JP2015188036A - substrate processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、基板を熱的に処理する技術に関する。 The present invention relates to a technique for thermally processing a substrate.
例えば、液晶表示装置(LCD)の製造工程の一つに、LCD向けのガラス基板に所定のパターンを形成するフォトフィソグラフィがある。このフォトフィソグラフィでは、一般的に、洗浄したガラス基板を乾燥させるデハイドベーク処理や、ガラス基板に塗布されたレジストを固めるプリベーク処理、現像後におけるポストベーク処理などの熱的処理が行われている。 For example, as one of the manufacturing processes of a liquid crystal display device (LCD), there is photolithography that forms a predetermined pattern on a glass substrate for LCD. In this photophysography, in general, thermal processing such as dehydration processing for drying a cleaned glass substrate, pre-baking processing for solidifying a resist applied to the glass substrate, and post-baking processing after development is performed. .
このような熱的処理を行う処理ユニットとしては、ホットプレートまたはコールドプレートなどで構成されたステージ上に、ガラス基板を載置し、ステージを加熱または冷却することによって、基板を熱的に処理するものが知られている。また、ステージの表面には、複数のプロミキシティピンが分散して設けられ、ガラス基板がステージに直接接しないようにすることが一般的である。 As a processing unit for performing such thermal processing, a glass substrate is placed on a stage constituted by a hot plate or a cold plate, and the substrate is thermally processed by heating or cooling the stage. Things are known. In general, a plurality of proximity pins are distributed on the surface of the stage so that the glass substrate does not directly contact the stage.
また、ステージのプロミキシティピンを設ける代わりに、ステージの表面に複数の線材を配置し、この複数の線材の上に基板を載置することも提案されている(例えば、特許文献1)。 Moreover, it is also proposed to place a plurality of wire rods on the surface of the stage and place a substrate on the plurality of wire rods instead of providing stage proximate pins (for example, Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1に記載の基板処理装置では、複数本の線材が、ホットプレートの長手方向に所定の間隔をあけて配置されている。そして各線材は、ホットプレートの側部に設けられた複数の線材固定治具を用いて、一本ずつ固定されている。このため、ホットプレートに各線材を取り付ける場合、線材固定治具に対して一本ずつ線材を取り付けていく必要があり、作業が煩雑であった。また、線材をステージから取り外す際にも、線材固定治具から線材を一本ずつ取り外さなければならないため、作業が煩雑であった。このため、ステージ表面のメンテナンスを容易に行うことができなかった。
However, in the substrate processing apparatus described in
そこで、本発明は、基板を熱的に処理するステージに対する線材の取り付けおよび取り外しを効率よく行う技術を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a technique for efficiently attaching and detaching a wire to a stage that thermally processes a substrate.
上記の課題を解決するため、第1の態様は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を熱的処理するステージと、前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する1本以上の線材と、前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部とを備える。 In order to solve the above-described problem, a first aspect is a substrate processing apparatus for processing a substrate, the stage for thermally processing the substrate, and the surface of the stage disposed on the surface of the stage and folded back. One or more wire rods that continuously traverse a plurality of times, and a positioning portion that contacts a folded portion of the wire rod and defines a transverse position of the wire rod on the surface of the stage.
また、第2の態様は、第1の態様に係る基板処理装置であって、前記位置決め部は、前記ステージの側部に配置されている長尺部と、前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部とを備えている。 Moreover, a 2nd aspect is the substrate processing apparatus which concerns on a 1st aspect, Comprising: The said positioning part is attached to the elongate part arrange | positioned at the side part of the said stage, and the said elongate part. In addition, a plurality of hooks for hooking the wire rod are provided.
また、第3の態様は、第2の態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、をさらに備える。 Moreover, a 3rd aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 2nd aspect, Comprising: The biasing mechanism which pulls the said wire material hooked on the said latching part by biasing the said elongate part is further provided. Prepare.
また、第4の態様は、第3の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構は、前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、を備えている。 Moreover, a 4th aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 3rd aspect, Comprising: The said urging | biasing mechanism has connected between the fixed part in the said elongate part and the said stage, The said elongate part is And an elastic member that urges toward the fixed portion.
また、第5の態様は、第3または第4の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、をさらに備えている。 Further, the fifth aspect is a substrate processing apparatus according to the third or fourth aspect, further comprising a detector that detects the movement of the long portion in the direction biased by the biasing mechanism. I have.
また、第6の態様は、第2から第5の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する。 A sixth aspect is a substrate processing apparatus according to any one of the second to fifth aspects, wherein the long portion is a structure for attaching the latching portion, and It has an attachment structure in which the attachment position of the hooking portion in the scale portion is variable.
また、第7の態様は、第6の態様に係る基板処理装置であって、前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である。 Moreover, a 7th aspect is a substrate processing apparatus which concerns on a 6th aspect, Comprising: The said attachment structure is a structure which attaches | detaches the said latching part with respect to a elongate part so that attachment or detachment is possible.
また、第8の態様は、第2から第7の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する。 Further, an eighth aspect is the substrate processing apparatus according to any one of the second to seventh aspects, wherein the long portions are arranged in a row along the stage. It has a long member.
