JP2015199639A - Manufacturing method for glass substrate and manufacturing apparatus for glass substrate - Google Patents

Manufacturing method for glass substrate and manufacturing apparatus for glass substrate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress platinum group metal from being oxidized to volatilize.SOLUTION: There is provided a manufacturing method for a glass substrate in which a molten glass is processed using a processing device which processes the molten glass. The manufacturing method for a glass substrate includes: supplying a molten glass into the processing device which has its inner wall made at least partially of a material including platinum group metal so that a vapor phase space is formed over the liquid level of the molten glass; making a gas which is inert to the platinum group metal flow into the vapor phase space; sucking the gas in the vapor phase space from an exhaust port connecting the vapor phase space and the space outside the processing device to each other; measuring the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port; and adjusting the inflow rate of the gas which is inert to the platinum metal into the vapor phase space so that the oxygen concentration is 5.0% or less.

Description

本発明は、ガラス基板を製造するガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置に関する。   The present invention relates to a glass substrate manufacturing method and a glass substrate manufacturing apparatus for manufacturing a glass substrate.

ガラス基板は、一般的に、ガラス原料から熔融ガラスを生成させた後、熔融ガラスをガラス基板へと成形する工程を経て製造される。上記の工程中には、熔融ガラスが内包する微小な気泡を除去する工程(以下、清澄ともいう)が含まれる。清澄は、清澄管の本体を加熱しながら、この清澄管本体に清澄剤を配合させた熔融ガラスを通過させ、清澄剤の酸化還元反応により熔融ガラス中の泡が取り除かれることで行われる。より具体的には、粗熔解した熔融ガラスの温度をさらに上げて清澄剤を機能させ泡を浮上脱泡させた後、温度を下げることにより、脱泡しきれずに残った比較的小さな泡は熔融ガラスに吸収させるようにしている。すなわち、清澄は、泡を浮上脱泡させる処理(以下、脱泡処理または脱泡工程ともいう)および小泡を熔融ガラスへ吸収させる処理(以下、吸収処理または吸収工程ともいう)を含む。   Generally, a glass substrate is produced through a process of forming molten glass from a glass raw material and then forming the molten glass into a glass substrate. The above process includes a process of removing minute bubbles contained in the molten glass (hereinafter also referred to as clarification). The clarification is performed by passing a molten glass containing a clarifier in the clarifier tube body while heating the clarifier tube body, and removing bubbles in the molten glass by an oxidation-reduction reaction of the clarifier. More specifically, after raising the temperature of the molten glass that has been melted and melted, the fining agent floats and defoamed, and then the temperature is lowered to melt the relatively small bubbles that remain without being defoamed. The glass is made to absorb. That is, clarification includes a process for floating and defoaming bubbles (hereinafter also referred to as a defoaming process or a defoaming process) and a process for absorbing small bubbles into molten glass (hereinafter also referred to as an absorption process or an absorbing process).

成形前の高温の熔融ガラスに接する部材の内壁は、その部材に接する熔融ガラスの温度、要求されるガラス基板の品質等に応じ、適切な材料により構成する必要がある。たとえば、上述の清澄管本体を構成する材料は、通常、白金族金属の単体又は合金が用いられていることが知られている(特許文献1)。白金族金属は、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性にも優れている。   The inner wall of the member in contact with the high-temperature molten glass before forming needs to be made of an appropriate material according to the temperature of the molten glass in contact with the member, the required quality of the glass substrate, and the like. For example, it is known that a material constituting the above-mentioned clarification tube main body is usually a simple substance or an alloy of a platinum group metal (Patent Document 1). Platinum group metals have a high melting point and are excellent in corrosion resistance against molten glass.

特開2010−111533号公報JP 2010-111533 A

白金族金属が内壁面に用いられた処理装置を熔融ガラスが通過すると、加熱された内部表面の気相空間(酸素を含む雰囲気)に接する部分において白金族金属が酸化物として揮発する。一方、白金族金属の酸化物は、処理装置の局所的に温度が低下した位置で還元され、還元された白金族金属が内壁面に付着する。内壁面に付着した白金族金属は脱泡工程中の熔融ガラス中に落下して混入し、ガラス基板に異物として混入するおそれがあった。   When the molten glass passes through the treatment apparatus in which the platinum group metal is used for the inner wall surface, the platinum group metal volatilizes as an oxide in a portion in contact with the gas phase space (atmosphere containing oxygen) on the heated inner surface. On the other hand, the oxide of the platinum group metal is reduced at a position where the temperature locally decreases in the processing apparatus, and the reduced platinum group metal adheres to the inner wall surface. The platinum group metal adhering to the inner wall surface may drop into the molten glass during the defoaming process and enter the glass substrate as a foreign substance.

本発明は、白金族金属が酸化されて揮発することを抑制し、品質の高いガラス基板を製造することができるガラス基板の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method and manufacturing apparatus of a glass substrate which can suppress that a platinum group metal is oxidized and volatilizes, and can manufacture a high quality glass substrate.

