JP2015519724A5

JP2015519724A5 -

Info

Publication number: JP2015519724A5
Application number: JP2015503403A
Authority: JP
Filing date: 2013-03-21
Publication date: 2016-05-12
Anticipated expiration: 2033-03-21

Description

他の実施形態では、それぞれの３ポート混合弁において、入力ポートは、第１の出力ポートと第２の出力ポートの両方に選択的に接続され、これにより、３ポート混合弁がオンのときには、（空気式、油圧式、または電気式とすることができる制御入力に応じて）１）第１の出力ポートと第２の出力ポートの両方に、または２）第１の出力ポートのみに、または３）第２の出力ポートのみに、入力ポートからガスが供給される。３ポート混合弁がオフのときには、入力ポートから第１の出力ポートと第２の出力ポートの両方へのガスの供給が停止される。混合弁の第１の出力ポートは、第１の混合マニホールドの複数の入力ポートに接続されており、一方、混合弁の第２の出力ポートは、第２の混合マニホールドの複数の入力ポートに接続されている。第１の混合マニホールドは、いくつかの混合弁のそのいくつかの第１の出力ポートからの処理ガスが、第１の混合マニホールド出力ポートを介してクラスタツールの第１の処理モジュールに供給される前に、その中で混合される、共有ガスマニホールドに相当する。第２の混合マニホールドは、いくつかの混合弁のそのいくつかの第２の出力ポートからの処理ガスが、第２の混合マニホールド出力ポートを介してクラスタツールの第２の処理モジュールに供給される前に、その中で混合される、ガスマニホールドに相当する。本例では、３ポート混合弁と２つの混合マニホールドについてのみ記載しているが、当然のことながら、３つの混合マニホールドと協働する４ポート混合弁（１入力ポートと３出力ポート）、または４つの混合マニホールドと協働する５ポート混合弁（１入力ポートと４出力ポート）、などを備えることも可能である。一実施形態では、第１の混合マニホールドと第２の混合マニホールドは、それらの長手軸が第１の方向と平行になるように、またはそれらのマニホールド入力ポートが第１の方向と平行に略整列するように、平行な向きにされる。一実施形態では、これらの混合マニホールドのそれぞれは、長手方向の次元と断面とを有する管状長尺の全体的形状を呈する。断面は、円形とすることができ、または方形もしくは矩形、または他の閉じた形状とすることができる。長手方向の次元は、本実施形態では、前述の第１の方向に平行な軸をなしている。

マスフローコントローラ（ＭＦＣ）２０４Ｃ、２０６Ｃ、２０８Ｃ、２１０Ｃは、一次弁２０４Ａ、２０６Ａ、２０８Ａ、２１０Ａと気体連通しており、これにより、（どの一次弁が開いているのかに応じて）選択的に入力処理ガスを一次弁から受け取る。周知のように、マスフローコントローラは、供給されるガスの流量および／または圧力を調整する（遮断することを含む）ために用いられる。マスフローコントローラの下流には混合弁があって、それらの各々は、それぞれ対応するマスフローコントローラと気体連通している。図２の例では、２つの混合マニホールド２５０、２５２が、混合弁２０４Ｅ、２０６Ｅ、２０８Ｅ、２１０Ｅの各々と気体連通して接続されている。それぞれの混合弁は、その対応するＭＦＣから処理ガスを受け取るための（例えば、混合弁２０４Ｅは、ＭＦＣ２０４Ｃから処理ガスを受け取り、混合弁２０８Ｅは、ＭＦＣ２０８Ｃから処理ガスを受け取る）１つの入力ポートと、２つの混合マニホールド２５０、２５２に接続するための２つの出力ポートと、を有しているので、従って、それぞれの混合弁は、３ポート弁（１入力ポートと２出力ポート）である。混合弁２０４Ｅ〜２１０Ｅは、例えば、空気作動式、電気作動式、機械作動式、または油圧作動式とすることができる。

本発明について、いくつかの好ましい実施形態によって説明したが、本発明の範囲内に含まれるものとして、変更、置換、および均等物がある。本明細書において種々の例が提示されているが、これらの例は、例示的なものであって、本発明に関して限定するものではない。例えば、装置について例では記載しているが、本発明は、構成要素を相互に接続して記載の構造を形成することにより、本装置を提供し、構成し、さらに／もしくは組み立てる方法、または、その目的とする機能および効果を取り入れるように装置を運用することによりプラズマ処理システムを作動させるための方法をも、包括している。また、発明の名称および概要は、本明細書おいて便宜上、提示しており、本願の請求項の範囲を解釈するために用いられるべきではない。さらに、要約は、非常に簡略にした形で記載されており、本明細書おいて便宜上、提示するものであるため、請求項に記載された発明全体を解釈または限定するために用いられるべきではない。本明細書において「セット」という用語が使用される場合、かかる用語は、ゼロ個、１個、または複数個の要素をカバーする一般に理解される数学的意味を持つものである。また、本発明の方法および装置を実現する数多くの代替的方法があることにも、留意すべきである。よって、以下の添付の請求項は、本発明の真の趣旨および範囲から逸脱しないあらゆる変更、置換、および均等物を含むものと解釈されるべきである。

