JP2016029638A - Conductive paste for laser machining - Google Patents

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加藤 俊一
Shunichi Kato
俊一 加藤
浩子 森
Hiroko Mori
浩子 森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste for laser machining which has a viscosity suitable for printing and can form a coating with a smooth surface, thereby facilitating formation of, e.g., fine signal wiring.SOLUTION: A conductive paste for laser machining comprises a binder resin, conductive particles, and a dispersant. The D10 average particle diameter of the conductive particles is 0.3 to 1 μm, and the D90 average particle diameter is 2-5 times the D10 average particle diameter. The viscosity measured using an E-type viscometer at a temperature of 25°C and a rotor rotation number of 5 rpm is 10 Pa s to 150 Pa s, and the thixotropic index is 1.2 to 2.4.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザーアブレーションで信号配線等を形成できる導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a conductive paste capable of forming signal wiring and the like by laser ablation.

電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段、または信号配線等の形成手段として、エッチング法が広く使用されている。エッチング法は、金属被膜の一部をエッチング液で除去することで所望の形状の信号配線を得る方法であるが、一般的に工程が煩雑、かつ別途、廃液処理が必要であるため、費用および環境への負荷がかかる問題があった。また、エッチング法によって形成された信号配線は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題があった。   Etching methods are widely used as means for forming electronic parts, electromagnetic wave shielding thin film forming means, or signal wiring. The etching method is a method of obtaining a signal wiring having a desired shape by removing a part of the metal film with an etching solution. However, since the process is generally complicated and a waste liquid treatment is separately required, the cost and There was a problem that caused an environmental load. Further, since the signal wiring formed by the etching method is formed of a metal material such as aluminum or copper, there is a problem that it is weak against physical impact such as bending.

そこで、上記問題を解決してより安価に信号配線を形成するために、導電性ペーストを使用した印刷法が注目されている。印刷法は、エッチング工程が不要であるため大掛かりな設備や廃液処理等が必要ないため低コストかつ容易に信号配線を形成できる。さらに配線板全体の小型化にも寄与できるため電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化が期待されている。   Therefore, in order to solve the above problems and form signal wiring at a lower cost, a printing method using a conductive paste has attracted attention. Since the printing method does not require an etching process, it does not require large-scale equipment, waste liquid treatment, or the like, so that signal wiring can be easily formed at low cost. Furthermore, since it can contribute to the miniaturization of the entire wiring board, it is expected to reduce the size and weight of electronic components, improve productivity, and reduce costs.

また、近年スマートフォン、タブレット型端末等の情報端末は、その大きさを維持したまま多機能化、およびディスプレイの高精細化が進んでおり、これら性能をさらに向上させるためには、電子部品をさらに高密度に実装する必要がある。電子部品の高密度実装には、電子部品自体の小型化と、信号配線の微細化が求められており、導電性ペーストによる印刷法の高精細化もそれに伴い求められている。
例えば、静電容量方式のタッチパネルでは、100μm以下の幅のライン/スペース(100μm以下/100μm以下)(以下、「L/S」と略記する)が普及しており、さらには、スマートフォン、およびタブレット型端末等の多機能化、ならびにディスプレイの高精細化により、L/Sが50μm/50μm以下が強く求められているが、印刷法では、更なる高精細化が難しかった。
In recent years, information terminals such as smartphones and tablet-type terminals have been increased in functionality while maintaining the size, and display resolution has been increased. In order to further improve these performances, electronic components are further added. It is necessary to mount with high density. For high-density mounting of electronic components, miniaturization of the electronic components themselves and miniaturization of signal wiring are required, and high-definition printing methods using conductive paste are also required accordingly.
For example, in capacitive touch panels, lines / spaces with a width of 100 μm or less (100 μm or less / 100 μm or less) (hereinafter abbreviated as “L / S”) are widely used. Furthermore, smartphones and tablets Although the L / S is strongly required to be 50 μm / 50 μm or less due to the multifunctional functions of the type terminal and the like and the high definition of the display, it is difficult to achieve further high definition by the printing method.

そこで導電性被膜にレーザー光を照射することで信号配線を形成するレーザー加工法(レーザーアブレーション法)の検討が行なわれている。レーザー加工法では、導電性ペーストを印刷し絶縁性基材上に導電性被膜を形成し、その一部をレーザー光により絶縁性基材上から除去することで信号配線を形成する。これにより印刷法では形成が困難なL/Sが50μm/50μm程度の高精細な信号配線を形成できるが、市場からは、さらにL/Sが30μm/30μm以下の超高精細の信号配線が強く求められていた。   Therefore, a laser processing method (laser ablation method) for forming a signal wiring by irradiating a conductive film with laser light has been studied. In the laser processing method, a conductive paste is printed to form a conductive film on an insulating substrate, and a part thereof is removed from the insulating substrate by laser light to form a signal wiring. This makes it possible to form high-definition signal wiring with an L / S of about 50 μm / 50 μm, which is difficult to form by the printing method. However, from the market, ultra-high-definition signal wiring with an L / S of 30 μm / 30 μm or less is stronger. It was sought after.

特許文献1には、レーザー照射でアブレーション加工(以下、レーザー加工という)を形成するための導電性ペーストとして、導電性微粒子、無機フィラー、および樹脂結着剤、ならびに界面活性剤、シランカップリング剤および有機金属化合物のいずれかを含む導電性ペーストが開示されている。
また、特許文献2には、数平均分子量が5,000〜60,000かつガラス転移温度が60〜100℃のバインダ樹脂、金属粉および有機溶剤を含む導電性ペーストが開示されている。
Patent Document 1 discloses conductive fine particles, inorganic fillers, resin binders, surfactants, and silane coupling agents as conductive pastes for forming ablation processing (hereinafter referred to as laser processing) by laser irradiation. And a conductive paste containing any of the organometallic compounds.
Patent Document 2 discloses a conductive paste containing a binder resin having a number average molecular weight of 5,000 to 60,000 and a glass transition temperature of 60 to 100 ° C., a metal powder, and an organic solvent.

特開2014−2992号公報JP 2014-29992 A WO2014/013899WO2014 / 013899

しかし、レーザー加工で微細な信号配線を形成するためには、導電性被膜の表面を平滑に形成する必要があるが、従来の導電性ペーストは、導電性微粒子中に粗大粒子が存在していた。また、従来の導電性ペーストは、表面平滑性が高い被膜を導電性被膜の形成に適した粘性ではなかった。そのため、得られた導電性被膜は、厚さにばらつきがあったためレーザー加工の際、同一の出力で除去できる被膜量にばらつきが生じたことで、精密なL/Sを有する微細な信号配線が形成し難い問題があった。   However, in order to form a fine signal wiring by laser processing, it is necessary to form the surface of the conductive film smoothly. However, in the conventional conductive paste, coarse particles are present in the conductive fine particles. . Further, the conventional conductive paste has a viscosity that is suitable for forming a conductive film with a film having high surface smoothness. For this reason, since the obtained conductive film has a variation in thickness, a variation in the amount of film that can be removed with the same output during laser processing has resulted in a fine signal wiring having a precise L / S. There was a problem that was difficult to form.

本発明は、印刷に適した粘性を有し、表面が平滑な被膜が形成できることで微細な信号配線等が形成し易いレーザー加工用導電性ペーストの提供を目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a conductive paste for laser processing that has a viscosity suitable for printing and that can form a smooth surface to easily form fine signal wirings.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、バインダ樹脂、導電性微粒子、およびリン酸系分散剤を含み、
前記導電性微粒子のD10平均粒子径が0.3〜1μm、かつD90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍であり、
E型粘度計を使用して温度25℃、ローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4である。
The conductive paste for laser processing of the present invention contains a binder resin, conductive fine particles, and a phosphoric acid dispersant,
The D10 average particle size of the conductive fine particles is 0.3 to 1 μm, and the D90 average particle size is 2 to 5 times the D10 average particle size,
Using an E-type viscometer, the viscosity measured at a temperature of 25 ° C. and a rotor rotation speed of 5 rpm is 10 Pa · s to 150 Pa · s, and the thixo index is 1.2 to 2.4.

上記の本発明によれば、導電性ペーストは、粒子径分布が比較的狭く、粗大粒子を抑制した導電性微粒子を使用し、かつチキソインデックス(TI値)を所定の範囲にした粘性を有することで、形成した導電性被膜の表面平滑性を向上できた。この導電性被膜は、表面平滑性が優れているためレーザー加工の際、レーザー光が乱反射し難く微細な信号配線が形成できる。   According to the present invention described above, the conductive paste has a viscosity with a relatively narrow particle size distribution, using conductive fine particles in which coarse particles are suppressed, and a thixo index (TI value) within a predetermined range. Thus, the surface smoothness of the formed conductive film could be improved. Since this conductive coating is excellent in surface smoothness, it is difficult for laser light to diffusely reflect during laser processing, and fine signal wiring can be formed.

本発明により、印刷に適した粘性を有し、表面が平滑な被膜が形成できることで微細な信号配線等が形成し易いレーザー加工用導電性ペーストを提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a conductive paste for laser processing in which fine signal wirings and the like can be easily formed by forming a coating film having a viscosity suitable for printing and a smooth surface.

レーザー加工性の評価で使用するスクリーン印刷版の平面図である。It is a top view of the screen printing plate used by laser workability evaluation. レーザー加工後の回路パターンの一部の拡大図である。It is a one part enlarged view of the circuit pattern after laser processing.

まず、本発明を説明する前に用語を定義する。信号配線は、配線回路、回路パターン等の電気信号を送信する配線、ならびにグランド配線等のアース接続用の配線を含む。導電性ペーストの粘度は、E型(コーンプレート型)粘度計、ローター#7(θ3°xR7.7mm)を使用し、温度25度、回転数5rpmで測定した数値である。またチキソインデックス(以下、TI値という)は、E型粘度計でローター#7を使用して温度25℃で回転数2rpmでの粘度を回転数20rpmでの粘度で除した数値である。また、各粘度は測定開始から2分後の数値である。   First, terms are defined before describing the present invention. The signal wiring includes wiring for transmitting an electrical signal such as a wiring circuit and a circuit pattern, and wiring for ground connection such as a ground wiring. The viscosity of the conductive paste is a numerical value measured using an E-type (cone plate type) viscometer and rotor # 7 (θ3 ° x R7.7 mm) at a temperature of 25 degrees and a rotational speed of 5 rpm. The thixo index (hereinafter referred to as TI value) is a numerical value obtained by dividing the viscosity at a rotation speed of 2 rpm at a temperature of 25 ° C. by using a rotor # 7 with an E-type viscometer by the viscosity at a rotation speed of 20 rpm. Each viscosity is a value 2 minutes after the start of measurement.

本発明のレーザー加工用導電性ペースト(以下、単に導電性ペーストということがある)は、バインダ樹脂、導電性微粒子、およびリン酸系分散剤を含み、
前記導電性微粒子のD10平均粒子径が0.3〜1μm、かつD90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍であり、
E型粘度計を使用して温度25℃、ローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4である。
The conductive paste for laser processing of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a conductive paste) includes a binder resin, conductive fine particles, and a phosphoric acid dispersant.
The D10 average particle size of the conductive fine particles is 0.3 to 1 μm, and the D90 average particle size is 2 to 5 times the D10 average particle size,
Using an E-type viscometer, the viscosity measured at a temperature of 25 ° C. and a rotor rotation speed of 5 rpm is 10 Pa · s to 150 Pa · s, and the thixo index is 1.2 to 2.4.

印刷法での信号配線の形成は、導電性ペーストをスクリーン印刷して形成するのが一般的であった。導電性ペーストをスクリーン印刷で高精細信号配線を印刷するためには、その粘性をチキソトロピック性に調整していた。そのため従来の導電性ペーストは、流動性が悪く、レーザー加工用の導電性被膜を印刷で形成すると、その表面には、スクリーン印刷版に由来する凹凸形状が残っていたため、膜厚のばらつきが大きかった。このような導電性被膜に例えばL/S=30μm/30μmを目的としてレーザー加工を行うと、被膜が厚い部分はレーザーアブレーションし難いため被膜が残りやすい。他方、被膜が薄い部分ではレーザーアブレーションが容易で被膜を除去しやすいため、結果としてスペース幅(S幅)にばらつきが生じ、直線性が低い信号配線が形成されていた。これに対して本発明の導電性ペーストは、粘性がニュートニアンに近いため、流動性が良好なので、形成した導電性被膜は表面の凹凸が少なく平滑性が良好である。この導電性被膜は、被膜の厚さのバラつきが少ないので、例えばL/S=30μm/30μmを目的としてレーザー加工すると、導電性被膜を均一に除去し易いので直線性が高い信号配線が形成できる。   In general, the signal wiring is formed by screen printing a conductive paste by a printing method. In order to print a high-definition signal wiring by screen printing of the conductive paste, the viscosity has been adjusted to thixotropic properties. For this reason, the conventional conductive paste has poor fluidity, and when the conductive film for laser processing is formed by printing, the unevenness derived from the screen printing plate remains on the surface, so the variation in film thickness is large. It was. When such a conductive film is subjected to laser processing for the purpose of, for example, L / S = 30 μm / 30 μm, it is difficult for laser ablation to occur in a thick part of the film, so that the film tends to remain. On the other hand, since the laser ablation is easy and the coating is easy to remove in the thin coating portion, the space width (S width) varies as a result, and the signal wiring with low linearity is formed. On the other hand, since the conductive paste of the present invention has good fluidity because the viscosity is close to Newtonian, the formed conductive film has few surface irregularities and good smoothness. Since this conductive film has little variation in the thickness of the film, for example, when laser processing is performed for the purpose of L / S = 30 μm / 30 μm, it is easy to uniformly remove the conductive film, so that signal wiring with high linearity can be formed. .

