JP2015192969A - 除菌水生成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施形態に係る除菌水生成装置が、システムキッチンのシンクに取り付けられた状態を示す図である。図1(a)はシステムキッチンの斜視図を、図1(b)はシステムキッチンの引出しを開放した状態を示す斜視図を、図1(c)はシステムキッチンを正面から見た状態において内部構成を模式的に表した図をそれぞれ表す。なお、シンクSKは、複数の引出(DR1、DR2)を有するキャビネットCBの上面側に形成される。
続いて、除菌水生成機構300のうち、タンク330周辺の構成と作用について、図2〜図5を用いて説明する。上述のように、タンク330は、供給配管SWから供給された水を貯留するものである。図2に示すように、タンク330は直方体形状をなし、供給配管SW、吐水配管WR及びオーバーフロー配管OF以外の部分は外気に対して気密状態に形成されている。特に、供給配管SWと吐水配管WRとは、給水時及び吐水時には、水によりシールされるため、給水及び吐水時は、オーバーフロー配管OFを除いて気密状態になる。
正極:2H2O→4H++O2+4e− (1)
負極:4H2O+4e−→2H2+4OH− (2)
正極:2Cl−→Cl2+2e− (3)
Cl2+H2O→HClO+H2+Cl−(4)
HClO→ClO−+H+ (5)
次に、塩カートリッジ360の詳細な構成と作用について、図6〜図8を参照して説明する。図6(a)は、塩カートリッジ360の全体構成を示す斜視図であり、図6(b)は、塩カートリッジ360上を流れる水の進路を模式的に表した図である。
以下、上述した除菌水生成装置WDの構成を前提として制御装置によって実現される制御パターンについて図9及び図10を用いて説明する。
上述のように、本実施形態の除菌水生成装置WDでは、タンク330に貯留した希釈水又は除菌水の水面上には空気の層による空間が存在している。すなわち、タンク330上部には、給水口331とタンク330に貯留する水との間に気体を残留させて、タンク330に貯留した水を供給配管SW側へ逆流させない縁切り空間を設けている。また、タンク330は、オーバーフロー配管OFを除いて、給水時又は吐水時には気密状態になる。そのため、タンク330では、内部は高湿度状態となっており、このような高湿度状態で縁切り空間のような空気層が存在すると、菌が繁殖しやすい環境になる。
また、制御装置は、上述のような所定時間ごとの電解槽370の制御に加え、タンクへ330への給水と、タンク330内に貯留した水の排出を制御することで縁切り空間における菌の繁殖を防止することができる。すなわち、制御装置は、所定時間ごとにタンク330内に貯留した水を排出するとともに、タンク330への給水を行う。具体的には、図1でポンプ350を駆動して除菌水を排出するとともに、電磁弁310を制御してタンク330に給水を行う。このようにして、タンク330内の除菌水を入れ替えつつ、電解槽370を制御して、タンク330の内に貯留した水を再度電気分解して除菌水を生成するようにする。
上述のように、本実施形態の除菌水生成装置WDでは、予めタンク330に除菌水を貯留し、貯留した除菌水を吐水するものである。したがって、タンク330の容量以上の連続吐水ができず、一度生成した除菌水を使用したあとは、新たに除菌水を生成するまでにタイムラグが発生し、使用者は、一定時間、除菌水を利用できなくなる場合がある。
本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、例えば、次の態様も包含するものである。上記実施形態において、図2を用いて、タンク330は給水時及び吐水時において、オーバーフロー配管OF以外の部分は外気に対して気密状態に形成されているとし、供給配管SWの給水していない状態については言及していない。この点、本発明では、図11に示すように、供給配管SWの電磁弁310下流側に、気体交換手段として通気弁通気弁380を設けて構成することもできる。すなわち、図11(a)は、給水時に通気弁380は、電磁弁310側からの水を流すことで、供給配管SWが気密状態になっていることを示し、図11(b)は、非給水時に、通気弁380が大気開放することで、タンク330内のガスGが供給配管SWを通過して排出されることを示している。
200:除菌用スパウト
300:除菌水生成機構
310:電磁弁
320:流量調整弁
330:タンク
331:給水口
332:吐水口
332:吐水口
333:オーバーフロー口
334:噴出口
340:水位センサ
350:ポンプ
360:塩カートリッジ
360A:取付け部
360B:固定部
360C:機能部
361:孔
362,362a,362b:ガイド
363:バイパス
370:電解槽
380:通気弁
400:止水栓
CB:キャビネット
D:排水口
DW:希釈水
EW:除菌水
G:ガス
OF:オーバーフロー配管
S:着水位置
SK:シンク
SS:固体塩
SSS:飽和塩水
SW:供給配管
W:水
WC:循環配管
WD:除菌水生成装置
WR:吐水配管
Claims (5)
- 次亜塩素酸を含む除菌水を生成し吐出する除菌水生成装置であって、
外部から供給された水が通る給水路と、
前記給水路から給水口を通して水が供給され内部に水を貯留したタンクと、
前記タンクに貯留した水を吐水口へ導く吐水路と、
前記給水口から前記タンク内に供給される水に塩水を添加する塩水供給手段と、
前記塩水供給手段により塩水が添加された水を前記タンク内で電気分解することにより除菌水を生成する除菌水生成手段と、
前記タンク内の水位に応じて、前記給水路から前記タンクへの給水を制御する制御手段と、を備え、
前記タンクには、前記タンクへの給水を行う最低水位と、前記最低水位よりも高い水位を示す除菌水補充水位とが設けられ、
前記制御手段は、前記タンク内の水位が、前記除菌水補充水位を下回った際に、前記吐水口からの吐水が継続している場合には前記給水を行わず、前記吐水口からの吐水が停止した場合には前記給水を行うことを特徴とする除菌水生成装置。 - 前記制御手段は、前記タンクに貯留した水を排出したのち、前記タンクへの給水を行うことで、除菌水を入れ替える除菌水入替機能を有することを特徴とする請求項1記載の除菌水生成装置。
- 前記除菌水入替機能は、前回の除菌水の入替えから、所定時間が経過し又は前記除菌水補充水位を所定回数下回った場合に実行されるものであり、
前記制御手段は、前記タンク内の水位が前記最低水位になって給水がなされたことを、除菌水の入替えと判断することを特徴とする請求項2記載の除菌水生成装置。 - 前記制御手段は、前記タンク内の水位が前記除菌水補充水位を下回った際に前記吐水口からの吐水が停止した場合に、当該停止から所定時間経過後に前記タンクへの給水を開始することを特徴とする請求項1記載の除菌水生成装置。
- 前記制御手段は、前記タンク内の水位が前記除菌水補充水位を下回った際に、当該下回ったことを報知する報知手段を設けたことを特徴とする請求項1記載の除菌水生成装置。
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2014
- 2014-03-31 JP JP2014073046A patent/JP6331006B2/ja active Active
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