本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。

適用例１：
複数の処理ガスから選択したものを、少なくとも２つの処理モジュールを含む処理モジュールのセットに供給するためのガスパネルであって、
複数のマスフローコントローラであって、それぞれがＭＦＣ入力ポートとＭＦＣ出力ポートとを有し、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ入力ポートは、前記第１の複数の処理ガスを受け取るように接続されている、複数のマスフローコントローラと、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の入力ポートは、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ出力ポートと気体連通している、複数の混合弁と、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドと、を備え、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置されて、これにより前記ガスパネルの体積を削減している、ガスパネル。

適用例２：
適用例１のガスパネルであって、さらに、
第１の複数の処理ガス入力ラインであって、それぞれが前記複数の処理ガスのうちの対応する１つを供給する、第１の複数の処理ガス入力ラインと、
第１の複数の一次入口弁であって、それぞれが、前記第１の複数の処理ガス入力ラインのうちの対応する１つに接続されており、前記複数のマスフローコントローラの各々は、前記第１の複数の入口弁のうちの対応する１つに接続されており、前記第１の複数の一次入口弁のそれぞれは、前記第１の複数の処理ガス入力ラインの対応する１つから前記複数のマスフローコントローラの対応する１つへの流れを選択的に制御する、第１の複数の一次入口弁と、を備える、ガスパネル。

適用例３：
適用例１のガスパネルであって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドは、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配されており、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続されており、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続されており、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列している、ガスパネル。

適用例４：
適用例１のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートの各セットは、前記ガスパネルに組み付けられたときに、前記第２の方向と平行に整列している、ガスパネル。

適用例５：
適用例１のガスパネルであって、
前記処理モジュールのセットは、前記ガスパネルの１つあたり処理モジュールを２つのみ有する、ガスパネル。

適用例６：
適用例１のガスパネルであって、
前記第１の混合マニホールドは、前記複数の混合弁の下で第１の平面を占めており、前記複数の混合弁の入力ポートに接続されるガスラインは、前記複数の混合弁の下で第２の平面を占めており、前記第２の平面は、前記第１の平面と前記複数の混合弁との間にある、ガスパネル。

適用例７：
適用例６のガスパネルであって、
前記第２の混合マニホールドは、同じく前記複数の混合弁の下で前記第１の平面にある、ガスパネル。

適用例８：
適用例１のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、ガス作動弁である、ガスパネル。

適用例９：
適用例１のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、単入力／２共通出力弁である、ガスパネル。

適用例１０：
複数の処理ガスから選択したものを、基板処理システムの処理モジュールのセットに供給するための装置であって、前記処理モジュールのセットは、少なくとも２つの処理モジュールを含み、前記装置は、
排ガス閉じ込め構造と、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の前記入力ポートの各入力ポートは、前記複数の処理ガスのうちの１つを受け取るように構成されている、複数の混合弁と、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドと、を備え、
前記複数の混合弁、前記第１の混合マニホールド、前記第２の混合マニホールドは、前記排ガス閉じ込め構造内に配置されており、前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置され、これにより前記排ガス閉じ込め構造の体積を削減している、装置。

適用例１１：
適用例１０の装置であって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドは、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配されており、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続されており、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続されており、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁うち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列している、装置。

適用例１２：
適用例１０の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートからなる各セットは、前記装置に組み付けられたときに、前記第２の方向と平行に整列している、装置。

適用例１３：
適用例１０の装置であって、
前記処理モジュールのセットは、前記装置の１つあたり処理モジュールを２つのみ有する、装置。

適用例１４：
適用例１０の装置であって、
前記第１の混合マニホールドは、前記複数の混合弁の下で第１の平面を占めており、前記複数の混合弁の入力ポートに接続されたガスラインは、前記複数の混合弁の下で第２の平面を占めており、前記第２の平面は、前記第１の平面と前記複数の混合弁との間にある、装置。

適用例１５：
適用例１４の装置であって、
前記第２の混合マニホールドは、同じく前記複数の混合弁の下で前記第１の平面にある、装置。

適用例１６：
適用例１０の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、ガス作動弁である、装置。

適用例１７：
適用例１０の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、単入力／２共通出力弁である、装置。