上記課題を解決するため、本発明の第1の態様は、熔融ガラスを処理する処理装置を用いて熔融ガラスを処理するガラス基板の製造方法であって、
熔融ガラスを処理する際に、
内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料からなる処理装置の内部に、熔融ガラスを、熔融ガラスの液面の上部に気相空間が形成されるように供給し、
前記気相空間内の気体を前記気相空間と前記処理装置の外部空間とを接続する排気口より吸引することで、前記気相空間に白金族金属に対して不活性なガスを流入させ、
前記排気口より吸引される気体中の酸素濃度を計測し、
前記酸素濃度が5.0%以下の範囲となるように、前記白金族金属に対して不活性なガスの流入量を調節することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, a first aspect of the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for processing molten glass using a processing apparatus for processing molten glass,
When processing molten glass,
Supplying molten glass to the inside of the processing apparatus made of a material containing a platinum group metal at least a part of the inner wall so that a gas phase space is formed above the liquid surface of the molten glass,
By sucking the gas in the gas phase space from an exhaust port connecting the gas phase space and the external space of the processing apparatus, an inert gas with respect to the platinum group metal flows into the gas phase space,
Measure the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port,
An inflow amount of a gas inert to the platinum group metal is adjusted so that the oxygen concentration is in a range of 5.0% or less.

ここで、白金族金属に対して不活性なガスとは、処理装置において熔融ガラスを処理する際の気相空間の温度において白金族金属に対して不活性な気体、白金族金属との反応性が酸素よりも低い気体であり、例えば、窒素(N)、希ガス(例えばアルゴン(Ar))、一酸化炭素(CO)等である。 Here, the gas inert to the platinum group metal is a gas inert to the platinum group metal at the temperature of the gas phase space when the molten glass is processed in the processing apparatus, and the reactivity with the platinum group metal. Is a gas lower than oxygen, for example, nitrogen (N 2 ), rare gas (eg, argon (Ar)), carbon monoxide (CO), or the like.

前記酸素濃度が5.0%以下の範囲となるように、前記排気口からの吸引圧力を調節することが好ましい。さらに、前記酸素濃度が0.1%以上3.0%以下の範囲となるように、前記白金族金属に対して不活性なガスの供給量を調節することが好ましい。   It is preferable to adjust the suction pressure from the exhaust port so that the oxygen concentration falls within a range of 5.0% or less. Furthermore, it is preferable to adjust the supply amount of the inert gas with respect to the platinum group metal so that the oxygen concentration is in the range of 0.1% to 3.0%.

前記処理装置に前記熔融ガラスの上流側および下流側より前記気相空間に前記白金族金属に対して不活性なガスを供給する、ことが好ましい。   It is preferable that an inert gas with respect to the platinum group metal is supplied to the gas phase space from the upstream side and the downstream side of the molten glass to the processing apparatus.

前記熔融ガラスの上流側から供給される前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記熔融ガラスの下流側から供給される前記白金族金属に対して不活性なガスよりも多くすることが好ましい。   The gas inert to the platinum group metal supplied from the upstream side of the molten glass may be made larger than the gas inert to the platinum group metal supplied from the downstream side of the molten glass. preferable.

前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記気相空間に流入させる前に予熱することが好ましい。例えば、前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記気相空間に流入させる前に500℃以上に予熱することが好ましい。   A gas inert to the platinum group metal is preferably preheated before flowing into the gas phase space. For example, it is preferable that a gas inert to the platinum group metal is preheated to 500 ° C. or higher before flowing into the gas phase space.

前記処理装置は、前記熔融ガラスを清澄する清澄処理装置であり、
前記清澄処理装置での前記熔融ガラスの最高温度は、1600〜1720℃であることが好ましい。
The processing device is a clarification processing device for clarifying the molten glass,
The maximum temperature of the molten glass in the clarification apparatus is preferably 1600 to 1720 ° C.

本発明の第2の態様は、熔融ガラスを清澄処理する清澄処理装置を用いて熔融ガラスを処理するガラス基板の製造装置であって、
内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料からなり、内部に熔融ガラスが供給されるとともに前記熔融ガラスの液面の上部に気相空間が形成される清澄処理装置と、
前記気相空間に酸素以外のガスを供給するガス供給装置と、
前記気相空間と前記清澄処理装置の外部空間とを接続する排気口と、
前記気相空間内の気体を前記排気口より吸引することで、前記気相空間に酸素以外のガスを流入させる吸引装置と、
前記排気口より吸引される気体中の酸素濃度を計測する酸素濃度計と、
前記酸素濃度計の計測結果に応じて、前記酸素濃度が所定の範囲となるように、前記排気口からの吸引圧力を調節する制御装置と、を備えることを特徴とする。
2nd aspect of this invention is a manufacturing apparatus of the glass substrate which processes molten glass using the clarification processing apparatus which clarifies molten glass,
A clarification treatment apparatus in which at least a part of the inner wall is made of a material containing a platinum group metal, a molten glass is supplied into the interior, and a gas phase space is formed above the liquid surface of the molten glass;
A gas supply device for supplying a gas other than oxygen to the gas phase space;
An exhaust port connecting the gas phase space and the external space of the clarification processing apparatus;
A suction device for allowing a gas other than oxygen to flow into the gas phase space by sucking the gas in the gas phase space from the exhaust port;
An oxygen concentration meter for measuring the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port;
And a control device that adjusts the suction pressure from the exhaust port so that the oxygen concentration falls within a predetermined range according to the measurement result of the oxygen concentration meter.

本発明によれば、排気口から吸引される気体中の酸素濃度が所定の範囲となるように排気口からの吸引圧力を調節することで、処理装置内の気相空間における酸素濃度を所望の範囲に調節することができる。これにより、気相空間の酸素濃度が高くなることによる白金族金属の揮発を抑制し、揮発した白金族金属の析出量を低減することができる。   According to the present invention, by adjusting the suction pressure from the exhaust port so that the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port is within a predetermined range, the oxygen concentration in the gas phase space in the processing apparatus can be set to a desired value. Can be adjusted to range. Thereby, volatilization of the platinum group metal due to an increase in the oxygen concentration in the gas phase space can be suppressed, and the deposited amount of the volatilized platinum group metal can be reduced.

