JP2015513464A5

JP2015513464A5 -

Info

Publication number: JP2015513464A5
Application number: JP2014560094A
Authority: JP
Filing date: 2013-03-01
Publication date: 2016-04-21
Anticipated expiration: 2033-03-01

Claims

求核性アミンおよびプロトン性非水性液体より成るイオン性液体で形成される溶液を含む溶媒系であって、前記イオン性液体は、酸性ガスと反応して、１）カルバメート塩、両性イオンスルファミン酸、サルフェート塩またはこれの組合せおよび２）プロトン化弱酸を含むイオン溶液を形成する、前記溶媒系。
２つ以上の求核性アミンおよび２つ以上の非水性液体の混合物で形成される溶液を含む溶媒系であって、前記求核性アミンの１つ以上は、酸性ガスと反応して、カルバメート塩、混合カルバメート、塩、両性イオンスルファミン酸およびサルフェート塩の１つ以上を形成する構造を有する、前記溶媒系。
求核性アミン；非求核性窒素塩基；および非水性液体で形成される溶液を含む溶媒系であって、前記求核性アミンは、酸性ガスと反応して、カルバメート塩、混合カルバメート塩、スルファミン酸、スルファメートまたはサルフェート塩を形成する構造を有し、ならびに前記非求核性窒素塩基および非水性液体は、反応して、混合カルバメート塩、カーボネートエステルまたはカーボネートエステルのヘテロ原子類似体を形成する、前記溶媒系。
酸性ガスと反応して、アミンカルバメート塩、両性イオンスルファミン酸、サルフェート塩またはこれの混合物を形成する構造を有する、ニートの求核性アミンより成る、溶媒系。
酸性ガスと反応して、カルバメート、混合カルバメート、スルファミン酸、サルフェート塩またはこれの混合物を形成する構造を有する、１つ以上の求核性アミンおよび１つ以上の非求核性窒素塩基の混合物で形成される溶液を含む、溶媒系。
前記求核性アミンが疎水性である、請求項１から５のいずれかに記載の溶媒系。
前記非求核性窒素塩基が、疎水性または水と実質的に不混和性である、請求項３または請求項５に記載の溶媒系。
水と実質的に不混和性である、請求項１から５のいずれかに記載の溶媒系。
水１００ｍＬにつき溶媒約２０ｇ未満の水溶解度を有する、請求項１から５のいずれかに記載の溶媒系。
前記酸性ガスが、ＣＯ_２、ＳＯ_２、ＣＯＳ、ＣＳ_２、ＮＯ_ｘまたはこれの組合せを含む、請求項１から５のいずれかに記載の溶媒系。
前記酸性ガスが、ＣＯ_２またはＳＯ_２を含む、請求項１から５のいずれかに記載の溶媒系。
前記求核性アミンが、第１級アミン、第２級アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ペンタアミン、環式アミン、環式ジアミン、アミンオリゴマー、ポリアミン、アルコールアミンおよびこれの混合物から成る群より選択される、請求項１に記載の溶媒系。
前記プロトン性非水性液体が、約８から約１５のｐＫａを有する液体である、請求項１に記載の溶媒系。
前記プロトン性非水性液体が、フッ素化アルコール、場合により置換されたフェノール；窒素複素環およびこれの混合物から成る群より選択される、請求項１に記載の溶媒系。
請求項１に記載の溶媒系であって、前記プロトン性非水性液体が、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール；２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパノール；２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブタノール；２，２，２−トリフルオロエタノール；ノナフルオロ−１−ヘキサノール；４，４，５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロヘプタノール；１，１，３，３−ヘキサフルオロ−２−フェニル−２−プロパノール；４−メトキシフェノール；４−エトキシフェノール；２−エトキシフェノール；４−プロポキシフェノール；イミダゾール；ベンゾイミダゾール；Ｎ−メチルイミダゾール；１−トリフルオロアセチルイミダゾール；１，２，３−トリアゾール；１，２，４−トリアゾール；２−トリフルオロメチルピラゾール；３，５−ビストリフルオロメチルピラゾール；３−トリフルオロメチルピラゾール、２−フルオロフェノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノール、２−トリフルオロメチルフェノール、３−トリフルオロメチルフェノール、４−トリフルオロメチルフェノールおよびこれの混合物から成る群より選択される、溶媒系。
前記求核性アミンが、３−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、４−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、２−フルオロフェネチルアミン、３−フルオロフェネチルアミン、４−フルオロフェネチルアミンおよびこれの混合物から成る群より選択される、請求項３に記載の溶媒系。
前記非求核性窒素塩基が、グアニジンまたは置換グアニジンである、請求項３に記載の溶媒系。
前記プロトン性非水性液体が、５個以上の炭素を有するフッ素化アルコールである、請求項３に記載の溶媒系。
前記求核性アミンが、３−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミンである、請求項４に記載の溶媒系。
前記１つ以上の求核性アミンが、第１級または第２級アミンを含み、および前記１つ以上の非求核性窒素塩基が、第３級アミン、アミジンおよび／またはグアニジンを含む、請求項５に記載の溶媒系。
前記第１級アミン、第２級アミン、第３級アミン、グアニジンおよびアミジンの１つ以上がフッ素化されている、請求項２０に記載の溶媒系。
前記第１級または第２級アミンが、３−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、４−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、２−フルオロフェネチルアミン、３−フルオロフェネチルアミンおよび４−フルオロフェネチルアミンから成る群より選択される、請求項２０に記載の溶媒系。
前記２つ以上の求核性アミンが、アルキルフルオロ芳香族アミンである、請求項２に記載の溶媒系。
前記アルキルフルオロ芳香族アミンが、３−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、４−フルオロ−Ｎ−メチルベンジルアミン、２−フルオロフェネチルアミン、３−フルオロフェネチルアミンおよび４−フルオロフェネチルアミンから成る群より選択される、請求項２３に記載の溶媒系。
前記２つ以上の非水性液体が、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール、３，３，４，４，５，５，６，６−ヘキサフルオロブタノールおよび４，４，５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロヘプタノールから成る群より選択される、請求項２３に記載の溶媒系。
酸性ガス含有ガス流に請求項１から２４に記載の溶媒系のいずれかを接触させることを含む、ガス流から酸性ガスを除去する方法。
酸性ガスリッチ溶媒および酸性ガス・リーン・ガス流を回収することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
前記酸性ガスリッチ溶媒中に存在するよりも低い含有率で酸性ガスを含む再生溶媒を形成するために熱を加えることによって、前記酸性ガスリッチ溶媒を再生することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
前記再生成分によって加えられた前記熱が、低圧流、高温煙道ガスまたはこれの組合せから成る群より選択される供給源から得られる、請求項２８に記載の方法。
前記ガス含有流が、ＣＯ_２、ＳＯ_２、ＣＯＳ、ＣＳ_２、ＮＯ_ｘまたはこれの組合せを含む混合ガス流である、請求項２６に記載の方法。
前記溶媒系が溶媒の性能を低下させることなく、約２０体積％以下の水を許容する、請求項２６に記載の方法。