JP2015500135A - ミクロン規模の連続液体噴流を提供するシステムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態では、ガスは、毛細管130から発生する液体流にガス動力を印加し、液体流の径を大幅に低減する。液体流は好ましくは圧縮され、微細径の連続的な線形の繊維状液体噴流610として現れる。液体噴流610は、発生する毛細管穴632よりもずっと小さくすることができる。
ガス背圧は様々に印加することができる。たとえば、1実施形態では、高圧力管が液体容器に連結され、そして容器が毛細管に連結される。液体はシリンジで、または組立前に、または当業者にとって既知なその他の任意の方法で容器に導入することができる。ガス圧は当業者に慣れた方法で高圧管に印加することができる。ガス圧は約600psi〜約2000psiの範囲で印加することができる。1実施形態では、600〜2000psiの乾燥窒素ガスが印加される。その他のガス圧源も十分に既知であり、使用することができる。流体の材料と所望の流量に応じてより高いまたは低い圧力を印加することができる。印加される圧力に応じて、流量は約1nL/分〜約10μL/分とすることができる。しかしながら、より多いまたは少ない流量も可能である。特定の実施形態では、流量は約100ナノリットル/分未満とすることができる。
図6は、本発明の1実施形態に係る液体の押出装置を示す。本実施形態では、該装置は、30ミクロン毛細管穴を有する毛細管と、最大2000psiの圧力を供給するポリエチルエチルケトン(PEEK)管と、液体容器とを備える。
好適な実施形態では、インジェクタオリフィスは簡易な孔を備える。第3の側面の別の好適な実施形態では、インジェクタオリフィスは管を備える。第3の側面のより好適な実施形態では、インジェクタオリフィスは分子ビームスキマーをさらに備える。
第4の側面の1実施形態では、第1の推進流路850と第2の推進流路855とは図8に示すようにハウジング800の対向側に配置される。流体は第1および第2の推進流路850、855に注入され、同軸空間825に流れ込み、その後ハウジング出口815を通って出て、集束−散開流路810の散開部811に入る。このようにハウジング800の対向側に第1および第2の推進流路850、855を配置する利点は、同軸空間825内に流体が均等に分布されることである。
1実施形態では、上記方法は、集束−散開流路810の上流−下流圧力比を約1.03〜約1.89に維持することによって亜音速流で動作させることをさらに備える。本文書で使用される「上流」はラバルノズル810の集束部で維持される圧力を指し、「下流」はラバルノズル810の散開部811で維持される圧力をさす。集束部および散開部の圧力は、ラバルノズル810の形状と、液体が第1および第2の推進流路850、855に注入されるときの圧力とに基づき算出することができる。
Claims (38)
- 遠位端が出口流路を画定するハウジングと、
前記ハウジング内に配置され、遠位端が任意で先細である毛細管と、
前記毛細管によって画定される少なくとも1つの穴であって、前記出口流路外に配置される毛細管出口を前記毛細管の遠位端に画定する穴と、
を備えるノズルアセンブリ。 - 前記毛細管が前記出口流路の軸に沿って略位置合わせされる請求項1に記載のノズルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの穴が前記毛細管の中心軸と位置合わせされる単独の穴を含む請求項1〜2、又は26〜29に記載のノズルアセンブリ。
- 前記単独の穴が前記毛細管の中心軸から散開する請求項3に記載のノズルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの穴が前記毛細管の中心軸と平行であるが、同中心軸から間隔をおいて配置される請求項1〜4、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記毛細管の前記先細端が略円錐状である請求項1〜5、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記毛細管がホウ珪酸塩から成る請求項1〜6、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記毛細管の前記先細端が複数の平面状平坦部を画定する請求項1〜7、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記毛細管の前記先細端が前記出口流路に収容される請求項1〜8のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記ハウジングの内壁と前記毛細管の外壁との間に同軸空間が形成されるように前記ハウジングの内径が前記毛細管の外径よりも大きい請求項1〜9のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記ハウジングが略正方形の内側断面を画定する請求項1〜10のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記毛細管が凹凸を備える請求項1〜11、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの穴にガス圧を印加するように構成される装置をさらに備える請求項1〜12、又は26〜29のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 穴と毛細管出口とを有する毛細管と、
前記穴に接続される液体容器と、
前記液体容器に接続されるガス圧源と、
