electrical signals by drawing current. Then, the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring at the position touched by the finger are detected by detecting the external connection terminal whose electric signal has changed.

特開2014−85771号公報JP 2014-88771 A 特表平9−511086号公報JP 9-51186 A

しかし、タッチセンサーの製造過程では、タッチセンサー用基板を運搬したり、その基板の膜面の保護処理等を行うことで基板に静電気が発生し易い。その発生した静電気が基板の外のグラウンドに接触すると、タッチセンサーの配線から基板の外のグラウンドに大
きな放電電流が流れる。特に、タッチセンサーの電極信号取出し配線が基板の外のグラウンド接触する場合は、その電極信号取出し配線に流れる大きな放電電流によって電極信号取出し配線が断線し易いという問題があった。
However, in the process of manufacturing the touch sensor, static electricity is easily generated on the substrate by transporting the substrate for the touch sensor or performing a protective process on the film surface of the substrate. When the generated static electricity contacts the ground outside the substrate, a large discharge current flows from the wiring of the touch sensor to the ground outside the substrate. In particular, when the electrode signal extraction wiring of the touch sensor is in contact with the ground outside the substrate, there is a problem that the electrode signal extraction wiring easily breaks due to a large discharge current flowing through the electrode signal extraction wiring.

本発明の課題は以上の問題を解決し、タッチセンサー用基板の製造過程において静電気の放電電流が生じても、タッチセンサーの電極信号取出し配線が総体として断線しないようにしたタッチセンサー用基板を得ることを課題とする。   The object of the present invention is to solve the above problems, and to obtain a touch sensor substrate in which the electrode signal extraction wiring of the touch sensor is not disconnected as a whole even if electrostatic discharge current occurs in the manufacturing process of the touch sensor substrate. This is the issue.

本発明は、上記の課題を解決するために、タッチセンサーの製造過程で用いるタッチセンサー用基板であって、X方向電極配線とY方向電極配線が絶縁されて交差する交差部を有し、前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を外部接続用端子に接続する電極信号取出し配線を有し、前記電極信号取出し配線が、複数本の要素配線の束で構成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   In order to solve the above-mentioned problem, the present invention is a touch sensor substrate used in the manufacturing process of a touch sensor, and includes an intersection where the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring intersect and are insulated, An electrode signal extraction wiring for connecting the X direction electrode wiring and the Y direction electrode wiring to an external connection terminal is provided, and the electrode signal extraction wiring is constituted by a bundle of a plurality of element wirings. A substrate for a touch sensor.

本発明は、電極信号取出し配線が複数本の要素配線の束で構成されているため、タッチセンサーの製造過程において、静電気の放電によって電極信号取出し配線の複数の要素配線の1つが断線させられても、その電極信号取出し配線を構成する他のいくつかの要素配線が断線せずに残る。そのため、製造過程で静電気の放電電流が流れても電極信号取出し配線の電気接続を確保できる効果がある。   In the present invention, since the electrode signal extraction wiring is composed of a bundle of a plurality of element wirings, one of the plurality of element wirings of the electrode signal extraction wiring is disconnected due to electrostatic discharge in the manufacturing process of the touch sensor. However, some other element wirings constituting the electrode signal extraction wiring remain without being disconnected. Therefore, even if a static discharge current flows in the manufacturing process, there is an effect that the electrical connection of the electrode signal extraction wiring can be secured.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記要素配線の長さを複数箇所で分割した位置に、前記電極信号取出し配線の前記要素配線同士を接続する梯子段配線を有することを特徴とするタッチセンサー用基板である。   Further, the present invention is the touch sensor substrate described above, comprising a ladder stage wiring that connects the element wirings of the electrode signal extraction wirings at positions where the lengths of the element wirings are divided at a plurality of locations. It is the board | substrate for touch sensors characterized.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記X方向電極配線とY方向電極配線が、透明基板の片面に形成された金属細線のメッシュ状のパターンの連結パターンからなり、前記交差部が、前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を絶縁樹脂層で絶縁して形成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   Further, the present invention is the touch sensor substrate, wherein the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring are composed of a connection pattern of a mesh-like pattern of fine metal wires formed on one side of the transparent substrate, The touch sensor substrate is characterized in that the intersection is formed by insulating the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring with an insulating resin layer.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記X方向電極配線が透明基板の一方の面に形成した金属細線のストライプ状のパターン又はメッシュ状のパターンから成り、前記Y方向電極配線が前記透明基板の他方の面に形成した金属細線のストライプ状のパターン又はメッシュ状のパターンから成り、前記交差部が、前記透明基板によって絶縁された前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を格子状に交差させることで形成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   Further, the present invention is the touch sensor substrate as described above, wherein the X-direction electrode wiring is formed of a striped pattern or a mesh-shaped pattern of fine metal wires formed on one surface of a transparent substrate, and the Y-direction electrode The X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring, wherein the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring are formed of a stripe pattern or a mesh-shaped pattern of fine metal wires formed on the other surface of the transparent substrate. It is a substrate for touch sensors, characterized in that it is formed by crossing in a grid pattern.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記要素配線の線幅が3μm以上あり、前記要素配線間の間隙が20μm以上あることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   The present invention is the touch sensor substrate, wherein the element wiring has a line width of 3 μm or more, and a gap between the element wirings is 20 μm or more.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記外部接続用端子の線幅が20μm以上500μm以下であり、前記要素配線の線幅が前記外部接続用端子の線幅の20分の1以上5分の1以下であることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   Further, the present invention is the touch sensor substrate, wherein the line width of the external connection terminal is 20 μm or more and 500 μm or less, and the line width of the element wiring is 20 minutes of the line width of the external connection terminal. It is a substrate for a touch sensor, characterized in that it is 1 to 1/5.

また、本発明は、上記のタッチセンサー用基板であって、前記電極信号取出し配線が3本以上5本以下の要素配線の束で構成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板である。   According to another aspect of the present invention, there is provided the touch sensor substrate, wherein the electrode signal extraction wiring is formed of a bundle of three or more and five or less element wirings.