このレーザー加工用導電性ペーストは、スクリーン印刷等により導電性被膜を形成し、レーザー光照射により所望の信号配線を形成することが好ましい。   This conductive paste for laser processing preferably forms a conductive film by screen printing or the like and forms a desired signal wiring by laser light irradiation.

本発明においてバインダ樹脂は、数平均分子量10,000〜50,000が好ましく、20,000〜40,000がより好ましい。数平均分子量が10,000以上になることで形成する信号配線の環境信頼性が向上し、特に耐湿熱性がより向上する。また、数平均分子量が50,000以下になることで、導電性被膜に適度な凝集力を付与できるため、レーザー加工時のアブレーションが容易になり微細な信号配線が得易くなる。なお、数平均分子量は、GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)で測定したポリスチレン換算の数値である。また、信号配線の環境信頼性とは、導電性被膜の基材(例えばITOフィルム)に対する密着性が劣化し難いことであり、具体的には、それぞれ80℃、−40℃、および60℃90%の経時、ならびに85℃〜−40℃のサイクル試験である。   In the present invention, the binder resin preferably has a number average molecular weight of 10,000 to 50,000, more preferably 20,000 to 40,000. When the number average molecular weight is 10,000 or more, the environmental reliability of the signal wiring formed is improved, and in particular, the moisture and heat resistance is further improved. Further, when the number average molecular weight is 50,000 or less, an appropriate cohesive force can be imparted to the conductive film, so that ablation at the time of laser processing is facilitated and fine signal wiring is easily obtained. The number average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by GPC (gel permeation chromatography). The environmental reliability of the signal wiring is that the adhesiveness of the conductive coating to the base material (for example, ITO film) is not easily deteriorated, specifically, 80 ° C., −40 ° C., and 60 ° C. 90 °, respectively. % Time, as well as a cycle test from 85 ° C to -40 ° C.

また、バインダ樹脂は、ガラス転移温度(以下、Tgという)5〜100℃が好ましく、10〜95℃がより好ましい。Tgが5℃以上になると、信号配線と基材との60℃90%経時後の密着性(以下、耐湿熱性という)がより向上する。また、Tgが100℃以下になると信号配線と基材との密着性がより向上し、レーザー加工が容易になることで微細なL/Sが得易くなる。なお、Tgは、DSC(示差走査熱量分析計)測定装置「DSC−220C」(セイコーインスツルメンツ(株)社製)にて測定した数値である。   The binder resin preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of 5 to 100 ° C, more preferably 10 to 95 ° C. When Tg is 5 ° C. or higher, the adhesion between the signal wiring and the substrate after 90 ° C. and 90% aging (hereinafter referred to as “moisture and heat resistance”) is further improved. Further, when Tg is 100 ° C. or lower, the adhesion between the signal wiring and the base material is further improved, and laser processing is facilitated, so that a fine L / S can be easily obtained. Tg is a numerical value measured with a DSC (Differential Scanning Calorimeter) measuring device “DSC-220C” (manufactured by Seiko Instruments Inc.).

バインダ樹脂は、数平均分子量とTgを同時に満足すると信号配線の環境信頼性がより向上するとともに、レーザー加工性がより向上する。   When the binder resin satisfies the number average molecular weight and Tg at the same time, the environmental reliability of the signal wiring is further improved and the laser processability is further improved.

バインダ樹脂は、例えばポリエスエル樹脂、ウレタン変性ポリエステル樹脂、エポキシ変性ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン−(メタ)アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ケトン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ニトロセルロース、セルロース・アセテート・ブチレート(CAB)樹脂、セルロース・アセテート・プロピオネート(CAP)樹脂、ロジン、ロジンエステル、およびマレイン酸樹脂等が挙げられる。これらの中でもバインダ樹脂は、基材への密着性、例えばスクリーン印刷で使用される溶剤への溶解性、信号配線に必要な塗膜の機械強度の面より、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂から適宜選択することが好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The binder resin is, for example, polyester resin, urethane-modified polyester resin, epoxy-modified polyester resin, (meth) acrylic resin, styrene resin, styrene- (meth) acrylic resin, styrene-butadiene resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, acetal resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, alkyd resin, polyolefin resin, fluorine resin , Ketone resin, benzoguanamine resin, melamine resin, urea resin, silicone resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate (CAB) resin, cellulose acetate Propionate (CAP) resins, rosin, rosin esters, and maleic acid resins. Among these, the binder resin is polyester resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin in terms of adhesion to a substrate, for example, solubility in a solvent used in screen printing, and mechanical strength of a coating film necessary for signal wiring. , And an epoxy resin are preferably selected as appropriate.
Binder resins can be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル樹脂は、水酸基およびカルボキシル基の少なくともいずれか有することが好ましい。ポリエステル樹脂は、多塩基酸とポリオール等との反応、または多塩基酸エステルとポリオール等とのエステル交換反応等の公知に反応等の公知の合成法で合成できる。また、ポリエステル樹脂にカルボキシル基を付与する方法は、公知の手法が使用できるが、例えばポリエステル樹脂を重合後、180〜230℃でε−カプロラクトンなどの環状エステルを後付加(開環付加)してブロック化する方法、または無水トリメリット酸、無水フタル酸などの酸無水物を付加する方法等が挙げられる。また、ポリエスエル樹脂は飽和ポリエステルが好ましい。   The polyester resin preferably has at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group. The polyester resin can be synthesized by a known synthesis method such as a known reaction such as a reaction between a polybasic acid and a polyol or a transesterification reaction between a polybasic acid ester and a polyol. In addition, as a method for imparting a carboxyl group to a polyester resin, a known method can be used. For example, after polymerization of a polyester resin, a cyclic ester such as ε-caprolactone is post-added (ring-opening addition) at 180 to 230 ° C. Examples thereof include a method of blocking or a method of adding an acid anhydride such as trimellitic anhydride or phthalic anhydride. The polyester resin is preferably a saturated polyester.

多塩基酸は、例えば芳香族ジカルボン酸、直鎖脂肪族ジカルボン酸、環状脂肪族ジカルボン酸等、および3官能以上のカルボン酸等が好ましい。なお、多塩基酸は、酸無水物基含有化合物を含む。
芳香族ジカルボン酸は、例えばテレフタル酸、およびイソフタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、直鎖脂肪族ジカルボン酸は、例えばアジピン酸、セバシン酸、およびアゼライン酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、環状脂肪族ジカルボン酸は、例えば1,4−シクロヘキサンジカルボン、ジカルボンキシ水素添加ビスフェノールA、ダイマー酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、および3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、3官能以上のカルボン酸は、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられるがこれらに限定されない。その他のカルボン酸は、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩等のスルホン酸金属塩含有ジカルボン酸等も挙げられるがこれらに限定されない。
多塩基酸は、単独または2種類以上を併用できる。
The polybasic acid is preferably, for example, an aromatic dicarboxylic acid, a linear aliphatic dicarboxylic acid, a cyclic aliphatic dicarboxylic acid, or the like, or a trifunctional or higher functional carboxylic acid. The polybasic acid includes an acid anhydride group-containing compound.
Examples of the aromatic dicarboxylic acid include, but are not limited to, terephthalic acid and isophthalic acid. Examples of the linear aliphatic dicarboxylic acid include, but are not limited to, adipic acid, sebacic acid, and azelaic acid. Examples of the cycloaliphatic dicarboxylic acid include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicarbonoxy hydrogenated bisphenol A, dimer acid, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and 3-methylhexahydrophthalic anhydride. It is not limited to these. Examples of the tri- or higher functional carboxylic acid include, but are not limited to, trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride. Other carboxylic acids include, but are not limited to, unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, sulfonic acid metal salt-containing dicarboxylic acids such as sodium 5-sulfoisophthalate, and the like.
Polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.

ポリオールは、ジオール、および3個以上の水酸基を有する化合物が好ましい。
ジオールは、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、およびネオペンチルグリコール等が挙げられるがこれらに限定されない。
3個以上の水酸基を有する化合物は、トルメチロールプロパン、グリセリン、およびペンタエリスリトール等が挙げられるがこれらに限定されない。
ポリオールは、単独または2種類以上を併用できる。
The polyol is preferably a diol and a compound having 3 or more hydroxyl groups.
Examples of the diol include, but are not limited to, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, and neopentyl glycol.
Examples of the compound having three or more hydroxyl groups include, but are not limited to, tolmethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol.
Polyols can be used alone or in combination of two or more.

ポリウレタン樹脂は、ポリオールとジイソシアネートと鎖延長剤のジオール化合物とを反応させた、末端に水酸基を有する化合物である。ポリウレタン樹脂は、鎖延長剤を使用して分子鎖を延ばすことができる。鎖延長剤は、一般的にはジオール等が好ましい。ポリウレタン樹脂は、公知の合成法で合成できる。   The polyurethane resin is a compound having a hydroxyl group at the terminal, obtained by reacting a polyol, diisocyanate, and a chain extender diol compound. A polyurethane resin can extend a molecular chain using a chain extender. The chain extender is generally preferably a diol. The polyurethane resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂の合成に使用するポリオールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、およびポリブタジエングリコール等が好ましい。ポリオールは単独または2種類以上併用できる。
ポリエーテルポリオールは、酸化エチレン、酸化プロピレン、およびテトラヒドロフラン等の重合体、ならびにこれらの共重合体である。
ポリエステルポリオールは、前記ポリエステル樹脂で説明したポリオールと多塩基酸のエステルである。
ポリカーボネートポリオールは、1)ジオールまたはビスフェノールと、炭酸エステルとを反応させた化合物、および2)ジオールまたはビスフェノールを、アルカリの存在下でホスゲンと反応させた化合物等が好ましい。
炭酸エステルは、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、およびプロピレンカーボネート等が挙げられるがこれらに限定されない。
Polyols used for the synthesis of the polyurethane resin are preferably polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, and polybutadiene glycols. Polyols can be used alone or in combination of two or more.
The polyether polyol is a polymer such as ethylene oxide, propylene oxide, and tetrahydrofuran, and a copolymer thereof.
The polyester polyol is an ester of a polyol and a polybasic acid described in the polyester resin.
The polycarbonate polyol is preferably 1) a compound obtained by reacting a diol or bisphenol with a carbonic ester, and 2) a compound obtained by reacting a diol or bisphenol with phosgene in the presence of an alkali.
Examples of the carbonate ester include, but are not limited to, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

ジイソシアネートは、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族イソシアネート等が好ましい。ジイソシアネートは単独または2種類以上を併用できる。   The diisocyanate is preferably an aromatic diisocyanate, an aliphatic diisocyanate, an alicyclic isocyanate, or the like. Diisocyanate can be used alone or in combination of two or more.

ポリウレタンウレア樹脂は、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを合成し、さらにポリアミンと反応させた化合物である。また、ポリウレタンウレア樹脂は、分子量を調整するため必要に応じて反応停止剤を反応させることができる。ポリオールおよびジイソシアネートは、前記ポリウレタン樹脂で説明した化合物を使用することが好ましい。ポリアミンはジアミンが好ましい。
反応停止剤は、ジアルキルアミン、モノアルコール等が好ましい。ポリウレタンウレア樹脂は、公知の合成法で合成できる。
The polyurethane urea resin is a compound obtained by reacting a polyol and diisocyanate to synthesize a urethane prepolymer having an isocyanate group at a terminal and further reacting with a polyamine. In addition, the polyurethane urea resin can be reacted with a reaction terminator as necessary to adjust the molecular weight. As the polyol and diisocyanate, it is preferable to use the compounds described for the polyurethane resin. The polyamine is preferably a diamine.
The reaction terminator is preferably a dialkylamine, monoalcohol or the like. The polyurethane urea resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂およびポリウレタンウレア樹脂は、水酸基に加えて、カルボキシル基を有することが好ましい。具体的には、合成の際、ジオールの一部をカルボキシル基を有するジオールに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記ジオールは、ジメチロールプロピオン酸、およびジメチロールブタン酸等が好ましい。   The polyurethane resin and the polyurethane urea resin preferably have a carboxyl group in addition to the hydroxyl group. Specifically, a method of synthesizing by synthesizing a part of the diol with a diol having a carboxyl group at the time of synthesis can be mentioned. The diol is preferably dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, or the like.

導電性ペーストがポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を含む場合、形成する導電性被膜の硬さがより向上する。   When the conductive paste contains a polyurethane resin or a polyurethane urea resin, the hardness of the conductive film to be formed is further improved.

