JP2011155085A - Epoxy resin composition for printed wiring boards, resin film, prepreg, resin sheet with metal foil, flexible printed wiring board - Google Patents

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高好 小関
Yosuke Ishikawa
陽介 石川
Yoshiaki Ezaki
義昭 江崎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for a printed wiring board capable of improving all of conservation stability, an adhesive property, bending performance, a filling property, heat resistance in the case of moisture absorption, and flame retardancy. <P>SOLUTION: The epoxy resin composition for the printed wiring board is provided. (A) An epoxy resin, (B) an epoxy-resin curing agent, (C) a carbo diimide modified soluble polyamide, and (D) an inorganic filler are contained as essential components. At least one kind of talc treated by zinc molybdate and chlorite is used as the (D) component. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、フレキシブルプリント配線板等のプリント配線板の製造に用いられるプリント配線板用エポキシ樹脂組成物、樹脂フィルム、プリプレグ及び金属箔付き樹脂シート(樹脂付き金属箔)並びにこれらのものを用いて形成されたフレキシブルプリント配線板に関するものである。   The present invention uses an epoxy resin composition for a printed wiring board, a resin film, a prepreg, a resin sheet with a metal foil (metal foil with a resin), and the like used for manufacturing a printed wiring board such as a flexible printed wiring board. The present invention relates to a formed flexible printed wiring board.

小型・薄型の電子機器には多くのフレキシブルプリント配線板が使用されているが、最近では更なる高密度化・薄型の要求からフレキシブルプリント配線板にも多層化のニーズが高まると共に、その要求品質・コストが厳しいものとなっている。従来、フレキシブルプリント配線板の多層化材料としては、ボンディングシートやカバーレイが知られている。絶縁性ビルドアップ材料として用いられるこれらのボンディングシートやカバーレイには保存安定性やスルーホール及び回路充填性等のプレス成形性はもちろん、フレキシブルプリント配線板としての屈曲性、耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性が求められる。そこで、絶縁性、耐熱性、耐薬品性に優れるエポキシ樹脂に屈曲性に優れるNBRやアクリルゴムをブレンドした樹脂組成物がボンディングシートやカバーレイに用いられている。   Many flexible printed wiring boards are used in small and thin electronic devices. Recently, the demand for multilayered flexible printed wiring boards has increased due to the demand for higher density and lower thickness.・ Cost is severe. Conventionally, bonding sheets and coverlays are known as multilayered materials for flexible printed wiring boards. These bonding sheets and coverlays used as insulating build-up materials have not only storage stability, press-formability such as through-holes and circuit fillability, but also flexibility, heat resistance, and chemical resistance as flexible printed wiring boards. Electrical insulation is required. Accordingly, a resin composition obtained by blending NBR or acrylic rubber having excellent flexibility with an epoxy resin having excellent insulation, heat resistance, and chemical resistance is used for bonding sheets and coverlays.

しかし、このような樹脂組成物のワニス及びシート保存安定性は不十分であり、これを用いて得られたフレキシブルプリント配線板の電気絶縁性、耐熱性、耐薬品性も満足できるものではなかった。このため、NBRやアクリルゴムなどの合成ゴムよりも、耐薬品性、耐熱性、絶縁性、難燃性、屈曲性に優れるポリアミドイミドやポリアミドをエポキシ樹脂にブレンドした樹脂組成物を用いることも行われているが(例えば、特許文献1参照)、やはりワニス保存安定性やシート保存安定性、スルーホール及び回路充填性等のプレス成形性は未だ十分ではない。しかも保存安定性やプレス成形性を改善すると、良好であった他の特性が悪化するというジレンマに陥っていた。さらに吸湿時の耐熱性を高めるため、樹脂組成物に無機充填材としてタルクを添加すると、難燃性が低下してしまうという問題があった。   However, the varnish and sheet storage stability of such a resin composition is insufficient, and the electric insulation, heat resistance, and chemical resistance of the flexible printed wiring board obtained using the resin composition are not satisfactory. . For this reason, it is also possible to use a resin composition obtained by blending an epoxy resin with polyamideimide or polyamide, which is superior in chemical resistance, heat resistance, insulation, flame retardancy and flexibility than synthetic rubber such as NBR and acrylic rubber. However, the press formability such as varnish storage stability, sheet storage stability, through-hole and circuit filling properties is still not sufficient. Moreover, when the storage stability and press formability are improved, other characteristics that have been favorable are deteriorated. Furthermore, when talc is added as an inorganic filler to the resin composition in order to enhance heat resistance during moisture absorption, there is a problem that flame retardancy is reduced.

特開平11−140164号公報JP-A-11-140164

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、保存安定性、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるプリント配線板用エポキシ樹脂組成物を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and is an epoxy resin for printed wiring boards that can improve all of storage stability, adhesion, flexibility, fillability, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy. The object is to provide a composition.

本発明の請求項1に係るプリント配線板用エポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材が必須成分として含有されていると共に、前記(D)成分として、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルク、クロライトのうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とするものである。   The epoxy resin composition for a printed wiring board according to claim 1 of the present invention includes (A) an epoxy resin, (B) an epoxy resin curing agent, (C) a carbodiimide-modified soluble polyamide, and (D) an inorganic filler as essential components. It is contained, and as the component (D), at least one of talc and chlorite treated with zinc molybdate is used.

請求項2に係る発明は、請求項1において、(C)成分の含有量が(A)(B)(C)成分の合計量に対して20〜70質量%であることを特徴とするものである。   The invention according to claim 2 is characterized in that, in claim 1, the content of component (C) is 20 to 70% by mass with respect to the total amount of components (A), (B) and (C). It is.

請求項3に係る発明は、請求項1又は2において、(A)成分として、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が用いられていることを特徴とするものである。   The invention according to claim 3 is characterized in that, in claim 1 or 2, an epoxy resin having a naphthalene skeleton is used as the component (A).

請求項4に係る発明は、請求項3において、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂として、下記構造式(1)〜(3)で表されるもののうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とするものである。   The invention according to claim 4 is characterized in that in claim 3, at least one of those represented by the following structural formulas (1) to (3) is used as an epoxy resin having a naphthalene skeleton. To do.

Figure 2011155085
Figure 2011155085

請求項5に係る発明は、請求項1乃至4のいずれか1項において、(B)成分として、下記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂、ジシアンジアミドのうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とするものである。   According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, at least one of aminotriazine novolak resin and dicyandiamide represented by the following structural formula (4) is used as the component (B). It is characterized by being.

Figure 2011155085
Figure 2011155085

請求項6に係る発明は、請求項1乃至5のいずれか1項において、フェノキシ樹脂が含有されていることを特徴とするものである。   The invention according to claim 6 is characterized in that, in any one of claims 1 to 5, a phenoxy resin is contained.

本発明の請求項7に係る樹脂フィルムは、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物がフィルム状に成形されていることを特徴とするものである。   A resin film according to a seventh aspect of the present invention is characterized in that the epoxy resin composition for a printed wiring board according to any one of the first to sixth aspects is formed into a film shape.

本発明の請求項8に係るプリプレグは、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物が基材に含浸されて半硬化状態となっていることを特徴とするものである。   A prepreg according to claim 8 of the present invention is characterized in that the substrate is impregnated with the epoxy resin composition for printed wiring board according to any one of claims 1 to 6 and is in a semi-cured state. To do.

本発明の請求項9に係る金属箔付き樹脂シートは、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物が金属箔に塗布されて半硬化状態となっていることを特徴とするものである。   The resin sheet with metal foil according to claim 9 of the present invention is in a semi-cured state by applying the epoxy resin composition for printed wiring board according to any one of claims 1 to 6 to the metal foil. It is characterized by this.

本発明の請求項10に係るフレキシブルプリント配線板は、請求項7に記載の樹脂フィルム、請求項8に記載のプリプレグ、請求項9に記載の金属箔付き樹脂シートのうちの少なくとも1種類を用いて形成されていることを特徴とするものである。   A flexible printed wiring board according to a tenth aspect of the present invention uses at least one of the resin film according to the seventh aspect, the prepreg according to the eighth aspect, and the resin sheet with metal foil according to the ninth aspect. It is characterized by being formed.

本発明の請求項1に係るプリント配線板用エポキシ樹脂組成物によれば、カルボジイミド変性可溶性ポリアミドによって、保存安定性、密着性、屈曲性、充填性をいずれも高めることができると共に、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルクやクロライトによって、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。   According to the epoxy resin composition for a printed wiring board according to claim 1 of the present invention, the carbodiimide-modified soluble polyamide can improve all of storage stability, adhesion, flexibility, and fillability, and zinc molybdate. The talc and chlorite treated with the above can improve both heat resistance and flame retardancy during moisture absorption.

請求項2に係る発明によれば、屈曲性、耐薬品性を高めることができるものである。   According to the invention which concerns on Claim 2, flexibility and chemical-resistance can be improved.

請求項3に係る発明によれば、耐熱性、耐マイグレーション性、耐薬品性を高めることができるものである。   According to the invention which concerns on Claim 3, heat resistance, migration resistance, and chemical resistance can be improved.

請求項4に係る発明によれば、耐熱性、耐マイグレーション性、耐薬品性をさらに高めることができるものである。   According to the invention which concerns on Claim 4, heat resistance, migration resistance, and chemical resistance can be improved further.

請求項5に係る発明によれば、難燃性、耐薬品性を高めることができると共に、長期間の製品保存安定性を高めることができるものである。   According to the invention which concerns on Claim 5, while flame retardance and chemical-resistance can be improved, long-term product storage stability can be improved.

請求項6に係る発明によれば、屈曲性をさらに高めることができるものである。   According to the invention which concerns on Claim 6, a flexibility can be improved further.

