JP2016039198A - 太陽電池、電子機器および太陽電池の製造方法 - Google Patents

太陽電池、電子機器および太陽電池の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】静電気耐性の良い太陽電池の製造方法を提供する。【解決手段】発電膜3及び透明導電膜4がこの順に設置された基板2の透明導電膜4上に導電性ペースト6を設置し、導電性ペースト6上に異方性導電膜7を介して配線部材8を設置し、基板2と配線部材8とを挟んで加圧しながら異方性導電膜7を加熱して配線部材8を固定する。【選択図】図1

Description

本発明は、太陽電池、電子機器および太陽電池の製造方法に関するものである。
世に広く用いられているシリコン系太陽電池の構造が特許文献1に開示されている。それによると、光電変換素子は単結晶シリコン型光電変換素子や多結晶型光電変換素子が用いられている。そして、光電変換素子の受光面には銀の膜であるフィンガー電極が設置され、フィンガー電極とタブ線とが導電性接着材にて接着されている。タブ線には銅箔やアルミニウム箔が用いられている。光電変換素子の受光面と反対側の面には裏面電極が設置されている。裏面電極はアルミニウムや銀の膜であり、スパッタ法やスクリーン印刷法にて設置されている。
携帯用の電子機器に設置する太陽電池は薄さと高い発電効率が要求される。そこで、ステンレス等の金属板上に発電膜、透明導電膜を重ねて設置し金属板と透明導電膜に配線する構造が考えられている。発電膜は金属板を裏面電極とし、金属板上にp+形層、p形層、n形層を積層し、n形層に透明導電膜を接続した構造となっている。または、p形層とn形層との間に真性半導体を配置したPIN接合型の構造となっている。これにより、発電膜はpn接合型のフォトダイオードの構造となる。そして、光が発電膜に照射されると発電膜が光励起されて電流が流れる。
特開2014−096532号公報
透明導電膜には異方性導電膜を介して配線が設置される。配線を設置するとき配線と金属板とで発電膜、透明導電膜、異方性導電膜を挟んで加圧し加熱することにより異方性導電膜を接着材として作用させる。異方性導電膜には導電性の粒子が含まれている。発電膜が加圧されるとき導電性の粒子により応力が集中し発電膜が損傷することがある。これにより静電気耐性が低下することがあった。そこで、静電気耐性の良い太陽電池が望まれていた。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本適用例にかかる太陽電池の製造方法であって、発電膜及び透明導電膜がこの順に設置された基板の前記透明導電膜上に導電性ペーストを設置し、前記導電性ペースト上に異方性導電膜を介して配線部材を設置し、前記基板と前記配線部材とを挟んで加圧しながら加熱して前記配線部材を固定することを特徴とする。
本適用例によれば、基板上に発電膜及び透明導電膜がこの順に設置されている。そして、透明導電膜上に導電性ペーストが設置される。さらに、導電性ペースト上に異方性導電膜を介して配線部材が設置される。次に、基板と配線部材とを挟んで加圧する。そして、加圧しながら加熱して配線部材を固定する。異方性導電膜は導電粒子を接着材の膜内に混入したものである。導電性ペーストも導電粒子を接着材の膜内に混入したものである。導電性ペーストに含まれる導電粒子は異方性導電膜の導電粒子に比べて細かな粒子になっている。
発電膜は光起電力効果を有する半導体膜であり加圧により損傷を受け易い膜である。そして、損傷を受けた発電膜は耐圧が低下する。そして、静電気により電圧が加わるとき損傷を受けた場所で電流がリークし絶縁性が破壊される。本適用例では発電膜と配線部材との間に透明導電膜、導電性ペースト及び異方性導電膜が配置される。基板と配線部材とを挟んで加圧するとき発電膜に加わる応力の分布は導電性ペーストによって平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることが抑制される。従って、発電膜の特定の場所に応力が集中しないので、発電膜が損傷をうけることが抑制される。その結果、太陽電池の静電気耐性を向上させることができる。
[適用例2]
上記適用例にかかる太陽電池の製造方法において、前記導電性ペーストの厚みは5μm以上であることを特徴とする。
本適用例によれば、導電性ペーストの厚みは5μm以上である。導電性ペーストの厚みは5μm以上のとき、基板と配線部材とを挟んで加圧するとき発電膜に加わる応力の分布は導電性ペーストによって確実に平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることを抑制することができる。
[適用例3]
本適用例にかかる太陽電池であって、導電性を有する基板と、前記基板上に設置され受光して発電する発電膜と、前記発電膜上に設置された透明導電膜と、前記透明導電膜と接続する配線部材と、を備え、前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする。
