JP2015231019A - 周縁露光装置および周縁露光方法 - Google Patents
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すなわち、最初に露光される基板の部位を「露光開始点」とすると、露光開始点は、基板が静止している状態で露光される。他方、露光開始点以外の基板の周縁部は、基板が回転している状態で露光される。基板に照射された光の量を単位面積で除した値を「露光量」とすると、露光開始点における露光量は、露光開始点以外の基板の周縁部における露光量よりも大きい。露光開始点は、露光過多(overexposure)となる。
すなわち、本発明は、周縁露光装置であって、基板を保持する保持部と、前記保持部を回転させる回転機構と、光を出射する投光部と、前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、を備え、前記制御部は、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記投光部を前記待機位置から前記処理位置に移動させることによって、前記露光処理を開始させる周縁露光装置である。
上述した発明において、前記周縁露光装置は、前記投光部が前記処理位置に位置しているか否かを検出するための投光部用センサを備え、前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記投光部用センサの検出結果に基づいて前記投光部が前記処理位置に到達したか否かを判断し、前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に到達したと判断された時刻から経過する時間を計測することが好ましい。周縁露光装置は投光部用センサを備えているので、制御部は露光処理が始まった時刻を精度良く特定できる。さらに、制御部は露光処理が始まった時刻から経過する時間を計測するので、露光処理を行う時間を制御部は好適に管理できる。
また、本発明は、周縁露光装置であって、基板を保持する保持部と、前記保持部を回転させる回転機構と、光を出射する投光部と、前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、を備え、前記制御部は、前記投光部が前記処理位置に位置しており、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に切り替えることによって、前記露光処理を開始させる周縁露光装置である。
上述した発明において、前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記シャッター用センサの検出結果に基づいて前記シャッターが前記開状態に切り替わったか否かを判断し、前記制御部は、さらに、前記シャッターが前記開状態に切り替わったと判断された時刻から経過する時間を計測することが好ましい。周縁露光装置はシャッター用センサを備えているので、制御部は露光処理が始まった時刻を精度良く特定できる。さらに、制御部は露光処理が始まった時刻から経過する時間を計測するので、露光処理を行う時間を制御部は好適に管理できる。
また、本発明は、周縁露光装置であって、基板を保持する保持部と、前記保持部を回転させる回転機構と、光を出射する投光部と、前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、前記投光部から出射される光の量を調整可能な絞りと、前記絞りの開度を調整する調整機構と、前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構と前記調整機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、を備え、前記制御部は、前記投光部が前記処理位置に位置しており、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記絞りの開度を零から増大させることによって、前記露光処理を開始させる周縁露光装置である。
上述した発明において、前記周縁露光装置は、前記絞りの開度を検出するための絞り用センサを備え、前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記絞り用センサの検出結果に基づいて前記絞りの開度が所定値に達したか否かを判断し、前記制御部は、さらに、前記絞りの開度が所定値に達したと判断された時刻から経過する時間を計測することが好ましい。周縁露光装置は絞り用センサを備えているので、制御部は絞りの開度が所定値まで増大した時刻を精度良く特定できる。さらに、制御部は絞りの開度が所定値まで増大した時刻から経過する時間を計測するので、絞りの開度が所定値以上である状態で露光処理を行う時間を制御部は好適に管理できる。
上述した発明において、前記制御部は、さらに、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記投光部を前記処理位置から前記待機位置に移動させることによって、前記露光処理を終了させることが好ましい。投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態で投光部は処理位置から待機位置に移動する。投光部が処理位置から外れると、投光部は基板の周縁部を照射しなくなり、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。最後に露光される基板の部位(以下、「露光終了点」と呼ぶ)は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることを抑制できる。
上述した発明において、前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に位置しており、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記シャッターを前記開状態から前記閉状態に切り替えることによって、前記露光処理を終了させることが好ましい。投光部が処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態で、シャッターが開状態から閉状態に切り替わる。シャッターが閉状態に切り替わると、投光部は光の出射を停止し、投光部は基板の周縁部を照射しなくなり、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。露光終了点は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることを抑制できる。
上述した発明において、前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に位置しており、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記絞りの開度を零まで減少させることによって、前記露光処理を終了させることが好ましい。投光部が処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態で、絞りの開度が零まで減少する。絞りの開度が零まで減少すると、投光部は光の出射を停止し、投光部は基板の周縁部を照射しなくなり、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。露光終了点は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることも抑制できる。
