JP2015188036A - substrate processing apparatus - Google Patents

substrate processing apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2015188036A
JP2015188036A JP2014065286A JP2014065286A JP2015188036A JP 2015188036 A JP2015188036 A JP 2015188036A JP 2014065286 A JP2014065286 A JP 2014065286A JP 2014065286 A JP2014065286 A JP 2014065286A JP 2015188036 A JP2015188036 A JP 2015188036A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing apparatus
substrate processing
stage
wire
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014065286A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
上林 誠
Makoto Kamibayashi
誠 上林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2014065286A priority Critical patent/JP2015188036A/en
Priority to KR1020150038897A priority patent/KR101657883B1/en
Priority to CN201510142138.XA priority patent/CN104950485A/en
Publication of JP2015188036A publication Critical patent/JP2015188036A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology for efficiently attaching/removing a wire to/from a stage on which a substrate is thermally processed.SOLUTION: A wire 3 is disposed on a surface of a stage 2 on which heating treatment is performed to a substrate 90. The wire 3 is folded at the lateral side of the stage 2 to continuously traverse the surface of the stage 2 several times. Multiple hooks 41, on which the wire 3 hooks, are provided at a long member 40 disposed at a side part of the stage 2. The long member 40 is connected with a fixed part 23 fixed to the stage 2 through multiple elastic members 54. The long member 40 is biased to the lower side by the multiple elastic members 54 thereby causing the wire 3 hooking on the hooks 41 to be pulled.

Description

この発明は、基板を熱的に処理する技術に関する。   The present invention relates to a technique for thermally processing a substrate.

例えば、液晶表示装置(LCD)の製造工程の一つに、LCD向けのガラス基板に所定のパターンを形成するフォトフィソグラフィがある。このフォトフィソグラフィでは、一般的に、洗浄したガラス基板を乾燥させるデハイドベーク処理や、ガラス基板に塗布されたレジストを固めるプリベーク処理、現像後におけるポストベーク処理などの熱的処理が行われている。   For example, as one of the manufacturing processes of a liquid crystal display device (LCD), there is photolithography that forms a predetermined pattern on a glass substrate for LCD. In this photophysography, in general, thermal processing such as dehydration processing for drying a cleaned glass substrate, pre-baking processing for solidifying a resist applied to the glass substrate, and post-baking processing after development is performed. .

このような熱的処理を行う処理ユニットとしては、ホットプレートまたはコールドプレートなどで構成されたステージ上に、ガラス基板を載置し、ステージを加熱または冷却することによって、基板を熱的に処理するものが知られている。また、ステージの表面には、複数のプロミキシティピンが分散して設けられ、ガラス基板がステージに直接接しないようにすることが一般的である。   As a processing unit for performing such thermal processing, a glass substrate is placed on a stage constituted by a hot plate or a cold plate, and the substrate is thermally processed by heating or cooling the stage. Things are known. In general, a plurality of proximity pins are distributed on the surface of the stage so that the glass substrate does not directly contact the stage.

また、ステージのプロミキシティピンを設ける代わりに、ステージの表面に複数の線材を配置し、この複数の線材の上に基板を載置することも提案されている(例えば、特許文献1)。   Moreover, it is also proposed to place a plurality of wire rods on the surface of the stage and place a substrate on the plurality of wire rods instead of providing stage proximate pins (for example, Patent Document 1).

特開2004−179384号公報JP 2004-179384 A

しかしながら、特許文献1に記載の基板処理装置では、複数本の線材が、ホットプレートの長手方向に所定の間隔をあけて配置されている。そして各線材は、ホットプレートの側部に設けられた複数の線材固定治具を用いて、一本ずつ固定されている。このため、ホットプレートに各線材を取り付ける場合、線材固定治具に対して一本ずつ線材を取り付けていく必要があり、作業が煩雑であった。また、線材をステージから取り外す際にも、線材固定治具から線材を一本ずつ取り外さなければならないため、作業が煩雑であった。このため、ステージ表面のメンテナンスを容易に行うことができなかった。   However, in the substrate processing apparatus described in Patent Document 1, a plurality of wire rods are arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction of the hot plate. Each wire is fixed one by one using a plurality of wire fixing jigs provided on the side of the hot plate. For this reason, when attaching each wire to a hot plate, it was necessary to attach one wire at a time to a wire fixing jig, and the work was complicated. Also, when removing the wire from the stage, it is necessary to remove the wire from the wire fixing jig one by one, which is complicated. For this reason, maintenance of the stage surface could not be performed easily.

そこで、本発明は、基板を熱的に処理するステージに対する線材の取り付けおよび取り外しを効率よく行う技術を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a technique for efficiently attaching and detaching a wire to a stage that thermally processes a substrate.

上記の課題を解決するため、第1の態様は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を熱的処理するステージと、前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する1本以上の線材と、前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部とを備える。   In order to solve the above-described problem, a first aspect is a substrate processing apparatus for processing a substrate, the stage for thermally processing the substrate, and the surface of the stage disposed on the surface of the stage and folded back. One or more wire rods that continuously traverse a plurality of times, and a positioning portion that contacts a folded portion of the wire rod and defines a transverse position of the wire rod on the surface of the stage.

また、第2の態様は、第1の態様に係る基板処理装置であって、前記位置決め部は、前記ステージの側部に配置されている長尺部と、前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部とを備えている。   Moreover, a 2nd aspect is the substrate processing apparatus which concerns on a 1st aspect, Comprising: The said positioning part is attached to the elongate part arrange | positioned at the side part of the said stage, and the said elongate part. In addition, a plurality of hooks for hooking the wire rod are provided.

また、第3の態様は、第2の態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、をさらに備える。   Moreover, a 3rd aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 2nd aspect, Comprising: The biasing mechanism which pulls the said wire material hooked on the said latching part by biasing the said elongate part is further provided. Prepare.

また、第4の態様は、第3の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構は、前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、を備えている。   Moreover, a 4th aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 3rd aspect, Comprising: The said urging | biasing mechanism has connected between the fixed part in the said elongate part and the said stage, The said elongate part is And an elastic member that urges toward the fixed portion.

また、第5の態様は、第3または第4の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、をさらに備えている。   Further, the fifth aspect is a substrate processing apparatus according to the third or fourth aspect, further comprising a detector that detects the movement of the long portion in the direction biased by the biasing mechanism. I have.

また、第6の態様は、第2から第5の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する。   A sixth aspect is a substrate processing apparatus according to any one of the second to fifth aspects, wherein the long portion is a structure for attaching the latching portion, and It has an attachment structure in which the attachment position of the hooking portion in the scale portion is variable.

また、第7の態様は、第6の態様に係る基板処理装置であって、前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である。   Moreover, a 7th aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 6th aspect, Comprising: The said attachment structure is a structure which attaches | detaches the said latching part with respect to a elongate part so that attachment or detachment is possible.

また、第8の態様は、第2から第7の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する。   Further, an eighth aspect is the substrate processing apparatus according to any one of the second to seventh aspects, wherein the long portions are arranged in a row along the stage. It has a long member.

また、第9の態様は、第2から第8の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、を有する。   Further, a ninth aspect is the substrate processing apparatus according to any one of the second to eighth aspects, wherein the long portion winds and holds the end of the wire, Have

また、第10の態様は、第1から第9の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記1本以上の線材は、第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部とを含み、前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する。   A tenth aspect is a substrate processing apparatus according to any one of the first to ninth aspects, wherein the one or more wires cross the surface of the stage along a first direction. A first linear portion and a plurality of second linear portions that cross the surface of the stage along a direction intersecting the first direction, and the first linear portion includes the plurality of second linear portions. When intersecting the two linear parts, the upper and lower positions of each second linear part pass alternately.

第1の態様に係る基板処理装置によると、線材を折り返すことによってステージの表面を横断させるため、ステージを横断させる位置毎に線材を一本ずつ固定する場合に比べて、線材の取り付け作業を簡略化できる。また、取り外しの際にも、一本ずつ固定されている場合に比べて、作業が容易である。したがって、線材の取り付けおよび取り外しを効率よくできるという効果を奏する。   According to the substrate processing apparatus according to the first aspect, since the surface of the stage is crossed by folding the wire, it is easier to attach the wire than when fixing one wire at each position where the stage is crossed. Can be In addition, the work can be easily performed at the time of removal as compared with the case where the pieces are fixed one by one. Therefore, there is an effect that the wire can be efficiently attached and detached.

また、第2の態様に係る基板処理装置によると、掛止部に線材を引っ掛けることによって、線材に折り返すことができる。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 2nd aspect, it can be return | folded to a wire by hooking a wire to a latching | locking part.

