JP2015517015A - 硬質ブロックおよび軟質ブロックを有する温度安定な架橋性接着剤 - Google Patents
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Abstract
(i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、このポリマーブロックが、Aブロックの少なくとも一部がスルホン化されていることを条件として、水素化することもできる、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体、(ii)少なくとも1種の接着樹脂、(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体を含む接着剤、とりわけ温度安定性の接着剤。
Description
本発明は、(i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、このポリマーブロックが、Aブロックの少なくとも一部がスルホン化されていることを条件として、少なくとも部分的に水素化され得る、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体と、(ii)少なくとも1種の接着樹脂と、(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体とを含む接着剤、とりわけ凝集性が上昇していると同時に接着力が高い温度安定な接着剤に関する。
感圧接着剤とは、比較的弱い接触圧下でも被接着下地との継続的な結合が可能であり、使用後には実質的に残留物なく被接着下地から再び剥離し得る接着剤のことである。感圧接着剤は、室温で永久感圧接着性に作用し、つまり十分に低い粘度および高い初期粘着性を有しており、したがって感圧接着剤は、小さな接触圧でもその時々の被接着下地の表面を濡らす。接着剤の貼付性および再剥離性は、接着剤の付着特性および接着剤の凝集特性に基づいている。感圧接着剤のためのベースとしては様々な化合物が考慮される。
感圧接着剤を備えた接着テープ、いわゆる感圧接着テープは、今日では産業および個人の範囲において多種多様に使用されている。一般的に感圧接着テープは、片面または両面に感圧接着剤を備えた支持フィルムから成っている。感圧接着剤層だけから成り、支持フィルムのない感圧接着テープもあり、これがいわゆる転写式テープである。感圧接着テープの組成は非常に様々となることができ、様々な用途のそれぞれの要件に基づいて決められる。支持体は、一般的には例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステルのようなプラスチックフィルムから成っており、または紙、織布、もしくは不織布から成ってもいる。自己接着剤または感圧接着剤は、たいていアクリラートコポリマー、シリコーン、天然ゴム、合成ゴム、スチレンブロックコポリマー、またはポリウレタンをベースとしている。
貼付強度が非常に高く、ただし温度が上昇してもその凝集性が失われない接着テープが求められている。とりわけ屋外領域または自動車内で貼り付ける場合には、温度が60℃超〜70℃になる可能性がある。なかでも一般消費者領域において特に高い保持性能を有する接着テープには、スチレンブロックコポリマーをベースとする接着剤を用いることが多い。この接着剤は、非常に高い貼付強度を有し得ると同時に凝集性が非常に高いという利点がある。高い初期粘着性により、粗い下地への貼付も確実に可能である。
典型的には、ポリスチレンブロックおよびポリブタジエンブロックおよび/またはポリイソプレンブロックをベースとする直鎖状または放射状のブロックコポリマーが使用され、詳しくは、例えば放射状スチレン・ブタジエン(SB)nブロックコポリマーおよび/または直鎖状スチレン・ブタジエン・スチレン(SBS)ブロックコポリマーおよび/または直鎖状スチレン・イソプレン・スチレン(SIS)ブロックコポリマーが使用される。
市場に出回っている、スチレンブロックコポリマーをベースとする感圧接着剤を備えた製品は、50℃を超える温度では貼付強度が弱くなる。ことにポリスチレンから成る硬質相(ブロックポリスチレンドメイン)の軟化により、とりわけ中程度の重さの物体を貼り付けた場合に、感圧接着テープの凝集不良が生じる。
貼付不良は、純粋なせん断負荷の場合より、特に傾斜せん断負荷の場合に(この場合は例えばフックを貼り付けるときのようにトルクが働く)明らかにより強く発生する。
本発明の課題は、温度安定性が顕著な接着剤を提供することである。とりわけ、この接着剤は広い温度範囲にわたって感圧接着性の感圧接着剤であるべきであり、とりわけ、この接着剤は温度安定な接着テープに適しているべきである。さらに、高い温度で優れた貼付強度を有する接着剤を開発するという課題がある。さらに、様々な物品を継続的に相互に結合することができ、高い温度で優れた性能、とりわけ、好ましくは100℃超の高い温度で優れた貼付強度を有しており、貼付プロセスにおいて取り扱いやすく、柔軟できれいな加工を可能にし、それにもかかわらずメーカーで簡単に加工できる接着剤を開発するという課題がある。
この課題は、請求項1でより詳しく特徴づけているような接着剤によって解決される。従属請求項には本発明の有利な実施形態が記載されている。さらにこの課題は本発明による方法に基づいて得られる接着剤によって、およびこの接着剤を製造するための本発明による方法自体によって解決される。さらにこの課題は本発明による接着剤の、請求項に挙げた使用によって解決される。
本発明に基づく少なくとも部分的にスルホン化された接着剤により、とりわけ接着テープによっても、顕著な貼付強度を実現することができ、同時にこの接着剤が顕著な温度安定性を有することは、前述の理由から意外であった。
本発明の対象は、(i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、とりわけnはそれぞれ独立して2、3、4、5、6、7、8、9、および10から選択することができ、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、好ましくはこのポリマーブロックBは少なくとも部分的に、好ましくは完全に水素化することができ、かつAブロックの少なくとも一部がスルホン化されている、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体と、(ii)少なくとも1種の接着樹脂と、(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体とを含む接着剤、好ましくは感圧接着剤、とりわけ温度安定な接着剤である。
本発明による接着剤は、優れた加工性およびコーティング性を有し、好ましくはスルホン化されたビニル芳香族系ブロックコポリマーをベースとする架橋性接着剤、とりわけ配位架橋性接着剤である。さらに本発明による接着剤は、付着性および凝集性に関する優れた生成物特性を特徴とし、かつ高温でなお顕著な貼付強度を示す。この高い温度安定性は、接着剤において架橋により調整することができる。
Tgが明らかに相違する軟質成分と硬質成分を有するブロックコポリマーは、一般的に室温でドメイン構造を形成し、このドメイン構造が接着剤の耐浸透特性に寄与する。スチレンブロックおよびジエン/ブチレン/イソブチレン/エチレン/プロピレンブロックの非修飾ブロックコポリマーは、たいていは85℃または100℃までしかせん断安定性ではなく、この温度範囲内でドメイン構造が解消し始める。
