JP2015214721A - Sieve mesh and production method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sieve mesh which is capable of sieving even a superfine hydrophilic chemical powder of an average particle size of 100 μm or smaller in a short time and is subjected to a surface coating treatment and a production method of a sieve mesh.SOLUTION: A production method of a sieve mesh includes bringing a sieve mesh substrate into contact with a solution containing a silane having a structure in which one 1-30C alkyl group optionally having a substituent and three hydroxy or hydrolyzable groups are bonded to an Si atom or a polymer of the silane. The sieve mesh obtained consists of the sieve mesh substrate and an organic thin film composed of the silane having a structure in which one 1-30C alkyl group optionally having a substituent and three hydroxy or hydrolyzable groups are bonded to an Si atom or the polymer of the silane and covering the surface of the sieve mesh substrate.

Description

本発明は、篩網およびその製造方法に関する。より詳細に、本発明は、平均粒径が100μm以下の超微細な親水性化学品粉体であっても、短時間にて篩分けすることができる、表面被覆処理された篩網および篩網の製造方法に関する。   The present invention relates to a sieve mesh and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a surface-coated sieving mesh and a sieving mesh that can be screened in a short time even for ultrafine hydrophilic chemical powders having an average particle size of 100 μm or less. It relates to the manufacturing method.

小麦粉や澱粉などの篩分け工程においては、篩網の目詰まりが生じやすい。篩網の目詰まりを防止する目的で、篩網基材の表面を被覆処理してなる篩網が検討されている。例えば、ポリアミド系モノフィラメントの特殊平織組織で製織されたメッシュ織物の構成原糸表面がエポキシ樹脂で補強されたフッ素系樹脂皮膜で被覆されている篩網(特許文献1); 不飽和結合部を有するシランモノマーで被覆された無機微粒子と有機ケイ素化合物系バインダー成分とを含み、篩網の表面に形成された微細凹凸層とを有する篩網(特許文献2); 篩網の表面または全体が樹脂からなる基材により構成され、該基材の表面に不飽和結合部を有するシランモノマーで被覆された酸化ジルコニウムとテトラメトキシシランからなるバインダー成分とを含有する微細凹凸層が固定化され、その固定化方法が、前記不飽和結合部と基材表面とがグラフト重合による化学結合により固定化されている篩網(特許文献3)などが提案されている。   In the sieving process for wheat flour and starch, clogging of the sieve mesh is likely to occur. In order to prevent clogging of the sieve mesh, a sieve mesh obtained by coating the surface of the sieve mesh substrate has been studied. For example, a mesh screen woven with a special plain weave structure of polyamide-based monofilament, and a mesh screen woven with a fluorine resin film reinforced with epoxy resin (Patent Document 1); having an unsaturated bond Sieve net comprising inorganic fine particles coated with a silane monomer and an organosilicon compound binder component, and having a fine uneven layer formed on the surface of the sieve mesh (Patent Document 2); A fine uneven layer containing zirconium oxide coated with a silane monomer having an unsaturated bond portion on the surface of the substrate and a binder component composed of tetramethoxysilane is fixed and fixed As a method, a sieve mesh in which the unsaturated bond portion and the substrate surface are fixed by chemical bonding by graft polymerization (Patent Document 3) is proposed. It is.

特開平08−290117号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-290117 特開2010−188294号公報JP 2010-188294 A 特開2012−024739号公報JP 2012-024739 A

特許文献1に記載される篩網は、静電気が発生しやすく、篩網に微細な化学品粉体などが付着して目詰まりしやすい。特許文献2および特許文献3に記載される篩網は、篩網の表面に形成された微細凹凸層に微細な化学品粉体が引っかかり、目詰まりしやすい。このように、前記先行技術文献にて開示されている篩網は、平均粒径が100μm以下の超微細な親水性化学品粉体を短時間にて篩分けすることが難しい。
本発明の課題は、平均粒径が100μm以下の超微細な親水性化学品粉体であっても、短時間にて篩分けすることができる、表面被覆処理された篩網および篩網の製造方法を提供することである。
The sieve mesh described in Patent Document 1 is liable to generate static electricity, and clogged because fine chemical powder or the like adheres to the sieve mesh. In the sieve meshes described in Patent Document 2 and Patent Document 3, fine chemical powder is caught on the fine uneven layer formed on the surface of the sieve mesh and is easily clogged. As described above, it is difficult for the sieve mesh disclosed in the prior art documents to screen ultrafine hydrophilic chemical powders having an average particle size of 100 μm or less in a short time.
An object of the present invention is to produce a surface-coated sieving mesh and a sieving mesh that can be sieved in a short time even if it is an ultrafine hydrophilic chemical powder having an average particle size of 100 μm or less Is to provide a method.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、以下の態様を包含する本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have completed the present invention including the following aspects.

〔1〕篩網基材、および 置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体から形成され且つ前記篩網基材の表面を被覆する有機薄膜 を有する篩網。
〔2〕有機薄膜は無機微粒子を含有しない〔1〕に記載の篩網。
〔3〕有機薄膜は単分子膜である〔1〕または〔2〕に記載の篩網。
〔4〕置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基がオクタデシル基である〔1〕〜〔3〕のいずれかひとつに記載の篩網。
[1] Silane having a structure in which a sieve base material and one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and three hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded to Si atoms, or A sieve mesh having an organic thin film formed of a multimer of and covering the surface of the sieve mesh substrate.
[2] The sieve screen according to [1], wherein the organic thin film does not contain inorganic fine particles.
[3] The sieve screen according to [1] or [2], wherein the organic thin film is a monomolecular film.
[4] The sieve mesh according to any one of [1] to [3], wherein the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent is an octadecyl group.