また、第3の態様に係る基板処理装置によると、付勢機構によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 3rd aspect, since a wire can be pulled by an urging | biasing mechanism, a wire can be arrange | positioned favorably on a stage surface.

また、第4の態様に係る基板処理装置によると、弾性部材によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 4th aspect, since a wire can be pulled with an elastic member, a wire can be arrange | positioned favorably on a stage surface.

また、第5の態様に係る基板処理装置によると、線材の延びあるいは切断によって発生する長尺部材の移動を検出できるため、線材のメンテナンス時期を把握でき、プロセス不良を未然に抑制できるという効果を奏する。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 5th aspect, since the movement of the elongate member which generate | occur | produces by extension or a cutting | disconnection of a wire can be detected, the maintenance time of a wire can be grasped | ascertained and the effect that process failure can be suppressed beforehand. Play.

また、第6の態様に係る基板処理装置によると、掛止部の取り付け位置が可変であるため、掛止部の取り付け位置を自由に変更できる。したがって、ステージ2における線材の横断位置を変更できるという効果を奏する。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 6th aspect, since the attachment position of a latching part is variable, the attachment position of a latching part can be changed freely. Therefore, there is an effect that the crossing position of the wire in the stage 2 can be changed.

また、第7の態様に係る基板処理装置によると、掛止部が着脱可能であるため、必要に応じて掛止部を取り付けまたは取り外しできる。したがって、掛止部の数量を必要な数に抑えることができるため、部品コストを抑制できるという効果を奏する。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 7th aspect, since a latching part is detachable, a latching part can be attached or removed as needed. Therefore, since the number of the latching portions can be suppressed to a necessary number, there is an effect that the component cost can be suppressed.

また、第8の態様に係る基板処理装置によると、長尺部の一部である長尺部材毎に交換できる。このため、長尺部を単一の部材で構成する場合に比べて、長尺部のメンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on an 8th aspect, it can replace | exchange for every elongate member which is a part of elongate part. For this reason, the maintenance of a long part becomes easy compared with the case where a long part is comprised with a single member. Further, since only partial replacement is required, the cost of parts related to replacement can be suppressed.

また、第9の態様に係る基板処理装置によると、巻取部によって、余った線材の部分を巻き取って保持できるという効果を奏する。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 9th aspect, there exists an effect that the part of the excess wire can be wound up and hold | maintained by the winding-up part.

また、第10の態様に係る基板処理装置によると、第一線状部および第二線状部が交差する部分において、基板を点状に支持することができる。これによって、基板と線材との接触面積を低減することができる。したがって、基板を良好に熱的に処理できるという効果を奏する。   Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 10th aspect, a board | substrate can be supported in the shape of a dot in the part which a 1st linear part and a 2nd linear part cross | intersect. Thereby, the contact area between the substrate and the wire can be reduced. Therefore, there is an effect that the substrate can be thermally processed satisfactorily.

第1実施形態に係る基板処理装置を備えた基板処理システムを示す概略平面図である。1 is a schematic plan view showing a substrate processing system including a substrate processing apparatus according to a first embodiment. 第1実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。1 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus according to a first embodiment. +X側から見た第1実施形態に係る基板処理装置を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows the substrate processing apparatus which concerns on 1st Embodiment seen from the + X side. 図2に示されるIV−IV位置から見た基板処理装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the substrate processing apparatus seen from the IV-IV position shown by FIG. 一対の板状部材がステージから取り外された基板処理装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the substrate processing apparatus with which a pair of plate-shaped member was removed from the stage. 第1実施形態の変形例に係る基板処理装置を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows the substrate processing apparatus which concerns on the modification of 1st Embodiment. 第2実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the substrate processing apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 図7に示されるVIII−VIII位置から見た基板処理装置を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the substrate processing apparatus seen from the VIII-VIII position shown by FIG. 第2実施形態に係る長尺部材を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the elongate member which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態の変形例に係る長尺部材を示す部分概略図である。It is the partial schematic which shows the elongate member which concerns on the modification of 2nd Embodiment. 図10に示されるXI−XI位置から見た長尺部材を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the elongate member seen from the XI-XI position shown by FIG. 線材の配置例1−配置例4を示す図である。It is a figure which shows the example 1 of arrangement | positioning 1 of a wire. 線材を交差するように配置する配置例を示す部分概略断面図である。It is a partial schematic sectional drawing which shows the example of arrangement | positioning arrange | positioned so that a wire may cross | intersect.

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the component described in this embodiment is an illustration to the last, and is not a thing of the meaning which limits the scope of the present invention only to them. In the drawings, the size and number of each part may be exaggerated or simplified as necessary for easy understanding.

{1. 第1実施形態}
<基板処理システム100>
図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1を備えた基板処理システム100を示す概略平面図である。基板処理システム100は、液晶表示装置(LCD)の画面パネルを製造するための角形ガラス基板90(以下、単に基板90と称する。)を処理する。
{1. First Embodiment}
<Substrate processing system 100>
FIG. 1 is a schematic plan view showing a substrate processing system 100 including a substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment. The substrate processing system 100 processes a rectangular glass substrate 90 (hereinafter simply referred to as a substrate 90) for manufacturing a liquid crystal display (LCD) screen panel.

基板処理システム100は、搬入部10、洗浄部11、デハイドベーク部12、塗布部13、減圧乾燥部14およびプリベーク部としての基板処理装置1を備えている。図1に示されるように、搬入部10、洗浄部11、デハイドベーク部12、塗布部13、減圧乾燥部14およびとしての基板処理装置1(プリベーク部)は、この順に、一方向(方向D1)に沿って直線状に隣接するように配置されている。   The substrate processing system 100 includes a substrate processing apparatus 1 as a carry-in unit 10, a cleaning unit 11, a dehydrated bake unit 12, a coating unit 13, a vacuum drying unit 14, and a prebake unit. As shown in FIG. 1, the carry-in unit 10, the cleaning unit 11, the dehydrated bake unit 12, the coating unit 13, the vacuum drying unit 14, and the substrate processing apparatus 1 (prebake unit) are arranged in one direction (direction D <b> 1) in this order. Are arranged so as to be linearly adjacent to each other.

搬入部10は、基板処理システム100において処理される基板90を受け入れる部分である。洗浄部11は、搬入部10に搬入された基板90を洗浄して清浄化する。デハイドベーク部12は、洗浄部11にて洗浄液が付着した基板90を乾燥する。   The carry-in unit 10 is a part that receives a substrate 90 to be processed in the substrate processing system 100. The cleaning unit 11 cleans and cleans the substrate 90 carried into the carry-in unit 10. The dehydrated bake unit 12 dries the substrate 90 to which the cleaning liquid is adhered in the cleaning unit 11.

塗布部13は、デハイドベーク部12で乾燥された基板90の表面に処理液(ここでは、レジスト液)を塗布する。減圧乾燥部14は、塗布部13で塗布された処理液を減圧乾燥させる。プリベーク部としての基板処理装置1は、基板90を加熱することによって処理液を固化させ、基板90に処理液の薄膜を形成する。   The application unit 13 applies a treatment solution (here, a resist solution) to the surface of the substrate 90 dried by the dehydration bake unit 12. The vacuum drying unit 14 vacuum-drys the treatment liquid applied by the coating unit 13. The substrate processing apparatus 1 as the pre-baking unit heats the substrate 90 to solidify the processing liquid, and forms a thin film of the processing liquid on the substrate 90.

また、基板処理システム100は、処理液の薄膜が形成された基板90の表面に対して、所要の回路パターン状に露光する露光部15を備えている。露光部15は方向D1に直交する方向D2に延びている。露光部15の一方側の部分は、プリベーク部としての基板処理装置1に隣接しており、露光部15の他方側の部分は、現像部16に隣接している。   The substrate processing system 100 also includes an exposure unit 15 that exposes the surface of the substrate 90 on which a thin film of processing solution is formed in a required circuit pattern. The exposure unit 15 extends in a direction D2 orthogonal to the direction D1. A part on one side of the exposure unit 15 is adjacent to the substrate processing apparatus 1 as a pre-baking unit, and a part on the other side of the exposure unit 15 is adjacent to the developing unit 16.

基板処理システム100は、さらに、現像部16、リンス部17、ポストベーク部18および搬出部19を備えている。現像部16は、露光部15において露光された基板90を現像液に浸して、現像処理する。リンス部17は、現像部16にて現像処理した基板90をリンス液ですすぐことによって、現像処理の進行を停止させる。   The substrate processing system 100 further includes a developing unit 16, a rinse unit 17, a post-bake unit 18, and a carry-out unit 19. The developing unit 16 performs a development process by immersing the substrate 90 exposed in the exposing unit 15 in a developer. The rinsing unit 17 stops the development process by rinsing the substrate 90 developed by the developing unit 16 with a rinsing solution.

