JP2015229763A - Resin composition, prepreg, metal-clad laminate sheet, printed wiring board - Google Patents

Resin composition, prepreg, metal-clad laminate sheet, printed wiring board Download PDF

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真司 奥野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition that can realize both a lowered dielectric constant and lowered linear expansion coefficient of the resin composition's cured product without relying on the means of reducing the contained amount of the inorganic filler.SOLUTION: Provided is a resin composition for printed wiring boards, and the resin composition contains an epoxy resin, at least any one of phenol-based curing agent and amine-based curing agent, a carbodiimide resin represented by the formula (1), and an inorganic filler.

Description

本発明は、プリント配線板の材料として用いられる樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板に関し、またこれらのものを用いて製造されるプリント配線板に関する。   The present invention relates to a resin composition, a prepreg, and a metal-clad laminate used as a material for a printed wiring board, and also relates to a printed wiring board manufactured using these.

従来、プリント配線板を製造するにあたっては、信号の高速伝送、高周波対応、インピーダンスコントロール等のため、材料である樹脂組成物の低誘電率化が求められている。そのための方法としては、例えば、樹脂組成物において使用する樹脂の基本骨格を変更するなどして、一般の樹脂より比誘電率を低くした樹脂を用いる方法や、高誘電率の要因となり得る無機充填材の樹脂組成物における含有量を低減させる方法等が挙げられる。   Conventionally, when manufacturing a printed wiring board, a resin composition as a material has been required to have a low dielectric constant for high-speed signal transmission, high-frequency response, impedance control, and the like. As a method for this, for example, a method using a resin having a lower relative dielectric constant than that of a general resin by changing the basic skeleton of the resin used in the resin composition, or an inorganic filling that can cause a high dielectric constant The method etc. which reduce content in the resin composition of a material are mentioned.

しかし、樹脂の基本骨格を変更する前者の方法では、プリント配線板を製造する際の加工性が変化することによる製造プロセスの変更が必要となり得る。また無機充填材の含有量を低減させる後者の方法では、樹脂組成物の硬化物の線膨張係数(CTE:coefficient of thermal expansion)が大きくなり、信頼性の低下の要因となり得る。   However, in the former method of changing the basic skeleton of the resin, it may be necessary to change the manufacturing process due to a change in workability when manufacturing a printed wiring board. Further, in the latter method of reducing the content of the inorganic filler, the coefficient of thermal expansion (CTE) of the cured product of the resin composition is increased, which can be a factor of lowering reliability.

このような状況下において、例えば、低い誘電率を維持しつつ十分に低い誘電正接を発現する硬化体を得ることが可能な熱硬化性樹脂組成物について、特許文献1に記載されている。この熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂と、活性エステル基を有する活性エステル化合物と、カルボジイミド基を有するカルボジイミド化合物とを含有するものである。   Under such circumstances, for example, Patent Document 1 describes a thermosetting resin composition capable of obtaining a cured product that exhibits a sufficiently low dielectric loss tangent while maintaining a low dielectric constant. This thermosetting resin composition contains a thermosetting resin, an active ester compound having an active ester group, and a carbodiimide compound having a carbodiimide group.

特開2006−335834号公報JP 2006-335834 A

現在、プリント配線板の材料として広く使用されているのは、エポキシ樹脂及びフェノール系硬化剤の組合せ、エポキシ樹脂及びアミン系硬化剤の組合せ、エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤及びアミン系硬化剤の組合せを前提とした樹脂組成物である。   Currently, widely used materials for printed wiring boards include combinations of epoxy resins and phenolic curing agents, combinations of epoxy resins and amine curing agents, combinations of epoxy resins, phenolic curing agents and amine curing agents. It is a resin composition based on the above.

しかし、特許文献1には、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂が好ましいことは記載されているが、前記のような組合せを前提とした樹脂組成物の硬化物の低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現することは記載されていない。   However, although Patent Document 1 describes that an epoxy resin is preferable as the thermosetting resin, it is possible to reduce the dielectric constant and the coefficient of linear expansion of the cured product of the resin composition based on the above combination. It is not described to realize both.

また樹脂組成物においてシリカ等の無機充填材の含有量を増加させると、低線膨張率化を実現しやすくなる反面、無機充填材自体が高誘電率であるため、低誘電率化の実現が難しくなる。逆に低誘電率化を実現させるために無機充填材の含有量を削減すると、低線膨張率化の実現が難しくなる。   In addition, increasing the content of inorganic fillers such as silica in the resin composition makes it easier to achieve a low linear expansion coefficient, but the inorganic filler itself has a high dielectric constant, so a low dielectric constant can be realized. It becomes difficult. Conversely, if the content of the inorganic filler is reduced in order to realize a low dielectric constant, it is difficult to realize a low linear expansion coefficient.

本発明は前記の点に鑑みてなされたものであり、無機充填材の含有量を削減するという手段によらなくても、樹脂組成物の硬化物の低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現することができる樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to reduce the dielectric constant and the linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition without using a means for reducing the content of the inorganic filler. An object is to provide a resin composition, a prepreg, a metal-clad laminate, and a printed wiring board that can realize both.

本願発明者らは、前記課題を解決するために、硬化剤としてフェノール系硬化剤やアミン系硬化剤を用いたエポキシ樹脂系の樹脂組成物において、エポキシと硬化剤との硬化反応で生じる2級水酸基が誘電率を大きくする要因となっている可能性に着目し、樹脂硬化系に残存する2級水酸基を低減することで誘電率の向上を図ることを考えた。そして、2級水酸基を低減する手段として、2級水酸基と反応しうるカルボジイミド樹脂に着目した。しかしながら、カルボジイミド樹脂を樹脂組成物の成分として含有させたところ、樹脂ワニスをガラスクロス等の繊維基材に含浸したときに、部分的に未含浸部分を生じるなど、ワニス含浸性が低下することがあった。そこで、さらに検討を進めた結果、特定のカルボジイミドを用いることで、ワニス含浸性を低下させること無く、樹脂組成物の誘電率を低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above problems, the inventors of the present application provide a second grade generated by a curing reaction between an epoxy and a curing agent in an epoxy resin-based resin composition using a phenolic curing agent or an amine curing agent as a curing agent. Focusing on the possibility that the hydroxyl group is a factor in increasing the dielectric constant, we considered improving the dielectric constant by reducing the secondary hydroxyl group remaining in the resin curing system. As a means for reducing secondary hydroxyl groups, attention was focused on carbodiimide resins that can react with secondary hydroxyl groups. However, when a carbodiimide resin is included as a component of the resin composition, when the resin varnish is impregnated into a fiber substrate such as a glass cloth, the varnish impregnation property may be lowered, for example, an unimpregnated part is partially formed. there were. As a result of further investigation, it was found that the dielectric constant of the resin composition can be reduced without lowering the varnish impregnation property by using a specific carbodiimide, and the present invention has been completed.

