JP2016035572A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 215
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 104
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 59
- 239000010408 film Substances 0.000 description 52
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 45
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- G02B5/201—Filters in the form of arrays
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/13306—Circuit arrangements or driving methods for the control of single liquid crystal cells
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134345—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
【課題】輝度を向上させることができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板または第２基板上の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に位置する第１カラーフィルタ２３０Ｒと、第１基板または第２基板上の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２カラーフィルタ２３０Ｇと、第１基板または第２基板上の第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３カラーフィルタ２３０Ｂと、第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層とを含み、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に対する第１領域Ｅ（Ｒ）の割合は、１／１０００以上、かつ１／２以下である。【選択図】図１
Description
本発明は、液晶表示装置に関するものであって、より詳細には、輝度を向上させることができる液晶表示装置に関するものである。
液晶表示装置は、現在最も幅広く使用されているフラットパネル表示装置（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）の一つであって、画素電極と共通電極などの電場生成電極（ｆｉｅｌｄ ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が形成されている２枚の表示板と、その間に入っている液晶層とを含む。液晶表示装置は、電場生成電極に電圧を印加して液晶層に電場を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の方向を決定し、入射光の偏光を制御することにより、映像を表示する。
このような液晶表示装置は、自ら発光できないため、光源を必要とする。光源は、白色を発光する白色光源であってよい。この時、光源は、別途に備えられた人工光源であるか自然光であってよい。液晶表示装置に使用される人工光源には、発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ：ｃｏｌｄ ｃａｔｈｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｌａｍｐ）、外部電極蛍光ランプ（ＥＥＦＬ：ｅｘｔｅｒｎａｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｌａｍｐ）などがある。人工光源は、液晶表示装置の後面あるいは側面に位置し、光を供給する。
液晶表示装置に使用されるカラーフィルタは、一般に、赤色、緑色、そして青色の３つを表示する。光源から供給された光は、カラーフィルタを通過する過程で一部の波長の光がカラーフィルタに吸収され、光量の損失が発生する。これによって、低下した輝度を補償するために、最近は、赤色画素、緑色画素、青色画素のほか、白色画素をさらに含む液晶表示装置が開発されている。
このように、白色画素をさらに含む液晶表示装置では、白色画素を別途に駆動するための駆動回路が追加されるという問題がある。
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、白色画素を別途に追加することなく、輝度を向上させることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
上記の目的による、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、および第３色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板または第２基板上の第１色画素領域に位置する第１カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第２色画素領域に位置する第２カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第３色画素領域に位置する第３カラーフィルタと、第１基板と第２基板との間に位置する液晶層とを含み、第１色画素領域は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域を含み、第１色画素領域に対する第１領域の割合は、１／１０００以上、かつ１／２以下であることを特徴とする。
第１領域は、白色を表示してもよい。
第１カラーフィルタ、第２カラーフィルタ第３カラーフィルタおよび第１領域上に位置するオーバーコートをさらに含んでもよい。
第１領域に位置する透明部材をさらに含んでもよい。
第１領域に第２カラーフィルタおよび第３カラーフィルタが位置してもよい。
第１領域において、第２カラーフィルタは、第３カラーフィルタの少なくとも一部を囲み、第１カラーフィルタは、第２カラーフィルタの少なくとも一部を囲んでもよい。
第１、第２、および第３色画素領域にそれぞれ形成されている画素電極をさらに含み、画素電極は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなり、第１領域は、２つの平行四辺形のうちのいずれか１つの平行四辺形を構成する辺と平行になる辺を少なくとも１つ含む平行四辺形からなってもよい。
第１領域は、画素電極の右上側部と重なってもよい。
第１領域は、画素電極の下側部と重なってもよい。
第１領域は、２つの平行四辺形の辺と平行になる辺を含む２つの平行四辺形からなってもよい。
第１領域は、画素電極の右側部と重なってもよい。
第１、第２、および第３色画素領域は、複数のドメインを含み、第１領域は、複数のドメインのうちの少なくとも１つと重なってもよい。
液晶表示装置は、複数の第１、第２、および第３色画素領域をさらに含み、第１領域は、隣接した第１色画素領域で互いに異なるドメインに位置してもよい。
複数のドメインは、上下に配置されたり、左右に配置されたり、マトリクス状に配置されてもよい。
第１色画素領域と第２色画素領域は互いに隣接し、第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含んでもよい。
第１色画素領域の第１ドメインおよび第２ドメインに第１領域が位置し、第２色画素領域の第３ドメインおよび第４ドメインに第１領域が位置してもよい。
液晶表示装置は、第１色画素領域に形成されている画素電極をさらに含み、画素電極は、第１カラーフィルタと重なる第１副画素電極と、第１領域と重なる第２副画素電極とを含んでもよい。
第１副画素電極および第２副画素電極には、異なるデータ電圧が印加されてもよい。
第１色は、赤色、緑色、および青色のうちのいずれか１つからなってもよい。
第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含んだり、第３色画素領域は、第３カラーフィルタが位置しない第３領域を含んでもよい。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、および第３色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板または第２基板上の第１色画素領域に位置する第１カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第２色画素領域に位置する第２カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第３色画素領域に位置する第３カラーフィルタと、第１基板と第２基板との間に位置する液晶層とを含み、第１色画素領域は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域を含み、第１領域に第２カラーフィルタが位置してもよい。
第１領域に第３カラーフィルタがさらに位置し、第１領域において、第２カラーフィルタは、第３カラーフィルタの少なくとも一部を囲み、第１カラーフィルタは、第２カラーフィルタの少なくとも一部を囲んでもよい。
第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含み、第２領域に前記第１カラーフィルタが位置してもよい。
第１色は、赤色であり、第２色は、緑色であってもよい。
第１色は、赤色であり、第２色は、青色であってもよい。
第１色は、緑色であり、第２色は、青色であってもよい。
第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含み、第２領域に第３カラーフィルタが位置し、第３色画素領域は、第３カラーフィルタが位置しない第３領域を含み、第３領域に第１カラーフィルタが位置してもよい。
第１色は、赤色であり、第２色は、緑色であり、第３色は、青色であってもよい。
第１色画素領域に対する第１領域の割合は、１／１０００以上、かつ１／２以下であってもよい。
液晶表示装置は、白色画素領域をさらに含み、白色画素領域の一部に第１カラーフィルタ、第２カラーフィルタおよび第３カラーフィルタのうちの少なくとも１つが位置してもよい。
第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含み、第２領域は、白色を表示してもよい。
液晶表示装置は、第１カラーフィルタ、第２カラーフィルタ第３カラーフィルタおよび第１領域上に位置するオーバーコートをさらに含んでもよい。
液晶表示装置は、白色画素領域に位置する透明部材をさらに含んでもよい。
第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含み、第２領域は、白色を表示し、第３色画素領域は、第３カラーフィルタが位置しない第３領域を含み、第３領域に第１カラーフィルタおよび第２カラーフィルタのうちの少なくとも１つを位置してもよい。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、複数の第１色画素領域、複数の第２色画素領域、および複数の第３色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板または第２基板上の第１色画素領域に位置する第１カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第２色画素領域に位置する第２カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第３色画素領域に位置する第３カラーフィルタと、第１基板と第２基板との間に位置する液晶層とを含み、第１色画素領域は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域を含み、第１、第２、および第３色画素領域は、複数のドメインを含み、第１領域は、隣接した第１色画素領域で互いに異なるドメインに位置することを特徴とする。
液晶表示装置は、第１、第２、および第３色画素領域にそれぞれ形成されている画素電極を含み、画素電極は、第１副画素電極と、第１副画素電極より低いデータ電圧が印加される第２副画素電極とを含んでもよい。
第１領域は、第２副画素電極と重なってもよい。
第１、第２、および第３色画素領域はそれぞれ、第１副画素電極が形成されている第１副画素領域と、第２副画素電極が形成されている第２副画素領域とを含み、第１副画素領域および第２副画素領域はそれぞれ、複数のドメインを含んでもよい。
第１色画素領域と第２色画素領域は互いに隣接し、第２色画素領域は、前記第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含んでもよい。
第１色画素領域の第１ドメインおよび第２ドメインに第１領域が位置し、第２色画素領域の第３ドメインおよび第４ドメインに第２領域が位置してもよい。
第１色画素領域と第２色画素領域は互いに隣接し、第２色画素領域は、第２カラーフィルタが位置しない第２領域を含み、第２領域は、第２副画素領域に位置してもよい。
第１色画素領域の第２副画素領域と第２色画素領域の第２副画素領域は、対角線に配置されてもよい。
第１領域は、第１カラーフィルタを囲む形態からなり、第２領域は、第２カラーフィルタを囲む形態からなってもよい。
第１および第２カラーフィルタは、少なくとも１つの棒状からなってもよい。
第２色画素領域と第３色画素領域は互いに隣接し、前記第３色画素領域は、第３カラーフィルタが位置しない第３領域を含み、第３領域は、第２副画素領域に位置することができる。
第３領域の面積は、第１領域または第２領域の面積と異なっていてもよい。
第３色は、青色であり、第１色は、赤色であり、第２色は、緑色であってもよい。
第１領域は、第１副画素電極と重なってもよい。
複数のドメインは、上下に配置されたり、左右に配置されたり、マトリクス状に配置されてもよい。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、および第３色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板および第２基板と、第１基板または第２基板上の第１色画素領域に位置する第１カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第２色画素領域に位置する第２カラーフィルタと、第１基板または第２基板上の第３色画素領域に位置する第３カラーフィルタと、第１色画素領域に形成されている画素電極と、第１基板と第２基板との間に位置する液晶層とを含み、第１色画素領域は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域を含み、画素電極は、第１カラーフィルタと重なる第１副画素電極と、第１領域と重なる第２副画素電極とを含み、第１副画素電極および第２副画素電極には、異なるデータ電圧が印加されることを特徴とする。
このような本発明の一実施形態に係る表示装置は、次のような効果がある。
本発明は、赤色画素、緑色画素、および青色画素のうちの少なくともいずれか１つに白色パターンを挿入することにより、白色画素を別途に追加しなくても輝度を向上させることができる。
本発明は、赤色画素、緑色画素、および青色画素のうちの少なくともいずれか１つに白色パターンを挿入することにより、白色画素を別途に追加しなくても輝度を向上させることができる。
また、各画素の色と異なるカラーフィルタを追加することにより、色座標を移動させて正確な色の画面を表示することができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態について、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は、種々の異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。
図面において、複数の層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体にわたって類似の部分については同一の図面符号を付した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるとする時、これは、他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直上」にあるとする時には、中間に他の部分がないことを意味する。
まず、図１および図２を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す断面図である。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、互いに対向する第１基板１１０および第２基板２１０と、第１基板１１０と第２基板２１０との間に位置する液晶層３とを含む。
第１基板１１０および第２基板２１０は、ガラスまたはプラスチックなどからなってもよい。液晶層３は、複数の液晶分子３１０からなり、ポジティブ型またはネガティブ型からなってもよい。
第１基板１１０の後面には、光源５００が配置されてもよい。光源５００は、発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）などを含んでもよく、光源５００から光５１０が供給される。第１基板１１０と第２基板２１０との間に形成された電界に応じて液晶層３の液晶分子３１０の方向が決定され、液晶分子３１０の方向に応じて液晶層３を通過する光量が変化する。第２基板２１０上には、複数のカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。液晶層３を通過した光は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを通過しながら、一部の波長の光は、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを通過し、残りの波長の光は、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂに吸収される。
液晶表示装置は、複数の画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）を含み、複数の画素領域は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）からなってもよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、互いに異なる色を表示する画素領域であって、これらの色を合わせると白色となる。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、赤色を表示し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、緑色を表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、青色を表示してもよい。