さらに本発明により、ブロックコポリマーの硬質ブロック、好ましくは芳香族を修飾、とりわけスルホン化することが、ビニル芳香族のようなアルケン官能化された芳香族に対し、未架橋状態での優れた表面流動を可能にすることが発見された。このスルホン化に基づき、架橋なしで既に、非修飾ブロックコポリマーに比べて少し改善されたせん断特性を観察することができる。その後の、スルホン酸基またはエステルのようなスルホン酸誘導体の、金属、好ましくはアルミニウムキレートのアルミニウムとの配位架橋による架橋は、架橋後の接着剤のせん断特性を明らかに改善させる。影響を受けやすい用途での金属による望ましくない汚染を避けるため、後の用途に応じ、金属キレートにおける金属が選択される。
(i)ブロックコポリマーのAブロックの少なくとも一部がスルホン化されていることが好ましく、このブロックコポリマーはスルホン化コポリマーとも呼ばれる。このスルホン化ブロックコポリマーでは、ポリマーブロックAの少なくとも一部が、芳香族上でスルホン化されている。したがって接着剤は、スルホン化されたAブロックおよびスルホン化されていないブロックBを含むブロックを有し、とりわけ、架橋されスルホン化されたAブロック、特に好ましくは、とりわけ一般式Iの金属キレートに基づく金属を介して架橋されたAブロックを有する、ブロックコポリマーまたは混合物を含んでいる。さらにこれに加え、それぞれ独立して、AブロックおよびBブロックを有する非スルホン化コポリマーとしてのブロックコポリマーが存在することが好ましい。これに加え接着剤中には、形態A−Bの添加成分として、独立して、A’ブロックおよびB’ブロックとしてのブロックも存在することができる。
二元ブロック共重合体、三元ブロック共重合体、ならびにマルチブロックコポリマーおよび星型ブロックコポリマーを製造するための通常のカップリング試薬は当業者に公知である。幾つかだけ挙げるなら、例示的に2−ビニルピリジン、1,4−ジ(ブロモメチル)ベンゼン、ジクロロジメチルシラン、または1,2−ビス(トリクロロシリル)エタンが挙げられるが、カップリング試薬はこれに制限されない。カップリング後には、これらのカップリング試薬から残基としてのXが残る。
本発明の対象はさらに、ブロックのTg(DSCにより決定可能)が異なっており、個々の相が互いに不溶性であることによりドメインの形成が可能な接着剤である。ブロックコポリマー内でこのドメインが形成されることにより、室温での非常に優れた凝集性を達成することができる。したがって好ましいのは、コポリマー(i)においてAブロックがそれぞれ独立して40℃超のTgを、およびBブロックがそれぞれ独立して0℃未満のTgを有する場合である。Aブロックはスルホン化前に既に40℃超のTgを有することが好ましい。
好ましい接着剤はさらに、ブロックコポリマーにおいて、ポリマー性のAブロックが、独立して、ビニル芳香族、例えばスチレン、またはスチレン誘導体、および/もしくはα−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、p−メトキシスチレン、および/もしくはtert.−ブチルスチレンから形成されたホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする。
本発明による高い温度安定性を調整するため、コポリマーをある程度の度合いでスルホン化することが目指される。好ましい接着剤は、スルホン化芳香族、つまり重合され、かつスルホン化されたビニル芳香族の規定の含有率を特徴としている。好ましいのは、スルホン化コポリマーが、スルホン化されたポリマー性のAブロックを有しており、このAブロックの芳香族が、スルホン化コポリマーのAブロックのモノマー単位全体に対し、モノマー単位、つまりビニル芳香族1モル当たり0.5モル%以上、とりわけ4モル%以上〜50モル%、好ましくは0.5〜50モル%の間、好ましくは2〜40モル%、好ましくは5〜30モル%、特に好ましくは10〜25モル%、本発明により12〜17モル%、代替的にプラス/マイナス2モル%、好ましくは1モル%の変動幅で15モル%スルホン化されていることである。接着剤は、この値が10〜25モル%、好ましくは12〜17モル%の範囲内の場合に、接着力を失うことなく高い温度安定性を達成するのに特に優れた架橋を実現することができる。スルホン化はAブロックの芳香族だけで行われるのが好ましい。
さらに接着剤は、独立して、非スルホン化ブロックコポリマーおよび場合によっては少なくとも1種の添加成分を含んでおり、そのAブロックも、スチレンのようなビニル芳香族に由来することが好ましい。このコポリマーのBブロック(軟質ブロック)は、独立して、イソプレン、ブタジエン、イソブチレン、エチレン、および/またはプロピレンに由来するポリマーであり、好ましくは実質的に完全に水素化されている。
本発明の対象はさらに、接着剤の全組成物において、(ii)少なくとも1種の接着樹脂を10〜60質量%、好ましくは20〜55質量%、とりわけ、部分的または完全に水素化された炭化水素樹脂のような炭化水素樹脂を好ましくは30以上〜60質量%と、(iii)とりわけ式Iの置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体と、任意選択で(iv)可塑剤を最大20質量%、とりわけ5〜15質量%と、(v)充填剤、添加剤を0.0〜20質量%、とりわけ0.0〜10.0質量%、好ましくはそれぞれ0.0〜5質量%と、(i)ブロックコポリマーおよびまたはコポリマーの混合物を足して100質量%になるだけ含んでおり、好ましくはコポリマーが接着剤の30以上〜80質量%、特に好ましくは30〜60質量%、好ましくは30〜50質量%で存在している接着剤である。これに関して好ましいのは、ポリマー性のAブロックおよび任意選択でA’ブロックならびにポリマー性のBブロックおよび任意選択でB’ブロックがそれぞれドメインとして存在している場合である。
(感圧)接着剤としては、主としてビニル芳香族(Aブロック)、好ましくはスチレンの重合により形成されたポリマーブロックと、主としてアルケンまたは1,3−ジエン(Bブロック)、例えばエチレン、プロピレン、ブタジエン、イソブチレン、およびイソプレンの、またはブタジエンおよびイソプレンから成るコポリマーの重合により形成されたポリマーブロックとを有するブロックコポリマーをベースとする(感圧)接着剤を使用することが好ましい。これに関し生成物は、アルケンブロックまたはジエンブロックにおいて部分的または完全に水素化されていてもよい。特に好ましいのは、ポリスチレンと、少なくとも部分的に水素化されたポリブタジエンとのブロックコポリマー、またはポリスチレンとポリイソブチレンから成るブロックコポリマーである。
AブロックおよびBブロックから結果として生じるブロックコポリマーは、それぞれ独立して、同じまたは異なるAブロックおよび異なるBブロックを有することができる。例えば、ブロックコポリマーは直鎖状A−B−A構造を有することができる。放射状の形態のブロックコポリマーならびに星型および直鎖状のマルチブロックコポリマー、例えばトリブロックポリマーまたはより多元のブロックポリマーを用いてもよい。さらなる成分として、A−B二元ブロック共重合体(ジブロックコポリマー)を存在させることができる。前述のポリマーのすべては、単独でまたは相互に混合して用いることができる。