本発明に係る樹脂組成物は、
プリント配線板用の樹脂組成物であって、
前記樹脂組成物が、
エポキシ樹脂と、
フェノール系硬化剤及びアミン系硬化剤のうちの少なくともいずれかと、
式(1)で表されるカルボジイミド樹脂と、
無機充填材と
を含有することを特徴とする。
The resin composition according to the present invention is:
A resin composition for a printed wiring board,
The resin composition is
Epoxy resin,
At least one of a phenolic curing agent and an amine curing agent;
A carbodiimide resin represented by the formula (1);
And an inorganic filler.

Figure 2015229763
Figure 2015229763

前記樹脂組成物において、
前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率が3.3以下であり、
前記樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度以下での線膨張係数が65ppm/℃以下であることが好ましい。
In the resin composition,
The relative dielectric constant of the cured product of the resin composition is 3.3 or less,
It is preferable that the linear expansion coefficient at the glass transition temperature or lower of the cured product of the resin composition is 65 ppm / ° C. or lower.

前記樹脂組成物において、
前記エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して前記カルボジイミド樹脂のカルボジイミド当量が0.1〜0.6の範囲内となるように前記カルボジイミド樹脂が含有されていることが好ましい。
In the resin composition,
It is preferable that the carbodiimide resin is contained so that a carbodiimide equivalent of the carbodiimide resin is within a range of 0.1 to 0.6 with respect to an epoxy equivalent of the epoxy resin.

前記樹脂組成物において、
前記無機充填材にシリカが含まれ、
前記樹脂組成物から前記無機充填材を除いた残分100質量部に対して前記無機充填材の含有量が30〜80質量部の範囲内であることが好ましい。
In the resin composition,
Silica is included in the inorganic filler,
It is preferable that the content of the inorganic filler is in the range of 30 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the residue obtained by removing the inorganic filler from the resin composition.

この場合、
前記無機充填材が、前記シリカ以外に、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ケイ酸塩からなる群より選ばれた1種以上のものを含有してもよい。
in this case,
In addition to the silica, the inorganic filler may contain one or more selected from the group consisting of metal hydroxides, metal oxides, metal carbonates, metal sulfates, and metal silicates. .

その場合、
前記残分100質量部に対して前記シリカ以外の無機充填材の含有量が15質量部以下であることが好ましい。
In that case,
It is preferable that the content of the inorganic filler other than silica is 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the residue.

前記樹脂組成物において、
前記カルボジイミド樹脂の数平均分子量が1000〜3000の範囲内であることが好ましい。
In the resin composition,
The number average molecular weight of the carbodiimide resin is preferably in the range of 1000 to 3000.

本発明に係るプリプレグは、前記樹脂組成物が基材に含浸されて半硬化していることを特徴とする。   The prepreg according to the present invention is characterized in that the resin composition is impregnated in a base material and semi-cured.

本発明に係る金属張積層板は、前記プリプレグに金属箔が重ねられて加熱加圧成形して形成されていることを特徴とする。   The metal-clad laminate according to the present invention is characterized in that a metal foil is superimposed on the prepreg and formed by heating and pressing.

本発明に係るプリント配線板は、前記金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンが形成されていることを特徴とする。   The printed wiring board according to the present invention is characterized in that a conductor pattern is formed by removing a part of the metal foil of the metal-clad laminate.

本発明によれば、エポキシ樹脂と硬化剤との硬化反応で生じる2級水酸基に式(1)で表されるカルボジイミド樹脂が反応することにより、樹脂組成物の硬化物中における2級水酸基の量が低減する。これにより、無機充填材の含有量を削減するという手段によらなくても、樹脂組成物の硬化物の低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現することができる。   According to the present invention, the amount of the secondary hydroxyl group in the cured product of the resin composition by reacting the carbodiimide resin represented by the formula (1) with the secondary hydroxyl group generated by the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. Is reduced. Thereby, both the low dielectric constant and the low linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition can be realized without using means for reducing the content of the inorganic filler.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明の実施の形態に係る樹脂組成物について説明する。樹脂組成物は、プリント配線板用に用いられるものであり、エポキシ樹脂と、硬化剤と、カルボジイミド樹脂と、無機充填材とを必須成分として含有する。   The resin composition according to the embodiment of the present invention will be described. The resin composition is used for a printed wiring board and contains an epoxy resin, a curing agent, a carbodiimide resin, and an inorganic filler as essential components.

まず樹脂組成物を構成する前記の各成分について説明する。   First, the respective components constituting the resin composition will be described.

前記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂等の脂環式エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリシジルエーテル化合物、多官能アルコールのジグリシジルエーテル化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、及びこれらを臭素化した臭素含有エポキシ樹脂やリン化合物により変性したリン含有エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの群より選ばれた1種以上のものを用いることができる。   Examples of the epoxy resin include alicyclic epoxies such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, naphthalene skeleton type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and dicyclopentadiene skeleton containing epoxy resin. Resin, diglycidyl ether compound of polyfunctional phenol, diglycidyl ether compound of polyfunctional alcohol, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bromine-containing epoxy resin obtained by brominating these, Examples thereof include a phosphorus-containing epoxy resin modified with a phosphorus compound. One or more selected from these groups can be used.