本適用例によれば、太陽電池は基板上に発電膜及び透明導電膜が設置されている。発電膜が受光して発電した電気を基板及び透明導電膜から取り出すことができる。透明導電膜上には導電性ペースト及び異方性導電膜が設置され、導電性ペースト及び異方性導電膜は透明導電膜の電気を流動させる部材となっている。そして、透明導電膜及び配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されている。
透明導電膜と配線部材とを接合するとき基板と配線部材とを挟んで加圧する。そして、加圧しながら異方性導電膜を加熱して配線部材を固定する。基板と配線部材とを挟んで加圧するとき発電膜に加わる応力の分布は導電性ペーストによって平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることが抑制される。従って、発電膜の特定の場所に応力が集中しないので、発電膜が損傷をうけることが抑制される。その結果、太陽電池の静電気耐性を向上させることができる。
[適用例4]
上記適用例にかかる太陽電池において、前記導電性ペーストの厚みは5μm以上であることを特徴とする。
本適用例によれば、導電性ペーストの厚みは5μm以上である。導電性ペーストの厚みは5μm以上のとき、基板と配線部材とを挟んで加圧するとき発電膜に加わる応力の分布は導電性ペーストによって確実に平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることを抑制することができる。
[適用例5]
上記適用例にかかる太陽電池において、前記導電性ペーストは炭素粒子を含むペーストであることを特徴とする。
本適用例によれば、導電性ペーストは炭素粒子を含んでいる。炭素粒子は入手しやすい素材であり容易に入手することができる。従って、容易に導電性ペーストを設置することができる。
[適用例6]
上記適用例にかかる太陽電池において、前記透明導電膜に前記配線部材が固定された前記基板を複数備え、各前記基板において前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする。
本適用例によれば、太陽電池は透明導電膜に配線部材が固定された基板を複数備えている。各基板を直列接続するときには出力電圧を高くできる。各基板を並列接続するときには出力電流を高くできる。そして、各基板において透明導電膜及び配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されている。従って、各基板とも発電膜が損傷をうけることが抑制される。その結果、複数の基板を備える太陽電池の静電気耐性を向上させることができる。
[適用例7]
本適用例にかかる電子機器は、太陽電池を備えた電子機器であって、前記太陽電池は、導電性を有する基板と、前記基板上に設置され受光して発電する発電膜と、前記発電膜上に設置された透明導電膜と、前記透明導電膜と接続する配線部材と、を備え、前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする。
本適用例によれば、電子機器は太陽電池を備えている。その太陽電池は静電気耐性が向上した太陽電池となっている。従って、電子機器は、静電気耐性が向上した太陽電池を備えた電子機器とすることができる。
第1の実施形態にかかわり、(a)は、太陽電池の構造を示す概略斜視図、(b)は、太陽電池の回路図、(c)は、発電膜の構造を示す要部模式側面図。 太陽電池の製造方法のフローチャート。 太陽電池の製造方法を説明するための模式図。 太陽電池の製造方法を説明するための模式図。 太陽電池の製造方法を説明するための模式図。 (a)及び(b)は、静電試験の方法を説明するための模式図、(c)は、静電試験結果を説明するための図。 第2の実施形態にかかわる太陽電池の構造を示す模式側面図。 第3の実施形態にかかわり、(a)は、時計の構造を示す模式側面図、(b)は、太陽電池の構造を示す模式平面図。
本実施形態では、太陽電池と太陽電池の製造方法との特徴的な例について、図に従って説明する。尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。また、図示の形状等は本発明の主旨の説明を容易にするための便宜上のものであり、特に限定を加えるものではない。
(第1の実施形態)
第1の実施形態にかかわる太陽電池について図1〜図6に従って説明する。図1(a)は、太陽電池の構造を示す概略斜視図である。図1(a)に示すように、太陽電池1は四角形の基板2を備えている。基板2は導電性のある板部材であれば良く、各種の金属板を用いることができる。本実施形態では、例えば、基板2にステンレス板を用いている。ステンレス板は耐食性に優れているので製造工程で使用される環境で酸化し難い。基板2の厚み方向をZ方向とし、基板2の直交する2辺が延在する方向をX方向及びY方向とする。
