JP2015223538A - 水処理装置及び水処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の水処理装置1は、下記一般式(1)で表されるアルミン酸イオン濃度及びpHがそれぞれ所定範囲内である被処理水W1中から、被処理水W1中に溶存する溶解性シリカを析出させる溶解性シリカ析出部13と、被処理水W1と析出させた溶解性シリカとを分離して被処理水W1から溶解性シリカを除去した処理水W2を得る固液分離部14と、を備えたことを特徴とする。
[Al(OH)4]− ・・・式(1)
【選択図】図1
Description
[Al(OH)4]− ・・・式(1)
[Al(OH)4]− ・・・式(1)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る水処理装置1の概略図である。図1に示すように、本実施の形態に係る水処理装置1は、溶解性シリカを含有する被処理水W1にpH調整剤11aを添加して被処理水W1のpHを所定範囲とするpH調整剤添加部11と被処理水W1に下記一般式(1)で表されるアルミン酸イオン添加剤12aを添加して被処理水W1のアルミン酸イオンの濃度を所定範囲とするアルミン酸イオン添加部12と、pHが所定範囲でありアルミン酸イオンの濃度が所定範囲である被処理水W1から溶解性シリカを析出させる溶解性シリカ析出部13(以下、単に「析出部13」ともいう)と、被処理水W1と被処理水W1から析出させた溶解性シリカとを固液分離して処理水W2を得る固液分離部14とを備える。処理水W2は、処理水精製部20によって精製されて精製処理水W3となる。pH調整剤添加部11からのpH調整剤11aの添加量及びアルミン酸イオン添加部12からのアルミン酸イオン添加剤12aの添加量は、制御装置21により制御される。
[Al(OH)4]− ・・・式(1)
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。なお、以下においては、上述した第1の実施の形態に係る水処理装置1と共通する構成要素については同一の符号を付し、説明の重複を避ける。
図7は、本発明の第3の実施の形態に係る水処理装置3の概略図である。図7に示すように、本実施の形態に係る水処理装置3は、pH調整剤添加部11の上流側に設けられたマグネシウムイオン添加部17を備える。その他の構成については、上述した第1の実施の形態に係る水処理装置1と同一のため説明を省略する。
図9は、本発明の第4の実施の形態に係る水処理装置4の概略図である。図9に示すように、本実施の形態に係る水処理装置4は、水を電気分解して電解水W4にする電解部18を備える。電解部18で電気分解する水としては、例えば、被処理水W1、処理水W2及び精製処理水W3などを用いることができる。その他の構成については、上述した第1の実施の形態に係る水処理装置1と同一のため説明を省略する。
Al → Al3++3e− ・・・(2)
2H2O+2e− → H2+2OH− ・・・(3)
Al3++4OH−→[Al(OH)4]− ・・・(4)
図10は、本発明の第5の実施の形態に係る水処理装置5の概略図である。図10に示すように、この水処理装置5は、上述した第1−第4の実施の形態に係る水処理装置1−4の構成を組み合わせたものである。これにより、被処理水W1中の溶解性シリカの濃度をより一層低減することができる。
図11は、本発明の第6の実施の形態に係る水処理装置6の概略図である。図11に示すように、本実施の形態に係る水処理装置6は、固液分離装置14の後段に設けられ、被処理水W1のアルミニウムイオンを処理するAl処理部33と、このAl処理部33の後段に設けられ、被処理水W1にpH調整剤32aを添加して被処理水W1のpHを調整するpH調整剤添加部32を備える。その他の構成については図1に示した水処理装置1と同様のため説明を省略する。
Ca(HCO3)2+Ca(OH)2→2CaCO3↓+2H2O ・・・(5)
Mg(HCO3)2+2Ca(OH)2⇒Mg(OH)2↓+2CaCO3↓+2H2O ・・・(6)
CaCl2+Na2CO3⇒2NaCl+CaCO3↓ ・・・(7)
図12は、本発明の第7の実施の形態に係る水処理装置7の概略図である。図12に示すように、本実施の形態に係る水処理装置3は、上述した水処理装置2のAl処理部33が溶解性シリカ析出部13と固液分離部14との間に設けられている。その他の構成については上述した水処理装置2と同一であるので、説明を省略する。
図14は、適用例1に係る水処理装置100の概略図である。図14に示すように、この水処理装置100は、半導体製造用高純度水精製逆浸透プラントの供給水の前処理装置である。水処理装置100は、被処理水W1中の溶解性シリカを除去する溶解性シリカ除去部10と、弱酸カチオン交換樹脂により処理水W2中を処理して重炭酸塩及びアルミニウムイオンを除去する被処理水精製装置としてのカチオン交換装置101と、重炭酸塩及びアルミニウムイオンを除去した処理水W2中の炭酸ガスを除去する脱炭酸部102と、脱炭酸した処理水W2を逆浸透膜103aにより濾過して透過水W100及び濃縮水W101を得る逆浸透膜濾過部103とを備える。
図15は、適用例2に係る水処理装置200の概略図である。図15に示すように、この水処理装置200は、高濃度有機物及びシリカなどの懸濁/溶解固体分を含む排水の処理装置である。この水処理装置200は、溶解性シリカ除去部10Aは、溶解性シリカ析出部13の後段に更に被処理水W1中の溶解性シリカを凝集させる凝集槽201を備える。この凝集槽201では、被処理水W1中に塩化鉄などの凝集剤と共に、アルミン酸イオン添加部12からアルミン酸イオンが添加された被処理水W1中の溶解性シリカを析出する。そして、固液分離部14で析出した溶解性シリカを分離して処理水W2及び析出物15を得た後、マルチメディアフィルタで構成される第1フィルタ202で濾過した後、処理水W2に含まれるアルミニウムイオンを被処理水精製部としてのイオン交換樹脂203で除去する。そして、カートリッジフィルタで構成される第2フィルタ204で濾過した後、逆浸透膜205aを備えた逆浸透膜濾過部205で透過水W200及び濃縮水W201を分離する。このように、本実施の形態においては、溶解性シリカ除去部10で処理した処理水W2を、イオン交換樹脂203などを経て更に生成して使用することも可能である。