ポストベーク部18は、基板90を加熱することによって、基板90に付着したリンス液を除去する。搬出部19は、基板処理システム100において処理が完了した基板90を外部に搬出する部分である。現像部16、リンス部17、ポストベーク部18および搬出部19は、上記方向D1とは反対の方向D3に沿って直線状に隣接するように配置されている。基板処理システム100においては、基板90が露光部15においてUターンするように、処理の進行方向が方向D1から方向D3に変更される。   The post-bake unit 18 removes the rinse liquid adhering to the substrate 90 by heating the substrate 90. The carry-out unit 19 is a part that carries out the substrate 90 that has been processed in the substrate processing system 100 to the outside. The developing unit 16, the rinsing unit 17, the post-bake unit 18, and the carry-out unit 19 are arranged so as to be linearly adjacent along the direction D3 opposite to the direction D1. In the substrate processing system 100, the direction of progress of processing is changed from the direction D1 to the direction D3 so that the substrate 90 makes a U-turn in the exposure unit 15.

<基板処理装置1>
図2は、第1実施形態に係る基板処理装置1を示す概略平面図である。図3は、+X側から見た第1実施形態に係る基板処理装置1を示す概略側面図である。図4は、図2に示されるIV−IV位置から見た基板処理装置1を示す概略断面図である。なお、図2以降の各図には、水平面において互いに直交するX方向およびY方向と、鉛直方向に沿うZ方向とが示されている。これらの方向は、各要素の位置関係を説明の便宜のために定義されたものであり、各要素の位置関係を限定する趣旨のものではない。
<Substrate processing apparatus 1>
FIG. 2 is a schematic plan view showing the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 3 is a schematic side view showing the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment viewed from the + X side. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the substrate processing apparatus 1 as seen from the IV-IV position shown in FIG. 2 and the subsequent drawings show an X direction and a Y direction orthogonal to each other on the horizontal plane, and a Z direction along the vertical direction. These directions are defined for the convenience of explanation of the positional relationship of each element, and are not intended to limit the positional relationship of each element.

基板処理装置1は、ステージ2、線材3、位置決め部4を備えている。ステージ2は略直方体形状の部材である。ステージ2の表面(上面)は、水平面と平行な平滑な面とされている。ステージ2の表面には、1本の線材3が配されている。   The substrate processing apparatus 1 includes a stage 2, a wire 3, and a positioning unit 4. The stage 2 is a substantially rectangular parallelepiped member. The surface (upper surface) of the stage 2 is a smooth surface parallel to the horizontal plane. One wire 3 is disposed on the surface of the stage 2.

基板処理装置1は、ステージ2を貫通する複数の昇降ピン21を備えている。図4に示されるように、基板処理装置1は、複数の昇降ピン21を同時に昇降させるピン駆動装置22を備えている。ピン駆動装置22は、複数の昇降ピン21の下端が取り付けられる板状部材と、板状部材を上下に昇降させるピストン部とで構成されている。   The substrate processing apparatus 1 includes a plurality of lifting pins 21 that penetrate the stage 2. As shown in FIG. 4, the substrate processing apparatus 1 includes a pin driving device 22 that lifts and lowers a plurality of lifting pins 21 simultaneously. The pin driving device 22 includes a plate-like member to which the lower ends of the plurality of elevating pins 21 are attached, and a piston part that moves the plate-like member up and down.

ピン駆動装置22によって、複数の昇降ピン21は、ステージ2の表面よりも高い位置まで上昇するとともに、ステージ2の表面よりも低い位置まで下降する。複数の昇降ピン21は、外部から搬送ロボットによって搬送されてきた基板90を、上端部で受け取って支持する。そして、複数の昇降ピン21が下降することによって、基板90がステージ2の表面に配置された線材3の上に載置されることとなる。   By the pin driving device 22, the plurality of lift pins 21 are raised to a position higher than the surface of the stage 2 and lowered to a position lower than the surface of the stage 2. The plurality of elevating pins 21 receives and supports the substrate 90 conveyed from the outside by the conveyance robot at the upper end. Then, when the plurality of lifting pins 21 are lowered, the substrate 90 is placed on the wire 3 arranged on the surface of the stage 2.

ステージ2には、図4に示されるように、ヒータ23が内蔵されている。ヒータ23によってステージ2の表面が加熱されると、線材3に支持された基板90は、ステージ2の表面からの輻射熱によって加熱処理される。   As shown in FIG. 4, the stage 2 includes a heater 23. When the surface of the stage 2 is heated by the heater 23, the substrate 90 supported by the wire 3 is heated by the radiant heat from the surface of the stage 2.

図2に示すように、単一の線材3は、折り返すことによって、ステージ2の表面を連続して複数回横断している。図2に示される例では、単一の線材3は、X方向に沿って、ステージ2を7回横断している。   As shown in FIG. 2, the single wire 3 crosses the surface of the stage 2 a plurality of times continuously by turning back. In the example shown in FIG. 2, the single wire 3 crosses the stage 2 seven times along the X direction.

線材3としては、金属線材やグラスファイバー等のガラス線材、耐熱性の樹脂線材、もしくは、これらのうちから選ばれる2以上の複合材料からなる線材を用いることできる。また、線材3としては、熱伝導率が小さいものが望ましい。なぜなら、熱伝導率を小さくすることによって、線材3を通じてステージ2から基板90へ熱が伝導することを抑制できるからである。線材3の太さは、特に限定されないが、ステージ2の熱輻射が均一に起こるように、例えば、約0.1mm〜約1mmの範囲の太さとされる。なお、線材3は、複数の素線を撚り合わせることによって、1本の線材として構成されていてもよい。   As the wire 3, a glass wire such as a metal wire or glass fiber, a heat-resistant resin wire, or a wire made of two or more composite materials selected from these can be used. Moreover, as the wire 3, the thing with small heat conductivity is desirable. This is because heat conduction from the stage 2 to the substrate 90 through the wire 3 can be suppressed by reducing the thermal conductivity. Although the thickness of the wire 3 is not specifically limited, For example, it is set as the thickness of the range of about 0.1 mm-about 1 mm so that the thermal radiation of the stage 2 may occur uniformly. In addition, the wire 3 may be comprised as one wire by twisting together several strands.

線材3は、ステージ2のX方向の両側部に設けられている一対の位置決め部4,4によって折り返している。位置決め部4は、ステージ2の側部に配されている長尺部材40、および、長尺部材40(長尺部)に取り付けられており、線材3を引っ掛ける複数のフック41(掛止部)を備えている。   The wire 3 is folded back by a pair of positioning portions 4, 4 provided on both sides in the X direction of the stage 2. The positioning portion 4 is attached to a long member 40 and a long member 40 (long portion) disposed on the side of the stage 2, and a plurality of hooks 41 (holding portions) for hooking the wire 3. It has.

図2に示されるように、線材3は、2つのフック41,41に引っ掛けられることによって折り返している。例えば、ステージ2の−X側に設けられた隣り合う2つのフック41,41に着目すると、+X側から−X側に向けて延びる線材3は、Y方向に並ぶ2つのフック41,41のうち−Y側に配されたフック41に引っ掛けられることで、X方向からY方向へ曲がり、Y方向に沿って+Y側に配されたフック41まで延びる。さらに、線材3は、+Y側に配されたフック41に引っ掛けられることで、Y方向から再びX方向に曲がり、+X側に配されたフック41まで延びる。以下の説明では、この2つのフック41,41に接触して曲がる部分、および、これらの曲がる部分に挟まれる部分を、線材3の折返し部分30と呼ぶ。   As shown in FIG. 2, the wire 3 is folded by being hooked on the two hooks 41 and 41. For example, when paying attention to two adjacent hooks 41 and 41 provided on the −X side of the stage 2, the wire 3 extending from the + X side to the −X side is out of the two hooks 41 and 41 arranged in the Y direction. By being hooked on the hook 41 arranged on the −Y side, the X direction is bent in the Y direction and the Y direction extends to the hook 41 arranged on the + Y side. Further, the wire rod 3 is hooked on the hook 41 arranged on the + Y side, so that it bends again from the Y direction to the X direction and extends to the hook 41 arranged on the + X side. In the following description, a portion that is bent in contact with the two hooks 41, 41 and a portion sandwiched between these bent portions are referred to as a folded portion 30 of the wire 3.