また、本発明は、これらの色に限定されず、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、シアンを表示し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、マゼンタを表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、黄色を表示してもよい。
第２基板２１０上には、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）ごとにカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、白色光が通過する時、赤色光だけを通過させる赤カラーフィルタからなってもよい。第２カラーフィルタ２３０Ｇは、白色光が通過する時、緑色光だけを通過させる緑カラーフィルタからなってもよい。第３カラーフィルタ２３０Ｂは、白色光が通過する時、青色光だけを通過させる青カラーフィルタからなってもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１領域Ｅ（Ｒ）では、光源から供給された光が通過する時、大部分の波長の光が通過できる。したがって、第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色光源が通過すると、白色を表示することができる。平面図上において、第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１領域Ｅ（Ｒ）を囲む形態を有する。ただし、本発明はこれに限定されず、第１領域Ｅ（Ｒ）が第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の周縁に位置してもよい。
第１カラーフィルタ２３０Ｒは、白色光の波長のうちの一部の波長だけを通過させるので、白色光に比べて相対的に輝度が低くなる。本発明の一実施形態では、白色光の全波長を通過させられる第１領域Ｅ（Ｒ）が第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に位置することにより、輝度を向上させることができる。また、１つの画素領域内に白色を表示することができる領域を設けることにより、別に白色画素を形成する場合に比べて、駆動回路を単純化することができ、費用を削減することができる。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に対する第１領域Ｅ（Ｒ）の割合は、１／１０００以上、かつ１／２以下となってもよい。「第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）」は、図１で斜線の領域だけを示すのではなく、全矩形領域を意味する。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、斜線の領域に形成される。したがって、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが形成されている領域と、第１領域Ｅ（Ｒ）とを含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に対する第１領域Ｅ（Ｒ）の割合が１／１０００未満であれば、輝度上昇の効果がほとんどない上に、工程が容易でない。第１領域Ｅ（Ｒ）の割合が１／２を超えると、当該画素の示す色がうまく現れなくなる。つまり、第１色が赤色の場合、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、白色で薄められた赤色を示して、薄い赤色を示すようになる。
第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。「第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）」は、図１において斜線の領域だけを示すのではなく、全矩形領域を意味する。第２カラーフィルタ２３０Ｇは、斜線の領域に形成される。したがって、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが形成されている領域と、第２領域Ｅ（Ｇ）とを含む。
また、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。「第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）」は、図１において柄のある領域だけを示すのではなく、全矩形領域を意味する。第３カラーフィルタ２３０Ｂは、柄のある領域に形成される。したがって、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが形成されている領域と、第３領域Ｅ（Ｂ）とを含む。
図１では、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含む矩形領域として示されているが、本発明はこれに限定されない。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）だけが第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、それぞれ、第２領域Ｅ（Ｇ）および第３領域Ｅ（Ｂ）がなくてもよい。言い換えると、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、カラーフィルタの除去された領域がなくてもよい。また、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）だけが第２領域Ｅ（Ｇ）を含み、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、それぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）および第３領域Ｅ（Ｂ）がなくてもよい。さらに、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）および第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）がそれぞれ第１領域Ｅ（Ｒ）および第２領域Ｅ（Ｇ）を含み、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３領域Ｅ（Ｂ）がなくてもよい。本発明は、前記例示に限定されず、多様に変更が可能である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の間の境界には、遮光部材２２０がさらに形成されてもよい。遮光部材２２０は、各画素領域の間の境界で混色、光漏れなどが発生するのを防止することができる。
第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、第３カラーフィルタ２３０Ｂ、および遮光部材２２０の上には、オーバーコート（ｏｖｅｒｃｏａｔ）２４０がさらに位置してもよい。オーバーコート２４０は、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）上に位置してもよい。オーバーコート２４０は、第２基板２１０上面を平坦化する役割もある。オーバーコート２４０によって平坦化がなされるため、第１基板１１０と第２基板２１０との間の距離は一定となる。つまり、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、一定のセルギャップ（ＣＧ、ｃｅｌｌ−ｇａｐ）を有することになる。
次に、図３〜図５を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置についてさらに説明する。
図３は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素領域が含むドメインを示す平面図であり、図４は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素領域を示す平面図であり、図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿った、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素の断面図である。図３、図４、および図５は、第１色画素領域を示している。
図３に示されているように、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、４つのドメイン（ｄｏｍａｉｎ）を含み、４つのドメインは、第１ドメインＤ１と、第２ドメインＤ２と、第３ドメインＤ３と、第４ドメインＤ４とを含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、１つの横線と１つの縦線によって４つのドメインに分けられる。この時、横線を基準として上側、縦線を基準として左側に第１ドメインＤ１が位置し、横線を基準として上側、縦線を基準として右側に第２ドメインＤ２が位置する。また、横線を基準として下側、縦線を基準として右側に第３ドメインＤ３が位置し、横線を基準として下側、縦線を基準として左側に第４ドメインＤ４が位置する。
図示しないが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、４つのドメインを含んでもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）は、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４のうちの少なくとも１つのドメインと重なる。例えば、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第３ドメインＤ３および第４ドメインＤ４と重なってもよい。ただし、これは例示に過ぎず、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第３ドメインＤ３のみと重なったり、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２などと重なったりしてもよい。
図４および図５に示されているように、第１基板１１０上には、ゲート線１２１および容量電極線１３１が形成されている。
ゲート線１２１は、主に横方向に延びており、ゲート信号を伝達する。ゲート線１２１から突出するゲート電極１２４が形成されている。
容量電極線１３１は、ゲート線１２１と平行に、すなわち、横方向に延びており、共通電圧などのような定められた電圧を伝達する。容量電極線１３１から拡張される容量電極１３３が形成されている。容量電極１３３は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の周縁を囲む形態からなってもよい。
ゲート線１２１、ゲート電極１２４、容量電極線１３１、および容量電極１３３の上には、ゲート絶縁膜１４０が形成されている。シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁材料からなってもよい。また、ゲート絶縁膜１４０は、単一膜または多重膜からなってもよい。
ゲート絶縁膜１４０上には、半導体１５４が形成されている。半導体１５４は、ゲート電極１２４と重なる。半導体１５４は、アモルファスシリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｉｃｏｎ）、金属酸化物（ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ）などからなってもよい。
半導体１５４上には、オーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ ｍｅｍｂｅｒ）（図示せず）がさらに形成されてもよい。オーミックコンタクト部材は、珪化物（シリサイド）またはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化アモルファスシリコンなどの材料で作られてもよい。
半導体１５４上には、データ線１７１、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５が形成されている。ソース電極１７３は、データ線１７１から突出しており、ドレイン電極１７５は、ソース電極１７３と分離されている。ソース電極１７３およびドレイン電極１７５は、ゲート電極１２４と重なる。
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５は、半導体１５４と共に、１つの薄膜トランジスタＱをなし、薄膜トランジスタＱのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体に形成される。
データ線１７１、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、および露出した半導体１５４部分の上には、保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０には、ドレイン電極１７５の少なくとも一部を露出させるコンタクトホール１８５が形成されている。
保護膜１８０上には、画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属酸化物からなってもよい。
画素電極１９１は、全体的に略四角形である。画素電極１９１は、横幹部１９３と、横幹部１９３と交差する縦幹部１９２とからなる十字形幹部を含む。また、画素電極１９１は、横幹部１９３および縦幹部１９２から延びている微細枝部１９４を含む。また、全体的に略四角形からなる画素電極１９１から延びている延長部１９７がさらに形成されている。延長部１９７は、コンタクトホール１８５を介してドレイン電極１７５と物理的、電気的に接続されており、ドレイン電極１７５からデータ電圧が印加される。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、画素電極１９１の横幹部１９３および縦幹部１９２によって４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分けられる。微細枝部１９４は、横幹部１９３および縦幹部１９２から斜め方向に延びている。例えば、第１ドメインＤ１において、微細枝部１９４は、横幹部１９３または縦幹部１９２から左上方向に延びており、第２ドメインＤ２において、微細枝部１９４は、横幹部１９３または縦幹部１９２から右上方向に延びている。第３ドメインＤ３において、微細枝部１９４は、横幹部１９３または縦幹部１９２から右下方向に延びており、第４ドメインＤ４において、微細枝部１９４は、横幹部１９３または縦幹部１９２から左下方向に延びている。
各微細枝部１９４は、ゲート線１２１または横幹部１９３と約４５度または１３５度の角度をなしてもよい。。また、隣り合う２つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の微細枝部１９４が延びている方向は互いに直交してもよい。
画素電極１９１は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の外郭を囲む外郭幹部をさらに含んでもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）において、第１基板１１０に対向する第２基板２１０上には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが形成されている。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１ドメインＤ１および第２ドメインＤ２に全体的に形成されており、第３ドメインＤ３および第４ドメインＤ４の一部の領域に形成されている。第３ドメインＤ３および第４ドメインＤ４の残りの一部の領域には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが形成されていない第１領域Ｅ（Ｒ）が存在する。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の周縁には、遮光部材２２０が形成されており、第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび遮光部材２２０の上には、オーバーコート２４０が形成されている。オーバーコート２４０は、第１領域Ｅ（Ｒ）にも位置する。オーバーコート２４０は、透明な物質からなっているため、光が第１領域Ｅ（Ｒ）を通過するとき、光の損失はほとんど生じない。
オーバーコート２４０上には、共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属酸化物からなってもよい。
共通電極２７０には、共通電圧のような一定の電圧が印加される。画素電極１９１にデータ電圧が印加されると、画素電極１９１と共通電極２７０との間に電界が形成され、これらの間に位置した液晶層３の液晶分子３１０が所定の方向に配列する。
上記では、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）について説明したが、第２ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）と類似の画素構造を有するため、これらの色画素領域についての説明は、省略する。
前記で各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが第２基板２１０上に位置する場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが第１基板１１０上に位置してもよい。以下、図６を参照して、これについて説明する。
図６は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。図６は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示している。
図６に示されているように、第１基板１１０上に、ゲート電極１２４、半導体１５４、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、および保護膜１８０が形成され、保護膜１８０上に第１カラーフィルタ２３０Ｇが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。
保護膜１８０および第３カラーフィルタ２３０Ｂの上には、オーバーコート１８２が形成され、オーバーコート１８２上に画素電極１９１が形成されている。
保護膜１８０およびオーバーコート１８２内に、コンタクトホール１８５が形成されており、画素電極１９１は、コンタクトホール１８５を介してドレイン電極１７５に接続されている。
