JP2015501550A - ナノ構造スタンプ、型押しロール、ナノ構造部を連続型押しする装置および方法 - Google Patents
ナノ構造スタンプ、型押しロール、ナノ構造部を連続型押しする装置および方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
回転体の外周面の所定の周方向区分に、湾曲された、または湾曲可能な、ナノ構造スタンプのスタンプネガ型(スタンプの反転型)を位置固定するステップ、
湾曲されたスタンプネガ型に成形可能なスタンプ型材料を被着させるステップ、
凹状に湾曲され、ナノ構造化されたスタンプ面を形成するためにスタンプ型材料をスタンプ支持体に固着するように成形するステップ、および
スタンプ型材料を硬化させるステップ
を有している。
作業室内に配置された型押しロール収容部に、外周面を有する型押し層を備えた回転体を収容するステップ、および
スタンプ収容部に収容されたナノ構造スタンプを用いて、外周面の周方向で継ぎ目のなしに形成された周面リングをステップ&リピート法で型押しするステップ。
2 真空チャンバ
2b 底部
3 スタンプ収容部
4 型押しロール収容部
5 回転体
5o 外周面
5a 型押しロール軸線
6 作業室
7 スタンプ型
7f スタンプ面
8 放射器
9 スタンプネガ型
9r 縁部
10 スタンプ型材料
11 スタンプ支持体
12 加熱手段
13 型押し層
13o 外周面
14 ナノ構造部
14.1〜14.n ナノ構造部区分
14e オーバラップ構造部
15 周面リング
16 型押しロール
17 保護周面
18 型押し基板
19 ナノ構造部
Claims (18)
- 型押しロール(16)の外周面(13o)に少なくとも1つの周面リング(15,15’)をステップ&リピート法で継ぎ目なしに型押しするための、凹状に湾曲されナノ構造化されたスタンプ面(7f)を備える、ナノ構造スタンプ(1)。
- 前記ナノ構造スタンプ(1)は、スタンプ支持体(11)を有し、該スタンプ支持体(11)に、前記スタンプ面(7f)を含むスタンプ型(7)が特に永続的に結合されている、請求項1記載のナノ構造スタンプ(1)。
- 前記スタンプ型(7)は、前記型押しロール(16)の回転体(5)を使用することにより製造されている、請求項2記載のナノ構造スタンプ(1)。
- 少なくとも周方向で継ぎ目なしに形成された、ステップ&リピート法で型押しされた少なくとも1つの周面リング(15)を備える外周面(13o)を有する、回転体(5)に被着された型押し層(13)を用いてナノ構造部を連続型押しする型押しロール。
- 請求項1記載のナノ構造スタンプ(1)により前記外周面(13o)が型押しされている、請求項4記載の型押しロール。
- 前記回転体(5)は、筒体、特に円筒体である、請求項4または5記載の型押しロール。
- ナノ構造部を連続型押しする型押しロール(16)の製造装置であって、
前記型押しロール(16)を収容しかつ作業室(6)内で型押しロール軸線(5a)を中心として制御可能に回転させる型押しロール収容部(4)と、
ナノ構造スタンプ(1)を収容しかつ前記型押しロール(16)の外周面(13o)に対して相対的に制御可能に移動させるスタンプ収容部(3)と、
が設けられており、
前記型押しロール収容部(4)および前記スタンプ収容部(3)の制御によって、前記外周面(13o)の少なくとも周方向で継ぎ目なしに形成された、ステップ&リピート法で型押しされた少なくとも1つの周面リング(15,15’)が製造可能である、ナノ構造部を連続型押しする型押しロール(16)の製造装置。 - 前記作業室(6)は、真空チャンバ(2)により形成され、真空を供給可能である、請求項7記載の装置。
- 前記型押しロール(16)の回転体(5)に、外周面(13o)を形成する型押し層(13)を被着させる手段が設けられている、請求項7または8記載の装置。
- 前記型押しされた周面リングを、特に部分的に、有利にはステップ&リピート法に対応する、特に前記ナノ構造スタンプ(1)のスタンプ面(7f)に対応する区分で硬化する硬化手段(8,12)が設けられている、請求項7から9までのいずれか1項記載の装置。
- ナノ構造部を連続型押しするための型押しロール(16)を製造するナノ構造スタンプ(1)の製造方法であって、以下のステップ、特に以下の経過を有している、すなわち、
回転体(5)の外周面(5o)の所定の周方向区分に、湾曲された、または湾曲可能な、ナノ構造スタンプ(1)のスタンプネガ型(9)を位置固定するステップと、
前記湾曲されたスタンプネガ型(9)に成形可能なスタンプ型材料(10)を被着させるステップと、
凹状に湾曲された、ナノ構造化されたスタンプ面(7f)を形成するために、前記スタンプ型材料(10)をスタンプ支持体(11)に固着するように成形するステップと、
前記スタンプ型材料(10)を硬化させるステップと
を有する、ナノ構造スタンプ(1)の製造方法。 - 前記周方向区分は、前記外周面(5o)の周面の半分よりも短く、特に3分の1よりも短く、有利には4分の1よりも短く延びている、請求項11記載の方法。
- 回転体(5)として、前記型押しロール(16)を使用する、請求項11または12記載の方法。
- ナノ構造部を連続型押しするための型押しロール(16)の製造方法であって、以下のステップ、特に経過を有している、すなわち、
作業室(6)内に配置された型押しロール収容部(4)上に、外周面(13o)を有する型押し層(13)を備えた回転体(5)を収容するステップと、
スタンプ収容部(3)に収容されたナノ構造スタンプ(1)を用いてステップ&リピート法で、前記外周面(13o)の周方向で継ぎ目なしに形成された周面リング(15,15’)を型押しするステップと、
を含む、ナノ構造部を連続型押しする型押しロール(16)の製造方法。 - 前記回転体(5)の回転により、特に連続して行われる複数のスタンプステップで、型押しロールの製造が行われる、請求項14記載の方法。
- 前記スタンプステップを、それぞれ先に型押しされた構造部において位置調整するために部分的にオーバラップさせて実施する、請求項14または15記載の方法。
- 複数のスタンプステップを各回転位置において回転軸線に対して平行に行う、請求項14から16までのいずれか1項記載の方法。