ガラス基板の製造方法のフローを示す図である。It is a figure which shows the flow of the manufacturing method of a glass substrate. ガラス基板の製造装置の概略図である。It is the schematic of the manufacturing apparatus of a glass substrate. 図2に示す清澄管の概略図である。It is the schematic of the clarification pipe | tube shown in FIG. 清澄管の長手方向における鉛直断面図である。It is a vertical sectional view in the longitudinal direction of the clarification tube.

以下、本発明のガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置について説明する。
なお、本発明の「処理装置」には、熔解槽、清澄管、攪拌槽や成形装置、および、これらの間で熔融ガラスを移送する移送管、これらの装置にガラスを供給する供給管を含む。処理装置における「処理」には、ガラスの熔解処理、熔融ガラスの清澄処理、攪拌処理、成形処理、および、熔融ガラスの移送処理、供給処理が含まれる。
The glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus of the present invention will be described below.
The “processing apparatus” of the present invention includes a melting tank, a clarification pipe, a stirring tank and a molding apparatus, a transfer pipe for transferring molten glass between them, and a supply pipe for supplying glass to these apparatuses. . “Processing” in the processing apparatus includes glass melting processing, molten glass clarification processing, stirring processing, molding processing, and molten glass transfer processing and supply processing.

(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、および、切断工程(ST7)を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。
(Overall overview of glass substrate manufacturing method)
Drawing 1 is a figure showing an example of a process of a manufacturing method of a glass substrate of this embodiment. The glass substrate manufacturing method includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a supply step (ST4), a molding step (ST5), a slow cooling step (ST6), and a cutting step ( ST7) is mainly included. In addition, a grinding process, a polishing process, a cleaning process, an inspection process, a packing process, and the like may be included. The manufactured glass substrate is laminated in a packing process as necessary, and is transported to a supplier.

熔解工程(ST1)では、ガラス原料を加熱することにより熔融ガラスを作る。熔融ガラスの加熱は、熔融ガラス自身に電気を流して発熱させて加熱する通電加熱により行うことができる。さらに、バーナーの火焔による補助的に加熱しガラス原料を熔解することもできる。
なお、熔融ガラスは、清澄剤を含有する。清澄剤として、酸化スズ、亜ヒ酸、アンチモン等が知られているが、特に制限されない。しかし、環境負荷低減の点から、清澄剤として酸化スズを用いることが好ましい。
In the melting step (ST1), molten glass is made by heating the glass raw material. The molten glass can be heated by energization heating in which electricity is supplied to the molten glass to generate heat. Further, the glass raw material can be melted by auxiliary heating with a burner flame.
In addition, molten glass contains a clarifier. As a fining agent, tin oxide, arsenous acid, antimony, and the like are known, but not particularly limited. However, it is preferable to use tin oxide as a clarifying agent from the viewpoint of reducing environmental burden.

清澄工程(ST2)では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が発生する。この泡が清澄剤の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。
なお、清澄工程は、熔融ガラスに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。減圧脱泡方式は、清澄剤を用いない点で有効である。しかし、減圧脱泡方式は装置が複雑化及び大型化する。このため、清澄剤を用い、熔融ガラス温度を上昇させる清澄方法を採用することが好ましい。
In the clarification step (ST2), when the molten glass is heated, bubbles containing oxygen, CO 2 or SO 2 contained in the molten glass are generated. This bubble grows by absorbing oxygen generated by the reductive reaction of the fining agent, and floats on the liquid surface of the molten glass and is released. Thereafter, in the clarification step, by reducing the temperature of the molten glass, the reducing substance obtained by the reduction reaction of the clarifier undergoes an oxidation reaction. Thereby, gas components, such as oxygen in the bubble which remain | survives in molten glass, are reabsorbed in molten glass, and a bubble lose | disappears. The oxidation reaction and reduction reaction by the fining agent are performed by controlling the temperature of the molten glass.
In addition, the clarification process can also use the reduced pressure defoaming system which grows the bubble which exists in molten glass in a reduced pressure atmosphere, and defoams. The vacuum degassing method is effective in that no clarifier is used. However, the vacuum degassing method makes the apparatus complicated and large. For this reason, it is preferable to employ | adopt the clarification method which raises molten glass temperature using a clarifier.

均質化工程(ST3)では、スターラを用いて熔融ガラスを攪拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。
供給工程(ST4)では、攪拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。
In the homogenization step (ST3), the glass component is homogenized by stirring the molten glass using a stirrer. Thereby, the composition unevenness of the glass which is a cause of striae or the like can be reduced.
In the supplying step (ST4), the stirred molten glass is supplied to the molding apparatus.

成形工程(ST5)及び徐冷工程(ST6)は、成形装置で行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。
The molding step (ST5) and the slow cooling step (ST6) are performed by a molding apparatus.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a sheet glass to make a flow of the sheet glass. An overflow downdraw method is used for molding.
In the slow cooling step (ST6), the sheet glass that has been formed and flowed is cooled to a desired thickness, so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.
In the cutting step (ST7), the sheet glass after slow cooling is cut into a predetermined length to obtain a plate-like glass substrate. The cut glass substrate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate having a target size.