ポリウレタン樹脂やポリウレタンウレア樹脂を合成する際、溶剤を使用できる。
溶剤は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、およびカーボネート系溶剤等が好ましい。
エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル等が挙げられるがこれらに限定されない。
ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサンノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
グリコールエーテル系溶剤は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピル、およびエチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエーテル、ならびにこれらの酢酸エステル;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテル等、ならびにこれらの酢酸エステル;等が挙げられるがこれらに限定されない。
脂肪族系溶剤は、例えばn−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられるがこれらに限定されない。
芳香族系溶剤は、例えばトルエン、キシレン等が挙げられるがこれらに限定されない。
カーボネート系溶剤は、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上併用できる。
A solvent can be used when synthesizing a polyurethane resin or a polyurethane urea resin.
The solvent is preferably an ester solvent, a ketone solvent, a glycol ether solvent, an aliphatic solvent, an aromatic solvent, a carbonate solvent, or the like.
Examples of the ester solvent include, but are not limited to, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, and ethyl lactate.
Examples of the ketone solvent include, but are not limited to, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, and cyclohexanenone.
Examples of the glycol ether solvent include monoethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl, and ethylene glycol monobutyl ether, and acetates thereof; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and the like, and acetic acid esters thereof are exemplified, but not limited thereto.
Examples of the aliphatic solvent include, but are not limited to, n-heptane, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, and the like.
Examples of the aromatic solvent include, but are not limited to, toluene and xylene.
Examples of the carbonate solvent include, but are not limited to, dimethyl carbonate and diethyl carbonate.
The solvent can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂は、エポキシ基および水酸基を有する化合物であり、公知の化合物を使用できる。エポキシ樹脂は、ビスフェノールAおよびビスフェノールFに代表される芳香族ジオールとエピクロルヒドリンとを反応させて得たポリグリシジルエーテルが好ましい。エポキシ樹脂は、高分子エポキシ樹脂である、いわゆるフェノキシ樹脂を使用することも好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The epoxy resin is a compound having an epoxy group and a hydroxyl group, and a known compound can be used. The epoxy resin is preferably a polyglycidyl ether obtained by reacting an aromatic diol represented by bisphenol A and bisphenol F with epichlorohydrin. As the epoxy resin, it is also preferable to use a so-called phenoxy resin which is a polymer epoxy resin.
Binder resins can be used alone or in combination of two or more.

バインダ樹脂は、バインダ樹脂および導電性微粒子の合計100重量%のうち5〜40重量%を配合することが好ましく、5〜15重量%がより好ましい。5重量%以上になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、被膜の機械強度も向上する。また、40重量%以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。   The binder resin is preferably blended in an amount of 5 to 40% by weight, more preferably 5 to 15% by weight, out of a total of 100% by weight of the binder resin and conductive fine particles. By being 5% by weight or more, the conductive film is further improved in adhesion to the substrate, and the mechanical strength of the film is also improved. Moreover, the electroconductivity of a conductive film improves more by becoming 40 weight% or less.

本発明において導電性微粒子は、粒径が小さくシャープな粒子径分布を有し、粗大粒子が少ないため、例えばスクリーン印刷を行った場合、被膜表面の凹凸を抑制できるのでレーザー加工の際にレーザー光が導電性被膜表面で散乱しにくく、微細な信号配線が形成し易い。また導電性被膜の厚さがバラつき難いためレーザー加工で良好な加工精度が得易く、直線性の高い信号配線を形成できる。また導電性微粒子は、粒子径分布がシャープなので導電性ペーストのTI値をニュートニアンに近づけ易い。   In the present invention, the conductive fine particles have a small particle size, a sharp particle size distribution, and few coarse particles. For example, when screen printing is performed, unevenness on the surface of the coating can be suppressed. However, it is difficult to scatter on the surface of the conductive coating, and fine signal wiring is easy to form. In addition, since the thickness of the conductive coating does not vary easily, it is easy to obtain good processing accuracy by laser processing, and a highly linear signal wiring can be formed. In addition, since the conductive fine particles have a sharp particle size distribution, the TI value of the conductive paste is easily brought close to Newtonian.

上記特性を得るため導電性微粒子は、D10平均粒子径が0.3〜1μm、かつD90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍である。D10平均粒子径は、0.3〜0.8μmがより好ましい。またD90平均粒子径はD10平均粒子径の2〜4倍がより好ましい。前記導電性微粒子がこれらの数値範囲を満たすことで、レーザー加工性がより向上する。なおD10平均粒子径およびD90平均粒子径は、レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」(島津製作所社製)を用いて体積粒度分布の累積粒度(D10およびD90)を測定した数値である。   In order to obtain the above characteristics, the conductive fine particles have a D10 average particle size of 0.3 to 1 μm and a D90 average particle size of 2 to 5 times the D10 average particle size. As for D10 average particle diameter, 0.3-0.8 micrometer is more preferable. The D90 average particle size is more preferably 2 to 4 times the D10 average particle size. When the conductive fine particles satisfy these numerical ranges, the laser processability is further improved. The D10 average particle size and the D90 average particle size are numerical values obtained by measuring the cumulative particle size (D10 and D90) of the volume particle size distribution using a laser diffraction particle size distribution measuring device “SALAD-3000” (manufactured by Shimadzu Corporation).

導電性微粒子は、例えば金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モリブテン、および白金等の金属粉、ならびにこれらの合金、ならびにこれらの複合粉が挙げられる。
また、核体と、前記核体表面を前記核体物質とは異なる物質で被覆した複合微粒子、例えば、銅を核体とし、その表面を銀で被覆した、いわゆる銀コート銅粉等が挙げられる
また、導電性微粒子は、例えば酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、ITO(スズドープ酸化インジウム)、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、およびGZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)等の金属酸化物の粉末、ならびにこれらの金属酸化物で表面被覆した粉末等も挙げられる。
これらの中でもコストが低く、導電性が高く、酸化し難いため電気抵抗率の変化が少ない銀が好ましい。導電性微粒子は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive fine particles include, for example, metal powders such as gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, silicon, aluminum, tungsten, molybdenum, platinum, alloys thereof, and composite powders thereof. Can be mentioned.
In addition, there are nuclei and composite fine particles in which the nuclei surface is coated with a substance different from the nuclei substance, for example, so-called silver-coated copper powder in which copper is used as a nuclei and the surface is coated with silver. In addition, the conductive fine particles may be metal oxides such as silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, ITO (tin-doped indium oxide), AZO (aluminum-doped zinc oxide), and GZO (gallium-doped zinc oxide). And powders that are surface-coated with these metal oxides.
Among these, silver is preferable because it is low in cost, high in conductivity, and hardly oxidizes, so that the change in electrical resistivity is small. The conductive fine particles can be used alone or in combination of two or more.

導電性微粒子の形状は、球状、フレーク状、樹枝状、棒状、および線状等の公知の形状が使用できる。   As the shape of the conductive fine particles, known shapes such as a spherical shape, a flake shape, a dendritic shape, a rod shape, and a linear shape can be used.

導電性微粒子は、バインダ樹脂および導電性微粒子の合計100重量%のうち60〜95重量%を配合することが好ましく、85〜95重量%がより好ましい。60重量%以上になることで導電性がより向上する。また、95重量%以下になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。   The conductive fine particles are preferably blended in an amount of 60 to 95% by weight, more preferably 85 to 95% by weight, out of a total of 100% by weight of the binder resin and the conductive fine particles. Conductivity improves more by becoming 60 weight% or more. In addition, when the content is 95% by weight or less, the conductive film has more improved adhesion to the base material, and mechanical strength is also improved.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、さらにレーザー加工性を向上させるために、レーザー光増感剤を含むことができる。レーザー光増感剤は、レーザー光の波長に吸収を有する染料、顔料、およびフィラー等が好ましく、顔料の炭素粉末がより好ましい。炭素粉末は、例えばカーボンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラック、ケチェンブラック、カーボンナノチューブ、およびグラファイト等が挙げられる。レーザー光増感剤は、バインダ樹脂および導電性微粒子を合計した100重量部に対して0.1〜10重量部を配合することが好ましい。   The conductive paste for laser processing of the present invention can contain a laser photosensitizer in order to further improve laser processing properties. The laser photosensitizer is preferably a dye, pigment, filler or the like having absorption at the wavelength of the laser beam, and more preferably carbon powder of the pigment. Examples of the carbon powder include carbon black, furnace black, channel black, lamp black, acetylene black, ketjen black, carbon nanotube, and graphite. The laser photosensitizer is preferably blended in an amount of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the binder resin and the conductive fine particles.

本発明において分散剤は、分散し難い導電性微粒子を導電性ペーストに分散するために使用する。また、導電性ペーストがリン酸系分散剤を含むとバインダ樹脂と導電性微粒子が混和しやすく分散性が向上するためTI値が低くなり、粘性をニュートニアンに近づけ易い。本発明の導電性ペーストは、粘度が低くニュートニアンに近い粘性を有しているため流動性が良好である。そのため、例えばスクリーン印刷で塗工し形成した被膜は、表面が平滑で膜厚がバラつき難いので、レーザー加工での加工性が良好であり、直線性が良好な信号配線が形成できる。   In the present invention, the dispersant is used to disperse the conductive fine particles that are difficult to disperse in the conductive paste. In addition, when the conductive paste contains a phosphoric acid dispersant, the binder resin and the conductive fine particles are easily mixed and the dispersibility is improved, so that the TI value is lowered and the viscosity is likely to approach Newtonian. Since the conductive paste of the present invention has a low viscosity and a viscosity close to Newtonian, it has good fluidity. For this reason, for example, a coating formed by screen printing has a smooth surface and is unlikely to vary in film thickness. Therefore, the processability in laser processing is good, and a signal wiring with good linearity can be formed.

また、本発明の導電性ペーストはリン酸系分散剤を含むことで分散性が向上したことで貯蔵安定性も向上した。一方、リン酸系分散剤を含まない導電性ペーストは、作成直後はTI値が低く流動性が良好であるが、導電性ペーストを25℃で貯蔵すると時間の経過により粘度やTI値が変化して流動性が低下する場合がある。しかし、本発明の導電性ペーストは、バインダ樹脂と導電性微粒子との親和性をより高める作用があるため時間が経過しても粘度やTI値の変化が少なく、導電性ペーストの貯蔵安定性が優れている。   Moreover, the electroconductive paste of this invention also improved the storage stability because the dispersibility improved by including a phosphoric acid type dispersing agent. On the other hand, the conductive paste containing no phosphoric acid dispersant has a low TI value and good fluidity immediately after preparation, but when the conductive paste is stored at 25 ° C., the viscosity and TI value change over time. Fluidity may decrease. However, the conductive paste of the present invention has the effect of increasing the affinity between the binder resin and the conductive fine particles, so that the change in viscosity and TI value is small over time, and the storage stability of the conductive paste is improved. Are better.

リン酸系分散剤は、リン酸基、リン酸エステル、リン酸塩を有する分散剤が好ましい。リン酸系分散剤の基本骨格は、ポリリン酸、ならびにポリエステルユニット、ポリエーテルユニット、ポリエステルエーテルユニット、およびポリウレタンユニット等で構成されたリン酸エステル等が好ましい。   The phosphate dispersant is preferably a dispersant having a phosphate group, a phosphate ester, and a phosphate. The basic skeleton of the phosphoric acid dispersant is preferably polyphosphoric acid, and a phosphoric acid ester composed of a polyester unit, a polyether unit, a polyester ether unit, a polyurethane unit, and the like.

リン酸系分散剤は、酸価10〜250mgKOH/gが好ましく、50〜200mgKOH/gがより好ましい。   The phosphoric acid dispersant preferably has an acid value of 10 to 250 mgKOH / g, and more preferably 50 to 200 mgKOH / g.

リン酸系分散剤が有するリン酸基およびリン酸基由来のユニットは、分散剤の分子中にランダムに存在していても良いが、ブロック構造またはグラフト構造の分子構造をとることにより、前記ユニットが分子の末端部分に存在することが好ましい。前記ユニットが分子末端部分に存在することで導電性微粒子への親和性が高くなり、分散性が向上する。そのため本発明のレーザー加工用導電性ペーストは印刷に適した粘性を有し、表面が平滑な被膜が形成できる。   The phosphoric acid group and the unit derived from the phosphoric acid group possessed by the phosphoric acid-based dispersant may be present randomly in the molecule of the dispersing agent, but by taking the molecular structure of a block structure or a graft structure, the unit Is preferably present at the terminal portion of the molecule. The presence of the unit at the molecular terminal portion increases the affinity for the conductive fine particles and improves dispersibility. Therefore, the conductive paste for laser processing of the present invention has a viscosity suitable for printing and can form a coating film having a smooth surface.