適用例１８：
適用例１０の装置であって、
前記排ガス閉じ込め構造内に配置された複数のマスフローコントローラをさらに備え、
前記複数のマスフローコントローラのそれぞれは、ＭＦＣ入力ポートとＭＦＣ出力ポートとを有し、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ入力ポートは、前記第１の複数の処理ガスを受け取るように接続されており、前記複数の混合弁の前記入力ポートは、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ出力ポートと気体連通している、装置。

適用例１９：
適用例１８の装置であって、さらに、
第１の複数の処理ガス入力ラインであって、それぞれが前記複数の処理ガスのうちの対応する１つを供給する、第１の複数の処理ガス入力ラインと、
前記排ガス閉じ込め構造内に配置された第１の複数の一次入口弁であって、それぞれが、前記第１の複数の処理ガス入力ラインのうちの対応する１つに接続されており、前記複数のマスフローコントローラの各々は、前記第１の複数の入口弁のうちの対応する１つに接続されており、前記第１の複数の一次入口弁のそれぞれは、前記第１の複数の処理ガス入力ラインの対応する１つから前記複数のマスフローコントローラの対応する１つへの流れを選択的に制御する、第１の複数の一次入口弁と、を備える、装置。

適用例２０：
複数の処理ガスから選択したものを、基板処理システムの処理モジュールのセットに供給する方法であって、前記処理モジュールのセットは、少なくとも２つの処理モジュールを含み、前記方法は、
排ガス閉じ込め構造を準備することと、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の前記入力ポートの各入力ポートは、前記複数の処理ガスのうちの１つを受け取るように構成されている、複数の混合弁を、設けることと、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドを、設けることと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドを、設けることと、を含み、
前記複数の混合弁、前記第１の混合マニホールド、前記第２の混合マニホールドは、前記排ガス閉じ込め構造内に配置され、前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置されて、これにより前記排ガス閉じ込め構造の体積を削減する、方法。

適用例２１：
適用例２０の方法であって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドを、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配することをさらに含み、
前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続され、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続され、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列される、方法。

適用例２２：
適用例２０の方法であって、さらに、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートからなる各セットを、その各セットの前記ポートが前記第２の方向と平行に整列するような向きに配することを含む、適用例２０の方法。