また前記硬化剤としては、フェノール系硬化剤及びアミン系硬化剤のうちの少なくともいずれかを用いる。すなわち、前記フェノール系硬化剤又は前記アミン系硬化剤のいずれか一方を用いてもよいし、前記フェノール系硬化剤と前記アミン系硬化剤の両方を用いてもよい。   Further, as the curing agent, at least one of a phenolic curing agent and an amine curing agent is used. That is, either the phenolic curing agent or the amine curing agent may be used, or both the phenolic curing agent and the amine curing agent may be used.

ここで、前記フェノール系硬化剤としては、2官能以上のものであれば特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂、トリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂等を挙げることができる。   Here, the phenolic curing agent is not particularly limited as long as it is bifunctional or higher. For example, it has bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, bisphenol A type novolac resin, triazine ring. A phenolic novolac resin can be used.

一方、前記アミン系硬化剤としては、2官能以上のものであれば特に限定されないが、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジシアンジアミド、トリアミン等を挙げることができる。   On the other hand, the amine curing agent is not particularly limited as long as it is bifunctional or higher, and examples thereof include diaminodiphenylmethane, dicyandiamide, and triamine.

前記フェノール系硬化剤及び前記アミン系硬化剤の群より選ばれた1種以上のものを用いることができる。さらに本発明の目的を損なわなければ、その他の2官能以上の硬化剤を併用してもよい。前記樹脂組成物において、前記エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して、前記硬化剤の活性水素当量が0.7〜1.3の範囲内となるように、前記硬化剤が含有されていることが好ましく、より好ましくは0.8〜1.2の範囲内である。   One or more selected from the group of the phenolic curing agent and the amine curing agent can be used. Furthermore, other difunctional or higher curing agents may be used in combination as long as the object of the present invention is not impaired. In the resin composition, the curing agent may be contained so that an active hydrogen equivalent of the curing agent is within a range of 0.7 to 1.3 with respect to an epoxy equivalent of the epoxy resin. More preferably, it exists in the range of 0.8-1.2.

また前記カルボジイミドは、化学式−N=C=N−で表される官能基(カルボジイミド基)を含む化学物質の総称であるが、本実施形態においては特に前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂を用いる。前記カルボジイミド樹脂としては、例えば、テトラメチル−m−キシリレンジイソシアネートを原料とするものを挙げることができる。一般にエポキシ樹脂とフェノール系硬化剤との反応や、エポキシ樹脂とアミン系硬化剤との反応では2級水酸基が生成するが、この2級水酸基は誘電率を増大させる要因となる。これに対して、同じ反応系に前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂が存在することで、前記カルボジイミド樹脂のカルボジイミド基と2級水酸基とが反応して、2級水酸基が消失し、前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率が低減するものと考えられる。ここで、樹脂成分としてカルボジイミド樹脂の種類を特定せずに用いると、樹脂組成物をワニス化する場合に増粘したりして繊維基材への含浸性が損なわれたり、加熱成形するときの成形性や樹脂組成物の硬化物の耐熱性が低下することが懸念される。これに対して、本発明においては前記式(1)で表される特定のカルボジイミド樹脂を用いるようにしていることで、これら特性に悪影響を生じることなく、低誘電率化を図ることができる。したがって、前記樹脂組成物においては、後述する無機充填材の含有量を減じるという手段によらなくとも、低誘電率化を図ることができる。それゆえ、無機充填材を使用することによって得られる樹脂組成物の硬化物の低線膨張率化のメリットと、誘電率を上昇させてしまうというデメリットとのトレードオフを解決し、樹脂組成物の硬化物の低線膨張率化と低誘電率化とを実現することが可能となる。   The carbodiimide is a general term for chemical substances including a functional group (carbodiimide group) represented by the chemical formula -N = C = N-. In the present embodiment, the carbodiimide is particularly represented by the formula (1). Resin is used. As said carbodiimide resin, what uses tetramethyl-m-xylylene diisocyanate as a raw material can be mentioned, for example. In general, a reaction between an epoxy resin and a phenolic curing agent, or a reaction between an epoxy resin and an amine curing agent generates a secondary hydroxyl group. This secondary hydroxyl group causes a dielectric constant to increase. On the other hand, the presence of the carbodiimide resin represented by the formula (1) in the same reaction system causes the carbodiimide group of the carbodiimide resin to react with the secondary hydroxyl group, and the secondary hydroxyl group disappears. It is considered that the relative dielectric constant of the cured product of the resin composition is reduced. Here, if it is used without specifying the type of carbodiimide resin as the resin component, the resin composition becomes thickened when it is varnished, impregnation into the fiber base material is impaired, or when thermoforming There is a concern that the moldability and the heat resistance of the cured product of the resin composition are lowered. On the other hand, in the present invention, by using the specific carbodiimide resin represented by the formula (1), the dielectric constant can be reduced without adversely affecting these characteristics. Therefore, in the resin composition, the dielectric constant can be reduced without using means for reducing the content of the inorganic filler described later. Therefore, the trade-off between the merit of lowering the linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition obtained by using the inorganic filler and the demerit of increasing the dielectric constant is solved. It is possible to achieve a low linear expansion coefficient and a low dielectric constant of the cured product.

前記樹脂組成物において、その硬化物のガラス転移温度以下での線膨張係数は65ppm/℃以下が好ましく、62ppm/℃以下がより好ましい。また、前記樹脂組成物において、その硬化物の比誘電率は3.3以下であることが好ましく、3.2以下がより好ましい。   In the resin composition, the linear expansion coefficient at the glass transition temperature or lower of the cured product is preferably 65 ppm / ° C. or lower, and more preferably 62 ppm / ° C. or lower. In the resin composition, the relative dielectric constant of the cured product is preferably 3.3 or less, and more preferably 3.2 or less.

また前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂の数平均分子量(Mn)は1000〜3000の範囲内であることが好ましい。数平均分子量が1000以上であることによって、十分な量のカルボジイミド基を確保して2級水酸基の残存を抑制することができる。数平均分子量が3000以下であることによって、前記樹脂組成物をワニス化することを好適に行うことができ、さらにこのワニスの基材への含浸性を向上させることができる。   The number average molecular weight (Mn) of the carbodiimide resin represented by the formula (1) is preferably in the range of 1000 to 3000. When the number average molecular weight is 1000 or more, a sufficient amount of carbodiimide groups can be secured and the remaining secondary hydroxyl groups can be suppressed. When the number average molecular weight is 3000 or less, the resin composition can be suitably varnished, and the impregnation of the varnish into the substrate can be further improved.