- ナノ構造部(19)を連続型押しするための型押しロール(16)によってナノ構造部(19)を有する型押し基板(18)を製造する方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016190076A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 株式会社シンク・ラボラトリー | エンボスロールの製造方法及びエンボスロール |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5777546B2 (ja) * | 2012-03-14 | 2015-09-09 | サンコール株式会社 | 段付き排紙ローラの製造方法 |
CN105319840A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-02-10 | 南通天鸿镭射科技有限公司 | 利用复制技术制作紫外光固化无缝成型辊轮的装置及方法 |
DE102016123538A1 (de) | 2016-12-06 | 2018-06-07 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Verfahren zum Prägen von Mikro- und/oder Nanostrukturen |
DE102016124428A1 (de) * | 2016-12-14 | 2018-06-14 | Amo Gmbh | Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Herstellung großflächiger periodischer Nanostrukturen auf einem flächenhaft ausgedehnten Substrat mittels eines Nanoimprintverfahrens |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02134229A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-05-23 | Hallmark Cards Inc | 画像転写工具 |
US5327825A (en) * | 1993-05-12 | 1994-07-12 | Transfer Print Foils, Inc. | Seamless holographic transfer |
JPH11156484A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 成形用金型の作成方法及びそれに用いる石膏鋳型 |
JP2013006302A (ja) * | 2011-06-23 | 2013-01-10 | Fujikura Ltd | ロール状スタンパ及びその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5266257A (en) | 1992-05-29 | 1993-11-30 | Gencorp Inc. | Method of making embossing rolls having indicia |
DE19627638A1 (de) | 1996-07-09 | 1998-01-15 | Giesecke & Devrient Gmbh | Prägezylinder für die Herstellung von Prägefolien |
DE10158347A1 (de) * | 2001-11-28 | 2003-06-12 | Tesa Ag | Verfahren zur Erzeugung von nano- und mikrostrukturierten Polymerfolien |
CN102713751B (zh) | 2009-10-02 | 2016-05-11 | 丹麦技术大学 | 在注塑成型工具的作用表面制造微米/纳米结构图案的方法 |
-
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2012
- 2012-12-04 TW TW101145503A patent/TWI543928B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02134229A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-05-23 | Hallmark Cards Inc | 画像転写工具 |
US5327825A (en) * | 1993-05-12 | 1994-07-12 | Transfer Print Foils, Inc. | Seamless holographic transfer |
JPH11156484A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 成形用金型の作成方法及びそれに用いる石膏鋳型 |
JP2013006302A (ja) * | 2011-06-23 | 2013-01-10 | Fujikura Ltd | ロール状スタンパ及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016190076A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 株式会社シンク・ラボラトリー | エンボスロールの製造方法及びエンボスロール |
JPWO2016190076A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2018-04-05 | 株式会社シンク・ラボラトリー | エンボスロールの製造方法及びエンボスロール |
TWI667145B (zh) * | 2015-05-28 | 2019-08-01 | 日商新克股份有限公司 | 壓花輥之製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103959166A (zh) | 2014-07-30 |
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US20140232037A1 (en) | 2014-08-21 |
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EP2761371B1 (de) | 2015-08-12 |
KR101630543B1 (ko) | 2016-06-14 |
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