Aブロック、A’ブロックとして好ましいポリスチレンブロックの代わりに、ビニル芳香族として、ガラス転移温度が75℃超で、他の芳香族を含有するホモポリマーおよびコポリマー(好ましくはC8〜C12芳香族)をベースとするポリマーブロック、例えばα−メチルスチレン含有の芳香族系ブロックも使用することができる。さらに、同じまたは異なるAブロックを有していてもよい。
水素化されたビニル芳香族系ブロックコポリマーは、市場では例えばKraton社の名称Kratonとしてスチレン・エチレン/ブチレン・スチレンブロックコポリマーが、またはKuraray社の名称Septonとしてスチレン・エチレン/プロピレン・スチレンブロックコポリマーが知られている。
有利な一実施形態では、コポリマー、とりわけブロックコポリマーが、ポリビニル芳香族を10質量%〜35質量%の割合で含んでいる。これは、スルホン化コポリマーにも、それとは独立して非スルホン化コポリマーにも当てはまる。
これに関し、用いられたコポリマー、好ましくはブロックコポリマーの少なくとも一部は、ビニル芳香族部分で、とりわけスルホン酸またはスルホン酸誘導体、好ましくはエステルによってスルホン化されている。これに関し、Aブロックの芳香族のスルホン化は様々なやり方で実現することができる。例えば、濃硫酸による直接的なスルホン化、または塩化スルフリルによるクロロスルホン化とこれに続くクロロスルホン酸の鹸化が可能である。非常に簡単かつ洗練されているのは、現場で製造したアセチル硫酸またはイソプロピル硫酸と反応させることである。
さらなる好ましい一形態では、ブロックコポリマーにおけるポリマー性のAブロックの割合が、ブロックコポリマーの総質量に対して少なくとも13質量%である。代替的な好ましい一実施形態では、コポリマー、好ましくはブロックコポリマー、例えばビニル芳香族系ブロックコポリマーの割合は、(感圧)接着剤全体に対し、合計で少なくとも20質量%、好ましくは少なくとも30質量%、さらに好ましくは少なくとも35質量%である。ビニル芳香族系ブロックコポリマーの割合が少なすぎると、感圧接着剤の凝集性が比較的低くなる。感圧接着剤全体に対するビニル芳香族系ブロックコポリマーの最大割合は、合計で最大80質量%、好ましくは最大65質量%、とりわけ好ましくは最大60質量%である。ビニル芳香族系ブロックコポリマーの割合が高すぎるとそれはそれで、感圧接着剤がほとんど感圧接着性でなくなる。
本発明による接着剤は、キレート架橋および硬質ブロックの割合により、非常に優れたせん断接着破壊温度値(SAFT)を示す。すなわち本発明による接着剤に関しては、架橋および硬質ブロックの割合に応じ、SAFT値は150℃以上、とりわけ180℃以上、好ましくは200℃以上、特に好ましくは210℃以上、最大では好ましくは少なくとも250℃に達し得る。
したがって好ましい接着剤は、(i)ブロックコポリマーにおけるポリマー性のAブロックおよびA’ブロックのビニル芳香族の質量%での割合が、接着剤の全組成物に対して少なくとも13〜85質量%、好ましくは20〜80質量%、特に好ましくは30質量%以上〜60質量%以下の間である。十分な感圧接着性を保証するため、含有率が高すぎてはいけない。
好ましいBブロックおよびB’ブロックは、独立して、2〜8個のC原子を有するモノマー性のアルケンから成るホモポリマーまたはコポリマーを含んでおり、このモノマーは、好ましくはエチレン、プロピレン、1,3−ジエンから、特に好ましくはブタジエン、イソブテン、および/またはイソプレンから選択される。その際、本発明に基づく成果のために特に好ましいのは、ポリマー性のBブロックおよびB’ブロックが、少なくとも部分的に水素化されており、とりわけ実質的に完全に水素化されている場合である。Bブロックの好ましくは完全な水素化はBブロックのスルホン化を阻止し、これにより透明性に優れた接着剤を製造することができる。コポリマーBブロックの非極性コモノマーとしては、例えば(部分)水素化されたポリブタジエン、(部分)水素化されたポリイソプレン、および/またはポリオレフィンが適している。
置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体として、好ましくは金属錯体として式Iの金属キレートが使用され、
(R1O)nM(XR2Y)m (I)
・式中、Mは、周期表の第2主族、第3主族、第4主族、および第5主族の金属ならびに遷移金属から選択される金属であり、とりわけMはアルミニウム、スズ、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、クロム、マンガン、鉄、コバルト、およびセリウムから選択され、特に好ましくはMはアルミニウムまたはチタンであり、
・R1は、とりわけ1〜12個のC原子を有するアルキル基またはアリール基、例えばメチル、エチル、ブチル、イソプロピル、またはベンジルであり、
・nは、0以上の整数、とりわけ0、1、2、3、または4であり、好ましくはnは0または1であり、
・キレート配位子(XR2Y)におけるXおよびYは、独立して、酸素または窒素であり、この酸素または窒素は任意選択でR2に二重結合で結合されており、好ましいキレート配位子はジオン、例えば2,4−ペンタンジオンであり、
・R2は、XとYを結合しているアルキレン基、とりわけ二官能性アルキレン基であり、直鎖状または分枝状であり、かつ任意選択でアルキレン基においてヘテロ原子、とりわけ酸素、窒素、または硫黄を有しており、
・mは、整数であり、ただし少なくとも1であり、とりわけ1、2、または3から選択された数である。好ましい金属キレートでは、Mはアルミニウム、チタン、およびジルコンから選択されており、その際nは0、1、2、または3であり、mは1、2、3、または4である。
(R1O)nM(XR2Y)m (I)
・式中、Mは、周期表の第2主族、第3主族、第4主族、および第5主族の金属ならびに遷移金属から選択される金属であり、とりわけMはアルミニウム、スズ、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、クロム、マンガン、鉄、コバルト、およびセリウムから選択され、特に好ましくはMはアルミニウムまたはチタンであり、
・R1は、とりわけ1〜12個のC原子を有するアルキル基またはアリール基、例えばメチル、エチル、ブチル、イソプロピル、またはベンジルであり、
・nは、0以上の整数、とりわけ0、1、2、3、または4であり、好ましくはnは0または1であり、
・キレート配位子(XR2Y)におけるXおよびYは、独立して、酸素または窒素であり、この酸素または窒素は任意選択でR2に二重結合で結合されており、好ましいキレート配位子はジオン、例えば2,4−ペンタンジオンであり、
・R2は、XとYを結合しているアルキレン基、とりわけ二官能性アルキレン基であり、直鎖状または分枝状であり、かつ任意選択でアルキレン基においてヘテロ原子、とりわけ酸素、窒素、または硫黄を有しており、
・mは、整数であり、ただし少なくとも1であり、とりわけ1、2、または3から選択された数である。好ましい金属キレートでは、Mはアルミニウム、チタン、およびジルコンから選択されており、その際nは0、1、2、または3であり、mは1、2、3、または4である。
好ましいキレート配位子は、以下の化合物、すなわちトリエタノールアミン、2,4−ペンタンジオン、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、または乳酸の反応から生じたキレート配位子である。