また、第9の態様は、第2から第8の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、を有する。 Further, a ninth aspect is the substrate processing apparatus according to any one of the second to eighth aspects, wherein the long portion winds and holds the end of the wire, Have
また、第10の態様は、第1から第9の態様のいずれか1態様に係る基板処理装置であって、前記1本以上の線材は、第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部とを含み、前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する。 A tenth aspect is a substrate processing apparatus according to any one of the first to ninth aspects, wherein the one or more wires cross the surface of the stage along a first direction. A first linear portion and a plurality of second linear portions that cross the surface of the stage along a direction intersecting the first direction, and the first linear portion includes the plurality of second linear portions. When intersecting the two linear parts, the upper and lower positions of each second linear part pass alternately.
第1の態様に係る基板処理装置によると、線材を折り返すことによってステージの表面を横断させるため、ステージを横断させる位置毎に線材を一本ずつ固定する場合に比べて、線材の取り付け作業を簡略化できる。また、取り外しの際にも、一本ずつ固定されている場合に比べて、作業が容易である。したがって、線材の取り付けおよび取り外しを効率よくできるという効果を奏する。 According to the substrate processing apparatus according to the first aspect, since the surface of the stage is crossed by folding the wire, it is easier to attach the wire than when fixing one wire at each position where the stage is crossed. Can be In addition, the work can be easily performed at the time of removal as compared with the case where the pieces are fixed one by one. Therefore, there is an effect that the wire can be efficiently attached and detached.
また、第2の態様に係る基板処理装置によると、掛止部に線材を引っ掛けることによって、線材に折り返すことができる。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 2nd aspect, it can be return | folded to a wire by hooking a wire to a latching | locking part.
また、第3の態様に係る基板処理装置によると、付勢機構によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 3rd aspect, since a wire can be pulled by an urging | biasing mechanism, a wire can be arrange | positioned favorably on a stage surface.
また、第4の態様に係る基板処理装置によると、弾性部材によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 4th aspect, since a wire can be pulled with an elastic member, a wire can be arrange | positioned favorably on a stage surface.
また、第5の態様に係る基板処理装置によると、線材の延びあるいは切断によって発生する長尺部材の移動を検出できるため、線材のメンテナンス時期を把握でき、プロセス不良を未然に抑制できるという効果を奏する。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 5th aspect, since the movement of the elongate member which generate | occur | produces by extension or a cutting | disconnection of a wire can be detected, the maintenance time of a wire can be grasped | ascertained and the effect that process failure can be suppressed beforehand. Play.
また、第6の態様に係る基板処理装置によると、掛止部の取り付け位置が可変であるため、掛止部の取り付け位置を自由に変更できる。したがって、ステージ2における線材の横断位置を変更できるという効果を奏する。
Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 6th aspect, since the attachment position of a latching part is variable, the attachment position of a latching part can be changed freely. Therefore, there is an effect that the crossing position of the wire in the
また、第7の態様に係る基板処理装置によると、掛止部が着脱可能であるため、必要に応じて掛止部を取り付けまたは取り外しできる。したがって、掛止部の数量を必要な数に抑えることができるため、部品コストを抑制できるという効果を奏する。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 7th aspect, since a latching part is detachable, a latching part can be attached or removed as needed. Therefore, since the number of the latching portions can be suppressed to a necessary number, there is an effect that the component cost can be suppressed.
また、第8の態様に係る基板処理装置によると、長尺部の一部である長尺部材毎に交換できる。このため、長尺部を単一の部材で構成する場合に比べて、長尺部のメンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on an 8th aspect, it can replace | exchange for every elongate member which is a part of elongate part. For this reason, the maintenance of a long part becomes easy compared with the case where a long part is comprised with a single member. Further, since only partial replacement is required, the cost of parts related to replacement can be suppressed.
また、第9の態様に係る基板処理装置によると、巻取部によって、余った線材の部分を巻き取って保持できるという効果を奏する。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 9th aspect, there exists an effect that the part of the excess wire can be wound up and hold | maintained by the winding-up part.
また、第10の態様に係る基板処理装置によると、第一線状部および第二線状部が交差する部分において、基板を点状に支持することができる。これによって、基板と線材との接触面積を低減することができる。したがって、基板を良好に熱的に処理できるという効果を奏する。 Moreover, according to the substrate processing apparatus which concerns on a 10th aspect, a board | substrate can be supported in the shape of a dot in the part which a 1st linear part and a 2nd linear part cross | intersect. Thereby, the contact area between the substrate and the wire can be reduced. Therefore, there is an effect that the substrate can be thermally processed satisfactorily.
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the component described in this embodiment is an illustration to the last, and is not a thing of the meaning which limits the scope of the present invention only to them. In the drawings, the size and number of each part may be exaggerated or simplified as necessary for easy understanding.
