JP2015515505A - 有機半導体組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 141
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 97
- -1 triethylsilyl Chemical group 0.000 claims description 79
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate group Chemical group [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 40
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 40
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M thiocyanate group Chemical group [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 36
- NONOKGVFTBWRLD-UHFFFAOYSA-N thioisocyanate group Chemical group S(N=C=O)N=C=O NONOKGVFTBWRLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 27
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 24
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000005865 C2-C10alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 18
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 claims description 13
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 13
- AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N carbachol Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(N)=O AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 8
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 6
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims description 6
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 claims description 2
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical class [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical group OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 18
- 238000009472 formulation Methods 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 25
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 25
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- SWHCYTRINAKJGN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(1,3-dioxolan-2-yl)thiophen-3-yl]-1,3-dioxolane Chemical compound O1CCOC1C1=C(C2OCCO2)SC=C1 SWHCYTRINAKJGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 11
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 8
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 8
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 8
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 8
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- FAHIZHKRQQNPLC-UHFFFAOYSA-N 2-[9,9-dioctyl-7-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)fluoren-2-yl]-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound C1=C2C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)C3=CC(B4OC(C)(C)C(C)(C)O4)=CC=C3C2=CC=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 FAHIZHKRQQNPLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 5
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 0 *C#CC(c(c(C1C#C*)c2)cc3c2[s]c(Br)c3)c2c1cc(cc([s]1)Br)c1c2 Chemical compound *C#CC(c(c(C1C#C*)c2)cc3c2[s]c(Br)c3)c2c1cc(cc([s]1)Br)c1c2 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CJALNXQQXPYSRB-UHFFFAOYSA-N 5-bromothiophene-2,3-dicarbaldehyde Chemical compound BrC1=CC(C=O)=C(C=O)S1 CJALNXQQXPYSRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYKLQIOPIMZZBZ-UHFFFAOYSA-N 2,7-dibromo-9,9-dioctylfluorene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)C3=CC(Br)=CC=C3C2=C1 CYKLQIOPIMZZBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical group 0.000 description 3
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 3
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTDQSWDEWGSAMN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC=C1Br HTDQSWDEWGSAMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C=C)C(F)=C1F LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4,6-trioxo-3,5-bis(2-prop-2-enoyloxyethyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C1=O YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRTLQRYOJOSPEA-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3,5-trimethylbenzene Chemical group CC1=CC(C)=C(Br)C(C)=C1 RRTLQRYOJOSPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Natural products C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- DAMUWSYTQPWFIY-UHFFFAOYSA-N anthra[2,3-b:6,7-b inverted exclamation marka]dithiophene Chemical compound C1=C2C=C(C=C3C(C=CS3)=C3)C3=CC2=CC2=C1C=CS2 DAMUWSYTQPWFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000011928 denatured alcohol Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 2
