JP2016057210A - 試料高さ検出装置およびパターン検査システム - Google Patents
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Abstract
Description
前記スリット開口部は、1つの長方形によって、または複数の長方形を平面上で重ね合わせることによって平面形状が規定される開口部を少なくとも1つ含み、前記長方形の短辺の長さは、前記照明光学系による前記スリット開口部の像の縮小倍率をM[倍]、前記対物レンズの開口数をNA、前記照明光学系に入射する照明光の波長をλ[nm]としたときに、Mλ/(2NA)以下であることを特徴とする。
微細パターンが形成された試料に照明光を照射して該試料の光学画像データを得、該光学画像データと検査基準データとに基づいて前記微細パターンの良否を検査するパターン検査システムであって、
上記第1の態様の試料高さ検出装置と、
前記試料が配置される精密ステージと、
前記照明光学系に前記照明光を入射させる人工光源と、
前記前側光量センサの測定値と前記後側光量センサの測定値とに基づいて、前記試料の高さ方向における前記スリット開口部の像の結像位置と前記精密ステージに配置された前記試料の試料面との相対的な位置関係を演算する演算回路と、
前記演算回路の演算結果に基づいて前記精密ステージを駆動させるステージ制御装置とを備えることを特徴とする。
図1は、試料の相対的な高さを検出する試料高さ検出装置の一例を示す模式図である。この試料高さ検出装置1は、照明光学系10と、結像光学系20と、検出光学系25と、前側光量センサ30と、後側光量センサ40とを備える。試料高さ検出装置1の機能を分かり易く説明するために、図1には試料S、人工光源50、および演算回路60を併記している。試料Sは試料高さ検出装置1の構成要素ではなく、人工光源50および演算回路60は試料高さ検出装置1の任意構成要素である。以下、試料高さ検出装置1の各構成要素について説明する。
相対的な位置関係を演算する。具体的には、試料面PSがスリット開口部OP1の像の結像位置にあるのか、結像位置よりも手前(対物レンズ17側)にあるのか、あるいは結像位置よりも遠方(対物レンズ17から離れる側)にあるのかを演算する。前側光量センサ30の測定値がAで、後側光量センサ40の測定値がBであるとき、試料Sの高さ方向におけるスリット開口部OP1の像の結像位置と試料面PSとの相対的なズレ量Zは、下式(1)の演算により求めることができる。
図4は、本実施の形態の試料高さ検出装置を示す模式図である。この試料高さ検出装置1Aは、図1に示した照明光学系10に代えて照明光学系10Aを備えるという点を除き、図1に示した試料高さ検出装置1と同じ構成を有している。そして、照明光学系10Aは、第2レンズ12と照明スリット13との間に集光素子CEが配置されているという点を除き、図1に示した照明光学系10と同じ構成を有している。図4に示した構成要素のうちで図1に示した構成要素と共通するものについては、図1で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
図5は、本実施の形態の試料高さ検出装置を示す模式図である。この試料高さ検出装置1Bは、図1に示した照明光学系10に代えて照明光学系10Bを備えるとともに、検出光学系25に代えて検出光学系25Aを備えるという点を除き、図1に示した試料高さ検出装置1と同じ構成を有している。
図6は、本実施の形態のパターン検査システムを概略的に示す構成図である。このパターン検査システム100は、微細パターンが形成されている試料Sに照明光を照射して当該試料Sの光学画像データを得、当該光学画像データと検査基準データとに基づいてダイ・トゥ・データベース方式により上記の微細パターンの良否を検査する。
10,10A,10B 照明光学系
13,13a,13b,13c,13d 照明スリット
17 対物レンズ
18 ダイクロイックミラー
20 結像光学系
21 結像レンズ
25,25A 検査光学系
26 ハーフミラー
27 前側検出スリット
28 後側検出スリット
29 ダイクロイックミラー
30 前側光量センサ
40 後側光量センサ
50,55 人工光源
60 演算回路
70 撮像装置
100 パターン検査システム
101 精密ステージ
115 ステージ制御装置
OP1,OP1a〜OP1f スリット開口部
OP2 前側検出スリットの開口部
OP3 後側検出スリットの開口部
S 試料
PS 試料面
Claims (5)
- スリット開口部の像を対物レンズで試料に縮小投影する照明光学系と、前記試料に前記スリット開口部の像を縮小投影したときに該試料で生じる反射光を結像レンズで集束させる結像光学系と、前記結像レンズで集束された光束を2つに分割し、該2つの光束のうちの一方の光束は該光束の結像点よりも前記結像レンズに近い側に配置した前側検出スリットの開口部を通過させ、前記2つの光束のうちの他方の光束は該光束の結像点よりも前記結像レンズから離れる側に配置した後側検出スリットの開口部を通過させる検出光学系と、前記前側検出スリットの開口部を通過した光束の光量を測定する前側光量センサと、前記後側検査スリットの開口部を通過した光束の光量を測定する後側光量センサとを備え、
前記スリット開口部は、1つの長方形によって、または複数の長方形を平面上で重ね合わせることによって平面形状が規定される開口部を少なくとも1つ含み、前記長方形の短辺の長さは、前記照明光学系による前記スリット開口部の像の縮小倍率をM[倍]、前記対物レンズの開口数をNA、前記照明光学系に入射する照明光の波長をλ[nm]としたときに、Mλ/(2NA)以下であることを特徴とする試料高さ検出装置。 - 前記前側検出スリットおよび前記後側検出スリットの各々における開口部は、前記スリット開口部と平面視上合同であることを特徴とする請求項1に記載の試料高さ検出装置。
- 前記試料に前記スリット開口部の像を縮小投影したときの前記前側光量センサの測定値と前記後側光量センサの測定値とに基づいて、前記試料の高さ方向における前記スリット開口部の像の結像位置と前記試料の試料面との相対的な位置関係を演算する演算回路を更に備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の試料高さ検出装置。
- 前記照明光学系に前記照明光として遠紫外線を入射させる人工光源を更に備えることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の試料高さ検出装置。
- 微細パターンが形成された試料に照明光を照射して該試料の光学画像データを得、該光学画像データと検査基準データとに基づいて前記微細パターンの良否を検査するパターン検査システムであって、
請求項1に記載の試料高さ検出装置と、
前記試料が配置される精密ステージと、
前記照明光学系に前記照明光を入射させる人工光源と、
前記前側光量センサの測定値と前記後側光量センサの測定値とに基づいて、前記試料の高さ方向における前記スリット開口部の像の結像位置と前記精密ステージに配置された前記試料の試料面との相対的な位置関係を演算する演算回路と、
前記演算回路の演算結果に基づいて前記精密ステージを駆動させるステージ制御装置とを備えることを特徴とするパターン検査システム。
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