JP2015184427A - 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造方法、反射防止物品の賦型用金型、及び賦型用金型の製造方法 - Google Patents

反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造方法、反射防止物品の賦型用金型、及び賦型用金型の製造方法 Download PDF

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Yuichi Miyazaki
祐一 宮崎
松藤　和夫
Kazuo Matsufuji
和夫 松藤
ゆり 下嵜
Yuri Shimozaki
ゆり 下嵜
増淵　暢
Noboru Masubuchi
暢 増淵
洋一郎 大橋
Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
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Abstract

【課題】モスアイ構造に係る反射防止物品に関して、耐擦傷性を向上する。
【解決手段】表面の微細凹凸形状により反射防止を図る反射防止物品５において、表面に、微小突起１５と、微小突起１５に比して形状の大きな大型突起１６とが配置され、大型突起１６は、離散したランダムな配置により作製され、微小突起１５高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である。微小突起１５は、大型突起１６間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置される。
【選択図】図２

Description

本発明は、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して反射防止を図る反射防止物品に関するものである。
近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、入射光に対する屈折率を基板の厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。
このモスアイ構造に係る反射防止物品では、隣接する微小突起の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように、微小突起が密接して配置される。また各微小突起は、透明基材に植立するように、さらに透明基材より先端側に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるように（先細りとなるように）作製される。
かかる反射防止物品には各種用途が提案されている。例えば、各種画像表示装置の出光面上に配置して画面における日光等の外光反射を低減して画像視認性を向上させたり、シート又は板状の透明基材上に該微小突起群を形成し、更に該微小突起群上にＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の透明導電膜を形成した電極を用いてタッチパネルを構成することにより、該タッチパネル電極とこれと隣接する各種部材との間の光反射を防止して、干渉縞、ゴースト像等の発生を低減させること等が提案されている。また特許文献４には、タッチパネルの画像表示パネル側面に微小突起を作製し、画像表示パネルからの出射光の反射を低減し、視認性、光の利用効率を向上する方法が提案されている。
また特許文献５には、この種の反射防止物品に関して、賦型処理時の樹脂の充填不良により微小突起の頂部に複数の頂点が作製される場合であっても、十分に反射防止機能を確保できることが記載されている。
また特許文献６には、微細穴を密接して配置した賦型用金型を使用した賦型処理により反射防止物品を作製する方法が開示されており、さらにこの微細穴の一部を深穴とすることにより微小突起の配列ムラを低減する方法が提案されている。この方法の場合、賦型処理により作製される微小突起は、高さが異なることになり、反射防止物品の耐擦傷性を向上することができる。
ところでこの種のモスアイ構造に係る反射防止物品では、耐擦傷性に実用上未だ不十分な問題がある。すなわち反射防止物品は、例えば他の物体が接触等した場合に、反射防止機能が局所的に劣化し、また接触個所に白濁、傷等が発生して外観不良が発生する。
特に、反射防止物品をフィルム形状により作製して、他の光学フィルムと積層する場合、さらには同種のフィルム形状による反射防止物品と積層する場合等にあっては、耐擦傷性が実用上未だ不十分な問題があり、これにより、これらの場合、局所的に微小突起が磨耗したり、反射防止物品が接触対象に密着してしまう場合があった。
特開昭５０−７００４０号公報 特表２００３−５３１９６２号公報 特許第４６３２５８９号公報 特開２００３−５０６７３号公報 特開２０１２−０３７６７０号公報 特開２０１３−１１９６３６号公報
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、モスアイ構造に係る反射防止物品に関して、従来に比して耐擦傷性を向上することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、モスアイ構造に係る微小突起に比して形状の大きな大型突起を設け、この大型突起によりモスアイ構造に係る微小突起に対する他の部材の接触を防止する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。なお以下において、頂点を複数有する微小突起を多峰性微小突起と呼び、この多峰性微小突起との対比により、頂点が１つのみの微小突起を単峰性微小突起と呼ぶ。また多峰性微小突起、単峰性微小突起に係る各頂点を形成する各凸部を、適宜、峰と呼ぶ。
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する
（１） 表面の微細凹凸形状により反射防止を図る反射防止物品において、
前記表面に、微小突起と、前記微小突起に比して形状の大きな大型突起とが配置され、
前記大型突起は、
離散したランダムな配置により作製され、
前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広であり、