図2は、本実施形態における熔解工程(ST1)〜切断工程(ST7)を行うガラス基板の製造装置の概略図である。ガラス基板の製造装置は、図2に示すように、主に熔解装置100と、成形装置200と、切断装置300と、を有する。熔解装置100は、熔解槽101と、清澄管120と、攪拌槽103と、移送管104、105と、ガラス供給管106と、を有する。
図2に示す熔解槽101には、図示されないバーナー等の加熱手段が設けられている。熔解槽には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程(ST1)が行われる。熔解槽101で熔融した熔融ガラスは、移送管104を介して清澄管120に供給される。
清澄管120では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスの清澄工程(ST2)が行われる。清澄後の熔融ガラスは、移送管105を介して攪拌槽に供給される。
攪拌槽103では、スターラ103aによって熔融ガラスが攪拌されて均質化工程(ST3)が行われる。攪拌槽103で均質化された熔融ガラスは、ガラス供給管106を介して成形装置200に供給される(供給工程ST4)。
成形装置200では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスからシートガラスが成形され(成形工程ST5)、徐冷される(徐冷工程ST6)。
切断装置300では、シートガラスから切り出された板状のガラス基板が形成される(切断工程ST7)。
FIG. 2 is a schematic view of a glass substrate manufacturing apparatus that performs the melting step (ST1) to the cutting step (ST7) in the present embodiment. As shown in FIG. 2, the glass substrate manufacturing apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a forming apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The melting apparatus 100 includes a melting tank 101, a clarification pipe 120, a stirring tank 103, transfer pipes 104 and 105, and a glass supply pipe 106.
The melting tank 101 shown in FIG. 2 is provided with heating means such as a burner (not shown). A glass raw material to which a clarifying agent is added is charged into the melting tank, and a melting step (ST1) is performed. The molten glass melted in the melting tank 101 is supplied to the clarification tube 120 through the transfer tube 104.
In the clarification tube 120, the temperature of the molten glass MG is adjusted, and the clarification step (ST2) of the molten glass is performed using the oxidation-reduction reaction of the clarifier. The clarified molten glass is supplied to the stirring tank through the transfer pipe 105.
In the stirring vessel 103, the molten glass is stirred by the stirrer 103a and the homogenization step (ST3) is performed. The molten glass homogenized in the stirring tank 103 is supplied to the forming apparatus 200 through the glass supply pipe 106 (supply process ST4).
In the forming apparatus 200, a sheet glass is formed from molten glass by an overflow down draw method (forming step ST5) and gradually cooled (slow cooling step ST6).
In the cutting device 300, a plate-shaped glass substrate cut out from the sheet glass is formed (cutting step ST7).

(清澄管の構成)
次に、図3、図4を参照して、清澄管120の構成について説明する。図3は、実施の形態の清澄管120の構成を示す概略図であり、図4は清澄管120の長手方向における鉛直断面図である。
図3、図4に示すように、清澄管120の長さ方向の両端の外周面には、電極121a、121bが設けられており、清澄管120の気相空間と接する壁には、排気管127が設けられている。
(Configuration of clarification tube)
Next, the configuration of the clarification tube 120 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a schematic view showing the configuration of the clarification tube 120 of the embodiment, and FIG. 4 is a vertical sectional view in the longitudinal direction of the clarification tube 120.
As shown in FIGS. 3 and 4, electrodes 121 a and 121 b are provided on the outer peripheral surfaces at both ends in the length direction of the clarification tube 120, and an exhaust pipe is provided on the wall in contact with the gas phase space of the clarification tube 120. 127 is provided.

清澄管120の本体、電極121a、121bおよび排気管127は、白金族金属から構成されている。なお、本明細書において、「白金族金属」は、白金族元素からなる金属を意味し、単一の白金族元素からなる金属のみならず白金族元素の合金を含む用語として使用する。ここで、白金族元素とは、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)の6元素を指す。白金族金属は高価ではあるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性にも優れている。
なお、本実施例では、清澄管120が白金族金属から構成されている場合を具体例として説明するが、清澄管120の一部が、耐火物や他の金属などから構成されていてもよい。
The main body of the clarification tube 120, the electrodes 121a and 121b, and the exhaust pipe 127 are made of a platinum group metal. In this specification, the “platinum group metal” means a metal composed of a platinum group element, and is used as a term including not only a metal composed of a single platinum group element but also an alloy of the platinum group element. Here, the platinum group element refers to six elements of platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), and iridium (Ir). Platinum group metals are expensive, but have a high melting point and excellent corrosion resistance against molten glass.
In the present embodiment, a case where the clarification tube 120 is made of a platinum group metal will be described as a specific example. However, a part of the clarification tube 120 may be made of a refractory or other metal. .

電極121a、121bは、電源装置122に接続されている。電極121a、121bの間に電圧が印加されることにより、電極121a、121bの間の清澄管120に電流が流れて、清澄管120が通電加熱される。この通電加熱により、清澄管120の本体の最高温度が例えば、1600℃〜1750℃、より好ましくは1630℃〜1750℃となるように加熱され、移送管104から供給された熔融ガラスの最高温度は、脱泡に適した温度、例えば、1600℃〜1720℃、より好ましくは1620℃〜1720℃に加熱される。
また、通電加熱によって熔融ガラスの温度を制御することで、熔融ガラスの粘度を調節し、これにより清澄管120を通過する熔融ガラスの流速を調節することができる。
The electrodes 121 a and 121 b are connected to the power supply device 122. When a voltage is applied between the electrodes 121a and 121b, a current flows through the clarification tube 120 between the electrodes 121a and 121b, and the clarification tube 120 is energized and heated. By this energization heating, the maximum temperature of the main body of the clarification tube 120 is heated to, for example, 1600 ° C. to 1750 ° C., more preferably 1630 ° C. to 1750 ° C., and the maximum temperature of the molten glass supplied from the transfer tube 104 is The mixture is heated to a temperature suitable for defoaming, for example, 1600 ° C to 1720 ° C, more preferably 1620 ° C to 1720 ° C.
Further, by controlling the temperature of the molten glass by energization heating, the viscosity of the molten glass can be adjusted, and thereby the flow rate of the molten glass passing through the clarification tube 120 can be adjusted.