{1. 第1実施形態}
<基板処理システム100>
図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1を備えた基板処理システム100を示す概略平面図である。基板処理システム100は、液晶表示装置(LCD)の画面パネルを製造するための角形ガラス基板90(以下、単に基板90と称する。)を処理する。
{1. First Embodiment}
<
FIG. 1 is a schematic plan view showing a
基板処理システム100は、搬入部10、洗浄部11、デハイドベーク部12、塗布部13、減圧乾燥部14およびプリベーク部としての基板処理装置1を備えている。図1に示されるように、搬入部10、洗浄部11、デハイドベーク部12、塗布部13、減圧乾燥部14およびとしての基板処理装置1(プリベーク部)は、この順に、一方向(方向D1)に沿って直線状に隣接するように配置されている。
The
搬入部10は、基板処理システム100において処理される基板90を受け入れる部分である。洗浄部11は、搬入部10に搬入された基板90を洗浄して清浄化する。デハイドベーク部12は、洗浄部11にて洗浄液が付着した基板90を乾燥する。
The carry-in
塗布部13は、デハイドベーク部12で乾燥された基板90の表面に処理液(ここでは、レジスト液)を塗布する。減圧乾燥部14は、塗布部13で塗布された処理液を減圧乾燥させる。プリベーク部としての基板処理装置1は、基板90を加熱することによって処理液を固化させ、基板90に処理液の薄膜を形成する。
The
また、基板処理システム100は、処理液の薄膜が形成された基板90の表面に対して、所要の回路パターン状に露光する露光部15を備えている。露光部15は方向D1に直交する方向D2に延びている。露光部15の一方側の部分は、プリベーク部としての基板処理装置1に隣接しており、露光部15の他方側の部分は、現像部16に隣接している。
The
基板処理システム100は、さらに、現像部16、リンス部17、ポストベーク部18および搬出部19を備えている。現像部16は、露光部15において露光された基板90を現像液に浸して、現像処理する。リンス部17は、現像部16にて現像処理した基板90をリンス液ですすぐことによって、現像処理の進行を停止させる。
The
ポストベーク部18は、基板90を加熱することによって、基板90に付着したリンス液を除去する。搬出部19は、基板処理システム100において処理が完了した基板90を外部に搬出する部分である。現像部16、リンス部17、ポストベーク部18および搬出部19は、上記方向D1とは反対の方向D3に沿って直線状に隣接するように配置されている。基板処理システム100においては、基板90が露光部15においてUターンするように、処理の進行方向が方向D1から方向D3に変更される。
The
<基板処理装置1>
図2は、第1実施形態に係る基板処理装置1を示す概略平面図である。図3は、+X側から見た第1実施形態に係る基板処理装置1を示す概略側面図である。図4は、図2に示されるIV−IV位置から見た基板処理装置1を示す概略断面図である。なお、図2以降の各図には、水平面において互いに直交するX方向およびY方向と、鉛直方向に沿うZ方向とが示されている。これらの方向は、各要素の位置関係を説明の便宜のために定義されたものであり、各要素の位置関係を限定する趣旨のものではない。
<
FIG. 2 is a schematic plan view showing the
基板処理装置1は、ステージ2、線材3、位置決め部4を備えている。ステージ2は略直方体形状の部材である。ステージ2の表面(上面)は、水平面と平行な平滑な面とされている。ステージ2の表面には、1本の線材3が配されている。
The
基板処理装置1は、ステージ2を貫通する複数の昇降ピン21を備えている。図4に示されるように、基板処理装置1は、複数の昇降ピン21を同時に昇降させるピン駆動装置22を備えている。ピン駆動装置22は、複数の昇降ピン21の下端が取り付けられる板状部材と、板状部材を上下に昇降させるピストン部とで構成されている。
The
ピン駆動装置22によって、複数の昇降ピン21は、ステージ2の表面よりも高い位置まで上昇するとともに、ステージ2の表面よりも低い位置まで下降する。複数の昇降ピン21は、外部から搬送ロボットによって搬送されてきた基板90を、上端部で受け取って支持する。そして、複数の昇降ピン21が下降することによって、基板90がステージ2の表面に配置された線材3の上に載置されることとなる。
By the
ステージ2には、図4に示されるように、ヒータ23が内蔵されている。ヒータ23によってステージ2の表面が加熱されると、線材3に支持された基板90は、ステージ2の表面からの輻射熱によって加熱処理される。
As shown in FIG. 4, the
図2に示すように、単一の線材3は、折り返すことによって、ステージ2の表面を連続して複数回横断している。図2に示される例では、単一の線材3は、X方向に沿って、ステージ2を7回横断している。
As shown in FIG. 2, the
線材3としては、金属線材やグラスファイバー等のガラス線材、耐熱性の樹脂線材、もしくは、これらのうちから選ばれる2以上の複合材料からなる線材を用いることできる。また、線材3としては、熱伝導率が小さいものが望ましい。なぜなら、熱伝導率を小さくすることによって、線材3を通じてステージ2から基板90へ熱が伝導することを抑制できるからである。線材3の太さは、特に限定されないが、ステージ2の熱輻射が均一に起こるように、例えば、約0.1mm〜約1mmの範囲の太さとされる。なお、線材3は、複数の素線を撚り合わせることによって、1本の線材として構成されていてもよい。
As the