リン酸系分散剤は、リン酸基とアミン化合物によってアミン塩を形成した分散剤がより好ましい。アミン塩はリン酸基の一部または全部を変性することができる。リン酸系分散剤がアミン塩を有することでバインダ樹脂との相溶性が向上する。また、同時にリン酸系分散剤の酸性度が低下するため、バインダ樹脂、導電性微粒子およびリン酸系分散剤が混和しやすく分散性がより向上する。アミン塩を形成する化合物としては、低分子アミン、ポリマーアミンが好ましい。
低分子アミンは、例えばエタノールアミン、ジエタノールアミン、2−(2−アミノエトキシ)エタノール、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、オレイルアミン等が挙げられる。
ポリマーアミンは、例えばポリアミン、アミン系(メタ)アクリレートコポリマー、ポリアリルアミン等が挙げられる。
リン酸系分散剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The phosphate dispersant is more preferably a dispersant in which an amine salt is formed by a phosphate group and an amine compound. Amine salts can modify some or all of the phosphate groups. When the phosphoric acid dispersant has an amine salt, compatibility with the binder resin is improved. At the same time, since the acidity of the phosphoric acid dispersant is lowered, the binder resin, the conductive fine particles and the phosphoric acid dispersant are easily mixed, and the dispersibility is further improved. The compound that forms an amine salt is preferably a low molecular amine or a polymer amine.
Examples of low molecular amines include ethanolamine, diethanolamine, 2- (2-aminoethoxy) ethanol, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, and oleylamine. Etc.
Examples of the polymer amine include polyamines, amine-based (meth) acrylate copolymers, and polyallylamine.
Phosphoric acid dispersants can be used alone or in combination of two or more.

リン酸系分散剤は、市販品を挙げると、例えば、Disperbyk(登録商標)−110、同−111、同−180(いずれもビックケミー・ジャパン(株)社製)、TEGO(登録商標)Dispers651,同Dispers655(いずれもエボニック・ジャパン(株)社製)、プライサーフ(登録商標)A212C、同A215C、同A208F、同A208N、同A208B、同A219B、同A210D、同DB−01、同AL、同AL12H、同DBS、同DOM(いずれも第一工業製薬(株)社製)、DISPARLON(登録商標)−DA325、同−375(いずれも楠本化成(株)社製)等の公知の分散剤が挙げられる。   Examples of commercially available phosphoric acid dispersants include Disperbyk (registered trademark) -110, -111, and -180 (all manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), TEGO (registered trademark) Dispers 651, and the like. Dispers655 (all manufactured by Evonik Japan Co., Ltd.), Prisurf (registered trademark) A212C, A215C, A208F, A208N, A208B, A219B, A210D, DB-01, AL, Known dispersing agents such as AL12H, DBS, DOM (all manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), DISPARLON (registered trademark) -DA325, and -375 (all manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.) Can be mentioned.

リン酸系散剤は、バインダ樹脂および導電性微粒子を合計した100重量部に対して0.1〜20重量部を配合することが好ましく、0.1〜15重量%がより好ましい。分散剤が0.1重量部以上になることで導電性微粒子の分散性がより向上する。また、分散剤が20重量以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。   The phosphoric acid-based powder is preferably blended in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, based on 100 parts by weight of the total of the binder resin and the conductive fine particles. The dispersibility of electroconductive fine particles improves more because a dispersing agent will be 0.1 weight part or more. Moreover, the electroconductivity of a conductive film improves more because a dispersing agent will be 20 weight or less.

また、本発明の導電性ペーストは、課題を解決できる範囲あれば樹脂型分散剤、界面活性剤等の分散剤を併用できる。   Further, the conductive paste of the present invention can be used in combination with a dispersant such as a resin-type dispersant and a surfactant as long as the problem can be solved.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、さらに溶剤を配合できる。溶剤を配合することで導電性微粒子の分散が容易になり、印刷に適した粘度に調整がし易くなる。
溶剤は、使用する樹脂の溶解性や印刷方法等の種類に応じて、選択することができる。 溶剤は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、 脂環族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、および水等が好ましい。
エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、および炭酸ジメチル等が挙げられるがこれらに限定されない。
環状エステル系溶剤は、例えばε−カプロラクトン、およびγ―ブチロラクトン等が挙げられるがこれらに限定されない。
ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、およびシクロヘキサノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
グリコールエーテル系溶剤は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピル、およびエチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエーテル、ならびにこれらの酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテル等、ならびにこれらの酢酸エステル等が挙げられるがこれらに限定されない。
脂肪族系溶剤は、例えばn−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられるがこれらに限定されない。
芳香族系溶剤は、例えばトルエン、キシレン、テトラリン等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive paste for laser processing of the present invention can further contain a solvent. By blending the solvent, the dispersion of the conductive fine particles is facilitated, and the viscosity suitable for printing can be easily adjusted.
The solvent can be selected depending on the solubility of the resin used, the type of printing method, and the like. The solvent is preferably an ester solvent, a ketone solvent, a glycol ether solvent, an aliphatic solvent, an alicyclic solvent, an aromatic solvent, an alcohol solvent, water, or the like.
Examples of the ester solvent include, but are not limited to, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and dimethyl carbonate.
Examples of the cyclic ester solvent include, but are not limited to, ε-caprolactone and γ-butyrolactone.
Examples of the ketone solvent include, but are not limited to, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, and cyclohexanone.
Examples of glycol ether solvents include monoethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl, and ethylene glycol monobutyl ether, and their acetates, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Examples thereof include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and acetates thereof, but are not limited thereto.
Examples of the aliphatic solvent include, but are not limited to, n-heptane, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, and the like.
Examples of the aromatic solvent include, but are not limited to, toluene, xylene, tetralin and the like.
The solvent can be used alone or in combination of two or more.

溶剤は、導電性ペーストの不揮発分および溶剤の合計100重量%のうち5〜50重量%程度である。   The solvent is about 5 to 50% by weight out of the total 100% by weight of the nonvolatile content of the conductive paste and the solvent.

本発明の導電性ペーストは、さらに硬化剤を含むことができる。硬化剤は、バインダ樹脂が有する反応性官能基(例えば水酸基やカルボキシル基等)と反応可能な官能基を複数有し、硬化した導電性被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、または密着性等を向上させることができる。硬化剤は、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アミン化合物、および酸無水物基含有化合物等が好ましい。
具体的には、バインダ樹脂が水酸基を有する場合、イソシアネート化合物等が好ましい。また、バインダ樹脂がカルボキシル基を有する場合、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、およびカルボジイミド化合物等が好ましい。さらに、バインダ樹脂がエポキシ基を有する場合、アミン化合物、酸無水物基含有化合物等が好ましい。
The conductive paste of the present invention can further contain a curing agent. The curing agent has a plurality of functional groups capable of reacting with the reactive functional group (for example, hydroxyl group or carboxyl group) of the binder resin, and heat resistance, solvent resistance, chemical resistance, or adhesion of the cured conductive film. Etc. can be improved. The curing agent is preferably an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, an oxazoline compound, a carbodiimide compound, an amine compound, an acid anhydride group-containing compound, or the like.
Specifically, when the binder resin has a hydroxyl group, an isocyanate compound or the like is preferable. Moreover, when a binder resin has a carboxyl group, an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, an oxazoline compound, a carbodiimide compound, etc. are preferable. Furthermore, when a binder resin has an epoxy group, an amine compound, an acid anhydride group-containing compound, and the like are preferable.

イソシアネート化合物は、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、および脂環族ポリイソシアネート等が好ましい。
芳香族ポリイソシアネートは、例えばトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、および4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
脂肪族ポリイシシアネートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのオリゴマー、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、およびトリレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートからなるコポリマーのイソシアヌレート体等が挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートは、例えばイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
また、これらの化合物をブロックしたブロック化イソシアネートも好ましい。ブロック剤は、例えば、ε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、フェノール、および活性メチレン化合物等が好ましい。
The isocyanate compound is preferably an aromatic polyisocyanate, an aliphatic polyisocyanate, an alicyclic polyisocyanate, or the like.
Examples of the aromatic polyisocyanate include a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, an isocyanurate of tolylene diisocyanate, and an oligomer of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate.
Aliphatic polyisocyanates include, for example, hexamethylene diisocyanate biuret, hexamethylene diisocyanate isocyanurate, hexamethylene diisocyanate trimethylolpropane adduct, hexamethylene diisocyanate oligomer, hexamethylene diisocyanate uretdione, and tolylene diisocyanate. Examples thereof include isocyanurate bodies of copolymers made of hexamethylene diisocyanate.
Examples of the alicyclic polyisocyanate include an isocyanurate of isophorone diisocyanate, an oligomer of isophorone diisocyanate, and the like.
Moreover, the blocked isocyanate which blocked these compounds is also preferable. As the blocking agent, for example, ε-caprolactam, butanone oxime, phenol, and an active methylene compound are preferable.

エポキシ化合物は、エポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状は、液体と固体がある。エポキシ化合物は、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、および環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が好ましい。   The epoxy compound is a compound having an epoxy group. The properties of the epoxy compound include liquid and solid. The epoxy compound is preferably an epoxy resin such as a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, and a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のクレゾール構造とクレゾール構造の間にビフェニル構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:NC−3000等)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のクレゾール構造とクレゾール構造の間にジシクロペンタジエン骨格構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:XD−1000等)、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。   Examples of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and cresol novolak type epoxy resins. Epoxy resin having biphenyl structure between cresol structure and cresol structure (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: NC-3000, etc.), epoxy resin having dicyclopentadiene skeleton structure between cresol structure and cresol structure of cresol novolac type epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd .: XD-1000, etc.), α-naphthol novolak type epoxy resin, bisphenol A type novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, bif Sulfonyl type epoxy resins, tris (glycidyloxy) methane, and tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane and the like.

グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、およびテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the glycidylamine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmetaaminophenol, and tetraglycidylmetaxylylenediamine.

グリシジルエステル型エポキシ樹脂は、例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジル
ヘキサヒドロフタレート、およびジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。
Examples of the glycidyl ester type epoxy resin include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂は、例えばエポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。   Examples of the cycloaliphatic (alicyclic) epoxy resin include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (epoxycyclohexyl) adipate.

アジリジン化合物は、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N−ヘキサメチレン−1,6−ビス−1−アジリジンカルボキシアミド、4,4−ビス(エチレンイミノカルボキルアミノ)ジフェニルメタン等が挙げられる。   Examples of the aziridine compound include trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinylpropionate, N, N-hexamethylene-1,6-bis-1 -Aziridinecarboxamide, 4, 4-bis (ethyleneimino carboxyamino) diphenylmethane etc. are mentioned.

オキサゾリン化合物は、例えば2,2’−(1,3−フェニレン)−ビス(2−オキサゾリン)等が挙げられる。   Examples of the oxazoline compound include 2,2 '-(1,3-phenylene) -bis (2-oxazoline).

カルボジイミド化合物は、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、およびカルボジライト(日清紡社製、ポリカルボジイミド系樹脂)等が挙げられる。   Examples of the carbodiimide compound include dicyclohexyl carbodiimide, carbodilite (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., polycarbodiimide resin), and the like.

アミン化合物は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等が挙げられる。   Examples of the amine compound include diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepentamine.

酸無水物基含有化合物は、例えばテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる。
硬化剤は、単独または2種類以上を併用できる。
Examples of the acid anhydride group-containing compound include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.
A hardening | curing agent can be used individually or in combination of 2 or more types.

硬化剤は、バインダ樹脂100重量部に対して、0.5〜20重量部を配合することが好ましい。硬化剤を前記範囲内で使用すると導電性被膜の密着性、および耐熱性がより向上する。   It is preferable to mix 0.5-20 weight part of hardening | curing agents with respect to 100 weight part of binder resin. When the curing agent is used within the above range, the adhesion and heat resistance of the conductive film are further improved.

本発明の導電性ペーストは、硬化反応を促進するために硬化促進剤等の添加剤を配合できる。硬化促進剤は、ジシアンジアミド、3級アミン化合物、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸ヒドラジド、脂肪族または芳香族ジメチルウレア等のジアルキルウレア、酸無水物等が使用できる。なお、添加剤は、エポキシ樹脂の硬化促進に効果的である。   The conductive paste of the present invention can contain additives such as a curing accelerator in order to accelerate the curing reaction. As the curing accelerator, dicyandiamide, tertiary amine compound, phosphine compound, imidazole compound, carboxylic acid hydrazide, dialkylurea such as aliphatic or aromatic dimethylurea, acid anhydride and the like can be used. The additive is effective for promoting the curing of the epoxy resin.

3級アミン化合物は、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセンー7、および1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5等が挙げられる。
ホスフィン化合物は、例えばトリフェニルホスフィン、およびトリブチルホスフィン等が挙げられる。
イミダゾール化合物は、例えば2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、および2−フェニルイミダゾール等、ならびにこれらとエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化した化合物、ならびにこれらをマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
Examples of the tertiary amine compound include triethylamine, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5, and the like.
Examples of the phosphine compound include triphenylphosphine and tributylphosphine.
Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, and the like, and these and an epoxy resin. And a latent curing accelerator having improved storage stability, such as a compound insolubilized in a solvent and a type in which these are encapsulated in microcapsules.

カルボン酸ヒドラジドは、例えばコハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等を挙げることができる。酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる
添加剤は、単独または2種類以上を併用できる。
Examples of the carboxylic acid hydrazide include succinic acid hydrazide and adipic acid hydrazide. Examples of the acid anhydride include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride. The additives may be used alone or in combination of two or more.