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical class CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003251 poly(α-methylstyrene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006656 (C2-C4) alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- ICPSWZFVWAPUKF-UHFFFAOYSA-N 1,1'-spirobi[fluorene] Chemical compound C1=CC=C2C=C3C4(C=5C(C6=CC=CC=C6C=5)=CC=C4)C=CC=C3C2=C1 ICPSWZFVWAPUKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVAMFBJPMUMURT-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentafluorobenzenethiol Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(S)C(F)=C1F UVAMFBJPMUMURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUIIPHYNGUDOIM-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)acetonitrile Chemical compound C=CC1=CC=C(CC#N)C=C1 DUIIPHYNGUDOIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-2-propan-2-yloxy-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound CC(C)OB1OC(C)(C)C(C)(C)O1 MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COCLLEMEIJQBAG-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C(C)=C COCLLEMEIJQBAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004649 C2-C8 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHCMZXHHPKVXLZ-UHFFFAOYSA-N FC(c1cc(C2OCCO2)c(C2OCCO2)[nH]1)(F)F Chemical compound FC(c1cc(C2OCCO2)c(C2OCCO2)[nH]1)(F)F WHCMZXHHPKVXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZAGLMPBQOKGGT-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(4-prop-2-enoyloxybutoxy)benzoyl]oxyphenyl] 4-(4-prop-2-enoyloxybutoxy)benzoate Chemical compound C1=CC(OCCCCOC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)OC(C=C1)=CC=C1OC(=O)C1=CC=C(OCCCCOC(=O)C=C)C=C1 ZZAGLMPBQOKGGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005248 alkyl aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001601 aromatic carbocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002635 aromatic organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DCZFGQYXRKMVFG-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-dione Chemical compound O=C1CCC(=O)CC1 DCZFGQYXRKMVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- RZFODFPMOHAYIR-UHFFFAOYSA-N oxepan-2-one;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.O=C1CCCCCO1 RZFODFPMOHAYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004426 substituted alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- MJZMLBVNMBLKQY-UHFFFAOYSA-N sulfonylphosphane Chemical compound O=S(=O)=P MJZMLBVNMBLKQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- WSEJZRIZDQWMKQ-UHFFFAOYSA-N thiophene-2,3-dicarbaldehyde Chemical compound O=CC=1C=CSC=1C=O WSEJZRIZDQWMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZNAASVAJNXPPW-UHFFFAOYSA-M tin(4+) chloride dihydrate Chemical compound O.O.[Cl-].[Sn+4] GZNAASVAJNXPPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FWPIDFUJEMBDLS-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride dihydrate Substances O.O.Cl[Sn]Cl FWPIDFUJEMBDLS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- FWSPXZXVNVQHIF-UHFFFAOYSA-N triethyl(ethynyl)silane Chemical group CC[Si](CC)(CC)C#C FWSPXZXVNVQHIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVAVCYUNZIELEP-UHFFFAOYSA-N triethyl-[2-[1,4,8,11-tetramethyl-13-(2-triethylsilylethynyl)pentacen-6-yl]ethynyl]silane Chemical compound C1=CC(C)=C2C=C3C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C4C(C(C)=CC=C4C)=C4)C4=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C3=CC2=C1C TVAVCYUNZIELEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
半導体組成物を提供することを追求する。
本発明の多環芳香族炭化水素コポリマー(以下PAHC)は、式(A)を有する少なくとも1つのヘテロアセンモノマー単位と、式(B)を有する少なくとも1つのフルオレンモノマー単位との混合物を含む。
Y1とY2は、独立してO、S、Se、またはNR’’’’であり、
R’’’’は、H、または環状、直鎖状、もしくは分枝状のC1〜C10アルキル基であり、好ましくはHであり、