線材3は、ステージ2のX方向の両側部に設けられている一対の位置決め部4,4によって折り返している。位置決め部4は、ステージ2の側部に配されている長尺部材40、および、長尺部材40(長尺部)に取り付けられており、線材3を引っ掛ける複数のフック41(掛止部)を備えている。
The
図2に示されるように、線材3は、2つのフック41,41に引っ掛けられることによって折り返している。例えば、ステージ2の−X側に設けられた隣り合う2つのフック41,41に着目すると、+X側から−X側に向けて延びる線材3は、Y方向に並ぶ2つのフック41,41のうち−Y側に配されたフック41に引っ掛けられることで、X方向からY方向へ曲がり、Y方向に沿って+Y側に配されたフック41まで延びる。さらに、線材3は、+Y側に配されたフック41に引っ掛けられることで、Y方向から再びX方向に曲がり、+X側に配されたフック41まで延びる。以下の説明では、この2つのフック41,41に接触して曲がる部分、および、これらの曲がる部分に挟まれる部分を、線材3の折返し部分30と呼ぶ。
As shown in FIG. 2, the
長尺部材40は、ステージ2の側部に沿うY方向に延びている。また、各フック41は、Y方向に沿って既定間隔で長尺部材40の上面(+Z側の表面)に形成された取付穴42に着脱可能に取り付けられる。フック41の取り付け態様は種々考えられるが、例えば、取付穴42内に雌ねじを設け、フック41の後端部に雄ねじを設け、これらが螺合するようにしてもよい。また、フック41を取付穴42に挿入した際に、フック41の一部分が所定位置で引っ掛かることによって、フック41が取付穴42から抜け難くなるようにしてもよい。また、取付穴42の内部またはフック41に磁石を取り付けて、磁力によってフック41が長尺部材40に結合するようにしてもよい。複数の取付穴42は、掛止部であるフック41を長尺部材40に取り付けるための取付構造の一例である。
The
図2に示されるように、長尺部材40には、多数の取付穴42が設けられている。このため、複数のフック41の取り付け位置を変更することによって、ステージ2における、線材3の横断位置をY方向関して移動させることができる。すなわち、複数のフック41の取り付けピッチを変更することによって、線材3のY方向のピッチを変更できる。
As shown in FIG. 2, the
また、必要に応じてフック41を取り付けたり取り外したりできる。このため、フック41の数量を線材3の位置決めに必要な数量に抑えることができる。したがって、部品コストを抑えることができる。
Moreover, the
線材3の一端部分は、端部保持治具43に保持されている。端部保持治具43は、−X側に配された長尺部材40の−Y側端部近傍に設けられている。線材3を固定する方法としては、例えば、端部保持治具43に線材3を巻き付けて、その端部を固定してもよい。また、端部保持治具43に孔を設け、この孔に線材3の端部を挿通し、当該孔に蓋をすることによって、線材3の端部を固定してもよい。なお、端部保持治具43は、ステージ2などに取り付けられていてもよい。
One end portion of the
線材3の他端部分は、巻取治具44(巻取部)に保持されている。巻取治具44は、+Xに配された長尺部材40の+Y側端部近傍に設けられている。巻取治具44は、細隙をあけて対向配置された2つの板部材と、これらの板部材の中央部を連結する連結部材とで構成されている。線材3は、巻取治具44における2つの板部材の隙間に通され、連結部材に幾重にも巻き付けられることによって、巻取治具44に固定される。
The other end portion of the
巻取治具44によると、線材3の余った端部を巻き取って保持することができる。なお、線材3の余った端部のうち、一部分のみを保持して、それよりも先端側の部分を下に垂らすようにしてもよい。しかしながら、巻取治具44を用いることによって、このような線材3の垂れ下がりを排除できるため、ステージ2のまわりを整えることができる。
According to the winding
ステージ2の+X側および−X側の両側面には、板状部材51,51がそれぞれ取り付けられている。板状部材51は、ステージ2の側面および長尺部材40の間に介在する部材である。板状部材51のY方向の長さは、長尺部材40のY方向の長さよりも長くなっている(図3参照)。板状部材51は、例えばボルトなどによって、ステージ2の側面に固定される。
Plate-
板状部材51には、Z方向に延びる一対のレール52,52、および、Y方向に延びる固定部53が設けられている。
The plate-
一対のレール52,52は、板状部材51における−Y側および+Y側の端部付近に設けられている。一対のレール52,52は、長尺部材40の一部と接続されることによって左右方向(Y方向)の移動を規制する。長尺部材40は、一対のレール52,52によって、上下方向(Z方向)にのみ直線的に移動できるように構成されている。なお、一対のレール52,52は、省略しても構わない。
The pair of
固定部53は、板状部材51を介してステージ2に固定された部分である。固定部53は、ステージ2から側方(+X方向または−X方向)に突出する部分である。固定部53の上面(+Z側の表面)には、複数の弾性部材54(弦巻バネ)の一端が取り付けられている。複数の弾性部材54の他端は、固定部53の上方に配されている長尺部材40の下面(−Z側の表面)に取り付けられている。複数の弾性部材54は、長尺部材40を固定部53に向けて付勢する。これによって、長尺部材40に取り付けられた複数のフック41が、線材3を下方に引張する。ここで、ステージ2の+X側および−X側のそれぞれの長尺部材40が、複数の弾性部材54によって下方へ付勢される。このため、ステージ2の表面を横断する線材3は、両側から引っ張られ、弛みなく配置されることとなる。したがって、本実施形態では、固定部53に接続されている複数の弾性部材54によって、付勢機構が構成されている。