特に好ましい架橋剤は、アルミニウムアセチルアセトナートおよびチタニルアセチルアセトナートであり、例えばトリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、ビス(アセチルアセトナト)チタン(IV)オキシド、ビス(ペンタン−2,4−ジオナト)チタン(IV)オキシドである。
これに関し、最適な架橋を達成するには、スルホン酸基/スルホン酸誘導体基とアセチルアセトナート基との比率がほぼ当量に選択されるのが望ましく、その際、架橋剤が少し過剰なことが良いと分かった。ただしスルホン酸基またはスルホン酸誘導体基とアセチルアセトナート基との比率は様々に変化させることができ、これに関しては、十分な架橋のため、両方の基のどちらも5倍超のモル過剰では存在しないことが望ましい。本発明の対象は、好ましくは、(i)スルホン化コポリマーにおけるスルホン酸基と、式Iの(iii)金属錯体における配位子(XR2Y)、とりわけアセチルアセトナート配位子とのモル比が、限界値を含めて1:5〜5:1の範囲内であり、特に1:3〜3:1、とりわけ1:2〜2:1の範囲内であり、好ましくはプラス/マイナス0.5、とりわけ0.2の変動幅でおよそ1:1である接着剤である。
さらに好ましい形態では、付着性を所望通りに上昇させるため、感圧接着剤が少なくとも1種のビニル芳香族系ブロックコポリマーのほかに少なくとも1種の接着樹脂を含んでいる。この接着樹脂は、ブロックコポリマーのエラストマーブロックと適合することが望ましい。
感圧接着剤においては、接着樹脂(接着性付与剤)として、例えば、ロジンおよびロジン誘導体をベースとする水素化されていないか、部分的または完全に水素化された樹脂、ジシクロペンタジエンの水素化された重合体、C5、C5/C9、またはC9モノマー流をベースとする水素化されていないか、部分的、選択的、または完全に水素化された炭化水素樹脂、α−ピネンおよび/またはβ−ピネンおよび/またはδリモネンをベースとするポリテルペン樹脂、好ましくは純粋なC8〜C9の芳香族の水素化された重合体を用いることができる。前述の接着樹脂は、単独で用いても混合して用いてもよい。これに関しては、室温で固体の樹脂も液体の樹脂も使用することができる。
さらなる添加剤として、典型的に利用可能なのは、
・可塑剤、例えば軟化油、または例えば低分子ポリブテンのような低分子液体ポリマー
・一次酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール
・二次酸化防止剤、例えば亜リン酸塩またはチオエーテル
・プロセス安定化剤、例えばCラジカルスカベンジャー
・光安定剤、例えばUV吸収剤または立体障害性アミン
・加工助剤
・末端ブロック強化樹脂、ならびに
・場合によっては、好ましくはエラストマー性質のさらなるポリマーであり、相応に利用可能なエラストマーに含まれるのは、なかでも、純粋な炭化水素、例えば天然のまたは合成により生成されたポリイソプレンまたはポリブタジエンのような不飽和ポリジエンをベースとするエラストマー、化学的に実質的に飽和のエラストマー、例えば飽和のエチレン・プロピレンコポリマー、α−オレフィンコポリマー、ポリイソブチレン、ブチルゴム、エチレン・プロピレンゴム、ならびに化学的に官能化された炭化水素、例えばハロゲン含有の、アクリラート含有の、アリルエーテル含有の、またはビニルエーテル含有のポリオレフィンである。
・可塑剤、例えば軟化油、または例えば低分子ポリブテンのような低分子液体ポリマー
・一次酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール
・二次酸化防止剤、例えば亜リン酸塩またはチオエーテル
・プロセス安定化剤、例えばCラジカルスカベンジャー
・光安定剤、例えばUV吸収剤または立体障害性アミン
・加工助剤
・末端ブロック強化樹脂、ならびに
・場合によっては、好ましくはエラストマー性質のさらなるポリマーであり、相応に利用可能なエラストマーに含まれるのは、なかでも、純粋な炭化水素、例えば天然のまたは合成により生成されたポリイソプレンまたはポリブタジエンのような不飽和ポリジエンをベースとするエラストマー、化学的に実質的に飽和のエラストマー、例えば飽和のエチレン・プロピレンコポリマー、α−オレフィンコポリマー、ポリイソブチレン、ブチルゴム、エチレン・プロピレンゴム、ならびに化学的に官能化された炭化水素、例えばハロゲン含有の、アクリラート含有の、アリルエーテル含有の、またはビニルエーテル含有のポリオレフィンである。
本発明の一実施形態では、感圧接着剤が充填剤も含んでおり、例示的に、ただし制限としてではなく挙げるなら、金属酸化物、金属水酸化物、炭酸塩、窒化物、ハロゲン化物、炭化物であり、またはアルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、チタン、スズ、亜鉛、鉄、もしくはアルカリ(土類)金属から選択された金属の酸化物化合物/水酸化物化合物/ハロゲン化物化合物の混合物である。これは実質的にアルミナであり、例えば酸化アルミニウム、ベーマイト、バイヤライト、ギブサイト、ダイアスポア、およびその類似物である。とりわけ適しているのは、層状ケイ酸塩、例えばベントナイト、モンモリロナイト、ヒドロタルサイト、ヘクトライト、カオリナイト、ベーマイト、雲母、バーミキュライト、またはその混合物である。しかしカーボンブラックまたは炭素のさらなる修飾体、例えばカーボンナノチューブも使用することができる。充填剤は必ずしも必要ではなく、接着剤は、充填剤を単独でまたは任意の組合せで添加しなくも機能する。
割合は、好ましくは少なくとも5質量%、さらに好ましくは少なくとも10質量%、とりわけ好ましくは少なくとも15質量%である。
本発明の好ましい一実施形態によれば、充填剤の割合は、接着特性への影響をできるだけ小さく保つために30質量%の値を超えない。
接着材料の分野において、感圧接着剤は、とりわけその永久接着性および柔軟性を特徴とする。永久感圧接着性を有する材料は、どの時点でも、付着特性と凝集特性の適切な組合せを有していなければならない。優れた粘着特性のためには、付着特性と凝集特性の最適なバランスが存在するように感圧接着剤を調整することが重要である。
接着剤は、感圧接着剤、つまり室温の乾燥状態で永久に接着性のままおよび接着能力をもったままの粘弾性剤であることが好ましい。接着は、ほぼすべての基材で、軽い接触圧により迅速に生じる。本発明の好ましい一実施形態によれば、1種または複数のコポリマーは、モル質量Mw(質量平均)が300,000g/mol以下、好ましくは200,000g/mol以下の統計コポリマー、交互コポリマー、ブロックコポリマー、星型コポリマー、および/またはグラフトコポリマーである。これに関し、より小さな分子量はコポリマーのより優れた加工性に基づいて好ましい。
有利なのは、少なくとも1種のブロックコポリマーが、2つの末端にある硬質ブロックおよび1つの真ん中にある軟質ブロックから構成されたトリブロックコポリマーである場合である。ジブロックコポリマーも、トリブロックコポリマーおよびジブロックコポリマーから成る混合物もよく適している。
感圧接着剤の製造および加工は、溶液、分散系、および融体の状態で行うことができる。好ましくは、製造および加工は溶液または融体の状態で行われる。特に好ましいのは、溶液の状態での接着剤の製造である。