kは、0または1であり、
lは、0または1であり、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、およびR14の各々は、同一でも異なっていてもよく、独立して、水素;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C1−C40アルキル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルケニル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルキニル基;随意に置換されたC3−C40シクロアルキル基;随意に置換されたC6−C40アリール基;随意に置換されたC1−C40複素環基;随意に置換されたC1−C40ヘテロアリール基;随意に置換されたC1−C40アルコキシ基;随意に置換されたC6−C40アリールオキシ基;随意に置換されたC7−C40アルキルアリールオキシ基;随意に置換されたC2−C40アルコキシカルボニル基;随意に置換されたC7−C40アリールオキシカルボニル基;シアノ基(−CN);カルバモイル基(−C(=O)NR15R16);カルボニル基(−C(=O)−R17);カルボキシル基(−CO2R18)シアネート基(−OCN);イソシアノ基(−NC);イソシアネート基(−NCO);チオシアネート基(−SCN)もしくはチオイソシアネート基(−NCS);随意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F、I);−SR19;−SO3H;−SO2R20;−SF5;随意に置換されたシリル基;SiH2R22基で置換されたC2−C10アルキニル基、SiHR22R23基で置換されたC2−C10アルキニル、または−Si(R22)x(R23)y(R24)z基で置換されたC2−C10アルキニルを表し;
各R22基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
各R23基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
R24は、水素、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基、置換C5−C20アリール基、置換または非置換C6−C20アリールアルキレン基、アセチル基、ならびに環中にO、N、S、およびSeのうち少なくとも1つを含む置換または非置換C3−C20複素環からなる群より独立して選ばれ;
x=1または2であり;y=1または2であり;z=0または1であり;(x+y+z
)=3であり;
R15、R16、R18、R19、およびR20の各々は、独立して、Hを表すか、または1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはヒドロカルビル基を表し;
R17は、ハロゲン原子もしくはHを表すか、または、1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはC1−C40ヒドロカルビル基を表し;
R1、R2、R3、R4、R8、R9、R10、およびR11のうち少なくとも2つは、式(A)または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合であり;
R1’、R2’、R3’、およびR4’の各々は、同一でも異なっていてもよく、R1、R2、R3、R4と同一の群から選ばれ;好ましくは、R1’基、R2’基、R3’基、R4’基のうちの少なくとも1つは極性基または極性化性の基であり、モノマー基(B)に関して、−*は、式(A)または(B)を有する別のモノマー単位との結合を表し;
n’=1〜3である。
R’’’は、H、随意にフッ素化されたC1〜C20アルキル基、または随意にフッ素化されたC6〜C30アリール基を表し、好ましくは、随意にフッ素化されたC6〜C20アリール基を表す。
0のフルオレンモノマー単位と、を有する。
たは加水分解により置換される)。
X’は、ハロゲン原子または環状ホウ酸エステル基(cyclic borate group)であり;
Z’は、ハロゲン原子である。
び/またはLR 8889(登録商標)として提供)(すべてBASF社から入手可能)
、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、トリアクリル酸プロポキシル酸グリセロール(glycerol propoxylate triacrylate)、ペンタアクリル酸ジペンタエリトリトール、ヘキサアクリル酸ジペンタエリトリトール、エトキシ化テトラアクリル酸ペンタエリトリトール(サートマー社からSR494(登録商標)として提供)、ならびにこれらの混合物および組み合わせが挙げられる。本発明の組成物に反応性希釈剤を添加する場合は、所望される任意の量または有効量の反応性希釈剤が添加され、一実施形態では、少なくとも約1重量パーセントの担体、少なくとも約35重量パーセントの担体、約98重量パーセント以下の担体、約75重量パーセント以下の担体が添加されるが、希釈剤の量はこれらの範囲の外にあってよい。
は、誘電率の測定は、国際公開第2004/102690号で開示されている方法、または本明細書に開示される方法を用いて行い、好ましくは、本明細書に開示される方法を用いて行う。
以下、(A)として上記で定義したヘテロアセンモノマー単位の好ましい特性をいくつか挙げる。
で)置換されてよいC1−C10アルキル基(好ましくはC1−C4アルキル、最も好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、またはイソプロピル)と、からなる群より独立して選ばれる。
R6とR13は、トリアルキルシリルエチニル基、−C≡C−SiR22R23R24であり、ここでR22、R23、およびR24は、独立してC1−C4アルキルまたはC2−C4アルケニルを表し;
R1、R4、R8、およびR11は、水素;分枝もしくは非分枝の非置換C1−C4アルキル基;C1−C6アルコキシ基;およびC6−C12アリールオキシ基からなる群より独立して選ばれ;
ただし、R2/R3とR9/R10の各ペアのうち少なくとも1つは、式(A)、(A1)、または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合であり;
kとlは、独立して0または1であり、好ましくは、kとlの両方とも0である。
9、R10、およびR11は、水素、メチル、エチル、およびメトキシからなる群より独立して選ばれる。ただし、R2/R3とR9/R10の各ペアのうち少なくとも1つは、式(A)、(A1)、または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合である。
2)、または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合である。好適な一実施形態では、R2、R3、R9、およびR10は、同一であるか異なっており、水素、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、およびブチルオキシからなる群より独立して選ばれ、より好ましくは、水素、メチル、エチル、プロピル、およびメトキシからなる群より独立して選ばれる。ただし、R2/R3とR9/R10の各ペアのうち少なくとも1つは、式(A)、(A1)、(A2)、または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合である。
)式(A3)、(A4)を有するヘテロアセンモノマー単位を少なくとも20重量%含有し、式(B)を有するモノマー単位を少なくとも20重量%、好ましくは20〜80重量%含有する。
ている方法を、本発明で使用するヘテロアセン化合物の合成に使用することができる。本発明のPAHCの高誘電率類似体は、国際公開第2012/160383号および国際公開第2012/164282号に従って作製することができる。
以下、(B)として上記で定義したフルオレンモノマー単位の好ましい特性をいくつか挙げる。
の基であり、これらの極性基または極性化性の基は同一でも異なっていてもよい。
Ar1、Ar2、およびAr3は、同一でも異なっていてもよく、その各々は、随意に置換されたC6−40芳香族基(単環または多環)を独立して表す。好ましくは、Ar1、Ar2、およびAr3のうちの少なくとも1つは、少なくとも1つの極性基またはより極性化性の基で置換され、n=1〜20であり、好ましくは1〜10であり、より好ましくは1〜5である。好ましくは、Ar1、Ar2、およびAr3のうちの少なくとも1つ
は、1つ、2つ、3つ、または4つ、より好ましくは1つ、2つ、または3つ、より好ましくは1つまたは2つ、好ましくは1つの極性基またはより極性化性の基で置換され;
n”=1〜3である。
本発明の第1の態様による有機半導体組成物は、コポリマー組成物を含み、この組成物の1000Hz時の誘電率は、1.5超であり、より好ましくは3.4超、さらにより好ましくは1.5〜6.5、さらにより好ましくは3〜6.5、より好ましくは3.0〜5.0、さらにより好ましくは3.4〜4.5である。
