JP2016051993A - Piezoelectric piece bend-off device and manufacturing method for piezoelectric piece - Google Patents

Piezoelectric piece bend-off device and manufacturing method for piezoelectric piece Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a piezoelectric piece bend-off device that is able to hold a piezoelectric wafer appropriately.SOLUTION: A bend-off device 1 comprises: a tray table 13; a tray 15; a suction device 17; and a head device 11. The tray table 13 has a first suction hole 13h that is open in the upper surface. The tray 15 has: an accommodating recess 21r that is open in the upper surface; and a second suction hole 21h passing through from the lower surface to the upper surface around the accommodating recess 21r. The tray is placed on the upper surface of the tray table 13 such that the second suction hole 21h and the first suction hole 13h communicate with each other. The suction device 17 exhausts the second suction hole 21h via the first suction hole 13h, and sucks a crystal wafer 121 onto the upper surface of the tray 15. The head device 11 pushes downward a predetermined portion located on the accommodating recess 21r of the crystal wafer 121, bends the predetermined portion off the other portion of the crystal wafer 121, thereby using the predetermined portion as a crystal piece 115.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、圧電片を圧電ウェハから折り取る圧電片折り取り装置、及び、圧電片の製造方法に関する。圧電片は、例えば、発振信号を生成するための圧電発振器及び圧電振動子に利用される。圧電片は、例えば、水晶片である。   The present invention relates to a piezoelectric piece breaker that breaks a piezoelectric piece from a piezoelectric wafer, and a method for manufacturing the piezoelectric piece. The piezoelectric piece is used for, for example, a piezoelectric oscillator and a piezoelectric vibrator for generating an oscillation signal. The piezoelectric piece is, for example, a crystal piece.

水晶発振器又は水晶振動子として、板状の水晶片に励振電極を設けて構成された水晶振動素子を有するものが知られている。水晶振動素子は、例えば、以下のように製造される。まず、水晶ウェハに対してエッチングを行い、水晶片となる部分と、水晶片の1辺と接続され、水晶片を支持する枠状部分とを形成する。次に、水晶片に励振電極を形成する。その後、水晶片と枠状部分との間の部分を折り(破断し)、水晶片を完全に個片化する。   2. Description of the Related Art As a crystal oscillator or a crystal resonator, one having a crystal resonator element configured by providing an excitation electrode on a plate-shaped crystal piece is known. For example, the quartz resonator element is manufactured as follows. First, the crystal wafer is etched to form a portion that becomes a crystal piece and a frame-like portion that is connected to one side of the crystal piece and supports the crystal piece. Next, an excitation electrode is formed on the crystal piece. Thereafter, the portion between the crystal piece and the frame-like portion is folded (broken) to completely separate the crystal piece.

水晶片を枠状部分から折り取るための装置として、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。特許文献1の折り取り装置は、水晶ウェハが載置されるトレイと、水晶ウェハを上から押さえ付ける押さえ板とを有している。トレイには、水晶片に対応する位置に凹部が形成されており、押さえ板には、水晶片に対応する位置に開口が形成されている。そして、折り取り装置は、ノズル状のヘッドによって押さえ板の開口を介して水晶片を下方(トレイの凹部)へ押し、水晶片を水晶ウェハから折り取る。   For example, a technique described in Patent Document 1 is known as an apparatus for folding a crystal piece from a frame-shaped portion. The folding device of Patent Document 1 includes a tray on which a crystal wafer is placed and a pressing plate that presses the crystal wafer from above. The tray has a recess formed at a position corresponding to the crystal piece, and the pressing plate has an opening formed at a position corresponding to the crystal piece. Then, the folding device pushes the crystal piece downward (a concave portion of the tray) through the opening of the pressing plate by the nozzle-like head, and folds the crystal piece from the crystal wafer.

特開2010−258790号公報JP 2010-258790 A

特許文献1の技術では、圧電ウェハを上から押さえ板によって押さえ付けることによって圧電ウェハを固定している。従って、例えば、圧電ウェハをトレイに適切に位置決めできたとしても、押さえ板によって圧電ウェハを押さえ付けるときに、押さえ板の位置ずれによって、圧電ウェハの位置ずれが生じるおそれがある。また、例えば、押さえ板によって圧電片乃至は圧電片上の励振電極に傷をつけてしまうおそれがある。さらに、押さえ板を設けるためのコストが必要であり、生産性が低下するおそれがある。   In the technique of Patent Document 1, the piezoelectric wafer is fixed by pressing the piezoelectric wafer from above with a pressing plate. Therefore, for example, even when the piezoelectric wafer can be properly positioned on the tray, when the piezoelectric wafer is pressed by the pressing plate, the positional deviation of the piezoelectric wafer may occur due to the positional shift of the pressing plate. Further, for example, the pressing plate may damage the piezoelectric piece or the excitation electrode on the piezoelectric piece. Furthermore, the cost for providing a pressing plate is required, and productivity may be reduced.

従って、好適に圧電ウェハを保持できる圧電片折り取り装置及び圧電片の製造方法が提供されることが望まれる。   Therefore, it is desirable to provide a piezoelectric piece breaker and a method for manufacturing a piezoelectric piece that can suitably hold a piezoelectric wafer.

本発明の一態様に係る圧電片折り取り装置は、上面に開口する第1吸着孔が形成されたトレイ台と、上面に開口する収容凹部と、前記収容凹部の周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔とを有し、前記第2吸着孔と前記第1吸着孔とが通じるように前記トレイ台の上面に載置されるトレイと、前記第1吸着孔を介して前記第2吸着孔を排気して、前記トレイの上面に圧電ウェハを吸着させる吸引装置と、前記圧電ウェハのうち前記収容凹部上に位置する所定部分を、下方へ押して、又は、上方へ引っ張り、前記所定部分を前記圧電ウェハの他の部分から折り取り、前記所定部分を圧電片とするヘッド装置と、を有している。   A piezoelectric piece folding device according to an aspect of the present invention penetrates in a vertical direction around a tray base having a first suction hole formed in an upper surface, an accommodation recess opened in the upper surface, and the accommodation recess. A second suction hole, and a tray placed on an upper surface of the tray base so that the second suction hole and the first suction hole communicate with each other, and the second suction through the first suction hole. A suction device that evacuates the holes and attracts the piezoelectric wafer to the upper surface of the tray, and a predetermined portion of the piezoelectric wafer that is positioned on the receiving recess is pushed downward or pulled upward, and the predetermined portion is A head device that is folded from another portion of the piezoelectric wafer and uses the predetermined portion as a piezoelectric piece.

好適には、複数の前記第2吸着孔が、平面視において並列に所定方向に延びている。   Preferably, the plurality of second suction holes extend in a predetermined direction in parallel in a plan view.

好適には、複数の前記第1吸着孔が、平面視において、並列に前記所定方向に直交する方向に延び、前記複数の第2吸着孔に交差している。   Preferably, the plurality of first suction holes extend in parallel in a direction orthogonal to the predetermined direction in a plan view and intersect the plurality of second suction holes.

好適には、前記複数の第1吸着孔は、幅が互いに同一であり、且つ、幅方向の間隔が一定であり、前記複数の第2吸着孔は、幅が互いに同一であり、且つ、幅方向の間隔が一定である。   Preferably, the plurality of first suction holes have the same width and a constant interval in the width direction, and the plurality of second suction holes have the same width, and the width. The interval in the direction is constant.

好適には、前記第2吸着孔の開口面積の合計は、前記第1吸着孔の開口面積の合計よりも小さい。   Preferably, the total opening area of the second suction holes is smaller than the total opening area of the first suction holes.

好適には、前記トレイは、複数の前記収容凹部及び複数の前記第2吸着孔を有するトレイ本体と、前記トレイ本体が載置され、複数の前記第2吸着孔と通じる接続孔を有する支持部材と、を有する。   Preferably, the tray has a tray body having a plurality of the receiving recesses and a plurality of the second suction holes, and a support member having a connection hole on which the tray body is placed and communicated with the plurality of the second suction holes. And having.

好適には、前記支持部材上に複数の前記トレイ本体が並列に載置される。   Preferably, a plurality of the tray main bodies are placed in parallel on the support member.

好適には、前記トレイ台は、上面に前記第1吸着孔が開口し、前記接続孔に嵌合する凸部を有する。   Suitably, the said tray stand has a convex part which the said 1st adsorption | suction hole opens on the upper surface, and fits into the said connection hole.

好適には、前記トレイは、前記第2吸着孔の下方側部分を構成する第3吸着孔を有する下層部材と、前記収容凹部を構成する貫通孔、及び、前記第2吸着孔の上方側部分を構成する第4吸着孔を有し、前記下層部材に重ねられた上層部材と、を有している。   Preferably, the tray includes a lower layer member having a third suction hole that constitutes a lower portion of the second suction hole, a through hole that constitutes the housing recess, and an upper portion of the second suction hole. And an upper layer member stacked on the lower layer member.

好適には、前記トレイ台の上面に載置される前記トレイを交換するトレイ交換装置を更に有する。   Preferably, the apparatus further includes a tray exchange device for exchanging the tray placed on the upper surface of the tray table.

本発明の一態様に係る圧電片の製造方法は、上面に開口する収容凹部と、前記収容凹部の周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔とを有したトレイの上面に、圧電ウェハを載置する圧電ウェハ載置ステップと、前記圧電ウェハが載置された前記トレイを、上面に開口する第1吸着孔を有するトレイ台の上面に、前記第2吸着孔と前記第1吸着孔とが通じるように載置するトレイ載置ステップと、前記第1吸着孔を介して前記第2吸着孔を排気して、前記トレイの上面に圧電ウェハを吸着させる吸着ステップと、前記圧電ウェハのうち前記収容凹部上に位置する所定部分を、下方へ押して、又は、上方へ引っ張り、前記所定部分を前記圧電ウェハの他の部分から折り取り、前記所定部分を圧電片とする個片化ステップと、を有している。   In the piezoelectric piece manufacturing method according to one aspect of the present invention, a piezoelectric wafer is placed on an upper surface of a tray having an accommodation recess opening in the upper surface and a second suction hole penetrating in the vertical direction around the accommodation recess. A step of placing a piezoelectric wafer, and a step of placing the tray on which the piezoelectric wafer is placed on a top surface of a tray base having a first suction hole opening on the top surface, the second suction hole and the first suction hole. A tray placement step for placing the wafer in communication, an adsorption step for evacuating the second adsorption hole through the first adsorption hole and adsorbing the piezoelectric wafer to the upper surface of the tray, and among the piezoelectric wafers A predetermined part located on the receiving recess is pushed downward or pulled upward, the predetermined part is broken from the other part of the piezoelectric wafer, and an individualization step using the predetermined part as a piezoelectric piece, have.

上記の構成又は手順によれば、圧電片の折り取りに際して圧電ウェハを好適に保持できる。   According to said structure or procedure, a piezoelectric wafer can be suitably hold | maintained at the time of bending of a piezoelectric piece.

水晶片の使用例を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows the usage example of a crystal piece. 水晶片が多数個取りされる水晶ウェハの一部を示す平面図。The top view which shows a part of crystal wafer from which many crystal pieces are taken. 本発明の実施形態に係る折り取り装置の要部の構成を示す模式的な斜視図。The typical perspective view which shows the structure of the principal part of the folding apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図3の折り取り装置のトレイ等の分解斜視図。FIG. 4 is an exploded perspective view of a tray and the like of the folding device in FIG. 3. 図2のV−V線における、図3の折り取り装置の一部の模式的な断面図。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a part of the folding device of FIG. 3 taken along the line VV of FIG. 2. 図3の折り取り装置のトレイを構成する上層部材を示す平面図。The top view which shows the upper layer member which comprises the tray of the folding apparatus of FIG. 図3の折り取り装置のトレイを構成する下層部材の一部を示す平面図。The top view which shows a part of lower layer member which comprises the tray of the folding apparatus of FIG. 図3の折り取り装置のトレイ台の一部を示す平面図。The top view which shows a part of tray stand of the folding apparatus of FIG. 図3の折り取り装置が実行する処理の手順を示すフローチャート。The flowchart which shows the procedure of the process which the folding apparatus of FIG. 3 performs.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明で用いられる図は模式的なものであり、図面上の寸法比率等は現実のものとは必ずしも一致していない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description are schematic, and the dimensional ratios and the like on the drawings do not necessarily match the actual ones.

また、図面には、図面相互の関係を明確にする等の目的で、便宜的に直交座標系xyzを付すことがある。x軸、y軸及びz軸は、部材の形状等に基づいて便宜的に定義されており、圧電体の電気軸、機械軸及び光軸を意味するものではない。   Further, for the purpose of clarifying the relationship between the drawings, the rectangular coordinate system xyz may be attached to the drawings for the sake of convenience. The x-axis, y-axis, and z-axis are defined for convenience based on the shape of the member and the like, and do not mean the electric axis, mechanical axis, and optical axis of the piezoelectric body.

まず、本発明の実施形態に係る水晶片折り取り装置(以下、「水晶片」は省略)の説明に先立って、折り取り装置の製造対象である水晶片について説明する。   First, prior to description of the crystal piece breaker (hereinafter, “crystal piece” is omitted) according to the embodiment of the present invention, a crystal piece that is a manufacturing target of the breaker device will be described.