また、電極121a、121bには、図示しない温度計測装置(熱電対等)が設けられていてもよい。温度計測装置は電極121a、121bの温度を計測し、計測した結果を、制御装置123に出力する。
制御装置123は電源装置122が清澄管120に通電させる電流量を制御し、これにより清澄管120を通過する熔融ガラスの温度および流速を制御する。制御装置123は、CPU、メモリ等を含むコンピュータである。
The electrodes 121a and 121b may be provided with a temperature measurement device (thermocouple or the like) (not shown). The temperature measuring device measures the temperature of the electrodes 121 a and 121 b and outputs the measured result to the control device 123.
The control device 123 controls the amount of current that the power supply device 122 supplies to the clarification tube 120, thereby controlling the temperature and flow rate of the molten glass passing through the clarification tube 120. The control device 123 is a computer including a CPU, a memory, and the like.

なお、本実施形態において、電極121aには、清澄管120内の熔融ガラスの液面の上方の気相空間120aに酸素以外のガス(パージガス)を供給するためのパージガス供給管124aが設けられていてもよい。同様に、電極121bには、清澄管120内の熔融ガラスの液面の上方の気相空間120aにパージガスを供給するためのパージガス供給管124bが設けられていてもよい。
パージガス供給管124aはパージガス供給装置125aと接続され、パージガス供給装置125aからパージガス供給管124aを介して清澄管120内の気相空間120aに、熔融ガラスの上流側からパージガスが供給される。同様に、パージガス供給管124bはパージガス供給装置125bと接続され、パージガス供給装置125bからパージガス供給管124bを介して清澄管120内の気相空間120aに、熔融ガラスの下流側からパージガスが供給される。
パージガス供給管124a、124bの内径を調節することで、パージガス供給管124a、124bから供給されるパージガスの量を調節することができる。
In this embodiment, the electrode 121a is provided with a purge gas supply pipe 124a for supplying a gas other than oxygen (purge gas) to the gas phase space 120a above the liquid surface of the molten glass in the clarification tube 120. May be. Similarly, the electrode 121b may be provided with a purge gas supply pipe 124b for supplying a purge gas to the gas phase space 120a above the liquid surface of the molten glass in the clarification pipe 120.
The purge gas supply pipe 124a is connected to the purge gas supply apparatus 125a, and purge gas is supplied from the purge gas supply apparatus 125a to the gas phase space 120a in the clarification pipe 120 via the purge gas supply pipe 124a from the upstream side of the molten glass. Similarly, the purge gas supply pipe 124b is connected to the purge gas supply apparatus 125b, and purge gas is supplied from the purge gas supply apparatus 125b to the gas phase space 120a in the clarification pipe 120 through the purge gas supply pipe 124b from the downstream side of the molten glass. .
By adjusting the inner diameters of the purge gas supply pipes 124a and 124b, the amount of purge gas supplied from the purge gas supply pipes 124a and 124b can be adjusted.

パージガスとして、酸素以外のガス、特に白金族金属にとって不活性な気体、白金族金属との反応性が酸素よりも低い気体を用いることができる。具体的には、窒素(N)、希ガス(例えばアルゴン(Ar))、一酸化炭素(CO)等を用いることができる。取り扱いやすさから、Nガスの採用が好まれる。一方、パージガスは、清澄工程や、清澄後、ガラス温度を下げる工程において、溶融ガラスに溶け込む。ArやCOは、Nに比して、ガラス構造中において移動しやすい。そのため、熔融ガラス中に溶け込んだパージガスが気泡として生じた場合でも、熔融ガラスの移送中に再度ガラス中に取り込まれやすく、泡品質の点からはArを採用してもよい。なお、図4ではパージガスとして窒素を例に挙げて記載している。
パージガス供給装置125a、125bは制御装置123により制御され、パージガスの供給量、供給圧力が調整される。
As the purge gas, a gas other than oxygen, in particular, a gas inert to the platinum group metal or a gas having a lower reactivity with the platinum group metal than oxygen can be used. Specifically, nitrogen (N 2 ), a rare gas (eg, argon (Ar)), carbon monoxide (CO), or the like can be used. N 2 gas is preferred for ease of handling. On the other hand, the purge gas dissolves in the molten glass in the clarification step or the step of lowering the glass temperature after clarification. Ar and CO are more likely to move in the glass structure than N 2 . Therefore, even when the purge gas dissolved in the molten glass is generated as bubbles, it is easily taken into the glass again during the transfer of the molten glass, and Ar may be adopted from the viewpoint of bubble quality. In FIG. 4, nitrogen is described as an example of the purge gas.
The purge gas supply devices 125a and 125b are controlled by the control device 123, and the supply amount and supply pressure of the purge gas are adjusted.

