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  1. ライティング装置を有するライティングシステムであって、
    前記ライティング装置は、前記ライティング装置を有する園芸生産施設における用途のための複数の光源を有し、前記光源は前記園芸生産施設内の作物を園芸光で照らすように構成され、
    前記ライティングシステムは、前記園芸生産施設内のある位置における局所光の光強度を制御するように構成される制御ユニットをさらに有し、前記局所光は前記園芸光と、オプションの他の光源から生じる前記位置におけるオプション光の合計であり、前記制御ユニットは、前記局所光への前記園芸光の寄与を制御することによって、５分以下の範囲から選択される所定期間にわたって平均５０μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の光合成光量子束密度の変化を防止するように構成され、前記局所光の光合成光量子束密度は局所受光面積の単位面積当たり１秒当たりの４００‐８００ｎｍの波長範囲内の光子の総数として決定される、
    ライティングシステム。
  2. 前記制御ユニットは前記所定期間にわたって平均５μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の光合成光量子束密度の変化を防止するように構成される、請求項１に記載のライティングシステム。
  3. 前記所定期間が２分以下の範囲から選択される、請求項１乃至２のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  4. 前記ライティングシステムが前記位置における前記局所光の光合成光量子束密度を感知するように構成されるセンサをさらに有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  5. 前記制御ユニットがさらに、前記局所光の４００‐８００ｎｍの波長範囲内の二つ以上の波長範囲間の強度の比率の変化が、前記二つ以上の波長範囲から選択される所定波長範囲の強度の１：２‐２：１以内に維持される程度まで、前記局所光への前記園芸光の寄与を制御することによって、前記位置における前記局所光のスペクトル光分布における変化を防止するように構成される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  6. 前記制御ユニットがさらに、前記局所光への前記園芸光の寄与を制御することによって、所定の光レシピの関数として前記位置における前記局所光の強度及びスペクトル光分布の一つ以上を制御するように構成される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  7. 前記制御ユニットが前記所定期間にわたって平均２０μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の３００‐８００ｎｍの波長範囲内の光合成光量子束密度の変化を防止するように構成される、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  8. 前記制御ユニットが、前記所定期間にわたって平均１０μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の４００‐４７０ｎｍの第１の波長範囲における、前記所定期間にわたって平均１０μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の６２５‐６７５ｎｍの第２の波長範囲における、及び随意に前記所定期間にわたって平均１０μモル／秒／ｍ２を超える前記園芸生産施設内の前記位置における前記局所光の６７５‐７６０ｎｍの第３の波長範囲における、光合成光量子束密度の変化を防止するように構成される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のライティングシステム。
  9. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載のライティングシステムを有する園芸生産施設。
  10. 前記園芸生産施設内の複数の位置において局所光の光合成光量子束密度を感知するように構成される複数のセンサを有し、前記制御ユニットが前記複数の位置において前記局所光の光合成光量子束密度の変化を防止するように構成される、請求項９に記載の園芸生産施設。
  11. 前記園芸生産施設が温室又は多層栽培システムを有する、請求項９乃至１０のいずれか一項に記載の園芸生産施設。
  12. 前記制御ユニットがさらに、前記局所光の４００‐８００ｎｍの波長範囲内の二つ以上の波長範囲間の強度の比率における変化が、前記二つ以上の波長範囲から選択される所定波長範囲の強度の１：２‐２：１以内に維持される程度まで、前記局所光への前記園芸光の寄与を制御することによって、前記位置における前記局所光のスペクトル光分布における変化を防止するように構成される、請求項９乃至１０のいずれか一項に記載の園芸生産施設。
  13. 園芸生産施設において作物に園芸光を供給する方法の使用であって、前記園芸光を前記作物に供給するステップを有し、前記園芸光の光強度の変化が、前記作物におけるストレスを軽減するため、時間において段階的に起こる、使用。
  14. 前記園芸光の光強度を、（ａ）オプションの他の光源から生じる前記作物への追加オプション光の光強度、（ｂ）園芸光レシピ、及び（ｃ）前記園芸光を供給する光源の基本位置、の一つ以上へ適応させるステップをさらに含む、請求項１３に記載の使用。
  15. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載のライティングシステムが適用される、請求項１３乃至１４のいずれか一項に記載の使用。
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