本発明は、X方向電極配線又はY方向電極配線から引き出して電気検査用外部端子に接続する電極信号取出し配線を、複数の並行する要素配線の束で形成することで、タッチセンサーの製造過程で、電極信号取出し配線を構成する要素配線の束の一部が静電気の放電等で断線させられても、要素配線の束の残りの要素配線によって電極信号取出し配線の電気接続を確保できる効果がある。   In the touch sensor manufacturing process, the electrode signal extraction wiring that is drawn out from the X-direction electrode wiring or the Y-direction electrode wiring and connected to the external terminal for electrical inspection is formed by a bundle of a plurality of parallel element wirings. Even if a part of the bundle of element wires constituting the electrode signal take-out wiring is disconnected due to electrostatic discharge or the like, it is possible to ensure electrical connection of the electrode signal take-out lines by the remaining element wires in the bundle of element wires. .

(a)本発明の第1の実施形態のタッチセンサーの平面の模式図である。(b)そのタッチセンサーのX方向電極配線とY方向電極配線の交差部(くびれ部分)を示す側断面図である。(A) It is a schematic diagram of the plane of the touch sensor of the 1st Embodiment of this invention. (B) It is a sectional side view which shows the cross | intersection part (constriction part) of the X direction electrode wiring and Y direction electrode wiring of the touch sensor. 本発明の第1の実施形態の変形例1のタッチセンサーの平面の模式図である。It is a schematic diagram of the plane of the touch sensor of the modification 1 of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の電極配線のノードの金属細線の束を示す平面図である。It is a top view which shows the bundle | flux of the metal fine wire of the node of the electrode wiring of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の変形例2の電極配線のノードの金属細線網を示す平面図である。It is a top view which shows the metal fine wire network of the node of the electrode wiring of the modification 2 of the 2nd Embodiment of this invention. (a)本発明の第2の実施形態のタッチセンサーの平面の模式図である。(b)本発明の第2の実施形態のタッチセンサーの側断面を模式的に示す図である。(A) It is a schematic diagram of the plane of the touch sensor of the 2nd Embodiment of this invention. (B) It is a figure which shows typically the side cross section of the touch sensor of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の変形例3のタッチセンサーの平面の模式図である。It is a schematic diagram of the plane of the touch sensor of the modification 3 of the 2nd Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態のタッチセンサーについて図1から図6を参照して説明する。本発明は、図1、図2、図5、図6のようなタッチセンサー用基板10を製造する。   Hereinafter, a touch sensor according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The present invention manufactures a touch sensor substrate 10 as shown in FIGS. 1, 2, 5, and 6.

タッチセンサー用基板10は、PET(ポリエチレンテレフタレート)やPENやポリイミド系フィルム等の絶縁性樹脂フィルムの透明基板1上に金属細線を連結したX方向電極配線2とY方向電極配線3を形成する。そのX方向電極配線とY方向電極配線は、絶縁されて交差する交差部4、又は、交差部9を持つ。   The substrate 10 for touch sensors forms the X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 which connected the metal fine wire on the transparent substrate 1 of insulating resin films, such as PET (polyethylene terephthalate), PEN, and a polyimide-type film. The X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring have a crossing portion 4 or a crossing portion 9 which are insulated and cross each other.

タッチセンサーは、タッチセンサー用基板10のX方向電極配線2とY方向電極配線3の間に交流の電位差を加えて用いる。そのタッチセンサーのX方向電極配線2及びY方向電極配線3に、操作者の指や手のような静電的且つ導電性の媒体を近接させる。   The touch sensor is used by adding an AC potential difference between the X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 of the touch sensor substrate 10. An electrostatic and conductive medium such as an operator's finger or hand is brought close to the X direction electrode wiring 2 and Y direction electrode wiring 3 of the touch sensor.

すると、タッチセンサーを設置した環境の接地媒体と接続する導電性の媒体と、タッチセンサーの電極配線との間に容量結合を生じる。その容量結合によって、タッチセンサーのX方向電極配線2とY方向電極配線3の間に加えた交流の一部が、電極配線から接地媒体に漏れ出して流れる。   Then, capacitive coupling is generated between the conductive medium connected to the ground medium in the environment where the touch sensor is installed and the electrode wiring of the touch sensor. Due to the capacitive coupling, a part of the alternating current applied between the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 of the touch sensor leaks from the electrode wiring to the ground medium and flows.

タッチセンサーのX方向電極配線2とY方向電極配線3は、電極信号取出し配線6を介して外部接続用端子7に接続している。そして、タッチセンサーの電子回路が、外部接続用端子7に流れる電流の変化を検出することで操作者の指のタッチ位置を検出する。   The X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 of the touch sensor are connected to the external connection terminal 7 via the electrode signal extraction wiring 6. The electronic circuit of the touch sensor detects the touch position of the operator's finger by detecting a change in the current flowing through the external connection terminal 7.

タッチセンサーでは、X方向電極配線2とY方向電極配線3に指が直接触れる必要がないので、図1(b)のようにX方向電極配線2とY方向電極配線3を防汚性のある透明樹脂類の保護絶縁体8で被覆して保護する。そして、その保護絶縁体8を介して操作者の指の接触や近接を検知する。X方向電極配線2とY方向電極配線3は必ずしも透明基板1の片面の同一平面上に存在する必要はなく、図5のように透明基板1の間に挟んで配置しても良い。   In the touch sensor, since it is not necessary for the finger to directly touch the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3, the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 are antifouling as shown in FIG. Cover and protect with a protective insulator 8 of transparent resin. Then, contact or proximity of the operator's finger is detected via the protective insulator 8. The X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 do not necessarily exist on the same plane on one side of the transparent substrate 1, and may be disposed between the transparent substrates 1 as shown in FIG.

タッチセンサーの製造過程で加工するタッチセンサー用基板10では、タッチセンサーのX方向電極配線2とY方向電極配線3から電極信号取出し配線6を引き出して外部接続
用端子7に電気接続する。
In the touch sensor substrate 10 processed in the manufacturing process of the touch sensor, the electrode signal extraction wiring 6 is drawn out from the X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 of the touch sensor and is electrically connected to the external connection terminal 7.

本発明のタッチセンサー用基板は、電極信号取出し配線6を複数の並行する要素配線6aの束で構成し、その要素配線6aの線幅を外部接続用端子7の線幅の20分の1以上5分の1以下にする。   In the touch sensor substrate of the present invention, the electrode signal extraction wiring 6 is formed by a bundle of a plurality of parallel element wirings 6a, and the line width of the element wiring 6a is 1/20 or more of the line width of the external connection terminal 7. Set it to 1/5 or less.