図1は、水晶片の利用例である、水晶振動子101(以下、「水晶」は省略)の概略構成を示す分解斜視図である。   FIG. 1 is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a crystal resonator 101 (hereinafter, “crystal” is omitted), which is an example of using a crystal piece.

振動子101は、例えば、凹部103aが形成された素子搭載部材103と、凹部103aに収容された水晶振動素子105(以下、「水晶」は省略)と、凹部103aを塞ぐ蓋部材107とを有している。   The vibrator 101 includes, for example, an element mounting member 103 in which a recess 103a is formed, a crystal resonator element 105 (hereinafter, “crystal” is omitted) accommodated in the recess 103a, and a lid member 107 that closes the recess 103a. doing.

振動子101は、例えば、蓋部材107により凹部103aが塞がれた状態で、概ね薄型の直方体状であり、その寸法は適宜に設定されてよい。例えば、比較的小さいものでは、長辺又は短辺の長さが1〜2mmであり、厚さが0.2〜0.4mmである。凹部103aは蓋部材107により封止され、その内部は、例えば、真空とされ、又は、適宜なガス(例えば窒素)が封入されている。   The vibrator 101 has, for example, a generally thin rectangular parallelepiped shape with the concave portion 103a closed by the lid member 107, and the dimensions thereof may be set as appropriate. For example, in a comparatively small thing, the length of a long side or a short side is 1-2 mm, and thickness is 0.2-0.4 mm. The recess 103a is sealed with a lid member 107, and the inside thereof is, for example, evacuated or is filled with an appropriate gas (for example, nitrogen).

素子搭載部材103は、例えば、素子搭載部材103の主体となる基体109と、振動素子105を実装するための素子搭載パッド111と、振動子101を不図示の回路基板等に実装するための外部端子113とを有している。基体109は、セラミック等の絶縁材料からなり、上記の凹部103aを構成している。素子搭載パッド111及び外部端子113は、例えば、金属等からなる導電層により構成されており、基体109内に配置された不図示の導体等によって互いに接続されている。蓋部材107は、例えば、金属から構成され、素子搭載部材103の上面にシーム溶接等により接合されている。   The element mounting member 103 includes, for example, a base body 109 as a main component of the element mounting member 103, an element mounting pad 111 for mounting the vibration element 105, and an external for mounting the vibrator 101 on a circuit board (not shown). Terminal 113. The base 109 is made of an insulating material such as ceramic and constitutes the concave portion 103a. The element mounting pad 111 and the external terminal 113 are made of, for example, a conductive layer made of metal or the like, and are connected to each other by a conductor (not shown) disposed in the base 109. The lid member 107 is made of metal, for example, and is joined to the upper surface of the element mounting member 103 by seam welding or the like.

振動素子105は、例えば、水晶片115と、水晶片115に電圧を印加するための1対の励振電極117(一方の励振電極117は水晶片115に隠れて不図示)と、振動素子105を素子搭載パッド111に実装するための1対の引出電極119とを有している。   The vibration element 105 includes, for example, a crystal piece 115, a pair of excitation electrodes 117 for applying a voltage to the crystal piece 115 (one excitation electrode 117 is hidden by the crystal piece 115 and not shown), and the vibration element 105. A pair of extraction electrodes 119 for mounting on the element mounting pad 111 is provided.

水晶片115は、例えば、概ね長方形の板状に形成されている。水晶片115は、例えば、ATカット水晶片からなる。1対の励振電極117は、例えば、水晶片115の両主面の中央側に層状に設けられている。1対の引出電極119は、1対の励振電極117から引き出されて水晶片115の長手方向の一端側部分に設けられている。1対の励振電極117及び1対の引出電極119は、例えば、振動素子105の両主面のいずれを凹部103aの底面側としてもよいように、水晶片115の長手方向に延びる不図示の中心線に対して180°回転対称の形状に形成されている。   The crystal piece 115 is formed in a substantially rectangular plate shape, for example. The crystal piece 115 is made of, for example, an AT cut crystal piece. The pair of excitation electrodes 117 are provided in a layered manner on the center side of both main surfaces of the crystal piece 115, for example. The pair of extraction electrodes 119 are extracted from the pair of excitation electrodes 117 and provided on one end side portion in the longitudinal direction of the crystal piece 115. The pair of excitation electrodes 117 and the pair of extraction electrodes 119 are, for example, centers (not shown) extending in the longitudinal direction of the crystal piece 115 so that either of the main surfaces of the vibration element 105 may be the bottom surface side of the recess 103a. It is formed in a 180 ° rotationally symmetric shape with respect to the line.

振動素子105は、主面を凹部103aの底面に対向させて凹部103aに収容される。引出電極119は、不図示のバンプにより素子搭載パッド111に接合される。これにより、振動素子105は、素子搭載部材103に片持ち梁のように支持される。また、1対の励振電極117は、1対の素子搭載パッド111と電気的に接続され、ひいては、複数の外部端子113のいずれか2つと電気的に接続される。バンプは、例えば、導電性接着剤からなる。   The vibration element 105 is accommodated in the recess 103a with the main surface facing the bottom surface of the recess 103a. The extraction electrode 119 is bonded to the element mounting pad 111 by a bump (not shown). Thereby, the vibration element 105 is supported by the element mounting member 103 like a cantilever. In addition, the pair of excitation electrodes 117 is electrically connected to the pair of element mounting pads 111, and by extension, is electrically connected to any two of the plurality of external terminals 113. The bump is made of, for example, a conductive adhesive.

図2は、振動素子105の製造方法の概要を説明するための図であり、具体的には、水晶片115が多数個取りされる水晶ウェハ121の一部を示している。振動素子105は、例えば、以下のように製造される。   FIG. 2 is a diagram for explaining the outline of the method for manufacturing the vibration element 105, and specifically shows a part of the crystal wafer 121 from which a large number of crystal pieces 115 are taken. The vibration element 105 is manufactured as follows, for example.

まず、水晶片115の厚みと同一の厚みに形成された水晶ウェハ121が準備される。なお、水晶ウェハ121の外縁は、円形に限定されず、例えば、多角形であってもよい。本実施形態では、外縁が矩形の水晶ウェハ121を例示する。   First, a quartz wafer 121 formed to have the same thickness as the quartz piece 115 is prepared. The outer edge of the crystal wafer 121 is not limited to a circle, and may be a polygon, for example. In this embodiment, the quartz wafer 121 whose outer edge is rectangular is illustrated.

次に、水晶ウェハ121に対してエッチングを行い、図2に示されているように、水晶片115となる部分と、水晶片115の1辺と接続され、水晶片115を支持する枠部123とを形成する。   Next, etching is performed on the crystal wafer 121 and, as shown in FIG. 2, a frame portion 123 that is connected to a portion that becomes the crystal piece 115 and one side of the crystal piece 115 and supports the crystal piece 115. And form.

より具体的には、例えば、水晶片115は、短辺に平行な方向(y方向)に配列されて列をなし、また、この列が長辺に平行な方向(x方向)に複数構成されるように、水晶ウェハ121に形成される。なお、水晶片115の列間において、水晶片115のy方向の位置は、図2に例示するように互いに同一であってもよいし、図2とは異なり互いに異なっていてもよい。   More specifically, for example, the crystal pieces 115 are arranged in a direction parallel to the short side (y direction) to form a column, and a plurality of the columns are configured in a direction parallel to the long side (x direction). Thus, the crystal wafer 121 is formed. Note that the positions of the crystal pieces 115 in the y direction between the rows of the crystal pieces 115 may be the same as illustrated in FIG. 2, or may be different from each other unlike FIG. 2.

また、例えば、枠部123は、概略格子状に形成される。すなわち、枠部123は、全ての水晶片115を囲む外枠123a(本実施形態では矩形の4辺からなる。図2では1辺の一部のみ示す。)と、外枠123aのy方向両側の部分(2辺)同士を結ぶようにy方向に延びる複数の枝123bとを有している。枝123bは、水晶片115の列間において延びている。枝123bの幅は、例えば、外枠123aの幅よりも狭くされている。   For example, the frame part 123 is formed in a substantially lattice shape. That is, the frame portion 123 includes an outer frame 123a (consisting of four rectangular sides in the present embodiment; only a part of one side is shown in FIG. 2) surrounding both crystal pieces 115, and both sides of the outer frame 123a in the y direction. And a plurality of branches 123b extending in the y direction so as to connect the two portions (two sides). The branches 123b extend between the rows of crystal pieces 115. For example, the width of the branch 123b is narrower than the width of the outer frame 123a.

そして、水晶片115は、1対の引出電極119が配置される側(x方向正側)の短辺において、枝123b(最もx方向正側に位置する水晶片115の列については外枠123aの4辺のうちのx方向正側の1辺)と接続されている。より具体的には、例えば、短辺の両端において、接続部123cによって接続されている。   Then, the crystal piece 115 has an outer frame 123a for the branch 123b (the row of crystal pieces 115 located on the most positive side in the x direction) on the short side on the side (x direction positive side) where the pair of extraction electrodes 119 are arranged. Are connected to one side on the positive side in the x direction). More specifically, for example, both ends of the short side are connected by the connection portion 123c.

次に、水晶片115に励振電極117及び引出電極119を形成する。例えば、フォトリソグラフィーによって水晶片115の表面にレジストからなるマスクを形成し、そのマスクを介して蒸着等によって水晶片115の表面に金属膜を形成する。なお、2つの接続部123c間に形成された開口123hは、引出電極119のうちの水晶片115の両主面間を導通する部分の形成に寄与する。   Next, the excitation electrode 117 and the extraction electrode 119 are formed on the crystal piece 115. For example, a mask made of a resist is formed on the surface of the crystal piece 115 by photolithography, and a metal film is formed on the surface of the crystal piece 115 by vapor deposition or the like through the mask. The opening 123h formed between the two connecting portions 123c contributes to the formation of a portion that conducts between both main surfaces of the crystal piece 115 in the extraction electrode 119.

その後、水晶片115と接続部123cとの境界部分を折ることによって破断する。すなわち、水晶片115を枠部123(水晶ウェハ121)から折り取って、水晶片115を完全に個片化する。折り取りは、例えば、ピン状乃至はノズル状の部材によって水晶片115の主面を押すことによってなされる。   Then, it breaks by folding the boundary portion between the crystal piece 115 and the connecting portion 123c. That is, the crystal piece 115 is broken from the frame portion 123 (crystal wafer 121) to completely separate the crystal piece 115. The folding is performed, for example, by pressing the main surface of the crystal piece 115 with a pin-shaped or nozzle-shaped member.

図3は、水晶片115を水晶ウェハ121から折り取るための折り取り装置1の要部の構成を示す模式的な斜視図である。   FIG. 3 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of the folding device 1 for folding the crystal piece 115 from the crystal wafer 121.

折り取り装置1は、例えば、水晶片115を折り取る本体部3と、折り取られた水晶片115を収容するための収納部5と、本体部3に水晶片115が折り取られる次の水晶ウェハ121を準備する準備部7と、これら各部を制御するための制御装置8とを有している。   The folding device 1 includes, for example, a main body 3 that folds the crystal piece 115, a storage portion 5 that stores the crystal piece 115 that has been broken, and a next crystal in which the crystal piece 115 is broken by the main body portion 3. It has the preparation part 7 which prepares the wafer 121, and the control apparatus 8 for controlling these each part.

なお、図3では、準備部7、本体部3及び収納部5が順に直線上に配置され、また、1台の基台を分割した領域に各部が設けられているように図示されているが、実際には、各部は、直線上に配置されずに適宜な位置関係とされたり、適宜に分離又は統合されたりしてよい。   In FIG. 3, the preparation unit 7, the main body unit 3, and the storage unit 5 are sequentially arranged on a straight line, and each unit is illustrated in a region obtained by dividing one base. Actually, the respective units may be arranged in an appropriate positional relationship without being arranged on a straight line, or may be separated or integrated as appropriate.

本体部3は、例えば、図2に示した状態の水晶ウェハ121を保持する保持装置9と、保持装置9が保持している水晶ウェハ121の水晶片115を押して水晶片115を折り取るヘッド装置11と、を有している。   The main body 3 includes, for example, a holding device 9 that holds the crystal wafer 121 in the state illustrated in FIG. 2, and a head device that pushes the crystal piece 115 of the crystal wafer 121 held by the holding device 9 and breaks the crystal piece 115. 11.

保持装置9は、例えば、いわゆる真空吸着によって水晶ウェハ121を保持するように構成されており、トレイ台13と、トレイ台13上に載置され、水晶ウェハ121が載置されるトレイ15と、トレイ台13を介してトレイ15上の雰囲気を吸引する吸引装置17(真空装置)とを有している。   The holding device 9 is configured to hold the crystal wafer 121 by, for example, so-called vacuum suction, and is placed on the tray base 13, the tray base 13, and the tray 15 on which the crystal wafer 121 is placed, A suction device 17 (vacuum device) for sucking the atmosphere on the tray 15 through the tray base 13 is provided.

トレイ台13は、例えば、適宜な本体用基台18上に設けられている。なお、トレイ台13は、本体用基台18に対して移動不可能に設けられていてもよいし、水平方向(xy平面)において移動可能に設けられていてもよい。トレイ台13は、金属又は樹脂等の適宜な材料によって形成されてよい。   The tray base 13 is provided on an appropriate main body base 18, for example. The tray base 13 may be provided so as not to move with respect to the main body base 18 or may be provided so as to be movable in the horizontal direction (xy plane). The tray base 13 may be formed of an appropriate material such as metal or resin.