The fixing
なお、板状部材51を省略して、レール52および固定部53を、ステージ2自体に設けてもよい。しかしながら、この場合は、ステージ2の加工が必要となり、コストが高くなる虞がある。これに対して、本実施形態では、これらの構造物を板状部材51に設けることによって、ステージ2の加工を省略できるため、加工コストを抑えることができる。
Note that the plate-
図5は、一対の板状部材51,51がステージ2から取り外された基板処理装置1の概略断面図である。本実施形態では、一対の板状部材51,51をステージ2から取り外すことによって、線材3および一対の位置決め部4,4をステージ2から取り外すことができる。例えば、一対の板状部材51,51を上方へ持ち上げて支持することによって、ステージ2の表面およびその周辺部を容易にメンテナンスできる。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the
固定部53の上面には、長尺部材40の上下方向の移動を検出する複数の検出器55が設けられている(図3参照)。検出器55は、例えばリミットスイッチセンサなどで構成される。リミットスイッチセンサは、外部から受けた力をマイクロスイッチに伝達することによって、電気回路を開閉する構成を有している。このリミットスイッチセンサによって、長尺部材40の下降を検出することによって、線材3の延びまたは断線などを検出することができる。
A plurality of
本実施形態に係る基板処理装置によると、線材3によって基板90を支持する。このため、従来のように多数のプロキシミティピンで基板を支持するために、ステージ2に多数のプロキシミティピン固定用の穴を形成したり、あるいは、プロキシミティピンを設けたりせずに済む。これによって、ステージ2の加工コストを大幅に低減できる。また、プロキシミティピンを設けないことによって、ステージ2の表面を平坦なままとできるため、ステージ2の表面の清掃を効率よくできるとともに、高度に清浄化できる。すなわち、線材3を用いることで、基板処理装置1のメンテナンス作業を容易化できる。
In the substrate processing apparatus according to the present embodiment, the
また、本実施形態では、単一の線材3を折り返すことによって、ステージ2の表面を複数回横断させる。このため、特許文献1に記載の基板処理装置のように、複数の線材を、ステージ(ホットプレート)上における横断する位置毎に一本ずつ固定する場合に比べて、線材3の取り付け作業を簡略化できる。したがって、ステージ2に対して線材3を効率よく取り付けできる。また、取り外しの際においても、複数の線材を一本ずつ固定する場合に比べて、効率よく取り外すことができる。
In the present embodiment, the surface of the
本実施形態では、長尺部材40を弾性部材54によって下方に付勢することによって、線材3を引張している。このため、ステージ2がヒータ23によって熱膨張して変形したとしても、線材3を弛ませることなくステージ2上の既定位置に配置できる。なお、弾性部材54の代わりに、長尺部材40におもりを取り付けることによって、長尺部材40を下方に付勢するようにしてもよい。また、線材3の折返し部分30におもりを取り付けることによって、線材3を引張してもよい。
In the present embodiment, the
図6は、第1実施形態の変形例に係る基板処理装置1を示す概略側面図である。図2〜4に示される基板処理装置1においては、1本の長尺部材40がステージ2の側方に配されている。これに対して、図6に示される基板処理装置1では、長尺部材40が2本の長尺部材401,401に置き換えられている。
FIG. 6 is a schematic side view showing the
2本の長尺部材401,401は、Y軸方向に沿って列をなすように配されている。各長尺部材401には、フック41を取り付けるための複数の取付穴42が設けられている。また、各長尺部材401は、一対のレール52によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。
The two
この場合、長尺部材401毎に、交換することが可能となる。このため、単一の長尺部材40で構成する場合よりも、メンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。なお、長尺部材40を、3以上の長尺部材に分割してもよい。さらに、板状部材51および板状部材51に設けられた固定部53を、長尺部材401と同様に分割してもよい。
In this case, each
{2. 第2実施形態}
次に、第2実施形態について説明する。なお、以降の説明において、既に説明した要素と同様の機能を有する要素については、同じ符号またはアルファベットを追加した符号を付して、詳細な説明を省略する場合がある。
{2. Second Embodiment}
Next, a second embodiment will be described. In the following description, elements having the same functions as those already described may be denoted by the same reference numerals or reference numerals added with alphabets, and detailed description may be omitted.