<第1の実施形態>
第1の実施形態は、タッチセンサー用に、図1(a)の平面図のように、タッチセンサーの透明基板1上にメッシュ構造のX方向電極配線2とY方向電極配線3と取出し銅配線6と外部接続用端子7のパターンを形成したタッチセンサー用基板10を製造する。
<First Embodiment>
In the first embodiment, for the touch sensor, as shown in the plan view of FIG. 1A, the X-direction electrode wiring 2, the Y-direction electrode wiring 3, and the extraction copper wiring having a mesh structure are formed on the transparent substrate 1 of the touch sensor. 6 and the touch sensor substrate 10 on which the patterns of the external connection terminals 7 are formed.

すなわち、タッチセンサー用基板10には、透明基板1上に、45度傾けた金属細線で構成するメッシュ構造の矩形領域同士をその角点(くびれ部分4)でX方向に連結してX方向電極配線2を形成する。   That is, the touch sensor substrate 10 is formed by connecting rectangular regions of a mesh structure composed of fine metal wires inclined at 45 degrees on the transparent substrate 1 in the X direction at the corner points (constriction portions 4). The wiring 2 is formed.

メッシュ構造は、図1(a)のように、矩形領域内に右上がりの斜め45度方向に走行する金属細線と、右下がりの斜め45度方向に走行する金属細線を交差させた金属細線で形成した網目構造である。金属細線の線幅は、目視で目立たない、20μm以下の線幅に形成する。   As shown in FIG. 1 (a), the mesh structure is a thin metal wire that crosses a thin metal wire that runs in a 45 ° upward slanting direction and a thin metal wire that runs in a 45 ° slanting downward direction in a rectangular area. It is the formed network structure. The thin metal wire has a line width of 20 μm or less, which is not noticeable visually.

また、透明基板1上に、45度傾けた金属細線で構成するメッシュ構造の矩形領域同士をその角点(くびれ部分4)でY方向に連結してY方向電極配線3を形成する。すなわち、くびれ部分4をX方向電極配線2とY方向電極配線3の交差部にする。   On the transparent substrate 1, rectangular regions having a mesh structure composed of fine metal wires inclined at 45 degrees are connected to each other in the Y direction at the corners (constricted portions 4) to form Y-direction electrode wirings 3. That is, the constricted portion 4 is set to the intersection of the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3.

X方向電極配線2とY方向電極配線3を製造するために、透明基板1の片面に形成した銅薄膜をエッチングして、金属細線のメッシュ構造のX方向電極配線2とY方向電極配線3と取出し銅配線6と外部接続用端子7のパターンを一括形成して、金属細線のメッシュ構造のX方向電極配線2とY方向電極配線3を透明基板1の片面に形成する。   In order to manufacture the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3, the copper thin film formed on one side of the transparent substrate 1 is etched, and the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 having a mesh structure of fine metal wires The pattern of the extracted copper wiring 6 and the external connection terminal 7 is formed in a lump, and the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 having a metal wire mesh structure are formed on one surface of the transparent substrate 1.

メッシュ構造を形成する金属細線の線幅は、5μm以上20μm以下の線幅に形成する。そして、金属細線のメッシュ構造の矩形領域同士を連結するくびれ部分4で、X方向電極配線2とY方向電極配線3を交差させる。そのくびれ部分4では、図1(b)断面図のように、X方向電極配線2とY方向電極配線3は、互いに接触しないように絶縁性樹脂5で絶縁させて交差させる。   The fine metal wires forming the mesh structure have a line width of 5 μm or more and 20 μm or less. Then, the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 are crossed at a constricted portion 4 that connects the rectangular regions of the mesh structure of fine metal wires. In the constricted portion 4, as shown in the sectional view of FIG. 1B, the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 are insulated by an insulating resin 5 so as not to contact each other.

くびれ部分4の上下の層のX方向電極配線2とY方向電極配線3とは、2μm〜10μm程度の厚みのアクリル系材料等の絶縁樹脂層5を挟んで絶縁する。絶縁樹脂層5の肩は滑らかに変化させる。下層の電極配線を形成した後、下層の電極配線の上に絶縁樹脂層5を形成し、その上に上層の電極配線を形成する。   The X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 in the upper and lower layers of the constricted portion 4 are insulated with an insulating resin layer 5 such as an acrylic material having a thickness of about 2 μm to 10 μm interposed therebetween. The shoulder of the insulating resin layer 5 is smoothly changed. After forming the lower electrode wiring, the insulating resin layer 5 is formed on the lower electrode wiring, and the upper electrode wiring is formed thereon.

こうして、45度傾けた金属細線の網状のパターン(メッシュ構造)の矩形領域のX方向の連鎖のX方向電極配線2と、Y方向の連鎖のY方向電極配線3とで正方格子を形成する。   In this way, a square lattice is formed by the X-direction electrode wiring 2 in the X-direction chain and the Y-direction electrode wiring 3 in the Y-direction chain in the rectangular region of the mesh pattern of fine metal wires inclined 45 degrees.

タッチセンサー用基板10の透明基板1の面上のX方向電極配線2とY方向電極配線3を、メラミン樹脂等の保護絶縁体8で被覆して保護し、その保護絶縁体8の表面を、操作者が指でタッチして操作するタッチ面にする。   The X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 on the surface of the transparent substrate 1 of the touch sensor substrate 10 are covered and protected with a protective insulator 8 such as melamine resin, and the surface of the protective insulator 8 is protected. The touch surface is operated by an operator touching with a finger.

このタッチセンサー用基板10には、金属細線のメッシュ構造の連鎖で形成したX方向電極配線2とY方向電極配線3をXYのマトリックス状に配置して構成し、タッチ位置の
X方向電極配線2とY方向電極配線3を独立に検出することで、そのX方向電極配線2とY方向電極配線3の交差部(くびれ部)4の位置を算出して操作者の指のタッチ位置を検出する。
The touch sensor substrate 10 is configured by arranging X-direction electrode wirings 2 and Y-direction electrode wirings 3 formed in a chain of fine metal mesh structures in an XY matrix, and the X-direction electrode wirings 2 at the touch position. And the Y-direction electrode wiring 3 are detected independently, and the position of the intersection (constriction) 4 between the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 is calculated to detect the touch position of the operator's finger. .

タッチセンサー用基板10の個々のX方向電極配線2とY方向電極配線3は、図1(a)のように、複数の並行する要素配線6aの束で構成した電極信号取出し配線6を介して、外部接続用端子7に電気接続する。   As shown in FIG. 1A, each X direction electrode wiring 2 and Y direction electrode wiring 3 of the touch sensor substrate 10 is connected via an electrode signal extraction wiring 6 constituted by a bundle of a plurality of parallel element wirings 6a. Then, the external connection terminal 7 is electrically connected.