〔5〕置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体を含有する溶液に、篩網基材を接触させることを含む、有機薄膜で被覆された篩網の製造方法。 [5] A silane having a structure in which one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and three hydroxyl groups or three hydrolyzable groups are bonded to Si atoms, or a multimer thereof. A method for producing a sieve mesh coated with an organic thin film, comprising bringing a sieve mesh substrate into contact with a solution.

本発明の篩網は、平均粒径が100μm以下の超微細な親水性化学品粉体であっても、短時間に篩分けすることができる。本発明の篩網を構成する有機薄膜の厚さは2〜3nmと非常に薄いため、篩網の網目精度が高い。また、該有機薄膜は篩網基材と化学結合によって強く結合しているために剥がれ難い。   The sieve mesh of the present invention can be sieved in a short time even if it is an ultrafine hydrophilic chemical powder having an average particle size of 100 μm or less. Since the thickness of the organic thin film which comprises the sieve mesh of this invention is very thin with 2-3 nm, the mesh precision of a sieve mesh is high. Further, the organic thin film is not easily peeled off because it is strongly bonded to the sieve mesh substrate by chemical bonding.

本発明の篩網は、篩網基材、および 置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体から形成され且つ前記篩網基材の表面を被覆する有機薄膜 を有するものである。   The sieve mesh of the present invention has a structure in which a sieve mesh substrate, one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and three hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded to Si atoms. And an organic thin film that covers the surface of the sieve mesh substrate.

本発明の篩網を構成する篩網基材は、粉体を分級することができる網目が形成されたものであれば、その形態によって特に制限されないが、JISに規定されている規格に従うことが好ましい。本発明に用いられる篩網基材は、金属材料、ガラス、若しくはセラミック材料などで形成されたものであることができる。有機薄膜との密着性の観点から金属材料で形成された篩網基材が好ましい。金属材料としては、アルミニウム、ステンレス、鉄などを挙げることができる。   The sieve mesh substrate constituting the sieve mesh of the present invention is not particularly limited by its form as long as a mesh capable of classifying powder is formed, but may conform to the standard defined in JIS. preferable. The sieve mesh substrate used in the present invention can be formed of a metal material, glass, ceramic material, or the like. From the viewpoint of adhesion to the organic thin film, a sieve mesh substrate formed of a metal material is preferable. Examples of the metal material include aluminum, stainless steel, and iron.

篩網基材は、その表面が無機膜で覆われていても良い。無機膜を構成する物質としては、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化クロムなどの金属酸化物;炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸塩;ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウムなどのケイ酸塩のほか、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化クロム、カーボンブラック、マイカ、合成マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、炭化珪素、チタン酸バリウム、硫酸バリウム、ベントナイト、スメクタイト、窒化硼素、コンジョウ、群青などを挙げることができる。   The surface of the sieve mesh substrate may be covered with an inorganic film. Examples of the material constituting the inorganic film include metal oxides such as titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and chromium oxide; carbonates such as magnesium carbonate and calcium carbonate; silicic acid In addition to silicates such as aluminum, magnesium silicate, aluminum magnesium silicate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, chromium hydroxide, carbon black, mica, synthetic mica, sericite, talc, kaolin, silicon carbide, titanic acid Examples thereof include barium, barium sulfate, bentonite, smectite, boron nitride, koji and ultramarine.

篩網基材の表面は、親水性基を有することが好ましく、水酸基を有することがより好ましい。表面に親水性基などを殆どもたない材料からなる篩網基材であっても、本発明に関わる有機薄膜は篩網基材に強く密着する。有機薄膜の密着性をより強固とするために、篩網基材を、アルカリ性水溶液で洗浄、酸素を含むプラズマ雰囲気中で処理、またはコロナ処理することが好ましい。これら処理によって、篩網基材表面に親水性基を導入することができる。親水性基としては、水酸基(−OH)が好ましいが、活性水素を有する−COOH、−CHO、=NH、−NH2などの官能基などであっても良い。篩網基材の洗浄に使用されるアルカリ性水溶液はアルカリ性を呈する水溶液であれば特に制限されない。アルカリ性水溶液としては、例えば、アルカリ金属無機塩を含有してなる水溶液を挙げることができる。アルカリ金属無機塩としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、ホウ酸ナトリウムなどを挙げることができる。 The surface of the sieve mesh substrate preferably has a hydrophilic group, and more preferably has a hydroxyl group. Even if the screen is made of a material having almost no hydrophilic group or the like on the surface, the organic thin film according to the present invention strongly adheres to the screen. In order to further strengthen the adhesion of the organic thin film, it is preferable that the sieve mesh substrate is washed with an alkaline aqueous solution, treated in a plasma atmosphere containing oxygen, or corona treated. By these treatments, hydrophilic groups can be introduced on the surface of the sieve mesh substrate. The hydrophilic group is preferably a hydroxyl group (—OH), but may be a functional group such as —COOH, —CHO, ═NH, or —NH 2 having active hydrogen. The alkaline aqueous solution used for cleaning the sieve mesh substrate is not particularly limited as long as it is an aqueous solution exhibiting alkalinity. Examples of the alkaline aqueous solution include an aqueous solution containing an alkali metal inorganic salt. Examples of the alkali metal inorganic salt include potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, sodium borate and the like.

また、篩網基材の表面に、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2、Cl−(SiCl2O)x−SiCl3(式中、xは0または自然数を表す。)から選ばれる少なくとも一つの化合物を接触させ、次いで脱塩化水素反応させることにより、篩網基材の表面に活性水素を有するシリカ下地層を形成することができる。 Further, at least one selected from SiCl 4 , SiHCl 3 , SiH 2 Cl 2 , Cl— (SiCl 2 O) x —SiCl 3 (wherein x represents 0 or a natural number) on the surface of the sieve mesh substrate. By bringing two compounds into contact and then dehydrochlorinating, a silica underlayer having active hydrogen can be formed on the surface of the sieve mesh substrate.