また、本発明は、周縁露光方法であって、シャッターが開状態であることによって投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態において、投光部が基板の上方から外れた待機位置から基板の周縁部の上方の処理位置に移動する露光開始工程を含む周縁露光方法である。
また、本発明は、周縁露光方法であって、投光部が基板の周縁部の上方の処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態において、シャッターが閉状態から開状態に切り替わることによって前記投光部が光を出射し始める露光開始工程を含む周縁露光方法である。
また、本発明は、周縁露光方法であって、投光部が基板の周縁部の上方の処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態において、絞りの開度が零から増大することによって投光部が光を出射し始める露光開始工程を含む周縁露光方法である。
上述した発明において、シャッターが開状態であることによって投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態において、投光部が基板の周縁部の上方の処理位置から基板の上方から外れた待機位置に移動する露光終了工程を含むことが好ましい。露光終了工程では、投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態で投光部が処理位置から待機位置に移動する。投光部が処理位置から外れると、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。露光終了点は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることを抑制できる。
上述した発明において、投光部が処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態において、シャッターが開状態から閉状態に切り替わることによって投光部が光の出射を停止する露光終了工程を含むことが好ましい。露光終了工程では、投光部が処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態で、シャッターが開状態から閉状態に切り替わる。シャッターが閉状態に切り替わると、投光部は光の出射を停止し、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。露光終了点は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることを抑制できる。
上述した発明において、投光部が処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態において、絞りの開度が零まで減少することによって投光部が光の出射を停止する露光終了工程を含むことが好ましい。露光終了工程では、投光部が処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態で、絞りの開度が零まで減少する。絞りの開度が零になると、投光部は光の出射を停止し、露光処理が終了する。露光処理が終了するとき、基板は回転している。露光終了点は、基板が回転している状態で露光される。よって、本発明によれば、露光終了点が露光過多になることを抑制できる。
前記制御部は、さらに、前記シャッターが前記開状態であり、前記絞りの開度が所定値以上であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記投光部を前記処理位置から前記待機位置に移動させることによって、前記露光処理を終了させることが好ましい。
制御部45は、原点用センサ33の検出結果に基づいて移動機構21を制御し、投光部7を原点Poに移動させる。
不図示の搬送機構が基板Wを保持部3に載置する。保持部3は基板Wを保持する。基板W上には、既にレジスト膜が形成されている。不図示の搬送機構は、周縁露光装置1の内部および外部のいずれに設けられていてもよい。
制御部45は、回転機構5を制御し、基板Wを回転させ始める。
制御部45は、基板Wを一定の回転速度で回転させる。基板Wの回転速度は、基板Wを静止させるとき(ステップS11)まで一定に保たれる。基板Wの回転速度は、例えば、1秒当たり2周である。言い換えれば、基板Wは、例えば、1回転あたり0.5秒で回転する。
制御部45は、開閉機構15を制御して、シャッター14を閉状態から開状態に切り替える。より厳密には、制御部45は、シャッター14を開状態に切り替えるような制御を実行する。
制御部45は、シャッター用センサ16の検出結果に基づいて、シャッター14が実際に開状態に切り替わったか否かを判断する。その結果、シャッター14が開状態に切り替わったと判断された場合には、ステップS6に進む。そうでない場合は、ステップS4に戻る。
制御部45は、移動機構21を制御して、投光部7を原点Poから処理位置Ptに向かって動かす。
制御部45は、変位量用センサ37の検出結果に基づいて、投光部7が処理位置Ptに到達したか否かを判断する。より詳しくは、制御部45は、変位量用センサ37の検出結果に基づいて第2方向Yにおける投光部7の移動量を特定し、第2方向Yにおける投光部7の移動量が変位量Δyに達したか否かを判断する。その結果、第2方向Yにおける投光部7の移動量が変位量Δyに達したと判断された場合には、制御部45は投光部7が処理位置Ptに到達したと判断し、ステップS8に進む。そうでない場合には、ステップS6に戻る。
制御部45は、投光部7が処理位置Ptに到達したと判断された時刻から経過する時間を計測する。以下では、計測される時間を適宜に「計測時間」と呼ぶ。
制御部45は、計測時間が所定の処理時間に達したか否かを判断する。その結果、計測時間が処理時間に達したと判断された場合には、ステップS10に進む。そうでない場合には、ステップS8に戻る。処理時間は、例えば、基板Wが10周、回転するのに要する時間である。処理時間は、例えば5秒である。ステップS8、S9は、本発明における露光処理工程の例である。
制御部45は、移動機構21を制御して、投光部7を処理位置Ptから原点Poに移動させる。投光部7が処理位置Ptから外れたとき(離れたとき)、露光処理が終了する。ステップS10は、本発明における露光終了工程の例である。
制御部45は、回転機構5を制御し、基板Wの回転を停止させる。基板Wは静止する。
制御部45は、開閉機構15を制御して、シャッター14を開状態から閉状態に切り替える。
露光処理が始まってから終了するまでの間、基板Wは回転し続けている。よって、基板Wの周縁部の全体にわたって露光量がばらつくことを好適に抑制できる。
3 … 保持部
5 … 回転機構
7 … 投光部
14 … シャッター
15 … 開閉機構
16 … シャッター用センサ
17 … 絞り
18 … 調整機構
19 … 絞り用センサ
21 … 移動機構
31 … 投光部用センサ
Pt … 処理位置
Po … 原点(待機位置)
Qs … 露光開始点
Qf … 露光終了点
W … 基板
Claims (15)