基板2の+Z方向側の面には発電膜3、透明導電膜4及び第1絶縁膜5がこの順に重ねて設置されている。発電膜3は光を受光して電流を流す起電力のある膜である。透明導電膜4は光透過性及び導電性がある膜である。透明導電膜4の種類は特に限定されず、例えば、IGO(Indium−gallium oxide)、ITO(Indium Tin Oxide)、ICO(Indium−cerium oxide)を用いることができる。本実施形態では、例えば、透明導電膜4にITOを採用している。第1絶縁膜5は透明導電膜4を保護し電気的に絶縁する膜である。第1絶縁膜5の種類は特に限定されず、例えば、アクリル樹脂等の樹脂膜を用いることができる。
第1絶縁膜5はX方向且つ−Y方向の角が四角形に欠けた切欠部5aとなっている。従って、切欠部5aでは透明導電膜4が露出する。そして、切欠部5aでは透明導電膜4上に導電性ペースト6及び異方性導電膜7が重ねて設置され、異方性導電膜7上には配線部材8が設置されている。
導電性ペースト6は導電性粒子を樹脂材料に分散させたものであり、樹脂材料を固化して用いられる。導電性ペーストの導電性粒子の材料は特に限定されず、銀、銅等の金属の他カーボンブラックと称される炭素粒子等を用いることができる。本実施形態では、例えば、導電性ペーストの導電性粒子の材料に炭素粒子を用いている。炭素粒子は入手しやすい素材であり容易に入手することができる。従って、容易に導電性ペーストを設置することができる。
異方性導電膜7は異方性導電膜である。異方性導電膜7は導電性粒子を樹脂材料からなる接着材に分散させたものであり、樹脂材料を固化して用いられる。異方性導電膜7の導電性粒子は特に限定されないが、例えば、ポリスチレン等の樹脂の球体に内側からニッケル層、金メッキ層、を重ねた直径3〜5μmの球体を用いることができる。他にも金属粒子を用いることもできる。
配線部材8は可撓性基板8aに金属膜8bが設置され、金属膜8bが異方性導電膜7と接続されている。可撓性基板8aはフィルム状の絶縁体であり、カバーレイと呼ばれるポリイミド膜もしくはフォトソルダーレジスト膜、ポリエチレンテレフタラート樹脂(PET)等を用いることができる。金属膜8bは銅箔等の金属箔であり可撓性基板8aに接着されている。他にも金属膜8bにはカーボンペースト、銀ペースト等を固化した導電膜を用いることができる。
基板2の−Z方向側の面には第2絶縁膜9が設置されている。第2絶縁膜9は絶縁性があれば良く特に限定されず樹脂材料を用いることができる。本実施形態では、例えば、第2絶縁膜9にポリエステルフィルムを用いている。
各部材の厚みは特に限定されないが、本実施形態では、例えば、次の厚みになっている。基板2の厚みは50μm〜200μm、発電膜3の厚みは300nm〜700nmになっている。透明導電膜4の厚みは40nm〜100nmになっている。
図1(b)は太陽電池の回路図である。図1(b)に示すように、太陽電池1は配線部材8が(+)極となり、基板2が(−)極となる。配線部材8は蓄電池10の(+)極と接続される。基板2は逆流防止ダイオード11を介して蓄電池10の(−)極と接続されている。逆流防止ダイオード11は特に限定されないが、本実施形態では、例えば、ショットキーバリアダイオードが用いられている。
蓄電池10の(+)極はスイッチ12を介して負荷回路13と接続され、蓄電池10の(−)極も負荷回路13と接続されている。回路はスイッチ12を閉じるとき負荷回路13に通電する回路となっている。
図1(c)は発電膜3の構造を示す要部模式側面図である。図1(c)に示すように、発電膜3は基板2側からアルミニウム層14(Al層)、酸化亜鉛層15(ZnO層)、半導体層16がこの順で積層された構造になっている。太陽電池1には透明導電膜4側(+Z側)から光が入射する。透明導電膜4は正極として機能する。基板2は負極として機能する。
アルミニウム層14は、その表面には凹凸が形成されている。アルミニウム層14は、透明導電膜4側から入射した光のうち、半導体層16及び酸化亜鉛層15を透過した光を散乱して反射する層である。酸化亜鉛層15は、半導体層16とアルミニウム層14との間の光の屈折率を調整する層である。
半導体層16は特に限定されないが本実施形態においては例えば3層構造の多接合型の発電層になっている。この構造をトリプルジャンクション構造と称す。半導体層16は、酸化亜鉛層15側から順に第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17、第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18、アモルファスシリコン層21がこの順で積層された構造になっている。
第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17及び第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18はアモルファスシリコンにゲルマニウムがドープされることによって形成されている。第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17と第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18とにドープされているゲルマニウムの量は異なっている。第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17のドープ量は第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18のドープ量より多くなっている。第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17と、第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18と、アモルファスシリコン層21とは、それぞれ吸収波長域が異なるように設定されている。