また前記樹脂組成物において、前記エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して、前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂のカルボジイミド当量が0.1〜0.6の範囲内となるように、前記カルボジイミド樹脂が含有されていることが好ましい。前記カルボジイミド当量が0.1以上であることによって、前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率をさらに低下させることができる。また前記カルボジイミド当量が0.6以下であることによって、未反応のカルボジイミド樹脂が残存することを抑制して、前記樹脂組成物の硬化物の耐熱性を向上させることができる。   In the resin composition, the carbodiimide equivalent of the carbodiimide resin represented by the formula (1) is within the range of 0.1 to 0.6 with respect to the epoxy equivalent of the epoxy resin. It is preferable that a carbodiimide resin is contained. When the carbodiimide equivalent is 0.1 or more, the relative dielectric constant of the cured product of the resin composition can be further reduced. Moreover, when the said carbodiimide equivalent is 0.6 or less, it can suppress that unreacted carbodiimide resin remains, and can improve the heat resistance of the hardened | cured material of the said resin composition.

なお、前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂以外のカルボジイミド樹脂として、例えば、水素添加メチレンジフェニルジイソシアネートを原料とするものや、ジフェニルメタンジイソシアネートを原料とするものが挙げられる。しかし、このようなカルボジイミド樹脂を用いて樹脂組成物を調製しても、基材への含浸性が悪く、プリプレグを製造できないおそれがある。   Examples of the carbodiimide resin other than the carbodiimide resin represented by the formula (1) include those using hydrogenated methylene diphenyl diisocyanate as a raw material and those using diphenylmethane diisocyanate as a raw material. However, even if a resin composition is prepared using such a carbodiimide resin, the impregnation property to a base material is bad, and there exists a possibility that a prepreg cannot be manufactured.

また前記無機充填材としては、少なくともシリカを含むものを用いることが好ましい。さらに前記無機充填材の含有量は、前記樹脂組成物の全量から前記無機充填材を除いた残分100質量部に対して前記無機充填材が30〜80質量部の範囲内であることが好ましい。前記無機充填材の含有量が30質量部以上であることによって、前記樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度以下での線膨張係数をさらに低下させることができる。また前記無機充填材の含有量が80質量部以下であることによって、前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率をさらに低下させることができる。なお、以下では、前記樹脂組成物の全量から前記無機充填材を除いた残分を単に残分ともいう。このように残分には、前記無機充填材が除かれるが、各種の添加剤等が含まれていてもよい。   Further, as the inorganic filler, it is preferable to use a material containing at least silica. Furthermore, the content of the inorganic filler is preferably in the range of 30 to 80 parts by mass of the inorganic filler with respect to 100 parts by mass of the remaining amount obtained by removing the inorganic filler from the total amount of the resin composition. . When the content of the inorganic filler is 30 parts by mass or more, the linear expansion coefficient below the glass transition temperature of the cured product of the resin composition can be further reduced. Moreover, the specific dielectric constant of the hardened | cured material of the said resin composition can further be reduced because content of the said inorganic filler is 80 mass parts or less. Hereinafter, a residue obtained by removing the inorganic filler from the total amount of the resin composition is also simply referred to as a residue. Thus, although the said inorganic filler is remove | excluded in the remainder, various additives etc. may be contained.

また前記無機充填材は、シリカ以外の無機充填材として、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ケイ酸塩からなる群より選ばれた1種以上のものを含有してもよい。前記金属水酸化物としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等を挙げることができる。前記金属酸化物としては、例えば、アルミナ等の酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等を挙げることができる。前記金属炭酸塩としては、例えば、炭酸カルシウム等を挙げることができる。前記金属硫酸塩としては、例えば、硫酸マグネシウム等を挙げることができる。前記金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸マグネシウム等を挙げることができる。これらの群より選ばれた1種以上のものを用いることができる。この場合、残分100質量部に対してシリカ以外の無機充填材の含有量は15質量部以下であることが好ましい。これにより、前記樹脂組成物の硬化物について低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現させつつ、難燃性など他の特性を付与することができる。このことはFR−4のグレードの金属張積層板を製造する上で好適である。   The inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of metal hydroxides, metal oxides, metal carbonates, metal sulfates, and metal silicates as inorganic fillers other than silica. May be. Examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide and magnesium hydroxide. Examples of the metal oxide include aluminum oxide such as alumina, magnesium oxide, and the like. Examples of the metal carbonate include calcium carbonate. Examples of the metal sulfate include magnesium sulfate. Examples of the metal silicate include magnesium silicate. One or more selected from these groups can be used. In this case, the content of the inorganic filler other than silica is preferably 15 parts by mass or less with respect to the remaining 100 parts by mass. Thereby, other characteristics, such as a flame retardance, can be provided, implement | achieving both low dielectric constant reduction and low linear expansion coefficient about the hardened | cured material of the said resin composition. This is suitable for producing FR-4 grade metal-clad laminates.

さらに前記樹脂組成物には任意成分として必要に応じて硬化促進剤等の添加剤が含有されていてもよい。硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール系化合物、有機リン酸化合物、3級アミン等を用いることができる。本発明の目的を損なわなければ、前記硬化促進剤の含有量は特に限定されない。   Furthermore, the resin composition may contain additives such as a curing accelerator as an optional component as required. As the curing accelerator, for example, an imidazole compound, an organic phosphate compound, a tertiary amine, or the like can be used. The content of the curing accelerator is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.