この電極信号取出し配線6の要素配線6aの線幅は、概ね3μm以上に形成し、並行する要素配線6aの間の間隙は20μm以上にすることが望ましい。要素配線の線幅が3μm未満になると、安定したパターンの要素配線6aを形成することが困難になり、配線が断線する欠陥が発生し易くなる問題が生じる。   It is desirable that the line width of the element wiring 6a of the electrode signal extraction wiring 6 is approximately 3 μm or more, and the gap between the parallel element wirings 6a is 20 μm or more. When the line width of the element wiring is less than 3 μm, it becomes difficult to form the element wiring 6a having a stable pattern, and there is a problem that a defect in which the wiring is easily broken occurs.

並行する要素配線6aの間の間隙が20μm未満になると、要素配線6a間に絶縁が不十分になり、静電気の放電による大電流が流れて1つの要素配線6aが断線する際に、断線する要素配線6bに20μm未満の距離で隣接する要素配線6bにも、静電気の放電による大電流が流れて断線する問題が生じる。   When the gap between the parallel element wirings 6a is less than 20 μm, the insulation between the element wirings 6a becomes insufficient, and when one element wiring 6a is disconnected due to a large current due to electrostatic discharge, the element is disconnected. The element wiring 6b adjacent to the wiring 6b at a distance of less than 20 μm also causes a problem that a large current flows due to electrostatic discharge and is disconnected.

要素配線6aは、並行する要素配線6a同士の間の間隙を20μm以上にする条件を守って、画像表示部に重ねる領域以外の部分では、許される範囲で線幅を太くして断線しにくくする事が望ましい。   The element wiring 6a observes the condition that the gap between the parallel element wirings 6a is 20 μm or more, and in a portion other than the region overlapping the image display unit, the line width is increased within an allowable range to make it difficult to disconnect. Things are desirable.

電極信号取出し配線6は要素配線6aの束で構成する。その束の1本1本の要素配線6aの線幅は、外部接続用端子7の線幅の20分の1以上5分の1以下に形成する。要素配線6aの線幅が外部接続用端子7の線幅の20分の1よりも細いと配線パターンを透明基板1の面に形成する際やその後の製造工程で断線し易くなる問題を生じる。また、要素配線6aの線幅が外部接続用端子7の線幅の5分の1より大きいと、電極信号取出し配線6を複数の要素配線6aの束で構成できない問題を生じる。   The electrode signal extraction wiring 6 is constituted by a bundle of element wirings 6a. The line width of each element wiring 6a of the bundle is formed to be 1/20 or more and 1/5 or less of the line width of the external connection terminal 7. When the line width of the element wiring 6a is smaller than 1/20 of the line width of the external connection terminal 7, there is a problem that the wiring pattern is easily disconnected when the wiring pattern is formed on the surface of the transparent substrate 1 or in the subsequent manufacturing process. Further, when the line width of the element wiring 6a is larger than one fifth of the line width of the external connection terminal 7, there arises a problem that the electrode signal extraction wiring 6 cannot be constituted by a bundle of a plurality of element wirings 6a.

1つの外部接続用端子7から引き出す要素配線6aの数は3本以上5本以下の数の要素配線6aを平行に引き出すことが望ましい。3本以上の要素配線6aを形成することで、タッチセンサーの製造過程の不具合で、X方向電極配線2又はY方向電極配線3から外部接続用端子7に至る電極信号取出し配線6の要素配線6aが数箇所で断線させられても、平行する複数の要素配線6aのいくつかが断線せずに残る。それにより、要素配線6aの束による電極信号取出し配線6の電気接続を確保できる効果がある。   It is desirable that the number of element wires 6a to be drawn out from one external connection terminal 7 is 3 to 5 in number. By forming three or more element wirings 6a, the element wiring 6a of the electrode signal extraction wiring 6 from the X-direction electrode wiring 2 or the Y-direction electrode wiring 3 to the external connection terminal 7 due to a defect in the manufacturing process of the touch sensor. Is disconnected at several places, some of the plurality of parallel element wirings 6a remain without being disconnected. Thereby, there is an effect that the electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 by the bundle of the element wirings 6a can be secured.

特に、線幅が20μm以上500μm以下の外部接続用端子7に対して、要素配線6aの線幅を、3μm以上に形成し、並行する要素配線6aの間の間隙は20μm以上にすることが望ましい。また、特には、外部接続用端子7から複数本引き出す要素配線6aの数は、3本以上5本以下引き出すことが望ましい。例えば、幅が200μmの外部接続用端子7から、幅が10μm以上40μm以下の要素配線6aを3本引き出す。   Particularly, for the external connection terminal 7 having a line width of 20 μm or more and 500 μm or less, it is desirable that the line width of the element wiring 6a is 3 μm or more, and the gap between the parallel element wirings 6a is 20 μm or more. . In particular, it is desirable that the number of the element wirings 6a to be drawn out from the external connection terminal 7 is 3 or more and 5 or less. For example, three element wirings 6 a having a width of 10 μm or more and 40 μm or less are drawn out from the external connection terminal 7 having a width of 200 μm.

こうして、図1(a)のように、電極信号取出し配線6を、並行する複数の要素配線6aの束で構成する。これにより、製造工程において、複数の要素配線6aの束で構成される電極信号取出し配線6のうちの1本の要素配線6aに、静電気の放電による大電流が流れてその要素配線6aが断線しても、残りの要素配線6aによって電極信号取出し配線6の電気接続が確保できる効果がある。   Thus, as shown in FIG. 1A, the electrode signal extraction wiring 6 is constituted by a bundle of a plurality of parallel element wirings 6a. As a result, in the manufacturing process, a large current due to electrostatic discharge flows through one element wiring 6a among the electrode signal extraction wirings 6 constituted by a bundle of a plurality of element wirings 6a, and the element wiring 6a is disconnected. However, there is an effect that electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 can be secured by the remaining element wiring 6a.

(変形例1)
本実施形態の変形例1として、図2の平面図のように、電極信号取出し配線6を、要素
配線6aの束と、その要素配線6aの長さを複数箇所で分割した位置で、要素配線6a同士を接続する梯子段配線6bを加えて構成する。
(Modification 1)
As a first modification of the present embodiment, as shown in the plan view of FIG. 2, the electrode signal extraction wiring 6 is arranged at a position where a bundle of element wirings 6a and the length of the element wiring 6a are divided at a plurality of locations. A ladder stage wiring 6b connecting the 6a to each other is added.