次に上述した太陽電池1の製造方法について図2〜図5にて説明する。図2は、太陽電池の製造方法のフローチャートであり、図3〜図5は太陽電池の製造方法を説明するための模式図である。図2のフローチャートにおいて、ステップS1は発電膜設置工程に相当する。この工程は、基板2上に発電膜3を設置する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2は、導電膜設置工程に相当する。この工程は、発電膜3上に透明導電膜4を設置する工程である。次にステップS3に移行する。ステップS3は、導電性ペースト設置工程に相当する。この工程は、透明導電膜4上に導電性ペーストを設置する工程である。次にステップS4に移行する。
ステップS4は、第1絶縁膜設置工程に相当する。この工程は、透明導電膜4上に第1絶縁膜5を設置する工程である。次にステップS5に移行する。ステップS5は、第2絶縁膜設置工程に相当する。この工程は、基板2上に第2絶縁膜9を設置する工程である。次にステップS6に移行する。ステップS6は、配線部材設置工程に相当する。この工程は、導電性ペーストを設置した場所に配線部材8を設置する工程である。以上の工程により太陽電池1を製造する工程を終了する。
次に、図3〜図5を用いて、図2に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。
図3(a)はステップS1の発電膜設置工程に対応する図である。図3(a)に示すように、基板2上に発電膜3を設置する。まず、基板2上にアルミニウムを用いてアルミニウム層14を成膜する。成膜条件を調整してアルミニウム層14の表面に凹凸を形成する。次に、アルミニウム層14上に酸化亜鉛層15を成膜する。
次に、酸化亜鉛層15上にゲルマニウムをドープした第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17を成膜する。さらに、第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17上にゲルマニウムをドープした第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18を成膜する。第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18を形成するときには第1アモルファスシリコンゲルマニウム層17よりゲルマニウムのドープ量を少なくする。
次に、第2アモルファスシリコンゲルマニウム層18上にアモルファスシリコンの膜を成膜してアモルファスシリコン層21とする。以上で、発電膜3が成膜される。各層の膜には、化学気相成長法または蒸着法やスパッタ法などの物理気相成長法などを用いて製造することができる。
図3(b)はステップS2の導電膜設置工程に対応する図である。図3(b)に示すように、ステップS2において、発電膜3上に透明導電膜4を設置する。発電膜3に重ねてITOの膜を成膜する。ITOの膜は化学気相成長法または蒸着法やスパッタ法などの物理気相成長法等を用いて製造することができる。
図3(c)及び図3(d)はステップS3の導電性ペースト設置工程に対応する図である。図3(c)及び図3(d)に示すように、ステップS3において、透明導電膜4上に導電性ペースト6を設置する。導電性ペースト6を設置する予定の場所に導電性ペースト6を設置する。導電性ペーストはオフセット印刷法やスクリーン印刷法等の各種の印刷方法にて設置することができる。本実施形態では、例えば、スクリーン印刷法を用いて導電性ペーストを設置した。導電性ペースト6を設置した後加熱して導電性ペースト6を固化する。固化条件は、例えば、150℃で30分程になっている。
図4(a)及び図4(b)はステップS4の第1絶縁膜設置工程に対応する図である。図4(a)及び図4(b)に示すように、ステップS4において透明導電膜4上に第1絶縁膜5を設置する。第1絶縁膜5の材料となる樹脂材料をオフセット印刷法やスクリーン印刷法等の各種の印刷方法にて設置する。本実施形態では、例えば、スクリーン印刷法を用いて第1絶縁膜5の材料を設置した。次に、第1絶縁膜5の材料を加熱して固化する。第1絶縁膜5は切欠部5aを有する形状に設置される。固化条件は、例えば、150℃で30分程になっている。これにより、導電性ペースト6が露出するように第1絶縁膜5を設置する。