図16は、適用例3に係る水処理装置300の概略図である。図16に示すように、この水処理装置300は、溶解性シリカ除去部10の後段に設けられた被処理水精製部としての第1脱塩塔301と、脱塩塔の後段に設けられた脱ガス塔302と、脱ガス塔302の後段に設けられた第2脱塩塔304とを備える。第1脱塩塔301に導入された処理水W2は、第1イオン交換樹脂301a及び第2イオン交換樹脂301bを介してイオン交換された後、塔底部で塩酸が供給されて脱ガス塔302に供給される。脱ガス塔302に供給された処理水W2は、洗浄部302aで洗浄されて塔底部302bに貯留される。脱ガス塔302の塔底部302bに貯留された処理水W2は、ポンプ303を介して第2脱塩塔304に導入されて第1イオン交換樹脂304a及び第2イオン交換樹脂304bを介してイオン交換された後、塔底部で水酸化ナトリウム水溶液が供給されて所定のpHに調整されて処理水W300とされる。このように処理することにより、イオン交換樹脂の消耗率を低減することが可能となる。なお、溶解性シリカ除去部10は、第2脱塩塔304の第2イオン交換樹脂304bの上流側であれば配置構成は適宜変更可能である。このように、本適用例3においては、溶解性シリカ除去部10で処理した処理水W2を、アニオン交換樹脂などを経て更に生成して使用することも可能である。
図17は、適用例4に係る水処理装置400の概略図である。図17に示すように、この水処理装置400は、有機物及び無機塩を含む水を処理し、蒸発操作時の水垢付着を低減する水処理装置である。この水処理装置400は、溶解性シリカ除去部10の後段に設けられたイオン交換装置401と、イオン交換装置401でイオン交換された処理水W2に酸を供給する酸供給部402と、イオン交換装置401の後段に設けられた脱ガス部403と、脱ガス部403で脱ガスされた処理水W2にアルカリを添加するアルカリ添加部404と、アルカリ添加部404の後段に設けられた被処理水精製部としての蒸発器405とを備える。
図1に示した水処理装置を用いて被処理水にアルミン酸ナトリウムを添加して溶解性シリカを除去して精製処理水を製造した。被処理水のpHは10とし、温度は25℃とし、被処理水中の溶解性シリカ濃度は40mg/Lとし、アルミン酸イオンの濃度は157mg/Lとし、マグネシウムイオン濃度は120mg/Lとした。その結果、図18に示すように、被処理水中の溶解性シリカが析出し、処理水中の溶解性シリカの濃度が大幅に低減した(被処理水:40mg/L→処理水0.8mg/L)。また、析出物を蛍光X線分析により組成分析した結果、Mg、Al、Siが析出物中に共存していた。
アルミン酸ナトリウムに代えて硫酸アルミニウムを用いたこと以外は実施例と同様にして被処理水を処理した。その結果、図18に示すように、被処理水中の溶解性シリカは析出せず、処理水中の溶解性シリカの濃度は低下しなかった(被処理水:32mg/L→処理水31mg/L)。この結果は、硫酸アルミニウムを用いた場合には、被処理水中にアルミン酸イオンが発生しなかった結果、アルミン酸イオンと溶解性シリカとの化合物が被処理水中に析出しなかったためと考えられる。
11 pH調整剤添加部
11a pH調整剤
12 アルミン酸イオン添加部
12a アルミン酸イオン添加剤
13 析出部
14 固液分離部
15 析出物
16 種物質添加部
16a 種物質
17 マグネシウムイオン添加部
17a マグネシウムイオン添加剤
18 電解部
18a 陽極
18b 陰極
18c 直流電源
20 処理水精製部
21 制御装置
22 pH計
W1 被処理水
W2 処理水
W3 精製処理水
Claims (20)
- 下記一般式(1)で表されるアルミン酸イオン濃度及びpHがそれぞれ所定範囲内である被処理水中から、前記被処理水中に溶存する溶解性シリカを析出させる溶解性シリカ析出部と、
前記被処理水と析出させた前記溶解性シリカとを分離して前記被処理水から前記溶解性シリカを除去した処理水を得る固液分離部と、を備えたことを特徴とする、水処理装置。
[Al(OH)4]− ・・・式(1) - 前記被処理水にアルミン酸イオン添加剤を添加して前記被処理水のアルミン酸イオン濃度を前記所定範囲内にするアルミン酸イオン添加部を備えた、請求項1に記載の水処理装置。
- 前記アルミン酸イオン添加剤が、アルミン酸ナトリウムである、請求項2に記載の水処理装置。
- 前記被処理水にpH調整剤を添加して前記被処理水をpH5.5以上にするpH調整剤添加部を備えた、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 予め前記被処理水から析出させた溶解性シリカを種物質として前記被処理水に添加する種物質添加部を備えた、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記被処理水にマグネシウムイオン添加剤を添加するマグネシウムイオン添加部を備えた、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記被処理水の一部を電解して発生したアルミン酸イオン含有水を前記アルミン酸イオン添加剤として前記アルミン酸イオン添加部に供給する電解装置を備えた、請求項2から請求項6のいずれか1項に記載の水処理装置。
- pHが5.5以上の溶解性シリカを含有する被処理水に、アルミン酸ナトリウムを添加して前記被処理水中に溶存する溶解性シリカを前記被処理水から析出させる溶解性シリカ析出部と、
前記被処理水と析出させた前記溶解性シリカとを分離して前記被処理水から前記溶解性シリカを除去する固液分離部と、