そのように要素配線6a同士を接続する梯子段配線6bを加えることで、長さの長い要素配線6aが何れかの箇所で断線して、電極信号取出し配線6の全ての要素配線6aが断線した場合でも、要素配線6aの長さを複数箇所で分割した位置の梯子段配線6bが要素配線6aの断線した箇所を迂回することで、電極信号取出し配線6の電気接続が確保できる効果がある。   When the ladder wiring 6b that connects the element wirings 6a is added in this way, the long element wiring 6a is disconnected at any point, and all the element wirings 6a of the electrode signal extraction wiring 6 are disconnected. However, since the ladder stage wiring 6b at the position where the length of the element wiring 6a is divided at a plurality of locations bypasses the disconnected portion of the element wiring 6a, there is an effect that electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 can be ensured.

<第2の実施形態>
図5に、本発明の第2の実施形態のタッチセンサー用基板10の平面図と側断面の模式図を示し、図3に、そのX方向電極配線2及びY方向電極配線3の1つのノードのストライプ状の金属細線の束構造を示す。
<Second Embodiment>
FIG. 5 shows a plan view and a schematic side view of the touch sensor substrate 10 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 3 shows one node of the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3. 2 shows a bundle structure of striped metal fine wires.

電極配線の1つのノードのストライプ状の金属細線の束構造は、図3のように、例えば数mmの幅に分散させて9本の銅の金属細線を配置し、その金属細線を束ねて、その両端を接続して1つのノードの電極配線を構成する。その各金属細線の線幅は、5μmから20μmの線幅に形成する。   As shown in FIG. 3, the bundle structure of striped thin metal wires of one node of the electrode wiring is arranged with, for example, nine copper fine metal wires dispersed in a width of several mm, and the fine metal wires are bundled. The both ends are connected to form an electrode wiring of one node. The line width of each thin metal wire is formed to a line width of 5 μm to 20 μm.

(変形例2)
図4に、第2の実施形態の変形例2の、X方向を向いた数mmの幅の帯状領域のX方向電極配線2、及び、Y方向を向いた数mmの幅の帯状領域のY方向電極配線3の1つのノードを示す。
(Modification 2)
FIG. 4 shows the X-direction electrode wiring 2 in the strip-shaped region with a width of several mm facing the X direction and the Y of the strip-shaped region with a width of several mm facing the Y direction in the second modification of the second embodiment. One node of the direction electrode wiring 3 is shown.

この電極配線の1つのノードの構造は、図4のように、X方向を向いた数mmの幅の帯状領域内を、X方向から45度傾けた5μmから20μmの線幅の金属細線網(メッシュ構造)で埋めたX方向電極配線2にする。また、Y方向を向いた数mmの幅の帯状領域内を、Y方向から45度傾けた5μmから20μmの線幅の金属細線網(メッシュ構造)で埋めたY方向電極配線3にする。   As shown in FIG. 4, the structure of one node of this electrode wiring is a metal fine wire network having a line width of 5 μm to 20 μm inclined 45 degrees from the X direction in a band-like region having a width of several mm facing the X direction ( The X-direction electrode wiring 2 is filled with a mesh structure. Further, the Y-direction electrode wiring 3 is filled with a metal wire network (mesh structure) having a line width of 5 μm to 20 μm inclined 45 degrees from the Y direction in the band-like region having a width of several mm facing the Y direction.

第2の実施形態の電極配線の1つのノードの構造には、図3のようなストライプ状の金属細線の束構造と、図4のように帯状領域内を金属細線網で埋めたメッシュ構造との2種類の構造を利用できる。以下の本実施形態の説明では、その一方の図3のようなストライプ状の金属細線の束構造を用いる場合を説明するが、同様に、図4のような帯状領域内を金属細線網で埋めたメッシュ構造も用いることができる。   The structure of one node of the electrode wiring of the second embodiment includes a bundle structure of striped fine metal wires as shown in FIG. 3 and a mesh structure in which the band-like region is filled with a fine metal wire network as shown in FIG. Two types of structures can be used. In the following description of the present embodiment, the case of using a bundle structure of striped fine metal wires as shown in FIG. 3 will be described. Similarly, the band-like region as shown in FIG. 4 is filled with a fine metal wire network. A mesh structure can also be used.

このタッチセンサー用基板10は、図5のように、厚みが50μm〜200μm程度のPETやPENやポリイミド系フィルム等の透明基板1の両面(表面と裏面)に、X方向電極配線2とY方向電極配線3を形成する。   As shown in FIG. 5, the touch sensor substrate 10 has an X-direction electrode wiring 2 and a Y-direction on both surfaces (front and back surfaces) of a transparent substrate 1 such as PET, PEN, or polyimide film having a thickness of about 50 μm to 200 μm. Electrode wiring 3 is formed.

詳しくは、透明基板1の表面に、互いに並走する複数のX方向電極配線2を配線し、透明基板1の裏面には、そのX方向電極配線2に対して直交する、複数のY方向電極配線3を配線する。図5で、透明基板1の上面に形成したY方向電極配線3に接続する電極信号取出し配線6を実線で示し、透明基板1の下面に形成したX方向電極配線2に接続する電極信号取出し配線6を破線で示す。   Specifically, a plurality of X-direction electrode wires 2 that run parallel to each other are provided on the surface of the transparent substrate 1, and a plurality of Y-direction electrodes that are orthogonal to the X-direction electrode wires 2 are provided on the back surface of the transparent substrate 1. Wiring 3 is wired. In FIG. 5, the electrode signal extraction wiring 6 connected to the Y-direction electrode wiring 3 formed on the upper surface of the transparent substrate 1 is shown by a solid line, and the electrode signal extraction wiring connected to the X-direction electrode wiring 2 formed on the lower surface of the transparent substrate 1. 6 is indicated by a broken line.

こうして、金属細線を束ねた束構造のノードで形成したX方向電極配線2を平行に複数配線し、それに直交する、金属細線を束ねた構造のノードで形成したY方向電極配線3を平行に複数配線し、X方向電極配線2とY方向電極配線3をXYのマトリックス状に配置してタッチセンサー用基板10を構成する。そして、X方向電極配線2とY方向電極配線
3を交差部9で交差させる。
In this way, a plurality of X-direction electrode wirings 2 formed by nodes having a bundle structure in which fine metal wires are bundled are arranged in parallel, and a plurality of Y-direction electrode wirings 3 formed by nodes having a structure in which fine metal wires are bundled are arranged in parallel. The touch sensor substrate 10 is configured by wiring and arranging the X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 in an XY matrix. Then, the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 are crossed at the intersection 9.