本発明の対象はさらに、本発明による接着剤を含む平面状粘着剤であり、この平面状粘着剤は、接着剤の平面要素から選択され、とりわけ転写式接着テープとして、好ましくは少なくとも平面要素を部分的に覆う層を備えた接着剤の平面要素の形態を取り、この接着剤は実質的に乾燥している。さらに、平面状粘着剤、とりわけ接着剤の平面要素は接着テープでもよく、この接着テープは、支持体、とりわけ平面状支持体を備えており、かつ支持体の少なくとも片面に接着剤が施されており、この接着剤は実質的に乾燥している。挙げた接着テープは、片面または両面が接着性の接着テープでもよい。一般的に転写式接着テープは、比較的簡単な製造、貯蔵、および加工のために剥離紙を備えている。特に有利なのは、本発明による接着剤が、片面または両面で接着性の接着テープにおいて使用できることである。この提供方法は、接着剤の特に簡単かつ均一な適用を可能にする。
これに関し「接着テープ」という一般的な表現には、片面または両面に(感圧)接着剤を有する支持材料が含まれている。この支持材料に含まれるのは、すべての平面状形成物、例えば二次元に広がったフィルムまたはフィルム切片、延ばされた長さおよび限られた幅を有するテープ、テープ切片、ダイカット(例えば(光)電子アセンブリの縁取りまたは境界の形状で)、多層構成物、およびその類似物である。これに関しては、多用な用途のために非常に様々な支持体、例えばフィルム、織布、不織布、および紙を、接着剤と組み合わせることができる。さらに「接着テープ」という表現は、いわゆる「転写式接着テープ」、つまり支持体のない接着テープも含んでいる。転写式接着テープの場合、接着剤はむしろ適用前に、柔軟なライナーの間に施されており、このライナーは剥離層を備えており、かつ/または抗付着特性を有している。適用するには必然的に、最初に一方のライナーを取り外し、接着剤を適用し、その後で第2のライナーを取り外す。
ただし2つのライナーではなく、両面を剥離性に加工した1つだけのライナーを備えて作られる接着テープも可能である。この接着テープシートはその上面が、両面を剥離性に加工したライナーの片面で覆われており、接着テープシートの下面は、両面を剥離性に加工したライナーの背面で、とりわけ巻き付けたものまたはロールでの隣の巻きによって覆われている。
接着テープの支持材料として、ここでは好ましくはポリマーフィルム、フィルム複合体、不織布、織布、紙、フォーム、または有機および/もしくは無機の層を備えたフィルムもしくはフィルム複合体が用いられる。このようなフィルム/フィルム複合体は、フィルム製造のために使用されるすべての一般的なプラスチックから成ることができ、例示的に、ただし制限することなく挙げるなら、
ポリエチレン、ポリプロピレン、とりわけ一軸もしくは二軸の延伸によって生成された配向ポリプロピレン(OPP)、環状オレフィンコポリマー(COC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエステル、とりわけポリエチレンテレフタラート(PET)およびポリエチレンナフタラート(PEN)、エチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリカルボナート(PC)、ポリアミド(PA)、ポリエーテルスルホン(PES)、またはポリイミド(PI)である。
ポリエチレン、ポリプロピレン、とりわけ一軸もしくは二軸の延伸によって生成された配向ポリプロピレン(OPP)、環状オレフィンコポリマー(COC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエステル、とりわけポリエチレンテレフタラート(PET)およびポリエチレンナフタラート(PEN)、エチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリカルボナート(PC)、ポリアミド(PA)、ポリエーテルスルホン(PES)、またはポリイミド(PI)である。
これに加え、支持体を有機または無機のコーティングまたは層と組み合わせることができる。これは、例えば塗装、印刷、蒸着、スパッタリング、共押出成形、またはラミネート加工のような通常の方法によって行うことができる。これに関して例示的に、ただし制限としてではなく挙げるなら、例えば、ケイ素およびアルミニウムの酸化物もしくは窒化物、酸化インジウムスズ(ITO)、またはゾルゲルコーティングである。
両面(自己)接着性の接着テープでは、上および下の層として、同じもしくは異なる種類および/または同じもしくは異なる層厚の本発明による接着剤を使用することができる。この場合の支持体は、片面または両面を従来技術に対応して前処理することができ、これにより、例えば接着剤の定着が改善される。片面または両面に機能層を備えてもよく、この機能層は、例えば遮断層として機能することができる。感圧接着剤層は、任意選択で剥離紙または剥離フィルムによって覆うことができる。その代わりに接着剤層を、両面で剥離性の1つのライナーで覆うだけでもよい。一変形形態では、両面(自己)接着性の接着テープに、本発明による接着剤と、任意のさらなる、例えばカバー基材に特に良好にくっつくかまたは特に優れた再配置性を示すような接着剤とが施される。
本発明の対象はさらに、
(i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、かつAブロックの少なくとも一部がスルホン化されている、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体、
(ii)少なくとも1種の接着樹脂、
(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体を混ぜ合わせることによる、
接着剤、とりわけ温度安定な感圧接着剤の製造方法、ならびにこの方法に基づいて入手可能な接着剤、とりわけ温度安定な接着剤である。
(i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、かつAブロックの少なくとも一部がスルホン化されている、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体、
(ii)少なくとも1種の接着樹脂、
(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体を混ぜ合わせることによる、
接着剤、とりわけ温度安定な感圧接着剤の製造方法、ならびにこの方法に基づいて入手可能な接着剤、とりわけ温度安定な接着剤である。
方法の好ましい一変形形態は、ブロックコポリマーが、ビニル芳香族に由来するAブロックと、2〜8個のC原子を有する直鎖状または分枝状のアルケンから選択されたアルケンおよびジエンに由来するBブロックとを有しており、Bブロックは少なくとも部分的に、好ましくは完全に水素化されており、かつAブロックの芳香族は少なくとも部分的にスルホン化されている。ポリマーが完全に水素化されたと見なされるのは、二重結合の含有率が、用いられたモノマーのモル%に対して5モル%未満の場合である。
本発明の対象はさらに、とりわけ、要素に接着剤を塗布する前、最中、または後に接着剤および/または要素を加熱することにより、接着剤を塗布前に部分架橋するかまたは塗布後に部分もしくは最終架橋する、本発明による接着剤および前述の方法のプロセス生成物の使用である。