前記微小突起は、
前記大型突起間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置された。
（１）によれば、大型突起をスペーサとして機能させて、他の部材の微小突起への接触を低減することができる。その結果、微小突起の損傷を有効に回避して耐擦傷性を向上することができる。
（２） （１）において、
前記大型突起は、
１個／ｃｍ２以上、３０個／ｃｍ２以下の密度により配置される。
（２）によれば、微小突起による反射防止機能を損なうことなく、十分に、他の部材の微小突起への接触を低減することができる。
（３） （１）又は（２）において、
前記大型突起は、
高さが５μｍ以上、１００μｍ以下である。
（３）によれば、各種の作製手法により大型突起を所望する大きさで簡易かつ確実に作製することができる。
（４） （１）、（２）、又は（３）において、
前記大型突起は、
付け根部分の幅が、５μｍ以上、１００μｍ以下である。
（４）によれば、各種の作製手法により大型突起を所望する大きさで簡易かつ確実に作製することができる。
（５） （１）、（２）、（３）、又は（４）において、
前記大型突起は、
前記微小突起に係る欠陥の箇所に作製される。
（５）によれば、欠陥の箇所を有効利用して大型突起を配置することができる。
（６） （１）、（２）、（３）、（４）、又は（５）において、
前記反射防止物品が、
フィルム形状であり、画像表示パネルの出射面側に配置され、
前記大型突起は、
前記画像表示パネルの出射面側に配置した際に、前記画像表示パネルの画素間の遮光部と重なり合う箇所に配置される。
（６）によれば、大型突起が目立たないようにすることができる。
（７） （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、又は（６）の反射防止物品が、画像表示パネルの出射面側及び又は入射面側に配置された画像表示装置。
（７）によれば、例えば画像表示パネルの出射面にタッチパネル用センサーフィルムを配置する場合、及び又は画像表示パネルの入射面にバックライト装置を配置する場合等に反射防止物品を配置して視認性、光の利用効率を向上する場合に、反射防止物品に設けられた微小突起が損傷しないようにすることができる。その結果、微小突起が磨耗しないようにし、反射防止物品が接触対象に密着しないようにすることができる。
（８） 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
前記反射防止物品は、
前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
前記反射防止物品の製造方法は、
基材の表面に、賦型樹脂層を作成する賦型樹脂層作成工程と、
賦型用金型を使用した前記賦型樹脂層の賦型処理により、前記基材に前記微小突起を作成する賦型工程と、
前記微小突起を作成した前記基材の表面に、前記大型突起を作成する大型突起作製工程とを備える。
（８）によれば、微小突起を作成した後の後加工により、大型突起を作成するようにして、この大型突起をスペーサとして機能させて、他の部材の微小突起への接触を防止することができる。その結果、微小突起の損傷を有効に回避して耐擦傷性を向上することができる。また微小突起を作成した後の後加工により、大型突起を作成することにより、大型突起の配置等に係る変更に柔軟に対応することができる。
（９） 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
前記反射防止物品は、
前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
前記反射防止物品の製造方法は、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、賦型用金型に前記微小突起に対応する微小凹部を作成する微小凹部の作成工程と、
前記微小凹部を作成してなる前記賦型用金型に前記大型突起に対応する大型凹部を作成する後加工工程と、
基材の表面に、賦型樹脂層を作成する賦型樹脂層作成工程と、
前記賦型用金型を使用した前記賦型樹脂層の賦型処理により、前記基材に前記微小突起及び前記大型突起を作成する賦型工程とを備える。
（９）によれば、ロール版等の賦型用金型を使用して微小突起及び大型突起を作成することができ、大型突起を設けない場合と同様の工程により基材を処理して、大型突起を備えた反射防止物品を作成することができる。
（１０） 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の生産に使用する反射防止物品の賦型用金型において、
前記微小突起に対応する微小凹部と、前記微小突起に対して形状の大きな大型突起に対応する大型凹部とが作成され、
前記大型凹部は、
離散したランダムな配置により作製され、
前記微小凹部より深さが深く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より表面側が幅広であり、
前記微小凹部は、
前記大型凹部間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置された。
（１０）によれば、微小突起と大型突起とが混在した反射防止物品を賦型処理により作製することができ、この反射防止物品では、大型突起をスペーサとして機能させて、他の部材の微小突起への接触を防止することができる。その結果、微小突起の損傷を有効に回避して耐擦傷性を向上することができる。
（１１） 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の生産に使用する賦型用金型の製造方法において、
前記反射防止物品は、
前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
前記賦型用金型の製造方法は、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、賦型用金型に前記微小突起に対応する微小凹部を作成する微小凹部の作成工程と、
前記微小凹部を作成してなる前記賦型用金型に前記大型突起に対応する大型凹部を作成する後加工工程とを備える。