本発明の篩網を構成する有機薄膜は、シランまたはそれの多量体から形成され且つ前記篩網基材の表面を被覆するものである。   The organic thin film constituting the sieve mesh of the present invention is formed from silane or a multimer thereof and covers the surface of the sieve mesh substrate.

本発明に用いられるシランは、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すものである。係るシランとして、式(I)で表される化合物を挙げることができる。   The silane used in the present invention has a structure in which one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and three hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded to Si atoms. Examples of such silanes include compounds represented by the formula (I).

Figure 2015214721
(式(I)中、R1は置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基を表し、X1、X2、およびX3はそれぞれ独立して水酸基または加水分解性基を表す。)
Figure 2015214721
(In Formula (I), R 1 represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and X 1 , X 2 , and X 3 are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Represents.)

本発明に用いられるシランの多量体は、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基1つと、がSi原子に結合する構造を成すシロキサン単位を有するものである。シランの多量体としては、例えば、式(II)で表される鎖状シロキサンや式(III)で表される環状シロキサンを挙げることができる。   The silane multimer used in the present invention is a siloxane having a structure in which one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and one hydroxyl group or one hydrolyzable group are bonded to Si atoms. It has a unit. Examples of the silane multimer include a chain siloxane represented by the formula (II) and a cyclic siloxane represented by the formula (III).

Figure 2015214721
(式(II)中、各R1は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基を表し、X4、X5、X6およびX7は、それぞれ独立して水酸基または加水分解性基を表す。mはシロキサン単位の数を表す。mは1〜3のいずれかの整数であることが好ましい。mが2以上のとき各X5は同じであっても異なってもよい。
Figure 2015214721
(In the formula (II), each R 1 independently represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and X 4 , X 5 , X 6 and X 7 are Each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, m represents the number of siloxane units, m is preferably an integer of 1 to 3. When m is 2 or more, each X 5 is the same. It may or may not be.

Figure 2015214721
(式(III)中、各R1は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基を表し、X8、およびX9は、それぞれ独立して水酸基または加水分解性基を表す。nはシロキサン単位の数を表す。nは2〜4のいずれかの整数であることが好ましい。各X8は同じであっても異なってもよい。
Figure 2015214721
(In the formula (III), each R 1 independently represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and X 8 and X 9 are each independently a hydroxyl group. Alternatively, it represents a hydrolyzable group, n represents the number of siloxane units, and n is preferably an integer of 2 to 4. Each X 8 may be the same or different.

ここで、「炭素数1〜30のアルキル基」は、それを構成する炭素原子数が1〜30であるアルキル基である。係る炭素原子数には置換基中の炭素原子の数を含まない。炭素数1〜30のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル基、n−へキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−テトラデシル基、n−オクタデシル基、n−イコシル基、n−テトラドコシル基、n−オクタドコシル基などを挙げることができる。これらのうち、炭素数1〜30の直鎖アルキル基が好ましく、炭素数6〜24の直鎖アルキル基がより好ましく、炭素数12〜24の直鎖アルキル基がさらに好ましく、オクタデシル基が最も好ましい。   Here, the “alkyl group having 1 to 30 carbon atoms” is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms constituting the alkyl group. The number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent. Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, and isopentyl group. , Neopentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-tetradecyl group, n-octadecyl group, n-icosyl group, Examples thereof include an n-tetradocosyl group and an n-octadocosyl group. Among these, a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, a linear alkyl group having 6 to 24 carbon atoms is more preferable, a linear alkyl group having 12 to 24 carbon atoms is more preferable, and an octadecyl group is most preferable. .

「炭素数1〜30のアルキル基」に置換し得る置換基としては、メトキシ基、エトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;CF3、C25などの炭素数1〜3のフッ化アルキル基;CF3O、C25Oなどの炭素数1〜3のフッ化アルコキシ基;フェニル基、ナフチル基などのアリール基;フェノキシ基、ナフトキシ基などのアリールオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのアリールチオ基などを挙げることができる。係る置換基は、炭素数1〜30のアルキル基の末端に在ることが好ましい。 Examples of the substituent that can be substituted on the “C 1-30 alkyl group” include C 1-6 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; C 1-3 carbon atoms such as CF 3 and C 2 F 5 . Fluorinated alkyl group; fluorinated alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms such as CF 3 O and C 2 F 5 O; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; aryloxy group such as phenoxy group and naphthoxy group; methylthio group And alkylthio groups having 1 to 6 carbon atoms such as ethylthio group; arylthio groups such as phenylthio group and naphthylthio group. Such a substituent is preferably present at the terminal of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

加水分解性基としては、水と反応して分解する基であれば特に制約されない。例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−へキシルオキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基などの炭素数1〜6のアルキルカルボニルオキシ基;ベンゾイルオキシ基、ナフチルカルボニルオキシ基などのアリールカルボニルオキシ基;ベンジルカルボニルオキシ基、フェネチルカルボニルオキシ基などのアリールアルキルカルボニルオキシ基などのアシルオキシ基;F、Cl、Brなどのハロゲノ基などを挙げることができる。   The hydrolyzable group is not particularly limited as long as it is a group that reacts with water and decomposes. For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, etc. An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as an acetoxy group, a propionyloxy group, an n-propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, and an n-butylcarbonyloxy group; a benzoyloxy group and a naphthylcarbonyloxy group Arylcarbonyloxy groups such as benzylcarbonyloxy group, acyloxy groups such as arylalkylcarbonyloxy groups such as phenethylcarbonyloxy group; halogeno groups such as F, Cl and Br.