次に本実施形態の樹脂組成物の調製方法について説明する。前記樹脂組成物は、前記エポキシ樹脂、前記硬化剤、前記カルボジイミド樹脂、前記無機充填材、必要に応じてその他の成分をそれぞれ所定の配合量準備し、溶媒中でこれらを配合し、さらに攪拌、混合することで樹脂ワニスとして調製することができる。この際、前記無機充填材を除いた残分のみを配合した樹脂ワニスをベース樹脂(ワニス)とし、このベース樹脂に前記無機充填材を配合するようにしてもよい。溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド等を用いることができる。   Next, the preparation method of the resin composition of this embodiment is demonstrated. The resin composition is prepared by mixing the epoxy resin, the curing agent, the carbodiimide resin, the inorganic filler, and other components as required, in predetermined amounts, mixing them in a solvent, and further stirring. It can prepare as a resin varnish by mixing. At this time, a resin varnish containing only the residue excluding the inorganic filler may be used as a base resin (varnish), and the inorganic filler may be added to the base resin. Examples of the solvent include ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone (MEK), aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, dimethylformamide, and the like.

次に本発明の実施の形態に係るプリプレグについて説明する。前記プリプレグは、前記のようにして得られた前記樹脂組成物のワニスをガラスクロス等の基材に含浸させ、これを110〜140℃で加熱乾燥し、ワニス中の溶媒を除去して、前記樹脂組成物を半硬化させることによって製造することができる。前記プリプレグのレジンコンテント(前記樹脂組成物の含有量)は、前記プリプレグの全量に対して30〜80質量%であることが好ましい。   Next, the prepreg according to the embodiment of the present invention will be described. The prepreg is obtained by impregnating a varnish of the resin composition obtained as described above into a substrate such as glass cloth, heating and drying at 110 to 140 ° C., removing the solvent in the varnish, It can be produced by semi-curing the resin composition. The resin content (content of the resin composition) of the prepreg is preferably 30 to 80% by mass with respect to the total amount of the prepreg.

次に本発明の実施の形態に係る金属張積層板について説明する。前記金属張積層板は、前記のようにして得られた前記プリプレグに金属箔を重ねて加熱加圧成形することによって製造することができる。例えば、1枚の前記プリプレグ又は複数枚重ねた前記プリプレグの片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、銅張積層板等の前記金属張積層板を製造することができる。前記金属張積層板において前記プリプレグの硬化物は絶縁層を形成する。前記加熱加圧の条件は、例えば、140〜200℃、0.5〜5.0MPa、40〜240分間である。   Next, the metal-clad laminate according to the embodiment of the present invention will be described. The metal-clad laminate can be produced by stacking a metal foil on the prepreg obtained as described above and heating and pressing. For example, the metal-clad laminate such as a copper-clad laminate is obtained by laminating a metal foil such as a copper foil on one or both sides of one prepreg or a plurality of the prepregs, and heating and pressing the foil. A board can be manufactured. In the metal-clad laminate, the cured product of the prepreg forms an insulating layer. The heating and pressing conditions are, for example, 140 to 200 ° C., 0.5 to 5.0 MPa, and 40 to 240 minutes.

次に本発明の実施の形態に係るプリント配線板について説明する。前記プリント配線板は、サブトラクティブ法等を使用して、前記のようにして得られた前記金属張積層板の金属箔の一部をエッチングにより除去して導体パターンを形成することによって製造することができる。   Next, the printed wiring board according to the embodiment of the present invention will be described. The printed wiring board is manufactured by using a subtractive method or the like to remove a portion of the metal foil of the metal-clad laminate obtained as described above by etching to form a conductor pattern. Can do.

またコア材(内層材)として前記プリント配線板を用い、この片面又は両面に前記プリプレグを積層成形することによって、多層プリント配線板を製造することができる。具体的には、コア材の導体パターン(内層パターン)を黒色酸化処理等で粗面化処理した後、このコア材の表面にプリプレグを介して金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形する。このときの加熱加圧の条件も、例えば、140〜200℃、0.5〜5.0MPa、40〜240分間である。次に、必要に応じてドリル加工による穴あけ及びデスミア処理を行う。その後、サブトラクティブ法を使用して導体パターン(外層パターン)を形成すると共に穴の内壁にめっき処理を行ってスルーホール又はブラインドバイアホールを形成することによって、多層プリント配線板を製造することができる。なお、前記プリント配線板の層数は特に限定されない。   Moreover, a multilayer printed wiring board can be manufactured by using the said printed wiring board as a core material (inner layer material) and carrying out the lamination | stacking shaping | molding of the said prepreg on this single side | surface or both surfaces. Specifically, the conductor pattern (inner layer pattern) of the core material is roughened by black oxidation or the like, and then a metal foil is stacked on the surface of the core material via a prepreg, and this is heated and pressed to form a laminate. To do. The heating and pressing conditions at this time are, for example, 140 to 200 ° C., 0.5 to 5.0 MPa, and 40 to 240 minutes. Next, drilling and desmearing are performed as necessary. Then, a multilayer printed wiring board can be manufactured by forming a conductor pattern (outer layer pattern) using a subtractive method and plating the inner wall of the hole to form a through hole or a blind via hole. . The number of layers of the printed wiring board is not particularly limited.

前記プリント配線板において、絶縁層は、前記金属張積層板の絶縁層、つまり前記プリプレグの硬化物で形成されている。前記プリプレグの硬化物は、前記樹脂組成物を基材に含浸させて硬化させたものである。   In the printed wiring board, the insulating layer is formed of an insulating layer of the metal-clad laminate, that is, a cured product of the prepreg. The cured product of the prepreg is obtained by impregnating the resin composition into a base material and curing it.

ここで、前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率は前述のように好適に低減されたものとなることから、前記プリプレグの硬化物(絶縁層)の比誘電率も好適に低減されたものとなる。よって、前記プリント配線板においては、絶縁層の誘電率が低下しているので、前記導体パターンで信号を伝達するにあたって、信号速度を高速化して大量の情報を高速で処理することができる。   Here, since the relative dielectric constant of the cured product of the resin composition is suitably reduced as described above, the relative dielectric constant of the cured product (insulating layer) of the prepreg is also suitably reduced. It becomes. Therefore, in the printed wiring board, since the dielectric constant of the insulating layer is lowered, when a signal is transmitted by the conductor pattern, the signal speed can be increased and a large amount of information can be processed at a high speed.