第２基板２１０上には、遮光部材２２０、オーバーコート２４０、共通電極２７０が形成されている。
上記では、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）について説明したが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も類似の画素構造を有する。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）では、第２カラーフィルタ２３０Ｇが第１基板１１０上に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）では、第３カラーフィルタ２３０Ｂが第１基板１１０上に位置してもよい。
上記では、遮光部材２２０は、第２基板２１０上に形成されると説明したが、本発明は、これに限定されない。遮光部材２２０が第１基板１１０上に形成されてもよい。この時、遮光部材２２０は、保護膜１８０上に形成されてもよく、保護膜１８０、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、および遮光部材２２０の上には、オーバーコート１８２が形成されてもよい。
次に、図７〜図９を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置において、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を形成する方法について説明する。
図７〜図９は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図である。図７〜図９では、便宜上、第２基板２１０でカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成されている面が上面となるように示した。
まず、図７に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の周縁に、光を遮断可能な物質を用いて遮光部材２２０を形成する。
次に、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒを形成する。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）全体に第２カラーフィルタ２３０Ｇを形成する。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）全体に第３カラーフィルタ２３０Ｂを形成する。
図８に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の一部、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の一部、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の一部の領域にレーザ６００を照射する。図９に示されているように、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂにおいて、レーザ６００に照射された部分２３１Ｒ、２３１Ｇ、２３１Ｂは、除去される。第１カラーフィルタ２３０Ｒにおいて除去された部分が第１領域Ｅ（Ｒ）となり、第２カラーフィルタ２３０Ｇの除去された部分が第２領域Ｅ（Ｇ）となり、第３カラーフィルタ２３０Ｂの除去された部分が第３領域Ｅ（Ｂ）となる。
次に、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、および第３カラーフィルタ２３０Ｂの上にオーバーコート２４０を形成する。オーバーコート２４０は、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）内にも形成される。
先に説明したように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）全体に、それぞれカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを形成した後、一部の領域にレーザを照射することにより、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を形成することができる。ただし、本発明はこれに限定されず、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は多様な方法で形成されてもよい。例えば、第１カラーフィルタ２３０Ｒを形成するフォトリソグラフィ工程において、第１領域Ｅ（Ｒ）に対応する部分に第１カラーフィルタ２３０Ｒが形成されないようにするマスクを用いてもよい。同様に、第２カラーフィルタ２３０Ｇおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂを形成するフォトリソグラフィ工程において、第２領域Ｅ（Ｇ）および第３領域Ｅ（Ｂ）に対応する部分に第２カラーフィルタ２３０Ｇおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂが形成されないようにするマスクを用いてもよい。
次に、図１０を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図１０に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１および図２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いため、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）に透明部材が位置するという点で上記の実施形態と異なる。以下では、異なる点について、さらに詳細に説明する。
図１０は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示してもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）には、透明部材２３０Ｗが位置してもよい。透明部材２３０Ｗは、可視光線の全領域の波長をすべて通過させられる透明なフォトレジストからなってもよい。
第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、第３カラーフィルタ２３０Ｂ、および透明部材２３０Ｗの上には、オーバーコート２４０が形成されてもよい。オーバーコート２４０は、第２基板２１０の上面を平坦化する役割を果たす。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）に透明部材２３０Ｗが形成されることで、平坦化がより容易になされる。
透明部材２３０Ｗは、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）で各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと重ならないものとして示されているが、本発明はこれに限定されない。透明部材２３０Ｗは、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）で各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと一部重なってもよい。
次に、図１１および図１２を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図１１および図１２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１および図２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１色画素領域に、第１カラーフィルタだけでなく、第２および第３カラーフィルタも位置するという点で上記の実施形態と異なる。以下では、異なる点について、さらに詳細に説明する。
図１１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図１２は、図１１のＸＩＩ−ＸＩＩ線に沿った、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１領域Ｅ（Ｒ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。
第１領域Ｅ（Ｒ）の右側下端に第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置し、第３カラーフィルタ２３０Ｂの少なくとも一部を囲むように第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置する。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第２カラーフィルタ２３０Ｇの少なくとも一部を囲む形態からなる。第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、および第３カラーフィルタ２３０Ｂの位置はこれに限定されず、多様に変更が可能である。
第１カラーフィルタ２３０Ｒは、赤カラーフィルタからなってもよく、第２カラーフィルタ２３０Ｇは、緑カラーフィルタからなってもよく、第３カラーフィルタ２３０Ｂは、青カラーフィルタからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒを通過した光、第２カラーフィルタ２３０Ｇを通過した光、および第３カラーフィルタ２３０Ｂを通過した光をすべて合わせるると、白色を表示することができる。したがって、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の一部の領域が、白色を表示することができる。
この時、第２色カラーフィルタ２３０Ｇと第３カラーフィルタ２３０Ｂは、ほぼ同一の面積からなってよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１色を表示する画素であるので、第１カラーフィルタ２３０Ｒが、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の大部分の面積を占めるようになる。
図１１および図１２には、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）だけが示されているが、本発明はこれに限定されない。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）にも、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、および第３カラーフィルタ２３０Ｂがすべて形成されてもよい。この時、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２色を表示する画素であるので、第２カラーフィルタ２３０Ｇが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の大部分の面積を占め、第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂが共に形成されて白色を表示することができる。また、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にも、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、および第３カラーフィルタ２３０Ｂがすべて形成されてもよい。この時、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３色を表示する画素であるので、第３カラーフィルタ２３０Ｂが、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の大部分の面積を占め、第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび第２カラーフィルタ２３０Ｇが共に形成されて白色を表示することができる。
次に、図１３および図１４を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図１３および図１４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１および図２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いため、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１色画素領域の一部領域に第３カラーフィルタが形成され、第３色画素領域の一部領域に第１カラーフィルタが形成されるという点で上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図１３は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図１４は、図１３のＸＩＶ−ＸＩＶ線に沿った、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。例えば、第１カラーフィルタ２３０Ｒは、赤カラーフィルタであり、第２カラーフィルタ２３０Ｇは、緑カラーフィルタであり、第３カラーフィルタ２３０Ｂは、青カラーフィルタである。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１色を表示する画素であるので、第１カラーフィルタ２３０Ｒが、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の大部分の面積を占め、残りの一部の領域に第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１カラーフィルタ２３０Ｒが第３カラーフィルタ２３０Ｂを囲む形態で示されているが、本発明はこれに限定されず、第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂの位置は、多様に変更が可能である。
第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含み、第３領域Ｅ（Ｂ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３色を表示する画素であるので、第３カラーフィルタ２３０Ｂが、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の大部分の面積を占め、残りの一部の領域に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第３カラーフィルタ２３０Ｂが第１カラーフィルタ２３０Ｒを囲む形態で示されているが、本発明はこれに限定されず、第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび第３カラーフィルタ２３０Ｂの位置は、多様に変更が可能である。
本実施形態では、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に第３カラーフィルタ２３０Ｂを一部挿入することにより、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）が表示する赤色の色座標上の位置を移動させることができる。また、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に第１カラーフィルタ２３０Ｒを一部挿入することにより、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）が表示する青色の色座標上の位置を移動させることができる。このように、各画素領域に異なる色座標を一部挿入することにより、当該画素領域が表示する色の色座標を移動させて、所望の色を正確に表示できるようにする。
このように、所望の色座標に応じて各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）に挿入するカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの種類および面積を多様に変更することができる。以下、図１５〜図２２を参照して、変形実施例について説明する。図１５〜図２２は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
図１５に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。
図１６に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に位置してもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）全体に第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。
図１７に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に位置してもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。
図１８に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に位置してもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）には、残りの一部の領域に第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。
図１９に示されているように、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）をさらに含んでもよく、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、白色を表示してもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に形成されてもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が形成され、平坦化を容易にすることもできる。
第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、大部分にカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置せず、一部領域Ｅ（Ｗ）に第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。