Claims

複数の処理ガスから選択したものを、少なくとも２つの処理モジュールを含む処理モジュールのセットに供給するためのガスパネルであって、
複数のマスフローコントローラであって、それぞれがＭＦＣ入力ポートとＭＦＣ出力ポートとを有し、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ入力ポートは、前記第１の複数の処理ガスを受け取るように接続されている、複数のマスフローコントローラと、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の入力ポートは、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ出力ポートと気体連通している、複数の混合弁と、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドと、を備え、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置されて、これにより前記ガスパネルの体積を削減している、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、さらに、
第１の複数の処理ガス入力ラインであって、それぞれが前記複数の処理ガスのうちの対応する１つを供給する、第１の複数の処理ガス入力ラインと、
第１の複数の一次入口弁であって、それぞれが、前記第１の複数の処理ガス入力ラインのうちの対応する１つに接続されており、前記複数のマスフローコントローラの各々は、前記第１の複数の入口弁のうちの対応する１つに接続されており、前記第１の複数の一次入口弁のそれぞれは、前記第１の複数の処理ガス入力ラインの対応する１つから前記複数のマスフローコントローラの対応する１つへの流れを選択的に制御する、第１の複数の一次入口弁と、を備える、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドは、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配されており、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続されており、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続されており、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列している、ガスパネル。
請求項３に記載のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートの各セットは、前記ガスパネルに組み付けられたときに、前記第２の方向と平行に整列している、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、
前記処理モジュールのセットは、前記ガスパネルの１つあたり処理モジュールを２つのみ有する、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、
前記第１の混合マニホールドは、前記複数の混合弁の下で第１の平面を占めており、前記複数の混合弁の入力ポートに接続されるガスラインは、前記複数の混合弁の下で第２の平面を占めており、前記第２の平面は、前記第１の平面と前記複数の混合弁との間にある、ガスパネル。
請求項６に記載のガスパネルであって、
前記第２の混合マニホールドは、同じく前記複数の混合弁の下で前記第１の平面にある、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、ガス作動弁である、ガスパネル。
請求項１に記載のガスパネルであって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、単入力／２共通出力弁である、ガスパネル。
複数の処理ガスから選択したものを、基板処理システムの処理モジュールのセットに供給するための装置であって、前記処理モジュールのセットは、少なくとも２つの処理モジュールを含み、前記装置は、
排ガス閉じ込め構造と、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の前記入力ポートの各入力ポートは、前記複数の処理ガスのうちの１つを受け取るように構成されている、複数の混合弁と、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドと、を備え、
前記複数の混合弁、前記第１の混合マニホールド、前記第２の混合マニホールドは、前記排ガス閉じ込め構造内に配置されており、前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置され、これにより前記排ガス閉じ込め構造の体積を削減している、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドは、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配されており、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続されており、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続されており、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁うち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列している、装置。
請求項１１に記載の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートからなる各セットは、前記装置に組み付けられたときに、前記第２の方向と平行に整列している、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記処理モジュールのセットは、前記装置の１つあたり処理モジュールを２つのみ有する、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記第１の混合マニホールドは、前記複数の混合弁の下で第１の平面を占めており、前記複数の混合弁の入力ポートに接続されたガスラインは、前記複数の混合弁の下で第２の平面を占めており、前記第２の平面は、前記第１の平面と前記複数の混合弁との間にある、装置。
請求項１４に記載の装置であって、
前記第２の混合マニホールドは、同じく前記複数の混合弁の下で前記第１の平面にある、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、ガス作動弁である、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記複数の混合弁のそれぞれは、単入力／２共通出力弁である、装置。
請求項１０に記載の装置であって、
前記排ガス閉じ込め構造内に配置された複数のマスフローコントローラをさらに備え、
前記複数のマスフローコントローラのそれぞれは、ＭＦＣ入力ポートとＭＦＣ出力ポートとを有し、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ入力ポートは、前記第１の複数の処理ガスを受け取るように接続されており、前記複数の混合弁の前記入力ポートは、前記複数のマスフローコントローラのＭＦＣ出力ポートと気体連通している、装置。
請求項１８に記載の装置であって、さらに、
第１の複数の処理ガス入力ラインであって、それぞれが前記複数の処理ガスのうちの対応する１つを供給する、第１の複数の処理ガス入力ラインと、
前記排ガス閉じ込め構造内に配置された第１の複数の一次入口弁であって、それぞれが、前記第１の複数の処理ガス入力ラインのうちの対応する１つに接続されており、前記複数のマスフローコントローラの各々は、前記第１の複数の入口弁のうちの対応する１つに接続されており、前記第１の複数の一次入口弁のそれぞれは、前記第１の複数の処理ガス入力ラインの対応する１つから前記複数のマスフローコントローラの対応する１つへの流れを選択的に制御する、第１の複数の一次入口弁と、を備える、装置。
複数の処理ガスから選択したものを、基板処理システムの処理モジュールのセットに供給する方法であって、前記処理モジュールのセットは、少なくとも２つの処理モジュールを含み、前記方法は、
排ガス閉じ込め構造を準備することと、
複数の混合弁であって、それぞれが入力ポートと第１の出力ポートと第２の出力ポートとを有し、前記複数の混合弁の前記入力ポートの各入力ポートは、前記複数の処理ガスのうちの１つを受け取るように構成されている、複数の混合弁を、設けることと、
第１の混合マニホールドであって、複数の第１の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第１の処理モジュールに対して前記第１の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第１の混合マニホールド出力ポートと、を有し、前記複数の混合弁の第１の出力ポートは、前記第１の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第１の混合マニホールドを、設けることと、
第２の混合マニホールドであって、複数の第２の混合マニホールド入力ポートと、前記少なくとも２つの処理モジュールのうちの第２の処理モジュールに対して前記第２の混合マニホールドからガスを出力するための少なくとも１つの第２の混合マニホールド出力ポートと、有し、前記複数の混合弁の第２の出力ポートは、前記第２の混合マニホールド入力ポートと気体連通している、第２の混合マニホールドを、設けることと、を含み、
前記複数の混合弁、前記第１の混合マニホールド、前記第２の混合マニホールドは、前記排ガス閉じ込め構造内に配置され、前記第１の混合マニホールドおよび前記第２のマニホールドは、前記複数の混合弁の下に配置されて、これにより前記排ガス閉じ込め構造の体積を削減する、方法。
請求項２０に記載の方法であって、
前記第１の混合マニホールドおよび前記第２の混合マニホールドを、前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートおよび前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートが第１の方向と平行になるように、前記第１の方向に沿った向きに配することをさらに含み、
前記複数の第１の混合マニホールド入力ポートのうち第１のものは、前記複数の混合弁のうち第１のものの第１の出力ポートに接続され、前記複数の第２の混合マニホールド入力ポートのうち第２のものは、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの第２の出力ポートに接続され、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第１の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの前記第２の出力ポートと、前記複数の混合弁のうち前記第１のものの入力ポートとは、前記第１の方向に対して直角でも平行でもない第２の方向に沿って整列される、方法。
請求項２１に記載の方法であって、さらに、
前記複数の混合弁のそれぞれの、入力ポート、第１の出力ポート、第２の出力ポートからなる各セットを、その各セットの前記ポートが前記第２の方向と平行に整列するような向きに配することを含む、請求項２０に記載の方法。