本発明の請求項7に係る樹脂フィルムは、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。   The resin film according to claim 7 of the present invention can enhance all of adhesion, flexibility, fillability, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy.

本発明の請求項8に係るプリプレグは、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。   The prepreg according to claim 8 of the present invention can improve all of adhesion, flexibility, filling property, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy.

本発明の請求項9に係る金属箔付き樹脂シートは、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。   The resin sheet with a metal foil according to claim 9 of the present invention can enhance all of adhesion, flexibility, filling property, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy.

本発明の請求項10に係るフレキシブルプリント配線板は、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。   The flexible printed wiring board according to claim 10 of the present invention can enhance all of adhesion, flexibility, filling property, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明においてプリント配線板用エポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材を必須成分として含有するものである。   In the present invention, the epoxy resin composition for a printed wiring board contains (A) an epoxy resin, (B) an epoxy resin curing agent, (C) a carbodiimide-modified soluble polyamide, and (D) an inorganic filler as essential components. .

(A)成分であるエポキシ樹脂としては、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、酸化型エポキシ樹脂等を用いることができる。このうちグリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、アルコール型エポキシ樹脂等を例示することができる。またグリシジルエステル型エポキシ樹脂としては、ヒドロフタル酸型エポキシ樹脂、ダイマー酸型エポキシ樹脂等を例示することができる。またグリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、芳香族アミン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂等を例示することができる。また酸化型エポキシ樹脂としては、脂環型エポキシ樹脂等を例示することができる。さらにナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、フェノール骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂(ビフェニルノボラックエポキシ樹脂)、リン変性エポキシ樹脂(後述)等を用いることができるが、ハロゲンは含有しないものを用いるのが好ましい。特に(A)成分としては、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。このようなエポキシ樹脂を用いると、フレキシブルプリント配線板の耐熱性、耐マイグレーション性、耐薬品性を高めることができるものである。中でもナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂としては、上記構造式(1)〜(3)で表されるもののうちの少なくとも1種類を用いるのが好ましい。このようなエポキシ樹脂を用いると、その他のエポキシ樹脂を用いる場合に比べて、フレキシブルプリント配線板の耐熱性、耐マイグレーション性、耐薬品性をさらに高めることができるものである。   As the epoxy resin as the component (A), for example, glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, oxidation type epoxy resin and the like can be used. Among these, examples of the glycidyl ether type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alcohol type epoxy resin and the like. Examples of the glycidyl ester type epoxy resin include hydrophthalic acid type epoxy resins and dimer acid type epoxy resins. Examples of the glycidylamine type epoxy resin include aromatic amine type epoxy resins and aminophenol type epoxy resins. Moreover, as an oxidation type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin etc. can be illustrated. Furthermore, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, a novolac type epoxy resin having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton (biphenyl novolac epoxy resin), a phosphorus-modified epoxy resin (described later), etc. can be used, but one containing no halogen is used. preferable. In particular, as the component (A), it is preferable to use an epoxy resin having a naphthalene skeleton. When such an epoxy resin is used, the heat resistance, migration resistance, and chemical resistance of the flexible printed wiring board can be improved. Among these, as the epoxy resin having a naphthalene skeleton, it is preferable to use at least one of those represented by the structural formulas (1) to (3). When such an epoxy resin is used, the heat resistance, migration resistance, and chemical resistance of the flexible printed wiring board can be further enhanced as compared with the case of using other epoxy resins.

(B)成分であるエポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、ポリアミン、変性ポリアミン、酸無水物、ヒドラジン誘導体、ポリフェノール等を用いることができる。このうちポリアミン系の硬化剤としては、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳香族ポリアミン等を例示することができる。さらにこのうち脂肪族ポリアミンとしては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、m−キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン等を例示することができる。また脂環式ポリアミンとしては、イソフォロンジアミン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン等を例示することができる。また芳香族ポリアミンとしては、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン等を例示することができる。また酸無水物としては、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水トリメリット酸、無ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、脂肪族二塩基酸ポリ無水物等を例示することができる。またポリフェノール系の硬化剤としては、フェノールノボラック、キシレンノボラック、ビスAノボラック、トリフェニルメタンノボラック、ビフェニルノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラック等を例示することができる。さらにアミノトリアジンノボラック樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等を用いることができる。特に(B)成分としては、上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂、ジシアンジアミドのうちの少なくとも1種類を用いるのが好ましい。このようなエポキシ樹脂硬化剤を用いると、樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シートの長期間の製品保存安定性を高めることができると共に、フレキシブルプリント配線板の難燃性、耐薬品性を高めることができるものである。なお、(B)成分の含有量は(A)(B)(C)成分の合計量に対して10〜45質量%であることが好ましい。   As the epoxy resin curing agent as component (B), for example, polyamines, modified polyamines, acid anhydrides, hydrazine derivatives, polyphenols and the like can be used. Among these, examples of the polyamine-based curing agent include aliphatic polyamines, alicyclic polyamines, and aromatic polyamines. Among these, examples of the aliphatic polyamine include diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, m-xylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, and diethylaminopropylamine. Examples of the alicyclic polyamines include isophorone diamine, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, norbornene diamine, 1,2-diaminocyclohexane, and laromine. Examples of aromatic polyamines include diaminodiphenylmethane, metaphenylenediamine, and diaminodiphenylsulfone. Examples of acid anhydrides include hexahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydro anhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, hydrogenated methyl nadic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, methylcyclohexene tetracarboxylic acid. Examples include dianhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic acid free, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, aliphatic dibasic acid polyanhydride, and the like. Examples of the polyphenol-based curing agent include phenol novolak, xylene novolak, bis A novolak, triphenylmethane novolak, biphenyl novolak, dicyclopentadienephenol novolak, and terpene phenol novolak. Further, aminotriazine novolac resins, novolac-type phenol resins and the like can be used. In particular, as the component (B), it is preferable to use at least one of aminotriazine novolak resin and dicyandiamide represented by the structural formula (4). When such an epoxy resin curing agent is used, the long-term product storage stability of resin films, prepregs, and resin sheets with metal foils can be improved, and the flame resistance and chemical resistance of flexible printed wiring boards can be increased. It is something that can be done. In addition, it is preferable that content of (B) component is 10-45 mass% with respect to the total amount of (A) (B) (C) component.

(C)成分であるカルボジイミド変性可溶性ポリアミドとしては、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを、溶媒の存在下又は不存在下で、50〜250℃の反応温度で反応させて得られたものを用いることができる。   As the carbodiimide-modified soluble polyamide as component (C), it is possible to use a product obtained by reacting a soluble polyamide and a carbodiimide compound at a reaction temperature of 50 to 250 ° C. in the presence or absence of a solvent. it can.

可溶性ポリアミドは、アルコール及び芳香族系及び/又はケトン系等の有機溶媒の混合物100質量部に対して、1質量部以上、好ましくは5質量部以上、より好ましくは10質量部以上が完全に溶解可能なものである。   The soluble polyamide is completely dissolved in an amount of 1 part by mass or more, preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of a mixture of alcohol and aromatic and / or ketone organic solvents. It is possible.

上記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等を挙げることができ、上記芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等を挙げることができ、上記ケトン系溶媒としては、例えば、シクロヘキサノン、2−ブタノン、シクロペンタノン等を挙げることができる。これらのアルコール、芳香族系溶媒及びケトン系溶媒は、沸点が130℃以下であるものが好ましい。   Examples of the alcohol include methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like. Examples of the aromatic solvent include benzene and toluene. Examples of the ketone solvent include cyclohexanone. , 2-butanone, cyclopentanone and the like. These alcohols, aromatic solvents and ketone solvents preferably have a boiling point of 130 ° C. or lower.

可溶性ポリアミドは、ポリアミドを可溶化することによって得ることができる。この可溶化の方法としては、例えば、各種ポリアミドのアミド結合の水素原子をメトキシメチル基で一部置換する方法を挙げることができる。ポリアミドにメトキシ基を導入するとアミド基が有する水素結合能力が失われ、ポリアミドの結晶性が阻害されるため、溶媒への溶解性が増大する。また、上記可溶化の方法としては、例えば、可溶化前のポリアミドの分子中にポリエーテルやポリエステルを導入して共重合体とする方法も挙げることができる。可溶化前のポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46等を挙げることができる。   The soluble polyamide can be obtained by solubilizing the polyamide. As the solubilization method, for example, a method in which hydrogen atoms of amide bonds of various polyamides are partially substituted with methoxymethyl groups can be exemplified. When a methoxy group is introduced into a polyamide, the hydrogen bonding ability of the amide group is lost, and the crystallinity of the polyamide is inhibited, so that the solubility in a solvent is increased. Examples of the solubilization method include a method of introducing a polyether or polyester into a polyamide molecule before solubilization to obtain a copolymer. Examples of the polyamide before solubilization include nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 11, nylon 12, and nylon 46.

可溶性ポリアミドの具体例としては、「Zytel 61」(デュポン株式会社製)、「Versalon」(ゼネラルミルズ社製)、「アミランCM4000」(東レ株式会社製)、「アミランCM8000」(東レ株式会社製)、「PA−100」(富士化成工業株式会社製)、「トレジン」(ナガセケムテックス株式会社製)等を挙げることができる。   Specific examples of the soluble polyamide include “Zytel 61” (manufactured by DuPont), “Versalon” (manufactured by General Mills), “Amilan CM4000” (manufactured by Toray Industries, Inc.), and “Amilan CM8000” (manufactured by Toray Industries, Inc.). , “PA-100” (manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.), “Toresin” (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), and the like.