図２０に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に位置してもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、大部分にカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置せず、一部の領域Ｅ（Ｗ）に第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。
図２１に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが大部分に位置してもよく、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含んでもよい。第２領域Ｅ（Ｇ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、大部分にカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置せず、一部の領域Ｅ（Ｗ）に第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。
図２２に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが大部分に位置してもよく、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含んでもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）全体に第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが大部分に位置してもよく、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。第３領域Ｅ（Ｂ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しなくてもよい。
前記で図１３〜図２２で説明した例示以外にも、多様に第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）が配置されてもよく、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）には多様な色のカラーフィルタが位置してもよい。
次に、図２３および図２４を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図２３および図２４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１および図２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図２３は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図２４は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
図２３に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
平面図上において、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。図２３を正面からみたときの上下左右を基準として、２つの平行四辺形は、上下に配置されてもよい。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）において、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）内に形成される。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）において、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）をなす２つの平行四辺形のうち、下側平行四辺形の全体に位置し、上側平行四辺形の左側部に位置してもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の形状に応じて平行四辺形からなってもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の右上側部に位置してもよい。つまり、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）をなす２つの平行四辺形のうち、上側平行四辺形の右側部に位置してもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示してもよい。図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）には透明部材が位置してもよい。
画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含むものとして示されているが、本発明はこれに限定されない。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）だけが第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、それぞれ、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）はなくてもよい。また、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）だけが第２領域Ｅ（Ｇ）を含み、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にはカラーフィルタの除去された領域がなくてもよい。さらに、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）および第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）が、それぞれ第１領域Ｅ（Ｒ）および第２領域Ｅ（Ｇ）を含み、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にはカラーフィルタの除去された領域がなくてもよい。前記例示以外にも、多様に変更が可能である。
図２４に示されているように、基板（図示せず）上に、ゲート線１２２と、これから突出するゲート電極１２４とが形成されている。また、容量電極線１３１と、これから突出する容量電極１３３とが、ゲート線１２２と平行に形成されている。ゲート線１２２、容量電極線１３１などは、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同一の基板に形成されてもよく、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの形成された基板に対向する他の基板に形成されてもよい。
ゲート線１２２は、主に横方向に延びており、ゲート信号を伝達する。容量電極線１３１も、主に横方向に延びており、共通電圧などのような定められた電圧を伝達する。
ゲート線１２２、ゲート電極１２４、容量電極線１３１、容量電極１３３の上には、ゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）およびシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）を含む無機絶縁材料からなってよい。
ゲート絶縁膜上には、半導体１５４が形成されている。半導体１５４は、ゲート電極１２４と重なる。
半導体１５４上には、ゲート線１２２と交差するデータ線１７１と、データ線１７１からゲート電極１２４上に突出するソース電極１７３と、ソース電極１７３から分離されているドレイン電極１７５とが形成されている。
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５は、半導体１５４と共に１つの薄膜トランジスタＱをなし、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体１５４内に形成される。
データ線１７１は、ゲート線１２２に対して略垂直方向に形成されている。データ線１７１は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の形状に応じて一度折れた形状からなる。データ線１７１の折れる地点は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の形状をなす２つの平行四辺形の接する地点である。
データ線１７１、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５の上には、第１保護膜（図示せず）が形成されている。第１保護膜には、容量電極１３３を露出させるように第１コンタクトホール１８１が形成されている。
第１保護膜上には、第１コンタクトホール１８１を介して容量電極１３３に接続される共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の全体に面状（Ｐｌａｎｅ ｓｈａｐｅ）に形成され、隣り合う画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の共通電極２７０は互いに接続されてもよい。共通電極２７０は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透明な金属酸化物からなる。
共通電極２７０上には、第２保護膜（図示せず）が形成されている。第１保護膜および第２保護膜には、ドレイン電極１７５を露出させるように第２コンタクトホール１８３が形成されている。
第２保護膜上には、第２コンタクトホール１８３を介して薄膜トランジスタのドレイン電極１７５に接続される画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の形状に対応するように形成される。言い換えると、画素電極１９１は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。画素電極１９１は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透明な金属酸化物からなる。画素電極１９１は、複数のスリット１９８を含んでいる。
共通電極２７０と画素電極１９１は、第２保護膜を挟んで互いに異なる層に形成されている。この時、共通電極２７０は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の全体に形成されており、画素電極１９１には、スリット１９８が形成されている。液晶表示装置の液晶層に含まれている液晶分子は、共通電極２７０と画素電極１９１との間に形成される水平電界によって動くようになる。
上記では、共通電極２７０は面状からなり、画素電極１９１にはスリット１９８が形成されているものとして説明したが、本発明はこれに限定されない。画素電極１９１だけでなく、共通電極２７０にもスリットが形成されてもよい。この時、画素電極１９１と共通電極２７０は、同一層に同一材料で形成されてよく、画素電極１９１と共通電極２７０は、交互に並んで配置されてもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１領域Ｅ（Ｒ）は、画素電極１９１の形状をなす２つの平行四辺形と平行な辺を含む平行四辺形からなる。また、第１領域Ｅ（Ｒ）の長辺は、画素電極１９１のスリット１９８と平行でもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）は、画素電極１９１の右上側部と重なってもよい。ただし、第１領域Ｅ（Ｒ）の位置はこれに限定されず、他の位置に変更可能である。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１領域Ｅ（Ｒ）を除いた第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に位置する。
図２４は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、前記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）とほとんど同一の画素構造からなってもよい。
次に、図２５を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図２５に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２３および図２４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図２５は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。画素電極（図示せず）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）内に、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の形状と同様に、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の形状に応じて、２つの平行四辺形からなっている。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の右側部に形成されてもよい。つまり、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）をなす２つの平行四辺形のうち、上側平行四辺形の右側部と下側平行四辺形の右側部に形成されてもよい。したがって、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）に形成されている画素電極の右側部と重なってもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示してもよい。図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）には透明部材が位置してもよい。
画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含むものとして示されているが、本発明はこれに限定されず、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）のうちの一つ又は二つに、それぞれに対応する第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。
次に、図２６を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図２６に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２３および図２４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図２６は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。画素電極（図示せず）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）内に、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の形状のように、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなる。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の形状に応じて平行四辺形からなっている。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の下側部に位置してもよい。つまり、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）をなす２つの平行四辺形のうち、下側平行四辺形の一部領域に位置してもよい。したがって、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）に形成されている画素電極の下側部と重なってもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示してもよい。図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）には透明部材が位置してもよい。
画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、それぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含むものとして示されているが、本発明はこれに限定されず、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）のうち一つ又は二つに、それぞれに対応する第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。
次に、図２７〜図２９を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１〜図５に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図２７は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図２８は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素領域が含むドメインを示す平面図であり、図２９は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。図２８および図２９は、第１色画素領域を示している。
図２７に示されているように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、略四角形からなってもよい。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１副画素領域ＰＸ＿ｈと第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、上下に配置されてもよい。ただし、第１副画素領域ＰＸ＿ｈと第２副画素領域ＰＸ＿ｌの配置形態は、多様に変更が可能である。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）において、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。例えば、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの左側領域に位置してもよい。