図7は、第2実施形態に係る基板処理装置1Aを示す概略平面図である。また、図8は、図7に示されるVIII−VIII位置から見た基板処理装置1Aを示す概略正面図である。基板処理装置1Aにおいては、2本の線材3,3のそれぞれが、折り返すことによってステージ2をX方向に複数回横断するように配置されている。また、2本の線材3,3は、ステージ2Aの+X側および−X側に配された位置決め部4Aによって位置決めされている。
FIG. 7 is a schematic plan view showing a
位置決め部4Aは、長尺部材40Aと、複数の滑車41Aを備えている。長尺部材40Aは、第1実施形態に係る長尺部材40と同様に、Y方向に延びる部材であり、板状部材51に設けられた一対のレール52,52によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。また、長尺部材40Aは、複数の弾性部材54によって、板状部材51に設けられた固定部53と接続されている。これによって、長尺部材40Aは、下方に付勢されている。
The
滑車41Aは、長尺部材40Aに対して着脱自在に取り付けられている。滑車41Aは、X方向に延びる軸まわりに回転自在とされた円板部を備えている。円板部は、YZ平面に平行となるように配されており、円板の中央部に形成された周溝内に、線材3が引っ掛けられる。図7に示されるように、線材3は、2つの滑車41A,41Aに引っ掛けられることによって折り返している。
The
例えば、ステージ2Aの−X側に設けられた隣り合う2つの滑車41A,41Aに着目する。すると、+X側から−X側に向けて延びる線材3は、−Y側の滑車41Aに引っ掛けられることで、X方向からY方向に曲がり、+Y側の滑車41Aまで延びる。そして、線材3は、+Y側に配された滑車41Aに引っ掛けられることで、Y方向から再びX方向に曲がり、+X側に配された滑車41Aまで延びる。このように、本実施形態では、2つの滑車41A,41Aによって、線材3の折り返しがなされる。
For example, attention is paid to two
図8に示されるように、線材3のうち、ステージ2Aの表面からはみ出た部分(以下、「はみ出し部分」と称する。)は、水平面に対して斜め下方向に延びている。また、滑車41Aの円板部は、YZ平面に平行に配されているため、線材3が滑車41AによってZ方向に曲げられている。この曲がりが急である場合、滑車41Aから外れる虞がある。これを避けるために、滑車41Aの円板部を、線材3のはみ出し部分の延びる方向に合うように、YZ平面に対して斜めに配してもよい。
As shown in FIG. 8, a portion of the
図9は、第2実施形態に係る長尺部材40Aを示す概略斜視図である。長尺部材40Aの側面には、滑車41Aの円板部から延びる棒状の接続部411を差し込むことによって、滑車41Aを長尺部材40Aに取り付ける取付穴42Aが設けられている。滑車41Aの接続部411の取り付け態様は、フック41の取り付け態様と同一としてもよい。
FIG. 9 is a schematic perspective view showing a
長尺部材40Aにおいても、取付穴42Aが多数設けられている。このため、任意の取付穴42Aに滑車41Aを取り付けることができる。このため、滑車41Aの設置位置を変更することによって、線材3のステージ2Aにおける横断位置を変更することができる。
The
ステージ2Aの表面側両端部は、長方形の角部が丸められた角R部2Rが形成されている。角R部2Rが形成されることによって、線材3の折れを抑制することができる。
At both ends on the surface side of the
本実施形態では、例えばステージ2の+X側に配された滑車41Aは、ステージ2Aの側面よりも+X側に突き出ており、ステージ2の−X側2配された滑車21Aは、ステージ2Aの側面から−X側に突き出ている。このため、線材3のはみ出し部分は、ステージ2Aの+X側の部分では+X方向および−Z方向に、ステージ2Aの−X側の部分では−X方向および−Z方向に延びている。この線材3のはみ出し部分を、例えば−Z方向だけにすることも考えられる。具体的には、ステージ2Aの+X側および−X側の側面を、内側に凹ませることによって、板状部材51をステージ2Aの内側に移動させる。これによって、ステージ2Aの+X側および−X側に配された滑車41Aを、ステージ2Aの内側(−X側および+X側)に移動させることができる。したがって、線材3のはみ出し部分が下方(−Z方向)のみに延びるように構成できる。
In this embodiment, for example, the
図10は、第2実施形態の変形例に係る長尺部材40Bを示す部分概略図である。また、図11は、図10に示されるXI−XI位置から見た長尺部材40Bを示す概略断面図である。長尺部材40Bは、中空の四角柱における各側面の中央部分を、長手方向(Y方向)に沿って角柱状の溝402をなすように凹ませた形状を有している。長尺部材40Bとしては、例えばアルミ製の引き抜き材などが採用される。
FIG. 10 is a partial schematic view showing a
長尺部材40Bに対して、例えば滑車41Aを取り付ける場合、取付治具45が使用される。取付治具45は、溝402に挿入され、溝402に沿ってY方向に移動可能な移動治具46、移動治具46を固定するための一対の固定治具47,47で構成されている。
For example, when the
移動治具46の中央部には、滑車41Aを取り付けるための取付穴42Aが設けられている。固定治具47は、長尺部材40Bの上端と下端をはさみ込むことによって、長尺部材40Bに自身を固定させる。2つの固定治具47,47のそれぞれを、移動治具46における−Y側端部および+Y側端部に重なるようにして長尺部材40Bに取り付けることによって、移動治具46の位置を固定することができる。固定治具47は取り外し容易とする観点から、例えばゴムなどの材料で形成することが望ましい。
An
このような長尺部材40Bおよび取付治具45を用いた場合、移動治具46の取り付け位置を、溝402内で自由に設定できる。このため、滑車41Aの位置を任意に設定できるため、線材3の横断位置を自由に設定できる。
When such a
図12は、線材3の配置例1−配置例4を示す図である。図12に示す配置例1−配置例4は、いずれも+Z側から見たステージ2の平面図を示している。配置例1は、線材3をX方向に沿って横断させるものである。これは、図2および図7に示した実施形態と同様の配置態様である。
FIG. 12 is a diagram illustrating an arrangement example 1 to an arrangement example 4 of the
配置例2は、線材3をY方向に沿って横断させるものである。この場合、ステージ2の+Y側および−Y側のそれぞれに、線材3を折り返させる位置決め部4(または、位置決め部4A)を配置すればよい。
Arrangement Example 2 crosses the
配置例3は、線材3を、X方向に横断させるだけでなく、Y方向にも横断させることによって、線材3を交差させたものである。この場合、ステージ2の+Xおよび−X、ならびに、+Yおよび−Yに、位置決め部4(または位置決め部4A)を配置して、線材を折り返せばよい。また、1本の線材3を折り返して配置してもよいし、複数の線材3を組み合わせて配置してもよい。図示のように、1本の線材3を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ2に対する線材3の取り付けおよび取り外しを、より効率よく行うことができる。
In the arrangement example 3, the
配置例4は、線材3を、X方向およびY方向に対して斜めに横断させて、線材3を交差させたものである。この場合においても、1本の線材3を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ2に対する線材3の取り付けおよび取り外しを効率よく行うことができる。