トレイ15は、例えば、トレイ台13に対して搬入及び搬出が可能(着脱可能、交換可能)とされている。従って、水晶ウェハ121は、トレイ15に載置された状態で、トレイ台13に対して搬入及び搬送が可能となっている。   For example, the tray 15 can be carried into and out of the tray table 13 (detachable and replaceable). Therefore, the crystal wafer 121 can be carried into and transferred to the tray table 13 while being placed on the tray 15.

トレイ15は、例えば、支持部材19と、支持部材19に支持されるトレイ本体21とを有している。   The tray 15 includes, for example, a support member 19 and a tray main body 21 supported by the support member 19.

1台のトレイ台13上には、例えば、1つの支持部材19が載置される。1つの支持部材19上には、例えば、2つのトレイ本体21が載置される。各トレイ本体21上には、例えば、1つの水晶ウェハ121が載置される。トレイ本体21は、例えば、支持部材19よりも薄く形成されている。支持部材19及びトレイ本体21は、金属又は樹脂等の適宜な材料によって形成されてよい。   For example, one support member 19 is placed on one tray table 13. On one support member 19, for example, two tray bodies 21 are placed. On each tray body 21, for example, one crystal wafer 121 is placed. The tray body 21 is formed thinner than the support member 19, for example. The support member 19 and the tray body 21 may be formed of an appropriate material such as metal or resin.

吸引装置17は、トレイ台13に形成された接続ポート13pに接続されている。なお、接続ポート13pは、例えば、トレイ本体21(水晶ウェハ121)毎に設けられており、本実施形態では合計で2つ設けられている。ただし、全てのトレイ本体21に共通に一つの接続ポート13pが設けられてもよい。   The suction device 17 is connected to a connection port 13 p formed on the tray base 13. The connection port 13p is provided for each tray body 21 (crystal wafer 121), for example, and two connection ports 13p are provided in total in the present embodiment. However, one connection port 13p may be provided in common for all tray bodies 21.

吸引装置17は、例えば、ポンプ式の吸引装置によって構成されている。具体的には、例えば、吸引装置17は、真空ポンプ23と、真空ポンプ23を駆動するポンプ用モータ25と、真空ポンプ23によって排気される真空タンク27と、真空タンク27と接続ポート13pとの間の気体(空気)の流れを許容又は禁止するトレイ用バルブ29とを有している。トレイ用バルブ29は、例えば、接続ポート13p毎に設けられている。   The suction device 17 is constituted by, for example, a pump type suction device. Specifically, for example, the suction device 17 includes a vacuum pump 23, a pump motor 25 that drives the vacuum pump 23, a vacuum tank 27 exhausted by the vacuum pump 23, a vacuum tank 27, and a connection port 13p. And a tray valve 29 that allows or prohibits the flow of gas (air) therebetween. The tray valve 29 is provided for each connection port 13p, for example.

吸引装置17は、例えば、トレイ用バルブ29を閉じた状態で、真空ポンプ23によって予め真空タンク27の真空引きを行い、真空タンク27の圧力を大気圧よりも低い所定の圧力にしておく。そして、接続ポート13pから排気を行うときには、トレイ用バルブ29を開く。また、吸引装置17は、トレイ用バルブ29を開いている間等において、真空タンク27の圧力が所定の圧力に維持されるように真空ポンプ23を駆動する。   For example, the suction device 17 evacuates the vacuum tank 27 in advance by the vacuum pump 23 with the tray valve 29 closed, and sets the pressure of the vacuum tank 27 to a predetermined pressure lower than the atmospheric pressure. When exhausting from the connection port 13p, the tray valve 29 is opened. Further, the suction device 17 drives the vacuum pump 23 so that the pressure of the vacuum tank 27 is maintained at a predetermined pressure while the tray valve 29 is opened.

なお、真空ポンプ23は、ロータリーポンプであってもよいし、プランジャポンプであってもよいし、定容量式であってもよいし、可変容量式であってもよい。ポンプ用モータ25は、オープンループで制御されるものであってもよいし、フィードバック制御がなされるサーボモータであってもよい。トレイ用バルブ29は、開状態及び閉状態のみを基本的に実現するものであってもよいし、開度を無段階で調整可能なサーボバルブであってもよい。吸引装置17は、上記の構成の他、真空タンク27の圧力を検出する圧力センサ、及び/又は、真空タンク27等の圧力を一定に保つための圧力制御弁等を有していてもよい。   The vacuum pump 23 may be a rotary pump, a plunger pump, a constant capacity type, or a variable capacity type. The pump motor 25 may be controlled in an open loop or may be a servo motor that performs feedback control. The tray valve 29 may basically realize only an open state and a closed state, or may be a servo valve whose opening degree can be adjusted steplessly. In addition to the above configuration, the suction device 17 may include a pressure sensor that detects the pressure of the vacuum tank 27 and / or a pressure control valve that keeps the pressure of the vacuum tank 27 and the like constant.

ヘッド装置11は、例えば、水晶片115を押すためのノズル31と、ノズル31を水晶ウェハ121に対して移動させるためのノズル移動装置33とを有している。また、ヘッド装置11は、吸引装置17の一部(真空ポンプ23、ポンプ用モータ25及び真空タンク27)を保持装置9と共用するとともに、真空タンク27とノズル31との間の気体の流れを許容又は禁止するノズル用バルブ35を有している。   The head device 11 includes, for example, a nozzle 31 for pushing the crystal piece 115 and a nozzle moving device 33 for moving the nozzle 31 with respect to the crystal wafer 121. The head device 11 shares part of the suction device 17 (the vacuum pump 23, the pump motor 25 and the vacuum tank 27) with the holding device 9, and also allows the gas flow between the vacuum tank 27 and the nozzle 31 to flow. The nozzle valve 35 is allowed or prohibited.

ノズル31は、先端に開口が形成されており(図5参照)、真空引きされることにより、先端に水晶片115を吸着することが可能である。従って、例えば、ノズル31は、水晶片115を吸着した状態で水晶片115を押すことにより、折り取った後の水晶片115を保持可能となっている。   The nozzle 31 has an opening at the tip (see FIG. 5), and can suck the crystal piece 115 at the tip by being evacuated. Therefore, for example, the nozzle 31 can hold the crystal piece 115 after being broken by pressing the crystal piece 115 while the crystal piece 115 is adsorbed.

ノズル移動装置33は、例えば、ロボットにより構成されており、ノズル31を上下方向及び水平方向に駆動する。これにより、ノズル31により水晶ウェハ121内の任意の水晶片115を押して折り取る動作、及び、折り取られてノズル31に保持された水晶片115を搬送する動作が可能とされている。   The nozzle moving device 33 is constituted by, for example, a robot, and drives the nozzle 31 in the vertical direction and the horizontal direction. As a result, the operation of pushing and folding an arbitrary crystal piece 115 in the crystal wafer 121 by the nozzle 31 and the operation of transporting the crystal piece 115 that has been folded and held by the nozzle 31 are enabled.

ノズル移動装置33を構成するロボットは、例えば、垂直多関節ロボットであってもよいし、スカラロボットであってもよいし、直交ロボットであってもよい。ただし、水晶片115を折り取る際には、水晶片115は接続部123c側を支点として傾斜するから、ロボット(ノズル31を保持するためのアタッチメントを含む)は、水晶片115の傾斜に合わせてノズル31を傾斜させることができる機能を有していることが好ましい。   The robot constituting the nozzle moving device 33 may be, for example, a vertical articulated robot, a SCARA robot, or an orthogonal robot. However, when the crystal piece 115 is folded, the crystal piece 115 is inclined with the connecting portion 123c side as a fulcrum, so that the robot (including the attachment for holding the nozzle 31) matches the inclination of the crystal piece 115. It is preferable that the nozzle 31 has a function capable of inclining.

なお、ノズル移動装置33は、特に図示しないが、アーム等の基本的な構成に加え、水晶片115の位置を特定するための撮像装置及び画像処理装置、及び/又は、ノズル31による押圧力若しくは水晶ウェハ121の枠部123に対する変位を検出するセンサ等を有していてもよい。   The nozzle moving device 33 is not particularly shown, but in addition to the basic configuration such as an arm, the imaging device and the image processing device for specifying the position of the crystal piece 115 and / or the pressing force by the nozzle 31 or You may have a sensor etc. which detect the displacement with respect to the frame part 123 of the crystal wafer 121. FIG.

吸引装置17の構成は上述したとおりである。ノズル31は、ノズル用バルブ35が開かれることによって真空引きされる。なお、ノズル用バルブ35は、トレイ用バルブ29と同様に、開状態及び閉状態のみを基本的に実現するものであってもよいし、開度を無段階で調整可能なサーボバルブであってもよい。   The configuration of the suction device 17 is as described above. The nozzle 31 is evacuated by opening the nozzle valve 35. As with the tray valve 29, the nozzle valve 35 may basically realize only the open state and the closed state, or may be a servo valve capable of adjusting the opening degree in a stepless manner. Also good.

収納部5は、例えば、折り取られた水晶片115を収容する収納トレイ37と、収納トレイ37を搬送する不図示の搬送装置とを有している。   The storage unit 5 includes, for example, a storage tray 37 that stores the broken crystal piece 115 and a transport device (not shown) that transports the storage tray 37.

特に図示しないが、収納トレイ37は、例えば、上方に開口し、複数の水晶片115を収容可能な複数の凹部を有している。折り取られた水晶片115は、当該水晶片115を吸着しているノズル31がヘッド装置11によって凹部上に搬送され、ノズル31による吸着が解除されることによって凹部に収容される。   Although not particularly illustrated, the storage tray 37 has, for example, a plurality of recesses that open upward and can store a plurality of crystal pieces 115. The broken crystal piece 115 is accommodated in the recess when the nozzle 31 sucking the crystal piece 115 is conveyed onto the recess by the head device 11 and the suction by the nozzle 31 is released.

なお、一の収納トレイ37が収容可能な水晶片115の数は、一の水晶ウェハ121から折り取られる水晶片115の数に対して少なくてもよいし、同等でもよいし、多くてもよい。好ましくは、トレイ15の交換の際に収納トレイ37を交換できるように(折り取りの最中に収納トレイ37の交換の必要性が生じないように)、収納トレイ37が収容可能な水晶片115の数は、一のトレイ15上の水晶ウェハ121から折り取られる水晶片115の数と同等以上であることが好ましい。   It should be noted that the number of crystal pieces 115 that can be accommodated in one storage tray 37 may be less than, equal to, or greater than the number of crystal pieces 115 that are broken off from one crystal wafer 121. . Preferably, the crystal piece 115 that can be accommodated in the storage tray 37 so that the storage tray 37 can be replaced when the tray 15 is replaced (so that there is no need to replace the storage tray 37 during folding). Is preferably equal to or greater than the number of crystal pieces 115 broken from the crystal wafer 121 on one tray 15.

収納トレイ37を搬送する不図示の搬送装置は、例えば、空の収納トレイ37を収納用基台39上に搬入し、また、水晶片115を収容した収納トレイ37を収納用基台39から搬出する。搬送装置は、例えば、ロボットによって構成されている。収納トレイ37は、収納用基台39に単に位置決めされて載置されるだけでもよいし、収納用基台39に適宜な吸着手段によって保持されてもよい。   A transport device (not shown) that transports the storage tray 37 carries, for example, an empty storage tray 37 onto the storage base 39, and also carries out the storage tray 37 that stores the crystal piece 115 from the storage base 39. To do. The transfer device is constituted by a robot, for example. The storage tray 37 may be simply positioned and placed on the storage base 39, or may be held on the storage base 39 by appropriate suction means.

準備部7は、図2に示した状態の水晶ウェハ121が載置されたトレイ15を準備し、本体部3に供給する。例えば、準備部7は、トレイ15を搬送可能なトレイ搬送装置41と、水晶ウェハ121を搬送可能なウェハ搬送装置43とを有している。   The preparation unit 7 prepares the tray 15 on which the crystal wafer 121 in the state shown in FIG. For example, the preparation unit 7 includes a tray transfer device 41 that can transfer the tray 15 and a wafer transfer device 43 that can transfer the crystal wafer 121.