図２８に示されているように、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌはそれぞれ、４つのドメイン（ｄｏｍａｉｎ）を含み、４つのドメインは、第１ドメインＤ１と、第２ドメインＤ２と、第３ドメインＤ３と、第４ドメインＤ４とを含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌはそれぞれ、１つの横線と１つの縦線によって４つのドメインに分けられる。この時、横線を基準として上側、縦線を基準として左側に第１ドメインＤ１が位置し、横線を基準として上側、縦線を基準として右側に第２ドメインＤ２が位置する。また、横線を基準として下側、縦線を基準として右側に第３ドメインＤ３が位置し、横線を基準として下側、縦線を基準として左側に第４ドメインＤ４が位置する。
図示しないが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、４つのドメインを含んでもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４のうちの少なくとも一つと重なる。例えば、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４と重なってもよい。ただし、これは例示に過ぎず、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第３ドメインＤ３のみと重なったり、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２などと重なってもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示してもよい。図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）には透明部材が位置してもよい。
画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）はそれぞれ、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含むものとして示されているが、本発明はこれに限定されず、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）のうち一つ又は二つに、それぞれに対応する第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を含んでもよい。
図２９に示されているように、基板（図示せず）上に、第１ゲート線１２１ｈ、第２ゲート線１２１ｌ、および容量電極線１３１を含む複数のゲート導電体が形成されている。ゲート導電体１２１ｈ、１２１ｌ、１３１は、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同一の基板に形成されてもよく、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの形成された基板に対向する他の基板に形成されてもよい。
第１ゲート線１２１ｈおよび第２ゲート線１２１ｌは、主に横方向に延びており、ゲート信号を伝達する。第１ゲート線１２１ｈは、第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌを含み、第２ゲート線１２１ｌは、第３ゲート電極１２４ｃを含む。第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌは一体となってもよい。
容量電極線１３１も、主に横方向に延びており、共通電圧などのような定められた電圧を伝達する。容量電極線１３１は、下へ拡張された容量電極（ｓｔｏｒａｇｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１３７を含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈと、第２副画素領域ＰＸ＿ｌとを含む。第１副画素領域ＰＸ＿ｈと第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、上下に配置されてもよい。第１ゲート線１２１ｈおよび第２ゲート線１２１ｌは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈと第２副画素領域ＰＸ＿ｌとの間の境界に形成されてもよい。容量電極線１３１は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈの上側周縁に形成されてもよい。
ゲート導電体１２１、１２３、１３１上には、ゲート絶縁膜（ｇａｔｅ ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）（図示せず）が形成されている。
ゲート絶縁膜上には、半導体１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃが形成されている。第１ゲート電極１２４ｈと重なる第１半導体１５４ｈが形成されており、第２ゲート電極１２４ｌと重なる第２半導体１５４ｌが形成されており、第３ゲート電極１２４ｃと重なる第３半導体１５４ｃが形成されている。
半導体１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃおよびゲート絶縁膜の上には、データ線（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）１７１、第１ソース電極１７３ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第３ソース電極１７３ｃ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第２ドレイン電極１７５ｌ、および第３ドレイン電極１７５ｃを含むデータ導電体が形成されている。
データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向に延びて第１ゲート線１２１ｈおよび第２ゲート線１２１ｌと交差する。第１ソース電極１７３ｈおよび第２ソース電極１７３ｌは、データ線１７１から突出してそれぞれ第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌの上に形成されている。第１ソース電極１７３ｈと第２ソース電極１７３ｌは、互いに接続されている。
第１ドレイン電極１７５ｈの一方端は第１ソース電極１７３ｈに部分的に囲まれており、他方端は第１副画素領域ＰＸ＿ｈの中心に形成されている。第２ドレイン電極１７５ｌの一方端は第２ソース電極１７３ｌに部分的に囲まれており、他方端は第２副画素領域ＰＸ＿ｌの中心に形成されている。
第３ソース電極１７３ｃは、第２ドレイン電極１７５ｌに接続されており、第３ドレイン電極１７５ｃは、第３ゲート電極１２４ｃ上において第３ソース電極１７３ｃと離隔するように形成されている。第３ドレイン電極１７５ｃは、容量電極１３７と重なってキャパシタＣｓを形成する。
第１／第２／第３ゲート電極１２４ｈ／１２４ｌ／１２４ｃ、第１／第２／第３ソース電極１７３ｈ／１７３ｌ／１７３ｃ、および第１／第２／第３ドレイン電極１７５ｈ／１７５ｌ／１７５ｃは、第１／第２／第３半導体１５４ｈ／１５４ｌ／１５４ｃと共に１つの第１／第２／第３薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）Ｑｈ／Ｑｌ／Ｑｃをなし、薄膜トランジスタのチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、各ソース電極１７３ｈ／１７３ｌ／１７３ｃと各ドレイン電極１７５ｈ／１７５ｌ／１７５ｃとの間の各半導体１５４ｈ／１５４ｌ／１５４ｃに形成される。
データ導電体１７１、１７３ｈ、１７３ｌ、１７３ｃ、１７５ｈ、１７５ｌ、１７５ｃおよび露出した半導体１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃ部分の上には、保護膜（図示せず）が形成されている。
保護膜には、第１ドレイン電極１７５ｈの少なくとも一部を露出させる第１コンタクトホール１８５ｈと、第２ドレイン電極１７５ｌの少なくとも一部を露出させる第２コンタクトホール１８５ｌとが形成されている。
保護膜上には、画素電極１９１ｈ、１９１ｌが形成されている。画素電極１９１ｈ、１９１ｌは、略四角形であり、第１副画素電極１９１ｈと、第２副画素電極１９１ｌとを含む。第１副画素電極１９１ｈは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈに形成されており、第２副画素電極１９１ｌは、第２副画素領域ＰＸ＿ｌに形成されている。
第１副画素電極１９１ｈは、横幹部１９３ｈと、横幹部１９３と交差する縦幹部１９２ｈとからなる十字形幹部を含む。第２副画素電極１９１ｌは、横幹部１９３ｌと、横幹部１９３ｌと交差する縦幹部１９２ｌとからなる十字形幹部を含む。また、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ複数の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌを含む。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分けられる。微細枝部１９４ｈ、１９４ｌは、横幹部１９３ｈ、１９３ｌおよび縦幹部１９２ｈ、１９２ｌから斜めに延びており、その延びる方向は、第１ゲート線１２１または横幹部１９３ｈ、１９３ｌと約４５度または１３５度の角度をなしてもよい。また、隣り合う２つの副領域の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌが延びている方向は互いに直交してもよい。
第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌはそれぞれ、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌの外郭を囲む外郭幹部をさらに含んでもよい。
第１副画素電極１９１ｈは、第１コンタクトホール１８５ｈを介して第１ドレイン電極１７５ｈに接続され、データ電圧が印加され、第２副画素電極１９１ｌは、第２コンタクトホール１８５ｌを介して第２ドレイン電極１７５ｌに接続され、データ電圧が印加される。
第１ゲート線１２１ｈにゲートオン電圧が印加されると、第１薄膜トランジスタＱｈおよび第２薄膜トランジスタＱｌがオンになり、データ線１７１のデータ電圧が第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌに印加される。
第１ゲート線１２１ｈにゲートオフ電圧が印加され、第２ゲート線１２１ｌにゲートオン電圧が印加されると、第１薄膜トランジスタＱｈおよび第２薄膜トランジスタＱｌがオフになり、第３薄膜トランジスタＱｃがオンになる。これによって、第２副画素電極１９１ｌの電荷がキャパシタＣｓに流れ込み、第２副画素電極１９１ｌに充電された電圧が下降する。したがって、第２副画素電極１９１ｌに印加された画素電圧は、第１副画素電極１９１ｈに印加された画素電圧より低くなり、このような電圧差によって液晶表示装置の側面視認性を向上させることができる。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの左側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、右側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない。つまり、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なる。
図２９は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、前記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）とほとんど同一の画素構造からなってもよい。
本実施形態では、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）が２つの副画素領域ＰＸ＿ｈ、ＰＸ＿ｌに分けられ、２つの副画素領域ＰＸ＿ｈ、ＰＸ＿ｌのうち、相対的に電場の強さが弱い第２副画素領域ＰＸ＿ｌに第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を配置する。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、白色を表示し、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）が高階調を表示する時、輝度を向上させることができる。また、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）が低階調を表示する時は、色再現性を向上させることができる。
次に、図３０を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３０に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、薄膜トランジスタなどの画素設計が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３０は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示することができ、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
基板（図示せず）上には、ゲート線１２１と、ゲート線１２１から突出する第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌとが形成されている。ゲート線１２１、第１ゲート電極１２４ｈ、および第２ゲート電極１２４ｌは、第１カラーフィルタ２３０Ｒと同一の基板に形成されてもよく、第１カラーフィルタ２３０Ｒの形成された基板に対向する他の基板に形成されてもよい。
ゲート線１２１は、主に横方向に延びており、ゲート信号を伝達する。第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌは、平面上においてゲート線１２１の上側に突出している。第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌは互いに接続され、１つの突出部をなしている。ただし、本発明はこれに限定されず、第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌの突出形態は、多様に変形が可能である。
基板上には、容量電極線１３１と、容量電極線１３１から突出する容量電極１３３、１３５とがさらに形成されてもよい。
容量電極線１３１は、ゲート線１２１と平行に延びており、ゲート線１２１と離隔するように形成される。容量電極線１３１は、ゲート線１２１と同一層に同一材料で形成されてもよい。容量電極線１３１上に突出する容量電極１３３は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈの周縁を囲むように形成される。容量電極線１３１の下へ突出する容量電極１３５は、第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌに隣接するように形成される。容量電極線１３１には一定の電圧が印加されてもよい。
ゲート線１２１、第１ゲート電極１２４ｈ、第２ゲート電極１２４ｌ、容量電極線１３１、および容量電極１３３、１３５の上には、ゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。ゲート絶縁膜は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁材料からなってもよい。また、ゲート絶縁膜は、単一膜または多重膜からなってもよい。
ゲート絶縁膜上には、第１半導体１５４ｈおよび第２半導体１５４ｌが形成されている。第１半導体１５４ｈは、第１ゲート電極１２４ｈと重なってもよく、第２半導体１５４ｌは、第２ゲート電極１２４ｌと重なってもよい。第１半導体１５４ｈおよび第２半導体１５４ｌは、アモルファスシリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｉｃｏｎ）、金属酸化物（ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ）などからなってもよい。
第１半導体１５４ｈおよび第２半導体１５４ｌの上には、それぞれオーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ ｍｅｍｂｅｒ）（図示せず）がさらに形成されてもよい。オーミックコンタクト部材は、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）またはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化アモルファスシリコンなどの物質で作られてもよい。
第１半導体１５４ｈ、第２半導体１５４ｌ、およびゲート絶縁膜の上には、第１データ線１７１ｈ、第２データ線１７１ｌ、第１ソース電極１７３ｈ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、および第２ドレイン電極１７５ｌが形成されている。
第１データ線１７１ｈおよび第２データ線１７１ｌは、データ信号を伝達し、主に縦方向に延びてゲート線１２１および容量電極線１３１と交差する。
第１データ線１７１ｈと第２データ線１７１ｌは、互いに異なるデータ電圧を伝達する。第２データ線１７１ｌによって伝達されるデータ電圧は、第１データ線１７１ｈによって伝達されるデータ電圧より低くてもよい。これとは逆に、第２データ線１７１ｌによって伝達されるデータ電圧が、第１データ線１７１ｈによって伝達されるデータ電圧より高くてもよい。
第１ソース電極１７３ｈは、第１データ線１７１ｈから第１ゲート電極１２４ｈ上に突出するように形成され、第２ソース電極１７３ｌは、第２データ線１７１ｌから第２ゲート電極１２４ｌ上に突出するように形成されている。第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌは、広い一方端と棒状の他方端の部分を含む。第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌの広い端部分は、容量電極線１３１の下へ突出している容量電極１３５と重なっている。第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌの棒状の端部分は、それぞれ第１ソース電極１７３ｈおよび第２ソース電極１７３ｌによって一部囲まれている。
第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌ、第１ソース電極１７３ｈおよび第２ソース電極１７３ｌ、第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌは、第１半導体１５４ｈおよび第２半導体１５４ｌと共にそれぞれ第１薄膜トランジスタＱｈおよび第２薄膜トランジスタＱｌをなし、薄膜トランジスタのチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、各ソース電極１７３ｈ、１７３ｌと各ドレイン電極１７５ｈ、１７５ｌとの間の各半導体１５４ｈ、１５４ｌに形成されている。