これに加え、とりわけSAFT値が180℃以上、とりわけ200℃以上の、とりわけ温度安定な接着複合体の形態での接着剤またはこの接着剤によって形成された片面もしくは両面で接着性の接着テープの使用も本発明の対象である。
以下に、本発明のさらなる詳細、目標、特徴、および利点を、好ましい例示的実施形態を示した複数の図に基づいてより詳しく説明する。
図1は、(光)電子アセンブリ1の第1の形態を示している。このアセンブリ1は基材2を備えており、この基材上に電子構造物3が配置されている。基材2自体は浸透物のためのバリアとして形成されており、したがって電子構造物3のカプセルの一部を成している。電子構造物3の上側には、バリアとして形成されたさらなるカバー4が、ここでは空間的にも電子構造物から離隔して配置されている。
感圧接着剤5は、電子構造物3を側面の側でもカプセル封じするため、かつ同時にその他の点ではカバー4を電子アセンブリ1と結合するため、電子構造物3の横で周囲を取り囲むように基材2上に設けられている。他の実施形態では、カプセル封じは純粋な感圧接着剤5によってではなく、少なくとも1種の本発明による感圧接着剤を含む接着テープ5によって行われる。感圧接着剤5はカバー4と基材2を結合する。加えて感圧接着剤5は相応に厚い形態により、カバー4を電子構造物3から離隔することを可能にする。
感圧接着剤5は、上で一般的な形態において説明したような、また以下に例示的実施形態においてより詳しく説明するような、本発明による感圧接着剤をベースとする感圧接着剤である。感圧接着剤5は、ここでは基材2とカバー4を結合する機能を担うだけでなく、加えて浸透物に対するバリア層にもなっており、こうして電子構造物2を、水蒸気および酸素のような浸透物に対して側面からもカプセル封じしている。
さらに感圧接着剤5は、ここでは両面接着テープから成るダイカットの形態で提供されている。このようなダイカットは特に簡単な適用を可能にする。
図2は、(光)電子アセンブリ1の代替的な一形態を示している。ここでも、基材2上に配置されており、かつ基材2によって下からカプセル封じされている電子構造物3が示されている。この場合は電子構造物の上および側面で、感圧接着剤5が面全体に配置されている。このために、電子構造物3は感圧接着剤5によって上から完全にカプセル封じされる。その後、感圧接着剤5上にカバー4を施す。このカバー4は前出の形態とは異なり、必ずしも高いバリア要件を満たさなくてもよい。なぜならバリアは感圧接着剤によって既に提供されているからである。カバー4は、例えば機械的な保護機能を担えるにすぎないが、さらに浸透バリアとして設けることもできる。
図3は、(光)電子アセンブリ1のさらなる代替的な一形態を示している。前出の形態とは異なり、この場合は2つの感圧接着剤5a、5bが設けられており、これらの感圧接着剤は、ここでは同一に形成されている。第1の感圧接着剤5aは、基材2上で面全体に配置されている。感圧接着剤5a上に電子構造物3が設けられており、この電子構造物は感圧接着剤5aによって固定されている。その後、感圧接着剤5aおよび電子構造物3から成る複合体を、さらなる感圧接着剤5bにより全面的に覆い隠し、したがって電子構造物3は、すべての側から感圧接着剤5a、bによってカプセル封じされている。感圧接着剤5bの上にはここでもカバー4が設けられている。
したがってこの形態では、基材2もカバー4も必ずしもバリア特性を有さなくてよい。しかしそれにもかかわらず、基材およびカバーを、電子構造物3に対する浸透物の浸透をさらに制限するために設けることができる。
とりわけ図2、図3に関し、ここでは概略的に示されていることを指摘しておく。図からはとりわけ、感圧接着剤5がここでは、また好ましくは、それぞれ均等な層厚で塗布されていることが明白ではない。すなわち電子構造物への移行部では、図でそう見えるように鋭い角が形成されているのではなく、移行部は緩やかに湾曲しており、もっと言えば、気体で満たされていないかまたは満たされた小さな領域が残っている可能性がある。ただし場合によっては、とりわけ真空下または昇圧下で適用が実施される場合に、下地への適合を行うこともできる。さらに感圧接着剤を局所的に異なる強さで圧迫し、これにより、フロープロセスによってエッジ構造部での高さの差をある程度ならすことができる。示した寸法も原寸に比例しているのではなく、むしろ分かりやすい図示だけを目的としたものである。とりわけ電子構造物自体は、一般的に比較的平たく形成されている(しばしば1μm厚未満)。
図示したすべての例示的実施形態では、感圧接着剤5の適用は感圧接着テープの形態で行われる。これに関しては原理的に、支持体を備えた両面感圧接着テープまたは転写式接着テープでもよい。ここでは転写式接着テープとしての形態が選択されている。
転写式接着テープとしてかまたは平面状形成物上にコーティングされて存在している感圧接着剤の厚さは、好ましくは約1μm〜約150μmの間、さらに好ましくは約5μm〜約75μmの間、特に好ましくは約12μm〜50μmの間である。50μm〜150μmの間の大きな層厚は、基材への粘着性の改善および/または(光)電子構成物内での緩衝作用が達成されるべき場合に用いられる。ただしこの場合は、浸透断面積が増えるという欠点がある。1μm〜12μmの間の小さな層厚は、浸透断面積、したがって横からの浸透および(光)電子構成物の全体厚を減少させる。ただし、基材からの粘着性が低下する。特に好ましい厚さ範囲には、接着剤の薄い厚みと、それに基づいて生じる、横からの浸透を減らす小さな浸透断面積と、十分にくっつく結合を作るための十分に厚い接着剤層との間の優れた妥協点がある。最適な厚さは、(光)電子構成物、最終用途、感圧接着剤の実施形態の種類、および場合によっては平面状基材に左右される。
両面接着テープに関しては、バリア接着剤に関しても、個々の感圧接着剤層の厚さが好ましくは約1μm〜約150μmの間、さらに好ましくは約5μm〜約75μmの間、特に好ましくは約12μm〜50μmの間であることが適用される。両面接着テープでは、本発明によるバリア接着剤と共にさらなるバリア接着剤を使用する場合、その厚さは150μm超である場合も有利となり得る。
以下に、本発明を幾つかの例によってより詳しく説明するが、これにより本発明を制限する意図はない。
試験法
ガラス転移点(Tg)−ポリマーおよびコポリマーのガラス転移点(Tg)の決定は、DIN53765で説明されているように示差走査熱量測定を用いて実施することができる。このために、アルミニウム製るつぼに試料7mgを正確に量り入れ、続いて測定機器(機器:DSC 204 F1、Netzsch社)に装入する。参照として空のるつぼが使われる。その後、加熱速度10K/minの2本の加熱曲線が記録される。Tgは、第2の加熱曲線から確定される。評価は機器のソフトウェアを用いて行われる。
ガラス転移点(Tg)−ポリマーおよびコポリマーのガラス転移点(Tg)の決定は、DIN53765で説明されているように示差走査熱量測定を用いて実施することができる。このために、アルミニウム製るつぼに試料7mgを正確に量り入れ、続いて測定機器(機器:DSC 204 F1、Netzsch社)に装入する。参照として空のるつぼが使われる。その後、加熱速度10K/minの2本の加熱曲線が記録される。Tgは、第2の加熱曲線から確定される。評価は機器のソフトウェアを用いて行われる。