板に塗布されるときの組成物の温度における、特定の溶媒中の当該コポリマーの溶解限度近くであることが多い。本発明の典型的な組成物は、コポリマーのいずれか1つを、組成物の総重量に対して約0.1重量%〜約20.0重量%、好ましくは0.5重量%〜約20.0重量%の範囲の濃度で含み、より典型的には約0.5重量%〜約10.0重量%、より典型的には0.5〜5.0重量%、より典型的には1〜3重量%の濃度で含む。
Appl. Phys., 1994, Volume 75, page 7954および国際公開第2005/055248号に開示されている手法を用いて行ってよく、好ましくは国際公開第2005/055248号に記載の手法を用いて行う。
本発明の有機半導体組成物を様々な基板に堆積させて、有機半導体層を形成することができる。
(i)本発明の有機半導体組成物と、溶媒とを混合して、半導体層配合物を形成すること。
(ii)上記配合物を基板に堆積させること。および
(iii)随意に溶媒を除去して、有機半導体層を形成すること。
定することができる。このASTM方法に記載の通り、種々の溶媒に材料を添加する。
ピロリドン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、デカリン、これらのうちの2つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。好ましくは、塩素化溶媒は一切使用しない。
半導体層を得ることができる。
加えて、本発明は、本発明の有機半導体組成物を含む電子デバイスを提供する。本発明の組成物を、例えば半導体層または半導体膜の形態で使用してよい。加えて、本発明は、好ましくは、本発明の有機半導体層を含む電子デバイスを提供する。
一般
本発明で使用するヘテロアセンモノマーに関して、1つの異性体が表示されているが、本発明は、純粋なシス異性体、純粋なトランス異性体、およびシス異性体とトランス異性体の混合物に適用される。
アリールオキシ、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールカルボニルオキシ、およびアリールオキシカルボニルオキシが挙げられる。
である一価の基をいう(すなわち環構造内には炭素原子のみが存在し、環構造の炭素原子のうちの1つがラジカルである)。
をいう。
ポリマー結合剤の粘度を低下させ、1000〜2000rpmのスピン速度範囲でスピンコーティングしたときに1ミクロン未満の厚さの膜が得られるようにするため、ポリマー結合剤をテトラリンで希釈した。ITOがコーティングされた洗浄済みの1×1インチのガラス基板上に、ポリマー結合剤溶液を500rpmで10秒間スピンコーティングし、続いて1500rpmで30秒間スピンコーティングした。
浸し、超音波浴(水温65℃超)に入れて脱イオン水で洗浄し、脱イオン水に浸し、超音波浴(水温65℃超)に入れて再度、脱イオン水で洗浄し、イソプロピルアルコールに浸し、超音波浴(水温65℃超)に入れて、スピン乾燥させた。
3030表面形状測定器(ニューヨーク州プレーンビューのVeecoから入手可能)
を用いて3か所の厚さを測定し、平均値を求めた。続いて、この値を用いてポリマー結合剤の誘電率を算出した。
ョンを用いて静電容量を測定した。ITO背面電極と外部プローブ電極間の電気接触を改善するため、導電性の銀ペーストを塗布した。外部環境の影響を確実に最小化するため、測定試料を金属板上の金属ボックスに入れた。
C=ε×εo×(A/d)
シャドウマスクを用いた熱蒸着プロセス、またはフォトリソグラフィにより、基板(ガラス基板またはPEN等のポリマー基板)にAuソースドレイン電極をパターニングする(Auを堆積させる前に、CrまたはTiの接着層を基板に堆積させる)。O2プラズマ洗浄プロセスを用いて、Au電極を随意に洗浄してもよい。次に、結合剤中の有機半導体溶液をスピンコーティングにより塗布する(試料を溶液で満たしてから、基板を500rmpで5秒間、さらに1500rpmで1分間回転させる)。次に、コーティングした基板をホットステージ上で風乾する。次に、誘電体材料(例えばFC−43に溶解した3重量%のPTFE−AF1600、シグマアルドリッチ カタログ番号469610)をス
ピンコーティングにより基板に塗布した(試料を満たしてから、500rpmで5秒間、さらに1500rpmで30秒間回転させる)。次に、基板をホットステージ上で風乾した(100℃で1分間)。次に、シャドウマスクを用いた蒸発により、ゲート電極(Au)をチャンネル領域上で画定する。
ションを設置することにより、結合剤に関するOTFTの移動度を特性評価する。ソースドレイン電圧(VDS)を−2V(線形)または−40V(飽和)に設定し、ゲート電圧(VG)を+20Vから−60Vまで走査する。ドレイン電流を測定し、相互コンダクタンスから移動度を算出する。
VGの勾配(S)から算出できる(式中、Ciは単位面積あたりの静電容量、Wはチャンネル幅、Lはチャンネル長である)。
生成物(1)を得た(17.58g、72%)。1H NMR(CDCl3,600MH
z)7.24(1H,d,J=5.2Hz),7.10(1H,d,J=5.2Hz),6.36(1H,s),6.05(1H,s),4.15−4.08(4H,m)4.02−3.98(4H,m)
8.76mL、96.9mmol、1.3当量)を滴下添加して、溶液を1時間撹拌した。次に、N−ブロモスクシンイミド(アルドリッチB81255、16.11g、90.5mmol、1.2当量)を15分かけて何回かに分けて添加した。次に、反応混合物を撹拌しながら一晩置いて、室温まで温めた。次に水(200mL)をゆっくり添加した。次に、混合物をジエチルエーテル(2×250mL)で抽出し、抽出物を水(3×500mL)で洗浄した。有機抽出物をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、真空中で濃縮して、淡黄色の油(14.59g)を得た。この生成物を3MのHCl(131mL)に添加し、1時間、加熱還流した。混合物を室温まで冷ましてから、ジエチルエーテル(3×750mL)で抽出した。合わせた有機抽出物をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、真空中で濃縮して、茶色の半固形物(7.38g)を得た。次に、この生成物をドライカラムクロマトグラフィー(勾配溶出:ヘプタン;10%−50% EtOAc:ヘプタン)で精製
して、黄色の固体状の生成物(2)を得た(1.93g、12%)。1H NMR(CD
Cl3,300MHz)10.38(1H,s),10.26(1H,s),7.60(1H,s)
、オレンジ色/茶色の固体状の生成物(3)を得た(1.63g、83%)。MS(AS
AP)m/z 478(M+,100%)
50℃まで加熱し、1時間撹拌した。次に、反応混合物を10℃未満まで冷却し、ろ過により固形物を回収した。ろ過ケークをメタノール(50mL)と水(50mL)で洗浄して、暗赤色の固形物(1.94g)を得た。次に、この固形物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(勾配溶出:ヘプタン;10%−50% DCM:ヘプタン)で精製して、
赤色の結晶性固体(1.31g)を得た。この生成物をさらにフラッシュカラムクロマトグラフィー(勾配溶出:ヘプタン;10%−50% DCM:ヘプタン)で精製して、赤
色の結晶性固体(1.05g)を得た。次に、この生成物をMeOH(50mL)中でスラリー状にし、ろ過により固形物を回収した。次に生成物(4)を真空オーブン中で乾燥させた(0.89g、1.23mmol、37%)。1H NMR(300MHz,CD
Cl3)8.96−8.93(8H,m),7.47−7.45(4H,m),1.27−1.20(36H,m),0.95−0.86(24H,m) MS(ASAP)m/
z 725(M+,100%)
00g、9.12mmol、1当量)のTHF(シグマアルドリッチ401757、20mL)溶液を、N2下において−75℃で撹拌した。n−ブチルリチウム(Acros
10181852、2.5Mヘキサン溶液、8.75mL、21.9mmol、2.4当量)を滴下添加した。反応混合物を−75℃で1時間撹拌させた後、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(シグマアルドリッチ417149、4.41g、23.71mmol、2.6当量)を添加した。次に、反応混合物を撹拌しながら一晩置いて、室温まで温めた。水(30mL)とDCM(60mL)を添加し、有機層を分離し、水層をDCM(3×30mL)で抽出した。合わせた有機抽出物をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、真空中で濃縮して、無色の固形物(5.62g)を得た。この生成物をドライカラムクロマトグラフィー(勾配溶出:20%−50%
DCM:ヘプタン)で精製して、無色の固体状の生成物(5)を得た(4.20g、6
.54mmol、71%)。1H NMR(500MHz,CDCl3)7.82−7.