- 周縁露光装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部を回転させる回転機構と、
光を出射する投光部と、
前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、
前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、
前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、
前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記投光部を前記待機位置から前記処理位置に移動させることによって、前記露光処理を開始させる
周縁露光装置。 - 請求項1に記載の周縁露光装置において、
前記周縁露光装置は、前記投光部が前記処理位置に位置しているか否かを検出するための投光部用センサを備え、
前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記投光部用センサの検出結果に基づいて前記投光部が前記処理位置に到達したか否かを判断し、
前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に到達したと判断された時刻から経過する時間を計測する
周縁露光装置。 - 周縁露光装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部を回転させる回転機構と、
光を出射する投光部と、
前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、
前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、
前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、
前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記投光部が前記処理位置に位置しており、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に切り替えることによって、前記露光処理を開始させる
周縁露光装置。 - 請求項3に記載の周縁露光装置において、
前記周縁露光装置は、前記シャッターが前記開状態であるか否かを検出するためのシャッター用センサを備え、
前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記シャッター用センサの検出結果に基づいて前記シャッターが前記開状態に切り替わったか否かを判断し、
前記制御部は、さらに、前記シャッターが前記開状態に切り替わったと判断された時刻から経過する時間を計測する
周縁露光装置。 - 周縁露光装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部を回転させる回転機構と、
光を出射する投光部と、
前記保持部に保持された基板の上方から外れた待機位置と前記保持部に保持された基板の周縁部の上方の処理位置との間にわたって前記投光部を移動させる移動機構と、
前記投光部が光を出射することを禁止可能なシャッターと、
前記シャッターを閉状態と開状態との間で切り替える開閉機構と、
前記投光部から出射される光の量を調整可能な絞りと、
前記絞りの開度を調整する調整機構と、
前記回転機構と前記移動機構と前記開閉機構と前記調整機構とを制御して基板の周縁部に対する露光処理を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記投光部が前記処理位置に位置しており、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記絞りの開度を零から増大させることによって、前記露光処理を開始させる
周縁露光装置。 - 請求項5に記載の周縁露光装置において、
前記周縁露光装置は、前記絞りの開度を検出するための絞り用センサを備え、
前記制御部が前記露光処理を開始させるとき、前記制御部は前記絞り用センサの検出結果に基づいて前記絞りの開度が所定値に達したか否かを判断し、
前記制御部は、さらに、前記絞りの開度が所定値に達したと判断された時刻から経過する時間を計測する
周縁露光装置。 - 請求項1から6のいずれかに記載の周縁露光装置において、
前記制御部は、さらに、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記投光部を前記処理位置から前記待機位置に移動させることによって、前記露光処理を終了させる
周縁露光装置。 - 請求項1から6のいずれかに記載の周縁露光装置において、
前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に位置しており、かつ、前記保持部に保持された基板が回転している状態において前記シャッターを前記開状態から前記閉状態に切り替えることによって、前記露光処理を終了させる
周縁露光装置。 - 請求項5または6のいずれかに記載の周縁露光装置において、
前記制御部は、さらに、前記投光部が前記処理位置に位置しており、前記シャッターが前記開状態であり、かつ、前記保持部に保持された基板が回転しているときに、前記絞りの開度を零まで減少させることによって、前記露光処理を終了させる
周縁露光装置。 - 周縁露光方法であって、
シャッターが開状態であることによって投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態において、投光部が基板の上方から外れた待機位置から基板の周縁部の上方の処理位置に移動する露光開始工程を含む
周縁露光方法。 - 周縁露光方法であって、
投光部が基板の周縁部の上方の処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態において、シャッターが閉状態から開状態に切り替わることによって前記投光部が光を出射し始める露光開始工程を含む
周縁露光方法。 - 周縁露光方法であって、
投光部が基板の周縁部の上方の処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態において、絞りの開度が零から増大することによって投光部が光を出射し始める露光開始工程を含む
周縁露光方法。 - 請求項10から12のいずれかに記載の周縁露光方法において、
シャッターが開状態であることによって投光部が光を出射しており、かつ、基板が回転している状態において、投光部が基板の周縁部の上方の処理位置から基板の上方から外れた待機位置に移動する露光終了工程を含む
周縁露光方法。 - 請求項10から13のいずれかに記載の周縁露光方法において、
投光部が処理位置に位置しており、かつ、基板が回転している状態において、シャッターが開状態から閉状態に切り替わることによって投光部が光の出射を停止する露光終了工程を含む
周縁露光方法。 - 請求項12に記載の周縁露光方法において、
投光部が処理位置に位置しており、シャッターが開状態であり、かつ、基板が回転している状態において、絞りの開度が零まで減少することによって投光部が光の出射を停止する露光終了工程を含む
周縁露光方法。
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