トレイ搬送装置41は、例えば、複数のトレイ15を収容する不図示の容器乃至は複数のトレイ15を搬送するコンベアから一のトレイ15を取り出し、準備用基台42上に載置する。ウェハ搬送装置43は、例えば、複数の水晶ウェハ121を収容する不図示の容器乃至は複数の水晶ウェハ121を搬送するコンベアから一枚ずつ水晶ウェハ121を取り出し、準備用基台42上のトレイ15上に載置する。これにより、準備用基台42上に、水晶ウェハ121が載置されたトレイ15が準備される。また、トレイ搬送装置41は、例えば、折り取りが完了した水晶ウェハ121が載置されたトレイ15を本体部3から搬出し、準備用基台42に準備されたトレイ15を本体部3へ搬入する動作も行う。このようにすることにより、事前にトレイ15に水晶ウェハ121を位置合わせしたものを準備しておくことができるため、折り取りが終了した後のトレイ15を排出した後、すぐに水晶ウェハ121を位置合わせしたトレイ15を搬入することができるので、サイクルタイムを短縮させることができる。   For example, the tray transport device 41 takes out one tray 15 from a container (not shown) that accommodates the plurality of trays 15 or a conveyor that transports the plurality of trays 15 and places the tray 15 on the preparation base 42. For example, the wafer transfer device 43 takes out the crystal wafers 121 one by one from a container (not shown) that accommodates the plurality of crystal wafers 121 or a conveyor that transports the plurality of crystal wafers 121, and the tray 15 on the preparation base 42. Place on top. Thereby, the tray 15 on which the crystal wafer 121 is placed is prepared on the preparation base 42. Further, the tray transfer device 41 carries out, for example, the tray 15 on which the crystal wafer 121 that has been completely folded is placed from the main body 3, and carries the tray 15 prepared on the preparation base 42 into the main body 3. The operation to perform is also performed. By doing so, it is possible to prepare a crystal wafer 121 aligned with the tray 15 in advance, so that after the tray 15 after the folding is finished, the crystal wafer 121 is immediately attached. Since the aligned tray 15 can be carried in, cycle time can be shortened.

トレイ搬送装置41及びウェハ搬送装置43は、例えば、ロボットによって構成されている。ノズル移動装置33を構成するロボットは、例えば、垂直多関節ロボットであってもよいし、スカラロボットであってもよいし、直交ロボットであってもよい。トレイ15又は水晶ウェハ121を保持する機構は、例えば、吸着式が用いられている。   The tray transfer device 41 and the wafer transfer device 43 are configured by a robot, for example. The robot constituting the nozzle moving device 33 may be, for example, a vertical articulated robot, a SCARA robot, or an orthogonal robot. As a mechanism for holding the tray 15 or the crystal wafer 121, for example, an adsorption type is used.

制御装置8は、例えば、特に図示しないが、CPU、ROM、RAM及び外部記憶装置等を含んで構成されている。そして、予めROM乃至は外部記憶装置に記憶された手順に従って、各部の制御を行う。   The control device 8 includes, for example, a CPU, a ROM, a RAM, an external storage device, and the like, although not particularly illustrated. And each part is controlled according to the procedure previously memorize | stored in ROM thru | or the external storage device.

図4は、トレイ台13及びトレイ15の分解斜視図である。   FIG. 4 is an exploded perspective view of the tray base 13 and the tray 15.

上述のように、トレイ15は、支持部材19及びトレイ本体21を有している。支持部材19は、例えば、枠状に形成されており、接続孔19hを有している。トレイ本体21は、接続孔19hを塞ぐように支持部材19に載置される。トレイ本体21には、トレイ本体21を上下方向に貫通する複数の第2吸着孔21hが形成されている。   As described above, the tray 15 includes the support member 19 and the tray main body 21. The support member 19 is formed in a frame shape, for example, and has a connection hole 19h. The tray body 21 is placed on the support member 19 so as to close the connection hole 19h. The tray main body 21 is formed with a plurality of second suction holes 21h penetrating the tray main body 21 in the vertical direction.

一方、トレイ台13の上面には、接続孔19hに嵌合する凸部13aが形成されている。凸部13aの上面(頂面)には、トレイ台13内部の流路13r(図5参照)を介して接続ポート13pと接続された複数の第1吸着孔13hが開口している。   On the other hand, on the upper surface of the tray base 13, a convex portion 13a that fits into the connection hole 19h is formed. A plurality of first suction holes 13h connected to the connection port 13p through the flow path 13r (see FIG. 5) inside the tray base 13 are opened on the upper surface (top surface) of the convex portion 13a.

従って、トレイ15がトレイ台13に載置されると、凸部13aが接続孔19hに嵌合し、これにより、トレイ15はトレイ台13に対してxy方向において位置決めされる。また、このとき、第1吸着孔13hと第2吸着孔21hとが通じ、ひいては、第2吸着孔21hは、第1吸着孔13h及び接続ポート13pを介して吸引装置17に接続される。従って、吸引装置17によって接続ポート13pから排気を行うことにより、トレイ15の上面に水晶ウェハ121を吸着させることができる。   Therefore, when the tray 15 is placed on the tray base 13, the convex portion 13 a is fitted into the connection hole 19 h, and thereby the tray 15 is positioned with respect to the tray base 13 in the xy direction. At this time, the first suction hole 13h and the second suction hole 21h communicate with each other, and the second suction hole 21h is connected to the suction device 17 via the first suction hole 13h and the connection port 13p. Therefore, the quartz wafer 121 can be adsorbed on the upper surface of the tray 15 by exhausting air from the connection port 13p by the suction device 17.

なお、接続孔19h(凸部13a)の平面形状は適宜に設定されてよく、例えば、矩形である。接続孔19h(凸部13a)は、図4において例示するように複数のトレイ本体21に対して共通に設けられていてもよいし、トレイ本体21毎に設けられていてもよい。   In addition, the planar shape of the connection hole 19h (convex portion 13a) may be appropriately set, and is, for example, a rectangle. As illustrated in FIG. 4, the connection hole 19 h (projection 13 a) may be provided in common for the plurality of tray main bodies 21, or may be provided for each tray main body 21.

支持部材19及びトレイ本体21の平面方向における位置決めは適宜になされてよい。例えば、2部材の一方に複数のピンを設け、他方に複数の貫通孔を形成し、両者の嵌合によって位置決めがなされてよい。   The support member 19 and the tray body 21 may be appropriately positioned in the planar direction. For example, a plurality of pins may be provided on one of the two members, a plurality of through holes may be formed on the other, and positioning may be performed by fitting them together.

図5は、トレイ台13、トレイ15、水晶ウェハ121及びノズル31の一部の模式的な断面図である。なお、図中において、符号が付されていない矢印は、空気の流れを示している。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a part of the tray base 13, the tray 15, the crystal wafer 121, and the nozzle 31. In the figure, the arrows without reference numerals indicate the flow of air.

図5の左側部分は、図2のV−V線の位置に相当し、当該左側部分において、水晶ウェハ121は、枝123b、当該枝123bから延びる接続部123c、接続部123cに接続された水晶片115、及び、水晶片115の自由端と枝123bとの間のスリット123s(図2も参照)が図示されている。図5の右側部分は、トレイ台13の接続ポート13p側の端部を含む断面に相当し、当該右側部分において、水晶ウェハ121は、外枠123aの1辺が図示されている。   The left part of FIG. 5 corresponds to the position of the VV line in FIG. 2, and in the left part, the crystal wafer 121 is connected to the branch 123b, the connection part 123c extending from the branch 123b, and the crystal connected to the connection part 123c. The piece 115 and a slit 123s (see also FIG. 2) between the free end of the crystal piece 115 and the branch 123b are shown. The right side portion of FIG. 5 corresponds to a cross section including the end portion of the tray base 13 on the connection port 13p side. In the right side portion, the quartz wafer 121 has one side of the outer frame 123a.

上述のように、トレイ15は、支持部材19の接続孔19hにトレイ台13の凸部13aが嵌合するようにトレイ台13に載置されており、トレイ台13の第1吸着孔13hと、トレイ15の第2吸着孔21hとは接続されている。   As described above, the tray 15 is placed on the tray base 13 so that the convex portion 13a of the tray base 13 is fitted into the connection hole 19h of the support member 19, and the first suction hole 13h of the tray base 13 is connected. The second suction hole 21h of the tray 15 is connected.

より具体的には、例えば、支持部材19は、トレイ台13の上面に載置されている。また、凸部13aの上面は、トレイ本体21の下面に当接しており、第1吸着孔13hと第2吸着孔21hとは直接的に重なっている。   More specifically, for example, the support member 19 is placed on the upper surface of the tray base 13. Further, the upper surface of the convex portion 13a is in contact with the lower surface of the tray body 21, and the first suction hole 13h and the second suction hole 21h directly overlap each other.

トレイ15は、その上面に開口する凹状の収容凹部21rを有している。第2吸着孔21hは、その周囲に位置している。水晶ウェハ121は、水晶片115が収容凹部21r上に位置し、枠部123が第2吸着孔21h上に位置するように、トレイ15上に載置される。従って、第2吸着孔21hを排気すると、枠部123(主として外枠123a及び枝123b)がトレイ15の上面に吸着される。   The tray 15 has a concave accommodating recess 21r that opens on the upper surface thereof. The second suction hole 21h is located around the periphery. The crystal wafer 121 is placed on the tray 15 such that the crystal piece 115 is positioned on the accommodation recess 21r and the frame portion 123 is positioned on the second suction hole 21h. Accordingly, when the second suction hole 21 h is exhausted, the frame portion 123 (mainly the outer frame 123 a and the branch 123 b) is sucked onto the upper surface of the tray 15.

また、水晶片115は、自由端が収容凹部21rに収容されるように枠部123に対して傾斜することが可能である。従って、ノズル31により水晶片115を下方へ押して、水晶片115を枠部123から折り取ることが可能となっている。   Further, the crystal piece 115 can be inclined with respect to the frame portion 123 such that the free end is accommodated in the accommodating recess 21r. Therefore, it is possible to fold the crystal piece 115 from the frame portion 123 by pushing the crystal piece 115 downward by the nozzle 31.

なお、片持ち梁の曲げモーメント分布は固定端において最も大きくなるから、水晶片115は、接続部123cにおいて折れる。接続部123cの上面及び/又は下面に接続部123cを横断する(y方向に延びる)不図示の溝を形成し、応力集中が生じやすくすることによって、折れる位置を精度よく制御してもよい。   Since the bending moment distribution of the cantilever becomes the largest at the fixed end, the crystal piece 115 is bent at the connection portion 123c. By forming a not-illustrated groove (extending in the y direction) across the connection portion 123c on the upper surface and / or the lower surface of the connection portion 123c to facilitate stress concentration, the folding position may be accurately controlled.

トレイ本体21は、例えば、2枚の板状部材からなる。すなわち、トレイ本体21は、支持部材19に載置される下層部材21aと、下層部材21a上に重ねられた上層部材21bとを有している。下層部材21a及び上層部材21bは、例えば、接着剤等により互いに接着されている。   The tray body 21 is composed of, for example, two plate-like members. That is, the tray main body 21 has a lower layer member 21a placed on the support member 19 and an upper layer member 21b stacked on the lower layer member 21a. The lower layer member 21a and the upper layer member 21b are bonded to each other by, for example, an adhesive.

第2吸着孔21hは、下層部材21aに形成された第3吸着孔21ahと、上層部材21bに形成された第4吸着孔21bhとが重なることによって構成されている。収容凹部21rは、例えば、上層部材21bに、その下面から上面に貫通する貫通孔21brが形成され、下層部材21aの上面が、貫通孔21brの下方の開口を塞いで凹部の底面となることによって構成されている。   The second suction hole 21h is configured by overlapping a third suction hole 21ah formed in the lower layer member 21a and a fourth suction hole 21bh formed in the upper layer member 21b. The accommodation recess 21r is formed, for example, by forming a through hole 21br penetrating from the lower surface to the upper surface of the upper layer member 21b, and the upper surface of the lower layer member 21a closing the opening below the through hole 21br to become the bottom surface of the recess. It is configured.

図6は、上層部材21bを示す平面図である。   FIG. 6 is a plan view showing the upper layer member 21b.

収容凹部21rを構成する貫通孔21brは、例えば、平面視において、概略、水晶片115と同等の大きさ及び形状に形成されており、水晶片115と同様に配置されている。すなわち、貫通孔21brは、概略矩形に形成されており、短辺の延びる方向(y方向)に配列され、また、その配列が長辺の延びる方向(x方向)に複数設けられている。   The through-hole 21br constituting the housing recess 21r is, for example, roughly formed in the same size and shape as the crystal piece 115 in plan view, and is arranged in the same manner as the crystal piece 115. That is, the through holes 21br are formed in a substantially rectangular shape, arranged in the direction in which the short sides extend (y direction), and a plurality of the arrangements are provided in the direction in which the long sides extend (x direction).

第2吸着孔21hの上方側部分を構成する第4吸着孔21bh(21bh−1、21bh−2)は、例えば、平面視において、外枠123a及び複数の枝123bに重なる位置にて、これらに沿って延びる溝状に形成されている。すなわち、上層部材21bには、全ての貫通孔21brを囲む矩形の4辺に沿って延びる第4吸着孔21bh−1と、貫通孔21brの列の間において、当該列に沿って延びる複数の第4吸着孔21bh−2とが形成されている。   The fourth suction holes 21bh (21bh-1, 21bh-2) constituting the upper part of the second suction holes 21h are, for example, in positions overlapping with the outer frame 123a and the plurality of branches 123b in plan view. It is formed in a groove shape extending along. That is, the upper layer member 21b includes a plurality of fourth suction holes 21bh-1 extending along the four sides of the rectangle surrounding all the through holes 21br, and a plurality of first holes extending along the row between the rows of the through holes 21br. 4 adsorption holes 21bh-2 are formed.