第１データ線１７１ｈ、第２データ線１７１ｌ、第１ソース電極１７３ｈ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第１ソース電極１７３ｈと第１ドレイン電極１７５ｈとの間に露出している第１半導体１５４ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第２ドレイン電極１７５ｌ、第２ソース電極１７３ｌと第２ドレイン電極１７５ｌとの間に露出している第２半導体１５４ｌの上には、保護膜（図示せず）が形成されている。
保護膜には、第１ドレイン電極１７５ｈの広い端部分を露出させる第１コンタクトホール１８１ｈが形成されており、第２ドレイン電極１７５ｌの広い端部分を露出させる第２コンタクトホール１８１ｌが形成されている。
保護膜上には、画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属酸化物からなってもよい。
画素電極１９１は、第１副画素電極１９１ｈと、第２副画素電極１９１ｌとを含む。第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、ゲート線１２１および容量電極線１３１を中心に上下に配置されている。第１副画素電極１９１ｈは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈに位置し、第２副画素電極１９１ｌは、第２副画素領域ＰＸ＿ｌに位置する。ただし、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌの配置形態はこれに限定されず、多様に変更が可能である。
第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌそれぞれの全体的な形状は、四角形からなってもよく、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと、横幹部１９３ｈ、１９３ｌと交差する縦幹部１９２ｈ、１９２ｌとからなる十字形幹部を含む。また、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌはそれぞれ、複数の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌを含む。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分けられる。微細枝部１９４ｈ、１９４ｌは、横幹部１９３ｈ、１９３ｌおよび縦幹部１９２ｈ、１９２ｌから斜めに延びており、その延びる方向は、ゲート線１２１または横幹部１９３ｈ、１９３ｌと約４５度または１３５度の角度をなしてもよい。また、隣り合う２つの副領域の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌが延びている方向は互いに直交してもよい。
本実施形態では、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ第１副画素ＰＸａおよび第２副画素ＰＸｂの外郭を囲む外郭幹部をさらに含んでもよい。
第１副画素電極１９１ｈは、第１コンタクトホール１８１ｈを介して第１ドレイン電極１７５ｈに接続されており、第２副画素電極１９１ｌは、第２コンタクトホール１８１ｌを介して第２ドレイン電極１７５ｌに接続されている。したがって、第１薄膜トランジスタＱｈおよび第２薄膜トランジスタＱｌがオン状態の時、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌから互いに異なるデータ電圧が印加され、このような電圧差によって液晶表示装置の側面視認性を向上させることができる。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの左側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、右側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない。つまり、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なる。
図３０は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域および第３色画素領域も、前記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）とほとんど同一の画素構造からなってもよい。
次に、図３１を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３１に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、薄膜トランジスタなどの画素設計が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
基板（図示せず）上にゲート線１２１および容量電極線１３１が形成されている。ゲート線１２１および容量電極線１３１は、第１カラーフィルタ２３０Ｒと同一の基板に形成されてもよく、第１カラーフィルタ２３０Ｒの形成された基板に対向する他の基板に形成されてもよい。
ゲート線１２１は、主に横方向に延びており、ゲート信号を伝達する。また、ゲート線１２１から突出して互いに接続されている第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌが形成されている。また、ゲート線１２１から突出して第１ゲート電極１２４ｈおよび第２ゲート電極１２４ｌから離れるように第３ゲート電極１２４ｃが形成されている。第１ゲート電極１２４ｈ、第２ゲート電極１２４ｌおよび第３ゲート電極１２４ｃは、同一のゲート線１２１に接続されており、同一のゲート信号が印加される。
容量電極線１３１は、ゲート線１２１と同一方向に延びており、容量電極線１３１には一定の電圧が印加される。また、容量電極線１３１から突出している容量電極１３３および突出部１３４が形成されている。容量電極１３３は、後に説明する第１副画素電極１９１ｈを囲むように形成されてもよく、突出部１３４は、ゲート線１２１に向かうように突出してもよい。
ゲート線１２１、第１ゲート電極１２４ｈ、第２ゲート電極１２４ｌ、第３ゲート電極１２４ｃ、容量電極線１３１、容量電極１３３、および突出部１３４の上には、ゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。ゲート絶縁膜は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁材料からなってもよい。また、ゲート絶縁膜は、単一膜または多重膜からなってもよい。
ゲート絶縁膜上には、第１半導体１５４ｈ、第２半導体１５４ｌおよび第３半導体１５４ｃが形成される。第１半導体１５４ｈは、第１ゲート電極１２４ｈ上に位置し、第２半導体１５４ｌは、第２ゲート電極１２４ｌ上に位置し、第３半導体１５４ｃは、第３ゲート電極１２４ｃ上に位置する。
第１半導体１５４ｈ、第２半導体１５４ｌ、第３半導体１５４ｃおよびゲート絶縁膜の上には、データ線１７１、第１ソース電極１７３ｈ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第２ドレイン電極１７５ｌ、第３ソース電極１７３ｃ、および第３ドレイン電極１７５ｃが形成されている。
第１半導体１５４ｈは、第１ゲート電極１２４ｈ上に、第２半導体１５４ｌは、第２ゲート電極１２４ｌ上に、第３半導体１５４ｃは、第３ゲート電極１２４ｃ上に形成されるだけでなく、データ線１７１の下に形成されてもよい。また、第２半導体１５４ｌと第３半導体１５４ｃは互いに接続されるように形成されてもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第１〜第３半導体１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃが第１〜第３ゲート電極１２４ｈ、１２４ｌ、１２４ｃ上にのみ形成されてもよく、第２半導体１５４ｌと第３半導体１５４ｃが互いに分離されて形成されてもよい。
データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向に延びてゲート線１２１と交差する。
第１ソース電極１７３ｈは、データ線１７１から第１ゲート電極１２４ｈ上に突出して形成されている。第１ソース電極１７３ｈは、第１ゲート電極１２４ｈ上でＣ字状に曲がった形状でもよい。
第１ドレイン電極１７５ｈは、第１ゲート電極１２４ｈ上において第１ソース電極１７３ｈと離れるように形成されている。互いに離れるように形成された第１ソース電極１７３ｈと第１ドレイン電極１７５ｈとの間に露出した部分の第１半導体１５４ｈにチャネルが形成されている。
第２ソース電極１７３ｌは、データ線１７１から第２ゲート電極１２４ｌ上に突出して形成されている。第２ソース電極１７３ｌは、第２ゲート電極１２４ｌ上でＣ字状に曲がった形状でも良い。
第２ドレイン電極１７５ｌは、第２ゲート電極１２４ｌ上において第２ソース電極１７３ｌと離れるように形成されている。互いに離れるように形成された第２ソース電極１７３ｌと第２ドレイン電極１７５ｌとの間に露出した部分の第２半導体１５４ｌにチャネルが形成されている。
第３ソース電極１７３ｃは、第２ドレイン電極１７５ｌに接続されており、第３ゲート電極１２４ｃ上に形成されている。
第３ドレイン電極１７５ｃは、第３ゲート電極１２４ｃ上において第３ソース電極１７３ｃと離れるように形成されている。互いに離れるように形成された第３ソース電極１７３ｃと第３ドレイン電極１７５ｃとの間に露出した部分の第３半導体１５４ｃにチャネルが形成されている。
上記で説明した第１ゲート電極１２４ｈ、第１半導体１５４ｈ、第１ソース電極１７３ｈ、および第１ドレイン電極１７５ｈは、第１薄膜トランジスタＱｈを構成する。また、第２ゲート電極１２４ｌ、第２半導体１５４ｌ、第２ソース電極１７３ｌ、および第２ドレイン電極１７５ｌは、第２薄膜トランジスタＱｌを構成し、第３ゲート電極１２４ｃ、第３半導体１５４ｃ、第３ソース電極１７３ｃ、および第３ドレイン電極１７５ｃは、第３薄膜トランジスタＱｃを構成する。
データ線１７１、第１ソース電極１７３ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第３ソース電極１７３ｃ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第２ドレイン電極１７５ｌ、第３ドレイン電極１７５ｃの上には、保護膜（図示せず）が形成されている。
保護膜には、第１ドレイン電極１７５ｈの一部が露出するように第１コンタクトホール１８５ｈが形成されており、第２ドレイン電極１７５ｌの一部が露出するように第２コンタクトホール１８５ｌが形成されており、突出部１３４と第３ドレイン電極１７５ｃの一部が露出するように第３コンタクトホール１８５ｃが形成されている。
保護膜上には、第１副画素電極１９１ｈと、第２副画素電極１９１ｌとが形成されている。また、保護膜上には、ブリッジ電極１９６が形成されている。
第１副画素電極１９１ｈは、第１コンタクトホール１８５ｈを介して第１ドレイン電極１７５ｈに接続されており、第２副画素電極１９１ｌは、第２コンタクトホール１８５ｌを介して第２ドレイン電極１７５ｌに接続されている。ブリッジ電極１９６は、第３コンタクトホール１８５ｃを介して突出部１３４および第３ドレイン電極１７５ｃに電気的に接続されている。その結果、第３ドレイン電極１７５ｃが容量電極線１３１に接続される。
第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ第１ドレイン電極１７５ｈおよび第２ドレイン電極１７５ｌからデータ電圧が印加される。この時、第２ドレイン電極１７５ｌに印加されたデータ電圧の一部は、第３ソース電極１７３ｃを介して分圧され、第２副画素電極１９１ｌに印加される電圧の大きさは、第１副画素電極１９１ｈに印加される電圧の大きさより小さくなる。これは、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌに印加されるデータ電圧が正極性（＋）の場合であり、これとは逆に、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌに印加されるデータ電圧が負極性（−）の場合には、第１副画素電極１９１ｈに印加される電圧が、第２副画素電極１９１ｌに印加される電圧より小さくなる。
第２副画素電極１９１ｌの面積は、第１副画素電極１９１ｈの面積の約等倍以上２倍以下であってもよい。
第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌは列方向に隣り合い、全体的な形状は四角形であり、横幹部１９３ｈ、１９３ｌと、これらとそれぞれ交差する縦幹部１９２ｈ、１９２ｌとからなる十字形幹部を含む。また、第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって４つの副領域に分けられ、各副領域は、複数の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌを含む。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分けられる。微細枝部１９４ｈ、１９４ｌは、横幹部１９３ｈ、１９３ｌおよび縦幹部１９２ｈ、１９２ｌから斜めに延びており、その延びる方向は、ゲート線１２１または横幹部１９３ｈ、１９３ｌと約４５度または１３５度の角度をなしてもよい。また、隣り合う２つの副領域の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌが延びている方向は互いに直交してもよい。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの左側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、右側領域には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない。つまり、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４に第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含み、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なる。
図３１は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域および第３色画素領域も、前記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）とほとんど同一の画素構造からなってもよい。
次に、図３２を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、画素電極の形状が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３２は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
画素電極１９１は、全体的に略四角形であり、第１副画素電極１９１ｈと、第２副画素電極１９１ｌとを含む。第１副画素電極１９１ｈは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈに形成されており、第２副画素電極１９１ｌは、第２副画素領域ＰＸ＿ｌに形成されている。
第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと、横幹部１９３ｈ、１９３ｌとそれぞれ交差する縦幹部１９２ｈ、１９２ｌとからなる十字形幹部を含む。第１副画素電極１９１ｈは、１つの横幹部１９３ｈと、１つの縦幹部１９２ｈとを含み、第２副画素電極１９１ｌは、１つの横幹部１９３ｌと、２つの縦幹部１９２ｌとを含む。２つの縦幹部１９２ｌは、互いに並んで左右に配置される。また、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ複数の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌを含む。
第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、２つの縦幹部１９２ｌのうちの１つと横幹部１９３ｌ、およびこれらから延びている微細枝部１９４ｌが形成されている第１副領域と、２つの縦幹部１９２ｌのうちの他の１つと横幹部１９３ｌ、およびこれらから延びている微細枝部１９４ｌが形成されている第２副領域とからなる。第１副領域が左側に、第２副領域が右側に位置してもよい。第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒは第１副領域に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）は第２副領域に位置してもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒが第２副領域に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）が第１副領域に位置してもよい。
本実施形態では、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、４つの方向に延びている微細枝部１９４ｌすべてが、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する領域に形成されている。また、第１領域Ｅ（Ｒ）にも、４つの方向に延びている微細枝部１９４ｌすべてが形成されている。その結果、液晶表示装置の左側から眺める画面は、右側から眺める画面とほぼ同一になり、側面における視認性を向上させることができる。
図３２は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、上記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）と実質的に同一の画素構造からなってもよい。
次に、図３３を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３３に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３３は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒは右側領域に形成されてもよく、第１領域Ｅ（Ｒ）は左側領域に形成されてもよい。