また、前記樹脂組成物の硬化物は、前述したように前記式(1)で表される前記カルボジイミド樹脂を含有したことで前記無機充填材の含有量を削減することなく低誘電率化を図ることができるので、前記プリプレグの硬化物の線膨張係数も低減することができる。したがって、前記プリント配線板においては、絶縁層の線膨張係数も低減して信頼性が向上する。   Moreover, the cured product of the resin composition contains the carbodiimide resin represented by the formula (1) as described above, thereby reducing the dielectric constant without reducing the content of the inorganic filler. Therefore, the linear expansion coefficient of the cured product of the prepreg can also be reduced. Therefore, in the printed wiring board, the linear expansion coefficient of the insulating layer is also reduced and the reliability is improved.

前記のように、本発明によれば、前記無機充填材の含有量を削減するという手段によらなくても、前記エポキシ樹脂及び前記フェノール系硬化剤の組合せ、前記エポキシ樹脂及び前記アミン系硬化剤の組合せ、前記エポキシ樹脂、前記フェノール系硬化剤及び前記アミン系硬化剤の組合せのいずれにおいても、前記樹脂組成物の硬化物の低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現することができる。   As described above, according to the present invention, the combination of the epoxy resin and the phenol-based curing agent, the epoxy resin and the amine-based curing agent can be used without using the means for reducing the content of the inorganic filler. In any combination of the epoxy resin, the phenolic curing agent, and the amine curing agent, it is possible to achieve both a low dielectric constant and a low linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition. it can.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

[樹脂組成物]
以下のエポキシ樹脂、硬化剤、カルボジイミド樹脂、無機充填材、硬化促進剤を樹脂組成物の原料として準備し、これらの原料を表2に示す配合量で混合させることで、樹脂組成物を樹脂ワニスとして調製した。表2に示す配合量の単位は、エポキシ樹脂、硬化剤及びカルボジイミド樹脂については質量部、無機充填材及び硬化促進剤についてはphr(per hundred resin)である。表2において「phr」は、エポキシ樹脂、硬化剤及びカルボジイミド樹脂の合計を100質量部とした場合、この100質量部に対する質量部を意味する。表2において「カルボジイミド当量/エポキシ当量」は、エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対するカルボジイミド樹脂のカルボジイミド当量を示す。
[Resin composition]
The following epoxy resin, curing agent, carbodiimide resin, inorganic filler, and curing accelerator are prepared as raw materials for the resin composition, and these raw materials are mixed in the blending amounts shown in Table 2 to make the resin composition a resin varnish As prepared. The unit of the compounding amount shown in Table 2 is part by mass for epoxy resins, curing agents, and carbodiimide resins, and phr (per hundred resin) for inorganic fillers and curing accelerators. In Table 2, “phr” means a mass part relative to 100 parts by mass when the total of the epoxy resin, the curing agent, and the carbodiimide resin is 100 parts by mass. In Table 2, “carbodiimide equivalent / epoxy equivalent” indicates the carbodiimide equivalent of the carbodiimide resin to the epoxy equivalent of 1 of the epoxy resin.

各原料の詳細は以下のとおりである。   Details of each raw material are as follows.

<エポキシ樹脂>
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「850−S」、エポキシ当量:180g/eq)
<フェノール系硬化剤>
・フェノールノボラック樹脂(DIC株式会社製「TD−2090」、フェノール当量:105g/eq)
<アミン系硬化剤>
・ジシアンジアミド(DICY)
<式(1)で表されるカルボジイミド樹脂>
・テトラメチル−m−キシリレンジイソシアネートを原料とするカルボジイミド樹脂(日清紡ケミカル株式会社製「V−05」、Mn:1000)
・テトラメチル−m−キシリレンジイソシアネートを原料とするカルボジイミド樹脂(日清紡ケミカル株式会社製「V−07」、Mn:3000)
<その他のカルボジイミド樹脂>
・水素添加メチレンジフェニルジイソシアネートを原料とするカルボジイミド樹脂(日清紡ケミカル株式会社製「HMV−8CA」、Mn:2000)
・ジフェニルメタンジイソシアネートを原料とするカルボジイミド樹脂(ラインケミージャパン株式会社製「スタバクゾールP」、Mn:3500)
<無機充填材>
・シリカ粒子(株式会社アドマテックス製「MC3000」)
・水酸化アルミニウム粒子(住友化学株式会社製「CL−303」)
<硬化促進剤>
・2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製「2E4MZ」)
[プリプレグ]
基材であるガラスクロス(Eガラス)に前記樹脂ワニスを含浸させ、これを半硬化状態となるまで加熱乾燥することによって、樹脂量70質量%のプリプレグを製造した。樹脂量は、プリプレグに対する樹脂組成物の質量百分率である。
<Epoxy resin>
Bisphenol A type epoxy resin (“850-S” manufactured by DIC Corporation, epoxy equivalent: 180 g / eq)
<Phenolic curing agent>
Phenol novolac resin (“TD-2090” manufactured by DIC Corporation, phenol equivalent: 105 g / eq)
<Amine-based curing agent>
・ Dicyandiamide (DICY)
<Carbodiimide resin represented by Formula (1)>
-Carbodiimide resin made from tetramethyl-m-xylylene diisocyanate (Nisshinbo Chemical Co., Ltd. "V-05", Mn: 1000)
-Carbodiimide resin made from tetramethyl-m-xylylene diisocyanate (Nisshinbo Chemical Co., Ltd. "V-07", Mn: 3000)
<Other carbodiimide resins>
・ Carbodiimide resin made from hydrogenated methylenediphenyl diisocyanate (Nisshinbo Chemical Co., Ltd. “HMV-8CA”, Mn: 2000)
-Carbodiimide resin made from diphenylmethane diisocyanate (Rhein Chemie Japan Co., Ltd. “STABAXOL P”, Mn: 3500)
<Inorganic filler>
-Silica particles ("MC3000" manufactured by Admatechs Corporation)
Aluminum hydroxide particles (“CL-303” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
<Curing accelerator>
2-ethyl-4-methylimidazole (“2E4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
[Prepreg]
A glass cloth (E glass) as a base material was impregnated with the resin varnish, and this was heated and dried until it became a semi-cured state, thereby producing a prepreg having a resin amount of 70% by mass. The resin amount is a mass percentage of the resin composition with respect to the prepreg.