X方向電極配線2とY方向電極配線3の金属細線の束が交差部9で格子状に交差する。ここで、X方向電極配線2とY方向電極配線3を図4のような帯状領域内を金属細線網で埋めたメッシュ構造で構成した場合は、X方向電極配線2とY方向電極配線3の金属細線網の細線の束とが、交差部9で格子状に交差する部分と、金属細線の平行に走行する対(この関係も格子状に交差する関係の一種と考える)とが構成される。   A bundle of fine metal wires of the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 intersect at a crossing portion 9 in a lattice shape. Here, when the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 are configured with a mesh structure in which the inside of the band-like region is filled with a metal fine wire network as shown in FIG. A bundle of thin wires of a fine metal wire network forms a portion where the crossing portion 9 intersects in a lattice shape and a pair of metal thin wires that run in parallel (this relationship is also considered as a kind of relationship intersecting in a lattice shape). .

タッチセンサー用基板10の透明基板1の両面のX方向電極配線2とY方向電極配線3を、メラミン樹脂等の保護絶縁体8で被覆して保護して、その保護絶縁体8の表面を、操作者が指でタッチして操作するタッチ面にする。   The X direction electrode wiring 2 and the Y direction electrode wiring 3 on both surfaces of the transparent substrate 1 of the touch sensor substrate 10 are covered with a protective insulator 8 such as melamine resin to protect the surface, and the surface of the protective insulator 8 is The touch surface is operated by an operator touching with a finger.

このタッチセンサー10を用いて構成するタッチセンサーは、タッチ位置のX方向電極配線2とY方向電極配線3を独立に検出することで、そのX方向電極配線2とY方向電極配線3の交差部9の位置を算出して操作者の指のタッチ位置を検出する。   The touch sensor configured using this touch sensor 10 detects the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 at the touch position independently, and thereby intersects the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3. The position of 9 is calculated to detect the touch position of the operator's finger.

タッチセンサー用基板10の個々のX方向電極配線2とY方向電極配線3は、電極信号取出し配線6を介して、その外形線近くの外部接続用端子7に電気接続する。外部接続用端子7の線幅は20μm以上500μm以下の範囲に形成する。   The individual X-direction electrode wiring 2 and Y-direction electrode wiring 3 of the touch sensor substrate 10 are electrically connected to an external connection terminal 7 near the outline via an electrode signal extraction wiring 6. The line width of the external connection terminal 7 is formed in the range of 20 μm to 500 μm.

そして、第1の実施形態と同様に、図5のように、電極信号取出し配線6を複数の要素配線6aの束で構成する。要素配線6aの線幅は、外部接続用端子7の線幅の20分の1以上5分の1以下に形成することが望ましい。そして、要素配線6aの束で構成した電極信号取出し配線6の幅を、外部接続用端子7の線幅と同等程度に形成する。   As in the first embodiment, as shown in FIG. 5, the electrode signal extraction wiring 6 is constituted by a bundle of a plurality of element wirings 6a. The line width of the element wiring 6a is preferably formed to be 1/20 to 1/5 of the line width of the external connection terminal 7. Then, the width of the electrode signal extraction wiring 6 constituted by a bundle of element wirings 6 a is formed to be approximately equal to the line width of the external connection terminal 7.

特に、要素配線6aの線幅は、3μm以上に形成し、並行する要素配線6aの間の間隙は20μm以上にすることが望ましい。また、1つの外部接続用端子7から複数本を引き出す要素配線6aの数は、特には、3本以上5本以下の数の要素配線6aを引き出すことが望ましい。例えば、幅が200μmの外部接続用端子7から、幅が10μm以上40μm以下の要素配線6aを3本引き出す。   In particular, the line width of the element wiring 6a is preferably 3 μm or more, and the gap between the parallel element wirings 6a is preferably 20 μm or more. In addition, it is desirable that the number of the element wirings 6a to be drawn out from one external connection terminal 7 is particularly from 3 to 5 element wirings 6a. For example, three element wirings 6 a having a width of 10 μm or more and 40 μm or less are drawn out from the external connection terminal 7 having a width of 200 μm.

こうして、図5のように、X方向電極配線2とY方向電極配線3から引き出して外部接続用端子7まで接続する電極信号取出し配線6を、複数の並行する要素配線6aの束で構成する。これにより、電極信号取出し配線6を構成する複数の要素配線6aの束のうちの1本の要素配線6aが断線しても、残りの要素配線6aが電極信号取出し配線6総体の電気接続を確保できる効果がある。   Thus, as shown in FIG. 5, the electrode signal lead-out wiring 6 that is drawn out from the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 and connected to the external connection terminal 7 is constituted by a bundle of a plurality of parallel element wirings 6a. Thereby, even if one element wiring 6a of the bundle of the plurality of element wirings 6a constituting the electrode signal extraction wiring 6 is disconnected, the remaining element wiring 6a ensures electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 as a whole. There is an effect that can be done.

すなわち、製造工程において、1本の要素配線6aに、静電気の放電による大電流が流れてその要素配線6aが断線しても、残りの要素配線6aによって電極信号取出し配線6の電気接続が確保できる効果がある。   That is, in the manufacturing process, even if a large current due to electrostatic discharge flows through one element wiring 6a and the element wiring 6a is disconnected, the electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 can be secured by the remaining element wiring 6a. effective.

(変形例3)
第2の実施形態の変形例3として、図6の平面図のように、電極信号取出し配線6を、要素配線6aの束と、その要素配線6aの長さを複数箇所で分割した位置で、要素配線6a同士を接続する梯子段配線6bを加えて構成する。
(Modification 3)
As a third modification of the second embodiment, as shown in the plan view of FIG. 6, the electrode signal extraction wiring 6 is divided into a bundle of element wirings 6 a and the length of the element wiring 6 a at a plurality of locations. A ladder stage wiring 6b for connecting the element wirings 6a to each other is added.