カルボジイミド化合物とは、分子中に1個以上のカルボジイミド基を有するもので、モノカルボジイミド化合物、ポリカルボジイミド化合物等を挙げることができ、例えば、触媒として有機リン系化合物又は有機金属化合物を用い、各種ポリイソシアネートを約70℃以上の温度で、無溶媒又は不活性溶媒中で、脱炭酸縮合反応により合成することができる。   The carbodiimide compound is a compound having one or more carbodiimide groups in the molecule, and examples thereof include a monocarbodiimide compound and a polycarbodiimide compound. For example, an organic phosphorus compound or an organometallic compound is used as a catalyst. Isocyanates can be synthesized by a decarboxylation condensation reaction at a temperature of about 70 ° C. or higher in a solvent-free or inert solvent.

上記モノカルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、t−ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ−t−ブチルカルボジイミド、ジ−β−ナフチルカルボジイミド等を例示することができ、これらの中では、特に工業的に入手が容易であるという面から、ジシクロヘキシルカルボジイミド、あるいはジイソプロピルカルボジイミドが好適である。   Examples of the monocarbodiimide compound include dicyclohexylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, dimethylcarbodiimide, diisobutylcarbodiimide, dioctylcarbodiimide, t-butylisopropylcarbodiimide, diphenylcarbodiimide, di-t-butylcarbodiimide, di-β-naphthylcarbodiimide and the like. Among these, dicyclohexylcarbodiimide or diisopropylcarbodiimide is preferable from the viewpoint of industrial availability.

また、上記ポリカルボジイミド化合物としては、種々の方法で製造したものを使用することができるが、基本的には、従来のポリカルボジイミドの製造方法(例えば、米国特許第2941956号明細書、J.Org.Chem.28,2069−2075(1963)、Chemical Review 1981,Vol.81No.4、p619−621 参照)により、製造されたものを用いることができる。   In addition, as the polycarbodiimide compound, those produced by various methods can be used, but basically, a conventional method for producing polycarbodiimide (for example, US Pat. No. 2,941,956, J. Org). Chem. 28, 2069-2075 (1963), Chemical Review 1981, Vol. 81 No. 4, p619-621) can be used.

ポリカルボジイミド化合物を製造する際の合成原料である有機ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネートやこれらの混合物を挙げることができ、具体的には、1,5−ナフタレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートの混合物、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、2,6−ジイソプロピルフェニルジイソシアネート、1,3,5−トリイソプロピルベンゼン−2,4−ジイソシアネート等を例示することができる。   Examples of the organic diisocyanate that is a synthetic raw material for producing a polycarbodiimide compound include aromatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and mixtures thereof. Specifically, 1,5- Naphthalene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate , 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate mixture, hexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophoro Illustrate diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 2,6-diisopropylphenyl diisocyanate, 1,3,5-triisopropylbenzene-2,4-diisocyanate, etc. Can do.

中でも、可撓性や耐湿性の向上効果などの観点から、脂肪族系(脂環族を含む)有機ジイソシアネートが好ましく、特にイロホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネートやこれらの混合物がより好ましい。   Of these, aliphatic (including alicyclic) organic diisocyanates are preferable from the viewpoint of improving flexibility and moisture resistance, and particularly ilophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, tetramethylxylylene diene. Isocyanates and mixtures thereof are more preferred.

また、上記ポリカルボジイミド化合物を製造する際には、冷却等により重合反応を途中で停止させて適切な重合度に制御することができる。この場合、末端はイソシアネート基となる。さらに、適切な重合度に制御するには、モノイソシアネート化合物等の、ポリカルボジイミド化合物の末端イソシアネート基と反応する化合物を用いて、残存する末端イソシアネート基の全て又は一部を封止する方法もある。重合度を制御することにより、可溶性ポリアミドとの相溶性や保存安定性を高めることができ、品質向上の点で好ましい。   Moreover, when manufacturing the said polycarbodiimide compound, a polymerization reaction can be stopped on the way by cooling etc., and it can control to a suitable polymerization degree. In this case, the terminal is an isocyanate group. Furthermore, in order to control to an appropriate degree of polymerization, there is a method of sealing all or part of the remaining terminal isocyanate groups using a compound that reacts with the terminal isocyanate group of the polycarbodiimide compound, such as a monoisocyanate compound. . By controlling the degree of polymerization, compatibility with soluble polyamide and storage stability can be enhanced, which is preferable in terms of quality improvement.

このようなポリカルボジイミド化合物の末端を封止してその重合度を制御するためのモノイソシアネート化合物としては、例えば、フェニルイソシアネート、トリルイソシアネート、ジメチルフェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等を挙げることができる。   Examples of the monoisocyanate compound for sealing the end of such a polycarbodiimide compound and controlling the degree of polymerization thereof include phenyl isocyanate, tolyl isocyanate, dimethylphenyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate, butyl isocyanate, naphthyl isocyanate and the like. be able to.

また、ポリカルボジイミド化合物の末端を封止してその重合度を制御する末端封止剤としては、上記モノイソシアネート化合物に限定されるものではなく、イソシアネート基と反応し得る活性水素化合物、例えば、(i)脂肪族、芳香族又は脂環族化合物であって、−OH基を有する、メタノール、エタノール、フェノール、シクロヘキサノール、N−メチルエタノールアミン、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル;(ii)=NH基を有するジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン;(iii)−NH基を有するブチルアミン、シクロヘキシルアミン;(iv)−COOH基を有するコハク酸、安息香酸、シクロヘキサン酸;(v)−SH基を有するエチルメルカプタン、アリルメルカプタン、チオフェノール;(vi)エポキシ基を有する化合物;(vii)無水酢酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸のような酸無水物等を挙げることができる。 Further, the end-capping agent that seals the end of the polycarbodiimide compound and controls the degree of polymerization thereof is not limited to the monoisocyanate compound, but an active hydrogen compound that can react with an isocyanate group, for example, ( i) an aliphatic, aromatic or alicyclic compound having an —OH group, methanol, ethanol, phenol, cyclohexanol, N-methylethanolamine, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monomethyl ether; (ii) = diethylamine with an NH group, dicyclohexylamine; butylamine with (iii) -NH 2 group, cyclohexylamine; succinic acid having a (iv) -COOH group, benzoic acid, cyclohexane acid, ethyl having (v) -SH group Mercaptans, ants Lumercaptan, thiophenol; (vi) compounds having an epoxy group; (vii) acid anhydrides such as acetic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride.

上記有機ジイソシアネートの脱炭酸縮合反応は、適当なカルボジイミド化触媒の存在下で行うものであり、使用し得るカルボジイミド化触媒としては、有機リン系化合物、有機金属化合物〔一般式M−(OR)[Mは、チタン(Ti)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、鉛(Pb)、マンガン(Mn)、ニッケル(Ni)、カルシウム(Ca)やバリウム(Ba)等を示し、Rは、炭素数1〜20までのアルキル基又はアリール基を示し、nはMの価数を示す]で表されるもの〕が好適であり、特に活性の面から、有機リン系化合物ではフォスフォレンオキシド類が好ましく、また、有機金属化合物ではチタン、ハフニウム、ジルコニウムのアルコキシド類が好ましい。 The decarboxylation condensation reaction of the organic diisocyanate is carried out in the presence of a suitable carbodiimidization catalyst. Examples of the carbodiimidization catalyst that can be used include organic phosphorus compounds, organometallic compounds [general formula M- (OR) n [M is titanium (Ti), sodium (Na), potassium (K), vanadium (V), tungsten (W), hafnium (Hf), zirconium (Zr), lead (Pb), manganese (Mn), nickel (Ni), calcium (Ca), barium (Ba) and the like, R represents an alkyl group or aryl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents a valence of M] From the viewpoint of activity, phospholene oxides are preferable for organophosphorus compounds, and titanium, hafnium and zirconium are preferred for organometallic compounds. Rukokishido are preferred.

上記フォスフォレンオキシド類としては、具体的には、3−メチル−1−フェニル−2−フォスフォレン−1−オキシド、3−メチル−1−エチル−2−フォスフォレン−1−オキシド、1,3−ジメチル−2−フォスフォレン−1−オキシド、1−フェニル−2−フォスフォレン−1−オキシド、1−エチル−2−フォスフォレン−1−オキシド、1−メチル−2−フォスフォレン−1−オキシド又はこれらの二重結合異性体を例示することができ、中でも工業的に入手の容易な3−メチル−1−フェニル−2−フォスフォレン−1−オキシドが好ましい。   Specific examples of the phosphorene oxides include 3-methyl-1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, 3-methyl-1-ethyl-2-phospholene-1-oxide, 1,3- Dimethyl-2-phospholene-1-oxide, 1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, 1-ethyl-2-phospholene-1-oxide, 1-methyl-2-phospholene-1-oxide or a double of these Examples of the bond isomers are 3-methyl-1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, which is easily available industrially.

カルボジイミド化合物としては、上記のような機能を有する分子中に1個以上のカルボジイミド基を有するものであれば、特に限定されるものではないが、反応性や耐加水分解安定性の向上効果などの点から、4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド等の、分子中に2個以上のカルボジイミド基を有するポリカルボジイミド化合物が好ましく、脂肪族系又は脂環族系ポリカルボジイミド化合物がより好ましい。また、重合度は2〜30が好ましく、2〜20がより好ましい。重合度が2以上であると耐熱性の点で好ましく、重合度が20以下であると相溶性の点で好ましい。   The carbodiimide compound is not particularly limited as long as it has one or more carbodiimide groups in the molecule having the functions as described above. From the viewpoint, a polycarbodiimide compound having two or more carbodiimide groups in the molecule, such as 4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide, is preferred, and an aliphatic or alicyclic polycarbodiimide compound is more preferred. Moreover, 2-30 are preferable and, as for a polymerization degree, 2-20 are more preferable. A polymerization degree of 2 or more is preferable from the viewpoint of heat resistance, and a polymerization degree of 20 or less is preferable from the viewpoint of compatibility.