70(6H,m),2.01−1.97(4H,m),1.39(24H,s),1.20−1.01(20H,m),0.81(6H,t,J=7.1Hz),0.55−0.53 (4H,m)
2,8−ジブロモ−5,11−ビス(トリエチルシリルエチニル)アントラ[2,3−b:6,7−b’]ジチオフェン/2,8−ジブロモ−5,11−ビス(トリエチルシリルエチニル)アントラ[2,3−b:7,6−b’]ジチオフェン(4)(0.50g、0.69mmol、0.5当量)、2,7−ジブロモ−9.9−ジ−n−オクチルフルオレン(0.38g、0.69mmol、0.5当量)、2,7−ビス[(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)]−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン(5)(0.89g、1.38mmol、1当量)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Acros 12065360、0.048g、
0.04mmol、0.03当量)、2M K2CO3(4.2mL、8.30mmol
、6当量)、およびトルエン(70mL)中のAliquat(登録商標)336(シグマアルドリッチ205613、8滴)の混合物を、窒素流を30分間溶液に通すことにより脱ガスした。次に、混合物を加熱環流した。1時間後、HPLCによりオリゴマーの存在を確認した。反応混合物を静置して50℃まで冷ました。反応混合物を撹拌しながらMeOH(210mL)に注いだ。30分後、沈降した固形物をブフナー漏斗を用いて吸引ろ過して、赤茶色の固形物(1.25g)を得た。この固形物をドライカラムクロマトグラフィー(溶出液:THF)により精製した。生成物を含有する画分を真空中で濃縮して、赤褐色の固形物(0.87g)を得た。フラッシュカラムクロマトグラフィー(溶出液:THF)により、再度この固形物を精製した。生成物を含有する画分を真空中で濃縮して、赤褐色の固形物(0.87g)を得た。この固形物をTHF(30mL)に溶かし、メタノール(90mL)に注いだ。沈殿した固形物を、ブフナー漏斗を用いた吸引ろ過により回収した。次に、得られた固形物を真空オーブン内で乾燥させて、濃い緑色の粉末状の生成物(0.79g)を得た(75% フルオレン:25% ADT)。この生成物の特性は次のように評価された:GPC Mn=6146ダルトン、Nav=14。
販の2,4−ジメチルポリトリアリールアミン(ハイフォースリサーチ社の2,4−ジメチルポリトリアリールアミンポリマーのコードはPE3)を我々の誘電率試験で測定した
ところ、結合剤PE3の誘電率は2.98であった。)
アントラセンジチオフェン−ジオクチル−フルオレンのコポリマーであるPAHC(1)と、ポリアセン1(1,4,8,11−テトラメチル−6,13−ビス(トリエチルシリルエチニル)ペンタセン)(重量比70:30)を、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン中で全固形物1.7重量%で溶解させた。これを、上記の方法に従ってOTFTの有機半導体層としてコーティングした。この配合物をパターニング済みAuソース/ドレイン電極(イソプロピルアルコール中の10mMペンタフルオロベンゼンチオール溶液で処理された50nm厚Au)にスピンコーティングした(500rpmで5秒、次いで1500rpmで60秒)。上部にフルオロポリマー誘電体Cytop(Asahi Chemical
Co.)をスピンコーティングした(500rpmで5秒、次いで1500rpmで20秒)。最後に、シャドウマスク蒸発によりAuゲート電極を堆積させた。
Claims (29)
- 下記の式(A)を有する少なくとも1つのヘテロアセンモノマー単位と、下記の式(B)を有する少なくとも1つのモノマー単位との混合物を含む、多環芳香族炭化水素コポリマー(PAHC)。
Y1とY2は、独立してO、S、Se、またはNR’’’’であり、
R’’’’は、H、または環状、直鎖状、もしくは分枝状のC1〜C10アルキル基であり、好ましくはHであり、
kは、0または1であり、
lは、0または1であり、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、およびR14の各々は、同一でも異なっていてもよく、独立して、水素;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C1−C40アルキル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルケニル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルキニル基;随意に置換されたC3−C40シクロアルキル基;随意に置換されたC6−C40アリール基;随意に置換されたC1−C40複素環基;随意に置換されたC1−C40ヘテロアリール基;随意に置換されたC1−C40アルコキシ基;随意に置換されたC6−C40アリールオキシ基;随意に置換されたC7−C40アルキルアリールオキシ基;随意に置換されたC2−C40アルコキシカルボニル基;随意に置換されたC7−C40アリールオキシカルボニル基;シアノ基(−CN);カルバモイル基(
−C(=O)NR15R16);カルボニル基(−C(=O)−R17);カルボキシル基(−CO2R18)シアネート基(−OCN);イソシアノ基(−NC);イソシアネート基(−NCO);チオシアネート基(−SCN)もしくはチオイソシアネート基(−NCS);随意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F、I);−SR19;−SO3H;−SO2R20;−SF5;随意に置換されたシリル基;−SiH2R22基で置換されたC2−C10アルキニル基、−SiHR22R23基で置換されたC2−C10アルキニル、または−Si(R22)x(R23)y(R24)z基で置換されたC2−C10アルキニル部分を表し;
各R22基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
各R23基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
R24は、水素、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基、置換C5−C20アリール基、置換または非置換C6−C20アリールアルキレン基、アセチル基、ならびに環中にO、N、S、およびSeのうち少なくとも1つを含む置換または非置換C3−C20複素環からなる群より独立して選ばれ;
x=1または2であり;y=1または2であり;z=0または1であり;(x+y+z)=3であり;
R15、R16、R18、R19、およびR20の各々は、独立して、Hを表すか、または1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはヒドロカルビル基を表し;
R17は、ハロゲン原子もしくはHを表すか、または、1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはC1−C40ヒドロカルビル基を表し;
kとlは、独立して0、1、または2であり;
R1、R2、R3、R4、R8、R9、R10、およびR11のうち少なくとも2つは、式(A)または(B)を有する別のモノマー単位との−*で表される結合であり;
R1’、R2’、R3’、およびR4’の各々は、同一でも異なっていてもよく、R1、R2、R3、R4と同一の群から選ばれ;好ましくは、R1’基、R2’基、R3’基、R4’基のうちの少なくとも1つは極性基または極性化性の基であり、前記モノマー基(B)に関して、−*は、前記式(A)または(B)を有する別のモノマー単位との結合を表し;R1’、R2’、R3’、R4’は、同一でも異なっていてもよく、各々独立して、水素;分枝または非分枝の置換または非置換C1−C40アルキル基;分枝または非分枝の置換または非置換C2−C40アルケニル基;分枝または非分枝の置換または非置換C2−C40アルキニル基;随意に置換されたC3−C40シクロアルキル基;随意に置換されたC6−C40アリール基;随意に置換されたC1−C40複素環基;随意に置換されたC1−C40ヘテロアリール基;随意に置換されたC1−C40アルコキシ基;随意に置換されたC6−C40アリールオキシ基;随意に置換されたC7−C40アルキルアリールオキシ基;随意に置換されたC2−C40アルコキシカルボニル基;随意に置換されたC7−C40アリールオキシカルボニル基;シアノ基(−CN);カルバモイル基(−C(=O)NR15R16);カルボニル基(−C(=O)−R17);カルボキシル基(−CO2R18)シアネート基(−OCN);イソシアノ基(−NC);イソシアネート基(−NCO);チオシアネート基(−SCN)またはチオイソシアネート基(−NCS);随意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F、I);−SR19;−SO3H;−SO2R20;−SF5;随意に置
換されたシリル基を表し;
好ましくは、R1’、R2’、R3’、R4’のうち少なくとも1つは、以下からなる群より独立して選ばれる少なくとも1つの極性基またはより極性化性の基で置換される:ニトロ基;ニトリル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で置換されたC1−40アルキル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40アルコキシ基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40カルボン酸基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC2−40カルボン酸エステル;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸エステル;シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、チオイソシアネート基;およびニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたアミノ基;ならびにこれらの組み合わせ。) - 前記コポリマー中のすべてのモノマー単位(A)および(B)の総計に対して、少なくとも20〜40%のモノマー(A)と、少なくとも60〜80%のモノマー(B)とを含む、請求項1に記載のPAHC。