（１１）によれば、賦型処理により、微小突起と大型突起とが混在した反射防止物品を作製することができ、この反射防止物品では、大型突起をスペーサとして機能させて、他の部材の微小突起への接触を防止することができる。その結果、微小突起の損傷を有効に回避して耐擦傷性を向上することができる。
モスアイ構造に係る反射防止物品に関して、従来に比して耐擦傷性を向上することができる。
本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す概念図である。 図１の画像表示装置に適用され反射防止フィルムを示す概念斜視図である。 図２の反射防止フィルムの表面形状を詳細に示す断面図である。 大型突起の配置の説明に供する図である。 隣接突起間距離の説明に供する図である。 頂点の説明に供する図である。 ドロネー図を示す図である。 隣接突起間距離の計測に供する度数分布図である。 微小高さの説明に供する度数分布図である。 多峰性微小突起の説明に供する図である。 多峰性微小突起を示す写真である。 図２の反射防止フィルムの製造工程を示すフローチャートである。 図１２の製造工程の説明に供する図である。 図１３の製造工程に係るロール版の説明に供する図である。 図１４のロール版の作製工程を示す図である。 陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しの説明に供する図である。 高さ分布の制御の説明に供する図である。 図１７とは異なる例を示す図である。 第２実施形態に係るロール版の作製工程の説明に供する図である。 微小突起の谷底の包絡面が凹凸面（うねり）を呈する形態を示す概念断面図である。
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１は、液晶表示パネルによる画像表示パネル２の背面側（入射面側）にバックライト装置３が配置され、このバックライト装置３の出射光を画像表示パネル２に入射して所望の画像を表示する。画像表示装置１は、この画像表示パネル２の出射面側にタッチパネル用センサーフィルム４が配置される。ここでタッチパネル用センサーフィルム４は、タッチパネルを構成するフィルム材であり、この画像表示装置１ではこのタッチパネル用センサーフィルム４に設けられた電極を図示しない駆動回路により駆動してタッチパネルを構成する。なおタッチパネル用センサーフィルム４には、静電容量型、抵抗型等、種々の構成を広く適用することができる。画像表示装置１では、このタッチパネル用センサーフィルム４を画像表示パネル２の出射面に載置して配置し、これによりこの画像表示パネル２の出射面とタッチパネル用センサーフィルム４の画像表示パネル２側面との間に空気層が介在することになる。
そこでこの実施形態では、タッチパネル用センサーフィルム４の画像表示パネル２側面に、反射防止フィルム５が配置される。ここで反射防止フィルム５は、モスアイ構造によるフィルム状の反射防止物品である。これにより画像表示装置１は、タッチパネル用センサーフィルム４の入射面における反射を低減し、視認性を向上すると共に光の利用効率を向上する。ここで反射防止フィルム５は、タッチパネル用センサーフィルム４と別体に作製した後、タッチパネル用センサーフィルム４に貼り付けるようにしてもよく、またタッチパネル用センサーフィルム４の画像表示パネル２側透明フィルム材に微細凹凸形状を作製することにより、タッチパネル用センサーフィルムと一体に作製してもよい。
なお符号５Ａにより示すように、反射防止フィルムは、タッチパネル用センサーフィルム４の画像表示パネル２側面に代えて、又はタッチパネル用センサーフィルム４の画像表示パネル２側面に加えて、画像表示パネル２の出射面に設けるようにしてもよい。またこの場合、画像表示パネル２と別体に作製して画像表示パネル２の出射面に貼り付けるようにしてもよく、画像表示パネル２の出射面を構成する部材（例えば直線偏光板の基材である）のタッチパネル用センサーフィルム４側面に微細凹凸形状を作製することにより、画像表示パネル２と一体に作製してもよい。
これらによりこの画像表示装置１では、画像表示パネル１の出射面側の構成に関して、画像表示装置１の内部反射を低減して視認性を向上し、さらには光の利用効率を向上する。
図２は、反射防止フィルム５の詳細構成を、画像表示パネル２側より見て示す斜視図である。反射防止フィルム５は、透明フィルムによる基材１１の表面に、モスアイ構造に係る微小突起１５と、この微小突起１５に比して形状の大きな大型突起１６とが配置される。反射防止フィルム５は、離散したランダムな配置により大型突起１６が配置され、この大型突起１６間にモスアイ構造に係る多数の微小突起１５、１５Ａ、１５Ｂが密接して不規則に配置される。これにより反射防止フィルム５は、この大型突起１６をスペーサとして機能させて微小突起１５への他の部材の接触を防止する。これにより反射防止フィルム５は、モスアイ構造に係る微小突起１５の損傷を有効に回避して耐擦傷性を向上する。
〔大型突起〕
ここで大型突起１６は、平面視した場合に略円形形状となる形状により形成され、例えば頂点の側が丸まった円錐形状、頂点の側が平坦な円錐台形状、半円球形状等により形成される。大型突起１６は、スペーサとして機能して他の部材と微小突起１５との接触を防止することにより、図３に示すように、微小突起１５より高さＨ１６が高くなるように作製される。ここでこの微小突起１５の高さＨは、後述するようにばらつくことにより、大型突起１６は、このばらつきを考慮して、最も高さの高い微小突起１５より高さＨ１６が高なるように作製される。ここで十分な反射防止機能を確保する観点より、微小突起１５は、反射防止を図る最長波長λｍａｘに対して、高さの平均値ＨＡＶＧがＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘの関係を満足することが必要である。これによりλｍａｘ＝７８０ｎｍとして、微小突起１５の高さの平均値ＨＡＶＧは１５６ｎｍ以上となる。また後述するように単峰性微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合には、微小突起１５の高さの標準偏差σは３０ｎｍ程度となる（図９参照）。これらにより大型突起１６は、３００ｎｍ以上の高さＨ１６により作製して微小突起１５への他の部材の接触を概ね防止することができる。しかしながら後述するような各種の作製手法によりこの大型突起１６を所望する大きさで簡易かつ確実に作製する観点から、大型突起１６は、高さＨ１６が１μｍ以上により作製されることが好ましく、さらにより好ましくは５μｍ以上により作製されることが好ましい。