Arrangement Example 4 is an example in which the
図13は、線材3を交差するように配置する配置例を示す部分概略断面図である。図13に示される第一線状部31および第二線状部32は、同一の線材3または異なる線材3の一部である。また、第一線状部31は、Y方向に沿ってステージ2の表面を横断している。また、第二線状部32は、Y方向に交差する(ここでは直交する)X方向に延びている。
FIG. 13 is a partial schematic cross-sectional view showing an arrangement example in which the
図示のように、第一線状部31は、複数の第二線状部32と交差する際、各第二線状部32の上位置および下位置を交互に通過している。このように線材3を編み込むように交差させることによって、各交差する部分(交差部P1,P2,P3)において、基板90を点状に支持できる。これによって、基板90と線材3との接触面積を低減することができる。したがって、基板90を均一に熱処理できる。
As illustrated, when the first
{3. 変形例}
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
{3. Modification}
Although the embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications are possible.
例えば、第1実施形態では、掛止部であるフック41が、線材3を、ステージ2の表面よりも下側の高さで、かつ、下方に引いている。このため、線材3におけるステージ2からのはみ出し部分が、下側に引っ張られている。例えばフック41が、線材3を、ステージ2の表面の高さで、かつ、ステージ2の外側(側方)に向けて引くようにすれば、線材3が下方に引っ張られることを抑制できる。これによって、線材3がステージ2の角部で折れることを抑制できる。
For example, in the first embodiment, the
また、第1実施形態では、ステージ2の両側側面に配設された位置決め部4はいずれも弾性部材54により掛止されている。しかしながら、一方が弾性部材54によって掛止され、他方が弾性部材54を用いる態様とは異なる構造によって掛止されていてもよい。このような構造の構成例としては、例えば、長尺部材40が板状部材51に直接固定されているような構成が考えられる。
In the first embodiment, the
また、上記実施形態では、基板処理装置1が、基板処理システム100におけるプリベーク部として構成されている場合を説明した。しかしながら、基板処理システム100におけるデハイドベーク部12またはポストベーク部18として構成された基板処理装置においても、本発明は有効である。
In the above embodiment, the case where the
また、上記実施形態では、基板を加熱処理する基板処理装置について説明した。しかしながら、基板を冷却処理する基板処理装置においても、本発明は有効である。ステージを冷却することによって、ステージ表面の線材上に載置された基板を冷却できる。ステージを冷却する構成としては、例えばペルティエ素子を利用したもの、ステージ内に冷却水を流す流路を設けたものなど、種々の構成が考えられる。また、基板を放置して自然冷却するような場合にも、本発明は有効である。 In the above-described embodiment, the substrate processing apparatus that heats the substrate has been described. However, the present invention is also effective in a substrate processing apparatus that cools a substrate. By cooling the stage, the substrate placed on the wire on the stage surface can be cooled. As the configuration for cooling the stage, various configurations such as a configuration using a Peltier element and a configuration in which a flow path for flowing cooling water is provided in the stage are conceivable. The present invention is also effective when the substrate is left to cool naturally.
上記実施形態では、基板処理装置の処理対象が液晶表示装置用のガラス基板である場合を説明した。しかしながら、処理対象となる基板は、半導体ウェハ、プラズマディスプレイ用ガラス基板、磁気・光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機EL用ガラス基板、太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向けの各種被処理基板であってもよい。 In the above embodiment, the case where the processing target of the substrate processing apparatus is a glass substrate for a liquid crystal display device has been described. However, substrates to be processed include semiconductor wafers, glass substrates for plasma displays, glass or ceramic substrates for magnetic / optical disks, glass substrates for organic EL, glass substrates or silicon substrates for solar cells, other flexible substrates, printed boards, etc. Various substrates to be processed for electronic devices may be used.
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。また、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。 Although the present invention has been described in detail, the above description is illustrative in all aspects, and the present invention is not limited thereto. It is understood that countless variations that are not illustrated can be envisaged without departing from the scope of the present invention. In addition, the configurations described in the above embodiments and modifications can be appropriately combined or omitted as long as they do not contradict each other.