長尺部材40は、ステージ2の側部に沿うY方向に延びている。また、各フック41は、Y方向に沿って既定間隔で長尺部材40の上面(+Z側の表面)に形成された取付穴42に着脱可能に取り付けられる。フック41の取り付け態様は種々考えられるが、例えば、取付穴42内に雌ねじを設け、フック41の後端部に雄ねじを設け、これらが螺合するようにしてもよい。また、フック41を取付穴42に挿入した際に、フック41の一部分が所定位置で引っ掛かることによって、フック41が取付穴42から抜け難くなるようにしてもよい。また、取付穴42の内部またはフック41に磁石を取り付けて、磁力によってフック41が長尺部材40に結合するようにしてもよい。複数の取付穴42は、掛止部であるフック41を長尺部材40に取り付けるための取付構造の一例である。   The long member 40 extends in the Y direction along the side of the stage 2. Each hook 41 is detachably attached to an attachment hole 42 formed on the upper surface (the surface on the + Z side) of the long member 40 at a predetermined interval along the Y direction. Various manners of attaching the hook 41 are conceivable. For example, a female screw may be provided in the mounting hole 42 and a male screw may be provided at the rear end portion of the hook 41 so that they are screwed together. Further, when the hook 41 is inserted into the mounting hole 42, a part of the hook 41 may be hooked at a predetermined position so that the hook 41 is difficult to be removed from the mounting hole 42. Further, a magnet may be attached to the inside of the attachment hole 42 or the hook 41 so that the hook 41 is coupled to the long member 40 by a magnetic force. The plurality of attachment holes 42 are an example of an attachment structure for attaching the hook 41 that is a latching portion to the long member 40.

図2に示されるように、長尺部材40には、多数の取付穴42が設けられている。このため、複数のフック41の取り付け位置を変更することによって、ステージ2における、線材3の横断位置をY方向関して移動させることができる。すなわち、複数のフック41の取り付けピッチを変更することによって、線材3のY方向のピッチを変更できる。   As shown in FIG. 2, the long member 40 is provided with a large number of mounting holes 42. For this reason, the crossing position of the wire 3 in the stage 2 can be moved in the Y direction by changing the attachment positions of the plurality of hooks 41. That is, the pitch of the wire 3 in the Y direction can be changed by changing the mounting pitch of the plurality of hooks 41.

また、必要に応じてフック41を取り付けたり取り外したりできる。このため、フック41の数量を線材3の位置決めに必要な数量に抑えることができる。したがって、部品コストを抑えることができる。   Moreover, the hook 41 can be attached or detached as necessary. For this reason, the number of hooks 41 can be suppressed to the number necessary for positioning the wire 3. Therefore, component costs can be reduced.

線材3の一端部分は、端部保持治具43に保持されている。端部保持治具43は、−X側に配された長尺部材40の−Y側端部近傍に設けられている。線材3を固定する方法としては、例えば、端部保持治具43に線材3を巻き付けて、その端部を固定してもよい。また、端部保持治具43に孔を設け、この孔に線材3の端部を挿通し、当該孔に蓋をすることによって、線材3の端部を固定してもよい。なお、端部保持治具43は、ステージ2などに取り付けられていてもよい。   One end portion of the wire 3 is held by an end holding jig 43. The end holding jig 43 is provided near the −Y side end of the long member 40 arranged on the −X side. As a method of fixing the wire 3, for example, the wire 3 may be wound around the end holding jig 43 and the end thereof may be fixed. Alternatively, the end of the wire 3 may be fixed by providing a hole in the end holding jig 43, inserting the end of the wire 3 into the hole, and covering the hole. Note that the end holding jig 43 may be attached to the stage 2 or the like.

線材3の他端部分は、巻取治具44(巻取部)に保持されている。巻取治具44は、+Xに配された長尺部材40の+Y側端部近傍に設けられている。巻取治具44は、細隙をあけて対向配置された2つの板部材と、これらの板部材の中央部を連結する連結部材とで構成されている。線材3は、巻取治具44における2つの板部材の隙間に通され、連結部材に幾重にも巻き付けられることによって、巻取治具44に固定される。   The other end portion of the wire 3 is held by a winding jig 44 (winding portion). The winding jig 44 is provided in the vicinity of the + Y side end of the long member 40 arranged at + X. The winding jig 44 is composed of two plate members arranged to face each other with a gap and a connecting member that connects the central portions of these plate members. The wire 3 is passed through the gap between the two plate members in the winding jig 44, and is fixed to the winding jig 44 by being wound around the connecting member several times.

巻取治具44によると、線材3の余った端部を巻き取って保持することができる。なお、線材3の余った端部のうち、一部分のみを保持して、それよりも先端側の部分を下に垂らすようにしてもよい。しかしながら、巻取治具44を用いることによって、このような線材3の垂れ下がりを排除できるため、ステージ2のまわりを整えることができる。   According to the winding jig 44, the remaining end of the wire 3 can be wound and held. In addition, you may make it hold | maintain only a part among the excess edge parts of the wire 3, and hang down the part at the front end side rather than it. However, the use of the winding jig 44 can eliminate such drooping of the wire 3, so that the stage 2 can be arranged.

ステージ2の+X側および−X側の両側面には、板状部材51,51がそれぞれ取り付けられている。板状部材51は、ステージ2の側面および長尺部材40の間に介在する部材である。板状部材51のY方向の長さは、長尺部材40のY方向の長さよりも長くなっている(図3参照)。板状部材51は、例えばボルトなどによって、ステージ2の側面に固定される。   Plate-like members 51 and 51 are respectively attached to both side surfaces of the stage 2 on the + X side and the −X side. The plate-like member 51 is a member interposed between the side surface of the stage 2 and the long member 40. The length of the plate member 51 in the Y direction is longer than the length of the long member 40 in the Y direction (see FIG. 3). The plate-like member 51 is fixed to the side surface of the stage 2 with, for example, bolts.

板状部材51には、Z方向に延びる一対のレール52,52、および、Y方向に延びる固定部53が設けられている。   The plate-like member 51 is provided with a pair of rails 52 and 52 extending in the Z direction and a fixing portion 53 extending in the Y direction.

一対のレール52,52は、板状部材51における−Y側および+Y側の端部付近に設けられている。一対のレール52,52は、長尺部材40の一部と接続されることによって左右方向(Y方向)の移動を規制する。長尺部材40は、一対のレール52,52によって、上下方向(Z方向)にのみ直線的に移動できるように構成されている。なお、一対のレール52,52は、省略しても構わない。   The pair of rails 52, 52 are provided in the vicinity of the −Y side and + Y side ends of the plate-like member 51. The pair of rails 52, 52 are connected to a part of the long member 40 to restrict movement in the left-right direction (Y direction). The long member 40 is configured to be linearly movable only in the vertical direction (Z direction) by the pair of rails 52 and 52. Note that the pair of rails 52, 52 may be omitted.

固定部53は、板状部材51を介してステージ2に固定された部分である。固定部53は、ステージ2から側方(+X方向または−X方向)に突出する部分である。固定部53の上面(+Z側の表面)には、複数の弾性部材54(弦巻バネ)の一端が取り付けられている。複数の弾性部材54の他端は、固定部53の上方に配されている長尺部材40の下面(−Z側の表面)に取り付けられている。複数の弾性部材54は、長尺部材40を固定部53に向けて付勢する。これによって、長尺部材40に取り付けられた複数のフック41が、線材3を下方に引張する。ここで、ステージ2の+X側および−X側のそれぞれの長尺部材40が、複数の弾性部材54によって下方へ付勢される。このため、ステージ2の表面を横断する線材3は、両側から引っ張られ、弛みなく配置されることとなる。したがって、本実施形態では、固定部53に接続されている複数の弾性部材54によって、付勢機構が構成されている。   The fixing part 53 is a part fixed to the stage 2 via the plate-like member 51. The fixing portion 53 is a portion protruding from the stage 2 to the side (+ X direction or −X direction). One end of a plurality of elastic members 54 (string winding springs) is attached to the upper surface (the surface on the + Z side) of the fixed portion 53. The other ends of the plurality of elastic members 54 are attached to the lower surface (the surface on the −Z side) of the long member 40 disposed above the fixing portion 53. The plurality of elastic members 54 urge the long member 40 toward the fixed portion 53. Accordingly, the plurality of hooks 41 attached to the long member 40 pull the wire 3 downward. Here, the long members 40 on the + X side and the −X side of the stage 2 are urged downward by the plurality of elastic members 54. For this reason, the wire 3 traversing the surface of the stage 2 is pulled from both sides and is arranged without slack. Therefore, in this embodiment, the urging mechanism is configured by the plurality of elastic members 54 connected to the fixed portion 53.