しかしながら高さＨ１６が余りに高くなると、十分な強度を確保するために大型突起１６の付け根部分を充分に大きくせざるを得ず、その結果、微小突起１５による反射防止機能が局所的に劣化したり、画質劣化が知覚される等の恐れがある。そこでこの実施形態において、大型突起１６は、高さＨ１６が１００μｍ以下により作製される。
また大型突起１６は、他の部材の接触により損傷してスペーサとしての機能が損なわれることが無いように、付け根部分の幅Ｄ１６が十分な大きさにより作製される。具体的に大型突起１６は、反射防止を図る波長帯域の最長波長λｍａｘより、付け根部分の幅Ｄ１６が大きくなるように作製される。しかしながら後述するような各種の作製手法により大型突起１６を所望する大きさで簡易かつ確実に作製する観点から、大型突起１６は、付け根部分の幅Ｄ１６が１μｍ以上により作製されることが好ましく、さらにより好ましくは５μｍ以上により作製されることが好ましい。
しかしながら余りに付け根部分の幅Ｄ１６が大きくなると、画質劣化が知覚される等の恐れがあることにより、幅Ｄ１６は、１００μｍ以下により作製される。
また大型突起１６は、配置密度を高くすることにより、より確実に微小突起への他の部材の接触を防止できるものの、余りに配置密度が高くなると、これによっても反射防止機能が損なわれ、画質劣化が知覚される。また規則正しく配置した場合には、干渉縞等が発生する恐れがある。これにより大型突起１６は、１個／ｃｍ２以上、３０個／ｃｍ２以下の密度により、また離散したランダムが配置により作製される。
また後述するロール版の周側面に作製された微細凹凸形状を転写して反射防止フィルムを作製する場合には、このロール版の微細凹凸形状が局所的に損なわれる場合も発生し、その結果、反射防止物品に正常に微小突起１５が作製されていない欠陥の部位が発生する。そこでこの実施形態では、上述した配置密度の範囲で、欠陥が存在する場合には、欠陥の部位に大型突起１６が設けられ、これにより欠陥の箇所を有効利用して大型突起１６を配置する。
また図４に示すように、画像表示パネル２の画素間に設けられた遮光部であるブラックマトリックスＢＭ上となるように、大型突起１６を配置し、これにより大型突起を一段と目立たなくする。なおこれにより反射防止フィルム５は、ブラックマトリックスと大型突起１６とが重なり合うように設定されて画像表示パネル２に配置される。
なおこれらによりこの実施形態では、図４において一点鎖線により示すように、例えば、上述した配置密度により大型突起１６を配置する場合の、大型突起１６の１個に割り当てられる面積（配置密度の逆数である）による矩形の領域により、反射防止フィルム５の全面を区分し、各区分した領域に１個づつ大型突起１６を配置する。この配置の際に、欠陥が存在する領域では、この欠陥の箇所に大型突起１６を配置する。また欠陥が複数存在する場合、形状の大きな欠陥の側に大型突起を配置する。これに対して欠陥が存在しない場合、ブラックマトリックスＢＭの上であって、当該領域内のランダムな位置に大型突起１６を配置する。なおこれにより図４の例は、約１個／ｍｍ２の密度により大型突起１６を配置する場合の例である。
これによりこの実施形態では、欠陥の箇所を優先するようにして、ブラックマトリックスＢＭ上に、上述した配置密度によるランダムな配置により大型突起１６を配置する。
〔微小突起〕
微小突起１５は、隣接する微小突起１５の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように、大型突起１６間に不規則な配置により密接して配置される。この実施形態では、画像表示パネル２に配置して視認性を向上させることを目的とするため、この最短波長は、個人差、視聴条件を加味した可視光領域の最短波長（３８０ｎｍ）に設定され、間隔ｄは、ばらつきを考慮して１００〜３００ｎｍとされる。またこの間隔ｄに係る隣接する微小突起１５は、いわゆる隣り合う微小突起１５であり、基材１１側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。反射防止フィルム５では微小突起１５が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作製すると、平面視において各微小突起１５を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起１５は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。
なお微小突起１５に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止では、透明基材表面とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、微小突起に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうちの１つである微小突起の間隔に関して、例えば特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報等に開示のように、微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起の間隔ｄは、突起配列の周期Ｐ（ｄ＝Ｐ）となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλｍａｘ、最短波長をλｍｉｎとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、Ｐ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、Ｐ≦λｍｉｎとなる。