本発明に用いられるシランの具体例としては、 CH3Si(OCH3)(OH)2、 C25Si(OCH3)(OH)2、 C37Si(OCH32(OH)、 C49Si(OCH32(OH)、 C49Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH25Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH27Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH29Si(OCH32(OH)、 CH3(CH211Si(OCH32(OH)、 CH3(CH213Si(OCH32(OH)、CH3(CH215Si(OH)3、 CH3(CH217Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH217Si(OCH32(OH)、 CH3(CH219Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH221Si(OCH3)(OH)2、 CH3(CH217Si(OH33、 CH3(CH25SiCl(OH)2、 CH3(CH27SiCl(OH)2、 CH3(CH29SiCl2(OH)、 CH3(CH215Si(OH33、 CH3(CH217SiCl(OH)2、 CH3(CH217SiCl2(OH)、 CH3(CH221SiCl(OH)2Specific examples of the silane used in the present invention include CH 3 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , C 2 H 5 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , C 3 H 7 Si (OCH 3 ) 2 (OH ), C 4 H 9 Si (OCH 3 ) 2 (OH), C 4 H 9 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 5 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CH 3 ( CH 2) 7 Si (OCH 3 ) (OH) 2, CH 3 (CH 2) 9 Si (OCH 3) 2 (OH), CH 3 (CH 2) 11 Si (OCH 3) 2 (OH), CH 3 (CH 2 ) 13 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CH 3 (CH 2 ) 15 Si (OH) 3 , CH 3 (CH 2 ) 17 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 17 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CH 3 (CH 2 ) 19 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 21 Si (OCH) 3 ) (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 17 Si (OH 3 ) 3 , CH 3 (CH 2 ) 5 SiCl (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 7 SiCl (OH) 2 , CH 3 ( CH 2 ) 9 SiCl 2 (OH), CH 3 (CH 2 ) 15 Si (OH 3 ) 3 , CH 3 (CH 2 ) 17 SiCl (OH) 2 , CH 3 (CH 2 ) 17 SiCl 2 (OH), CH 3 (CH 2 ) 21 SiCl (OH) 2 ;

CF3(CH218Si(OCH32(OH)、 CF3(CF2)(CH218Si(OCH32(OH)、 CF3O(CH218Si(OCH32(OH)、 CF3(CF2)O(CH218Si(OCH32(OH)、 CH3O(CH218Si(OCH32(OH)、 C25O(CH218Si(OCH32(OH)、 C65O(CH218Si(OCH32(OH)、 C65(CH218Si(OCH32(OH)、 CF3(CH218Si(OCH3)(OH)2、 CF3(CF2)(CH218Si(OCH3)(OH)2、 CF3O(CH218Si(OCH3)(OH)2、 CF3(CF2)O(CH218Si(OCH3)(OH)2、 CH3O(CH218Si(OCH3)(OH)2、 C25O(CH218Si(OCH3)(OH)2、 C65O(CH218Si(OCH3)(OH)2、 C65(CH218Si(OCH3)(OH)2、 CF3(CH218Si(OH)3、 CF3(CF2)(CH218Si(OH)3、 CF3O(CH218Si(OH)3、 CF3(CF2)O(CH218Si(OH)3、 CH3O(CH218Si(OH)3、 C25O(CH218Si(OH)3、 C65O(CH218Si(OH)3、 C65(CH218Si(OH)3などを挙げることができる。これらの化合物は1種単独で若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらのうちオクタデシル基を有するシラン化合物が好ましい。 CF 3 (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CF 3 (CF 2 ) (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CF 3 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CF 3 (CF 2 ) O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CH 3 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), C 2 H 5 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), C 6 H 5 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), C 6 H 5 (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) 2 (OH), CF 3 (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CF 3 (CF 2 ) (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CF 3 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CF 3 (CF 2 ) O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CH 3 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) ( OH) 2 , C 2 H 5 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , C 6 H 5 O (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , C 6 H 5 (CH 2 ) 18 Si (OCH 3 ) (OH) 2 , CF 3 (CH 2 ) 18 Si (OH) 3 , CF 3 (CF 2 ) (CH 2 ) 18 Si (OH) 3 , CF 3 O (CH 2 ) 18 Si (OH) 3 , CF 3 (CF 2 ) O (CH 2 ) 18 Si (OH) 3 , CH 3 O (CH 2 ) 18 Si (OH) 3 , C 2 H 5 O (CH 2 ) 18 Si (OH) 3, C 6 H 5 O (CH 2) 18 Si (OH) 3, C 6 H 5 (CH 2) such as 18 Si (OH) 3 can be exemplified. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Of these, silane compounds having an octadecyl group are preferred.

本発明に用いられる鎖状シロキサンの具体例としては、1,2−ジオクタデシル−1,2−ジメトキシ−1,2−ジヒドロキシ−ジシロキサン、1,2,3−トリオクタデシル−1,3−ジメトキシ−1,2,3−トリヒドロキシ−トリシロキサン、1,2,3,4−テトラオクタデシル−1,4−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テトラメトキシ−テトラシロキサン、1,2,3,4,5−ペンタオクタデシル−2,4−ジヒドロキシ−1,2,3,4,5−テトラメトキシ−ペンタシロキサンなどを挙げることができる。   Specific examples of the chain siloxane used in the present invention include 1,2-dioctadecyl-1,2-dimethoxy-1,2-dihydroxy-disiloxane, 1,2,3-trioctadecyl-1,3-dimethoxy. -1,2,3-trihydroxy-trisiloxane, 1,2,3,4-tetraoctadecyl-1,4-dihydroxy-1,2,3,4-tetramethoxy-tetrasiloxane, 1,2,3 Examples include 4,5-pentaoctadecyl-2,4-dihydroxy-1,2,3,4,5-tetramethoxy-pentasiloxane.