なお、板状部材51を省略して、レール52および固定部53を、ステージ2自体に設けてもよい。しかしながら、この場合は、ステージ2の加工が必要となり、コストが高くなる虞がある。これに対して、本実施形態では、これらの構造物を板状部材51に設けることによって、ステージ2の加工を省略できるため、加工コストを抑えることができる。   Note that the plate-like member 51 may be omitted, and the rail 52 and the fixing portion 53 may be provided on the stage 2 itself. However, in this case, processing of the stage 2 is necessary, and the cost may increase. On the other hand, in this embodiment, by providing these structures on the plate-like member 51, the processing of the stage 2 can be omitted, so that the processing cost can be suppressed.

図5は、一対の板状部材51,51がステージ2から取り外された基板処理装置1の概略断面図である。本実施形態では、一対の板状部材51,51をステージ2から取り外すことによって、線材3および一対の位置決め部4,4をステージ2から取り外すことができる。例えば、一対の板状部材51,51を上方へ持ち上げて支持することによって、ステージ2の表面およびその周辺部を容易にメンテナンスできる。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the substrate processing apparatus 1 with the pair of plate-like members 51, 51 removed from the stage 2. In the present embodiment, the wire rod 3 and the pair of positioning portions 4, 4 can be removed from the stage 2 by removing the pair of plate-like members 51, 51 from the stage 2. For example, the surface of the stage 2 and its peripheral part can be easily maintained by lifting and supporting the pair of plate-like members 51, 51 upward.

固定部53の上面には、長尺部材40の上下方向の移動を検出する複数の検出器55が設けられている(図3参照)。検出器55は、例えばリミットスイッチセンサなどで構成される。リミットスイッチセンサは、外部から受けた力をマイクロスイッチに伝達することによって、電気回路を開閉する構成を有している。このリミットスイッチセンサによって、長尺部材40の下降を検出することによって、線材3の延びまたは断線などを検出することができる。   A plurality of detectors 55 for detecting the vertical movement of the long member 40 are provided on the upper surface of the fixed portion 53 (see FIG. 3). The detector 55 is composed of, for example, a limit switch sensor. The limit switch sensor has a configuration for opening and closing an electric circuit by transmitting a force received from the outside to the microswitch. By detecting the lowering of the long member 40 by this limit switch sensor, the extension or disconnection of the wire 3 can be detected.

本実施形態に係る基板処理装置によると、線材3によって基板90を支持する。このため、従来のように多数のプロキシミティピンで基板を支持するために、ステージ2に多数のプロキシミティピン固定用の穴を形成したり、あるいは、プロキシミティピンを設けたりせずに済む。これによって、ステージ2の加工コストを大幅に低減できる。また、プロキシミティピンを設けないことによって、ステージ2の表面を平坦なままとできるため、ステージ2の表面の清掃を効率よくできるとともに、高度に清浄化できる。すなわち、線材3を用いることで、基板処理装置1のメンテナンス作業を容易化できる。   In the substrate processing apparatus according to the present embodiment, the substrate 90 is supported by the wire 3. For this reason, in order to support the substrate with a large number of proximity pins as in the prior art, it is not necessary to form a large number of proximity pin fixing holes on the stage 2 or to provide the proximity pins. Thereby, the processing cost of the stage 2 can be significantly reduced. Moreover, since the surface of the stage 2 can be kept flat by not providing the proximity pin, the surface of the stage 2 can be efficiently cleaned and highly purified. That is, by using the wire 3, maintenance work of the substrate processing apparatus 1 can be facilitated.

また、本実施形態では、単一の線材3を折り返すことによって、ステージ2の表面を複数回横断させる。このため、特許文献1に記載の基板処理装置のように、複数の線材を、ステージ(ホットプレート)上における横断する位置毎に一本ずつ固定する場合に比べて、線材3の取り付け作業を簡略化できる。したがって、ステージ2に対して線材3を効率よく取り付けできる。また、取り外しの際においても、複数の線材を一本ずつ固定する場合に比べて、効率よく取り外すことができる。   In the present embodiment, the surface of the stage 2 is traversed a plurality of times by folding the single wire 3. For this reason, the attachment work of the wire 3 is simplified compared to the case where a plurality of wires are fixed one by one at each crossing position on the stage (hot plate) as in the substrate processing apparatus described in Patent Document 1. Can be Therefore, the wire 3 can be efficiently attached to the stage 2. Moreover, also in the case of removal, it can remove efficiently compared with the case where a several wire is fixed one by one.

本実施形態では、長尺部材40を弾性部材54によって下方に付勢することによって、線材3を引張している。このため、ステージ2がヒータ23によって熱膨張して変形したとしても、線材3を弛ませることなくステージ2上の既定位置に配置できる。なお、弾性部材54の代わりに、長尺部材40におもりを取り付けることによって、長尺部材40を下方に付勢するようにしてもよい。また、線材3の折返し部分30におもりを取り付けることによって、線材3を引張してもよい。   In the present embodiment, the wire 3 is pulled by biasing the long member 40 downward by the elastic member 54. For this reason, even if the stage 2 is thermally expanded by the heater 23 and deformed, the wire 3 can be disposed at a predetermined position on the stage 2 without loosening. Note that the long member 40 may be biased downward by attaching a weight to the long member 40 instead of the elastic member 54. Alternatively, the wire 3 may be pulled by attaching a weight to the folded portion 30 of the wire 3.

図6は、第1実施形態の変形例に係る基板処理装置1を示す概略側面図である。図2〜4に示される基板処理装置1においては、1本の長尺部材40がステージ2の側方に配されている。これに対して、図6に示される基板処理装置1では、長尺部材40が2本の長尺部材401,401に置き換えられている。   FIG. 6 is a schematic side view showing the substrate processing apparatus 1 according to a modification of the first embodiment. In the substrate processing apparatus 1 shown in FIGS. 2 to 4, one long member 40 is arranged on the side of the stage 2. In contrast, in the substrate processing apparatus 1 shown in FIG. 6, the long member 40 is replaced with two long members 401 and 401.

2本の長尺部材401,401は、Y軸方向に沿って列をなすように配されている。各長尺部材401には、フック41を取り付けるための複数の取付穴42が設けられている。また、各長尺部材401は、一対のレール52によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。   The two long members 401 and 401 are arranged in a row along the Y-axis direction. Each long member 401 is provided with a plurality of attachment holes 42 for attaching the hooks 41. Each elongate member 401 is limited in the moving direction only in the vertical direction by the pair of rails 52.

この場合、長尺部材401毎に、交換することが可能となる。このため、単一の長尺部材40で構成する場合よりも、メンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。なお、長尺部材40を、3以上の長尺部材に分割してもよい。さらに、板状部材51および板状部材51に設けられた固定部53を、長尺部材401と同様に分割してもよい。   In this case, each long member 401 can be replaced. For this reason, maintenance is easier than in the case of a single long member 40. Further, since only partial replacement is required, the cost of parts related to replacement can be suppressed. The long member 40 may be divided into three or more long members. Further, the plate-like member 51 and the fixing portion 53 provided on the plate-like member 51 may be divided in the same manner as the long member 401.

{2. 第2実施形態}
次に、第2実施形態について説明する。なお、以降の説明において、既に説明した要素と同様の機能を有する要素については、同じ符号またはアルファベットを追加した符号を付して、詳細な説明を省略する場合がある。
{2. Second Embodiment}
Next, a second embodiment will be described. In the following description, elements having the same functions as those already described may be denoted by the same reference numerals or reference numerals added with alphabets, and detailed description may be omitted.

図7は、第2実施形態に係る基板処理装置1Aを示す概略平面図である。また、図8は、図7に示されるVIII−VIII位置から見た基板処理装置1Aを示す概略正面図である。基板処理装置1Aにおいては、2本の線材3,3のそれぞれが、折り返すことによってステージ2をX方向に複数回横断するように配置されている。また、2本の線材3,3は、ステージ2Aの+X側および−X側に配された位置決め部4Aによって位置決めされている。   FIG. 7 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus 1A according to the second embodiment. FIG. 8 is a schematic front view showing the substrate processing apparatus 1A viewed from the position VIII-VIII shown in FIG. In the substrate processing apparatus 1A, each of the two wire rods 3 and 3 is disposed so as to cross the stage 2 a plurality of times in the X direction by folding back. The two wires 3 and 3 are positioned by positioning portions 4A arranged on the + X side and the −X side of the stage 2A.