を備えたことを特徴とする、水処理装置。 - 前記処理水を蒸発させて精製処理水を得る蒸発部、前記処理水を晶析させて精製処理水を得る晶析部、前記処理水をイオン交換して精製処理水を得るイオン交換樹脂部からなる群から選択された少なくとも1種を含む処理水精製部を備えた、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記処理水精製部に供給される前記被処理水に含まれるアルミニウムイオンを除去するアルミニウムイオン処理部を備えた、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 下記一般式(1)で表されるアルミン酸イオン濃度及びpHがそれぞれ所定範囲内である被処理水中から、前記被処理水中に溶存する溶解性シリカを析出させる析出工程と、
前記被処理水と析出させた前記溶解性シリカとを分離して前記被処理水から前記溶解性シリカを除去して処理水を得る固液分離工程とを含むことを特徴とする、水処理方法。
[Al(OH)4]− ・・・式(1) - 前記被処理水にアルミン酸イオン添加剤を添加して前記被処理水のアルミン酸濃度を前記所定範囲とする、請求項11に記載の水処理方法。
- 前記アルミン酸イオン添加剤が、アルミン酸ナトリウムである、請求項12に記載の水処理方法。
- 前記被処理水にpH調整剤を添加して前記被処理水をpH5.5以上にする、請求項11から請求項13のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 予め前記被処理水から析出させた溶解性シリカを種物質として前記被処理水に添加して前記溶解性シリカを析出させる、請求項11から請求項14のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記被処理水にマグネシウムイオン添加剤を添加して前記溶解性シリカを析出させる、請求項11から請求項15のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記被処理水の一部を電解して発生したアルミン酸イオン含有水を前記アルミン酸イオン添加剤として前記被処理水に添加する、請求項11から請求項16のいずれか1項に記載の水処理方法。
- pHが5.5以上の被処理水である溶解性シリカを含有する被処理水に、アルミン酸ナトリウムを添加して前記被処理水から溶解性シリカを析出させる析出工程と、
前記被処理水と析出させた前記溶解性シリカとを分離して前記被処理水から前記溶解性シリカを除去する固液分離工程と、
を含むことを特徴とする、水処理方法。 - 前記処理水を蒸発させて精製処理水を得る蒸発部、前記処理水を晶析させて精製処理水を得る晶析部、前記処理水をイオン交換して精製処理水を得るイオン交換樹脂部からなる群から選択された少なくとも1種を含む処理水精製部で精製する精製工程を含む、請求項11から請求項18のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記処理水精製部に供給される前記被処理水に含まれるアルミニウムイオンをアルミニウムイオン処理部で除去する、請求項11から請求項19のいずれか1項に記載の水処理方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110272159A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-24 | 苏州乔发环保科技股份有限公司 | 一种工业废水中无机盐的资源化处理方法及装置 |
WO2023191215A1 (ko) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | (주)성창사 | 가전용 전극살균 모듈 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10450202B1 (en) * | 2014-02-08 | 2019-10-22 | Mansour S. Bader | Treatment of source water |
US10450212B1 (en) * | 2014-02-08 | 2019-10-22 | Mansour S. Bader | Treatment of source water |
CN205933500U (zh) * | 2016-07-26 | 2017-02-08 | 吳達鎔 | 一种水质优化系统 |
US11505478B2 (en) | 2021-03-22 | 2022-11-22 | Marmac Water Llc | Automated methods and systems for optimized zeta potential chemical dosing in water treatment systems |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5190160A (ja) * | 1975-02-03 | 1976-08-07 | Keisanarukaryoekinohaiekishoriho | |
JPS5573399A (en) * | 1978-11-30 | 1980-06-03 | Nippon Jiryoku Senko Kk | Treating method of hot water produced from deep underground |
JPH02227185A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 溶存シリカの除去法 |
US5453206A (en) * | 1991-05-27 | 1995-09-26 | Modern Environmental Service Trust | Process for removing silica from aqueous liquors |
JP2001157894A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-12 | Masaaki Nagakura | 水の清浄化方法 |