[金属張積層板]
成形後の厚さが約0.8mmとなる枚数の前記プリプレグを重ね、さらにこの両面に金属箔として厚さ12μmの銅箔を重ねた後、180℃、2.94MPa(30kgf/cm)で60分間加熱加圧成形することによって、金属張積層板としての銅張積層板(CCL:copper clad laminate)を製造した。
[Metal-clad laminate]
After the number of the prepregs having a thickness of about 0.8 mm after forming is stacked, and a copper foil having a thickness of 12 μm is stacked as a metal foil on both sides, 180 ° C. and 2.94 MPa (30 kgf / cm 2 ). A copper clad laminate (CCL) as a metal-clad laminate was produced by heating and pressing for 60 minutes.

[物性評価]
以下のようにして、ワニス含浸性、比誘電率、線膨張係数、耐熱性の物性評価を行った。各物性評価の結果を表2に示す。
[Evaluation of the physical properties]
Evaluation of physical properties of varnish impregnation property, relative dielectric constant, linear expansion coefficient, and heat resistance was performed as follows. The results of each physical property evaluation are shown in Table 2.

<ワニス含浸性>
プリプレグを観察し、以下の基準に従ってワニス含浸性を評価した。
<Varnish impregnation>
The prepreg was observed and varnish impregnation property was evaluated according to the following criteria.

「OK」:ガラスクロスに樹脂組成物の未含浸部分がないもの
「NG」:ガラスクロスに樹脂組成物の未含浸部分があるもの
<比誘電率>
前記銅張積層板の両面の銅箔をエッチングにより除去してアンクラッド板を得た。このアンクラッド板の周波数1GHzにおける比誘電率をIPC TM−650 2.5.5.9に従って測定した。この実測値をCCLの比誘電率とした。
“OK”: The glass cloth has no unimpregnated portion of the resin composition “NG”: The glass cloth has an unimpregnated portion of the resin composition <Relative permittivity>
The copper foil on both sides of the copper clad laminate was removed by etching to obtain an unclad plate. The relative dielectric constant of this unclad plate at a frequency of 1 GHz was measured according to IPC TM-650 2.5.5.9. This measured value was taken as the relative dielectric constant of CCL.

次に、[数1]に示すLichteneckerの対数混合則を用いて、実測したCCLの比誘電率から、樹脂組成物の硬化物の比誘電率を算出した。算出に用いたシリカ、水酸化アルミニウム及びガラスクロスの比誘電率及び比重を表1に示す。   Next, using the Lichtenecker logarithmic mixing rule shown in [Equation 1], the relative dielectric constant of the cured product of the resin composition was calculated from the measured relative dielectric constant of CCL. Table 1 shows the relative dielectric constant and specific gravity of silica, aluminum hydroxide and glass cloth used for the calculation.

Figure 2015229763
Figure 2015229763

Figure 2015229763
Figure 2015229763

<線膨張係数>
前記銅張積層板の両面の銅箔をエッチングにより除去してアンクラッド板を得た。樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度以下でのアンクラッド板の厚さ方向の線膨張係数をIPC TM−650 2.4.24Cに従って測定した。この実測値をCCLの線膨張係数とした。
<Linear expansion coefficient>
The copper foil on both sides of the copper clad laminate was removed by etching to obtain an unclad plate. The linear expansion coefficient in the thickness direction of the unclad plate below the glass transition temperature of the cured product of the resin composition was measured according to IPC TM-650 2.4.24C. This measured value was taken as the linear expansion coefficient of CCL.

次に、[数2]に示す式を用いて、実測したCCLの線膨張係数から、樹脂組成物の硬化物の線膨張係数を算出した。算出に用いた樹脂組成物の比重を表2に示す。   Next, the linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition was calculated from the measured linear expansion coefficient of CCL using the equation shown in [Equation 2]. Table 2 shows the specific gravity of the resin composition used for the calculation.

Figure 2015229763
Figure 2015229763

<耐熱性>
前記銅張積層板の両面の銅箔をエッチングにより除去してアンクラッド板を得た。TG/DTA(Thermogravimetry / Differential Thermal Analysis)測定装置を用いて、窒素雰囲気下でアンクラッド板を10℃/minで昇温し、昇温開始時の質量に対して質量が5質量%減少したときの温度を測定し、以下の基準に従って耐熱性を評価した。
<Heat resistance>
The copper foil on both sides of the copper clad laminate was removed by etching to obtain an unclad plate. Using a TG / DTA (Thermogravimetry / Differential Thermal Analysis) measuring device, when the temperature of the unclad plate is raised at 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere, and the mass is reduced by 5 mass% with respect to the mass at the start of temperature elevation. The temperature was measured and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.

「○」:340℃以上の温度で質量が5質量%減少したもの
「×」:340℃未満の温度で質量が5質量%減少したもの
“◯”: Mass decreased by 5 mass% at a temperature of 340 ° C. or higher “X”: Mass decreased by 5 mass% at a temperature of less than 340 ° C.

Figure 2015229763
Figure 2015229763

表2から明らかなように、比較例1〜4に比べて実施例1〜12では、樹脂組成物の硬化物の低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現できることが確認された。   As is clear from Table 2, it was confirmed that in Examples 1 to 12 compared to Comparative Examples 1 to 4, it was possible to achieve both a low dielectric constant and a low linear expansion coefficient of the cured product of the resin composition.

より詳細に実施例と比較例との対比を行うと次のようになる。   A more detailed comparison between the example and the comparative example is as follows.

実施例1〜3、8、12と比較例1とは、カルボジイミド樹脂以外の組成は同じである。これらは無機充填材(シリカ)の配合量が同じであることから線膨張率は同程度であったが、式(1)で表されるカルボジイミド樹脂を使用した実施例1〜3、8、12では、前記カルボジイミド樹脂を使用していない比較例1と比べて比誘電率が小さくなることが確認された。   Examples 1 to 3, 8, and 12 and Comparative Example 1 have the same composition except for the carbodiimide resin. Since these had the same compounding amount of the inorganic filler (silica), the linear expansion coefficients were similar, but Examples 1 to 3, 8, and 12 using the carbodiimide resin represented by the formula (1). Then, it was confirmed that relative dielectric constant becomes small compared with the comparative example 1 which does not use the said carbodiimide resin.