清澄管120の気相空間と接する壁には、排気管127が設けられている。排気管127は気相空間120aの上部に設けられている。排気管127は、清澄管120における熔融ガラスの流れ方向の上流側端部と下流側端部の間の位置に設けられていることが好ましい。排気管127は、清澄管120の本体外壁面から外側に向かって煙突状に突出する形状であってもよい。排気管127は、気相空間120a(図4参照)と、清澄管120の外部空間とを連通している。   An exhaust pipe 127 is provided on the wall of the clarification pipe 120 in contact with the gas phase space. The exhaust pipe 127 is provided above the gas phase space 120a. The exhaust pipe 127 is preferably provided at a position between the upstream end and the downstream end in the flow direction of the molten glass in the clarification pipe 120. The exhaust pipe 127 may have a shape protruding in a chimney shape from the outer wall surface of the main body of the clarification pipe 120 toward the outside. The exhaust pipe 127 communicates the gas phase space 120a (see FIG. 4) with the external space of the clarification pipe 120.

排気管127には、気相空間120a内の気体を吸引する吸引装置129が設けられている。吸引装置129により排気管127側を減圧(例えば大気圧よりも10Pa程度減圧)することで、気相空間120a内の酸素およびパージガスを効率的に排出することができる。吸引装置129は制御装置123により制御される。吸引装置129による吸引圧を制御することで、気相空間120a内の酸素の濃度(酸素分圧)を低減することができる。また、吸引圧を制御することで、パージガス供給装置125a、125bから気相空間120aに供給されるパージガスの量を調節することができる。
排気管127には、酸素濃度計128が設けられている。酸素濃度計128は排気管127から吸引される気体の酸素濃度を計測し、その計測信号を制御装置123に出力する。なお、気相空間120aにパージガスを供給しない場合、排気管127から吸引される気体中の酸素分圧を計測してもよい。
The exhaust pipe 127 is provided with a suction device 129 for sucking the gas in the gas phase space 120a. By reducing the pressure on the exhaust pipe 127 side by the suction device 129 (for example, about 10 Pa from the atmospheric pressure), the oxygen and purge gas in the gas phase space 120a can be efficiently discharged. The suction device 129 is controlled by the control device 123. By controlling the suction pressure by the suction device 129, the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the gas phase space 120a can be reduced. In addition, by controlling the suction pressure, the amount of purge gas supplied from the purge gas supply devices 125a and 125b to the gas phase space 120a can be adjusted.
An oxygen concentration meter 128 is provided in the exhaust pipe 127. The oxygen concentration meter 128 measures the oxygen concentration of the gas sucked from the exhaust pipe 127 and outputs the measurement signal to the control device 123. Note that, when the purge gas is not supplied to the gas phase space 120a, the oxygen partial pressure in the gas sucked from the exhaust pipe 127 may be measured.

本実施形態では、排気管127から気相空間120a内の気体を吸引することで、清澄管120内の熔融ガラスから放出される酸素を排出することができる。また、気相空間120aにパージガス供給管124aおよびパージガス供給管124bからパージガスを供給することで、気相空間120aの酸素濃度を低下させることができる。これにより、白金族金属が酸化されて揮発することを抑制し、揮発した白金族金属が還元されることによる白金族金属の析出量を低減することができる。   In the present embodiment, oxygen released from the molten glass in the clarification tube 120 can be discharged by sucking the gas in the gas phase space 120 a from the exhaust tube 127. In addition, by supplying purge gas from the purge gas supply pipe 124a and the purge gas supply pipe 124b to the gas phase space 120a, the oxygen concentration in the gas phase space 120a can be reduced. Thereby, it can suppress that a platinum group metal is oxidized and volatilizes, and can reduce the precipitation amount of the platinum group metal by reducing the volatilized platinum group metal.

ここで、本実施形態においては、排気管127から排出される気体の酸素濃度を酸素濃度計128により計測し、酸素濃度が一定の範囲(例えば5.0%以下の範囲)となるように、パージガスの供給量が調節される。すなわち、酸素濃度計128により計測された酸素濃度の信号が制御装置123に出力され、制御装置123は酸素濃度の信号に応じてパージガス供給装置125a、125bを制御し、パージガスの供給量、供給圧力を調整する。   Here, in the present embodiment, the oxygen concentration of the gas exhausted from the exhaust pipe 127 is measured by the oxygen concentration meter 128, so that the oxygen concentration falls within a certain range (for example, a range of 5.0% or less). The supply amount of the purge gas is adjusted. That is, the oxygen concentration signal measured by the oxygen concentration meter 128 is output to the control device 123, and the control device 123 controls the purge gas supply devices 125a and 125b in accordance with the oxygen concentration signal to supply the purge gas supply amount and supply pressure. Adjust.

排気管127から吸引される気体の酸素濃度が5.0%以下の範囲となるように、排気口からの吸引圧力又はパージガスの供給量を調節することが好ましい。酸素濃度が5.0%よりも大きいと、白金族金属の揮発が促進され、揮発した白金族金属の析出量が増大するおそれがある。
また、より白金族の揮発・析出を抑制するために、酸素濃度が3.0%以下の範囲となるように、パージガスの供給量を調節することが好ましい。高解像度ディスプレイの製造に用いられるガラス基板では、太さ(径)1μm未満の僅かな欠陥も許されないが、酸素濃度を3.0%以下とすることで、太さ(径)1μm未満の針状の白金欠陥の発生を防止することができる。
It is preferable to adjust the suction pressure from the exhaust port or the supply amount of the purge gas so that the oxygen concentration of the gas sucked from the exhaust pipe 127 is in the range of 5.0% or less. If the oxygen concentration is higher than 5.0%, volatilization of the platinum group metal is promoted, and the amount of deposited volatilized platinum group metal may be increased.
In order to further suppress the volatilization / precipitation of the platinum group, it is preferable to adjust the supply amount of the purge gas so that the oxygen concentration is in the range of 3.0% or less. Glass substrates used in the production of high-resolution displays do not allow slight defects with a thickness (diameter) of less than 1 μm, but needles with a thickness (diameter) of less than 1 μm can be obtained by setting the oxygen concentration to 3.0% or less. The generation of platinum defects can be prevented.