本発明に用いられる環状シロキサンの具体例としては、トリオクタデシル−ジメトキシ−ヒドロキシ−シクロトリシロキサン、トリオクタデシル−ジクロロ−ヒドロキシ−シクロトリシロキサン、テトラオクタデシル−1,3−ジヒドロキシ−2,4−ジメトキシ−シクロテトラシロキサン、ペンタオクタデシル−ジヒドロキシ−トリメトキシ−シクロペンタシロキサンなどを挙げることができる。   Specific examples of the cyclic siloxane used in the present invention include trioctadecyl-dimethoxy-hydroxy-cyclotrisiloxane, trioctadecyl-dichloro-hydroxy-cyclotrisiloxane, tetraoctadecyl-1,3-dihydroxy-2,4-dimethoxy- Examples include cyclotetrasiloxane and pentaoctadecyl-dihydroxy-trimethoxy-cyclopentasiloxane.

本発明に用いられるシランまたはそれの多量体で形成される有機薄膜は、シランまたはそれの多量体が加水分解反応によって重合することによって得られるシロキサン単位を有する膜である。また、該有機薄膜は単分子膜であることが好ましい。単分子膜の形成の確認は、膜厚を測定することによって確認できる。さらに、該有機薄膜は、平滑性を確保するために、凸凹を生じさせたり、膜の厚さを増したりする、無機微粒子を含有しないものである。   The organic thin film formed of silane or its multimer used in the present invention is a film having a siloxane unit obtained by polymerizing silane or its multimer by hydrolysis reaction. The organic thin film is preferably a monomolecular film. Confirmation of the formation of the monomolecular film can be confirmed by measuring the film thickness. Furthermore, the organic thin film does not contain inorganic fine particles that cause unevenness or increase the thickness of the film in order to ensure smoothness.

該有機薄膜は篩網基材の表面を被覆している。アルキル基は疎水性であり、水酸基または加水分解性基は親水性である。その結果、本発明に用いられるシランまたはそれの多量体で形成される有機薄膜は、篩網基材から遠い側にアルキル基が配され、篩網基材に近い側に水酸基または加水分解性基が配されるような構造になっていると推定できる。そして、篩網基材表面にある水酸基などの親水性基と有機薄膜中の水酸基または加水分解性基とが結合して有機薄膜と篩網基材との密着性を高めていると考えられる。   The organic thin film covers the surface of the sieve mesh substrate. The alkyl group is hydrophobic, and the hydroxyl group or hydrolyzable group is hydrophilic. As a result, the organic thin film formed of silane or a multimer thereof used in the present invention has an alkyl group arranged on the side far from the sieve mesh substrate and a hydroxyl group or hydrolyzable group on the side close to the sieve mesh substrate. It can be presumed that the structure is arranged. And it is thought that hydrophilic groups, such as a hydroxyl group on the surface of the sieve mesh substrate, and a hydroxyl group or a hydrolyzable group in the organic thin film are bonded to enhance the adhesion between the organic thin film and the sieve mesh substrate.

本発明の篩網の製法は、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体を含有する溶液(以下、この溶液を有機薄膜形成用溶液ということがある。)に、篩網基材を接触させることを含むものである。   The method for producing a sieve mesh according to the present invention includes a silane having a structure in which one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and three hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded to Si atoms, or A solution containing a multimer of (hereinafter, this solution may be referred to as an organic thin film forming solution) is brought into contact with a sieve mesh substrate.

有機薄膜形成用溶液に使用される溶媒は、シランまたはシラン多量体中の水酸基または加水分解性基と反応しにくい有機溶媒であることが好ましい。有機溶媒としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油ナフサ、ソルベントナフサ、石油エーテル、石油ベンジン、イソパラフィン、ノルマルパラフィン、デカリン、工業ガソリン、灯油、リグロインなどの炭化水素系溶媒;CBr2ClCF3、CClF2CF2CCl3、CClF2CF2CHFCl、CF3CF2CHCl2、CF3CBrFCBrF2、CClF2CClFCF2CCl3、Cl(CF2CFCl)2Cl、Cl(CF2CFCl)2CF2CCl3、Cl(CF2CFCl)3Clなどフロン系溶媒、フロリナート(3M社製品)、アフルード(旭ガラス社製品)などのフッ化炭素系溶媒;ジメチルシリコーン、フェニルシリコーン、アルキル変性シリコーン、ポリエーテルシリコーンなどのシリコーン系溶媒;などを挙げることができる。これらのうち、炭化水素系溶媒、フッ化炭素系溶媒、およびシリコーン系溶媒が好ましく、炭化水素系溶媒が特に好ましく、沸点が100〜250℃の炭化水素系溶媒が更に好ましい。これらの有機溶媒は1種単独で若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The solvent used in the organic thin film forming solution is preferably an organic solvent that hardly reacts with a hydroxyl group or a hydrolyzable group in silane or a silane multimer. Organic solvents include hydrocarbon solvents such as n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, petroleum naphtha, solvent naphtha, petroleum ether, petroleum benzine, isoparaffin, normal paraffin, decalin, industrial gasoline, kerosene, ligroin; CBr; 2 ClCF 3, CClF 2 CF 2 CCl 3, CClF 2 CF 2 CHFCl, CF 3 CF 2 CHCl 2, CF 3 CBrFCBrF 2, CClF 2 CClFCF 2 CCl 3, Cl (CF 2 CFCl) 2 Cl, Cl (CF 2 CFCl ) Fluorocarbon solvents such as 2 CF 2 CCl 3 , Cl (CF 2 CFCl) 3 Cl, fluorocarbon solvents such as Fluorinert (product of 3M), Afludo (product of Asahi Glass); dimethyl silicone, phenyl silicone, alkyl modified Silicone, polyether Silicone solvents such as corn; and the like. Of these, hydrocarbon solvents, fluorocarbon solvents, and silicone solvents are preferable, hydrocarbon solvents are particularly preferable, and hydrocarbon solvents having a boiling point of 100 to 250 ° C. are more preferable. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

有機薄膜形成用溶液は、シラノール縮合触媒を含有してもよい。シラノール縮合触媒は、縮合反応を促進させる作用を有する物質であれば特に限定されない。   The organic thin film forming solution may contain a silanol condensation catalyst. The silanol condensation catalyst is not particularly limited as long as it has a function of promoting the condensation reaction.