そのように要素配線6a同士を接続する梯子段配線6bを加えることで、長さの長い要素配線6aが何れかの箇所で断線して、電極信号取出し配線6の全ての要素配線6aが断線した場合でも、要素配線6aの長さを複数箇所で分割した位置の梯子段配線6bが要素配線6aの断線した箇所を迂回することで、電極信号取出し配線6の電気接続が確保でき
る効果がある。
When the ladder wiring 6b that connects the element wirings 6a is added in this way, the long element wiring 6a is disconnected at any point, and all the element wirings 6a of the electrode signal extraction wiring 6 are disconnected. However, since the ladder stage wiring 6b at the position where the length of the element wiring 6a is divided at a plurality of locations bypasses the disconnected portion of the element wiring 6a, there is an effect that electrical connection of the electrode signal extraction wiring 6 can be ensured.

(実施例1)
実施例1として、図6の構成のタッチセンサー用基板10において、各電極信号取出し配線6を、2本の並行する要素配線6aの束と、その要素配線6a間を接続する複数の梯子段配線6bで構成した。
Example 1
As the first embodiment, in the touch sensor substrate 10 having the configuration shown in FIG. 6, each electrode signal extraction wiring 6 is connected to a bundle of two parallel element wirings 6a and a plurality of ladder stage wirings 6b connecting the element wirings 6a. Consists of.

外部接続用端子7の線幅を50μmにし、その外部接続用端子7に、線幅が5μmの2本の要素配線6aを間隙40μm隔てて接続し、その2本の要素配線6aの束から成る幅が50μmの電極信号取出し配線6を形成した。   The line width of the external connection terminal 7 is set to 50 μm, and two element wirings 6 a having a line width of 5 μm are connected to the external connection terminal 7 with a gap of 40 μm, and a bundle of the two element wirings 6 a is formed. An electrode signal extraction wiring 6 having a width of 50 μm was formed.

また、外部接続用端子7同士、あるいは、電極信号取出し配線6同士の間隙を50μmにし、それらのピッチを100μmにした。   Further, the gap between the external connection terminals 7 or between the electrode signal extraction wirings 6 was set to 50 μm, and the pitch thereof was set to 100 μm.

この実施例1のタッチセンサー用基板10の電極信号取出し配線6の断線・電気不良発生率は約0%だった。   The disconnection / electrical failure occurrence rate of the electrode signal extraction wiring 6 of the touch sensor substrate 10 of Example 1 was about 0%.

(比較例1)
比較例1として、図6の構成のタッチセンサー用基板10において、外部接続用端子7の線幅を50μmにし、その外部接続用端子7に、線幅が50μmの1本の電極信号取出し配線6を接続した。実施例1と同じく、外部接続用端子7同士、あるいは、電極信号取出し配線6同士の間隙を50μmにし、それらのピッチを100μmにした。
(Comparative Example 1)
As a comparative example 1, in the touch sensor substrate 10 having the configuration shown in FIG. 6, the line width of the external connection terminal 7 is set to 50 μm, and one electrode signal extraction wiring 6 having a line width of 50 μm is connected to the external connection terminal 7. Connected. As in Example 1, the gap between the external connection terminals 7 or between the electrode signal extraction wirings 6 was set to 50 μm, and their pitch was set to 100 μm.

この比較例1のタッチセンサー用基板10の電極信号取出し配線6の断線・電気不良発生率は約2%であった。   The disconnection / electric failure occurrence rate of the electrode signal extraction wiring 6 of the touch sensor substrate 10 of Comparative Example 1 was about 2%.

なお、以上の実施形態は本発明の例示であって、本発明は以上の実施形態に限定されない。例えば、タッチセンサー用基板10の配線パターンは、金属膜をエッチングして形成するものに限定されない。すなわち、X方向電極配線2やY方向電極配線3等の配線パターンを、金属ペーストを透明基板1の面にスクリーン印刷、又は、グラビアオフセット印刷で形成することもできる。   In addition, the above embodiment is an illustration of this invention and this invention is not limited to the above embodiment. For example, the wiring pattern of the touch sensor substrate 10 is not limited to that formed by etching a metal film. That is, wiring patterns such as the X-direction electrode wiring 2 and the Y-direction electrode wiring 3 can be formed on the surface of the transparent substrate 1 by screen printing or gravure offset printing.

1・・・透明基板
2・・・X方向電極配線
3・・・Y方向電極配線
4・・・くびれ部分(交差部)
5・・・絶縁樹脂層
6・・・電極信号取出し配線
6a・・・要素配線
6b・・・梯子段配線
7・・・外部接続用端子
8・・・保護絶縁体
9・・・交差部
10・・・タッチセンサー用基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... X direction electrode wiring 3 ... Y direction electrode wiring 4 ... Constriction part (intersection part)
5 ... Insulating resin layer 6 ... Electrode signal extraction wiring 6a ... Element wiring 6b ... Ladder step wiring 7 ... External connection terminal 8 ... Protective insulator 9 ... Intersection 10 ..Touch sensor substrates

Claims (7)