なお、酸素濃度が0.1%未満となるようにパージガスを供給すると、パージガスにより清澄管120の温度が低下する。また、パージガス供給量、流速の増大により、熔融ガラスの液面にパージガスが吹きかかり、パージガスが熔融ガラスに溶け込む。すると、熔融ガラスの温度を下げる際に、溶け込んだパージガスの気泡が発生するおそれがある。このため、酸素濃度は0.1%以上となるようにパージガスの供給量を調節することが好ましい。パージガスによる清澄管120の温度低下を抑制するとともに、溶け込んだパージガスによる気泡の発生を抑制するため、酸素濃度が1%以上となるようにパージガスの供給量を調節することが特に好ましい。
以上のことから、酸素濃度が0.1%以上3.0%以下の範囲となるように、パージガスの供給量を調節することが好ましく、酸素濃度が1%以上3.0%以下の範囲となるように、パージガスの供給量を調節することがより好ましい。
熔融ガラスの冷却を防ぐため、パージガス供給装置125a、125bから供給されるパージガスを気相空間120aに流入させる前に予熱することが好ましい。パージガスの予熱温度は、例えば、500℃以上に予熱することが好ましい。
In addition, if purge gas is supplied so that oxygen concentration may be less than 0.1%, the temperature of the clarification pipe | tube 120 will fall with purge gas. Further, the purge gas is sprayed onto the liquid surface of the molten glass due to the increase in the supply amount and flow rate of the purge gas, and the purge gas is melted into the molten glass. Then, when the temperature of the molten glass is lowered, there is a possibility that bubbles of the purge gas that has melted are generated. For this reason, it is preferable to adjust the supply amount of the purge gas so that the oxygen concentration becomes 0.1% or more. It is particularly preferable to adjust the supply amount of the purge gas so that the oxygen concentration becomes 1% or more in order to suppress the temperature drop of the clarification tube 120 due to the purge gas and to suppress the generation of bubbles due to the dissolved purge gas.
From the above, it is preferable to adjust the supply amount of the purge gas so that the oxygen concentration is in the range of 0.1% to 3.0%, and the oxygen concentration is in the range of 1% to 3.0%. More preferably, the supply amount of the purge gas is adjusted.
In order to prevent the molten glass from cooling, it is preferable to preheat the purge gas supplied from the purge gas supply devices 125a and 125b before flowing into the gas phase space 120a. The preheating temperature of the purge gas is preferably preheated to 500 ° C. or higher, for example.

清澄管120内の熔融ガラスから放出される酸素の量は、熔融ガラスの上流側のほうが下流側よりも多いため、熔融ガラスの上流側から供給されるパージガスを、熔融ガラスの下流側から供給されるパージガスよりも多くすることが好ましい。すなわち、パージガス供給管124aから供給されるパージガスの量を、パージガス供給管124bから供給されるパージガスの量よりも多くすることが好ましい。パージガス供給管124aから供給されるパージガスの量をパージガス供給管124bから供給されるパージガスの量よりも多くすることで、熔融ガラスから放出される酸素をより効率的にパージガスで希釈して排出することができる。   Since the amount of oxygen released from the molten glass in the clarification tube 120 is higher on the upstream side of the molten glass than on the downstream side, the purge gas supplied from the upstream side of the molten glass is supplied from the downstream side of the molten glass. It is preferable to use more than the purge gas. That is, it is preferable that the amount of purge gas supplied from the purge gas supply pipe 124a is larger than the amount of purge gas supplied from the purge gas supply pipe 124b. By making the amount of purge gas supplied from the purge gas supply pipe 124a larger than the amount of purge gas supplied from the purge gas supply pipe 124b, oxygen released from the molten glass is more efficiently diluted with the purge gas and discharged. Can do.

以上、本発明のガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。上記の説明では処理装置として清澄管を例として説明したが、本発明はこれに限らず、熔解槽、攪拌槽や成形装置、移送管、供給管に本発明を適用してもよい。   As mentioned above, although the manufacturing method of the glass substrate of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the main point of this invention, you may make various improvement and a change. Of course. In the above description, a clarification tube has been described as an example of the processing apparatus. However, the present invention is not limited to this, and the present invention may be applied to a melting tank, a stirring tank, a molding apparatus, a transfer pipe, and a supply pipe.

本実施形態の製造方法により製造されるガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ELディスプレイ用ガラス基板、カバーガラスに好適に用いられる。その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、ポリシリコンTFTを用いた液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。   The glass substrate manufactured by the manufacturing method of this embodiment is used suitably for the glass substrate for liquid crystal displays, the glass substrate for organic EL displays, and a cover glass, for example. In addition, it can be used as a display for a portable terminal device, a cover glass for a casing, a touch panel plate, a glass substrate of a solar cell, or a cover glass. Particularly, it is suitable for a glass substrate for a liquid crystal display using a polysilicon TFT.