なお波長λｍａｘ、λｍｉｎは、観察条件、光の強度（輝度）、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λｍａｘ＝７８０ｎｍ及びλｍｉｎ＝３８０ｎｍとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄ≦３００ｎｍであり、より好ましい条件は、ｄ≦２００ｎｍとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、周期ｄの下限値は、通常、ｄ≧５０ｎｍ、好ましくは、ｄ≧１００ｎｍとされる。これに対して微小突起の高さＨは、十分な反射防止効果を発現させる観点より、Ｈ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。
しかしながらこの実施形態のように、微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間の間隔ｄはばらつきを有することになる。より具体的には、図５に示すように、基材の表面又は裏面の法線方向から見て平面視した場合に、微小突起が一定周期で規則正しく配列されていない場合、微小突起の繰り返し周期Ｐによっては隣接突起間の間隔ｄは規定し得ず、また隣接突起の概念すら疑念が生じることになる。そこでこのような場合、以下のように算定される。
（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて微小突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図５は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。
（２）続いてこの求められた面内配列から各微小突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図６は、図５に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各微小突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を作製する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図７は、図６から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図６による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図８は、図７のドロネー図から作製した度数分布のヒストグラムである。なお図５において符号１５Ａ及び１５Ｂにより示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作製する。
具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えてい無い単峰性微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図５に示すような微小突起群の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図８の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図８は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図８の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとなる。
なお同様の手法を適用して微小突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図９は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした微小突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から微小突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図９の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、微小突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図９に示す微小突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの微小突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
なお上述した微小突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合は、（１）先ず、基材１１の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、基材１１の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
微小突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ、微小突起の高さの平均値ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが必要であることが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また微小突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、ＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。
因みに、図５〜図９の例により説明するとｄｍａｘ＝２３４ｎｍ≦λｍａｘ＝７８０ｎｍとなり、ｄｍａｘ≦λｍａｘの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件ｄｍａｘ≦λｍｉｎも満たすことが判る。また平均突起高さＨＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λｍax＝７８０ｎｍとして）、十分な反射防止効果を実現するための微小突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、ＨＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全微小突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。