添加剤は、バインダ樹脂100重量部に対して0.1〜30重量部を配合することが好ましい。   The additive is preferably blended in an amount of 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.

本発明の導電性ペーストは、必要に応じて耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、可塑剤、難燃剤、および保湿剤等を含むことができる。   The conductive paste of the present invention includes a friction improver, an infrared absorber, an ultraviolet absorber, a fragrance, an antioxidant, an organic pigment, an inorganic pigment, an antifoaming agent, a plasticizer, a flame retardant, and a moisturizing agent as necessary. Agents and the like.

本発明の導電性ペーストの製造は、上段で説明した原料を所定の割合で配合して攪拌機で混合することで作成できる。攪拌機は、プラネタリーミキサー、およびデスパー等の公知の装置を使用できる。また、攪拌機に加えて、分散を行うことで導電性微粒子をより微細に分散できる。分散機は、ボールミル、ビーズミル、および3本ロール等が挙げられる。   The conductive paste of the present invention can be produced by blending the raw materials described above in a predetermined ratio and mixing with a stirrer. As the stirrer, a known apparatus such as a planetary mixer and a desper can be used. In addition to the stirrer, the conductive fine particles can be dispersed more finely by dispersing. Examples of the disperser include a ball mill, a bead mill, and a three roll.

本発明の導電性ペーストは、ニュートニアンに近い粘性を有している。具体的には、E型粘度計で、温度25℃でローター#7(θ3°xR7.7mm)を使用しローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつTI値が1.2〜2.4である。なお、TI値は1.2〜2がより好ましい。   The conductive paste of the present invention has a viscosity close to Newtonian. Specifically, the viscosity is 10 Pa · s to 150 Pa · s measured with a rotor # 7 (θ3 ° x R 7.7 mm) at a temperature of 25 ° C. and a rotor rotational speed of 5 rpm, and a TI value is 1. 2 to 2.4. The TI value is more preferably 1.2-2.

本発明の導電性シートは、基材と、レーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性被膜とを備えている。導電性シートの製造方法の1例を挙げると、例えば、導電性ペーストを基材上に印刷することで導電性被膜を形成できる。得られた導電性被膜は、表面が平滑であるためレーザー加工性が良好である。導電性被膜の表面平滑性は、表面粗さRa0.3μm以下が好ましく、0.25μm以下がより好ましい。また、Raの下限値は、0μmが好ましいが、実際には技術的に難しいため現状0.1μm程度である。Raが0.3μm以下になると表面の凸凹が少ないのでレーザー光が乱反射にし難く直進性が高い回路パターンを形成し易くなる。なおRaは、算術平均高さであり接触式表面形状粗さ測定機Talysurf60(アメテック社製)等で測定できる。   The electroconductive sheet of this invention is equipped with the base material and the electroconductive film formed from the electroconductive paste for laser processing. If an example of the manufacturing method of an electroconductive sheet is given, an electroconductive film can be formed by printing an electroconductive paste on a base material, for example. Since the obtained conductive film has a smooth surface, it has good laser processability. The surface smoothness of the conductive film is preferably a surface roughness Ra of 0.3 μm or less, and more preferably 0.25 μm or less. The lower limit of Ra is preferably 0 μm, but is actually about 0.1 μm because it is technically difficult in practice. When Ra is 0.3 μm or less, there are few irregularities on the surface, so that it becomes difficult to form a circuit pattern with high rectilinearity because it is difficult for laser light to be irregularly reflected. Ra is an arithmetic average height, and can be measured with a contact-type surface shape roughness measuring machine Talysurf 60 (manufactured by Ametech).

印刷は、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、およびグラビアオフセット印刷等が好ましく、スクリーン印刷がより好ましい。スクリーン印刷で使用するスクリーン版は、導電回路パターンの高精細化、導電性被膜の平滑性に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは400〜650メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は20〜50%が好ましい。スクリーン線径は約10〜70μmが好ましい
印刷後には、乾燥工程を行なうことが好ましい。乾燥工程は、熱風オーブン、赤外線オーブン、およびマイクロウエーブオーブン、ならびにこれらを複合した複合オーブン等公知の乾燥装置が挙げられる。
For example, screen printing, flexographic printing, offset printing, gravure printing, and gravure offset printing are preferable, and screen printing is more preferable. The screen plate used in the screen printing is preferably a fine mesh screen, particularly preferably a fine mesh screen of about 400 to 650 mesh, in order to cope with high definition of the conductive circuit pattern and smoothness of the conductive film. . At this time, the open area of the screen is preferably 20 to 50%. The screen wire diameter is preferably about 10 to 70 μm. After printing, a drying step is preferably performed. Examples of the drying step include known drying apparatuses such as a hot air oven, an infrared oven, a microwave oven, and a composite oven in which these are combined.

基材は、特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミドフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、およびポリアクリルフィルム等が挙げられる。またこれらのフィルム上にITO(スズドープ酸化インジウム)層を形成したITOフィルム、およびガラス板上にITO層を形成したITOガラスも挙げられる。また、基材は、セラミック板上にITO層を形成したITOセラミックも挙げられる、なおITO層は、フィルムないし板の全面に形成する必要は無く部分的で形成されていても良い。   The substrate is not particularly limited. For example, polyimide film, polyparaphenylene terephthalamide film, polyether nitrile film, polyether sulfone film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film, polycarbonate Examples include films, polyvinyl chloride films, and polyacrylic films. Moreover, the ITO film which formed the ITO (tin dope indium oxide) layer on these films and the ITO glass which formed the ITO layer on the glass plate are also mentioned. In addition, examples of the substrate include ITO ceramics in which an ITO layer is formed on a ceramic plate. The ITO layer does not need to be formed on the entire surface of the film or plate and may be formed partially.

基材の厚みは、特に限定されないが、30〜350μm程度であり、50〜250μmがより好ましい。前記範囲の厚みにより基材の機械特性、形状安定性、寸法安定性、およびハンドリング面等が適切になりやすい。   Although the thickness of a base material is not specifically limited, It is about 30-350 micrometers, and 50-250 micrometers is more preferable. The mechanical properties, shape stability, dimensional stability, handling surface and the like of the substrate are likely to be appropriate depending on the thickness within the above range.

導電性被膜の厚みは、通常3〜30μmが好ましく、4〜10μmがより好ましい。厚みが3〜30μmになることでレーザー光非照射部のレーザー光の影響を抑制し、基材と密着性がより向上する。   The thickness of the conductive coating is usually preferably 3 to 30 μm and more preferably 4 to 10 μm. When the thickness is 3 to 30 μm, the influence of the laser beam on the non-irradiated portion of the laser beam is suppressed, and the adhesion to the substrate is further improved.

本発明の導電性ペーストを使用した信号配線の製造方法を説明する。
基材上に、バインダ樹脂、導電性微粒子、および分散剤を含むレーザー加工用導電性ペーストを印刷して導電性被膜を形成し、前記導電性被膜にレーザーを照射して、前記導電性被膜の一部を除去することで信号配線を形成する工程を備えている。
ここで前記レーザー加工用導電性ペーストが温度25℃、ローター回転数5rpmでの粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4であり、
前記導電性微粒子のD10平均粒子径が0.3〜1μmで、D90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍である。
A method for manufacturing a signal wiring using the conductive paste of the present invention will be described.
On the base material, a conductive paste for laser processing containing a binder resin, conductive fine particles, and a dispersant is printed to form a conductive coating, and the conductive coating is irradiated with a laser to form the conductive coating. A step of forming a signal wiring by removing a part is provided.
Here, the conductive paste for laser processing has a temperature of 25 ° C., a viscosity at a rotor rotation speed of 5 rpm is 10 Pa · s to 150 Pa · s, and a thixo index is 1.2 to 2.4,
The conductive fine particles have a D10 average particle size of 0.3 to 1 μm and a D90 average particle size of 2 to 5 times the D10 average particle size.

前記工程の前段(導電性被膜の形成)までは、既に説明している。   The steps up to the previous step (formation of the conductive film) have already been described.

次に前記工程の後段は、得られた導電性被膜にレーザー光を照射して信号配線を形成する。導電性被膜にレーザー光を照射された部分は、レーザーエネルギーを吸収して温度が急激に数千度に上昇することで、当該部分の溶融と蒸発、ないし瞬時にプラズマになり、導電性塗膜が除去されると考えられている。なお、信号配線は、所望のL/Sを有する配線回路でもよく、グランド配線等であっても良い。   Next, in the latter stage of the process, the obtained conductive film is irradiated with laser light to form a signal wiring. The part of the conductive film irradiated with laser light absorbs the laser energy and the temperature rapidly rises to several thousand degrees, so that the part melts and evaporates, or instantly becomes plasma, and the conductive film becomes conductive. Is thought to be removed. The signal wiring may be a wiring circuit having a desired L / S, or may be a ground wiring or the like.

レーザー光は、基本波の波長が193〜10600nmの範囲が好ましい。具体的にはエキシマレーザー(基本波の波長:193〜308nm)、YVO4レーザー(基本波の波長:1064nm)、YAGレーザー(基本波の波長:1064nm)、ファイバーレーザー(基本波の波長:1060nm),CO2レーザー(基本波の波長:10600nm)、および半導体レーザー等が挙げられる。
本発明では、特にYAGレーザーが基材に対するダメージが少ないので好ましい。
The laser beam preferably has a fundamental wavelength in the range of 193 to 10600 nm. Specifically, excimer laser (wavelength of fundamental wave: 193 to 308 nm), YVO 4 laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), YAG laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), fiber laser (wavelength of fundamental wave: 1060 nm) , CO 2 laser (wavelength of fundamental wave: 10600 nm), semiconductor laser, and the like.
In the present invention, a YAG laser is particularly preferable because it causes little damage to the substrate.

レーザー光を使用する際の出力、走査速度および周波数は、導電性被膜が除去できる程度の条件であれば良く、限定されないが、一般的に出力は1〜50W、走査速度は1,000〜4,000mm/s、および周波数は10〜400kHz程度である。
また、レーザー光の走査(照射)を複数回繰り返し行うこともできる。
The output, scanning speed, and frequency when using the laser beam are not limited as long as the conductive film can be removed. Generally, the output is 1 to 50 W, and the scanning speed is 1,000 to 4. , 000 mm / s, and the frequency is about 10 to 400 kHz.
In addition, laser beam scanning (irradiation) can be repeated a plurality of times.

本発明の製造方法で得た信号配線は、L/Sが30μm/30μm以下の超高精細パターンが得やすいため、視認性が重要なタッチパネルの構成部材に使用できる。また、フラットパネルディスプレイ、太陽電池等の配線の用途に使用しても良い。   The signal wiring obtained by the manufacturing method of the present invention can be used as a constituent member of a touch panel in which visibility is important because an ultrahigh-definition pattern having an L / S of 30 μm / 30 μm or less is easily obtained. Moreover, you may use for the use of wiring, such as a flat panel display and a solar cell.

本発明の電子機器は、レーザー加工用導電性ペーストを使用して形成した信号配線を備えている。電子機器は、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末。ノート型PC,電子書籍、カーナビゲーション等のタッチパネルディスプレイを備えた電子デバイスが挙げられる。また、ディスプレイが無くともレーザー加工により形成した信号配線を備えた電子機器等、例えばデジタルカメラ、ビデオカメラ、CD・DVDプレーヤー等にも好ましく使用できる。   The electronic device of the present invention includes a signal wiring formed using a conductive paste for laser processing. Electronic devices are mobile phones, smartphones, and tablet devices. Examples of the electronic device include a touch panel display such as a notebook PC, an electronic book, and a car navigation system. Moreover, even if there is no display, it can be preferably used for an electronic device having a signal wiring formed by laser processing, for example, a digital camera, a video camera, a CD / DVD player, and the like.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、「部」は「重量部」、「%」は「重量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to a following example. “Parts” means “parts by weight” and “%” means “% by weight”.

(バインダ樹脂溶液1)
JER1256(ビスフェニールA型エポキシ樹脂、数平均分子量(Mn)25,000、Tg95℃、エポキシ当量7,500、水酸基価190、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(1)を得た。
(Binder resin solution 1)
40 parts of JER1256 (bisphenyl A type epoxy resin, number average molecular weight (Mn) 25,000, Tg 95 ° C., epoxy equivalent 7,500, hydroxyl value 190, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in 30 parts of isophorone and 30 parts of γ-butyrolactone It melt | dissolved and the binder resin solution (1) of 40% of non volatile matters was obtained.

(バインダ樹脂溶液2)
JER4250(ビスフェニールA型エポキシ樹脂およびビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合物、Mn24,000、Tg70℃、エポキシ当量8,500、水酸基価180、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(2)を得た。
(Binder resin solution 2)
40 parts of JER4250 (mixture of bisphenyl A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, Mn 24,000, Tg 70 ° C., epoxy equivalent 8,500, hydroxyl value 180, manufactured by Mitsubishi Chemical) 30 parts isophorone, 30 gamma-butyrolactone 30 A binder resin solution (2) having a nonvolatile content of 40% was obtained.