つまり、図２７〜図２９に関する上記の実施形態の場合、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒが左側領域に形成され、第１領域Ｅ（Ｒ）が右側領域に形成されていたが、本実施形態では、図２７〜図２９の実施形態と比較して、第１カラーフィルタ２３０Ｒと第１領域Ｅ（Ｒ）の位置とが、反対である。図２７〜図２９の実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）が、４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４のうち、第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３に形成されているのに対し、本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）が、４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４のうち、第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４に形成されている。
第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含む。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。第２領域Ｅ（Ｇ）および第３領域Ｅ（Ｂ）は、それぞれ第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの左側領域に形成されている。
次に、図３４を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３４は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、複数であってもよい。隣接した複数の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、互いに異なる。例えば、上下に隣接した２つの第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）のうち、上側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なり、下側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４と重なる。
隣接した複数の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置も互いに異なり、隣接した複数の第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）の位置も互いに異なる。
各ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４において、画素電極の微細枝部の形成方向はそれぞれ異なる。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、４つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４のうちの一部に形成されている。この時、全画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）で第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が同一であれば、液晶表示装置の左側から眺める画面は、右側から眺める画面と異なることになる。本実施形態では、隣接した画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）で第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が異なるように配置することにより、液晶表示装置の左側および右側から眺める画面をほぼ同一にすることができ、側面における視認性を向上させることができる。
次に、図３５を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３５に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図３４に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３５は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、複数であってもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に隣接し、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置とは異なる。例えば、第１領域Ｅ（Ｒ）は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なり、隣接した第２領域Ｅ（Ｇ）は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４と重なる。
また、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に隣接し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置は、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）の位置とは異なる。例えば、第２領域Ｅ（Ｇ）は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４と重なり、隣接した第３領域Ｅ（Ｂ）は、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なる。
さらに、隣接した複数の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、互いに異なる。例えば、上下に隣接した２つの第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）のうち、上側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２ドメインＤ２および第３ドメインＤ３と重なり、下側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１ドメインＤ１および第４ドメインＤ４と重なる。
隣接した複数の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置も異なり、隣接した複数の第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）の位置も異なる。
次に、図３６および図３７を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３６および図３７に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３６は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図であり、図３７は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の１画素を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
画素電極１９１は、全体的に略四角形であり、第１副画素電極１９１ｈと、第２副画素電極１９１ｌとを含む。第１副画素電極１９１ｈは第１副画素領域ＰＸ＿ｈに形成されており、第２副画素電極１９１ｌは第２副画素領域ＰＸ＿ｌに形成されている。
第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと、横幹部１９３ｈ、１９３ｌと交差する縦幹部１９２ｈ、１９２ｌとからなる十字形幹部を含む。第１副画素電極１９１ｈは、１つの横幹部１９３ｈと、１つの縦幹部１９２ｈとを含み、第２副画素電極１９１ｌは、２つの横幹部１９３ｌと、１つの縦幹部１９２ｌとを含む。２つの横幹部１９３ｌは、互いに平行に上下に配置される。また、第１副画素電極１９１ｈおよび第２副画素電極１９１ｌは、それぞれ複数の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌを含む。
第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、２つの横幹部１９３ｌのうちの１つと縦幹部１９２ｌ、およびこれらから延びている微細枝部１９４ｌが形成されている第１副領域と、２つの横幹部１９３ｌのうちの他の１つと縦幹部１９２ｌ、およびこれらから延びている微細枝部１９４ｌが形成されている第２副領域とからなる。第１副領域が上側に、第２副領域が下側に位置してもよい。第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒは第２副領域に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）は第１副領域に位置してもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒが第１副領域に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）が第２副領域に位置してもよい。
本実施形態では、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、４つの方向に延びている微細枝部１９４ｌは、すべて第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する領域に形成されている。また、第１領域Ｅ（Ｒ）にも、４つの方向に延びている微細枝部１９４ｌがすべて形成されている。その結果、液晶表示装置の左側から眺める画面は、右側から眺める画面とほぼ同一になり、側面における視認性を向上させることができる。
図３７は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）を示しているが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）も、上記で説明した第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）とほとんど同一の画素構造からなってもよい。
次に、図３８を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３８に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図３６および図３７に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３８は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、第１カラーフィルタが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）を含む。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１カラーフィルタ２３０Ｒは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には透明部材が位置してもよい。
第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、第１副領域および第２副領域に分けられ、第１カラーフィルタ２３０Ｒは第１副領域に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）は第２副領域に位置してもよい。第１副領域が第２副画素領域ＰＸ＿ｌの上側に、第２副領域が第２副画素領域ＰＸ＿ｌの下側に位置してもよい。
つまり、上記の図３６および図３７に関する実施形態の場合、第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒが下側領域に形成され、第１領域Ｅ（Ｒ）が上側領域に形成されているのに対し、本実施形態では、図３６および図３７の実施形態と比較して、第１カラーフィルタ２３０Ｒと第１領域Ｅ（Ｒ）の位置とが、反対である。
第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置する。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置しない第２領域Ｅ（Ｇ）を含む。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置しない第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。第２領域Ｅ（Ｇ）および第３領域Ｅ（Ｂ）は、それぞれ第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２副領域に形成されている。
次に、図３９を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図３９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図３９は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、複数であってもよい。隣接した複数の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、互いに異なる。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、第１副領域および第２副領域に分けられ、第１副領域は上側に、第２副領域は下側に位置してもよい。
例えば、左右に隣接した２つの第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）のうち、左側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１副領域と重なり、右側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２副領域と重なる。
隣接した複数の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置も、互いに異なり、隣接した複数の第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置も、互いに異なる。
次に、図４０を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図４０に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図３９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）が形成された位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図４０は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、複数であってもよい。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に隣接し、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置とは異なる。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１副領域に位置し、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に隣接する第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２副領域に位置する。第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１副領域は上側に位置し、第２副領域は下側に位置する。
また、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に隣接し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置は、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）の位置とは異なる。例えば、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２副領域に位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に隣接する第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１副領域に位置する。
さらに、隣接した複数の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）の位置は、互いに異なる。例えば、左右に隣接した２つの第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）のうち、左側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第１副領域に位置し、右側の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１領域Ｅ（Ｒ）は、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの第２副領域に位置する。
隣接した複数の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２領域Ｅ（Ｇ）の位置も、互いに異なり、隣接した複数の第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第３領域Ｅ（Ｂ）の位置も、互いに異なる。
次に、図４１を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図４１に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の形状および位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図４１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、それぞれ第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、および第３領域Ｅ（Ｂ）を含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、略四角形からなってもよく、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置し、第２副画素領域ＰＸ＿ｌの一部の領域に位置する。第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、それぞれ白色を表示してもよく、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）には、それぞれ透明部材が位置してもよい。