外枠123aに対応する第4吸着孔21bh−1は、例えば、互いに同一の幅とされている。複数の枝123bに対応する複数の第4吸着孔21bh−2は、例えば、互いに同一の幅及び長さとされ、一定の間隔で配置されている。なお、図6の例では、外枠123aに対応する第4吸着孔21bh−1は、枝123bに対応する第4吸着孔21bh−2よりも幅が広く形成されている。ただし、これらは、互いに同等の幅であってもよい。   For example, the fourth suction holes 21bh-1 corresponding to the outer frame 123a have the same width. The plurality of fourth suction holes 21bh-2 corresponding to the plurality of branches 123b have the same width and length, for example, and are arranged at regular intervals. In the example of FIG. 6, the fourth suction hole 21bh-1 corresponding to the outer frame 123a is formed wider than the fourth suction hole 21bh-2 corresponding to the branch 123b. However, these may have the same width.

図7は、下層部材21aを示す平面図である。   FIG. 7 is a plan view showing the lower layer member 21a.

第2吸着孔21hの下方側部分を構成する第3吸着孔21ah(21ah−1、21ah−2)は、例えば、平面視において、第4吸着孔21bhと同一の形状及び大きさとされている。そして、上層部材21bは、第3吸着孔21ahと第4吸着孔21bhとが平面視において一致するように、下層部材21aに対して重ねられる。なお、本実施形態においては、第3吸着孔21ah及び第4吸着孔21bhの形状及び大きさは互いに同一であることから、図6及び図7に示した第3吸着孔21ah及び第4吸着孔21bhの平面形状は、第2吸着孔21hの平面形状とみなしてよい。   The third suction holes 21ah (21ah-1, 21ah-2) constituting the lower side portion of the second suction holes 21h have, for example, the same shape and size as the fourth suction holes 21bh in plan view. Then, the upper layer member 21b is overlapped with the lower layer member 21a so that the third suction hole 21ah and the fourth suction hole 21bh match in plan view. In the present embodiment, since the shape and size of the third suction hole 21ah and the fourth suction hole 21bh are the same, the third suction hole 21ah and the fourth suction hole shown in FIGS. The planar shape of 21bh may be regarded as the planar shape of the second suction hole 21h.

図8は、トレイ台13の上面の一部(トレイ本体21に相当する範囲)を示す上面図である。図8では、トレイ本体21の第2吸着孔21h(21h−1、21h−2)も点線で示している。   FIG. 8 is a top view showing a part of the upper surface of the tray base 13 (range corresponding to the tray main body 21). In FIG. 8, the second suction holes 21h (21h-1, 21h-2) of the tray body 21 are also indicated by dotted lines.

第1吸着孔13h(13h−1、13h−2)は、例えば、平面視において、溝状に形成されている。より具体的には、例えば、トレイ台13には、全ての貫通孔21br(図6)を囲む矩形の4辺に沿って延びる第1吸着孔13h−1と、複数の貫通孔21brの配置領域において、複数の第2吸着孔21h−2に直交する方向に延びる複数の第1吸着孔13h−2とが形成されている。   The first suction holes 13h (13h-1, 13h-2) are formed in a groove shape in a plan view, for example. More specifically, for example, the tray base 13 includes a first suction hole 13h-1 extending along four rectangular sides surrounding all the through holes 21br (FIG. 6), and an arrangement region of the plurality of through holes 21br. Are formed with a plurality of first suction holes 13h-2 extending in a direction orthogonal to the plurality of second suction holes 21h-2.

複数の第1吸着孔13h−1は、例えば、平面視において、複数の第2吸着孔21h−1の大部分に重なり、これにより、第2吸着孔21h−1と通じる。第1吸着孔13h−1の開口面積の合計は、例えば、第2吸着孔21h−1の開口面積の合計よりも大きい。より具体的には、例えば、第1吸着孔13h−1の幅は、第2吸着孔21h−1の幅よりも大きく、また、両者の長さの合計は、概略同等である。複数の第1吸着孔13h−1の幅は、例えば、互いに同一の幅とされている。   For example, the plurality of first suction holes 13h-1 overlap most of the plurality of second suction holes 21h-1 in plan view, and thereby communicate with the second suction holes 21h-1. For example, the total opening area of the first suction holes 13h-1 is larger than the total opening area of the second suction holes 21h-1. More specifically, for example, the width of the first suction hole 13h-1 is larger than the width of the second suction hole 21h-1, and the sum of the lengths of both is substantially the same. For example, the plurality of first suction holes 13h-1 have the same width.

複数の第1吸着孔13h−2は、例えば、平面視において、複数の第2吸着孔21h−2に交差しており、これにより、その交差部Crにおいて、複数の第2吸着孔21h−2と通じている。複数の第1吸着孔13h−2は、例えば、例えば、互いに同一の幅及び長さとされ、一定の間隔で配置されている。   The plurality of first suction holes 13h-2 intersects the plurality of second suction holes 21h-2, for example, in plan view, and thereby the plurality of second suction holes 21h-2 at the intersection Cr. It communicates with. For example, the plurality of first suction holes 13h-2 have, for example, the same width and length as each other, and are arranged at regular intervals.

複数の第1吸着孔13h−2の幅及び間隔は一定であり、また、複数の第2吸着孔21h−2の幅及び間隔は一定であるから、複数の交差部Crのx方向の間隔、y方向の間隔及び面積は一定である。複数の第1吸着孔13hは、例えば、第2吸着孔21hの長さ全体に亘って配列されており、複数の交差部Crは、全ての貫通孔21brの配置領域の概略全体に亘って分布している。   Since the width and interval of the plurality of first adsorption holes 13h-2 are constant, and the width and interval of the plurality of second adsorption holes 21h-2 are constant, the intervals in the x direction of the plurality of intersecting portions Cr, The interval and area in the y direction are constant. The plurality of first suction holes 13h are arranged, for example, over the entire length of the second suction hole 21h, and the plurality of intersecting portions Cr are distributed over substantially the entire arrangement region of all the through holes 21br. doing.

第1吸着孔13h−2の開口面積の合計は、例えば、第2吸着孔21h−2の開口面積の合計よりも大きくされている。第1吸着孔13h−2の幅は、例えば、第2吸着孔21h−2の幅よりも大きい。   For example, the total opening area of the first suction holes 13h-2 is larger than the total opening area of the second suction holes 21h-2. For example, the width of the first suction hole 13h-2 is larger than the width of the second suction hole 21h-2.

なお、図8の例では、第1吸着孔13h−1及び第1吸着孔13h−2は、互いに同等の幅とされているが、第2吸着孔21hと同様に、第1吸着孔13h−1の幅が第1吸着孔13h−2の幅よりも大きくされるなどしてもよい。   In the example of FIG. 8, the first suction hole 13h-1 and the first suction hole 13h-2 have the same width, but, like the second suction hole 21h, the first suction hole 13h- The width of 1 may be made larger than the width of the first suction hole 13h-2.

上述のように、第1吸着孔13h−1の開口面積の合計は、例えば、第2吸着孔21h−1の開口面積の合計よりも大きく、第1吸着孔13h−2の開口面積の合計は、第2吸着孔21h−2の開口面積の合計よりも大きいから、第1吸着孔13hの開口面積の合計は、第2吸着孔21hの開口面積の合計よりも大きい。   As described above, the total opening area of the first suction holes 13h-1 is, for example, larger than the total opening area of the second suction holes 21h-1, and the total opening area of the first suction holes 13h-2 is Since the total opening area of the second suction holes 21h-2 is larger than the total opening area of the first suction holes 13h, the total opening area of the second suction holes 21h is larger.

第1吸着孔13h及び第2吸着孔21hの各種寸法は適宜に設定されてよい。一例として、第1吸着孔13hの短辺の長さ(幅)は、1.0mm以上2.0mm以下であり、第1吸着孔13hの長辺の長さは、100mm以上300mm以下であり、第2吸着孔21hの短辺の長さ(幅)は、0.1mm以上0.2mm以下であり、第2吸着孔21hの長辺の長さは、50mm以上70mm以下である。   Various dimensions of the first suction hole 13h and the second suction hole 21h may be set as appropriate. As an example, the length (width) of the short side of the first suction hole 13h is 1.0 mm or more and 2.0 mm or less, and the length of the long side of the first suction hole 13h is 100 mm or more and 300 mm or less, The length (width) of the short side of the second suction hole 21h is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less, and the length of the long side of the second suction hole 21h is 50 mm or more and 70 mm or less.

特に図示しないが、接続ポート13pと複数の第1吸着孔13hとを接続する流路13rの平面形状は、適宜な形状とされてよい。例えば、流路13rは、接続ポート13pから適宜な数で分岐して複数の第1吸着孔13hに接続されるような平面形状であってもよいし、複数の第1吸着孔13h(又は13h−2)に亘る広さの矩形状部分を有する平面形状であってもよい。   Although not particularly illustrated, the planar shape of the flow path 13r connecting the connection port 13p and the plurality of first suction holes 13h may be an appropriate shape. For example, the flow path 13r may have a planar shape that is branched from the connection port 13p by an appropriate number and connected to the plurality of first suction holes 13h, or the plurality of first suction holes 13h (or 13h). -2) may have a planar shape having a rectangular portion extending over the area.

図9は、折り取り装置1(制御装置8)が実行する処理の手順を示すフローチャートである。   FIG. 9 is a flowchart showing a procedure of processing executed by the folding device 1 (control device 8).

ステップST1では、制御装置8は、まだ水晶ウェハ121が載置されていないトレイ15を準備用基台42上に載置するようにトレイ搬送装置41を制御する。   In step ST <b> 1, the control device 8 controls the tray transfer device 41 so that the tray 15 on which the crystal wafer 121 is not yet placed is placed on the preparation base 42.

ステップST2では、制御装置8は、準備用基台42上に載置されたトレイ15上に水晶ウェハ121(水晶片115が枠部123に接続され、励振電極117及び引出電極119が形成された状態のもの)を載置するようにウェハ搬送装置43を制御する。なお、この際の水晶ウェハ121とトレイ15との平面方向における位置合わせには、公知の方法が採用されてよい。例えば、画像認識処理によって両者のアライメントマークを位置合わせする方法、又は、トレイ15に設けられた位置決め部に水晶ウェハ121の縁部を当接させる方法などが採用されてよい。   In step ST2, the control device 8 includes the crystal wafer 121 (the crystal piece 115 is connected to the frame portion 123, and the excitation electrode 117 and the extraction electrode 119 are formed on the tray 15 placed on the preparation base 42. The wafer transfer device 43 is controlled so as to place the device in the state. In this case, a known method may be adopted for alignment of the crystal wafer 121 and the tray 15 in the planar direction. For example, a method of aligning both alignment marks by image recognition processing or a method of bringing the edge of the crystal wafer 121 into contact with a positioning portion provided on the tray 15 may be employed.

ステップST3では、制御装置8は、水晶ウェハ121が載置されたトレイ15を準備用基台42上から搬出し、トレイ台13上に載置する。なお、この際、上述のように、トレイ15は、トレイ台13の凸部13aがトレイ15の接続孔19hに嵌合されて位置決めされ、また、トレイ台13の第1吸着孔13hとトレイ15の第2吸着孔21hとは重ねられる(接続される)。   In step ST <b> 3, the control device 8 carries out the tray 15 on which the crystal wafer 121 is placed from the preparation base 42 and places it on the tray base 13. At this time, as described above, the tray 15 is positioned by fitting the convex portion 13a of the tray base 13 to the connection hole 19h of the tray 15, and the first suction hole 13h of the tray base 13 and the tray 15 are positioned. The second suction hole 21h is overlapped (connected).

ステップST4では、制御装置8は、トレイ用バルブ29を開き、接続ポート13p及び第1吸着孔13hを介して第2吸着孔21hの排気を行う。これにより、水晶ウェハ121をトレイ15に吸着させる。   In step ST4, the control device 8 opens the tray valve 29 and exhausts the second suction hole 21h through the connection port 13p and the first suction hole 13h. As a result, the crystal wafer 121 is attracted to the tray 15.

ステップST5では、制御装置8は、水晶片115を折り取るようにヘッド装置11を制御する。例えば、まず、ノズル移動装置33によってノズル31が折り取り対象の水晶片115上へ水平移動される。次に、ノズル用バルブ35が開かれ、ノズル31による吸引がなされた状態で、ノズル移動装置33によってノズル31が下方へ移動される。水晶片115は、ノズル31によって吸着された状態で、ノズル31によって下方へ押され、水晶ウェハ121から折り取られる。折り取られた水晶片115は、ノズル移動装置33によるノズル31の移動によって、収納トレイ37上へ搬送される。そして、ノズル用バルブ35が閉じられることにより、折り取られた水晶片115は、ノズル31による吸着が解除され、収納トレイ37に収容される。   In step ST5, the control device 8 controls the head device 11 so as to break the crystal piece 115. For example, first, the nozzle 31 is horizontally moved onto the crystal piece 115 to be broken by the nozzle moving device 33. Next, the nozzle 31 is moved downward by the nozzle moving device 33 in a state where the nozzle valve 35 is opened and suction is performed by the nozzle 31. The crystal piece 115 is pushed downward by the nozzle 31 while being attracted by the nozzle 31, and is broken off from the crystal wafer 121. The broken crystal piece 115 is conveyed onto the storage tray 37 by the movement of the nozzle 31 by the nozzle moving device 33. When the nozzle valve 35 is closed, the broken crystal piece 115 is released from the suction by the nozzle 31 and stored in the storage tray 37.