接着力−接着力の決定は以下のように実施した。すなわち規定の被接着下地としてガラスプレート(フロートガラス)を使用した。調査すべき貼付可能な平面要素を幅20mmおよび長さ約25cmに裁断し、把持部を設け、その直後に、それぞれ選択された被接着下地上に、4kgのスチールローラにより10m/minの送りで5回押し付けた。その後すぐに、先ほど貼り付けた平面要素を引張試験機(Zwick社)により、180°の角度で、室温で、300mm/minで被接着下地から剥ぎ取り、このために要した力を測定した。測定値(単位はN/cm)は、3回の個別の測定からの平均値として出された。この試験は未架橋のサンプルに対して行った。
せん断接着破壊温度(SAFT)−SAFTの決定は以下のように実施した。すなわち規定の被接着下地として、研磨されたスチール面を使用した。調査すべき貼付可能な平面要素を幅10mmおよび長さ約5cmに裁断し、その直後に、面積10×13mmのそれぞれ選択された被接着下地上に、2kgのスチールローラにより10m/minの送りで3回押し付けた。その後すぐに、先ほど貼り付けた平面要素に180°の角度で0.5Nの負荷をかけ、9℃/minの昇温速度で操作した。その際、試料が1mmの滑り距離を進んだ時の温度を測定した。測定値(単位は℃)は、2回の個別の測定からの平均値として出される。
分子量 − 平均分子量Mw(質量平均)の決定は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)によって行われる。溶離液として、トリフルオロ酢酸0.1体積%含有のTHFを用いる。測定は25℃で行われる。プレカラムとして、PSS−SDV、5μm、103Å、ID8.0mm×50mmを使用する。分離のため、カラムPSS−SDV、5μm、103Å、105Å、および106Å、それぞれID8.0mm×300mmを用いた。試料濃度は4g/lであり、貫流量は1分当たり1.0mlである。PS標準に対して測定される。
例
スルホン化の一般的な生成例
以下に、可能なスルホン化方法に関する一般的な例を示す。
スルホン化の一般的な生成例
以下に、可能なスルホン化方法に関する一般的な例を示す。
a)塩化メチレン(500ml)中SIBS(50g)の10%(w/v)溶液を作製する。この溶液を撹拌し、窒素雰囲気中で還流しながら約40℃に加熱する。スルホン化剤としてのアセチル硫酸を塩化メチレン中で作製する。このために塩化メチレン150mlを氷浴内に準備する。次に、所望のスルホン化度に対応して無水酢酸を付与する。無水酢酸は、濃硫酸に対して1.5:1モルの比率で過剰に加える。続いて、撹拌しながら滴下漏斗により濃硫酸を徐々に添加する。その後、この混合物を約10分間均質化する。このとき呈色が生じてはならない。その後、このアセチル硫酸溶液の方を滴下漏斗に詰め替え、10〜30分間かけて温かいポリマー溶液に徐々に滴下する。約5時間後、メタノール100mlを徐々に添加することで反応を終わらせる。その後、反応したポリマー溶液を脱イオン水中で析出沈殿させる。沈殿物を水で複数回洗浄し、続いて50℃の真空炉内で24時間乾燥させる。
b)US3,642,953A(特許文献1)から下記の方法が推測される。すなわちブロックの平均分子量が10,000−127,000−10,000のブロックポリマーとしてのSIBS(14.3g)を乾燥ジエチルエーテル中に溶解し(1,000g)、フィルタリングし、それから0℃に冷却した。このポリマー溶液に、乾燥ジエチルエーテル100g中に加えたクロロスルホン酸8.8gから成る混合物を徐々に加えた。反応温度は0℃〜5℃で30分間維持された。このとき溶液からポリマーが析出沈殿し、塩化水素が発生する。反応時間が終わったら混合物を室温へと加熱し、生成物からエーテルをデカンテーションし、析出沈殿した生成物をエーテルで3回洗浄した。挙げた両方の方法は、場合によっては改変が加えられるが、原理的にはすべての本発明によるスルホン化に使用可能である。非スルホン化コポリマーとの混合物中で、前述の方法に基づいて入手可能なスルホン化コポリマーを含むコポリマーも本発明の対象である。
サンプルの作製−例1〜例3の感圧接着剤は溶液の状態で作製した。このために、個々の成分を、THF/トルエン/メタノール80/10/10中に溶解し(固形分40%)、未処理の23μmのPETフィルム上にコーティングし、120℃で15分間乾燥させ、こうして単位面積当たりの質量が50g/m2の接着剤層ができた。
例1:塩化メチレン(500ml)中SIBS Sibstar 103T(50g)の10%(w/v)溶液を作製する。この溶液を撹拌し、窒素雰囲気中で還流しながら約40℃に加熱する。スルホン化剤としてのアセチル硫酸を塩化メチレン中で作製する。このために塩化メチレン150mlを氷浴内に準備する。次に、相応に無水酢酸2.57gを付与する。無水酢酸は、濃硫酸に対して過剰に加える。続いて、撹拌しながら滴下漏斗により濃硫酸1.41gを徐々に添加する。その後、この混合物を約10分間均質化する。このとき呈色が生じてはならない。その後、このアセチル硫酸溶液を10〜30分間かけて温かいポリマー溶液に徐々に滴下する。約5時間後、メタノール100mlを徐々に添加することで反応を終わらせる。その後、反応したポリマー溶液を冷たいメタノール中で析出沈殿させる。沈殿物をメタノールおよび水で複数回洗浄し、続いて80℃の真空炉内で24時間乾燥させる。こうして作製したポリマーのスルホン酸割合は、約7モル%である。
上の表で分かるように、スルホン化された接着剤の極性下地に対する粘着性および温度せん断強度は上昇している。測定は210℃で終了した。なぜならそれが温度調節ユニットの最大値だからである。これとは違い未架橋の系は、スチレンブロックコポリマーには典型的な100℃〜120℃の間の温度不良を示し、この温度不良は、スチレンドメインの軟化によって生じている。認識できるように、すべての例で、すべての下地への十分な接着力を達成することができ、かつ両方の例1、2、および3で、昇温時の非常に優れた安定性を達成することができた。
Claims (21)
- (i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、Aブロックの少なくとも一部がスルホン化されている、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体、
(ii)少なくとも1種の接着樹脂、
(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体
を含むことを特徴とする接着剤、とりわけ温度安定な接着剤。 - ポリマーブロックBが好ましくは、少なくとも部分的に、好ましくは完全に水素化されていることを特徴とする、請求項1に記載の接着剤。
- (i)ブロックコポリマーの少なくとも一部が、スルホン化されたAブロック、とりわけキレート架橋されたAブロックを有するスルホン化コポリマーとして存在することを特徴とする、請求項1または2に記載の接着剤。
- (i)Aブロックがそれぞれ独立して40℃超のTgを、およびBブロックがそれぞれ独立して0℃未満のTgを有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つに記載の接着剤。
- Bブロックが、独立して、好ましくはエチレン、プロピレン、および/または1,3−ジエンから、特に好ましくはブタジエンおよび/またはイソプレンから選択された、2〜8個のC原子を有するモノマー性のアルケンから成るホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一つに記載の接着剤。