- R2=R10であり、R2とR10は、H、F、Cl、Br、I、CN、随意にフッ素化もしくは全フッ素置換され1〜20個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝状のアルキル、随意にフッ素化もしくは全フッ素置換され1〜20個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ、または随意にフッ素化もしくは全フッ素置換され6〜30個の炭素原子を有するアリールを表す、請求項1または2に記載のPAHC。
- k=l=0または1である、請求項1〜3のいずれかに記載のPAHC。
- k=0かつl=0である、請求項4に記載のPAHC。
- 前記コポリマーの数平均分子量(Mn)が500〜100,000である、請求項1〜5のいずれかに記載のPAHC。
- 前記コポリマーは、1000Hz時の誘電率が1.5超、好ましくは3.4〜8の半導体コポリマーである、請求項1〜6のいずれかに記載のPAHC。
- 前記コポリマーは1000Hz時の誘電率が3.4〜8.0の半導体コポリマーである、請求項7に記載のPAHC。
- R1、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R11、R12、R13、およびR14基のうちの少なくとも1つ、好ましくは2つは、(トリ−C1−20ヒドロカルビルシリル)C1−4アルキニル−基であり、好ましくは(トリヒドロカルビルシリル)エチニル−基である、請求項1〜8のいずれかに記載のPAHC。
- R1、R3、R4、R8、R9、およびR11は水素である、請求項1〜9のいずれかに記載のPAHC。
- −Si(R22)x(R23)y(R24)zは、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリプロピルシリル、ジメチルエチルシリル、ジエチルメチルシリル、ジメチルプロピルシリル、ジメチルイソプロピルシリル、ジプロピルメチルシリル、ジイソプロピルメチルシリル、ジプロピルエチルシリル、ジイソプロピルエチルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、トリイソプロピルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、ジイソプロピルフェニルシリル、ジフェニルエチルシリル、ジエチルフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、およびメチルメトキシフェニルからなる群より選ばれる、請求項1〜10のいずれかに記載のPAHC。 - R1’、R2’、R3’、R4’のうちの少なくとも1つは極性基または極性化性の基であり、n=1〜20である、請求項1〜13のいずれかに記載のPAHC。
- 前記1つ以上の極性基または極性化性の基は、ニトロ基;ニトリル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で置換されたC1−40アルキル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40アルコキシ基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40カルボン酸基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC2−40カルボン酸エステル;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸エステル;シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、チオイソシアネート基;およびニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたアミノ基;ならびにこれらの組み合わせからなる群より独立して選ばれる、請求項14に記載のPAHC。
- R1’基、R2’基、R3’基、R4’基のうちの1つまたは2つは、メトキシ、シアノメチル、CN、およびこれらの混合から選ばれ、n=1〜10である、請求項14または15に記載のPAHC。
- 下記の1つ以上のモノマー(C)、(D)、(D’)、および/または(E)をさらに含む、請求項1〜16のいずれかに記載のPAHC。
n”=1〜3であり;
Ar1、Ar2、およびAr3は、同一でも異なっていてもよく、その各々は、随意に置換されたC6−40芳香族基(単環または多環)を独立して表し;
前記コポリマー中の全モノマー単位の総重量に対して、モノマー(A)は少なくとも20重量%の量で存在し、モノマー(B)は少なくとも60重量%の量で存在し、残り部分はモノマー(C)、(D)、(D’)、および/または(E)で構成される。) - 請求項1〜17のいずれかに記載のPAHCと、ポリアセン小分子と、を含む有機半導体組成物であって、該PAHCの1000Hz時の誘電率は3.4〜8.0である、有機半導体組成物。
- 請求項1〜17のいずれかに記載のPAHCと、ポリアセン小分子と、を含む有機半導体組成物であって、該PAHCの1000Hz時の誘電率は3.4〜4.5である、有機半導体組成物。
- 請求項1〜17のいずれかに記載の多環芳香族炭化水素コポリマー(PAHC)を含み、1000Hz時の誘電率が3〜6.5である、有機半導体組成物。
- 1000Hz時の誘電率が3.4〜8、好ましくは4〜6.5である有機結合剤を含む、請求項20に記載の有機半導体組成物。
- 少なくとも0.5cm2V−1s−1、好ましくは2〜5.0cm2V−1s−1の電荷移動度値を有する、請求項18〜21のいずれかに記載の有機半導体組成物。
- 請求項1〜22のいずれかに記載のPAHCまたは有機半導体組成物を含む、有機半導体層。
- 請求項1〜23のいずれかに記載のPAHC、有機半導体組成物、または半導体層を含む、電子デバイス。
- 有機薄膜トランジスタ(OTFT)、有機発光ダイオード(OLEDS)、光検出器、有機光起電力(OPV)電池、センサー、レーザー、記憶素子、および論理回路から選ばれる、請求項24に記載の電子デバイス。
- 請求項1〜22のいずれかに記載のPAHCまたは有機半導体組成物を含む、インク。
- 多環芳香族炭化水素コポリマー(PAHC)の製造方法であって、下記の構造(A’)と(B’)から選ばれる少なくとも1つのポリアセンモノマー単位を含有する組成物を共重合させることを含む、製造方法。
Y1とY2は、独立してO、S、Se、またはNR’’’’であり、
R’’’’は、H、または環状、直鎖状、もしくは分枝状のC1〜C10アルキル基であり、好ましくはHであり、
kは、0または1であり、
lは、0または1であり、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、およびR14の各々は、同一でも異なっていてもよく、独立して、水素;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C1−C40アルキル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルケニル基;分枝もしくは非分枝の置換もしくは非置換C2−C40アルキニル基;随意に置換されたC3−C40シクロアルキル基;随意に置換されたC6−C40アリール基;随意に置換されたC1−C40複素環基;随意に置換されたC1−C40ヘテロアリール基;随意に置換されたC1−C40アルコキシ基;随意に置換されたC6−C40アリールオキシ基;随意に置換されたC7−C40アルキルアリールオキシ基;随意に置換されたC2−C40アルコキシカルボニル基;随意に置換されたC7−C40アリールオキシカルボニル基;シアノ基(−CN);カルバモイル基(−C(=O)NR15R16);カルボニル基(−C(=O)−R17);カルボキシル基(−CO2R18)シアネート基(−OCN);イソシアノ基(−NC);イソシアネート基(−NCO);チオシアネート基(−SCN)もしくはチオイソシアネート基(−NCS);随意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F、I);−SR19;−SO3H;−SO2R20;−SF5;随意に置換されたシリル基;−SiH2R22基で置換されたC2−C10アルキニル基、−SiHR22R23基で置換されたC2−C10アルキニル、または−Si(R22)x(R23)y(R24)z基で置換されたC2−C10アルキニル部分を表し;
各R22基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
各R23基は、分枝または非分枝の置換または非置換C1−C10アルキル基、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C10アルケニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、および置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基からなる群より独立して選ばれ;
R24は、水素、分枝または非分枝の置換または非置換C2−C10アルキニル基、置換または非置換C2−C20シクロアルキル基、置換または非置換C6−C20シクロアルキルアルキレン基、置換C5−C20アリール基、置換または非置換C6−C20アリールアルキレン基、アセチル基、ならびに環中にO、N、S、およびSeのうち少なくとも1つを含む置換または非置換C3−C20複素環からなる群より独立して選ばれ;
x=1または2であり;y=1または2であり;z=0または1であり;(x+y+z)=3であり;
R15、R16、R18、R19、およびR20の各々は、独立して、Hを表すか、ま
たは1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはヒドロカルビル基を表し;