(C)成分であるカルボジイミド変性可溶性ポリアミドは、上記可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを溶媒の存在下又は不存在下で反応させ、可溶性ポリアミドが有するカルボキシル基やアミノ基等の反応性官能基と、これらと反応可能なカルボジイミド化合物のカルボジイミド基やイソシアネート基とが反応することにより得られる。   The carbodiimide-modified soluble polyamide as component (C) is obtained by reacting the soluble polyamide with a carbodiimide compound in the presence or absence of a solvent, and reactive functional groups such as a carboxyl group and an amino group that the soluble polyamide has, and It can be obtained by reacting a carbodiimide group or an isocyanate group of a carbodiimide compound that can react with the carbodiimide compound.

上記可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを反応させる方法は、特に限定されるものではないが、溶媒の存在下又は不存在下で行うことができる。   The method for reacting the soluble polyamide with the carbodiimide compound is not particularly limited, but can be performed in the presence or absence of a solvent.

溶媒の存在下で反応させる方法としては、例えば、可溶性ポリアミド及びカルボジイミド化合物を溶媒に溶解させた後に反応させる方法を挙げることができ、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを加熱攪拌して反応させる方法が好ましく、可溶性ポリアミドを溶媒に溶解して得られた溶液にカルボジイミド化合物を添加し、リフラックス下で加熱攪拌して反応させる方法がより好ましい。このようにして得られた溶液から溶媒を常圧下ないし減圧下において除去することによって、カルボジイミド変性可溶性ポリアミドを得ることができる。   Examples of the method of reacting in the presence of a solvent include a method of reacting after dissolving a soluble polyamide and a carbodiimide compound in a solvent, and a method of reacting by heating and stirring the soluble polyamide and the carbodiimide compound is preferable. A method in which a carbodiimide compound is added to a solution obtained by dissolving a soluble polyamide in a solvent and reacted by heating and stirring under reflux is more preferable. The carbodiimide-modified soluble polyamide can be obtained by removing the solvent from the solution thus obtained under normal pressure or reduced pressure.

溶媒の不存在下で反応させる方法としては、例えば、可溶性ポリアミドを融点以上に溶融させた後にカルボジイミド化合物を混合して反応させる方法や、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物を二軸押出機により溶融混練させながら反応させる方法を挙げることができる。   As a method of reacting in the absence of a solvent, for example, a method in which a soluble polyamide is melted to a melting point or higher and then mixed and reacted, or a soluble polyamide and a carbodiimide compound are melted and kneaded by a twin screw extruder. The method of making it react can be mentioned.

可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを反応させる際には、反応系にカルボジイミド変性を阻害する化合物が存在しないことが好ましく、反応系にカルボジイミド化合物、可溶性ポリアミド及び必要に応じて用いられる溶媒のみが存在することがより好ましい。上記カルボジイミド変性を阻害する化合物の具体例としては、エポキシ樹脂、アミン系樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂等を挙げることができる。   When reacting a soluble polyamide and a carbodiimide compound, it is preferable that the reaction system does not contain a compound that inhibits carbodiimide modification, and the reaction system contains only a carbodiimide compound, a soluble polyamide, and a solvent used as necessary. Is more preferable. Specific examples of the compound that inhibits the carbodiimide modification include an epoxy resin, an amine resin, a melamine resin, and a phenol resin.

上記可溶性ポリアミドをカルボジイミド化合物と反応させる時間は、使用する可溶性ポリアミドやカルボジイミド化合物の種類、反応方法、反応温度等により異なるが、例えば、1〜500分程度であり、5〜200分であることが好ましい。   The time for reacting the soluble polyamide with the carbodiimide compound varies depending on the type of the soluble polyamide or carbodiimide compound to be used, the reaction method, the reaction temperature, etc., but is, for example, about 1 to 500 minutes, and 5 to 200 minutes. preferable.

上記可溶性ポリアミドをカルボジイミド化合物と反応させる温度も、使用する可溶性ポリアミドやカルボジイミド化合物の種類、反応方法、反応温度等により異なるが、例えば、50〜250℃であり、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを溶媒の存在下で反応させる場合には、50〜150℃であることが好ましく、70〜130℃であることがより好ましい。また、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物とを溶媒の不存在下で反応させる場合には、130〜250℃であることが好ましく、150〜220℃であることがより好ましい。反応温度が50℃未満であると、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物との反応が遅く、可溶性ポリアミドの変性に時間がかかって工業的に好ましくなく、250℃を超えると樹脂の分解などによる劣化が起こりやすくなる。   The temperature at which the soluble polyamide reacts with the carbodiimide compound also varies depending on the type of the soluble polyamide or carbodiimide compound used, the reaction method, the reaction temperature, etc., but is, for example, 50 to 250 ° C., and the soluble polyamide and carbodiimide compound are mixed with the solvent. In the case of reacting in the presence, it is preferably 50 to 150 ° C, more preferably 70 to 130 ° C. Moreover, when reacting soluble polyamide and a carbodiimide compound in absence of a solvent, it is preferable that it is 130-250 degreeC, and it is more preferable that it is 150-220 degreeC. If the reaction temperature is less than 50 ° C, the reaction between the soluble polyamide and the carbodiimide compound is slow, and it takes time to modify the soluble polyamide, which is not industrially preferable. If the reaction temperature exceeds 250 ° C, deterioration due to decomposition of the resin is likely to occur. Become.

なお、上述のように可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物を反応させることで、可溶性ポリアミドが変性され、カルボジイミド変性可溶性ポリアミドとなる。例えば、上述の反応が進行するのに伴い、カルボジイミド化合物が有するカルボジイミド基が減少するため、赤外線測定によって反応物と生成物を比較すると、反応物で観測されるカルボジイミド基のピークが生成物では減少している。また、反応物と生成物に対して示差熱熱重量測定を行うと、反応物の吸熱ピークはアミド樹脂起因・カルボジイミド樹脂起因など複数観測されるが、生成物の吸熱ピークは1つに集約される。以上により、可溶性ポリアミドが変性されたことを確認することができる。   In addition, by making soluble polyamide and a carbodiimide compound react as mentioned above, soluble polyamide is modified | denatured and it becomes a carbodiimide modified soluble polyamide. For example, as the above reaction proceeds, the carbodiimide group of the carbodiimide compound decreases, so when comparing the reaction product with the product by infrared measurement, the peak of the carbodiimide group observed in the reaction product decreases. is doing. In addition, when differential thermogravimetric measurement is performed on the reactant and product, multiple endothermic peaks of the reactant, such as amide resin and carbodiimide resin, are observed, but the endothermic peaks of the product are aggregated into one. The From the above, it can be confirmed that the soluble polyamide has been modified.

上述のようにして得られたカルボジイミド変性可溶性ポリアミドは、可溶性ポリアミドとカルボジイミド化合物からなる組成物と比較して、保存安定性に優れている。すなわち、上記組成物の場合は、溶液化した際に溶液の増粘が起こり、更にはゲル化に至るのに対し、変性をしたものは溶液状態でも増粘などの変化を示さず、その状態で長期間保管することが可能である。   The carbodiimide-modified soluble polyamide obtained as described above is excellent in storage stability as compared with a composition comprising a soluble polyamide and a carbodiimide compound. That is, in the case of the above composition, thickening of the solution occurs when it is made into a solution, and further gelation is achieved, whereas the modified one shows no change such as thickening even in the solution state. And can be stored for a long time.

カルボジイミド化合物の添加量は、可溶性ポリアミド100質量部に対して、0.5〜20質量部であることが好ましく、1〜10質量部であることがより好ましい。添加量が0.5質量部未満であると、耐湿性や耐熱性が十分に向上しないおそれがあり、20質量部を超えると、可塑性が高くなり過ぎたり耐衝撃性が損なわれたりするおそれがある。   The addition amount of the carbodiimide compound is preferably 0.5 to 20 parts by mass and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the soluble polyamide. If the addition amount is less than 0.5 parts by mass, the moisture resistance and heat resistance may not be sufficiently improved, and if it exceeds 20 parts by mass, the plasticity may become too high or the impact resistance may be impaired. is there.

そして(C)成分であるカルボジイミド変性可溶性ポリアミドの含有量は(A)(B)(C)成分の合計量に対して20〜70質量%であることが好ましい。(C)成分の含有量がこの範囲内であると、フレキシブルプリント配線板の屈曲性、耐薬品性を高めることができるものである。しかし、(C)成分の含有量が20質量%未満であると、屈曲性が低下するおそれがあり、逆に(C)成分の含有量が70質量%を超えると、難燃性や耐熱性が低下するおそれがある。   And it is preferable that content of the carbodiimide modified | denatured soluble polyamide which is (C) component is 20-70 mass% with respect to the total amount of (A) (B) (C) component. When the content of the component (C) is within this range, the flexibility and chemical resistance of the flexible printed wiring board can be improved. However, if the content of the component (C) is less than 20% by mass, the flexibility may be lowered. Conversely, if the content of the component (C) exceeds 70% by mass, flame retardancy and heat resistance are likely to occur. May decrease.