また実施例1〜3と、実施例8、12とは、式(1)で表されるカルボジイミド樹脂の含有量以外の組成は同じである。エポキシ当量1に対してカルボジイミド当量が0.1未満である実施例8では、実施例1〜3と比べて比誘電率がやや大きくなった。一方、エポキシ当量1に対してカルボジイミド当量が0.6を超えている実施例12では、耐熱性が劣る結果となった。これらに対して、実施例1〜3では、低誘電率化及び低線膨張率化の両方を実現することができ、さらに耐熱性も良好であった。   Examples 1 to 3 and Examples 8 and 12 have the same composition except for the content of the carbodiimide resin represented by the formula (1). In Example 8 in which the carbodiimide equivalent was less than 0.1 with respect to epoxy equivalent 1, the relative dielectric constant was slightly higher than in Examples 1-3. On the other hand, in Example 12, in which the carbodiimide equivalent exceeded 0.6 with respect to the epoxy equivalent 1, the heat resistance was inferior. On the other hand, in Examples 1-3, both low dielectric constant and low linear expansion coefficient were realizable, and also heat resistance was favorable.

また実施例2と、実施例9とは、無機充填材(シリカ)の含有量以外の組成は同じである。実施例9では無機充填材の含有量が30phr未満であるが、実施例2では無機充填材の含有量が30〜80phrの範囲内であるので、実施例2の方が低線膨張率化の観点ではより優れている。   Moreover, Example 2 and Example 9 have the same composition except content of an inorganic filler (silica). In Example 9, the content of the inorganic filler is less than 30 phr, but in Example 2, since the content of the inorganic filler is in the range of 30 to 80 phr, Example 2 has a lower linear expansion coefficient. From a viewpoint, it is better.

また実施例10と比較例2とは、カルボジイミド樹脂以外の組成は同じである。これらは無機充填材(水酸化アルミニウム)の配合量が同じであることから線膨張率は同程度であったが、式(1)で表されるカルボジイミド樹脂を使用した実施例10では、比較例2よりも低誘電率であった。   Moreover, Example 10 and the comparative example 2 are the same compositions except carbodiimide resin. Since the blending amount of the inorganic filler (aluminum hydroxide) is the same, the linear expansion coefficient was almost the same, but in Example 10 using the carbodiimide resin represented by the formula (1), a comparative example was used. The dielectric constant was lower than 2.

また、式(1)で表されるカルボジイミド樹脂を使用せず、その他のカルボジイミド樹脂を使用した比較例3、4では、ワニス含浸性が低下したため、物性評価用の銅張積層板を製造することができなかった。   In Comparative Examples 3 and 4 in which the carbodiimide resin represented by the formula (1) is not used and other carbodiimide resins are used, the varnish impregnation property is lowered, and thus a copper-clad laminate for evaluating physical properties is manufactured. I could not.

Claims (9)

プリント配線板用の樹脂組成物であって、
前記樹脂組成物が、
エポキシ樹脂と、
フェノール系硬化剤及びアミン系硬化剤のうちの少なくともいずれかと、
式(1)で表されるカルボジイミド樹脂と、
無機充填材と
を含有することを特徴とする
樹脂組成物。
Figure 2015229763
A resin composition for a printed wiring board,
The resin composition is
Epoxy resin,
At least one of a phenolic curing agent and an amine curing agent;
A carbodiimide resin represented by the formula (1);
A resin composition comprising an inorganic filler.
Figure 2015229763
前記樹脂組成物の硬化物の比誘電率が3.3以下であり、
前記樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度以下での線膨張係数が65ppm/℃以下であることを特徴とする
請求項1に記載の樹脂組成物。
The relative dielectric constant of the cured product of the resin composition is 3.3 or less,
2. The resin composition according to claim 1, wherein a linear expansion coefficient at a glass transition temperature or lower of the cured product of the resin composition is 65 ppm / ° C. or lower.
前記エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して前記カルボジイミド樹脂のカルボジイミド当量が0.1〜0.6の範囲内となるように前記カルボジイミド樹脂が含有されていることを特徴とする
請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
The carbodiimide resin is contained so that a carbodiimide equivalent of the carbodiimide resin is within a range of 0.1 to 0.6 with respect to an epoxy equivalent of the epoxy resin. The resin composition as described.
前記無機充填材にシリカが含まれ、
前記樹脂組成物から前記無機充填材を除いた残分100質量部に対して前記無機充填材の含有量が30〜80質量部の範囲内であることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
Silica is included in the inorganic filler,
4. The content of the inorganic filler is in the range of 30 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the remainder obtained by removing the inorganic filler from the resin composition. 5. The resin composition according to claim 1.
前記無機充填材に、前記シリカ以外の無機充填材として、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ケイ酸塩からなる群より選ばれた1種以上のものが含まれ、
前記残分100質量部に対して前記シリカ以外の無機充填材の含有量が15質量部以下であることを特徴とする
請求項4に記載の樹脂組成物。
The inorganic filler includes one or more selected from the group consisting of metal hydroxides, metal oxides, metal carbonates, metal sulfates, and metal silicates as inorganic fillers other than silica. And
The resin composition according to claim 4, wherein the content of the inorganic filler other than silica is 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the residue.
前記カルボジイミド樹脂の数平均分子量が1000〜3000の範囲内であることを特徴とする
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
The number average molecular weight of the said carbodiimide resin exists in the range of 1000-3000, The resin composition as described in any one of Claims 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned.
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の樹脂組成物が基材に含浸されて半硬化していることを特徴とする
プリプレグ。
A prepreg characterized in that the resin composition according to any one of claims 1 to 6 is impregnated in a substrate and semi-cured.
請求項7に記載のプリプレグに金属箔が重ねられて加熱加圧成形して形成されていることを特徴とする
金属張積層板。
A metal-clad laminate, wherein the prepreg according to claim 7 is formed by overlapping a metal foil and heating and pressing.
請求項8に記載の金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンが形成されていることを特徴とする
プリント配線板。
A printed wiring board, wherein a conductor pattern is formed by removing a part of the metal foil of the metal-clad laminate according to claim 8.
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