位置決め部4Aは、長尺部材40Aと、複数の滑車41Aを備えている。長尺部材40Aは、第1実施形態に係る長尺部材40と同様に、Y方向に延びる部材であり、板状部材51に設けられた一対のレール52,52によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。また、長尺部材40Aは、複数の弾性部材54によって、板状部材51に設けられた固定部53と接続されている。これによって、長尺部材40Aは、下方に付勢されている。   The positioning portion 4A includes a long member 40A and a plurality of pulleys 41A. The long member 40 </ b> A is a member extending in the Y direction, similarly to the long member 40 according to the first embodiment, and the moving direction of the long member 40 </ b> A is up and down by a pair of rails 52 and 52 provided on the plate-like member 51. Limited to only. The long member 40 </ b> A is connected to a fixing portion 53 provided on the plate-like member 51 by a plurality of elastic members 54. Thereby, the long member 40A is urged downward.

滑車41Aは、長尺部材40Aに対して着脱自在に取り付けられている。滑車41Aは、X方向に延びる軸まわりに回転自在とされた円板部を備えている。円板部は、YZ平面に平行となるように配されており、円板の中央部に形成された周溝内に、線材3が引っ掛けられる。図7に示されるように、線材3は、2つの滑車41A,41Aに引っ掛けられることによって折り返している。   The pulley 41A is detachably attached to the long member 40A. The pulley 41A includes a disk portion that is rotatable around an axis extending in the X direction. The disc portion is arranged so as to be parallel to the YZ plane, and the wire 3 is hooked in a circumferential groove formed in the central portion of the disc. As shown in FIG. 7, the wire 3 is turned back by being hooked on the two pulleys 41A and 41A.

例えば、ステージ2Aの−X側に設けられた隣り合う2つの滑車41A,41Aに着目する。すると、+X側から−X側に向けて延びる線材3は、−Y側の滑車41Aに引っ掛けられることで、X方向からY方向に曲がり、+Y側の滑車41Aまで延びる。そして、線材3は、+Y側に配された滑車41Aに引っ掛けられることで、Y方向から再びX方向に曲がり、+X側に配された滑車41Aまで延びる。このように、本実施形態では、2つの滑車41A,41Aによって、線材3の折り返しがなされる。   For example, attention is paid to two adjacent pulleys 41A and 41A provided on the −X side of the stage 2A. Then, the wire 3 extending from the + X side toward the −X side is hooked on the −Y side pulley 41 </ b> A, thereby bending from the X direction to the Y direction and extending to the + Y side pulley 41 </ b> A. Then, the wire 3 is hooked on the pulley 41A arranged on the + Y side, so that it bends again from the Y direction to the X direction and extends to the pulley 41A arranged on the + X side. Thus, in the present embodiment, the wire rod 3 is folded by the two pulleys 41A and 41A.

図8に示されるように、線材3のうち、ステージ2Aの表面からはみ出た部分(以下、「はみ出し部分」と称する。)は、水平面に対して斜め下方向に延びている。また、滑車41Aの円板部は、YZ平面に平行に配されているため、線材3が滑車41AによってZ方向に曲げられている。この曲がりが急である場合、滑車41Aから外れる虞がある。これを避けるために、滑車41Aの円板部を、線材3のはみ出し部分の延びる方向に合うように、YZ平面に対して斜めに配してもよい。   As shown in FIG. 8, a portion of the wire 3 that protrudes from the surface of the stage 2 </ b> A (hereinafter referred to as “protruding portion”) extends obliquely downward with respect to the horizontal plane. Further, since the disk portion of the pulley 41A is arranged in parallel to the YZ plane, the wire 3 is bent in the Z direction by the pulley 41A. If this turn is abrupt, there is a risk of detachment from the pulley 41A. In order to avoid this, the disc portion of the pulley 41A may be arranged obliquely with respect to the YZ plane so as to match the direction in which the protruding portion of the wire 3 extends.

図9は、第2実施形態に係る長尺部材40Aを示す概略斜視図である。長尺部材40Aの側面には、滑車41Aの円板部から延びる棒状の接続部411を差し込むことによって、滑車41Aを長尺部材40Aに取り付ける取付穴42Aが設けられている。滑車41Aの接続部411の取り付け態様は、フック41の取り付け態様と同一としてもよい。   FIG. 9 is a schematic perspective view showing a long member 40A according to the second embodiment. A mounting hole 42A for attaching the pulley 41A to the long member 40A by inserting a rod-like connecting portion 411 extending from the disk portion of the pulley 41A is provided on the side surface of the long member 40A. The manner of attaching the connecting portion 411 of the pulley 41A may be the same as the manner of attaching the hook 41.

長尺部材40Aにおいても、取付穴42Aが多数設けられている。このため、任意の取付穴42Aに滑車41Aを取り付けることができる。このため、滑車41Aの設置位置を変更することによって、線材3のステージ2Aにおける横断位置を変更することができる。   The long member 40A is also provided with a large number of mounting holes 42A. For this reason, pulley 41A can be attached to arbitrary attachment holes 42A. For this reason, the crossing position in the stage 2A of the wire 3 can be changed by changing the installation position of the pulley 41A.

ステージ2Aの表面側両端部は、長方形の角部が丸められた角R部2Rが形成されている。角R部2Rが形成されることによって、線材3の折れを抑制することができる。   At both ends on the surface side of the stage 2A, a corner R portion 2R is formed by rounding a rectangular corner. By forming the corner R portion 2R, the wire 3 can be prevented from being broken.

本実施形態では、例えばステージ2の+X側に配された滑車41Aは、ステージ2Aの側面よりも+X側に突き出ており、ステージ2の−X側2配された滑車21Aは、ステージ2Aの側面から−X側に突き出ている。このため、線材3のはみ出し部分は、ステージ2Aの+X側の部分では+X方向および−Z方向に、ステージ2Aの−X側の部分では−X方向および−Z方向に延びている。この線材3のはみ出し部分を、例えば−Z方向だけにすることも考えられる。具体的には、ステージ2Aの+X側および−X側の側面を、内側に凹ませることによって、板状部材51をステージ2Aの内側に移動させる。これによって、ステージ2Aの+X側および−X側に配された滑車41Aを、ステージ2Aの内側(−X側および+X側)に移動させることができる。したがって、線材3のはみ出し部分が下方(−Z方向)のみに延びるように構成できる。   In this embodiment, for example, the pulley 41A disposed on the + X side of the stage 2 protrudes to the + X side from the side surface of the stage 2A, and the pulley 21A disposed on the −X side 2 of the stage 2 is the side surface of the stage 2A. Protruding to the -X side. Therefore, the protruding portion of the wire 3 extends in the + X direction and −Z direction at the + X side portion of the stage 2A, and extends in the −X direction and −Z direction at the −X side portion of the stage 2A. It is also conceivable that the protruding portion of the wire 3 is, for example, only in the −Z direction. Specifically, the plate-like member 51 is moved to the inside of the stage 2A by denting the side surfaces of the stage 2A on the + X side and the −X side. Thereby, the pulley 41A arranged on the + X side and the −X side of the stage 2A can be moved to the inside (−X side and + X side) of the stage 2A. Therefore, the protruding portion of the wire 3 can be configured to extend only downward (−Z direction).

図10は、第2実施形態の変形例に係る長尺部材40Bを示す部分概略図である。また、図11は、図10に示されるXI−XI位置から見た長尺部材40Bを示す概略断面図である。長尺部材40Bは、中空の四角柱における各側面の中央部分を、長手方向(Y方向)に沿って角柱状の溝402をなすように凹ませた形状を有している。長尺部材40Bとしては、例えばアルミ製の引き抜き材などが採用される。   FIG. 10 is a partial schematic view showing a long member 40B according to a modification of the second embodiment. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing the long member 40B viewed from the XI-XI position shown in FIG. The long member 40B has a shape in which a central portion of each side surface of the hollow quadrangular prism is recessed so as to form a prismatic groove 402 along the longitudinal direction (Y direction). As the long member 40B, for example, an aluminum drawing material or the like is employed.

長尺部材40Bに対して、例えば滑車41Aを取り付ける場合、取付治具45が使用される。取付治具45は、溝402に挿入され、溝402に沿ってY方向に移動可能な移動治具46、移動治具46を固定するための一対の固定治具47,47で構成されている。   For example, when the pulley 41A is attached to the long member 40B, an attachment jig 45 is used. The mounting jig 45 includes a moving jig 46 that is inserted into the groove 402 and is movable in the Y direction along the groove 402, and a pair of fixing jigs 47 and 47 for fixing the moving jig 46. .