を備える連続液体噴流の生成システム。 - 室内容積と出口流路とを有するハウジングをさらに備え、前記毛細管が前記ハウジングの前記室内容積内に配置される請求項14に記載のシステム。
- 前記毛細管が前記出口流路を超えて延在する請求項15に記載のシステム。
- 毛細管に穴を設けることと、
液体を前記穴の近位端に注入することと、
前記液体が連続液体噴流として前記穴の遠位端から発生するように前記液体に圧力を印加することと、
を備える連続液体噴流の生成方法。 - 前記穴の前記遠位端を真空に置くことをさらに備える請求項17に記載の方法。
- 出口流路を有するハウジングを設けることと、前記毛細管を前記ハウジングに挿入することとをさらに備える請求項17に記載の方法。
- 前記出口流路を通って出る加圧ガスを前記ハウジングの近位端に入れることをさらに備える請求項19に記載の方法。
- 前記液体が脂質立方相を備える請求項17〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 前記液体が蔗糖水溶液を備える請求項17〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 前記連続液体噴流が約50ミクロン未満の径を有する請求項17〜22のいずれか一項に記載の方法。
- (i)真空オリフィスとインジェクタオリフィスとを備え、真空分析システムと共に使用されるように構成されるチャンバと、
(ii)請求項1〜13のいずれか一項のノズルと、
を備え、前記ノズルの前記出口流路が前記チャンバに出力し、前記インジェクタオリフィスと略位置合わせされるインジェクタ。 - 前記チャンバが透過型電子顕微鏡と共に使用されるように構成される請求項24に記載のインジェクタ。
- 近位端で入口開口部、遠位端でラバルノズルで全側面を囲まれる空隙を画定するハウジングであって、前記ラバルノズルが集束−散開流路を画定し、前記集束−散開流路が圧縮される点でハウジング出口がラバルノズル内に画定されるハウジングと、
同軸空間が毛細管と前記ハウジングとの間に維持されるように前記ハウジングの空隙内に配置される毛細管であって、遠位端が任意で先細にされる毛細管と、
前記毛細管によって画定される少なくとも1つの穴であって、前記少なくとも1つの穴の近位端が毛細管入口を画定し、前記少なくとも1つの穴の遠位端が毛細管出口を画定し、前記毛細管出口が前記ハウジング出口を超えて延在しない少なくとも1つの穴と、
を備えるノズルアセンブリであって、
前記ハウジングが第1の推進流路と第2の推進流路とをさらに画定し、前記第1および第2の推進流路がそれぞれ同軸空間に略直角に配置され、前記同軸空間と流体連通するノズルアセンブリ。 - 前記ハウジング出口が矩形断面を有する請求項26に記載のノズルアセンブリ。
- 前記第1の推進流路と前記第2の推進流路とが前記ハウジングの対向側に位置する請求項26又は27に記載のノズルアセンブリ。
- 前記集束−散開流路の散開部の第1の側で前記ハウジング内に画定される第1の切換流路と前記集束−散開流路の前記散開部の第2の側で前記ハウジング内に画定される第2の切換流路とをさらに備え、前記第1および第2の切換流路がそれぞれ前記集束−散開流路の前記散開部と流体連通する請求項26〜28のいずれか一項に記載のノズルアセンブリ。
- 請求項26〜29のいずれか一項によるノズルアセンブリを設けることと、
第1の流体を前記第1および第2の推進流路に注入することと、
第2の流体を前記毛細管入口に注入することと、
を備える液体噴流の生成方法。 - 前記集束−散開流路の上流−下流圧力比を約1.03〜約1.89に維持することによって亜音速流で動作させることをさらに備える請求項30に記載の液体噴流の生成方法。
- 前記第1の流体がヘリウムガスである請求項30又は31に記載の液体噴流の生成方法。
- 集束−散開流路の散開部の第1の側の境界層に沿った液体噴流を生成することと、
第1の風を第1の切換流路に注入することと、
前記第1の風に応答して、前記液体噴流を前記集束−散開流路の前記散開部の第2の側の境界層に切り換えることと、
を備える請求項30〜32のいずれか一項に記載の液体噴流の生成方法。 - 第2の風を第2の切換流路に注入することと、
前記第2の風に応答して、前記液体噴流を前記集束−散開流路の前記散開部の前記第1の側の前記境界層に切り換えることと、
をさらに備える請求項33に記載の液体噴流の生成方法。 - 前記集束−散開流路の散開部が大気圧で維持される請求項30〜34のいずれか一項の液体噴流の生成方法。
- 真空下で前記集束−散開流路の散開部を動作させることと、
真空下での動作に応答して、前記集束−散開流路の前記散開部の前記第1の側と第2の側との間で略中心に来る液体噴流を生成することと、
を備える請求項30〜34のいずれか一項に記載の液体噴流の生成方法。 - パルスX線ビーム全体にわたって前記液体噴流を方向付けること
をさらに備える請求項30〜36のいずれか一項に記載の液体噴流の生成方法。 - スピンコートされたフォトレジストをシリコンウェハに所望のパターンでソフトベークすることと、
前記フォトレジストをフォトマスクを介してUV光にさらすことと、
前記フォトレジストを化学的に現像することと、
前記フォトレジストをハードベークして凹型を形成することと、
未硬化ポリ(ジメチルシロキサン)を前記凹型に流し込んで、空隙および複数の微小流路を画定する層を形成することと、
ポリ(メタクリル酸メチル)の上スラブと下スラブとの間で前記層を固定することと、
を備える請求項26〜29のいずれか一項の前記ハウジングの製造方法。
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