100 熔解装置
101 熔解槽
103 攪拌槽
104、105 移送管
106 ガラス供給管
120 清澄槽
121a、121b 電極
122 電源装置
123 制御装置
124a、124b パージガス供給管
125a、125b パージガス供給装置
127 排気管
128 酸素濃度計
129 吸引装置
200 成形装置
300 切断装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Melting apparatus 101 Melting tank 103 Stirring tank 104, 105 Transfer pipe 106 Glass supply pipe 120 Clarification tank 121a, 121b Electrode 122 Power supply apparatus 123 Control apparatus 124a, 124b Purge gas supply pipe 125a, 125b Purge gas supply apparatus 127 Exhaust pipe 128 Oxygen meter 129 Suction device 200 Molding device 300 Cutting device

Claims (9)

熔融ガラスを処理する処理装置を用いて熔融ガラスを処理するガラス基板の製造方法であって、
熔融ガラスを処理する際に、
内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料からなる処理装置の内部に、熔融ガラスを、熔融ガラスの液面の上部に気相空間が形成されるように供給し、
前記気相空間内の気体を前記気相空間と前記処理装置の外部空間とを接続する排気口より吸引することで、前記気相空間に白金族金属に対して不活性なガスを流入させ、
前記排気口より吸引される気体中の酸素濃度を計測し、
前記酸素濃度が5.0%以下の範囲となるように、前記白金族金属に対して不活性なガスの前記気相空間への流入量を調節する、ガラス基板の製造方法。
A method for manufacturing a glass substrate for processing molten glass using a processing apparatus for processing molten glass,
When processing molten glass,
Supplying molten glass to the inside of the processing apparatus made of a material containing a platinum group metal at least a part of the inner wall so that a gas phase space is formed above the liquid surface of the molten glass,
By sucking the gas in the gas phase space from an exhaust port connecting the gas phase space and the external space of the processing apparatus, an inert gas with respect to the platinum group metal flows into the gas phase space,
Measure the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port,
A method for producing a glass substrate, wherein an inflow amount of a gas inert to the platinum group metal into the gas phase space is adjusted so that the oxygen concentration is in a range of 5.0% or less.
前記酸素濃度が5.0%以下の範囲となるように、前記排気口からの吸引圧力を調整する、請求項1に記載のガラス基板の製造方法。   The manufacturing method of the glass substrate of Claim 1 which adjusts the suction pressure from the said exhaust port so that the said oxygen concentration may become the range of 5.0% or less. 前記酸素濃度が0.1%以上3.0%以下の範囲となるように、前記白金族金属に対して不活性なガスの供給量を調節する、請求項2に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 2, wherein a supply amount of an inert gas with respect to the platinum group metal is adjusted so that the oxygen concentration is in a range of 0.1% to 3.0%. . 前記処理装置に前記熔融ガラスの上流側および下流側より前記気相空間に白金族金属に対して不活性なガスを供給する、請求項2又は3に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 2 or 3, wherein an inert gas with respect to a platinum group metal is supplied to the processing apparatus from the upstream side and the downstream side of the molten glass into the gas phase space. 前記熔融ガラスの上流側から供給される前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記熔融ガラスの下流側から供給される前記白金族金属に対して不活性なガスよりも多くする、請求項4に記載のガラス基板の製造方法。   The gas inert to the platinum group metal supplied from the upstream side of the molten glass is made larger than the gas inert to the platinum group metal supplied from the downstream side of the molten glass. Item 5. A method for producing a glass substrate according to Item 4. 前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記気相空間に流入させる前に予熱する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein a gas inert to the platinum group metal is preheated before flowing into the gas phase space. 前記白金族金属に対して不活性なガスを、前記気相空間に流入させる前に500℃以上に予熱する、請求項6に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 6, wherein a gas inert to the platinum group metal is preheated to 500 ° C. or higher before flowing into the gas phase space. 前記処理装置は、前記熔融ガラスを清澄する清澄処理装置であり、
前記清澄処理装置での前記熔融ガラスの最高温度は、1600〜1720℃である、請求項1〜7のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。
The processing device is a clarification processing device for clarifying the molten glass,
The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of Claims 1-7 whose maximum temperature of the said molten glass in the said clarification processing apparatus is 1600-1720 degreeC.
熔融ガラスを清澄処理する清澄処理装置を用いて熔融ガラスを処理するガラス基板の製造装置であって、
内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料からなり、内部に熔融ガラスが供給されるとともに前記熔融ガラスの液面の上部に気相空間が形成される清澄処理装置と、
前記気相空間に酸素以外のガスを供給するガス供給装置と、
前記気相空間と前記清澄処理装置の外部空間とを接続する排気口と、
前記気相空間内の気体を前記排気口より吸引することで、前記気相空間に酸素以外のガスを流入させる吸引装置と、
前記排気口より吸引される気体中の酸素濃度を計測する酸素濃度計と、
前記酸素濃度計の計測結果に応じて、前記酸素濃度が所定の範囲となるように、前記排気口からの吸引圧力を調節する制御装置と、を備える、ガラス基板の製造装置。
A glass substrate manufacturing apparatus for processing molten glass using a clarification processing apparatus for clarifying molten glass,
A clarification treatment apparatus in which at least a part of the inner wall is made of a material containing a platinum group metal, a molten glass is supplied into the interior, and a gas phase space is formed above the liquid surface of the molten glass;
A gas supply device for supplying a gas other than oxygen to the gas phase space;
An exhaust port connecting the gas phase space and the external space of the clarification processing apparatus;
A suction device for allowing a gas other than oxygen to flow into the gas phase space by sucking the gas in the gas phase space from the exhaust port;
An oxygen concentration meter for measuring the oxygen concentration in the gas sucked from the exhaust port;
A glass substrate manufacturing apparatus, comprising: a control device that adjusts a suction pressure from the exhaust port so that the oxygen concentration falls within a predetermined range according to a measurement result of the oxygen concentration meter.
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