ステップST6では、制御装置8は、全ての水晶片115の折り取りが終了したか否か判定する。終了していない場合は、制御装置8は、ステップST5の処理に戻る。これにより、上述した一連の折り取り動作が、複数の水晶片115に対して順次行われる。全ての水晶片115の折り取りが終了すると、制御装置8は、ステップST7に進む。   In step ST6, the control device 8 determines whether or not all the crystal pieces 115 have been folded. If not completed, the control device 8 returns to the process of step ST5. As a result, the series of folding operations described above are sequentially performed on the plurality of crystal pieces 115. When the folding of all the crystal pieces 115 is completed, the control device 8 proceeds to step ST7.

ステップST7では、制御装置8は、トレイ用バルブ29を閉じ、水晶ウェハ121の吸着を解除する。   In step ST <b> 7, the control device 8 closes the tray valve 29 and releases the suction of the crystal wafer 121.

ステップST8では、制御装置8は、全ての水晶片115が折り取られた水晶ウェハ121が載置されたトレイ15をトレイ台13から搬出するようにトレイ搬送装置41を制御する。トレイ15は、例えば、トレイ搬送装置41によって、不図示の後処理装置に搬送され、後処理装置にて塵等の除去処理がなされる。その後、処理されたトレイ15は、準備部7に搬送されて、再度、水晶ウェハ121の保持に利用される。   In step ST <b> 8, the control device 8 controls the tray transport device 41 so that the tray 15 on which the crystal wafer 121 from which all the crystal pieces 115 are broken is placed is unloaded from the tray base 13. For example, the tray 15 is transported to a post-processing device (not shown) by the tray transport device 41, and dust and the like are removed by the post-processing device. Thereafter, the processed tray 15 is transported to the preparation unit 7 and used again for holding the crystal wafer 121.

ステップST3〜ST8に並行して、制御装置8は、次に折り取りが行われる水晶ウェハ121を準備するための処理を行う。すなわち、ステップST9及びST10において、ステップST1及びST2と同様の処理を行う。   In parallel with steps ST3 to ST8, the control device 8 performs a process for preparing the crystal wafer 121 to be folded next. That is, in steps ST9 and ST10, the same processing as in steps ST1 and ST2 is performed.

このようにすることにより、従来の水晶片の製造方法のように、押さえ板によって圧電ウェハ121を押さえ付けることがないため、水晶ウェハ121の位置ずれを低減することができる。また、押さえ板を使用しないため、押さえ板で、水晶片15乃至は水晶片15上の励振電極117に傷つけることを防ぐことができるので、水晶片の発振周波数が変動することを低減することができる。   By doing so, the piezoelectric wafer 121 is not pressed by the pressing plate as in the conventional method of manufacturing a crystal piece, and thus the displacement of the crystal wafer 121 can be reduced. Further, since the pressing plate is not used, the pressing plate can prevent the crystal piece 15 or the excitation electrode 117 on the crystal piece 15 from being damaged, so that the fluctuation of the oscillation frequency of the crystal piece can be reduced. it can.

以上のとおり、本実施形態の折り取り装置1は、トレイ台13と、トレイ15と、吸引装置17と、ヘッド装置11とを有している。トレイ台13は、上面に開口する第1吸着孔13hを有している。トレイ15は、上面に開口する凹状の収容凹部21r、及び、収容凹部21rの周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔21hを有し、第2吸着孔21hと第1吸着孔13hとが通じるようにトレイ台13の上面に載置される。吸引装置17は、第1吸着孔13hを介して第2吸着孔21hを排気して、トレイ15の上面に水晶ウェハ121を吸着させる。ヘッド装置11は、水晶ウェハ121のうち収容凹部21r上に位置する所定部分(水晶片115に対応する部分)を下方へ押して、前記所定部分を水晶ウェハ121の他の部分(枠部123)から折り取り、所定部分を水晶片115とする。   As described above, the folding device 1 according to the present embodiment includes the tray base 13, the tray 15, the suction device 17, and the head device 11. The tray base 13 has a first suction hole 13h that opens to the upper surface. The tray 15 has a concave housing recess 21r that opens on the upper surface, and a second suction hole 21h that penetrates in the vertical direction around the housing recess 21r. The second suction hole 21h and the first suction hole 13h include It is placed on the upper surface of the tray base 13 so as to communicate. The suction device 17 exhausts the second suction hole 21 h through the first suction hole 13 h and sucks the crystal wafer 121 on the upper surface of the tray 15. The head device 11 pushes a predetermined portion (portion corresponding to the crystal piece 115) of the crystal wafer 121 on the accommodation recess 21r downward, and the predetermined portion is moved from the other portion (frame portion 123) of the crystal wafer 121. The predetermined part is taken as a crystal piece 115.

また、別の観点では、本実施形態の水晶片115の製造方法は、上面に開口する凹状の収容凹部21rと、収容凹部21rの周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔21hとを有したトレイ15の上面に、水晶ウェハ121を載置する水晶ウェハ載置ステップ(ステップST2及び/又はST10)と、水晶ウェハ121が載置されたトレイ15を、上面に開口する第1吸着孔13hを有するトレイ台13の上面に、第2吸着孔21hと第1吸着孔13hとが通じるように載置するトレイ載置ステップ(ステップST3)と、第1吸着孔13hを介して第2吸着孔21hを排気して、トレイ15の上面に水晶ウェハ121を吸着させる吸着ステップ(ステップST4)と、水晶ウェハ121のうち収容凹部21r上に位置する所定部分を下方へ押して、前記所定部分を水晶ウェハ121の他の部分から折り取り、所定部分を水晶片115とする個片化ステップ(ステップST5)と、を有している。   From another viewpoint, the manufacturing method of the crystal piece 115 according to the present embodiment includes a concave housing recess 21r that opens to the upper surface, and a second suction hole 21h that penetrates in the vertical direction around the housing recess 21r. The crystal wafer mounting step (step ST2 and / or ST10) for mounting the crystal wafer 121 on the upper surface of the tray 15 and the first suction hole 13h opening the tray 15 on which the crystal wafer 121 is mounted on the upper surface. A tray placement step (step ST3) for placing the second suction hole 21h and the first suction hole 13h on the upper surface of the tray base 13 having a second suction hole through the first suction hole 13h. 21h is evacuated to suck the quartz wafer 121 on the upper surface of the tray 15 (step ST4), and a predetermined portion of the quartz wafer 121 located on the accommodation recess 21r is moved downward. Press, has broken off a predetermined portion from the other portions of the crystal wafer 121, the singulation step of the crystal piece 115 a predetermined portion (step ST5), the.

従って、例えば、水晶ウェハ121を上から押え付ける(水晶ウェハ121をトレイ15と挟む)押さえ板は不要である。その結果、押さえ板によって水晶ウェハ121を押さえ付けるときに、押さえ板の位置ずれによって、水晶ウェハ121の位置ずれが生じることはない。例えば、押さえ板によって水晶ウェハ121乃至は励振電極117に傷がつくこともない。さらに、押さえ板を設けるためのコストを低減できる。   Therefore, for example, a pressing plate that presses the crystal wafer 121 from above (sandwiches the crystal wafer 121 with the tray 15) is unnecessary. As a result, when the quartz wafer 121 is pressed by the holding plate, the quartz wafer 121 is not displaced due to the displacement of the holding plate. For example, the quartz wafer 121 or the excitation electrode 117 is not damaged by the pressing plate. Furthermore, the cost for providing the pressing plate can be reduced.

また、例えば、折り取りの対象とされる水晶ウェハ121の種類が変更され(水晶片115の大きさ、及び、水晶片115の水晶ウェハ121における配置等が変更され)、収容凹部及び吸着孔の形状及び大きさ等を変更する必要が生じたときに、トレイ台13を交換せず、トレイ15のみを交換して対応することが可能である。その結果、低コストで多様な水晶ウェハ121に対応することができる。   In addition, for example, the type of the crystal wafer 121 to be broken is changed (the size of the crystal piece 115 and the arrangement of the crystal piece 115 in the crystal wafer 121 are changed), and the accommodation recesses and the suction holes are changed. When it becomes necessary to change the shape, size, etc., it is possible to replace only the tray 15 without replacing the tray base 13. As a result, various crystal wafers 121 can be handled at low cost.

また、例えば、水晶ウェハ121の搬送をトレイ15に載置した状態で行うことができ、このトレイ15に水晶ウェハ121を保持するための第2吸着孔21hが形成されていることから、本体部3において水晶ウェハ121を第2吸着孔21hに対して位置合わせする必要がなくなる。すなわち、本体部3における水晶片115の折り取りと並行して、準備部7において、次に折り取りが行われる水晶ウェハ121を第2吸着孔21hに対して位置合わせすることができる。その結果、折り取りのサイクルが短縮され、生産性が向上することが期待される。   Further, for example, the crystal wafer 121 can be transported on the tray 15, and since the second suction hole 21 h for holding the crystal wafer 121 is formed in the tray 15, the main body portion 3, it is not necessary to align the crystal wafer 121 with respect to the second suction hole 21 h. That is, in parallel with the folding of the crystal piece 115 in the main body 3, the crystal wafer 121 to be broken next can be aligned with the second suction hole 21 h in the preparation unit 7. As a result, it is expected that the folding cycle is shortened and the productivity is improved.

また、例えば、第1吸着孔13hを介して第2吸着孔21hを排気することから、第2吸着孔21hを直接的に排気する場合と異なり、水晶ウェハ121は、トレイ台13に吸着され、その間にトレイ15が挟まれることになる。別の観点では、水晶ウェハ121及びトレイ15がトレイ台13に吸着される。従って、水晶ウェハ121をトレイ15に吸着させるための吸引装置17は、トレイ15をトレイ台13に吸着させることに兼用される。従って、構成が簡素である。   Further, for example, since the second suction hole 21h is exhausted through the first suction hole 13h, unlike the case where the second suction hole 21h is directly exhausted, the crystal wafer 121 is sucked by the tray base 13, The tray 15 is sandwiched between them. From another viewpoint, the crystal wafer 121 and the tray 15 are attracted to the tray base 13. Therefore, the suction device 17 for attracting the crystal wafer 121 to the tray 15 is also used to attract the tray 15 to the tray base 13. Therefore, the configuration is simple.

また、本実施形態では、複数の第2吸着孔21h−2が、平面視において並列に所定方向(y方向)に延びている。   In the present embodiment, the plurality of second suction holes 21h-2 extend in a predetermined direction (y direction) in parallel in a plan view.

従って、第2吸着孔21hに水晶ウェハ121の枠部123(実施形態では枝123b)を重ねることによって、枠部123に作用する吸着力を大きくしつつ、吸着力が水晶片115に作用してしまうことを抑制することができる。   Therefore, by superposing the frame portion 123 (branch 123b in the embodiment) of the crystal wafer 121 on the second suction hole 21h, the suction force acts on the crystal piece 115 while increasing the suction force acting on the frame portion 123. Can be suppressed.

また、本実施形態では、複数の第1吸着孔13h−2が、平面視において、並列に所定方向に直交する方向(x方向)に延び、これにより、所定方向(y方向)に並列に延びる複数の第1吸着孔13h−2に交差している。   In the present embodiment, the plurality of first suction holes 13h-2 extend in parallel in a direction orthogonal to the predetermined direction (x direction) in plan view, and thereby extend in parallel in the predetermined direction (y direction). It intersects with the plurality of first suction holes 13h-2.

従って、例えば、トレイ15を交換して複数の第2吸着孔21h−2の幅乃至は間隔を変更したとしても、確実に複数の第1吸着孔13h−2及び複数の第2吸着孔21h−2を互いに通じさせることができる。例えば、仮に、複数の第1吸着孔13h−2が、複数の第2吸着孔21h−2に対して平行であると、複数の第2吸着孔21h−2の幅及び間隔を水晶ウェハ121の枝123bの幅及び間隔に合わせて設定したときに、複数の第2吸着孔21h−2と複数の第1吸着孔13h−2とが重ならなくなるおそれがあるが、そのような不都合は生じない。また、例えば、トレイ台13及びトレイ15それぞれは、複数の吸着孔間に複数の梁を有する構成となり、複数の梁の側面視において曲げモーメントに対する剛性が高い部材となる。そして、トレイ台13及びトレイ15は、複数の梁が互いに直交するように重ねられるから、全体として、剛性が高くなる。   Therefore, for example, even if the tray 15 is replaced and the width or interval of the plurality of second suction holes 21h-2 is changed, the plurality of first suction holes 13h-2 and the plurality of second suction holes 21h- 2 can communicate with each other. For example, if the plurality of first suction holes 13h-2 are parallel to the plurality of second suction holes 21h-2, the width and interval of the plurality of second suction holes 21h-2 are set to When set according to the width and interval of the branch 123b, the plurality of second suction holes 21h-2 and the plurality of first suction holes 13h-2 may not overlap, but such inconvenience does not occur. . Further, for example, each of the tray base 13 and the tray 15 is configured to have a plurality of beams between the plurality of suction holes, and is a member having high rigidity against a bending moment in a side view of the plurality of beams. And since the tray stand 13 and the tray 15 are piled up so that several beams may mutually orthogonally cross, rigidity becomes high as a whole.