図4(c)及び図4(d)はステップS5の第2絶縁膜設置工程に対応する図である。図4(c)及び図4(d)に示すように、ステップS5において基板2上に第2絶縁膜9を設置する。第2絶縁膜9は粘着材が塗布されたポリエステルフィルムである。第2絶縁膜9に対して基板2の位置を合わせて貼り付けを行う。貼りつけ後に第2絶縁膜9と基板2とを押圧して確実に接着させる。
第2絶縁膜9は第1絶縁膜5の切欠部5aと対向する場所が切欠部9aとなっている。これにより、基板2が露出するので基板2に端子等を接続することが可能になっている。
図5はステップS6の配線部材設置工程に対応する図であり、図5(a)は、配線部材8を導電性ペースト6に押圧して加熱する加圧加熱装置22を側面側から見た模式図である。図5(a)に示すように、加圧加熱装置22は基台23を備えている。基台23は床に設置された土台23aと、土台23aから立設した支柱部23bを備えている。さらに、支柱部23bから土台23aと平行に梁部23cがせりだしている。
土台23a上には受台24が設置され、受台24上にはステップS5までの処理が行われた基板2が搭載されている。当該基板2には配線部材8が仮止めされている。梁部23cの土台23a側には加圧装置25が設置されている。加圧装置25は内部に油圧シリンダーを備え、油圧シリンダーが可動部25aを昇降させる。可動部25aの土台23a側には加圧部26が設置され、加圧部26は内部に加熱装置27を備え、加熱装置27は加圧部26を加熱する。加熱装置27は電気的な抵抗体等を有し、抵抗体に通電することにより加熱することができる。加圧装置25及び加熱装置27は制御装置28に接続されている。
加圧部26には荷重センサー及び温度センサーが設置され、各センサーは制御装置28に接続されている。制御装置28は加圧部26の昇降及び加熱を制御する。制御装置28は荷重センサーの出力を用いて基板2の切欠部9aにより露出した部分及び配線部材8を押圧する荷重を制御する。さらに、制御装置28は温度センサーの出力を用いて加圧部26の温度を制御する。
図5(b)に示すように、仮止めされていた配線部材8を一旦取り外し、配線部材8の金属膜8b側に異方性導電膜7の材料を設置する。異方性導電膜7の材料は導電性粒子を接着材に分散させたものである。異方性導電膜7の材料の設置方法は特に限定されないがオフセット印刷法やスクリーン印刷法等の各種の印刷方法にて設置することができる。
基板2の切欠部9aにより露出した部分が受台24の凸部に位置するように設置され、配線部材8は異方性導電膜7が導電性ペースト6と重なるように設置される。
次に、加圧部26を下降させることで、受台24と加圧部26とで基板2及び配線部材8を挟む。このとき、基板2と配線部材8との間には発電膜3、透明導電膜4、導電性ペースト6及び異方性導電膜7が挟まれている。そして、加圧加熱装置22は基板2と配線部材8とを加圧する。次に、加圧加熱装置22は加圧部26を加熱する。これにより、導電性ペースト6及び異方性導電膜7は硬化し、配線部材8は透明導電膜4に接着され固定される。
つまり、透明導電膜4上に導電性ペースト6が設置される。さらに、導電性ペースト6上に異方性導電膜7を介して配線部材8が設置される。次に、加圧加熱装置22が基板2と配線部材8とを挟んで加圧する。そして、加圧しながら異方性導電膜7に含まれる接着材を加熱して配線部材8を固定する。加圧条件及び加熱条件は特に限定されないが本実施形態では、例えば、加圧条件は約3×106パスカルであり、加熱条件は約150℃となっている。
透明導電膜4と配線部材8とを導電性ペースト6だけで接着する方法では、加圧により導電性ペースト6が広がる。これにより導電性ペースト6が配線部材8からはみ出すので製造が難しい。透明導電膜4と配線部材8との間に導電性ペースト6及び異方性導電膜7を設置する方法ではまず導電性ペースト6を加圧しないで固化する。次に、固化した導電性ペースト6に異方性導電膜7を接着する。従って、導電性ペースト6が広がり難くなるので、容易に透明導電膜4と配線部材8とを接着することができる。
発電膜3は光起電力効果を有する半導体膜であり加圧により損傷を受け易い膜である。そして、損傷を受けた発電膜3は電圧に対する耐圧が低下する。そして、静電気により電圧が加わるとき損傷を受けた場所で電流がリークし絶縁性が破壊される。本実施形態では発電膜3と配線部材8との間に透明導電膜4、導電性ペースト6及び異方性導電膜7が配置される。異方性導電膜7では接着材中に樹脂の球体が分散されている。
導電性ペースト6が設置されないときには配線部材8から異方性導電膜7を介して透明導電膜4に伝達される荷重は主に異方性導電膜7に含まれる樹脂の球体を介して透明導電膜4に伝達される。従って、樹脂の球体のある場所に応力が集まる。
一方、導電性ペースト6を設置して基板2と配線部材8とを挟んで加圧するときには発電膜3に加わる応力の分布は導電性ペースト6によって平均化される。そして、異方性導電膜7に含まれる樹脂の球体に応力が偏ることが抑制される。従って、発電膜3の特定の場所に応力が集中しないので、発電膜3が損傷をうけることが抑制される。その結果、太陽電池1の静電気耐性を向上させることができる。