R17は、ハロゲン原子もしくはHを表すか、または、1つ以上のヘテロ原子を随意に含む随意に置換されたC1−C40カルビル基もしくはC1−C40ヒドロカルビル基を表し;
R1’、R2’、R3’、R4’は、同一でも異なっていてもよく、各々独立して、水素;分枝または非分枝の置換または非置換C1−C40アルキル基;分枝または非分枝の置換または非置換C2−C40アルケニル基;分枝または非分枝の置換または非置換C2−C40アルキニル基;随意に置換されたC3−C40シクロアルキル基;随意に置換されたC6−C40アリール基;随意に置換されたC1−C40複素環基;随意に置換されたC1−C40ヘテロアリール基;随意に置換されたC1−C40アルコキシ基;随意に置換されたC6−C40アリールオキシ基;随意に置換されたC7−C40アルキルアリールオキシ基;随意に置換されたC2−C40アルコキシカルボニル基;随意に置換されたC7−C40アリールオキシカルボニル基;シアノ基(−CN);カルバモイル基(−C(=O)NR15R16);カルボニル基(−C(=O)−R17);カルボキシル基(−CO2R18)シアネート基(−OCN);イソシアノ基(−NC);イソシアネート基(−NCO);チオシアネート基(−SCN)またはチオイソシアネート基(−NCS);随意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F、I);−SR19;−SO3H;−SO2R20;−SF5;随意に置換されたシリル基を表し;
好ましくは、R1’、R2’、R3’、R4’のうち少なくとも1つは、以下からなる群より独立して選ばれる少なくとも1つの極性基またはより極性化性の基で置換され:ニトロ基;ニトリル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で置換されたC1−40アルキル基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40アルコキシ基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC1−40カルボン酸基;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたC2−40カルボン酸エステル;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸;ニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたスルホン酸エステル;シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、チオイソシアネート基;およびニトロ基、ニトリル基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、またはチオイソシアネート基で随意に置換されたアミノ基;ならびにこれらの組み合わせ;
R1’基、R2’基、R3’基、R4’基のうちの少なくとも1つは極性基または極性化性の基であり、n=1〜20であり;
X’は、ハロゲン原子または環状ホウ酸エステル基(cyclic borate group)であり;
Y’は、ハロゲン原子である。) - 請求項2〜17に定義されている特徴のいずれかをさらに含む、請求項27に記載の多環芳香族炭化水素コポリマー(PAHC)の製造方法。
- 請求項27または28に記載の方法に従って得られる多環芳香族炭化水素コポリマー(PAHC)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1203159.7 | 2012-02-23 | ||
GBGB1203159.7A GB201203159D0 (en) | 2012-02-23 | 2012-02-23 | Organic semiconductor compositions |
PCT/GB2013/050461 WO2013124686A1 (en) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | Organic semiconductor compositions |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018000688A Division JP6841555B2 (ja) | 2012-02-23 | 2018-01-05 | 有機半導体組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015515505A true JP2015515505A (ja) | 2015-05-28 |
JP2015515505A5 JP2015515505A5 (ja) | 2016-04-14 |
Family
ID=45991632
Family Applications (10)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014558215A Active JP6165782B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558218A Active JP6541352B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558216A Pending JP2015515505A (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558213A Active JP6166285B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558214A Active JP6165781B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558212A Active JP6166284B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558217A Active JP6358961B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2017122552A Pending JP2017226839A (ja) | 2012-02-23 | 2017-06-22 | 有機半導体組成物 |
JP2018000688A Active JP6841555B2 (ja) | 2012-02-23 | 2018-01-05 | 有機半導体組成物 |
JP2018027384A Withdrawn JP2018104716A (ja) | 2012-02-23 | 2018-02-19 | 有機半導体組成物 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014558215A Active JP6165782B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558218A Active JP6541352B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
Family Applications After (7)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014558213A Active JP6166285B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558214A Active JP6165781B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558212A Active JP6166284B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2014558217A Active JP6358961B2 (ja) | 2012-02-23 | 2013-02-25 | 有機半導体組成物 |
JP2017122552A Pending JP2017226839A (ja) | 2012-02-23 | 2017-06-22 | 有機半導体組成物 |
JP2018000688A Active JP6841555B2 (ja) | 2012-02-23 | 2018-01-05 | 有機半導体組成物 |
JP2018027384A Withdrawn JP2018104716A (ja) | 2012-02-23 | 2018-02-19 | 有機半導体組成物 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (9) | US9997710B2 (ja) |
EP (8) | EP2817364B1 (ja) |
JP (10) | JP6165782B2 (ja) |
KR (7) | KR102085390B1 (ja) |
CN (10) | CN104736597B (ja) |
GB (1) | GB201203159D0 (ja) |
IN (7) | IN2014DN07352A (ja) |
WO (7) | WO2013124687A1 (ja) |
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CN106029678A (zh) | 2014-04-29 | 2016-10-12 | 沙特基础工业全球技术公司 | 用于光电应用的具有高电导率和高吸收的新型小分子/低聚物的合成 |
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-
2012
- 2012-02-23 GB GBGB1203159.7A patent/GB201203159D0/en not_active Ceased
-
2013
- 2013-02-25 US US14/379,801 patent/US9997710B2/en active Active
- 2013-02-25 US US14/379,776 patent/US10833274B2/en active Active