移動治具46の中央部には、滑車41Aを取り付けるための取付穴42Aが設けられている。固定治具47は、長尺部材40Bの上端と下端をはさみ込むことによって、長尺部材40Bに自身を固定させる。2つの固定治具47,47のそれぞれを、移動治具46における−Y側端部および+Y側端部に重なるようにして長尺部材40Bに取り付けることによって、移動治具46の位置を固定することができる。固定治具47は取り外し容易とする観点から、例えばゴムなどの材料で形成することが望ましい。   An attachment hole 42A for attaching the pulley 41A is provided at the center of the moving jig 46. The fixing jig 47 fixes itself to the long member 40B by sandwiching the upper end and the lower end of the long member 40B. The position of the moving jig 46 is fixed by attaching each of the two fixing jigs 47, 47 to the long member 40B so as to overlap the −Y side end and the + Y side end of the moving jig 46. be able to. The fixing jig 47 is preferably formed of a material such as rubber from the viewpoint of easy removal.

このような長尺部材40Bおよび取付治具45を用いた場合、移動治具46の取り付け位置を、溝402内で自由に設定できる。このため、滑車41Aの位置を任意に設定できるため、線材3の横断位置を自由に設定できる。   When such a long member 40 </ b> B and the attachment jig 45 are used, the attachment position of the moving jig 46 can be freely set in the groove 402. For this reason, since the position of the pulley 41A can be set arbitrarily, the crossing position of the wire 3 can be set freely.

図12は、線材3の配置例1−配置例4を示す図である。図12に示す配置例1−配置例4は、いずれも+Z側から見たステージ2の平面図を示している。配置例1は、線材3をX方向に沿って横断させるものである。これは、図2および図7に示した実施形態と同様の配置態様である。   FIG. 12 is a diagram illustrating an arrangement example 1 to an arrangement example 4 of the wire 3. Arrangement Example 1 to Arrangement Example 4 shown in FIG. 12 are all plan views of the stage 2 viewed from the + Z side. Arrangement example 1 crosses the wire 3 along the X direction. This is an arrangement similar to the embodiment shown in FIGS.

配置例2は、線材3をY方向に沿って横断させるものである。この場合、ステージ2の+Y側および−Y側のそれぞれに、線材3を折り返させる位置決め部4(または、位置決め部4A)を配置すればよい。   Arrangement Example 2 crosses the wire 3 along the Y direction. In this case, a positioning unit 4 (or positioning unit 4A) for folding the wire 3 may be disposed on each of the + Y side and the -Y side of the stage 2.

配置例3は、線材3を、X方向に横断させるだけでなく、Y方向にも横断させることによって、線材3を交差させたものである。この場合、ステージ2の+Xおよび−X、ならびに、+Yおよび−Yに、位置決め部4(または位置決め部4A)を配置して、線材を折り返せばよい。また、1本の線材3を折り返して配置してもよいし、複数の線材3を組み合わせて配置してもよい。図示のように、1本の線材3を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ2に対する線材3の取り付けおよび取り外しを、より効率よく行うことができる。   In the arrangement example 3, the wire 3 is crossed not only in the X direction but also in the Y direction. In this case, the positioning part 4 (or positioning part 4A) may be arranged at + X and -X, and + Y and -Y of the stage 2, and the wire rod may be folded back. One wire 3 may be folded and arranged, or a plurality of wires 3 may be combined and arranged. As shown in the drawing, if one wire 3 is folded and arranged so as to draw a single stroke, the wire 3 can be attached to and removed from the stage 2 more efficiently.

配置例4は、線材3を、X方向およびY方向に対して斜めに横断させて、線材3を交差させたものである。この場合においても、1本の線材3を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ2に対する線材3の取り付けおよび取り外しを効率よく行うことができる。   Arrangement Example 4 is an example in which the wire 3 is crossed obliquely with respect to the X direction and the Y direction, and the wire 3 is crossed. Also in this case, if the single wire 3 is folded and arranged so as to draw a single stroke, the wire 3 can be efficiently attached to and detached from the stage 2.

図13は、線材3を交差するように配置する配置例を示す部分概略断面図である。図13に示される第一線状部31および第二線状部32は、同一の線材3または異なる線材3の一部である。また、第一線状部31は、Y方向に沿ってステージ2の表面を横断している。また、第二線状部32は、Y方向に交差する(ここでは直交する)X方向に延びている。   FIG. 13 is a partial schematic cross-sectional view showing an arrangement example in which the wires 3 are arranged so as to intersect each other. The first linear portion 31 and the second linear portion 32 shown in FIG. 13 are part of the same wire 3 or different wires 3. The first linear portion 31 crosses the surface of the stage 2 along the Y direction. In addition, the second linear portion 32 extends in the X direction that intersects (here, is orthogonal) to the Y direction.

図示のように、第一線状部31は、複数の第二線状部32と交差する際、各第二線状部32の上位置および下位置を交互に通過している。このように線材3を編み込むように交差させることによって、各交差する部分(交差部P1,P2,P3)において、基板90を点状に支持できる。これによって、基板90と線材3との接触面積を低減することができる。したがって、基板90を均一に熱処理できる。   As illustrated, when the first linear portion 31 intersects with the plurality of second linear portions 32, the first linear portion 31 alternately passes through the upper position and the lower position of each second linear portion 32. Thus, by making the wire 3 cross so as to be knitted, the substrate 90 can be supported in a dot shape at each crossing portion (intersections P1, P2, P3). Thereby, the contact area between the substrate 90 and the wire 3 can be reduced. Therefore, the substrate 90 can be uniformly heat-treated.

{3. 変形例}
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
{3. Modification}
Although the embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications are possible.

例えば、第1実施形態では、掛止部であるフック41が、線材3を、ステージ2の表面よりも下側の高さで、かつ、下方に引いている。このため、線材3におけるステージ2からのはみ出し部分が、下側に引っ張られている。例えばフック41が、線材3を、ステージ2の表面の高さで、かつ、ステージ2の外側(側方)に向けて引くようにすれば、線材3が下方に引っ張られることを抑制できる。これによって、線材3がステージ2の角部で折れることを抑制できる。   For example, in the first embodiment, the hook 41 that is a latching portion pulls the wire 3 downward at a height lower than the surface of the stage 2. For this reason, the protruding part from the stage 2 in the wire 3 is pulled down. For example, if the hook 41 pulls the wire 3 at the height of the surface of the stage 2 and toward the outside (side) of the stage 2, the wire 3 can be suppressed from being pulled downward. Thereby, it is possible to prevent the wire 3 from being broken at the corners of the stage 2.

また、第1実施形態では、ステージ2の両側側面に配設された位置決め部4はいずれも弾性部材54により掛止されている。しかしながら、一方が弾性部材54によって掛止され、他方が弾性部材54を用いる態様とは異なる構造によって掛止されていてもよい。このような構造の構成例としては、例えば、長尺部材40が板状部材51に直接固定されているような構成が考えられる。   In the first embodiment, the positioning portions 4 arranged on both side surfaces of the stage 2 are all hooked by the elastic members 54. However, one may be hooked by the elastic member 54 and the other may be hooked by a structure different from the mode using the elastic member 54. As a configuration example of such a structure, for example, a configuration in which the long member 40 is directly fixed to the plate-like member 51 is conceivable.

また、上記実施形態では、基板処理装置1が、基板処理システム100におけるプリベーク部として構成されている場合を説明した。しかしながら、基板処理システム100におけるデハイドベーク部12またはポストベーク部18として構成された基板処理装置においても、本発明は有効である。   In the above embodiment, the case where the substrate processing apparatus 1 is configured as a pre-bake unit in the substrate processing system 100 has been described. However, the present invention is also effective in the substrate processing apparatus configured as the dehydrated bake unit 12 or the post bake unit 18 in the substrate processing system 100.

また、上記実施形態では、基板を加熱処理する基板処理装置について説明した。しかしながら、基板を冷却処理する基板処理装置においても、本発明は有効である。ステージを冷却することによって、ステージ表面の線材上に載置された基板を冷却できる。ステージを冷却する構成としては、例えばペルティエ素子を利用したもの、ステージ内に冷却水を流す流路を設けたものなど、種々の構成が考えられる。また、基板を放置して自然冷却するような場合にも、本発明は有効である。   In the above-described embodiment, the substrate processing apparatus that heats the substrate has been described. However, the present invention is also effective in a substrate processing apparatus that cools a substrate. By cooling the stage, the substrate placed on the wire on the stage surface can be cooled. As the configuration for cooling the stage, various configurations such as a configuration using a Peltier element and a configuration in which a flow path for flowing cooling water is provided in the stage are conceivable. The present invention is also effective when the substrate is left to cool naturally.