(D)成分である無機充填材としては、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルク、クロライトのうちの少なくとも1種類を用いる。ここで、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルクは、次のようにして得ることができる。まず酸化モリブデン5〜50質量部とタルク80〜120質量部を水35〜100質量部に入れて混合することによってスラリーを調製し、70〜80℃に加熱した後、このスラリーに酸化亜鉛のスラリー(酸化亜鉛5〜50質量部及び水50〜500質量部からなるスラリー)をゆっくり加えて混合し、さらに1〜2時間ほど攪拌する。そして、この混合物を濾過して固形物を取り出し、これを110〜120℃に加熱して水分を除去した後、粉砕する。その後、この粉砕物を550〜600℃で8〜10時間焼成することによって、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルクを得ることができる。このようにモリブデン酸亜鉛で処理されたタルクを(D)成分として用いると、フレキシブルプリント配線板の吸湿時の耐熱性を高めることができると共に、未処理のタルクと異なり、タルクの表面に層状に形成されたモリブデン酸亜鉛によってフレキシブルプリント配線板の難燃性をも高めることができるものである。また、クロライトを(D)成分として用いても、フレキシブルプリント配線板の吸湿時の耐熱性を高めることができると共に、クロライトは層状結晶構造の含水ケイ酸塩鉱物であり、結晶水分を多く含んでいるため、この結晶水分によってフレキシブルプリント配線板の難燃性をも高めることができるものである。なお、(D)成分の含有量はプリント配線板用エポキシ樹脂組成物全量に対して1〜30質量%であることが好ましい。また、(D)成分である無機充填材の平均粒径は10μm以下であることが好ましく、この平均粒径の測定はレーザ回折式粒度分布測定装置により行うことができる。   As the inorganic filler as component (D), at least one of talc and chlorite treated with zinc molybdate is used. Here, talc treated with zinc molybdate can be obtained as follows. First, a slurry is prepared by mixing 5 to 50 parts by mass of molybdenum oxide and 80 to 120 parts by mass of talc in 35 to 100 parts by mass of water and heating to 70 to 80 ° C. Then, a slurry of zinc oxide is added to the slurry. (Slurry consisting of 5 to 50 parts by mass of zinc oxide and 50 to 500 parts by mass of water) is slowly added and mixed, and further stirred for about 1 to 2 hours. And this mixture is filtered, a solid substance is taken out, this is heated at 110-120 degreeC, a water | moisture content is removed, and it grind | pulverizes. Thereafter, the pulverized product is baked at 550 to 600 ° C. for 8 to 10 hours to obtain talc treated with zinc molybdate. When talc treated with zinc molybdate is used as component (D), the heat resistance of the flexible printed wiring board during moisture absorption can be increased and, unlike untreated talc, layered on the surface of talc. The flame retardance of the flexible printed wiring board can be increased by the formed zinc molybdate. In addition, even when chlorite is used as the component (D), the heat resistance of the flexible printed wiring board upon moisture absorption can be improved, and chlorite is a hydrated silicate mineral having a layered crystal structure, and has a large amount of crystal moisture. Since it contains, the flame retardance of a flexible printed wiring board can also be improved with this crystal | crystallization moisture. In addition, it is preferable that content of (D) component is 1-30 mass% with respect to the epoxy resin composition whole quantity for printed wiring boards. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of the inorganic filler which is (D) component is 10 micrometers or less, and the measurement of this average particle diameter can be performed with a laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus.

プリント配線板用エポキシ樹脂組成物には、(A)(B)(C)(D)成分のほか、フェノキシ樹脂を含有させるのが好ましい。フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールA/ビスフェノールF型共重合型フェノキシ樹脂、リン変性フェノキシ樹脂(後述)等を用いることができる。このフェノキシ樹脂によって、フレキシブルプリント配線板の屈曲性をさらに高めることができるものである。なお、フェノキシ樹脂の含有量はプリント配線板用エポキシ樹脂組成物全量に対して5〜30質量%であることが好ましい。   In addition to the components (A), (B), (C), and (D), the epoxy resin composition for printed wiring boards preferably contains a phenoxy resin. As the phenoxy resin, bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol A / bisphenol F type copolymer phenoxy resin, phosphorus-modified phenoxy resin (described later), and the like can be used. This phenoxy resin can further enhance the flexibility of the flexible printed wiring board. In addition, it is preferable that content of a phenoxy resin is 5-30 mass% with respect to the epoxy resin composition for printed wiring boards whole quantity.

さらにプリント配線板用エポキシ樹脂組成物には、リン変性エポキシ樹脂、リン変性フェノキシ樹脂、ホスファゼン等のリン系難燃剤のうちの少なくとも1種類を含有させるのが好ましい。ここで、リン変性エポキシ樹脂としては、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナントレン−10−オキサイドと1,4−ナフトキノンとを反応させ、さらにクレゾールノボラック樹脂を反応させて得られたものを用いることができる。またリン変性フェノキシ樹脂としては、分子骨格の主体がフェノキシ樹脂からなるもので、かつリン元素を例えばリン含有フェノキシ樹脂1モル中に数個(1〜5個程度)含有しているものを用いることができる。リン系難燃剤としては、ホスファゼンのほか、例えば、モノマー型リン酸エステル、縮合型リン酸エステル、反応型リン系難燃剤、リン酸塩、ホスファゼン化合物等を用いることができる。このうちモノマー型リン酸エステルとしては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシニルホスフェート、トリエチルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシリルジフェニルホスフェート、クレジルビス(ジ−2,6−キシレニル)ホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等を例示することができる。また縮合型リン酸エステルとしては、レゾルシノールビス(ジフェニル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジクレジル)ホスフェート、レゾルシノールビス(ジ−2,6−キシレニル)ホスフェート等を例示することができる。また反応型リン系難燃剤としては、ビスフェノールAビスフェニールホスフェート、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホォスフェナンスレン−10−オキシド、2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン等を例示することができる。またリン酸塩としては、リン酸メラミン、リン酸ジメラミン、ピロリン酸メラミン、ピロリン酸ジメラミン、ポリリン酸メラミン、エチレンジアミンリン酸塩を例示することができる。またホスファゼン化合物としては、ホスホニトリル酸フェニルエステル、シアノフェノール・フェノール混合置換シクロホスファゼン、ホスホニトリルクロリド・ハイドロキノン・フェノール縮合物等を例示することができる。このようなものを用いることによって、難燃性をさらに高めることができるものである。なお、リン変性エポキシ樹脂、リン変性フェノキシ樹脂、リン系難燃剤の含有量の合計はプリント配線板用エポキシ樹脂組成物全量に対して10〜40質量%であることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the epoxy resin composition for printed wiring boards contains at least one of phosphorus-based flame retardants such as phosphorus-modified epoxy resin, phosphorus-modified phenoxy resin, and phosphazene. Here, as the phosphorus-modified epoxy resin, for example, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and 1,4-naphthoquinone are reacted, and cresol novolac resin is further reacted. What was obtained can be used. In addition, as the phosphorus-modified phenoxy resin, one having a molecular skeleton composed mainly of phenoxy resin and containing several phosphorus elements (for example, about 1 to 5) in 1 mol of phosphorus-containing phenoxy resin is used. Can do. As the phosphorus-based flame retardant, in addition to phosphazene, for example, monomeric phosphate ester, condensed phosphate ester, reactive phosphorus flame retardant, phosphate, phosphazene compound, and the like can be used. Among these, as the monomeric phosphate ester, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixinyl phosphate, triethyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylyl diphenyl phosphate, cresyl bis (di-2,6-xylenyl) phosphate, 2- Examples thereof include ethylhexyl diphenyl phosphate. Examples of the condensed phosphate ester include resorcinol bis (diphenyl) phosphate, bisphenol A bis (diphenyl) phosphate, bisphenol A bis (dicresyl) phosphate, resorcinol bis (di-2,6-xylenyl) phosphate, and the like. it can. Examples of reactive phosphorus flame retardants include bisphenol A bisphenyl phosphate, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphenanthrene-10-oxide, and 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone. can do. Examples of the phosphate include melamine phosphate, dimelamine phosphate, melamine pyrophosphate, dimelamine pyrophosphate, melamine polyphosphate, and ethylenediamine phosphate. Examples of the phosphazene compound include phosphonitrile phenyl ester, cyanophenol / phenol mixed substituted cyclophosphazene, phosphonitrile chloride / hydroquinone / phenol condensate, and the like. By using such a thing, a flame retardance can further be improved. In addition, it is preferable that the sum total of content of a phosphorus modified epoxy resin, a phosphorus modified phenoxy resin, and a phosphorus flame retardant is 10-40 mass% with respect to the epoxy resin composition whole quantity for printed wiring boards.

そして、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物は、(A)(B)(C)(D)成分を必須成分として配合し、さらにフェノキシ樹脂、リン変性エポキシ樹脂、リン変性フェノキシ樹脂、リン系難燃剤、2−エチル−4−メチルイミダゾール等の硬化促進剤を任意成分として配合することによって調製することができる。   And the epoxy resin composition for printed wiring boards contains the components (A), (B), (C), and (D) as essential components, and further phenoxy resin, phosphorus-modified epoxy resin, phosphorus-modified phenoxy resin, and phosphorus-based flame retardant. It can be prepared by blending a curing accelerator such as 2-ethyl-4-methylimidazole as an optional component.

また、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物には、上記成分のほか、必要に応じて、顔料、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、イオン捕捉剤等の添加剤を添加してもよい。   In addition to the above components, additives such as pigments, leveling agents, antifoaming agents, ultraviolet absorbers, antioxidants and ion scavengers are added to the epoxy resin composition for printed wiring boards as necessary. May be.