導電性ペースト6の厚みは5μm以上であることが好ましい。導電性ペースト6の厚みが5μm以上のとき、基板2と配線部材8とを挟んで加圧するとき発電膜3に加わる応力の分布は導電性ペースト6によって確実に平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることを抑制することができる。導電性ペースト6の厚みは3mm以下であることが好ましい。導電性ペースト6の厚みは3mm以上では導電性ペースト6が固化する前の工程で変形し易くなるので導電性ペースト6上に配線部材8を位置精度良く設置し難くなる。
図6(a)及び図6(b)は、静電試験の方法を説明するための模式図であり、図6(c)は、静電試験結果を説明するための図である。まず、基板2に(−)極の静電気を加える試験を説明する。図6(a)に示すように、静電試験装置29は高電圧電源30、放電プローブ31及び載置台32を備えている。高電圧電源30は静電気を発生し放電プローブ31に静電気を供給する装置である。載置台32は被試験品を載置するための台であり、絶縁性の高い構造となっている。放電プローブ31は印加部31aが導電性になっており印加部31aから被試験品に放電される。
操作者は載置台32に太陽電池1を載せる。次に、図示しない固定具にて太陽電池1を載置台32に固定する。固定具には例えばクランプ機構を用いることができる。次に、操作者は印加部31aを基板2に接触させる。続いて、操作者は静電試験装置29を駆動して基板2に(−)極の高電圧を印加する。発電膜3はダイオードの構造となっており、基板2を(−)極にするときに損傷し易く、基板2を(+)極にするときは損傷し難いことがわかっている。静電気の電圧を低い電圧から印加し順次電圧を上げて太陽電池1が破壊される電圧を測定する。印加する電圧を設定したあと10回の電圧印加を行い太陽電池1が破壊したか正常かを確認する。太陽電池1の検査は電圧と電流との特性曲線を測定して判定する。発電膜3が破損したときには光を受光しても電圧が上昇しないので容易に判定することできる。
次に、配線部材8に(+)極の静電気を加える試験を説明する。図6(b)に示すように、操作者は載置台32に太陽電池1を載せる。次に、図示しない固定具にて太陽電池1を載置台32に固定する。次に、操作者は印加部31aを配線部材8の金属膜8bに接触される。続いて、操作者は静電試験装置29を駆動して配線部材8に(+)極の高電圧を印加する。発電膜3はダイオードの構造となっており、配線部材8を(+)極にするときに損傷し易く、配線部材8を(−)極にするときは損傷し難いことがわかっている。静電気の電圧を低い電圧から印加し順次電圧を上げて太陽電池1が破壊される電圧を測定する。印加する電圧を設定したあと10回の電圧印加を行い太陽電池1が破壊したか正常かを確認する。
続いて、静電試験結果を説明する。図6(c)において横軸の“導電性ペースト無し”は透明導電膜4に異方性導電膜7が接続され、導電性ペースト6が設置されていない構造を示す。“導電性ペースト有り”は透明導電膜4と異方性導電膜7との間に導電性ペースト6が設置された構造を示す。“基板(−)”は基板2に(−)極の高電圧を印加することを示す。“配線(+)”は配線部材8の金属膜8bに(+)極の高電圧を印加することを示す。
縦軸の放電破壊電圧は太陽電池1が破壊に至ったときの電圧を示している。“導電性ペースト無し”の“基板(−)”では放電破壊電圧が0.6kV、0.8kV、1.8kVであり平均値が0.73kVであった。これに対して、“導電性ペースト有り”の“基板(−)”では放電破壊電圧が8kV、9kV、10kVであり平均値が9kVであった。従って、基板2から入る静電気に対しては導電性ペースト6を設置することにより太陽電池1の静電気耐性を向上させることができた。
“導電性ペースト無し”の“配線(+)”では放電破壊電圧が0.4kV、0.6kV、0.6kVであり平均値が0.53kVであった。これに対して、“導電性ペースト有り”の“配線(+)”では放電破壊電圧が0.6kV、0.8kV、1kVであり平均値が0.8kVであった。従って、配線部材8から入る静電気に対しては導電性ペースト6を設置することにより太陽電池1は静電気耐性を向上させることができなかった。
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、導電性ペースト6を設置することにより基板2から入る静電気に対して太陽電池1の静電気耐性を向上させることができた。
(2)本実施形態によれば、導電性ペースト6の厚みは5μm以上である。導電性ペースト6の厚みが5μm以上のとき、基板2と配線部材8とを挟んで加圧するとき発電膜3に加わる応力の分布は導電性ペースト6によって確実に平均化される。そして、特定の場所に応力が偏ることを抑制することができる。
(3)本実施形態によれば、導電性ペースト6は炭素粒子を含んでいる。炭素粒子は入手しやすい素材であり容易に入手することができる。従って、容易に導電性ペースト6を設置することができる。
(第2の実施形態)
次に、太陽電池の一実施形態について図7の太陽電池の構造を示す模式側面図を用いて説明する。本実施形態が第1の実施形態と異なるところは、太陽電池が複数の基板2を備えている点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