シラノール縮合触媒としては、酢酸第一スズ、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジアセテート、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジオクテート、ジオクチルスズジアセテート、ジオクタン酸第一スズ、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバルト、2−エチルヘキセン酸鉄、ジオクチルスズビスオクチリチオグリコール酸エステル塩、ジオクチルスズマレイン酸エステル塩、ジブチルスズマレイン酸塩ポリマー、ジメチルスズメルカプトプロピオン酸塩ポリマー、ジブチルスズビスアセチルアセテート、ジオクチルスズビスアセチルラウレート、チタンテトラエトキサイド、チタンテトラブトキサイド、チタンテトライソプロポキサイド、チタンビス(アセチルアセトニル)ジプロポキサイドなどの有機金属化合物;塩酸、硝酸、ホウ酸、ホウフッ化水素酸などの鉱酸;炭酸;酢酸、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機酸;パーフルオロスルホン酸/PTFE共重合体(H+型)(例えばデュポン社製ナフィオンNR50(登録商標))、ポリスチレンスルホン酸(例えば、ロームアンドハース社製アンバーリスト15(登録商標))などの固体酸;ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェートなどの光酸発生剤;チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステンおよび鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素のアルコキシド、2種以上の金属アルコキシド類の反応により得られる複合アルコキシド、1種もしくは2種以上の金属アルコキシド類と1種もしくは2種以上の金属塩との反応により得られる複合アルコキシドなどの金属アルコキシド類;金属アルコキシド類の部分加水分解生成物などを挙げることができる。これらのうち、金属アルコキシド類、金属アルコキシド類の部分加水分解生成物が好ましい。金属アルコキシド類中のアルコキシ基の炭素数は特に限定されないが、含有酸化物濃度、有機物の脱離容易性、入手容易性などから、炭素数1〜4のものが好ましい。
シラノール縮合触媒の使用量は、形成する有機薄膜の物性に影響を与えない量であれば特に制限されない。例えば、シラン1モル部に対して、酸化物換算にて、通常0.0001〜1モル部、好ましくは0.0001〜0.2モル部である。
Silanol condensation catalysts include stannous acetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctate, dibutyltin diacetate, dioctyltin dilaurate, dioctyltin dioctate, dioctyltin diacetate, stannous dioctanoate, lead naphthenate, naphthenic acid Cobalt, iron 2-ethylhexenoate, dioctyltin bisoctylthioglycolate, dioctyltin maleate, dibutyltin maleate polymer, dimethyltin mercaptopropionate polymer, dibutyltin bisacetylacetate, dioctyltin bisacetyllaur Rate, titanium tetraethoxide, titanium tetrabutoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium bis (acetylacetonyl) dipropoxide, etc. Metallic compounds; Mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid, boric acid, borohydrofluoric acid; Carbonic acid; Organic acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid; Perfluorosulfone Solid acid such as acid / PTFE copolymer (H + type) (for example, Nafion NR50 (registered trademark) manufactured by DuPont), polystyrene sulfonic acid (for example, Amberlyst 15 (registered trademark) manufactured by Rohm and Haas); diphenyliodonium Photoacid generator such as hexafluorophosphate and triphenylphosphonium hexafluorophosphate; at least one metal element selected from the group consisting of titanium, zirconium, aluminum, silicon, germanium, indium, tin, tantalum, zinc, tungsten and lead Alkoxides, 2 or more Metal alkoxides such as composite alkoxides obtained by reaction of one or more metal alkoxides with one or more metal salts; Examples thereof include partial hydrolysis products. Of these, metal alkoxides and partial hydrolysis products of metal alkoxides are preferred. The number of carbon atoms of the alkoxy group in the metal alkoxides is not particularly limited, but those having 1 to 4 carbon atoms are preferable from the viewpoint of the concentration of the contained oxide, easiness of detachment of organic substances, and availability.
The amount of silanol condensation catalyst used is not particularly limited as long as it does not affect the physical properties of the organic thin film to be formed. For example, with respect to 1 mol part of silane, it is usually 0.0001 to 1 mol part, preferably 0.0001 to 0.2 mol part in terms of oxide.

有機薄膜形成用溶液は、水を含有することが好ましい。水含有量は、シランまたはシラン多量体、シラノール縮合触媒、有機溶媒などの種類により適宜決定される。例えば、水分含有量は、好ましくは10ppm〜有機溶媒への飽和濃度、より好ましくは50ppm〜3000ppm、さらに好ましくは50ppm〜1000ppm、特に好ましくは100ppm〜1000ppmである。
なお、有機薄膜形成用溶液として、市販品を用いることができる。市販品としては、日本曹達社製SAMLAY(登録商標)などが挙げられる。
The organic thin film forming solution preferably contains water. The water content is appropriately determined depending on the type of silane or silane multimer, silanol condensation catalyst, organic solvent, and the like. For example, the water content is preferably 10 ppm to a saturated concentration in an organic solvent, more preferably 50 ppm to 3000 ppm, still more preferably 50 ppm to 1000 ppm, and particularly preferably 100 ppm to 1000 ppm.
In addition, a commercial item can be used as a solution for organic thin film formation. Examples of commercially available products include SAMLAY (registered trademark) manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.