- ブロックコポリマーが、300,000g/mol以下のモル質量Mw(質量平均)を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つに記載の接着剤。
- Aブロックが、ビニル芳香族およびビニル芳香族の誘導体、例えばスチレン、スチレン誘導体、および/またはα−メチルスチレンから選択されたモノマーから成るホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つに記載の接着剤。
- 置換可能な錯化剤を有する金属錯体が、式Iの金属キレートに対応しており、
(R1O)nM(XR2Y)m (I)
式中、Mは、周期表の第2主族、第3主族、第4主族、および第5主族の金属、ならびに遷移金属から選択された金属であり、とりわけMはアルミニウム、スズ、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、クロム、マンガン、鉄、コバルト、およびセリウムから選択されており、特に好ましくはMはアルミニウムまたはチタンであり、
R1は、とりわけ1〜12個のC原子を有するアルキル基またはアリール基、例えばメチル、エチル、ブチル、イソプロピル、またはベンジルであり、
nは、0以上の整数、とりわけ0、1、2、3、または4であり、
キレート配位子(XR2Y)におけるXおよびYは、独立して、酸素または窒素であり、前記酸素または窒素は任意選択でR2に二重結合で結合されており、
R2は、XとYを結合しているアルキレン基であり、直鎖状または分枝状であり、かつ任意選択でアルキレン基においてヘテロ原子、とりわけ酸素、窒素、または硫黄を有しており、
mは、整数であり、ただし少なくとも1であり、とりわけ1、2、または3から選択された数であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つに記載の接着剤。 - 金属キレートにおけるキレート配位子は、トリエタノールアミン、2,4−ペンタンジオン、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、または乳酸から選択された化合物の少なくとも1種の反応から形成されることを特徴とする、請求項8に記載の接着剤。
- スルホン化コポリマーが、スルホン化されたAブロックを有しており、Aブロックの芳香族が、スルホン化コポリマーのAブロックのモノマー単位全体に対し、モノマー単位1モル当たり0.5モル%以上、とりわけ4モル%以上から50モル%までスルホン化されていることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一つに記載の接着剤。
- スルホン化コポリマーが、スルホン化されたAブロックを有しており、Aブロックの芳香族が、スルホン化コポリマーのAブロックのモノマー単位全体に対し、モノマー単位1モル当たり0.5以上〜50モル%、好ましくは2以上〜40モル%、好ましくは5以上〜30モル%、特に好ましくは10以上〜25モル%、本発明により12以上〜17モル%、代替的にプラス/マイナス2モル%、好ましくは1モル%の変動幅でおよそ15モル%スルホン化されていることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一つに記載の接着剤。
- 接着剤の全組成物において、
(ii)少なくとも1種の接着樹脂、とりわけ炭化水素樹脂、好ましくは完全に水素化された樹脂を10〜60質量%と、
(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体と、任意選択で
(iv)可塑剤を最大20質量%と、
(v)充填剤、添加剤を0.0〜20質量%と、
(i)ブロックコポリマーおよびその混合物を足して100質量%になるだけ、好ましくは30以上〜80質量%で含むことを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一つに記載の接着剤。 - (i)ブロックコポリマーにおけるAブロックのビニル芳香族の質量%での割合が、接着剤の全組成物に対して少なくとも13〜85質量%、好ましくは20〜80質量%、特に好ましくは30以上〜65質量%以下の間であることを特徴とする請求項6〜12のいずれか一つに記載の接着剤。
- (i)スルホン化コポリマーにおけるスルホン酸基と、式Iの(iii)金属錯体における配位子(XR2Y)、とりわけアセチルアセトナート配位子とのモル比が、1:3〜3:1、とりわけ1:2〜2:1の範囲内であり、好ましくはプラス/マイナス0.5、とりわけプラス/マイナス0.2の変動幅でおよそ1:1であることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一つに記載の接着剤。
- SAFT値が、150℃以上、とりわけ180℃以上、特に好ましくは200℃以上、最大では好ましくは少なくとも250℃であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか一つに記載の接着剤。
- (i)構造がA−B−A、(A−B)n、(A−B)nX、または(A−B−A)nXであり、式中、Xがカップリング試薬の残基であり、nが2〜10の間の整数であり、Aがビニル芳香族から成るポリマーブロックであり、Bがアルケンまたはジエンから成るポリマーブロックであり、かつAブロックの少なくとも一部がスルホン化されている、ブロックコポリマーおよびその混合物と、任意選択で、添加成分としての形態A−Bの二元ブロック共重合体、
(ii)少なくとも1種の接着樹脂、
(iii)置換可能な錯化剤を有する少なくとも1種の金属錯体を混ぜ合わせることによる、接着剤、とりわけ温度安定な接着剤、好ましくは温度安定な感圧接着剤の製造方法。 - ブロックコポリマーが、ビニル芳香族に由来するAブロックと、2〜8個のC原子を有する直鎖状または分枝状のアルケンに由来するBブロックとを含んでおり、Bブロックが少なくとも部分的に、好ましくは完全に水素化され、かつAブロックの芳香族が少なくとも部分的にスルホン化されることを特徴とする、請求項16に記載の方法。
- 請求項16または17に記載の方法に基づいて入手可能な接着剤。
- とりわけ、要素に接着剤を塗布する前、最中、または後に接着剤および/または要素を加熱することにより、接着剤を塗布前に部分架橋するかまたは塗布後に部分もしくは最終架橋することを特徴とする、とりわけ請求項1〜15または18のいずれか一つに記載の接着剤および請求項16または17に記載の製造方法による生成物の使用。
- とりわけSAFT値が180℃以上の温度安定な接着複合体としての、とりわけ請求項1〜15もしくは18のいずれか一つに記載の接着剤および請求項16もしくは17に記載のプロセス生成物または前記接着剤によって形成された片面もしくは両面で接着性の接着テープの使用。
- 平面状粘着剤が、接着剤の平面要素および接着テープから選択されており、前記接着テープが、支持体と、支持体の少なくとも片面に施された接着剤とを有しており、平面状粘着剤の接着剤が実質的に乾燥している、請求項1〜15、18のいずれか一つに記載の接着剤および請求項16または17に記載の製造方法による生成物を含む平面状粘着剤。
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