このようにして得られたプリント配線板用エポキシ樹脂組成物にあっては、ポリアミドの未反応基(アミノ基やカルボキシル基)をカルボジイミドと反応させて得られたカルボジイミド変性可溶性ポリアミドをエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤、染料にブレンドしてあることによって、保存安定性、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。すなわち、ポリアミドの原料に起因する未反応基(アミノ基やカルボキシル基)をカルボジイミドと反応させることにより、ポリアミド樹脂とエポキシ樹脂との低温での反応促進を防ぎ、ワニス保存安定性を保つと共に、塗工・乾燥で得られる各種シート(後述の樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シート)の保存安定性及びプレス成形性を満足させることができるものである。そして、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニス及びシート作業性、加工性(保存安定性やプレス成形性)と、フレキシブルプリント配線板の各種特性(密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性など)とを両立させることができるものである。   In the epoxy resin composition for a printed wiring board thus obtained, the carbodiimide-modified soluble polyamide obtained by reacting an unreacted group (amino group or carboxyl group) of polyamide with carbodiimide is used as an epoxy resin or epoxy. By blending with a resin curing agent and a dye, storage stability, adhesion, flexibility, fillability, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy can all be improved. That is, by reacting unreacted groups (amino group and carboxyl group) originating from the raw material of polyamide with carbodiimide, the reaction between the polyamide resin and the epoxy resin is prevented from being promoted at a low temperature, and varnish storage stability is maintained, and coating is performed. The storage stability and press moldability of various sheets (resin film, prepreg, resin sheet with metal foil described later) obtained by processing and drying can be satisfied. And varnish and sheet workability of epoxy resin composition for printed wiring board, workability (storage stability and press formability) and various characteristics of flexible printed wiring board (adhesion, flexibility, filling property, moisture absorption) Heat resistance, flame retardancy, etc.).

上記プリント配線板用エポキシ樹脂組成物を適宜ワニスとして用いて、樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シート等のシートを製造することができ、さらにこのシートを用いて、フレキシブルプリント配線板を製造することができる。   A sheet such as a resin film, a prepreg, and a resin sheet with a metal foil can be produced using the epoxy resin composition for a printed wiring board as a varnish as appropriate, and further a flexible printed wiring board is produced using this sheet. be able to.

すなわち、樹脂フィルムは、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物をフィルム状に成形すると共に、これを半硬化状態(Bステージ状態)となるまで加熱乾燥することによって製造することができる。またプリプレグは、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物をガラスクロス等の基材に含浸させ、これを半硬化状態となるまで加熱乾燥することによって製造することができる。また金属箔付き樹脂シートは、プリント配線板用エポキシ樹脂組成物を銅箔等の金属箔に塗布し、これを加熱乾燥して半硬化状態の接着性樹脂層を形成することによって製造することができる。さらにフレキシブルプリント配線板は、樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シートのうちの少なくとも1種類を用いて形成されているが、具体的には、例えば、ポリイミドフィルム等をコア材として用い、このコア材の片面又は両面に樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シートのうちのいずれかのものを貼り合わせた後、適宜回路形成及び層間接続を行うことによって、フレキシブルプリント配線板を製造することができる。   That is, the resin film can be produced by forming the epoxy resin composition for a printed wiring board into a film shape and heating and drying it until it is in a semi-cured state (B stage state). The prepreg can be produced by impregnating a substrate such as a glass cloth with an epoxy resin composition for a printed wiring board, and heating and drying it until it is in a semi-cured state. Moreover, the resin sheet with a metal foil can be produced by applying an epoxy resin composition for a printed wiring board to a metal foil such as a copper foil, and heating and drying it to form a semi-cured adhesive resin layer. it can. Furthermore, the flexible printed wiring board is formed using at least one of a resin film, a prepreg, and a resin sheet with a metal foil. Specifically, for example, a polyimide film or the like is used as a core material. A flexible printed wiring board can be manufactured by laminating any one of a resin film, a prepreg, and a resin sheet with a metal foil on one or both sides of the material, and then performing circuit formation and interlayer connection as appropriate. .

このようにして得られた樹脂フィルム、プリプレグ、金属箔付き樹脂シート、フレキシブルプリント配線板にあっては、いずれも上記プリント配線板用エポキシ樹脂組成物を材料として形成されているので、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるものである。さらに高温プレス成形時にはエポキシ基とカルボジイミド基との反応も進むために、耐熱性、耐薬品性などに優れるフレキシブルプリント配線板を得ることができる。なお、金属箔付き樹脂シートはボンディングシートやカバーレイと同様にビルドアップ絶縁シートとして用いることができると共に、シールド機能を持ち合わせたカバーレイとして用いることができる。   In the thus obtained resin film, prepreg, resin sheet with metal foil, and flexible printed wiring board, all are formed using the above epoxy resin composition for printed wiring board as a material. Flexibility, fillability, heat resistance during moisture absorption, and flame retardancy can all be improved. Furthermore, since the reaction between the epoxy group and the carbodiimide group also proceeds during high-temperature press molding, a flexible printed wiring board having excellent heat resistance and chemical resistance can be obtained. In addition, the resin sheet with metal foil can be used as a build-up insulating sheet similarly to a bonding sheet or a coverlay, and can also be used as a coverlay having a shielding function.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

(カルボジイミド化合物の合成)
4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート590g、シクロヘキシルイソシアネート62.6g及びカルボジイミド化触媒(3−メチル−1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド)6.12gを180℃で48時間反応させることによって、カルボジイミド化合物として4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド樹脂(重合度=10)を得た。
(Synthesis of carbodiimide compounds)
By reacting 590 g of 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, 62.6 g of cyclohexyl isocyanate and 6.12 g of carbodiimidization catalyst (3-methyl-1-phenyl-2-phospholene-1-oxide) at 180 ° C. for 48 hours, As a carbodiimide compound, 4,4′-dicyclohexylmethane carbodiimide resin (degree of polymerization = 10) was obtained.

((C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミドの合成)
1リットルのセパラブルフラスコにエステル共重合アミド樹脂(商品名:「CM8000」、東レ株式会社製)50.0gとイソプロピルアルコールとトルエンとの混合溶媒(質量混合比4:6)450.0gとを加えて撹拌することにより溶解させた。こうして得られた溶液に上記カルボジイミド化合物(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド樹脂)5.0gを加え、フラスコを120℃のオイルバスに浸漬させてリフラックス下で3時間加熱撹拌した後に、減圧乾燥して溶媒を除去することにより、(C)成分となるカルボジイミド変性可溶性ポリアミドを得た。
((C) Synthesis of carbodiimide-modified soluble polyamide)
In a 1-liter separable flask, 50.0 g of ester copolymerized amide resin (trade name: “CM8000”, manufactured by Toray Industries, Inc.) and 450.0 g of a mixed solvent of isopropyl alcohol and toluene (mass mixing ratio 4: 6) are added. In addition, it was dissolved by stirring. 5.0 g of the above carbodiimide compound (4,4′-dicyclohexylmethane carbodiimide resin) was added to the solution thus obtained, the flask was immersed in an oil bath at 120 ° C., heated and stirred for 3 hours under reflux, and then dried under reduced pressure. Then, by removing the solvent, a carbodiimide-modified soluble polyamide serving as component (C) was obtained.

上記のようにして得られた(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミドに対して赤外分光光度測定を行ったところ、2120cm−1にカルボジイミド基の存在を示す吸収ピークが認められた。さらに上記(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミドに対して示差走査熱量測定を行ったところ、1つの吸熱ピークが観測された。なお、上記(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミドのガラス転移温度は120℃、5%重量減温度は320℃、溶液の粘度は860mPa・sであった。 When the infrared spectrophotometric measurement was performed on the (C) carbodiimide-modified soluble polyamide obtained as described above, an absorption peak indicating the presence of a carbodiimide group was observed at 2120 cm −1 . Further, when differential scanning calorimetry was performed on the (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, one endothermic peak was observed. The above (C) carbodiimide-modified soluble polyamide had a glass transition temperature of 120 ° C., a 5% weight loss temperature of 320 ° C., and a solution viscosity of 860 mPa · s.

次に下記[表1]に記載の配合組成に従い、実施例1〜14及び比較例1、2のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。なお、下記[表1]の配合は全て固形分比率である。   Next, varnishes of the epoxy resin compositions for printed wiring boards of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared according to the composition described in [Table 1] below. In addition, all the mixing | blendings of the following [Table 1] are solid content ratios.

(実施例1)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分35質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
Example 1
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 35% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例2)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分35質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 2)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 35% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例3)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分29質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 3)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 29% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例4)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分27質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
Example 4
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 27% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例5)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分20質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 5)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container so that a printed wiring having a solid content of 20% by mass is obtained. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例6)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分29質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 6)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 29% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例7)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、フェノキシ樹脂、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分31質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 7)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) Carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) Inorganic filler (inorganic filler (1)), phenoxy resin, curing accelerator, phosphorus flame retardant (phosphazene) in a container and mixed to obtain a solid content of 31% by mass The varnish of the epoxy resin composition for printed wiring boards was prepared.

(実施例8)
(A)エポキシ樹脂(ビフェニルノボラックエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分29質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 8)
(A) epoxy resin (biphenyl novolac epoxy resin), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolac resin represented by the above structural formula (4)), (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic filler A varnish of an epoxy resin composition for a printed wiring board having a solid content of 29% by mass was prepared by mixing (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) in a container.

(実施例9)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(ノボラック型フェノール樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分28質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
Example 9
(A) Epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (novolak type phenol resin), (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic A varnish of an epoxy resin composition for printed wiring boards having a solid content of 28% by mass is prepared by mixing a filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus flame retardant (phosphazene) in a container. did.

(実施例10)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(2)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分24質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 10)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (2)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container so that a printed wiring having a solid content of 24% by mass is obtained. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例11)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(3)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分24質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 11)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (3)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolac resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container so that a printed wiring having a solid content of 24% by mass is obtained. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(実施例12)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂及びリン変性エポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分28質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 12)
(A) Epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1) and phosphorus-modified epoxy resin), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak represented by the above structural formula (4) Resin), (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic filler (inorganic filler (1)), curing accelerator, phosphorus flame retardant (phosphazene) in a container and mixed to obtain a solid content of 28 A varnish of an epoxy resin composition for a printed wiring board with a mass% was prepared.

(実施例13)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(2))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)、リン変性フェノキシ樹脂を容器に入れて混合することによって、固形分30質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 13)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) Solid content 30 by adding carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic filler (inorganic filler (2)), curing accelerator, phosphorus flame retardant (phosphazene), and phosphorus-modified phenoxy resin in a container. A varnish of an epoxy resin composition for a printed wiring board with a mass% was prepared.