(バインダ樹脂溶液3)
JER1009(ビスフェニールA型エポキシ樹脂、Mn5,200、Tg79℃、エポキシ当量2,500、水酸基価220、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(3)を得た。
(Binder resin solution 3)
40 parts of JER1009 (bisphenyl A type epoxy resin, Mn 5,200, Tg 79 ° C., epoxy equivalent 2500, hydroxyl value 220, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) are dissolved in 30 parts of isophorone and 30 parts of γ-butyrolactone to give a nonvolatile content of 40 % Binder resin solution (3) was obtained.

(バインダ樹脂溶液4)
バイロン650(ポリエステル樹脂、Mn23,000、Tg10℃、水酸基価5,酸価1、東洋紡社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(4)を得た。
(Binder resin solution 4)
Byron 650 (polyester resin, Mn 23,000, Tg 10 ° C., hydroxyl value 5, acid value 1, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 40 parts was dissolved in isophorone 30 parts and γ-butyrolactone 30 parts, and a binder resin solution (non-volatile content 40%) 4) was obtained.

(バインダ樹脂溶液5)
バイロン550(ポリエステル樹脂、Mn28,000、Tg−15℃、水酸基価4,酸価1、東洋紡社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(5)を得た。
(Binder resin solution 5)
Byron 550 (polyester resin, Mn 28,000, Tg-15 ° C., hydroxyl value 4, acid value 1, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 40 parts dissolved in isophorone 30 parts and γ-butyrolactone 30 parts, binder resin 40% non-volatile content A solution (5) was obtained.

(バインダ樹脂溶液6)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と3−メチル−1,5ペンタンジオールで合成したポリエステルポリオール(クラレポリオールP−2030、Mn2033、クラレ社製)127.4部、ジメチロールブタン酸1.9部、イソホロンジイソシアネート15.9部、ジブチルチンジラウレート0.04部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート43部を仕込み、窒素気流下にて90℃で5時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート102部を加えることで、Mn19,000、Tg17℃、水酸基価3、酸価5のポリウレタン樹脂の溶液を得た。ポリウレタン樹脂の溶液100部にイソホロン25部を加え、不揮発分40%のポリウレタン樹脂のバインダ樹脂溶液(6)を得た。
(Binder resin solution 6)
Polyester polyol synthesized with isophthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol (Kuraray Polyol P-2030, Mn 2033, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) in a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas introduction pipe 127.4 parts, dimethylolbutanoic acid 1.9 parts, isophorone diisocyanate 15.9 parts, dibutyltin dilaurate 0.04 parts and diethylene glycol monoethyl ether acetate 43 parts were charged and reacted at 90 ° C. for 5 hours under a nitrogen stream. I let you. Subsequently, 102 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a polyurethane resin solution having a Mn of 19,000, a Tg of 17 ° C., a hydroxyl value of 3, and an acid value of 5. 25 parts of isophorone was added to 100 parts of a polyurethane resin solution to obtain a binder resin solution (6) of a polyurethane resin having a nonvolatile content of 40%.

(バインダ樹脂溶液7)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、クラレポリオールP−2030 90.9部、ジメチロールブタン酸1.5部、イソホロンジイソシアネート17.1部、ジブチルチンジラウレート0.03部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート23部を仕込み、窒素気流下にて90℃で3時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート72部を加えることで、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。次にイソホロンジアミン3.18部、ジ−n−ブチルアミン0.36部、ジエチレングリコールモノエチルエーテル17.9部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート56.7部の混合物に、得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液204.5部を添加し、50℃で3時間反応させた後、90℃で2時間反応させることで、Mn17,000、Tg19℃、酸価5、不揮発分40%のポリウレタンウレア樹脂のバインダ樹脂溶液(7)を得た。
(Binder resin solution 7)
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas inlet tube, 90.9 parts of Kuraray polyol P-2030, 1.5 parts of dimethylolbutanoic acid, 17.1 parts of isophorone diisocyanate, dibutyltin dilaurate 0 0.03 part and 23 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Subsequently, 72 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group. Next, a urethane prepolymer having an isocyanate group was added to a mixture of 3.18 parts of isophoronediamine, 0.36 parts of di-n-butylamine, 17.9 parts of diethylene glycol monoethyl ether, and 56.7 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate. After adding 204.5 parts of polymer solution and reacting at 50 ° C. for 3 hours, reacting at 90 ° C. for 2 hours, the polyurethane urea resin having Mn of 17,000, Tg of 19 ° C., acid value of 5 and nonvolatile content of 40% A binder resin solution (7) was obtained.

なお、バインダ樹脂(1)〜(7)のMn、Tg、エポキシ当量、酸価および水酸基価は以下の方法に従って求めた。   The Mn, Tg, epoxy equivalent, acid value and hydroxyl value of the binder resins (1) to (7) were determined according to the following method.

<数平均分子量(Mn)の測定>
装置:GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)
機種:昭和電工社製 Shodex GPC−101
カラム:昭和電工社製 GPC KF−G+KF805L+KF803L+KF 802
検出器:示差屈折率検出器 昭和電工社製 Shodex RI−71
溶離液:THF
流量 :サンプル側:1mL/分、リファレンス側:0.5mL/分
温度 :40℃
サンプル:0.2%THF溶液(100μLインジェクション)
検量線:東ソー社製の下記の分子量の標準ポリスチレン12点を用いて検量線を作成した。
F128(1.09X106)、F80(7.06X105)、F40(4.27X105)、F20(1.90X105)、F10(9.64X104)、F4(3.79X104)、F2(1.81X104)、F1(1.02X104)、A5000(5.97X103)、A2500(2.63X103)、A1000(1.05X103)、A500(5.0X102)。
ベースライン:バインダー(3)以外は、GPC曲線の最初のピークの立ち上がり点を起点とし、リテンションタイム25分(分子量3,150)でピークが検出されなかったので、これを終点とした。そして、両点を結んだ線をベースラインとして、分子量を計算した。
なお、バインダ樹脂(3)は、リテンションタイム25分にはまだ主たるピークが検出されていた。そこで、主たるピークの低分子量側に連続する複数の小さなピークがほぼ検出されなくなった、リテンションタイム30分(分子量250)を終点として、他のバインダ樹脂の場合と同様にベースラインを設定し、分子量を求めた。
<Measurement of number average molecular weight (Mn)>
Apparatus: GPC (gel permeation chromatography)
Model: Shodex GPC-101 manufactured by Showa Denko
Column: GPC KF-G + KF805L + KF803L + KF802 manufactured by Showa Denko KK
Detector: Differential refractive index detector Shodex RI-71 manufactured by Showa Denko KK
Eluent: THF
Flow rate: Sample side: 1 mL / min Reference side: 0.5 mL / min Temperature: 40 ° C
Sample: 0.2% THF solution (100 μL injection)
Calibration curve: A calibration curve was prepared using 12 standard polystyrenes with the following molecular weights manufactured by Tosoh Corporation.
F128 (1.09 X10 6 ), F80 (7.06 X10 5 ), F40 (4.27 X10 5 ), F20 (1.90 X10 5 ), F10 (9.64 X10 4 ), F4 (3.79 X10 4 ), F2 ( 1.81 × 10 4 ), F1 (1.02 × 10 4 ), A5000 (5.97 × 10 3 ), A2500 (2.63 × 10 3 ), A1000 (1.05 × 10 3 ), A500 (5.0 × 10 2 ).
Baseline: Except for binder (3), the starting point of the first peak of the GPC curve was the starting point, and no peak was detected at a retention time of 25 minutes (molecular weight 3,150). The molecular weight was calculated using the line connecting both points as the baseline.
In the binder resin (3), the main peak was still detected at the retention time of 25 minutes. Therefore, a baseline was set in the same way as for other binder resins, with a retention time of 30 minutes (molecular weight 250), where a plurality of small peaks continuous to the low molecular weight side of the main peak were almost not detected, and the molecular weight Asked.

<Tgの測定>
・装置:示差走査熱量分析計DSC−220C(セイコーインスツルメンツ社製)
・試料:約10mg(0.1mgまで量る)
・昇温速度:10℃/分にて200℃まで測定
・Tg温度:低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、融解ピークの低温側の 曲線に勾配が最大になる点で引いた折線の交点の温度とした。
<Measurement of Tg>
Apparatus: Differential scanning calorimeter DSC-220C (manufactured by Seiko Instruments Inc.)
-Sample: about 10 mg (weigh to 0.1 mg)
・ Temperature increase rate: Measured up to 200 ° C at 10 ° C / min. ・ Tg temperature: Draw at the point where the gradient is maximized on the low temperature side of the straight line and the melting peak on the low temperature side of the curve. It was set as the temperature of the intersection of a broken line.

<エポキシ当量の測定>
JIS K 7236 に準拠して測定した。
<水酸基価、酸価の測定>
JIS K 0070 に準拠して測定した。
<Measurement of epoxy equivalent>
It measured based on JISK7236.
<Measurement of hydroxyl value and acid value>
Measurement was performed in accordance with JIS K 0070.

<導電性微粒子>
[銀粉A]メタローテクノロジーズジャパン社製フレーク銀粉(D10平均粒子径0.8μm、D90/D10平均粒子径比2.3、タップ密度3.9g/cm3、比表面積1.46m2/g)
[銀粉B]メタローテクノロジーズジャパン社製凝集銀粉(D10平均粒子径0.5μm、D90/D10平均粒子径比3.4、タップ密度2.9g/cm3、比表面積1.50m2/g)
[銀粉C]DOWAエレクトロニクス社製球状銀粉(D10平均粒子径0.7μm、D90/D10平均粒子径比4.4、タップ密度3.8g/cm3、比表面積0.97m2/g)
[銀粉D]DOWAエレクトロニクス社製球状銀粉(D10平均粒子径1.3μm、D90/D10平均粒子径比2.6、タップ密度5.2g/cm3、比表面積0.43m2/g)
[銀粉E]DOWAエレクトロニクス社製球状銀粉(D10平均粒子径0.4μm、D90/D10平均粒子径比6.5、タップ密度4.9g/cm3、比表面積1.0m2/g)
<Conductive fine particles>
[Silver powder A] Flake silver powder (D10 average particle diameter 0.8 μm, D90 / D10 average particle diameter ratio 2.3, tap density 3.9 g / cm 3 , specific surface area 1.46 m 2 / g) manufactured by Metallo Technologies Japan
[Silver powder B] Agglomerated silver powder (D10 average particle diameter 0.5 μm, D90 / D10 average particle diameter ratio 3.4, tap density 2.9 g / cm 3 , specific surface area 1.50 m 2 / g) manufactured by Metallo Technologies Japan
[Silver powder C] Spherical silver powder manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. (D10 average particle size 0.7 μm, D90 / D10 average particle size ratio 4.4, tap density 3.8 g / cm 3 , specific surface area 0.97 m 2 / g)
[Silver powder D] Spherical silver powder manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. (D10 average particle size 1.3 μm, D90 / D10 average particle size ratio 2.6, tap density 5.2 g / cm 3 , specific surface area 0.43 m 2 / g)
[Silver powder E] Spherical silver powder manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. (D10 average particle size 0.4 μm, D90 / D10 average particle size ratio 6.5, tap density 4.9 g / cm 3 , specific surface area 1.0 m 2 / g)

<D10平均粒子径およびD90平均粒子径定>
レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」(島津製作所社製)を用いて体積粒度分布の累積粒度(D10およひD19)を測定した。
<D10 average particle size and D90 average particle size determination>
The cumulative particle size (D10 and D19) of the volume particle size distribution was measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device “SALAD-3000” (manufactured by Shimadzu Corporation).

<タップ密度>
JIS Z 2512:2006法に基づいて測定した。
<Tap density>
Measured based on JIS Z 2512: 2006 method.