有機薄膜形成用溶液を篩網基材の表面に接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ディップ法、スプレー法などを挙げることができる。これらの中でも、ディップ法が好ましい。   The method for bringing the organic thin film forming solution into contact with the surface of the sieve mesh substrate is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a dip method, a spray method, etc. can be mentioned. Among these, the dip method is preferable.

篩網基材表面に接触させる際における、有機薄膜形成用溶液の温度は、該溶液が安定性を保てる温度であれば、特に制限されない。通常、室温から溶液の調製に用いた溶媒の還流温度までの範囲であることができ、好ましくは15℃〜100℃、より好ましくは15℃〜70℃である。また、膜形成を促進するために超音波を用いることができる。篩網基材表面に接触させる工程は、少なくとも1回行う。接触時間は特に制限されない。   The temperature of the solution for forming an organic thin film in contact with the surface of the sieve mesh substrate is not particularly limited as long as the solution can maintain stability. Usually, it can be in the range from room temperature to the reflux temperature of the solvent used for preparing the solution, preferably 15 ° C to 100 ° C, more preferably 15 ° C to 70 ° C. In addition, ultrasonic waves can be used to promote film formation. The step of contacting the surface of the sieve mesh substrate is performed at least once. The contact time is not particularly limited.

有機薄膜形成用溶液を篩網基材表面に接触させた後、膜表面に付着した余分な試剤、不純物などを除去するために、洗浄工程を設けることができる。洗浄方法は、表面の付着物を除去できる方法であれば、特に制限されない。具体的には、溶媒中に浸漬して不純物を溶出させる方法;真空中または常圧下で大気中に放置して揮発分を蒸発させる方法;乾燥窒素ガスなどの不活性ガスを吹き付けて吹き飛ばす方法;などを挙げることができる。   After the organic thin film forming solution is brought into contact with the surface of the sieve mesh substrate, a cleaning step can be provided in order to remove excess reagents, impurities, and the like attached to the surface of the film. The cleaning method is not particularly limited as long as it can remove surface deposits. Specifically, a method of leaching impurities by immersing in a solvent; a method of evaporating volatile components by leaving in the atmosphere under vacuum or normal pressure; a method of blowing off an inert gas such as dry nitrogen gas; And so on.

篩網基材表面上に形成された有機薄膜を安定化させるために、篩網を加熱してエージングすることが好ましい。加熱温度は、有機薄膜を分解させない限り、特に限定されない。   In order to stabilize the organic thin film formed on the surface of the sieve mesh substrate, it is preferable to heat and age the sieve mesh. The heating temperature is not particularly limited as long as the organic thin film is not decomposed.

有機薄膜形成用溶液を篩網基材表面に接触させると、前記のシランまたはシラン多量体が篩網基材表面に吸着される。有機薄膜と篩網基材表面との密着性は、篩網基材表面の基とシランまたはシラン多量体中の水酸基または加水分解性基との反応によって形成されるシロキサン結合などで強化されると考えられる。さらに、隣接するシランまたはシラン多量体の間は、水酸基または加水分解性基の反応によって形成されるシロキサン結合、配位結合、水素結合、分子間力などで連結または自己組織化され膜面方向の強度が上がると考えられる。その結果、得られる有機薄膜は単分子膜になりやすい。有機薄膜の厚さは、シランまたはシラン多量体中のアルキル基の鎖長にほぼ等しい厚さになる。具体的に、有機薄膜の厚さは、2〜3nmである。   When the organic thin film forming solution is brought into contact with the surface of the sieve mesh substrate, the silane or silane multimer is adsorbed on the surface of the sieve mesh substrate. When the adhesion between the organic thin film and the surface of the sieving mesh substrate is strengthened by a siloxane bond formed by the reaction between the group on the surface of the sieving mesh substrate and the hydroxyl group or hydrolyzable group in the silane or silane multimer. Conceivable. Furthermore, adjacent silanes or silane multimers are linked or self-assembled by siloxane bonds, coordination bonds, hydrogen bonds, intermolecular forces, etc., formed by the reaction of hydroxyl groups or hydrolyzable groups, in the direction of the film surface. It is thought that strength increases. As a result, the obtained organic thin film tends to be a monomolecular film. The thickness of the organic thin film is approximately equal to the chain length of the alkyl group in the silane or silane multimer. Specifically, the thickness of the organic thin film is 2 to 3 nm.

本発明の篩網は、従来の篩網では篩分けしにくい、親水性で凝集しやすく且つ平均粒径100μm以下の超微細な粉体の篩分けに適している。係る粉体としては、小麦粉、澱粉、農医薬粉体、化学品粉体などを挙げることができる。   The sieving screen of the present invention is suitable for sieving of ultrafine powder having a mean particle size of 100 μm or less, which is difficult to be screened with a conventional sieving screen, is hydrophilic and easily aggregated. Examples of the powder include wheat flour, starch, agricultural medicine powder, and chemical powder.

以下に実施例により本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples.