上記実施形態では、基板処理装置の処理対象が液晶表示装置用のガラス基板である場合を説明した。しかしながら、処理対象となる基板は、半導体ウェハ、プラズマディスプレイ用ガラス基板、磁気・光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機EL用ガラス基板、太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向けの各種被処理基板であってもよい。   In the above embodiment, the case where the processing target of the substrate processing apparatus is a glass substrate for a liquid crystal display device has been described. However, substrates to be processed include semiconductor wafers, glass substrates for plasma displays, glass or ceramic substrates for magnetic / optical disks, glass substrates for organic EL, glass substrates or silicon substrates for solar cells, other flexible substrates, printed boards, etc. Various substrates to be processed for electronic devices may be used.

この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。また、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。   Although the present invention has been described in detail, the above description is illustrative in all aspects, and the present invention is not limited thereto. It is understood that countless variations that are not illustrated can be envisaged without departing from the scope of the present invention. In addition, the configurations described in the above embodiments and modifications can be appropriately combined or omitted as long as they do not contradict each other.

100 基板処理システム
1,1A 基板処理装置
2,2A ステージ
23 ヒータ
3 線材
30 折返し部分
31 第一線状部
32 第二線状部
4,4A 位置決め部
40,40A,40B,401 長尺部材(長尺部)
402 溝
41 フック(掛止部)
41A 滑車(掛止部)
411 接続部
42,42A 取付穴(取付構造)
43 端部保持治具
44 巻取治具
45 取付治具
46 移動治具
47 固定治具
51 板状部材
52 レール
53 固定部
54 弾性部材(付勢機構)
55 検出器
90 基板
P1,P2,P3 交差部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Substrate processing system 1, 1A Substrate processing apparatus 2, 2A Stage 23 Heater 3 Wire material 30 Folding part 31 First linear part 32 Second linear part 4, 4A Positioning part 40, 40A, 40B, 401 Long member (long Scale)
402 Groove 41 Hook (Hook)
41A pulley (hanging part)
411 Connection part 42, 42A Mounting hole (mounting structure)
43 End holding jig 44 Winding jig 45 Mounting jig 46 Moving jig 47 Fixing jig 51 Plate-like member 52 Rail 53 Fixing part 54 Elastic member (biasing mechanism)
55 Detector 90 Substrate P1, P2, P3 Intersection

Claims (10)

基板を処理する基板処理装置であって、
基板を熱的処理するステージと、
前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する1本以上の線材と、
前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部と、
を備える、基板処理装置。
A substrate processing apparatus for processing a substrate,
A stage for thermally treating the substrate;
One or more wire rods arranged on the surface of the stage and crossing the surface of the stage a plurality of times by turning back; and
A positioning portion that contacts a folded portion of the wire, and defines a transverse position of the wire on the surface of the stage;
A substrate processing apparatus comprising:
請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記位置決め部は、
前記ステージの側部に配置されている長尺部と、
前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部と、
を備える、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
The positioning part is
A long portion disposed on a side of the stage;
A plurality of hooks that are attached to the long part and hook the wire.
A substrate processing apparatus comprising:
請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、
をさらに備える、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 2,
A biasing mechanism that pulls the wire hooked on the hooking portion by biasing the long portion;
A substrate processing apparatus further comprising:
請求項3に記載の基板処理装置であって、
前記付勢機構は、
前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、
を備えている、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 3, wherein
The biasing mechanism is
An elastic member that connects between the long portion and the fixed portion of the stage, and biases the long portion toward the fixed portion;
A substrate processing apparatus.
請求項3または4に記載の基板処理装置であって、
前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、
をさらに備えている、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 3 or 4, wherein
A detector for detecting movement of the elongated portion in a direction biased by the biasing mechanism;
A substrate processing apparatus further comprising:
請求項2から5のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する、基板処理装置。
A substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 5,
The long part is
A substrate processing apparatus for attaching the latching portion, wherein the substrate processing apparatus has an attachment structure in which an attachment position of the latching portion in the long portion is variable.
請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 6,
The said mounting structure is a substrate processing apparatus which is the structure which attaches | detaches the said latching | locking part with respect to a elongate part so that attachment or detachment is possible.
請求項2から7のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 7,
The long part is
A substrate processing apparatus having a plurality of long members arranged in a row along the stage.
請求項2から8のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、
を有する、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 8,
The long part is
A winding unit that winds and holds an end of the wire,
A substrate processing apparatus.
請求項1から9のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記1本以上の線材は、
第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、
前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部と、を含み、
前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する、基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 9,
The one or more wires are
A first linear portion that traverses the surface of the stage along a first direction;
A plurality of second linear portions that cross the surface of the stage along a direction intersecting the first direction,
The substrate processing apparatus, wherein the first linear portion alternately passes through an upper position and a lower position of each second linear portion when intersecting the plurality of second linear portions.
JP2014065286A 2014-03-27 2014-03-27 substrate processing apparatus Pending JP2015188036A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014065286A JP2015188036A (en) 2014-03-27 2014-03-27 substrate processing apparatus
KR1020150038897A KR101657883B1 (en) 2014-03-27 2015-03-20 Substrate treatment apparatus
CN201510142138.XA CN104950485A (en) 2014-03-27 2015-03-27 Substrate processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014065286A JP2015188036A (en) 2014-03-27 2014-03-27 substrate processing apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015188036A true JP2015188036A (en) 2015-10-29

Family

ID=54165254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014065286A Pending JP2015188036A (en) 2014-03-27 2014-03-27 substrate processing apparatus

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2015188036A (en)
KR (1) KR101657883B1 (en)
CN (1) CN104950485A (en)

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5871629A (en) * 1996-09-18 1999-02-16 International Business Machines Corporation Method and apparatus for fixturing substrate assemblies for electrolytic plating
JP3386986B2 (en) * 1997-10-16 2003-03-17 シャープ株式会社 Plasma processing equipment
JP3942533B2 (en) 2002-11-27 2007-07-11 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing equipment
KR101026323B1 (en) * 2002-11-27 2011-03-31 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate processing apparatus
CN1286703C (en) * 2003-12-24 2006-11-29 友达光电股份有限公司 Separable clue type cassette and its access base board method
US7771538B2 (en) * 2004-01-20 2010-08-10 Jusung Engineering Co., Ltd. Substrate supporting means having wire and apparatus using the same
KR100898979B1 (en) * 2007-08-08 2009-05-25 주식회사 에이디피엔지니어링 Substrate lifting apparatus
JP5430979B2 (en) * 2009-03-12 2014-03-05 大亜真空株式会社 Hot filament CVD equipment
CN101807538B (en) * 2010-03-26 2011-09-14 友达光电股份有限公司 Baseplate support device

Also Published As

Publication number Publication date
CN104950485A (en) 2015-09-30
KR20150112821A (en) 2015-10-07
KR101657883B1 (en) 2016-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012181196A5 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP2007034298A (en) Apparatus and method for manufacturing substrate for display device
KR20200135363A (en) New materials and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
JP5809892B2 (en) Mask unit
KR101000602B1 (en) Substrate processing apparatus
JP5467743B2 (en) Heater unit and heat treatment apparatus
JP2019016801A5 (en) Object moving method, object moving apparatus, exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP2013115207A (en) Substrate cleaning device and substrate cleaning method
KR102036907B1 (en) Metal sheet holding device for manufacturing fine metal mask
JP2015188036A (en) substrate processing apparatus
JP2011519478A5 (en) Apparatus for supporting an optical element, method of manufacturing the same, and lithographic apparatus
KR20100035119A (en) Reduced-pressure drying device and reduced-pressure drying method
KR20010092357A (en) Heat processing apparatus
KR101255480B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP5316135B2 (en) Exposure equipment
KR102386998B1 (en) Supporter Pin And Heat Treatment Apparatus Comprising The Same
KR102330279B1 (en) Apparatus treating a subtrate
JP2008311407A (en) Lift pin elevation device
KR100973816B1 (en) Cassette for a large glass substrate
KR102153046B1 (en) Apparatus for fixing substrate and method for treating substrate using the same
JP2013228170A (en) Surface plate unit
JP3942533B2 (en) Substrate processing equipment
KR101068439B1 (en) Jig for transportation of flexible substrate sheet
KR100974937B1 (en) Apparatus for transferring substrate and facility for processing substrate having the same
KR101275499B1 (en) Mask assembly