<BET比表面積>
流動式比表面積測定装置「フローソーブII」(島津製作所社製)を用いて測定した表面積より以下の計算式により算出した値を比表面積と定義し記載した。
比表面積(m2/g)=表面積(m2)/粉末質量(g)
[分散剤A]DISPERBYK−180(リン酸基を含むポリエステエル・エーテル共重合物のアミン塩、酸価94KOHmg/g、アミン価94KOHmg/g、不揮発分81% ビックケミー・ジャパン社製)
[分散剤B]TEGO Dispers655(特殊変性ポリエーテル重合物のリン酸エステル、酸価190KOHmg/g、不揮発分100% エボニック・ジャパン社製)
[分散剤C]DISPERBYK−111(リン酸基を含むブロック共重合物、酸価129KOHmg/g、不揮発分95% ビックケミー・ジャパン社製)
[分散剤D]BYK−104P(不飽和ポリカルボン酸ポリマー、酸価180KOHmg/g、不揮発分50% ビックケミー・ジャパン社製)
[分散剤E]DISPERBYK−182(3級アミノ基を含むポリウレタンとポリエーテルのブロック共重合、アミン価13KOHmg/g、不揮発分43% ビックケミー・ジャパン社製)
[カーボンブラックA]カーボンブラック#3030B(D50:55nm、比表面積32m2/g、吸油量130cm3/100g、三菱化学社製)
[硬化剤A]デュラネートMF−K60X(ブロック型ヘキサメチレンジイソシアネート硬化剤、不揮発分60%、旭化成ケミカルズ社製)
<BET specific surface area>
The value calculated by the following calculation formula from the surface area measured using the flow type specific surface area measuring device “Flowsorb II” (manufactured by Shimadzu Corporation) was defined and described as the specific surface area.
Specific surface area (m 2 / g) = surface area (m 2 ) / powder mass (g)
[Dispersant A] DISPERBYK-180 (amine salt of polyester ether copolymer containing a phosphate group, acid value 94 KOH mg / g, amine value 94 KOH mg / g, nonvolatile content 81%, manufactured by Big Chemie Japan)
[Dispersant B] TEGO Dispers 655 (phosphate ester of specially modified polyether polymer, acid value 190 KOH mg / g, non-volatile content 100% manufactured by Evonik Japan)
[Dispersant C] DISPERBYK-111 (block copolymer containing a phosphate group, acid value: 129 KOH mg / g, non-volatile content: 95%, manufactured by Big Chemie Japan)
[Dispersant D] BYK-104P (unsaturated polycarboxylic acid polymer, acid value 180 KOH mg / g, nonvolatile content 50%, manufactured by Big Chemie Japan)
[Dispersant E] DISPERBYK-182 (block copolymer of polyurethane and polyether containing tertiary amino group, amine value 13 KOHmg / g, nonvolatile content 43%, manufactured by Big Chemie Japan)
[Carbon Black A] Carbon black # 3030B (D50: 55nm, specific surface area 32m 2 / g, oil absorption of 130 cm 3/100 g, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
[Curing Agent A] Duranate MF-K60X (Block type hexamethylene diisocyanate curing agent, non-volatile content 60%, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)

<実施例1>
バインダ樹脂溶液(1):100部と、分散剤A:2.5部、銀粉A:370部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート:37部とをプラネタリーミキサーにて混合後し、次いで3本ロールを使用して分散することで導電性ペーストを調製した。
得られた導電性ペーストは、不揮発分が約81重量%であり、不揮発分中、銀粉は約90重量%、エポキシ樹脂は約10重量%であった。
<Example 1>
Binder resin solution (1): 100 parts, Dispersant A: 2.5 parts, Silver powder A: 370 parts, Diethylene glycol monobutyl ether acetate: 37 parts are mixed in a planetary mixer, and then three rolls are used. Then, a conductive paste was prepared by dispersing.
The obtained conductive paste had a nonvolatile content of about 81% by weight. In the nonvolatile content, the silver powder was about 90% by weight and the epoxy resin was about 10% by weight.

<実施例2〜17、比較例1〜5>
バインダ樹脂溶液、銀粉、分散剤、カーボンブラックおよび硬化剤を表1および表2に示す配合比率にした以外は、実施例1と同様に行なうことで、それぞれ実施例2〜17、および比較例1〜5の導電性ペーストを調整した。なお、カーボンブラックは、バインダ樹脂溶液、銀粉、分散剤、溶剤と共に混合し、3本ロールを使用して分散した。
<Examples 2 to 17, Comparative Examples 1 to 5>
Examples 2 to 17 and Comparative Example 1 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the binder resin solution, silver powder, dispersant, carbon black, and curing agent were changed to the blending ratios shown in Tables 1 and 2. -5 conductive pastes were prepared. Carbon black was mixed with a binder resin solution, silver powder, a dispersant and a solvent, and dispersed using a three roll.

<粘度、TI値の測定>
得られた導電性ペーストの粘度、TI値を下記条件で測定した。
・粘度計:E型粘度計TVE−25H(東機産業社製)
・ローター:コーンローター#7(θ3°xR7.7mm)
・測定温度:25℃
・試料:0.1ml
・粘度測定:回転数5rpmにて2分後の数値を粘度とした。
・TI値測定:回転数2rpmの2分後の数値と回転数20rpmの2分後の数値を測定
TI値=(回転数2rpmの2分後の数値)/(回転数20rpmの2分後の数値)
<Measurement of viscosity and TI value>
The viscosity and TI value of the obtained conductive paste were measured under the following conditions.
・ Viscometer: E-type viscometer TVE-25H (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.)
Rotor: Cone rotor # 7 (θ3 ° x R7.7mm)
・ Measurement temperature: 25 ℃
・ Sample: 0.1 ml
Viscosity measurement: The value after 2 minutes at a rotation speed of 5 rpm was taken as the viscosity.
-TI value measurement: Measured 2 minutes after 2 rpm and 2 minutes after 20 rpm TI value = (2 minutes after 2 rpm) / (2 minutes after 20 rpm) Number)

<貯蔵安定性>
得られた導電性ペースト100gを80mlマヨネーズ瓶に入れ、密閉した状態にて25℃で3ヶ月貯蔵した。貯蔵後に上記測定と同様の方法にて粘度、TI値を測定し貯蔵安定性を評価した。
・評価基準
○:粘度又はTI値の変化が20%未満 良好
△:粘度又はTI値の変化が20%以上、40%未満(実用上問題なし)
×:粘度又はTI値の変化が40%以上(実用不可)
<Storage stability>
100 g of the obtained conductive paste was put into an 80 ml mayonnaise bottle and stored in a sealed state at 25 ° C. for 3 months. After storage, the viscosity and TI value were measured by the same method as described above to evaluate the storage stability.
Evaluation criteria ○: Change in viscosity or TI value is less than 20% Good Δ: Change in viscosity or TI value is 20% or more and less than 40% (no problem in practical use)
X: Change in viscosity or TI value is 40% or more (not practical)

[導電性シートの作成]
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)上に得られた導電性インキを、縦15mm×横30mmのパターン形状にスクリーン印刷し、135℃オーブンにて30分乾燥させ、導電性被膜の厚さが約5μmの導電性シートを得た。なお、導電性シートの厚みはMH−15M型測定器(ニコン社製)を用いて測定した。
[Creation of conductive sheet]
The conductive ink obtained on a 75 μm thick polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”) is screen-printed in a pattern shape of 15 mm in length × 30 mm in width and dried in an oven at 135 ° C. for 30 minutes to form a conductive film A conductive sheet having a thickness of about 5 μm was obtained. In addition, the thickness of the electroconductive sheet was measured using MH-15M type | mold measuring device (made by Nikon Corporation).

<表明抵抗値>
得られた導電性シートの表面抵抗値は、25℃、湿度50%雰囲気下にてロレスタGPMCP−T610測定機(三菱化学アナリテック社製)の直列4探針プローブ(ASP)を用いて測定した。
<Represented resistance value>
The surface resistance value of the obtained conductive sheet was measured using a series 4 probe (ASP) of a Loresta GPMCP-T610 measuring instrument (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) at 25 ° C. and a humidity of 50%. .

<体積抵抗率の算出>
上記方法で測定された表面抵抗値、および膜厚を以下の式に代入して導電性シートの体積抵抗率を算出した。
体積抵抗率(Ω・cm)=(表面抵抗率:Ω/□)×(膜厚:cm)
なお評価基準は下記の通りである。
良好:50μΩ・cm以下
実用域:50μΩ・cmを超え150Ω・cm以下
実用不可:150μΩ・cm超える
<Calculation of volume resistivity>
The volume resistivity of the conductive sheet was calculated by substituting the surface resistance value and the film thickness measured by the above method into the following equations.
Volume resistivity (Ω · cm) = (Surface resistivity: Ω / □) x (Film thickness: cm)
The evaluation criteria are as follows.
Good: 50 μΩ · cm or less Practical range: Over 50 μΩ · cm, 150 Ω · cm or less Impractical use: Over 150 μΩ · cm

<密着性>
1.基材にITO積層フィルムおよびITO積層エッチングフィルムを使用して密着性を評価した。密着性は、初期密着性および経時試験後の密着性を評価した。
ITO積層フィルムのITO層に得られた導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が約6μmになるようにスクリーン印刷して縦15mm×横30mmのパターンを形成し、次いで135℃オーブンにて30分乾燥させることで印刷物を得た。別途、ITO積層エッチングフィルムのITO層とPETフィルム基材が露出した面に対して上記同様に導電性ペーストを印刷することで印刷物を得た。そしてこれらの印刷物を使用して導電性被膜の密着性を評価した。
・ITO積層フィルム:V150L−OFME(厚さ:175μm、日東電工社製)
・ITO積層エッチングフィルム:上記ITO積層フィルムの一部を塩酸でエッチングしてITO層を除去して基材(PETフィルム)を露出させたフィルム。
<Adhesion>
1. The adhesion was evaluated using an ITO laminated film and an ITO laminated etching film as a base material. The adhesion was evaluated by initial adhesion and adhesion after a time test.
The conductive paste obtained on the ITO layer of the ITO laminated film was screen-printed so that the film thickness after drying was about 6 μm to form a pattern of 15 mm length × 30 mm width, and then in a 135 ° C. oven for 30 minutes A printed matter was obtained by drying. Separately, a printed material was obtained by printing a conductive paste in the same manner as described above on the surface of the ITO laminated etching film where the ITO layer and the PET film substrate were exposed. These printed materials were used to evaluate the adhesion of the conductive film.
-ITO laminated film: V150L-OFME (thickness: 175 μm, manufactured by Nitto Denko Corporation)
ITO laminated etching film: A film in which a part of the ITO laminated film is etched with hydrochloric acid to remove the ITO layer to expose the substrate (PET film).

・評価方法
テープ密着試験:JIS K5600に準拠して、テープ密着試験を実施した。
ITO残存部分、ITOエッチング部分それぞれの領域上の導電性ペーストに、幅1m間隔に10マス×10マスの計100マス目をカッターで入れ、セロハンテープ(25mm幅、ニチバン社製)を印刷面に貼り付けた後、セロハンテープを手で急速に剥離することで、残ったマス目の状態を評価した。
・評価基準
○:剥離無し(良好)
△:マスの端がわずかに欠ける(実用上問題ない)
×:1マス以上の剥離が観察される(実用不可)
Evaluation method Tape adhesion test: A tape adhesion test was performed in accordance with JIS K5600.
Put a total of 100 squares of 10 squares x 10 squares at intervals of 1 meter into the conductive paste on the ITO remaining part and ITO etched part, and use cellophane tape (25 mm wide, manufactured by Nichiban Co.) on the printing surface. After pasting, the cellophane tape was rapidly peeled by hand to evaluate the state of the remaining cells.
・ Evaluation criteria ○: No peeling (good)
Δ: Slightly chipped edges (no problem in practical use)
×: Peeling over 1 square is observed (not practical)

・経時試験後の密着性
上記の方法で別途作成したITO積層フィルムの印刷物、およびITO積層エッチングフィルムの印刷物を60℃90%雰囲気下に240時間放置した後、上記同様の方法で密着性を評価した。上記同様の評価基準で評価した。
-Adhesiveness after time test After leaving the printed matter of the ITO laminated film and the ITO laminated etching film separately prepared by the above method in an atmosphere of 60 ° C and 90% for 240 hours, the adhesiveness was evaluated by the same method as above. did. Evaluation was performed according to the same evaluation criteria as above.

2.基材にポリイミドフィルムを使用して密着性を評価した。
ポリイミドフィルム(カプトン100H、25μm厚、東レ・デュポン社製)上に、導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が約8μmになるようにスクリーン印刷を行い縦15mm×横30mmのパターンを形成した。次いで180℃オーブンで30分乾燥させることで印刷物を得た。当該印刷物を使用して導電性被膜の密着性を評価した。
セロハンテープ(25mm幅)を印刷物の導電性被膜上に貼り付け、セロハンテープを手で急速に剥離することで密着性を評価した。
○:剥離が全く無い(良好)
△:わずかに剥離があった(実用上問題ない)
×:全面的に剥離した(実用不可)
2. Adhesion was evaluated using a polyimide film as the substrate.
On the polyimide film (Kapton 100H, 25 μm thickness, manufactured by Toray DuPont), the conductive paste was screen-printed so that the film thickness after drying was about 8 μm to form a pattern of 15 mm length × 30 mm width. Subsequently, the printed matter was obtained by drying in an oven at 180 ° C. for 30 minutes. The printed matter was used to evaluate the adhesion of the conductive coating.
Cellophane tape (25 mm width) was affixed on the conductive film of the printed matter, and the cellophane tape was rapidly peeled by hand to evaluate the adhesion.
○: No peeling at all (good)
Δ: Slight peeling (no problem in practical use)
X: Exfoliated entirely (not practical)

[レーザー加工性の評価]
導電性ペーストを高精度スクリーン印刷装置(SERIA、東海精機社製)を用いて、厚さ75μmのPETフィルムに印刷し、135℃で30分乾燥することで厚さ約6μmの導電性被膜を有する導電性シートを得た。なおスクリーン印刷版は、図1に示す様に縦205mm・幅340mmの領域に、幅6mm、縦115mm、横65mmの窓枠柄画像部を4個有する版を使用した。なお、印刷条件は下記の通りである。
[Evaluation of laser processability]
The conductive paste is printed on a PET film having a thickness of 75 μm using a high-precision screen printing apparatus (SERIA, manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.) and dried at 135 ° C. for 30 minutes to have a conductive film having a thickness of about 6 μm. A conductive sheet was obtained. As the screen printing plate, as shown in FIG. 1, a plate having four window frame image portions having a width of 6 mm, a length of 115 mm, and a width of 65 mm in an area of 205 mm in length and 340 mm in width was used. The printing conditions are as follows.

