JP2015512132A5

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Publication number: JP2015512132A5
Application number: JP2014559907A
Authority: JP
Filing date: 2013-02-11
Publication date: 2016-03-17
Anticipated expiration: 2033-02-11

Description

実施例１の光結合層も試験され、ポリマーシラン表面処理剤のより低い濃度を含有することを鑑みて、剛性の増加に起因してあまり好ましくないことが判明された。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２７］に記載する。
[１]
光学フィルムを準備することと、
基板を準備することと、
光結合層を、前記光学フィルムの表面層、前記基板、又はそれらの組み合わせに適用することと、ここに前記光結合層は、
少なくとも１．８５の屈折率を有する無機ナノ粒子少なくとも４０重量％、及び
ポリマーシラン表面処理剤、を含み、
前記光学フィルムを前記基板に積層して積層光学構造体を形成することと、を含む、光学フィルムを結合する方法。
[２]
前記光学フィルムの前記表面層が、少なくとも１．６０の屈折率を有する、項目１に記載の方法。
[３]
前記光学フィルムが光抽出フィルムであり、前記基板が上面発光型有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスである、項目１に記載の方法。
[４]
前記光抽出フィルムが、
実質的に透明な基板と、
前記実質的に透明な基板上の抽出要素と、
前記抽出要素の上に適用され、実質的に平坦な表面を形成する平坦化バックフィル層と、を備え、
前記バックフィル層の屈折率が、前記抽出要素の屈折率よりも高い、項目２又は３に記載の方法。
[５]
前記抽出要素が多周期領域を有するエンジニアードナノ構造体を有し、前記多周期領域が前記ナノ構造体の反復領域を有し、前記領域が、第１の複数の周期的特性を有するナノ構造体の第１の組と、前記第１の複数の周期的特性とは異なる第２の複数の周期的特性を有するナノ構造体の第２の組とを有する、項目４に記載の方法。
[６]
前記抽出要素が、周期構造体と、前記周期構造体の上に適用された光散乱ナノ粒子の層とを有する、項目４に記載の方法。
[７]
前記光結合層が、前記バックフィル層に適用される、項目４〜６のいずれか一項に記載の方法。
[８]
前記光結合層が、前記上面発光型有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスに適用される、項目３〜６のいずれか一項に記載の方法。
[９]
前記光結合層が、積層されるときに実質的に溶媒を含まない、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
[１０]
前記光結合層が、１，０００ｇ／モル以下の分子量を有する（メタ）アクリレート成分を実質的に含まない、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
[１１]
光学フィルムと、
前記光学フィルムの表面層上に配設される光結合層であって、
少なくとも１．８５の屈折率を有する少なくとも４０重量％の無機ナノ粒子、及び
ポリマーシラン表面処理剤、を含む、光結合層と、
前記光学フィルムと反対側の表面において前記光結合層に接着される基板と、を備える、積層光学構造体。
[１２]
前記光学フィルム又は光結合層が、項目２〜１０のいずれか一項又はそれらの組み合わせによって更に特徴付けられる、項目１１に記載の積層光学構造体。
[１３]
前記基板が剥離ライナーである、項目１１に記載の積層光学構造体。
[１４]
前記ポリマーシラン表面処理剤が、４〜１８個の炭素原子を有する１種以上のアルキル（メタ）アクリレートモノマーから誘導された繰り返し単位を少なくとも５０重量％含むランダムアクリルコポリマーを含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[１５]
前記ポリマーシラン表面処理剤が、−２０℃〜−８０℃の範囲のＴｇを有する、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[１６]
前記ポリマーシラン表面処理剤が、１０００〜５０００ｇ／モルの範囲の重量平均分子量を有する、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[１７]
前記無機ナノ粒子が、非ポリマー表面処理剤を更に含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[１８]
前記非ポリマー表面処理剤が、少なくとも１．５０の屈折率を有する、項目１７に記載の方法又は積層光学構造体。
[１９]
前記光結合層が、少なくとも１．６５又は１．７０の屈折率を有する、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[２０]
前記無機ナノ粒子がチタニアを含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[２１]
前記ポリマーシラン表面処理剤が、ヒドロキシル基、酸基、又はアミン基から選択されるペンダント反応基を含む繰り返し単位を含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法又は項目１１〜１３のいずれか一項に記載の積層光学構造体。
[２２]
前記コーティング組成物が、前記ペンダント反応基間を架橋する架橋剤を含む、項目２１に記載の方法又は積層光学構造体。
[２３]
前記積層構造体が、少なくとも５０ｇ／ｃｍのピーク剥離力を有する、項目１〜２２のいずれか一項に記載の方法又は積層光学構造体。
[２４]
少なくとも１．８５の屈折率を有する無機ナノ粒子少なくとも４０重量％と、
ポリマーシラン表面処理剤と、を含む、コーティング組成物。
[２５]
前記コーティング組成物が、項目９〜１０又は１１〜２３のいずれか一項又はそれらの組み合わせに記載されるような光結合層である、項目２４に記載のコーティング組成物。
[２６]
前記コーティング組成物が、ポリマー結合剤を実質的に含まない、項目２４又は２５に記載のコーティング組成物。
[２７]
前記コーティング組成物が、少なくとも１．６５の屈折率及び少なくとも５０ｇ／ｃｍのピーク剥離力を有する、項目２４〜２６のいずれか一項に記載のコーティング組成物。

Claims

光学フィルムを準備することと、
基板を準備することと、
光結合層を、前記光学フィルムの表面層、前記基板、又はそれらの組み合わせに適用することであって、前記光結合層は、
少なくとも１．８５の屈折率を有する無機ナノ粒子少なくとも４０重量％、及び
ポリマーシラン表面処理剤、を含む、ことと、
前記光学フィルムを前記基板に積層して積層光学構造体を形成することと、を含む、光学フィルムを結合する方法。
前記光学フィルムの前記表面層が、少なくとも１．６０の屈折率を有する、請求項１に記載の方法。
前記光学フィルムが光抽出フィルムであり、前記基板が上面発光型有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスである、請求項１に記載の方法。
前記光抽出フィルムが、
実質的に透明な基板と、
前記実質的に透明な基板上の抽出要素と、
前記抽出要素の上に適用され、実質的に平坦な表面を形成する平坦化バックフィル層と、を備え、
前記バックフィル層の屈折率が、前記抽出要素の屈折率よりも高い、請求項２又は３に記載の方法。
前記抽出要素が多周期領域を有するエンジニアードナノ構造体を有し、前記多周期領域が前記ナノ構造体の反復領域を有し、前記領域が、第１の複数の周期的特性を有するナノ構造体の第１の組と、前記第１の複数の周期的特性とは異なる第２の複数の周期的特性を有するナノ構造体の第２の組とを有する、請求項４に記載の方法。
前記抽出要素が、周期構造体と、前記周期構造体の上に適用された光散乱ナノ粒子の層とを有する、請求項４に記載の方法。