また、本実施形態では、複数の第1吸着孔13h−2及び複数の第2吸着孔21h−2が直交することに加えて、複数の第1吸着孔13h−2は、幅が互いに同一であり、且つ、間隔(y方向)が一定であり、複数の第2吸着孔21h−2は、幅が互いに同一であり、且つ、間隔(x方向)が一定である。   In the present embodiment, in addition to the plurality of first suction holes 13h-2 and the plurality of second suction holes 21h-2 being orthogonal, the plurality of first suction holes 13h-2 have the same width. In addition, the interval (y direction) is constant, the plurality of second suction holes 21h-2 have the same width, and the interval (x direction) is constant.

従って、例えば、両者の連通部分(交差部Cr)は均等に分布することになる。ひいては、水晶ウェハ121をトレイ15に吸着させる力の分布も均等になりやすい。その結果、例えば、水晶ウェハ121を吸着したときに水晶ウェハ121のトレイ15に対する位置ずれが生じるおそれが低減される。   Therefore, for example, the communication part (intersection Cr) between the two is evenly distributed. As a result, the distribution of force for attracting the crystal wafer 121 to the tray 15 tends to be uniform. As a result, for example, when the crystal wafer 121 is sucked, the possibility that the crystal wafer 121 is displaced with respect to the tray 15 is reduced.

また、本実施形態では、第2吸着孔21hの開口面積の合計は、第1吸着孔13hの開口面積の合計よりも小さい。   In the present embodiment, the total opening area of the second suction holes 21h is smaller than the total opening area of the first suction holes 13h.

従って、水晶ウェハ121をトレイ台13に直接載置する場合に比較して、吸着孔の面積を絞り、水晶ウェハ121の枠部123以外の部分が吸着されるおそれを低減することができる。また、トレイ台13とトレイ15との間に負圧が生じることから、トレイ台13によるトレイ15の吸着が直接的になされ、両者の位置ずれが抑制されると期待される。   Therefore, as compared with the case where the crystal wafer 121 is directly placed on the tray table 13, the area of the suction holes can be reduced, and the possibility that portions other than the frame portion 123 of the crystal wafer 121 will be sucked can be reduced. Further, since a negative pressure is generated between the tray base 13 and the tray 15, it is expected that the tray 15 is directly adsorbed by the tray base 13, and the positional deviation between the two is suppressed.

また、本実施形態では、トレイ15は、複数の収容凹部21r及び複数の第2吸着孔21hを有するトレイ本体21と、トレイ本体21が載置され、複数の第2吸着孔21hと通じる接続孔19hを有する支持部材19と、を有している。   In the present embodiment, the tray 15 includes a tray body 21 having a plurality of receiving recesses 21r and a plurality of second suction holes 21h, and a connection hole on which the tray body 21 is placed and communicates with the plurality of second suction holes 21h. And a support member 19 having 19h.

従って、例えば、トレイ本体21は、比較的微細な複数の収容凹部21r及び複数の第2吸着孔21hの形成が容易な薄型の板状部材とし、その一方で、支持部材19は、トレイ15の強度を確保が容易なトレイ本体21よりも厚い枠状部材(接続孔19hが形成された板状部材)とすることができる。すなわち、微細な形状と強度とを両立させることができる。また、例えば、折り取りの対象とされる水晶ウェハ121の種類が変更され、収容凹部及び吸着孔の形状及び大きさ等を変更する必要が生じたときに、支持部材19を交換せず、トレイ本体21のみを交換して対応することが可能である。その結果、低コストで多様な水晶ウェハ121に対応することができる。   Therefore, for example, the tray main body 21 is a thin plate-like member in which a plurality of relatively fine receiving recesses 21r and a plurality of second suction holes 21h can be easily formed. A frame-like member (a plate-like member in which the connection hole 19h is formed) that is thicker than the tray main body 21 that can easily ensure the strength can be obtained. That is, it is possible to achieve both a fine shape and strength. Further, for example, when the type of the crystal wafer 121 to be broken is changed, and it becomes necessary to change the shape and size of the housing recess and the suction hole, the support member 19 is not replaced and the tray is replaced. It is possible to respond by exchanging only the main body 21. As a result, various crystal wafers 121 can be handled at low cost.

また、本実施形態では、支持部材19上に複数のトレイ本体21が並列に載置される。   In the present embodiment, a plurality of tray main bodies 21 are placed in parallel on the support member 19.

従って、水晶ウェハ121とトレイ本体21との位置合わせ(ステップST2及び/又はST10)等の取り扱いを容易にしつつ、複数のトレイ本体21のトレイ台13に対する搬入又は搬出(ステップST3及びST8)を同時に行い、サイクルタイムを短縮させることができる。   Therefore, while the crystal wafer 121 and the tray main body 21 are easily aligned (steps ST2 and / or ST10), the loading and unloading (steps ST3 and ST8) of the plurality of tray main bodies 21 to the tray base 13 are performed simultaneously. And cycle time can be reduced.

また、本実施形態では、トレイ台13は、上面に第1吸着孔13hが開口し、接続孔19hに嵌合する凸部13bを有する。   Moreover, in this embodiment, the tray base 13 has the convex part 13b which the 1st suction hole 13h opens on the upper surface, and fits into the connection hole 19h.

従って、上述のように強度の向上等に寄与する支持部材19をトレイ15のトレイ台13に対する位置決め部として利用することができ、且つ、第1吸着孔13hとトレイ本体21の第2吸着孔21hとを近付ける(さらには直接的に重ねる)ことができる。   Therefore, as described above, the support member 19 that contributes to improving the strength or the like can be used as a positioning portion for the tray 15 with respect to the tray base 13, and the first suction hole 13 h and the second suction hole 21 h of the tray body 21. Can be brought closer to each other (or directly superimposed).

また、本実施形態では、トレイ15は、下層部材21a及び上層部材21bを有している。下層部材21aは、第2吸着孔21hの下方側部分を構成する第3吸着孔21ahを有し、トレイ台13に載置される。上層部材21bは、収容凹部21rを構成する貫通孔21br、及び、第2吸着孔21hの上方側部分を構成する第4吸着孔21bhを有し、下層部材21aに重ねられている。   Moreover, in this embodiment, the tray 15 has the lower layer member 21a and the upper layer member 21b. The lower layer member 21 a has a third suction hole 21 ah that constitutes a lower portion of the second suction hole 21 h and is placed on the tray table 13. The upper layer member 21b has a through hole 21br constituting the accommodating recess 21r and a fourth suction hole 21bh constituting the upper side portion of the second suction hole 21h, and is overlapped with the lower layer member 21a.

従って、例えば、簡便に収容凹部21rを形成することができる。また、例えば、水晶片115及び/又は枠部123の形状及び大きさ等が若干変更されたときに、上層部材21bのみを設計変更して対応することが可能である。   Therefore, for example, the accommodation recess 21r can be easily formed. Further, for example, when the shape and size of the crystal piece 115 and / or the frame portion 123 are slightly changed, it is possible to cope with the design change of only the upper layer member 21b.

なお、以上の実施形態において、折り取り装置1は圧電片折り取り装置の一例であり、水晶ウェハ121は圧電ウェハの一例であり、水晶片115は圧電片の一例である。   In the above embodiment, the folding device 1 is an example of a piezoelectric piece folding device, the crystal wafer 121 is an example of a piezoelectric wafer, and the crystal piece 115 is an example of a piezoelectric piece.

本発明は、以上の実施形態に限定されず、種々の態様で実施されてよい。   The present invention is not limited to the above embodiment, and may be implemented in various aspects.

圧電ウェハ及び圧電片は、水晶ウェハ及び水晶片に限定されず、例えば、セラミックからなるものであってもよい。圧電片は、発振信号を生成するための振動子を構成するものに限定されず、例えば、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタの圧電基板を構成するもの、又は、振動型ジャイロスコープの振動子を構成するものであってもよい。また、発振信号を生成するための圧電デバイスは、振動子に限定されず、例えば、発振回路を含む発振器であってもよい。また、振動子や発振器の構造は、実施形態に例示したものに限定されず、H型の素子搭載部材を有するものなど、適宜な構造とされてよい。   The piezoelectric wafer and the piezoelectric piece are not limited to the quartz wafer and the quartz piece, and may be made of ceramic, for example. The piezoelectric piece is not limited to one that constitutes a vibrator for generating an oscillation signal. For example, one that constitutes a piezoelectric substrate of a SAW (Surface Acoustic Wave) filter or a vibrator of a vibrating gyroscope You may do. Further, the piezoelectric device for generating the oscillation signal is not limited to the vibrator, and may be an oscillator including an oscillation circuit, for example. Further, the structure of the vibrator or the oscillator is not limited to that illustrated in the embodiment, and may be an appropriate structure such as one having an H-type element mounting member.

圧電ウェハにおける圧電片の配置及び枠部の形状等は適宜に設定されてよい。例えば、実施形態では、枠部123の構成として、外枠123a、及び、外枠123aのy方向両側の2辺を結ぶように延びる互いに同一の幅の複数の枝123bを示したが、枠部123の強度を確保するために、外枠123aのx方向両側の2辺を結ぶ枝が適宜な本数で設けられたり、x方向又はy方向に延びる複数の枝のうちいずれかの幅が他の枝の幅に比較して広くされたりしてもよい。例えば、外枠123aの内部を4つの領域に仕切るように、外枠123aと同等の幅で十字の仕切(枝)を設け、4つの領域それぞれにおいて、比較的幅が狭く、y方向に延びる複数の枝123bを設けるようにしてもよい。   The arrangement of the piezoelectric pieces and the shape of the frame portion in the piezoelectric wafer may be set as appropriate. For example, in the embodiment, as the configuration of the frame portion 123, the outer frame 123a and a plurality of branches 123b having the same width extending so as to connect two sides on both sides in the y direction of the outer frame 123a are shown. In order to ensure the strength of 123, an appropriate number of branches connecting two sides on both sides in the x direction of the outer frame 123a are provided, or one of the plurality of branches extending in the x direction or the y direction has a different width. It may be made wider than the width of the branches. For example, a cross-shaped partition (branch) having a width equal to that of the outer frame 123a is provided so as to partition the inside of the outer frame 123a into four regions, and each of the four regions has a relatively narrow width and extends in the y direction. The branch 123b may be provided.

実施形態では、接続部123cについて、水晶片115が折り取られたときに、水晶ウェハ121に残る部分(枠部123の一部)として説明したが、接続部123cは、その中途又は枝123b側の端部にて折られ、その一部又は全部が水晶片115の一部とされてもよい。   In the embodiment, the connection portion 123c has been described as a portion (a part of the frame portion 123) remaining on the crystal wafer 121 when the crystal piece 115 is broken, but the connection portion 123c is in the middle or on the branch 123b side. The crystal piece 115 may be partly or entirely part of the crystal piece 115.

第1吸着孔及び第2吸着孔の形状及び大きさは、適宜に設定されてよく、実施形態に例示したものに限定されない。例えば、第1吸着孔及び第2吸着孔の形状及び大きさは互いに同一であってもよい。また、例えば、第1吸着孔は、比較的大きな面積を有する(例えば複数の第2吸着孔に重なるような)矩形又は円形であってもよい。また、例えば、第2吸着孔は、比較的小さな矩形又は円形とされ、複数の第2吸着孔が圧電ウェハの枠部に沿って配列されてもよい。また、例えば、第1吸着孔及び/又は第2吸着孔は、貫通方向に直交する断面形状及び/又は断面積が貫通方向において変化するものであってもよい。   The shape and size of the first suction hole and the second suction hole may be set as appropriate, and are not limited to those exemplified in the embodiment. For example, the shape and size of the first suction hole and the second suction hole may be the same. Further, for example, the first suction hole may be a rectangle or a circle having a relatively large area (for example, overlapping the plurality of second suction holes). Further, for example, the second suction hole may be a relatively small rectangle or circle, and a plurality of second suction holes may be arranged along the frame portion of the piezoelectric wafer. In addition, for example, the first suction hole and / or the second suction hole may have a cross-sectional shape and / or a cross-sectional area that is orthogonal to the penetration direction and changes in the penetration direction.

溝状に延びる第1吸着孔又は第2吸着孔は、トレイの強度を確保することなどを目的として、長さ方向において適宜な本数に分割され、圧電ウェハの外枠又は枝の長さよりも短く(例えば半分〜1/4の長さに)されてもよい。また、例えば、上述のように、圧電ウェハの枠部が、x方向両側の2辺を結ぶ枝を有したり、他の枝よりも幅が広い枝を有したりする場合は、これに合わせて、複数の収容凹部の間をx方向に延びる第2吸着孔が形成されたり、複数の収容凹部の間を延びる第2吸着孔の幅が互いに異なっていたりしてもよい。また、溝状の第1吸着孔及び第2吸着孔が延びる方向は、複数のトレイ本体の配列方向や接続ポートの位置等に対して適宜に設定されてよい。例えば、実施形態において、図とは逆に、第1吸着孔13hがy方向に延び、第2吸着孔21hがx方向に延びてもよい。   The first suction holes or the second suction holes extending in a groove shape are divided into an appropriate number in the length direction for the purpose of ensuring the strength of the tray, and are shorter than the length of the outer frame or branch of the piezoelectric wafer. (For example, half to ¼ length). In addition, for example, as described above, when the frame portion of the piezoelectric wafer has branches connecting two sides on both sides in the x direction or has branches wider than other branches, it is adjusted accordingly. The second suction holes extending in the x direction may be formed between the plurality of storage recesses, or the widths of the second suction holes extending between the plurality of storage recesses may be different from each other. Moreover, the direction in which the groove-shaped first suction hole and the second suction hole extend may be set as appropriate with respect to the arrangement direction of the plurality of tray bodies, the positions of the connection ports, and the like. For example, in the embodiment, contrary to the drawing, the first suction hole 13h may extend in the y direction, and the second suction hole 21h may extend in the x direction.