すなわち、本実施形態では、図7に示すように太陽電池35は第1電池部36及び第2電池部37を備えている。第1電池部36と第2電池部37とは配線部材としての第1配線部材38によって接続されている。第1電池部36及び第2電池部37は第1の実施形態における太陽電池1と同様の構造となっている。つまり、基板2の片面には発電膜3、透明導電膜4及び第1絶縁膜5が重ねて設置されている。基板2の他方の片面には第2絶縁膜9が設置されている。
第1配線部材38において第1電池部36と接続する側の端部を第1端部38aとし、第2電池部37と接続する側を第2端部38bとする。第1配線部材38は可撓性基板38cを備え、可撓性基板38cの片面に第1金属膜38dが設置され、他方の面に第2金属膜38eが設置されている。第1金属膜38dと第2金属膜38eとは可撓性基板38cを貫通する貫通電極38fにより接続されている。
第1端部38aでは透明導電膜4上に導電性ペースト6、異方性導電膜7が積層され、異方性導電膜7と第1配線部材38の第1金属膜38dが接続されている。透明導電膜4と異方性導電膜7との間に導電性ペースト6が設置されている為、発電膜3が損傷を受け難い構造となっている。
第2端部38bでは基板2と第2金属膜38eとが異方性導電膜7を介して接続されている。従って、第1電池部36の透明導電膜4と第2電池部37の基板2とが接続されている。これにより、第1電池部36と第2電池部37とは直列接続になっている。
第2電池部37では透明導電膜4上に導電性ペースト6、異方性導電膜7が積層され、異方性導電膜7と配線部材としての第2配線部材39が接続されている。第2配線部材39は可撓性基板39aの片面に金属膜39bが設置され、金属膜39bが異方性導電膜7と接続されている。透明導電膜4と異方性導電膜7との間に導電性ペースト6が設置されている為、発電膜3が損傷を受け難い構造となっている。
ただし、第2電池部37の基板2から静電気が入って第1配線部材38を介して第1電池部36の基板2に入ることがある。このときには、第1電池部36に導電性ペースト6を設置しても静電気に対する耐性は変わらなかった。
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、太陽電池35は透明導電膜4に第1配線部材38が固定された基板2を2つ備えている。各基板2は直列接続されているので出力電圧を高くできる。そして、第1電池部36では基板2において透明導電膜4に第1配線部材38が導電性ペースト6及び異方性導電膜7を挟んで固定されている。第2電池部37では透明導電膜4に第2配線部材39が導電性ペースト6及び異方性導電膜7を挟んで固定されている。従って、各基板2とも発電膜3が損傷を受けることが抑制される。その結果、第1電池部36の基板2から第2電池部37の基板2へ移動する静電気に対する静電気耐性を向上させることができる。
(第3の実施形態)
次に、太陽電池の一実施形態について図8(a)の時計の構造を示す模式側面図及び図8(b)の太陽電池の構造を示す模式平面図を用いて説明する。図8(a)及び図8(b)は時計の外装を省略した図になっている。本実施形態における時計は第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の構造の太陽電池を備えている。尚、第1の実施形態及び第2の実施形態と同じ点については説明を省略する。
すなわち、本実施形態では、図8に示すように、電子機器としての時計42はムーブメント43を備え、ムーブメント43には輪列44、駆動回路45、電源部46等が設置されている。ムーブメント43は時計42において外装及び針等を除いた部分を示す。輪列44は複数の歯車により構成され、各歯車が異なる回転数で回転する。輪列44からは秒針軸47、分針軸48、時針軸49が突出している。秒針軸47には秒針50が設置され、分針軸48には分針51が設置されている。時針軸49には時針52が設置されている。
ムーブメント43の時針52側にはムーブメント43上に太陽電池53及び文字板54重ねて設置されている。文字板54には時、分、秒を示す目盛が設置されている。文字板54は光透過性の材質から構成されており、時計42を照射した光は太陽電池53に照射される。そして、太陽電池53は受光して発電する。太陽電池53は図示しない配線により駆動回路45に接続されている。
太陽電池53が発電した電力は駆動回路45を通過して電源部46に通電する。電源部46は蓄電器を備え、電源部46は太陽電池53が発電した電力を蓄電する。駆動回路45には図示しないモーターが設置され、駆動回路45はモーターを駆動する。このとき、駆動回路45は電源部46に蓄電された電力を使用する。モーターにより輪列44内の歯車が回転され、秒針軸47、分針軸48及び時針軸49が回転する。その結果、秒針50、分針51及び時針52が回転する。