(実施例14)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(ジシアンジアミド)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(1))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分23質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Example 14)
(A) Epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (dicyandiamide), (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic filler ( An inorganic filler (1)), a curing accelerator, and a phosphorus flame retardant (phosphazene) were placed in a container and mixed to prepare a varnish of an epoxy resin composition for a printed wiring board having a solid content of 23% by mass.

(比較例1)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材(無機充填材(3))、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分35質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Comparative Example 1)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) an inorganic filler (inorganic filler (3)), a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) are mixed in a container to obtain a printed wiring having a solid content of 35% by mass. A varnish of an epoxy resin composition for a plate was prepared.

(比較例2)
(A)エポキシ樹脂(上記構造式(1)で表されるナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂)、(B)エポキシ樹脂硬化剤(上記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂)、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、硬化促進剤、リン系難燃剤(ホスファゼン)を容器に入れて混合することによって、固形分33質量%のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Comparative Example 2)
(A) epoxy resin (epoxy resin having a naphthalene skeleton represented by the above structural formula (1)), (B) epoxy resin curing agent (aminotriazine novolak resin represented by the above structural formula (4)), (C ) A varnish of an epoxy resin composition for a printed wiring board having a solid content of 33% by mass was prepared by mixing a carbodiimide-modified soluble polyamide, a curing accelerator, and a phosphorus-based flame retardant (phosphazene) in a container.

なお、下記[表1]に示す各成分は以下の通りである。   In addition, each component shown in the following [Table 1] is as follows.

・(A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(構造式(1)):ハロゲンを含有せず、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(日本化薬株式会社製「NC−7000L」、上記構造式(1)で表されるもの)
・(A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(構造式(2)):ハロゲンを含有せず、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(DIC株式会社製「EXA−9900」、上記構造式(2)で表されるもの)
・(A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(構造式(3)):ハロゲンを含有せず、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(DIC株式会社製「HP−4700」、上記構造式(3)で表されるもの)
・(A)ビフェニルノボラックエポキシ樹脂:ハロゲンを含有せず、フェノール骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製「NC−3000」)
・(A)リン変性エポキシ樹脂:リン変性エポキシ樹脂(東都化成株式会社製「FX−305EK70」)であって、メチルエチルケトンに溶解したものであり、樹脂固形分は70質量%であった。
(A) Epoxy resin having naphthalene skeleton (Structural Formula (1)): Epoxy resin not containing halogen and having naphthalene skeleton (“NC-7000L” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., with the above structural formula (1)) Represented)
(A) Epoxy resin having naphthalene skeleton (Structural Formula (2)): Epoxy resin not containing halogen and having naphthalene skeleton (“EXA-9900” manufactured by DIC Corporation, represented by the above structural formula (2)) Stuff)
(A) Epoxy resin having naphthalene skeleton (structural formula (3)): epoxy resin not containing halogen and having naphthalene skeleton (“HP-4700” manufactured by DIC Corporation, represented by the above structural formula (3)) Stuff)
(A) Biphenyl novolac epoxy resin: novolak type epoxy resin containing no phenol and having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton (“NC-3000” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
(A) Phosphorus-modified epoxy resin: Phosphorus-modified epoxy resin (“FX-305EK70” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), which was dissolved in methyl ethyl ketone, and the resin solid content was 70% by mass.

・(B)フェノールノボラック型アミノトリアジンノボラック樹脂(構造式(4)、R=H):フェノールノボラック型のアミノトリアジンノボラック樹脂(DIC株式会社製「LA−7052」、上記構造式(4)で表され、RがHであるもの)であって、メチルエチルケトンに溶解したものであり、樹脂固形分は60質量%であった。   (B) Phenol novolac-type aminotriazine novolak resin (Structural Formula (4), R = H): Phenol novolac-type aminotriazine novolak resin (“LA-7052” manufactured by DIC Corporation), represented by the above structural formula (4) And R is H), which was dissolved in methyl ethyl ketone, and the resin solid content was 60% by mass.

・(B)クレゾールノボラック型アミノトリアジンノボラック樹脂(構造式(4)、R=CH):クレゾールノボラック型のアミノトリアジンノボラック樹脂(DIC株式会社製「LA−3018−50P」、上記構造式(4)で表され、RがCHであるもの)であって、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解したものであり、樹脂固形分は50質量%であった。 (B) Cresol novolac-type aminotriazine novolak resin (Structural Formula (4), R = CH 3 ): Cresol novolac-type aminotriazine novolak resin (“LA-3018-50P” manufactured by DIC Corporation, the above structural formula (4) And R is CH 3 ), dissolved in propylene glycol monomethyl ether, and the resin solid content was 50% by mass.

・(B)ノボラック型フェノール樹脂:フェノールノボラック樹脂(DIC株式会社製、「TD−2090−60M」)であって、メチルエチルケトンに溶解したものであり、樹脂固形分は60重量%であった。   (B) Novolak type phenol resin: A phenol novolak resin (manufactured by DIC Corporation, “TD-2090-60M”) dissolved in methyl ethyl ketone, and the resin solid content was 60% by weight.

・(B)ジシアンジアミド:ナカライテスク株式会社製
・(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド:既述のように合成したものを使用した。なお、これは、イソプロピルアルコールとトルエンの混合溶媒(質量混合比4:6)に溶解したものであり、固形分濃度は11質量%であった。
(B) Dicyandiamide: manufactured by Nacalai Tesque Co., Ltd. (C) Carbodiimide-modified soluble polyamide: synthesized as described above. In addition, this was melt | dissolved in the mixed solvent (mass mixing ratio 4: 6) of isopropyl alcohol and toluene, and solid content concentration was 11 mass%.

・(D)無機充填材(1):モリブデン酸亜鉛で処理されたタルクであるシャーウイン・ウィリアムズカンパニー製「KEMGARD1100」)
・(D)無機充填材(2):クロライトである富士タルク工業株式会社製「WL−13N」)
・(D)無機充填材(3):未処理のタルクである日本タルク株式会社製「D−1000」
・フェノキシ樹脂:フェノキシ樹脂(東都化成株式会社製「YP−50」)であって、メチルエチルケトンに溶解したものであり、樹脂固形分は65質量%であった。
(D) Inorganic filler (1): “KEMGARD1100” manufactured by Sherwin Williams Company, which is talc treated with zinc molybdate)
(D) Inorganic filler (2): “WL-13N” manufactured by Fuji Talc Kogyo Co., Ltd., which is chlorite)
(D) Inorganic filler (3): “D-1000” manufactured by Nippon Talc Co., Ltd., which is an untreated talc.
Phenoxy resin: A phenoxy resin (“YP-50” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) dissolved in methyl ethyl ketone, and the resin solid content was 65% by mass.

・硬化促進剤:2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製「2E4MZ」)
・ホスファゼン:ホスファゼン(大塚化学株式会社製「SPB−100」、下記構造式(5)で表されるもの)
Curing accelerator: 2-ethyl-4-methylimidazole (“2E4MZ” manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.)
Phosphazene: Phosphazene ("SPB-100" manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., represented by the following structural formula (5))

Figure 2011155085
Figure 2011155085

・リン変性フェノキシ樹脂:リン変性フェノキシ樹脂(東都化成株式会社製「ERF−001M30」)であって、ジグライム、キシレン、メチルセロソルブ、DMF、トルエンの混合溶媒(質量混合比10:5:30:10:15)に溶解したものであり、樹脂固形分は30質量%であった。   Phosphorus-modified phenoxy resin: Phosphorus-modified phenoxy resin (“ERF-001M30” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), which is a mixed solvent of diglyme, xylene, methyl cellosolve, DMF, and toluene (mass mixing ratio 10: 5: 30: 30) 15) and the resin solid content was 30% by mass.

次に、コンマコーター及びこれに接続された乾燥機を用いて、厚み12μmの銅箔の片面に上記のようにして得られたワニスを塗工・乾燥し、乾燥後の厚みが50μmの接着性樹脂層を形成することによって、銅箔付き樹脂シートを製造した。   Next, using a comma coater and a dryer connected thereto, the varnish obtained as described above is applied to one side of a copper foil having a thickness of 12 μm and dried, and the thickness after drying is 50 μm. A resin sheet with a copper foil was produced by forming a resin layer.

そして、上記の各ワニスについて、ワニス保存性を評価すると共に、上記の各銅箔付き樹脂シートについて、耐薬品性、銅箔引き剥がし強度、半田耐熱性、吸湿半田耐熱性、屈曲性、回路充填性、難燃性、耐マイグレーション性を評価した。これらの各評価に用いたサンプルの作製条件及び評価条件を以下に示し、評価結果を下記[表1]に示す。   And for each of the above varnishes, varnish storage stability is evaluated, and for each of the above resin sheets with copper foil, chemical resistance, copper foil peeling strength, solder heat resistance, hygroscopic solder heat resistance, flexibility, circuit filling , Flame retardancy and migration resistance were evaluated. The preparation conditions and evaluation conditions of the samples used for each of these evaluations are shown below, and the evaluation results are shown in [Table 1] below.

(1) ワニス保存性は、初期の粘度と25℃で7日間保存した後の粘度とを測定し、粘度変化が10%未満であったワニスを「合格」、10%以上変化したワニスを「不合格」とした。   (1) The varnish preservability was determined by measuring the initial viscosity and the viscosity after storage at 25 ° C. for 7 days, and “passing” a varnish whose viscosity change was less than 10%, “Fail”.