〔多峰性微小突起〕
反射防止フィルム５は、単峰性微小突起と多峰性微小突起とが混在して設けられる。ここで多峰性微小突起は、頂点を複数有する微小突起であり、微小突起を先端側より平面視した場合に、ほぼ中央より外方に向かって形成された溝により複数の領域に分割され、この複数の領域の各領域が、それぞれ各頂点に係る峰であるように形成される。多峰性微小突起は、対応する形状を備えた微細穴の賦型処理により作製され、微小突起を先端側より平面視した場合の形状等が、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の、賦型処理時の樹脂の充填不良により生じるような多峰性微小突起とは異なる特徴を備える。単峰性微小突起は、頂点が１つのみの微小突起である。このように単峰性微小突起と多峰性微小突起との混在により、反射防止フィルム５は、仮に大型突起１６が損傷等して他の部材が接触した場合でも、微小突起１５の損傷を低減して反射防止機能の局所的な劣化、傷付き等を防止することができ、これにより反射防止フィルム５は、一段と耐擦傷性を向上することができる。
図１０は、多峰性微小突起の説明に供する断面図（図１０（ａ））、斜視図（図１０（ｂ））、平面図（図１０（ｃ））である。なおこの図１０は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図１０（ａ）は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図１０（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、基材１１の面内方向であり、ｚ方向は微小突起の高さ方向である。反射防止フィルム５において、多くの微小突起１５は、基材１１より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図１０においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂点が１つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝ｇが形成され、頂点が２つになったもの（１５Ａ）、頂点が３つになったもの（１５Ｂ）、さらには頂点が４つ以上のもの（図示略）が存在した。なお単峰性微小突起１５の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂの形状は、概略、単峰性微小突起１５の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂの形状は、或いは、複数の峰を含み高さ方向（図１０ではＺ軸方向）を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状が、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Ｚ＝ａ２Ｘ２＋ａ４Ｘ４＋・・＋ａ２ｎＸ２ｎ＋・・で近似されるような形状である。
このような頂点を複数有する多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太くなる（周囲長が長くなる）。これにより、多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性微小突起が存在する場合、反射防止フィルム５では、単峰性微小突起のみによる場合に比して耐擦傷性が向上する。具体的に、反射防止フィルム５の表面に外力が加わった場合、単峰性微小突起のみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性微小突起は、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該多峰性微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐ。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。
さらにこのような多峰性微小突起１５Ａ、５Ｂを含む微小突起群（５、５Ａ、５Ｂ、・・）を有する反射防止フィルム５を詳細に検討したところ、各微小突起の高さが種々に異なることが判った（図９、参照）。すなわちこのように微小突起の高さが種々に異なる場合には、例えば大型突起が損なわれて他の部材が接触し、その結果、高さの高い微小突起の形状が損なわれた場合でも、高さの低い微小突起においては、形状が維持されることになる。これによっても反射防止物品では、反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらには外観不良の発生を低減することができ、その結果、耐擦傷性を向上することができる。
また反射防止フィルム５の微小突起群と物体との間に塵埃が付着すると、当該物品が反射防止物品に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起（群）の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高さの高い微小突起に強く接触し、これを損傷させる。一方で高さの低い微小突起との接触は弱まり、高さの低い微小突起については損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した高さの低い微小突起によって反射防止性能が維持される。
またこれに加えて、各微小突起の高さに分布（高低差）の有る微小突起群は、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離ｄの他に、突起高さにも依存する為である。
またこの場合には、多数の微小突起のうちの高さの高い微小突起のみが、例えば反射防止フィルム５と対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における反射防止物品の取り扱いを容易とすることができる。なおこのように滑りを良くする観点から、高さのばらつきは、標準偏差により規定した場合に、１０ｎｍ以上必要であるものの、５０ｎｍより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