JP2004097932A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 水処理装置 |
JP2004141799A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | シリカを含有する排水の処理方法 |
JP2011025141A (ja) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Kurita Water Ind Ltd | アルカリエッチング排液の処理方法および装置 |
KR20110087512A (ko) * | 2010-01-26 | 2011-08-03 | 주식회사 한 수 | 멤브레인 전처리 공정의 실리카 제거 처리방법 |
JP2014064983A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Miura Co Ltd | シリカ除去システム及びそれを備える水処理システム |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2287486A (en) * | 1938-09-19 | 1942-06-23 | Reichelt Hellmuth | Process for removing silicic acid from water |
JPS525956A (en) * | 1975-07-03 | 1977-01-18 | Oji Paper Co Ltd | Electrolytic cohesion oxidation treatment of water and waste water |
DK171509B1 (da) * | 1993-10-19 | 1996-12-09 | Guldager As | Fremgangsmåde og elektrolysebeholder til elektrolytisk vandbehandling |
US5871648A (en) | 1996-11-26 | 1999-02-16 | Environmental Chemistries, Inc. | Wastewater treatment process and apparatus for high flow impurity removal |
WO2003008336A2 (en) * | 2001-07-20 | 2003-01-30 | Microbar, Inc. | Reverse osmosis pretreatment using low pressure filtration |
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5190160A (ja) * | 1975-02-03 | 1976-08-07 | Keisanarukaryoekinohaiekishoriho | |
JPS5573399A (en) * | 1978-11-30 | 1980-06-03 | Nippon Jiryoku Senko Kk | Treating method of hot water produced from deep underground |
JPH02227185A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 溶存シリカの除去法 |
US5453206A (en) * | 1991-05-27 | 1995-09-26 | Modern Environmental Service Trust | Process for removing silica from aqueous liquors |
JP2001157894A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-12 | Masaaki Nagakura | 水の清浄化方法 |
JP2004097932A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 水処理装置 |
JP2004141799A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | シリカを含有する排水の処理方法 |
JP2011025141A (ja) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Kurita Water Ind Ltd | アルカリエッチング排液の処理方法および装置 |
KR20110087512A (ko) * | 2010-01-26 | 2011-08-03 | 주식회사 한 수 | 멤브레인 전처리 공정의 실리카 제거 처리방법 |
JP2014064983A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Miura Co Ltd | シリカ除去システム及びそれを備える水処理システム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110272159A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-24 | 苏州乔发环保科技股份有限公司 | 一种工业废水中无机盐的资源化处理方法及装置 |
WO2023191215A1 (ko) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | (주)성창사 | 가전용 전극살균 모듈 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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