(2)耐薬品性は、次のようにして評価した。すなわち、銅箔付き樹脂シートを2枚用い、これらの接着性樹脂層が形成された面同士を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形することによってサンプルを作製した後、このサンプルの銅箔をエッチングにより除去した。次にこのサンプルを水酸化ナトリウム3質量%、温度40℃の水溶液に3分間浸漬させた後取り出し、水で洗い、乾燥した清浄な布で水分を十分に拭き取った。その後直ちにサンプルの変色、膨れ、はがれ等の外観の変化を目視にて観察した。そして、外観変化のないものを「合格」とし、外観変化のあるものを「不合格」とした。   (2) Chemical resistance was evaluated as follows. In other words, two resin sheets with copper foil were used, the surfaces on which these adhesive resin layers were formed were bonded together, and a sample was prepared by heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour. The foil was removed by etching. Next, this sample was immersed in an aqueous solution of 3% by mass of sodium hydroxide and a temperature of 40 ° C. for 3 minutes and then taken out, washed with water, and sufficiently wiped off moisture with a dry clean cloth. Immediately thereafter, changes in appearance such as discoloration, swelling, and peeling of the sample were visually observed. And the thing without an external appearance change was set as "pass", and the thing with an external appearance change was set as "fail".

(3)銅箔引き剥がし強度は、厚み25μmのポリイミドフィルムの両面に銅箔付き樹脂シートの接着性樹脂層が形成された面を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形することによってサンプルを作製し、このサンプルの銅箔を90°方向に引き剥がしたときの引き剥がし強度により評価した。   (3) Copper foil peel strength is a sample obtained by laminating the surfaces on which the adhesive resin layer of the resin sheet with copper foil is formed on both surfaces of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour. And the peel strength when the copper foil of this sample was peeled in the 90 ° direction was evaluated.

(4)半田耐熱性は、厚み25μmのポリイミドフィルムの両面に銅箔付き樹脂シートの接着性樹脂層が形成された面を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形することによってサンプルを作製し、これを260℃と288℃に加熱した半田浴にそれぞれ60秒間浸漬した後、外観を観察することにより評価した。膨れやはがれ等の外観異常の発生がないものを「合格」とし、これ以外のものを「不合格」とした。   (4) Solder heat resistance is a sample prepared by laminating a surface of an adhesive resin layer of a resin sheet with a copper foil on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm, followed by heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour. The film was immersed in a solder bath heated to 260 ° C. and 288 ° C. for 60 seconds, and then evaluated by observing the appearance. Those having no appearance abnormality such as blistering or peeling were evaluated as “pass”, and those other than this were defined as “fail”.

(5)吸湿半田耐熱性は、厚み25μmのポリイミドフィルムの両面に銅箔付き樹脂シートの接着性樹脂層が形成された面を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形し、さらに両面の銅箔をエッチングにより除去することによってサンプルを作製し、次にこのサンプルを85℃/85%RHの環境下で24時間吸湿させてから、260℃に加熱した半田浴に1分間浸漬した後、外観を観察することにより評価した。膨れやはがれ等の外観異常の発生がないものを「合格」とし、これ以外のものを「不合格」とした。   (5) Moisture-absorbing solder heat resistance is obtained by laminating the surfaces on which the adhesive resin layer of the resin sheet with copper foil is formed on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour. A sample was prepared by removing the copper foil by etching, and then the sample was absorbed in an environment of 85 ° C./85% RH for 24 hours, and then immersed in a solder bath heated to 260 ° C. for 1 minute. Evaluation was made by observing the appearance. Those having no appearance abnormality such as blistering or peeling were evaluated as “pass”, and those other than this were defined as “fail”.

(6)屈曲性は、MIT法によって試験を行い、測定条件をR=0.38mm、荷重500g、毎分175回の割合で折り曲げるように設定し、回路の導通が取れなくなるまでの折り曲げ回数により評価した。   (6) Flexibility is tested by the MIT method, and the measurement conditions are set to be R = 0.38 mm, the load is 500 g, and the rate is 175 times per minute. evaluated.

(7)回路充填性は、片面35μm厚みの圧延銅箔のフレキシブルプリント配線板に櫛形パターンを設けて形成した試験片に、銅箔付き樹脂シートの接着性樹脂層が形成された面を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形することによってサンプルを作製し、このサンプルの外観を目視にて観察することにより評価した。パターン間が全て樹脂で充填されているものを「合格」とし、これ以外のものを「不合格」とした。   (7) The circuit filling property is obtained by bonding the surface on which the adhesive resin layer of the resin sheet with copper foil is formed to a test piece formed by providing a comb-shaped pattern on a flexible printed wiring board of rolled copper foil having a thickness of 35 μm on one side. A sample was prepared by heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour, and the appearance of this sample was evaluated by visual observation. The pattern filled with resin was regarded as “pass”, and the other pattern was defined as “fail”.

(8)難燃性は、UL94に準じて94VTMの難燃性の判定基準で評価した。   (8) Flame retardancy was evaluated according to the flame retardancy criteria of 94 VTM according to UL94.

(9)耐マイグレーション性は、片面フレキシブルプリント配線板に櫛形電極を設けた試験片に、銅箔付き樹脂シートの接着性樹脂層が形成された面を貼り合わせ、180℃で1時間加熱加圧成形することによってサンプルを作製し、このサンプルを用いて85℃/85%RHの環境下で10Vの電圧を250時間印加するテストを行うことによって評価した。そしてこのテスト後のマイグレーション度合いを目視にて評価した。マイグレーションが発生していないものを「合格」とし、これ以外のものを「不合格」とした。   (9) Migration resistance is obtained by bonding the surface on which the adhesive resin layer of the resin sheet with copper foil is formed to a test piece in which a comb-shaped electrode is provided on a single-sided flexible printed wiring board, and heating and pressing at 180 ° C. for 1 hour. A sample was prepared by molding, and the sample was evaluated by performing a test in which a voltage of 10 V was applied for 250 hours in an environment of 85 ° C./85% RH. And the migration degree after this test was evaluated visually. Those in which no migration occurred were defined as “pass”, and those other than this were defined as “fail”.

Figure 2011155085
Figure 2011155085

上記[表1]にみられるように、各実施例のものは、ワニス保存性、銅箔引き剥がし強度が良好であり、屈曲性が高くフレキシブルプリント配線板などに要求される屈曲性を満足するものであり、さらに回路充填性、吸湿半田耐熱性に優れているものであることが確認される。またハロゲン系難燃剤を用いていないので、有毒ガスや発煙の少ない材料となるものである。なお、実施例8については、半田耐熱性(288℃1分フロート)及び耐マイグレーション性がいずれも不合格であるが、本発明の課題は解決できているといえる。また、実施例9については、他の実施例に比べて難燃性が劣っているが、これは許容範囲内であり、本発明の課題は解決できているといえる。   As seen in [Table 1] above, each of the examples has good varnish preservation and copper foil peel strength, high flexibility, and satisfactory flexibility required for flexible printed wiring boards and the like. In addition, it is confirmed that the circuit is excellent in circuit fillability and moisture absorption solder heat resistance. In addition, since no halogen-based flame retardant is used, it is a material with little toxic gas and fuming. In Example 8, although the solder heat resistance (288 ° C., 1 minute float) and migration resistance both fail, it can be said that the problem of the present invention has been solved. Moreover, about Example 9, although a flame retardance is inferior compared with another Example, this is in an allowable range, and it can be said that the subject of this invention has been solved.

Claims (10)

(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材が必須成分として含有されていると共に、前記(D)成分として、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルク、クロライトのうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とするプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。   (A) epoxy resin, (B) epoxy resin curing agent, (C) carbodiimide-modified soluble polyamide, (D) inorganic filler is contained as an essential component, and treated with zinc molybdate as the component (D) An epoxy resin composition for printed wiring boards, wherein at least one of talc and chlorite is used. (C)成分の含有量が(A)(B)(C)成分の合計量に対して20〜70質量%であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。   2. The epoxy resin composition for a printed wiring board according to claim 1, wherein the content of the component (C) is 20 to 70% by mass with respect to the total amount of the components (A), (B), and (C). . (A)成分として、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が用いられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition for printed wiring boards according to claim 1 or 2, wherein an epoxy resin having a naphthalene skeleton is used as the component (A). ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂として、下記構造式(1)〜(3)で表されるもののうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とする請求項3に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。
Figure 2011155085
The epoxy resin for printed wiring boards according to claim 3, wherein at least one of those represented by the following structural formulas (1) to (3) is used as an epoxy resin having a naphthalene skeleton. Composition.
Figure 2011155085
(B)成分として、下記構造式(4)で表されるアミノトリアジンノボラック樹脂、ジシアンジアミドのうちの少なくとも1種類が用いられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。
Figure 2011155085
5. The component according to claim 1, wherein at least one of an aminotriazine novolak resin represented by the following structural formula (4) and dicyandiamide is used as the component (B). Epoxy resin composition for printed wiring boards.
Figure 2011155085
フェノキシ樹脂が含有されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition for printed wiring boards according to any one of claims 1 to 5, wherein a phenoxy resin is contained. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物がフィルム状に成形されていることを特徴とする樹脂フィルム。   A resin film, wherein the epoxy resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 6 is formed into a film shape. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物が基材に含浸されて半硬化状態となっていることを特徴とするプリプレグ。   A prepreg, wherein the substrate is impregnated with the epoxy resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 6, and is in a semi-cured state. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板用エポキシ樹脂組成物が金属箔に塗布されて半硬化状態となっていることを特徴とする金属箔付き樹脂シート。   A resin sheet with a metal foil, wherein the epoxy resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 6 is applied to the metal foil to be in a semi-cured state. 請求項7に記載の樹脂フィルム、請求項8に記載のプリプレグ、請求項9に記載の金属箔付き樹脂シートのうちの少なくとも1種類を用いて形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。   A flexible printed wiring board formed using at least one of the resin film according to claim 7, the prepreg according to claim 8, and the resin sheet with metal foil according to claim 9. .
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