収容凹部は、圧電片毎に設けられなくてもよい。例えば、実施形態において、y方向に配列された複数の収容凹部は、適当な数で互いにつなげられ、y方向に延びる溝状に形成されていてもよい。   The housing recess may not be provided for each piezoelectric piece. For example, in the embodiment, the plurality of receiving recesses arranged in the y direction may be connected to each other by an appropriate number and may be formed in a groove shape extending in the y direction.

実施形態では、トレイ本体21の下面と、トレイ台13の凸部13aの上面とが当接したが、これらは当接せず、隙間を介して対向してもよい。すなわち、第1吸着孔と第2吸着孔とは接続孔の一部又は全部を介して通じてもよい。   In the embodiment, the lower surface of the tray main body 21 and the upper surface of the convex portion 13a of the tray base 13 are in contact with each other, but they may not be in contact with each other with a gap therebetween. In other words, the first suction hole and the second suction hole may be communicated via part or all of the connection hole.

実施形態では、1台のトレイ台13上に、順に、1つの支持部材19、2つのトレイ本体21及び2つの水晶ウェハ121が載置された。これらの部材の数の組み合わせは適宜に変更されてよい。例えば、支持部材上には3以上のトレイ本体が載置されてもよい。なお、1つのトレイ本体上に1つの圧電ウェハが載置されるようにし、また、1台のトレイ台及び1つの支持部材上に複数のトレイ本体が載置されるようにすると、実施形態においても述べたように、圧電ウェハ及びトレイ本体の位置合わせ等の取り扱いを容易にしつつ、複数の圧電ウェハをトレイ台に対して同時に搬入又は搬出でき、好ましい。   In the embodiment, one support member 19, two tray bodies 21, and two crystal wafers 121 are placed in order on one tray table 13. The combination of the number of these members may be changed as appropriate. For example, three or more tray bodies may be placed on the support member. In the embodiment, one piezoelectric wafer is placed on one tray body, and a plurality of tray bodies are placed on one tray base and one support member. As described above, it is preferable that a plurality of piezoelectric wafers can be simultaneously loaded into or unloaded from the tray table while facilitating the handling of the alignment of the piezoelectric wafer and the tray body.

トレイは、支持部材(別の観点では接続孔)を有さず、トレイ本体のみから構成されてもよい。また、トレイは、接続孔を有する部分と複数の吸着孔を有する部分とが一体的に形成されてもよい。トレイ本体は、上層部材及び下層部材の2層(複数層)から構成されず、1層から構成されてもよい。   The tray does not have a support member (in another aspect, a connection hole), and may be configured only from the tray body. The tray may be formed integrally with a portion having a connection hole and a portion having a plurality of suction holes. The tray main body may not be composed of two layers (a plurality of layers) of the upper layer member and the lower layer member but may be composed of one layer.

トレイに接続孔が設けられなくてもよいことから理解されるように、トレイ台の凸部は設けられなくてもよい。また、トレイに接続孔が設けられる場合においても、トレイ台の凸部が設けられず、第1吸着孔と第2吸着孔とが接続孔によって連通されてもよい。また、上述のように、圧電ウェハが複数の領域に仕切られているような場合には、トレイ台の凸部は、各領域に対応するように形成されてもよい(一の圧電ウェハに対して複数の接続孔及び凸部が形成されてもよい)。   As will be understood from the fact that the connection hole may not be provided in the tray, the convex portion of the tray base may not be provided. Even when the connection hole is provided in the tray, the first suction hole and the second suction hole may be communicated by the connection hole without providing the convex portion of the tray base. Further, as described above, when the piezoelectric wafer is partitioned into a plurality of regions, the convex portion of the tray base may be formed so as to correspond to each region (for one piezoelectric wafer). A plurality of connection holes and protrusions may be formed).

吸引装置(真空装置)は、(狭義の)ポンプ式のものに限定されない。例えば、圧縮空気を噴出し、その側方に生じる負圧によって吸引を行うエジェクタ式のものであってもよいし、シリンダ内でピストンを一方向へ摺動させることによって吸引を行うシリンダ式のものであってもよい。また、吸引装置において、真空タンク及びバルブは省略可能である。実施形態では、保持装置9とヘッド装置11とで吸引装置17を共用したが、共用されずに、それぞれに吸引装置が設けられてもよい。   The suction device (vacuum device) is not limited to a pump type (in a narrow sense). For example, it may be an ejector type that ejects compressed air and performs suction by a negative pressure generated on its side, or a cylinder type that performs suction by sliding the piston in one direction within the cylinder. It may be. In the suction device, the vacuum tank and the valve can be omitted. In the embodiment, the suction device 17 is shared by the holding device 9 and the head device 11, but a suction device may be provided for each of them without being shared.

圧電ウェハ及びトレイ等を搬送するための構成は、適宜に変更されてよい。例えば、トレイ搬送装置及びウェハ搬送装置は統合されてもよいし、トレイ搬送装置は、準備用と交換用とで分離されてもよい。   The configuration for transporting the piezoelectric wafer, the tray, and the like may be changed as appropriate. For example, the tray transfer device and the wafer transfer device may be integrated, or the tray transfer device may be separated for preparation and replacement.

また、例えば、折り取られた圧電片は、収納トレイに収納されるのではなく、そのまま素子搭載部材(実施形態では素子搭載部材103)に実装されてもよい。すなわち、実施形態の収納部5に代えて、圧電片を実装するための実装部が設けられてもよい。   Further, for example, the folded piezoelectric piece may be mounted on the element mounting member (in the embodiment, the element mounting member 103) as it is, instead of being stored in the storage tray. That is, instead of the storage portion 5 of the embodiment, a mounting portion for mounting the piezoelectric piece may be provided.

実施形態では、ヘッド装置11は、水晶片115を下方へ押して水晶片115を折り取った。ただし、圧電片は、上方へ引っ張られることによって折り取られてもよい。例えば、ノズルによって圧電片を真空吸着し、ノズルを上方へ移動させ、圧電片を折り取ってもよい。   In the embodiment, the head device 11 pushes the crystal piece 115 downward to break the crystal piece 115. However, the piezoelectric piece may be broken by being pulled upward. For example, a piezoelectric piece may be vacuum-sucked by a nozzle, the nozzle may be moved upward, and the piezoelectric piece may be broken off.

1…折り取り装置(圧電片折り取り装置)、13…トレイ台、13h…第1吸着孔、15…トレイ、21r…収容凹部、21h…第2吸着孔、17…吸引装置、115…水晶片、121…水晶ウェハ(圧電ウェハ)。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Folding device (piezoelectric piece folding device), 13 ... Tray base, 13h ... First suction hole, 15 ... Tray, 21r ... Storage recess, 21h ... Second suction hole, 17 ... Suction device, 115 ... Quartz piece 121 ... Quartz wafer (piezoelectric wafer).

Claims (11)

上面に開口する第1吸着孔が形成されたトレイ台と、
上面に開口する収容凹部と、前記収容凹部の周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔とを有し、前記第2吸着孔と前記第1吸着孔とが通じるように前記トレイ台の上面に載置されるトレイと、
前記第1吸着孔を介して前記第2吸着孔を排気して、前記トレイの上面に圧電ウェハを吸着させる吸引装置と、
前記圧電ウェハのうち前記収容凹部上に位置する所定部分を、下方へ押して、又は、上方へ引っ張り、前記所定部分を前記圧電ウェハの他の部分から折り取り、前記所定部分を圧電片とするヘッド装置と、
を有した圧電片折り取り装置。
A tray base having a first suction hole opened on the upper surface;
An upper surface of the tray base having an accommodation recess opened on the upper surface and a second suction hole penetrating in the vertical direction around the accommodation recess, so that the second suction hole and the first suction hole communicate with each other. A tray placed on the
A suction device that evacuates the second suction hole through the first suction hole and sucks the piezoelectric wafer onto the upper surface of the tray;
A head in which a predetermined portion of the piezoelectric wafer located on the receiving recess is pushed downward or pulled upward, the predetermined portion is folded from another portion of the piezoelectric wafer, and the predetermined portion is a piezoelectric piece. Equipment,
A piezoelectric piece breaker having the above structure.
複数の前記第2吸着孔が、平面視において並列に所定方向に延びている
請求項1に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece folding device according to claim 1, wherein the plurality of second suction holes extend in a predetermined direction in parallel in a plan view.
複数の前記第1吸着孔が、平面視において、並列に前記所定方向に直交する方向に延び、前記複数の第2吸着孔に交差している
請求項2に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece folding device according to claim 2, wherein the plurality of first suction holes extend in parallel in a direction perpendicular to the predetermined direction in a plan view and intersect the plurality of second suction holes.
前記複数の第1吸着孔は、幅が互いに同一であり、且つ、幅方向の間隔が一定であり、
前記複数の第2吸着孔は、幅が互いに同一であり、且つ、幅方向の間隔が一定である
請求項3に記載の圧電片折り取り装置。
The plurality of first suction holes have the same width and a constant interval in the width direction,
The piezoelectric piece folding device according to claim 3, wherein the plurality of second suction holes have the same width and a constant interval in the width direction.
前記第2吸着孔の開口面積の合計は、前記第1吸着孔の開口面積の合計よりも小さい
請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece folding device according to any one of claims 1 to 4, wherein a total opening area of the second suction holes is smaller than a total opening area of the first suction holes.
前記トレイは、
複数の前記収容凹部及び複数の前記第2吸着孔を有するトレイ本体と、
前記トレイ本体が載置され、複数の前記第2吸着孔と通じる接続孔を有する支持部材と、
を有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の圧電片折り取り装置。
The tray
A tray body having a plurality of the accommodating recesses and a plurality of the second suction holes;
A support member on which the tray main body is mounted and having a connection hole communicating with the plurality of second suction holes;
The piezoelectric piece folding apparatus according to any one of claims 1 to 5.
前記支持部材上に複数の前記トレイ本体が並列に載置される
請求項6に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece breaker according to claim 6, wherein a plurality of the tray main bodies are placed in parallel on the support member.
前記トレイ台は、上面に前記第1吸着孔が開口し、前記接続孔に嵌合する凸部を有する
請求項6又は7に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece folding apparatus according to claim 6 or 7, wherein the tray base has a convex portion that has an opening on the top surface and the first suction hole is fitted into the connection hole.
前記トレイは、
前記第2吸着孔の下方側部分を構成する第3吸着孔を有する下層部材と、
前記収容凹部を構成する貫通孔、及び、前記第2吸着孔の上方側部分を構成する第4吸着孔を有し、前記下層部材に重ねられた上層部材と、を有している
請求項1〜8のいずれか1項に記載の圧電片折り取り装置。
The tray
A lower layer member having a third suction hole constituting a lower portion of the second suction hole;
2. An upper layer member that has a through hole that constitutes the housing recess, and a fourth adsorption hole that constitutes an upper portion of the second adsorption hole, and is superposed on the lower layer member. The piezoelectric piece breaker according to any one of -8.
前記トレイ台の上面に載置される前記トレイを交換するトレイ交換装置を更に有する
請求項1〜9のいずれか1項に記載の圧電片折り取り装置。
The piezoelectric piece folding device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a tray replacement device that replaces the tray placed on the upper surface of the tray base.
上面に開口する収容凹部と、前記収容凹部の周囲にて上下方向へ貫通する第2吸着孔とを有したトレイの上面に、圧電ウェハを載置する圧電ウェハ載置ステップと、
前記圧電ウェハが載置された前記トレイを、上面に開口する第1吸着孔を有するトレイ台の上面に、前記第2吸着孔と前記第1吸着孔とが通じるように載置するトレイ載置ステップと、
前記第1吸着孔を介して前記第2吸着孔を排気して、前記トレイの上面に圧電ウェハを吸着させる吸着ステップと、
前記圧電ウェハのうち前記収容凹部上に位置する所定部分を、下方へ押して、又は、上方へ引っ張り、前記所定部分を前記圧電ウェハの他の部分から折り取り、前記所定部分を圧電片とする個片化ステップと、
を有した圧電片の製造方法。
A piezoelectric wafer mounting step of mounting a piezoelectric wafer on the upper surface of a tray having an accommodation recess opening in the upper surface and a second suction hole penetrating in the vertical direction around the accommodation recess;
Tray placement for placing the tray on which the piezoelectric wafer is placed on a top surface of a tray base having a first suction hole opening on the upper surface so that the second suction hole and the first suction hole are communicated with each other. Steps,
An adsorption step of exhausting the second adsorption hole through the first adsorption hole and adsorbing the piezoelectric wafer to the upper surface of the tray;
A portion of the piezoelectric wafer that is located on the receiving recess is pushed downward or pulled upward, the predetermined portion is folded from another portion of the piezoelectric wafer, and the predetermined portion is used as a piezoelectric piece. A cleanup step,
Method of manufacturing a piezoelectric piece having
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