タッチセンサーの製造過程で用いるタッチセンサー用基板であって、X方向電極配線とY方向電極配線が絶縁されて交差する交差部を有し、前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を外部接続用端子に接続する電極信号取出し配線を有し、前記電極信号取出し配線が、複数本の要素配線の束で構成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板。   A touch sensor substrate used in a manufacturing process of a touch sensor, having an intersection where an X-direction electrode wiring and a Y-direction electrode wiring are insulated and intersect, and externally connecting the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring A touch sensor substrate comprising an electrode signal extraction wiring connected to a terminal for use, wherein the electrode signal extraction wiring is constituted by a bundle of a plurality of element wirings. 請求項1記載のタッチセンサー用基板であって、前記要素配線の長さを複数箇所で分割した位置に、前記電極信号取出し配線の前記要素配線同士を接続する梯子段配線を有することを特徴とするタッチセンサー用基板。   The touch sensor substrate according to claim 1, further comprising a ladder stage wiring that connects the element wirings of the electrode signal lead-out wiring at a position where the length of the element wiring is divided at a plurality of locations. Touch sensor substrate. 請求項1又は2に記載のタッチセンサー用基板であって、前記X方向電極配線とY方向電極配線が、透明基板の片面に形成された金属細線のメッシュ状のパターンの連結パターンからなり、前記交差部が、前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を絶縁樹脂層で絶縁して形成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板。   The touch sensor substrate according to claim 1 or 2, wherein the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring are formed of a connection pattern of a mesh-like pattern of fine metal wires formed on one side of a transparent substrate, A crossing portion is formed by insulating the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring with an insulating resin layer. 請求項1又は2に記載のタッチセンサー用基板であって、前記X方向電極配線が透明基板の一方の面に形成した金属細線のストライプ状のパターン又はメッシュ状のパターンから成り、前記Y方向電極配線が前記透明基板の他方の面に形成した金属細線のストライプ状のパターン又はメッシュ状のパターンから成り、前記交差部が、前記透明基板によって絶縁された前記X方向電極配線と前記Y方向電極配線を格子状に交差させることで形成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板。   3. The touch sensor substrate according to claim 1, wherein the X-direction electrode wiring is formed of a striped pattern or a mesh-shaped pattern of fine metal wires formed on one surface of a transparent substrate, and the Y-direction electrode. The X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring, wherein the X-direction electrode wiring and the Y-direction electrode wiring are formed of a stripe pattern or a mesh-shaped pattern of fine metal wires formed on the other surface of the transparent substrate. A substrate for a touch sensor, characterized in that the substrate is formed by crossing in a grid pattern. 請求項1乃至4の何れか一項に記載のタッチセンサー用基板であって、前記要素配線の線幅が3μm以上あり、前記要素配線間の間隙が20μm以上あることを特徴とするタッチセンサー用基板。   5. The touch sensor substrate according to claim 1, wherein the element wiring has a line width of 3 μm or more and a gap between the element wirings of 20 μm or more. substrate. 請求項1乃至5の何れか一項に記載のタッチセンサー用基板であって、前記外部接続用端子の線幅が20μm以上500μm以下であり、前記要素配線の線幅が前記外部接続用端子の線幅の20分の1以上5分の1以下であることを特徴とするタッチセンサー用基板。   6. The touch sensor substrate according to claim 1, wherein the external connection terminal has a line width of 20 μm or more and 500 μm or less, and the element wiring has a line width of the external connection terminal. A touch sensor substrate having a line width of 1/20 to 1/5. 請求項1乃至6の何れか一項に記載のタッチセンサー用基板であって、前記電極信号取出し配線が3本以上5本以下の要素配線の束で構成されていることを特徴とするタッチセンサー用基板。   The touch sensor substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein the electrode signal extraction wiring is constituted by a bundle of 3 or more and 5 or less element wirings. Substrate.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018084067A1 (en) * 2016-11-01 2018-05-11 東レ株式会社 Touch panel and method for producing touch panel
CN108228002A (en) * 2018-02-11 2018-06-29 业成科技(成都)有限公司 Touch panel and apply its touch control display apparatus
WO2018235642A1 (en) * 2017-06-22 2018-12-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 Touch sensor
WO2019093058A1 (en) * 2017-11-13 2019-05-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 Touch sensor
CN111665998A (en) * 2020-07-09 2020-09-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Touch control display panel
JP2020155151A (en) * 2016-10-21 2020-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ Detection device and display device
CN113093947A (en) * 2021-04-25 2021-07-09 芜湖伦丰电子科技有限公司 Touch screen frame routing structure, touch screen and electronic equipment
US11061506B2 (en) 2016-10-21 2021-07-13 Japan Display Inc. Detection apparatus and display apparatus
JP7381059B2 (en) 2018-09-25 2023-11-15 サンコ テキスタイル イスレットメレリ サン ベ ティク エーエス capacitive touch sensor

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012144434A1 (en) * 2011-04-22 2012-10-26 シャープ株式会社 Display device
JP2014029671A (en) * 2012-07-06 2014-02-13 Fujifilm Corp Conductive film for touch panel and touch panel
JP2014085771A (en) * 2012-10-22 2014-05-12 Toppan Printing Co Ltd Capacitance type touch panel sensor substrate and method for manufacturing the same and display device
JP2014135074A (en) * 2014-03-17 2014-07-24 Fujifilm Corp Conductive sheet for touch panel, and touch panel
US20140327842A1 (en) * 2013-05-02 2014-11-06 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Touch screen and manufacturing method of the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012144434A1 (en) * 2011-04-22 2012-10-26 シャープ株式会社 Display device
JP2014029671A (en) * 2012-07-06 2014-02-13 Fujifilm Corp Conductive film for touch panel and touch panel
JP2014085771A (en) * 2012-10-22 2014-05-12 Toppan Printing Co Ltd Capacitance type touch panel sensor substrate and method for manufacturing the same and display device
US20140327842A1 (en) * 2013-05-02 2014-11-06 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Touch screen and manufacturing method of the same
JP2014135074A (en) * 2014-03-17 2014-07-24 Fujifilm Corp Conductive sheet for touch panel, and touch panel

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"第18節 スクリーン印刷法による30ミクロン以下の回路形成に対応した樹脂硬化型導電性(Ag)ペース", スマートフォン・タッチパネル部材の最新技術便覧, vol. pp525-530, JPN6018021027, JP, ISSN: 0003812173 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020155151A (en) * 2016-10-21 2020-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ Detection device and display device
US11274943B2 (en) 2016-10-21 2022-03-15 Japan Display Inc. Detection apparatus and display apparatus
US11061506B2 (en) 2016-10-21 2021-07-13 Japan Display Inc. Detection apparatus and display apparatus
CN109891375A (en) * 2016-11-01 2019-06-14 东丽株式会社 The manufacturing method of touch panel, touch panel
WO2018084067A1 (en) * 2016-11-01 2018-05-11 東レ株式会社 Touch panel and method for producing touch panel
CN109891375B (en) * 2016-11-01 2022-04-12 东丽株式会社 Touch panel and method for manufacturing touch panel
WO2018235642A1 (en) * 2017-06-22 2018-12-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 Touch sensor
WO2019093058A1 (en) * 2017-11-13 2019-05-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 Touch sensor
CN108228002B (en) * 2018-02-11 2021-08-24 业成科技(成都)有限公司 Touch panel and touch display device using same
CN108228002A (en) * 2018-02-11 2018-06-29 业成科技(成都)有限公司 Touch panel and apply its touch control display apparatus
JP7381059B2 (en) 2018-09-25 2023-11-15 サンコ テキスタイル イスレットメレリ サン ベ ティク エーエス capacitive touch sensor
CN111665998A (en) * 2020-07-09 2020-09-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Touch control display panel
CN111665998B (en) * 2020-07-09 2022-01-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Touch control display panel
US11861118B2 (en) 2020-07-09 2024-01-02 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Touch display panel
CN113093947A (en) * 2021-04-25 2021-07-09 芜湖伦丰电子科技有限公司 Touch screen frame routing structure, touch screen and electronic equipment
CN113093947B (en) * 2021-04-25 2023-02-10 芜湖伦丰电子科技有限公司 Touch screen frame routing structure, touch screen and electronic equipment

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