実施例1 Example 1

直径20cmの円形の篩枠とそれに取り付けられた目開き45μmのSUS製篩網基材とからなる篩を用意した。前記篩を、アセトン、蒸留水、およびイソプロピルアルコールで順次洗浄し、乾燥させた。次いで、該篩を1mol/LのNa2SiO3水溶液に室温で30分間浸漬した。その後、蒸留水およびイソプロピルアルコールで順次洗浄し、乾燥させた。
この篩を、有機薄膜形成溶液(SAMLAY[登録商標] 日本曹達社製)に室温で30分間浸漬せしめた。次いで、前記篩を炭化水素系洗浄溶剤(NSクリーン100;JX日鉱日石エネルギー社製)でかけ洗いした。その後、前記炭化水素系洗浄溶剤中で1分間超音波洗浄した。洗浄溶剤から篩を取り出して、空気中100℃で10分間乾燥させて、篩網基材の表面を被覆する有機単分子膜を形成させた。該有機単分子膜の厚さは2nmであった。
A sieve composed of a circular sieve frame having a diameter of 20 cm and a SUS sieve mesh substrate having an opening of 45 μm attached thereto was prepared. The sieve was washed successively with acetone, distilled water and isopropyl alcohol and dried. Next, the sieve was immersed in a 1 mol / L Na 2 SiO 3 aqueous solution at room temperature for 30 minutes. Thereafter, it was washed successively with distilled water and isopropyl alcohol and dried.
This sieve was immersed in an organic thin film forming solution (SAMLAY [registered trademark] Nippon Soda Co., Ltd.) for 30 minutes at room temperature. Subsequently, the sieve was washed with a hydrocarbon-based cleaning solvent (NS Clean 100; manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation). Thereafter, ultrasonic cleaning was performed in the hydrocarbon-based cleaning solvent for 1 minute. The sieve was taken out from the cleaning solvent and dried in air at 100 ° C. for 10 minutes to form an organic monomolecular film covering the surface of the sieve mesh substrate. The thickness of the organic monomolecular film was 2 nm.

得られた篩を超音波振動篩装置(ミニソニック、晃栄産業社製)に装着した。超音波振動篩装置の超音波振動強度を95%にセットして、平均粒径約100μmの粉状ヒドロキシプロピルセルロース(NISSO HPC SSL;日本曹達社製)50gを20分間かけて篩い分けた。篩下捕集量は12.5g(25%)であった。   The obtained sieve was attached to an ultrasonic vibration sieve device (Minisonic, manufactured by Koei Sangyo Co., Ltd.). The ultrasonic vibration intensity of the ultrasonic vibration sieve device was set to 95%, and 50 g of powdered hydroxypropylcellulose (NISSO HPC SSL; manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) having an average particle size of about 100 μm was sieved over 20 minutes. The amount collected under the sieve was 12.5 g (25%).

比較例1
直径20cmの円形の篩枠とそれに取り付けられた目開き45μmのSUS製篩網基材とからなる篩を、超音波振動篩装置(ミニソニック、晃栄産業社製)に装着した。超音波振動篩装置の超音波振動強度を95%にセットして、平均粒径約100μmの粉状ヒドロキシプロピルセルロース(NISSO HPC SSL;日本曹達社製)50gを20分間かけて篩い分けた。篩下捕集量は9.4g(18.8%)であった。
Comparative Example 1
A sieve composed of a circular sieve frame having a diameter of 20 cm and a SUS sieve mesh substrate having an opening of 45 μm attached thereto was mounted on an ultrasonic vibration sieve device (Minisonic, manufactured by Sakae Sangyo Co., Ltd.). The ultrasonic vibration intensity of the ultrasonic vibration sieve device was set to 95%, and 50 g of powdered hydroxypropylcellulose (NISSO HPC SSL; manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) having an average particle size of about 100 μm was sieved over 20 minutes. The amount collected under the sieve was 9.4 g (18.8%).

実施例2
超音波振動篩装置の超音波振動強度強度を80%にセットし、粉状ヒドロキシプロピルセルロースの量を100gに変えた以外は、実施例1と同じ方法で篩分けを行った。篩下捕集量は16.6g(16.6%)であった。
Example 2
Sieving was carried out in the same manner as in Example 1 except that the ultrasonic vibration strength intensity of the ultrasonic vibration sieve device was set to 80% and the amount of powdery hydroxypropylcellulose was changed to 100 g. The amount collected under the sieve was 16.6 g (16.6%).

比較例2
粉状ヒドロキシプロピルセルロースの量を100gに変えた以外は、比較例1と同じ方法で篩分けを行った。篩下捕集量は10g(10%)であった。
Comparative Example 2
Sieving was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of powdered hydroxypropylcellulose was changed to 100 g. The amount collected under the sieve was 10 g (10%).

実施例および比較例の結果が示すとおり、本発明の篩網は、短時間で篩分けができる、超音波振動篩装置の強度を下げても効果がある、などの優れた性能を有している。   As the results of Examples and Comparative Examples show, the sieve mesh of the present invention has excellent performance such as being able to be screened in a short time, and being effective even if the strength of the ultrasonic vibration sieve device is lowered. Yes.

Claims (5)

篩網基材、および
置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体から形成され且つ前記篩網基材の表面を被覆する有機薄膜
を有する篩網。
Silane or multimers thereof having a structure in which one of a sieve mesh substrate and an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and three hydroxyl groups or three hydrolyzable groups are bonded to Si atoms And a sieve mesh having an organic thin film that covers the surface of the sieve mesh substrate.
有機薄膜は無機微粒子を含有しない請求項1に記載の篩網。   The sieve mesh according to claim 1, wherein the organic thin film does not contain inorganic fine particles. 有機薄膜は単分子膜である請求項1または2に記載の篩網。   The sieve mesh according to claim 1 or 2, wherein the organic thin film is a monomolecular film. 置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基がオクタデシル基である請求項1〜3のいずれかひとつに記載の篩網。   The sieve mesh according to any one of claims 1 to 3, wherein the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent is an octadecyl group. 置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基1つと、水酸基または加水分解性基3つと、がSi原子に結合する構造を成すシランまたはそれの多量体を含有する溶液に、篩網基材を接触させることを含む、有機薄膜で被覆された篩網の製造方法。   In a solution containing a silane having a structure in which one alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent and three hydroxyl groups or three hydrolyzable groups are bonded to Si atoms, or a multimer thereof, A method for producing a sieve mesh coated with an organic thin film, comprising contacting a sieve mesh substrate.
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