100 基板処理システム
1,1A 基板処理装置
2,2A ステージ
23 ヒータ
3 線材
30 折返し部分
31 第一線状部
32 第二線状部
4,4A 位置決め部
40,40A,40B,401 長尺部材(長尺部)
402 溝
41 フック(掛止部)
41A 滑車(掛止部)
411 接続部
42,42A 取付穴(取付構造)
43 端部保持治具
44 巻取治具
45 取付治具
46 移動治具
47 固定治具
51 板状部材
52 レール
53 固定部
54 弾性部材(付勢機構)
55 検出器
90 基板
P1,P2,P3 交差部
DESCRIPTION OF
402
41A pulley (hanging part)
411
43
55
Claims (10)
基板を熱的処理するステージと、
前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する1本以上の線材と、
前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部と、
を備える、基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing a substrate,
A stage for thermally treating the substrate;
One or more wire rods arranged on the surface of the stage and crossing the surface of the stage a plurality of times by turning back; and
A positioning portion that contacts a folded portion of the wire, and defines a transverse position of the wire on the surface of the stage;
A substrate processing apparatus comprising:
前記位置決め部は、
前記ステージの側部に配置されている長尺部と、
前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部と、
を備える、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
The positioning part is
A long portion disposed on a side of the stage;
A plurality of hooks that are attached to the long part and hook the wire.
A substrate processing apparatus comprising:
前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、
をさらに備える、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 2,
A biasing mechanism that pulls the wire hooked on the hooking portion by biasing the long portion;
A substrate processing apparatus further comprising:
前記付勢機構は、
前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、
を備えている、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3, wherein
The biasing mechanism is
An elastic member that connects between the long portion and the fixed portion of the stage, and biases the long portion toward the fixed portion;
A substrate processing apparatus.
前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、
をさらに備えている、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3 or 4, wherein
A detector for detecting movement of the elongated portion in a direction biased by the biasing mechanism;
A substrate processing apparatus further comprising:
前記長尺部は、
前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する、基板処理装置。 A substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 5,
The long part is
A substrate processing apparatus for attaching the latching portion, wherein the substrate processing apparatus has an attachment structure in which an attachment position of the latching portion in the long portion is variable.
前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 6,
The said mounting structure is a substrate processing apparatus which is the structure which attaches | detaches the said latching | locking part with respect to a elongate part so that attachment or detachment is possible.
前記長尺部は、
前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 7,
The long part is
A substrate processing apparatus having a plurality of long members arranged in a row along the stage.
前記長尺部は、
前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、
を有する、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 8,
The long part is
A winding unit that winds and holds an end of the wire,
A substrate processing apparatus.
前記1本以上の線材は、
第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、
前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部と、を含み、
前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する、基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 9,
The one or more wires are
A first linear portion that traverses the surface of the stage along a first direction;
A plurality of second linear portions that cross the surface of the stage along a direction intersecting the first direction,
The substrate processing apparatus, wherein the first linear portion alternately passes through an upper position and a lower position of each second linear portion when intersecting the plurality of second linear portions.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014065286A JP2015188036A (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | substrate processing apparatus |
KR1020150038897A KR101657883B1 (en) | 2014-03-27 | 2015-03-20 | Substrate treatment apparatus |
CN201510142138.XA CN104950485A (en) | 2014-03-27 | 2015-03-27 | Substrate processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014065286A JP2015188036A (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | substrate processing apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015188036A true JP2015188036A (en) | 2015-10-29 |
Family
ID=54165254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014065286A Pending JP2015188036A (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | substrate processing apparatus |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015188036A (en) |
KR (1) | KR101657883B1 (en) |
CN (1) | CN104950485A (en) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5871629A (en) * | 1996-09-18 | 1999-02-16 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for fixturing substrate assemblies for electrolytic plating |
JP3386986B2 (en) * | 1997-10-16 | 2003-03-17 | シャープ株式会社 | Plasma processing equipment |
KR101026323B1 (en) * | 2002-11-27 | 2011-03-31 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Substrate processing apparatus |
JP3942533B2 (en) | 2002-11-27 | 2007-07-11 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing equipment |
CN1286703C (en) * | 2003-12-24 | 2006-11-29 | 友达光电股份有限公司 | Separable clue type cassette and its access base board method |
US7771538B2 (en) * | 2004-01-20 | 2010-08-10 | Jusung Engineering Co., Ltd. | Substrate supporting means having wire and apparatus using the same |
KR100898979B1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-05-25 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | Substrate lifting apparatus |
JP5430979B2 (en) * | 2009-03-12 | 2014-03-05 | 大亜真空株式会社 | Hot filament CVD equipment |
CN101807538B (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-14 | 友达光电股份有限公司 | Baseplate support device |
-
2014
- 2014-03-27 JP JP2014065286A patent/JP2015188036A/en active Pending
-
2015
- 2015-03-20 KR KR1020150038897A patent/KR101657883B1/en active IP Right Grant
- 2015-03-27 CN CN201510142138.XA patent/CN104950485A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150112821A (en) | 2015-10-07 |
CN104950485A (en) | 2015-09-30 |
KR101657883B1 (en) | 2016-09-19 |
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