隣接した各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、対角線に配置されてもよい。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の上部領域に位置されてもよく、第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の下部領域に配置されてもよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に隣接した第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の下部領域に位置されてもよく、第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の上部領域に配置されてもよい。その結果、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の第１副画素領域ＰＸ＿ｈは、ジグザグに配置され、第２副画素領域ＰＸ＿ｌもジグザグに配置されてもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置する第２副画素領域ＰＸ＿ｌが一列に配置される場合、縞柄などと視認される恐れがある。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置する第２副画素領域ＰＸ＿ｌがジグザグに配置されるようにすることで、特定の柄が表示されることを防止することができる。
各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂのうちの少なくとも１つが、１つの棒状からなってもよい。第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを囲む形状を有する。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌにおいて、第１カラーフィルタ２３０Ｒは、互いに離れている３つの棒状からなってもよい。第１領域Ｅ（Ｒ）は、全体的に四角形からなり、第１カラーフィルタ２３０Ｒの位置する部分が除外された形状からなる。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌにそれぞれ形成されているカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの面積は異なっていてもよい。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）および第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌにはそれぞれ、３つの棒状からなる第１カラーフィルタ２３０Ｒおよび第２カラーフィルタ２３０Ｇがそれぞれ形成され、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌには、４つの棒状からなる第３カラーフィルタ２３０Ｂが形成されてもよい。この時、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの１つの棒状は同一の大きさからなってもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの１つの棒状の大きさを異ならせることにより、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の第２副画素領域ＰＸ＿ｌに形成されているカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの面積を調整してもよい。
第３カラーフィルタ２３０Ｂは、青カラーフィルタまたは緑カラーフィルタからなってもよい。青カラーフィルタまたは緑カラーフィルタの面積を相対的に広く形成することにより、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）に現れる黄変（ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ）現象を防止することができる。
次に、図４２を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図４２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図２７〜図２９に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）の位置が上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図４２は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、略四角形からなってもよい。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈおよび第２副画素領域ＰＸ＿ｌからなってもよい。第１副画素領域ＰＸ＿ｈと第２副画素領域ＰＸ＿ｌは、上下に配置されてもよい。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）において、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、第２副画素領域ＰＸ＿ｌ全体に位置し、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈ全体に位置する。ただし、本発明はこれに限定されず、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）は、第１副画素領域ＰＸ＿ｈの一部に形成され、残りの一部には各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成されてもよい。
本実施形態では、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）が２つの副画素領域ＰＸ＿ｈ、ＰＸ＿ｌに分けられ、２つの副画素領域ＰＸ＿ｈ、ＰＸ＿ｌのうち、相対的に電場の強さが強い第１副画素領域ＰＸ＿ｈに透明領域Ｅ（Ｒ）、Ｅ（Ｇ）、Ｅ（Ｂ）がそれぞれ位置する。
次に、図４３を参照して、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
図４３に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、図１および図２に示された本発明の一実施形態に係る液晶表示装置と同一の部分が多いので、同一の部分についての説明は省略する。本実施形態では、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）が、別の電圧で駆動されるという点で上記の実施形態と異なる。以下では、さらに詳細に説明する。
図４３は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には、第１カラーフィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には、第２カラーフィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には、第３カラーフィルタ２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）および第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）をそれぞれ含む。
第１領域Ｅ（Ｒ）は、白色を表示することができ、図示しないが、第１領域Ｅ（Ｒ）には、透明部材が位置してもよい。
各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）には、それぞれ第１副画素電極１９１ａと、第２副画素電極１９１ｂとが形成されている。第１副画素電極１９１ａは、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと重なり、第２副画素電極１９１ｂは、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）と重なる。
ゲート線ＧＬが主に横方向に形成されており、データ線ＤＬ１−ＤＬ６が主に縦方向に形成されている。データ線ＤＬ１−ＤＬ６は、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の両側に形成されている。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の左側に第１データ線ＤＬ１が形成されており、右側に第２データ線ＤＬ２が形成されている。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の左側に第３データ線ＤＬ３が形成されており、右側に第４データ線ＤＬ４が形成されている。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の左側に第５データ線ＤＬ５が形成されており、右側に第６データ線ＤＬ６が形成されている。
第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の第１副画素電極１９１ａは、ゲート線ＧＬおよび第１データ線ＤＬ１に接続されており、第２副画素電極１９１ｂは、ゲート線ＧＬおよび第２データ線ＤＬ２に接続されている。第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の第１副画素電極１９１ａは、ゲート線ＧＬおよび第３データ線ＤＬ３に接続されており、第２副画素電極１９１ｂは、ゲート線ＧＬおよび第４データ線ＤＬ４に接続されている。第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）の第１副画素電極１９１ａは、ゲート線ＧＬおよび第５データ線ＤＬ５に接続されており、第２副画素電極１９１ｂは、ゲート線ＧＬおよび第６データ線ＤＬ６に接続されている。図示しないが、各副画素電極１９１ａ、１９１ｂは、薄膜トランジスタを介してゲート線ＧＬおよびデータ線ＤＬ１−ＤＬ６に接続されている。
したがって、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）に形成されている第１副画素電極１９１ａと第２副画素電極１９１ｂは、互いに異なるデータ線ＤＬ１−ＤＬ６に接続されているので、異なるデータ電圧が印加される。
例えば、第１データ線ＤＬ１には、赤色の階調に対応するデータ電圧が印加され、第３データ線ＤＬ３には、緑色の階調に対応するデータ電圧が印加され、第５データ線ＤＬ５には、青色の階調に対応するデータ電圧が印加されてもよい。第２データ線ＤＬ２、第４データ線ＤＬ４および第６データ線ＤＬ６には、白色の階調、つまり、輝度を調整するためのデータ電圧が印加されてもよい。
第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成された部分と同一の電圧で駆動する場合には、高い輝度が要求されないときであっても、第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）に白色が表示され、色彩が薄れて現れることがある。本実施形態では、白色を表示する第１領域Ｅ（Ｒ）、第２領域Ｅ（Ｇ）、第３領域Ｅ（Ｂ）を、各カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成された部分と独立して駆動することにより、高い輝度が必要な場合にのみ白色パターン部分を選択的に駆動することができて、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の色が薄れるのを防止することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲は、これに限定されるものではなく、次の請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形および改良形態も本発明の権利範囲に属する。
３：液晶層
１１０：第１基板
１２１：ゲート線
１３１：容量電極線
１７１：データ線
１９１：画素電極
１９１ｈ：第１副画素電極
１９１ｌ：第２副画素電極
２１０：第２基板
２２０：遮光部材
２３０Ｒ：第１カラーフィルタ
２３０Ｇ：第２カラーフィルタ
２３０Ｂ：第３カラーフィルタ
５００：光源
６００：レーザ
ＰＸ（Ｒ）：第１色画素領域
ＰＸ（Ｇ）：第２色画素領域
ＰＸ（Ｂ）：第３色画素領域
Ｅ（Ｒ）：第１領域
Ｅ（Ｇ）：第２領域
Ｅ（Ｂ）：第３領域
１１０：第１基板
１２１：ゲート線
１３１：容量電極線
１７１：データ線
１９１：画素電極
１９１ｈ：第１副画素電極
１９１ｌ：第２副画素電極
２１０：第２基板
２２０：遮光部材
２３０Ｒ：第１カラーフィルタ
２３０Ｇ：第２カラーフィルタ
２３０Ｂ：第３カラーフィルタ
５００：光源
６００：レーザ
ＰＸ（Ｒ）：第１色画素領域
ＰＸ（Ｇ）：第２色画素領域
ＰＸ（Ｂ）：第３色画素領域
Ｅ（Ｒ）：第１領域
Ｅ（Ｇ）：第２領域
Ｅ（Ｂ）：第３領域
Claims (10)
- 第１色画素領域、第２色画素領域、および第３色画素領域を含む液晶表示装置において、
互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板または前記第２基板上の前記第１色画素領域に位置する第１カラーフィルタと、
前記第１基板または前記第２基板上の前記第２色画素領域に位置する第２カラーフィルタと、
前記第１基板または前記第２基板上の前記第３色画素領域に位置する第３カラーフィルタと、
前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層とを含み、
前記第１色画素領域は、前記第１カラーフィルタが位置しない第１領域を含み、
前記第１色画素領域に対する前記第１領域の割合は、１／１０００以上、かつ１／２以下であることを特徴とする、液晶表示装置。 - 前記第１領域は、白色を表示することを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、前記第３カラーフィルタおよび前記第１領域上に位置するオーバーコートをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１領域に位置する透明部材をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１領域に前記第２カラーフィルタおよび前記第３カラーフィルタが位置することを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１領域において、前記第２カラーフィルタは、前記第３カラーフィルタの少なくとも一部を囲み、前記第１カラーフィルタは、前記第２カラーフィルタの少なくとも一部を囲むことを特徴とする、請求項５に記載の液晶表示装置。
- 前記第１、第２、および第３色画素領域にそれぞれ形成されている画素電極をさらに含み、
前記画素電極は、２つの平行四辺形が互いに対称をなして連結された形状からなり、
前記第１領域は、前記２つの平行四辺形のうちのいずれか１つの平行四辺形を構成する辺と平行になる辺を少なくとも１つ含む平行四辺形からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。 - 前記第１領域は、前記画素電極の右上側部と重なることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
- 前記第１領域は、前記画素電極の下側部と重なることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
- 前記第１領域は、前記２つの平行四辺形の辺と平行になる辺を含む２つの平行四辺形からなることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2014-0098507 | 2014-07-31 | ||
| KR1020140098507A KR102183919B1 (ko) | 2014-07-31 | 2014-07-31 | 액정 표시 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016035572A true JP2016035572A (ja) | 2016-03-17 |
Family
ID=53761252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015149941A Withdrawn JP2016035572A (ja) | 2014-07-31 | 2015-07-29 | 液晶表示装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9939674B2 (ja) |
| EP (1) | EP2980637A1 (ja) |
| JP (1) | JP2016035572A (ja) |
| KR (1) | KR102183919B1 (ja) |
| CN (1) | CN105319764A (ja) |
| TW (1) | TW201604620A (ja) |
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| US20180196306A1 (en) | 2018-07-12 |
| KR20160017188A (ko) | 2016-02-16 |
| US20160033813A1 (en) | 2016-02-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180727 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20180810 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20181102 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190507 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190806 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191126 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20200313 |