図8(b)に示すように、太陽電池53は第1太陽電池53a及び第2太陽電池53bを有し、第1太陽電池53aと第2太陽電池53bとは配線部材55により直列接続されている。第1太陽電池53aは文字板54側に透明導電膜4が設置され、透明導電膜4上に導電性ペースト6及び異方性導電膜7が重ねて設置されている。そして、異方性導電膜7上に配線部材55が設置されている。同様に、第2太陽電池53bは文字板54側に透明導電膜4が設置され、透明導電膜4上に導電性ペースト6及び異方性導電膜7が重ねて設置されている。そして、異方性導電膜7上に配線部材55が設置されている。
従って、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様に配線部材55を透明導電膜4に設置して固定するとき、発電膜3に損傷を与えることが抑制される構造となっている。その結果、太陽電池53は静電気耐性が向上した太陽電池となっている。従って、時計42は、静電気耐性が向上した太陽電池を備えた電子機器とすることができる。
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態では、基板2から1つの太陽電池1を製造した。大型基板から複数の太陽電池1を製造してもよい。ステップS2の導電膜設置工程の後で大型基板、発電膜3及び透明導電膜4を所定の形状にパターングする。そして、ステップS6の配線部材設置工程の後で大型基板を個々の太陽電池1に分割しても良い。
(変形例2)
前記第1の実施形態では、太陽電池1が第1絶縁膜5及び第2絶縁膜9を備えていた。太陽電池1を絶縁性のある容器に収納する場合等電流の流れる場所が限定されるときには第1絶縁膜5及び第2絶縁膜9を省略しても良い。膜を設置する工程を削除できるので生産性良く製造することができる。
(変形例3)
前記第2の実施形態では、第1電池部36と第2電池部37とが第1配線部材38により直列接続された。第1電池部36と第2電池部37とを並列接続しても良い。このときには出力電流を大きくすることができる。このときにも透明導電膜4と配線部材との間に導電性ペースト6及び異方性導電膜7を設置することにより静電気耐性が向上した太陽電池にすることができる。
(変形例4)
前記第2の実施形態では、第1電池部36と第2電池部37とが第1配線部材38により接続された。接続する電池部の個数は3つ以上でも良い。直列接続するときには、個数が多い程高い電圧にすることができる。並列接続するときには形状を多様な形態にすることができる。
(変形例5)
前記第3の実施形態では、太陽電池53を備える時計42の例を示した。太陽電池53を備える総ての電子機器において透明導電膜4と配線部材との間に導電性ペースト6及び異方性導電膜7を設置することができる。その結果、静電気耐性が向上した電子機器にすることができる。例えば携帯電話、万歩計(登録商標)、ラジオ、テレビ、デジタルカメラ、ビデオカメラ、温度計等の太陽電池を備える電子機器に上記の構造を適用することができる。
1,35,53…太陽電池、2…基板、3…発電膜、4…透明導電膜、6…導電性ペースト、7…異方性導電膜、8,55…配線部材、36…第1電池部、37…第2電池部、38…配線部材としての第1配線部材、39…配線部材としての第2配線部材、42…電子機器としての時計。

Claims (7)

  1. 発電膜及び透明導電膜がこの順に設置された基板の前記透明導電膜上に導電性ペーストを設置し、
    前記導電性ペースト上に異方性導電膜を介して配線部材を設置し、
    前記基板と前記配線部材とを挟んで加圧しながら加熱して前記配線部材を固定することを特徴とする太陽電池の製造方法。
  2. 請求項1に記載の太陽電池の製造方法であって、
    前記導電性ペーストの厚みは5μm以上であることを特徴とする太陽電池の製造方法。
  3. 導電性を有する基板と、
    前記基板上に設置され受光して発電する発電膜と、
    前記発電膜上に設置された透明導電膜と、
    前記透明導電膜と接続する配線部材と、を備え、
    前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする太陽電池。
  4. 請求項3に記載の太陽電池であって、
    前記導電性ペーストの厚みは5μm以上であることを特徴とする太陽電池。
  5. 請求項3または4に記載の太陽電池であって、
    前記導電性ペーストは炭素粒子を含むペーストであることを特徴とする太陽電池。
  6. 請求項3〜5のいずれか一項に記載の太陽電池であって、
    前記透明導電膜に前記配線部材が固定された前記基板を複数備え、
    各前記基板において前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする太陽電池。
  7. 太陽電池を備えた電子機器であって、
    前記太陽電池は、導電性を有する基板と、
    前記基板上に設置され受光して発電する発電膜と、
    前記発電膜上に設置された透明導電膜と、
    前記透明導電膜と接続する配線部材と、を備え、
    前記透明導電膜及び前記配線部材は導電性ペースト及び異方性導電膜を挟んで固定されたことを特徴とする電子機器。
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