(スクリーン印刷条件)
・スクリーン :ステンレス版400メッシュ、線径18μm
・乳剤厚 :10μm
・スクリーン枠 :650×550mm
・スキージ角度 :70°
・スキージ硬度 :80°
・スキージ速度 :150mm/秒
・スキージ印圧 :15kgf
・スキージ押込み:1.5mm
・クリアランス :2.5mm
・使用した溶剤:ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
(Screen printing conditions)
Screen: Stainless steel plate 400 mesh, wire diameter 18 μm
・ Emulsion thickness: 10 μm
・ Screen frame: 650x550mm
・ Squeegee angle: 70 °
・ Squeegee hardness: 80 °
・ Squeegee speed: 150 mm / sec ・ Squeegee printing pressure: 15 kgf
・ Squeegee push: 1.5mm
・ Clearance: 2.5mm
・ Solvent used: Diethylene glycol monobutyl ether acetate

<膜厚の測定>
得られた導電性シートにおける導電性被膜の厚みをMH−15M型測定器((株)ニコン社製)を用いて測定した。
<Measurement of film thickness>
The thickness of the conductive film in the obtained conductive sheet was measured using an MH-15M type measuring instrument (manufactured by Nikon Corporation).

<表面荒さRaの測定>
得られた導電性シートにおける導電性被膜の表面荒さRaを接触式表面形状粗さ測定機Talysurf60(アメテック社製)を用いて測定を行い、解析ソフト「Taly Map Platinum ver.5.0」(アメテック社製)を用いて解析した。なお、Raの定義については「JIS B 0601−2001」に準拠した。
測定条件は下記の通りである。
・測定範囲:5mmx5mm
・本数:51本
・速度:0.5mm/s
解析は4mm×4mmの範囲で0.25μmのフィルターをかけてうねりを取り除いたデータを用いてパラメーターの算出を行った。
<Measurement of surface roughness Ra>
The surface roughness Ra of the conductive film in the obtained conductive sheet was measured using a contact-type surface shape roughness measuring machine Talysurf 60 (manufactured by Ametech Co., Ltd.), and the analysis software “Tally Map Platinum ver. 5.0” (Ametech) For analysis. The definition of Ra conformed to “JIS B 0601-2001”.
The measurement conditions are as follows.
・ Measurement range: 5mm x 5mm
-Number: 51-Speed: 0.5 mm / s
In the analysis, parameters were calculated using data obtained by removing a wave by applying a 0.25 μm filter in a range of 4 mm × 4 mm.

<レーザー加工評価>
導電性シートの窓枠柄状の導電性被膜の角部に対して、図2の拡大図に示すように縦線(長さ70mm)、横線(長さ30mm)及びコーナー部からなる16本のL/Sが20μm/20μmの配線パターンの形成を目的としてレーザー加工を行なった。レーザー加工条件は下記の通りである。
(レーザー加工条件)
・レーザー加工機 :Ag Laser Etching System(Suzhou Delphi Laser Co.,LTD社製)
・レーザー光:YAGレーザー(基本波の波長1064nm)
・最大出力:20W
・ビーム径:20μm
・出力:25%
・周波数:300kHz
・パルス幅:25nm
・走査速度:2000mm/s
・走査回数:2回
<Laser processing evaluation>
As shown in the enlarged view of FIG. 2, with respect to the corner portion of the window frame handle-like conductive coating of the conductive sheet, 16 lines composed of a vertical line (length 70 mm), a horizontal line (length 30 mm), and a corner portion are formed. Laser processing was performed for the purpose of forming a wiring pattern with L / S of 20 μm / 20 μm. The laser processing conditions are as follows.
(Laser processing conditions)
・ Laser processing machine: Ag Laser Etching System (Suzhou Delphi Laser Co., Ltd.)
・ Laser light: YAG laser (fundamental wavelength of 1064 nm)
・ Maximum output: 20W
・ Beam diameter: 20μm
・ Output: 25%
・ Frequency: 300 kHz
・ Pulse width: 25nm
・ Scanning speed: 2000mm / s
・ Number of scans: 2 times

レーザー加工後の導電性シートを使用して、スペース幅のばらつき度合いの評価するためにデジタルマイクロスコープ(VHX−900 キーエンス社製)を用いて撮影した。撮影した拡大写真を小型汎用画像解析装置「LUZEX AP」(ニレコ社製)を用いて導電性被膜が除去された部分のスペース幅を読み取った。
前記回路パターンの任意のスペース8本を選択し、1本につき460箇所、8本合計で3680箇所のスペース幅を測定し、平均値、標準偏差を求めた。
スペース幅の平均値を下記の基準で判定した。 ○:スペース幅が平均18〜22μm。良好。
△:スペース幅が平均16〜17μm、または23〜24μm。実用上問題ない。
×:スペース幅が15μm未満、または24μmを超えている。実用不可。
Using a conductive sheet after laser processing, a digital microscope (manufactured by VHX-900 Keyence) was used to evaluate the degree of variation in space width. The space width of the part from which the conductive coating was removed was read from the photographed enlarged photograph using a small general-purpose image analyzer “LUZEX AP” (manufactured by Nireco).
Arbitrary 8 spaces of the circuit pattern were selected, and the space width of 3680 locations in total, which was 460 locations, was measured, and the average value and standard deviation were obtained.
The average value of the space width was determined according to the following criteria. ○: Space width averaged 18-22 μm. Good.
Δ: Space width averaged 16 to 17 μm, or 23 to 24 μm. There is no problem in practical use.
X: The space width is less than 15 μm or exceeds 24 μm. Not practical.

スペースの直線性(図2におけるライン部3とスペース部4部との境界のギザギザ・凹凸度合い)を、標準偏差にて評価した。
スペースの直線性を下記の基準で判定した。
○:標準偏差が0〜1.5μm。良好。
△:標準偏差が1.6〜2.4μm。実用上問題ない。
×:標準偏差が2.5μm以上。実用不可。
スペース幅の平均値、標準偏差、スペース幅評価及びスペース直線性評価を表1、2に示す。
The linearity of the space (the jaggedness / roughness degree of the boundary between the line portion 3 and the space portion 4 in FIG. 2) was evaluated by the standard deviation.
The linearity of the space was judged according to the following criteria.
○: Standard deviation is 0 to 1.5 μm. Good.
(Triangle | delta): A standard deviation is 1.6-2.4 micrometers. There is no problem in practical use.
X: Standard deviation is 2.5 μm or more. Not practical.
Tables 1 and 2 show the average value of space width, standard deviation, space width evaluation, and space linearity evaluation.

表1の結果から、実施例1〜17の導電性ペーストは良好な体積抵抗率、レーザー加工性、基材への密着性を示す。また、硬化剤を添加した実施例10は、ポリイミドフィルムへの密着性がさらに向上した。
一方、表2に示すように、比較例1は、分散剤を使用していないため、分散が悪く流動性に劣りTI値が高い。そのため印刷物被膜のRaが0.3μmより大きく、レーザー加工後のスペース部の直線性が低く、かつ貯蔵安定性も悪い。また、比較例2は,用いた銀粉のD10が1.0μmより大きく、レーザー加工し難くいためスペース幅が狭く、スペース部の直線性が低い。また、比較例3は、用いた銀粉のD10は0.4μmであるが、D90/D10の比が6.5で、大きな粒子径の粒度分布を持つために、レーザー加工し難くスペース部の直線性が低い。また、比較例4および5は、リン酸系分散剤以外の分散剤を使用しているため、貯蔵安定性が悪い。
From the results of Table 1, the conductive pastes of Examples 1 to 17 exhibit good volume resistivity, laser processability, and adhesion to a substrate. Moreover, Example 10 to which the curing agent was added further improved the adhesion to the polyimide film.
On the other hand, as shown in Table 2, since Comparative Example 1 does not use a dispersant, the dispersion is poor and the fluidity is poor and the TI value is high. Therefore, Ra of the printed film is larger than 0.3 μm, the linearity of the space after laser processing is low, and the storage stability is also poor. Further, in Comparative Example 2, D10 of the used silver powder is larger than 1.0 μm, and it is difficult to perform laser processing, so that the space width is narrow and the linearity of the space portion is low. Further, in Comparative Example 3, D10 of the used silver powder is 0.4 μm, but the ratio of D90 / D10 is 6.5, and since it has a large particle size particle size distribution, it is difficult to perform laser processing and the straight line of the space portion. The nature is low. Moreover, since Comparative Examples 4 and 5 use a dispersant other than the phosphoric acid dispersant, the storage stability is poor.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、良好なレーザー加工性を持つと共に、基材密着性、耐熱耐湿度環境信頼を保持する導電性シートを提供することができる。
また、本発明に係るレーザー加工用導電性ペースト用いて、レーザー加工により形成した信号配線は、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ノート型PC等のタッチパネルディスプレイに好適に用いることができる。
The conductive paste for laser processing of the present invention can provide a conductive sheet that has good laser processability and maintains substrate adhesion and heat / humidity resistance reliability.
Moreover, the signal wiring formed by laser processing using the conductive paste for laser processing according to the present invention can be suitably used for touch panel displays such as mobile phones, smartphones, tablet terminals, and notebook PCs.

1 スクリーン印刷版
2 窓枠柄画像部
3 ライン部(L)
4 スペース部(S)
1 Screen printing plate 2 Window frame image part 3 Line part (L)
4 Space part (S)

Claims (10)

バインダ樹脂、導電性微粒子、およびリン酸系分散剤を含み、
前記導電性微粒子のD10平均粒子径が0.3〜1μm、かつD90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍であり、
E型粘度計を使用して温度25℃、ローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4である、レーザー加工用導電性ペースト。
Including a binder resin, conductive fine particles, and a phosphoric acid dispersant,
The D10 average particle size of the conductive fine particles is 0.3 to 1 μm, and the D90 average particle size is 2 to 5 times the D10 average particle size,
A conductive paste for laser processing having a viscosity of 10 Pa · s to 150 Pa · s and a thixo index of 1.2 to 2.4 measured at 25 ° C. using a E-type viscometer at a rotor rotational speed of 5 rpm.
前記バインダ樹脂が、数平均分子量10,000〜50,000、かつガラス転移温度5〜100℃である、請求項1記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to claim 1, wherein the binder resin has a number average molecular weight of 10,000 to 50,000 and a glass transition temperature of 5 to 100 ° C. 前記バインダ樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂からなる群より選択される1種以上である請求項1または2に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to claim 1 or 2, wherein the binder resin is at least one selected from the group consisting of a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane urea resin, and an epoxy resin. 前記エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、およびビスフェノールF型エポキシ樹脂の少なくとも一方である請求項2または3に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to claim 2 or 3, wherein the epoxy resin is at least one of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin. 前記リン酸系分散剤が、アミン塩である、請求項1〜4いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to any one of claims 1 to 4, wherein the phosphoric acid dispersant is an amine salt. さらにレーザー光増感剤を含む、請求項1〜5いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   Furthermore, the electrically conductive paste for laser processing of any one of Claims 1-5 containing a laser photosensitizer. 基材と、請求項1〜6記載のレーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性被膜とを備えた導電性シート。   The electroconductive sheet provided with the base material and the electroconductive film formed from the electroconductive paste for laser processing of Claims 1-6. 前記導電性被膜の表面荒さRaが0.1〜0.3μmであることを特徴とする請求項7記載の導電性シート。   The conductive sheet according to claim 7, wherein the conductive coating has a surface roughness Ra of 0.1 to 0.3 μm. 基材上に、バインダ樹脂、導電性微粒子、およびリン酸系分散剤を含むレーザー加工用導電性ペーストを印刷して導電性被膜を形成し、前記導電性被膜にレーザーを照射して、前記導電性被膜の一部を除去することで信号配線を形成する工程を備え、
前記レーザー加工用導電性ペーストがE型粘度計を使用して温度25℃、ローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4であり、
前記導電性微粒子のD10平均粒子径が0.3〜1μmで、D90平均粒子径が前記D10平均粒子径の2〜5倍である、信号配線の製造方法。
On the base material, a conductive paste for laser processing containing a binder resin, conductive fine particles, and a phosphoric acid-based dispersant is printed to form a conductive coating, and the conductive coating is irradiated with a laser so that the conductive A step of forming a signal wiring by removing a part of the conductive film,
The conductive paste for laser processing has a viscosity of 10 Pa · s to 150 Pa · s and a thixo index of 1.2 to 2.4 measured at a temperature of 25 ° C. and a rotor rotation speed of 5 rpm using an E-type viscometer. ,
The method for producing a signal wiring, wherein the conductive fine particles have a D10 average particle diameter of 0.3 to 1 μm and a D90 average particle diameter of 2 to 5 times the D10 average particle diameter.
請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペーストから形成してなる信号配線を備えた電子機器。   The electronic device provided with the signal wiring formed from the electrically conductive paste for laser processing of any one of Claims 1-6.
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