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050462 patent/WO2013124687A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 KR KR1020147026489A patent/KR102085390B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 US US14/379,790 patent/US10056550B2/en active Active
- 2013-02-25 KR KR1020147026487A patent/KR102055027B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 KR KR1020147026492A patent/KR102077484B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 EP EP13706697.3A patent/EP2817364B1/en active Active
- 2013-02-25 KR KR1020147026493A patent/KR101998450B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 CN CN201380015974.0A patent/CN104736597B/zh active Active
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050458 patent/WO2013124683A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 EP EP13706703.9A patent/EP2817357B1/en active Active
- 2013-02-25 EP EP13706700.5A patent/EP2817354B1/en active Active
- 2013-02-25 CN CN201611011979.8A patent/CN106883382B/zh active Active
- 2013-02-25 US US14/379,780 patent/US10497874B2/en active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558215A patent/JP6165782B2/ja active Active
- 2013-02-25 EP EP13706702.1A patent/EP2817356B1/en active Active
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050459 patent/WO2013124684A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 EP EP13706698.1A patent/EP2817351B1/en active Active
- 2013-02-25 CN CN201380016088.XA patent/CN104204058B/zh active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558218A patent/JP6541352B2/ja active Active
- 2013-02-25 CN CN201380015956.2A patent/CN104204028B/zh active Active
- 2013-02-25 CN CN201380015962.8A patent/CN104204030B/zh active Active
- 2013-02-25 EP EP21217284.5A patent/EP3998304A3/en not_active Withdrawn
- 2013-02-25 JP JP2014558216A patent/JP2015515505A/ja active Pending
- 2013-02-25 US US14/379,773 patent/US9799830B2/en active Active
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050457 patent/WO2013124682A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 CN CN201380015964.7A patent/CN104204027B/zh active Active
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050460 patent/WO2013124685A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 CN CN201710029610.8A patent/CN106883383B/zh active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558213A patent/JP6166285B2/ja active Active
- 2013-02-25 KR KR1020147026490A patent/KR102055028B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 EP EP13706701.3A patent/EP2817355B1/en active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558214A patent/JP6165781B2/ja active Active
- 2013-02-25 KR KR1020147026488A patent/KR102046675B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 KR KR1020147026491A patent/KR102055029B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050461 patent/WO2013124686A1/en active Application Filing
- 2013-02-25 WO PCT/GB2013/050463 patent/WO2013124688A2/en active Application Filing
- 2013-02-25 CN CN201610584833.6A patent/CN105949441B/zh active Active
- 2013-02-25 CN CN201380015957.7A patent/CN104204029B/zh active Active
- 2013-02-25 US US14/379,797 patent/US10056551B2/en active Active
- 2013-02-25 US US14/379,785 patent/US10050202B2/en active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558212A patent/JP6166284B2/ja active Active
- 2013-02-25 CN CN201380015953.9A patent/CN104204026B/zh active Active
- 2013-02-25 JP JP2014558217A patent/JP6358961B2/ja active Active
- 2013-02-25 EP EP13706699.9A patent/EP2817352B1/en active Active
-
2014
- 2014-09-02 IN IN7352DEN2014 patent/IN2014DN07352A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7354DEN2014 patent/IN2014DN07354A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7351DEN2014 patent/IN2014DN07351A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7349DEN2014 patent/IN2014DN07349A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7353DEN2014 patent/IN2014DN07353A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7347DEN2014 patent/IN2014DN07347A/en unknown
- 2014-09-02 IN IN7348DEN2014 patent/IN2014DN07348A/en unknown
-
2017
- 2017-06-22 JP JP2017122552A patent/JP2017226839A/ja active Pending
- 2017-09-18 US US15/706,943 patent/US10580989B2/en active Active
-
2018
- 2018-01-04 US US15/861,867 patent/US10707420B2/en active Active
- 2018-01-05 JP JP2018000688A patent/JP6841555B2/ja active Active
- 2018-02-19 JP JP2018027384A patent/JP2018104716A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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