またこのように多峰性微小突起が混在する場合には、単峰性微小突起のみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができる。すなわち多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂは、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性微小突起と比べて、より光の反射率が低減することになる。その理由は、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂは、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性微小突起よりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。
すなわち図１０において、ｚ＝０を高さＨ＝０とおき、高さ方向（Ｚ軸方向）に直交する仮想的切断面Ｚ＝ｚで微小突起１５、１５Ａ等を切断したと仮定した場合の面Ｚ＝ｚにおける微小突起と周辺の媒質（通常は空気）との屈折率の平均値として得られる有効屈折率ｎｅｆは、切断面Ｚ＝ｚにおける周辺媒質（ここでは空気とする）の屈折率をｎＡ＝１、微小突起１５、１５Ａ、・・の構成材料の屈折率をｎＭ＞１とし、又周辺媒質（空気）の断面積の合計値をＳＡ(ｚ)、微小突起１５、５Ａ、・・の断面積の合計値をＳＭ（ｚ）としたとき、
ｎｅｆ(ｚ)＝１×ＳＡ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))＋ｎＡ×ＳＭ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))（式１）
で表される。これは、周辺媒質の屈折率ｎＡ及び微小突起構成材料の屈折率ｎＭを、各々周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）及び微小突起の合計断面積の合計値ＳＭ（ｚ）で比例配分した値となる。
ここで、単峰性微小突起１５を基準にして考えたときに、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂ、・・は、頂部近傍が複数の峰に分裂している。そのため、頂部近傍を切断する仮想的切断面Ｚ＝ｚにおいて、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂ、・・は、単峰性微小突起１５、・・に比べて相対的に低屈折率である周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）の比率が、相対的に高屈折率である微小突起の合計断面積ＳＭ（ｚ）の比率に比べて、より増大することになる。
その結果、仮想的切断面Ｚ＝ｚにおける有効屈折率ｎｅｆ（ｚ）は、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂ、・・の方が単峰性微小突起１５、・・に比べて、より周辺媒質の屈折率ｎＡに近くなる。面Ｚ＝ｚにおける多峰性微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ、単峰性微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏとすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏ（式２）
となる。ここでｎＡ（ｚ）＝１とすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｏｎｏ（式２Ａ）
となる。
これにより頂部近傍において、多峰性微小突起を含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性微小突起のみからなる突起群に比べて、その有効屈折率と周辺媒質（空気）の屈折率との差、より詳細に言えば、微小突起の高さ方向の単位距離当たりの屈折率の変化率をより低減化すること、換言すれば、屈折率の高さ方向変化の連続性をより高めることが可能になることが判る。
一般に、隣接する屈折率ｎ０の媒質と屈折率ｎ１の媒質との界面に光が入射する場合に、該界面における光の反射率Ｒは、入射角＝０として、
Ｒ＝（ｎ１−ｎ０）２／（ｎ１＋ｎ０）２（式３）
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差ｎ１−ｎ０が小さいほど界面での光の反射率Ｒは減少し、（ｎ１−ｎ０）が値０に近づけばＲも値０に近づくことになる。
（式２）、（式２Ａ）及び（式３）より、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂ、・・を含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性微小突起１５、・・のみからなる突起群に比べて光の反射率が低減する。
なお単峰性微小突起１５のみからなる微小突起群を用いても、隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘを反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長λｍｉｎ以下の十分小さな値にすることによって、十分な反射防止効果を発現することは可能である。但し、その場合、隣接峰間の距離と隣接微小突起間距離とが同一となる為、隣接微小突起間が接触、一体複合化する現象（いわゆるスティッキング）が発生し易くなる。スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離ｄは一体複合化した微小突起数の分だけ増加する。
例えば、ｄ＝２００ｎｍの微小突起が４個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、ｄ＝４×２００ｎｍ＝８００ｎｍ＞可視光線帯域の最長波長（７８０ｎｍ）となり、これにより局所的に反射防止効果を損なうことになる。
一方、多峰性微小突起１５Ａ、１５Ｂ、・・からなる微小突起群の場合、頂部近傍の各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離ｄＢＡＳＥよりも小さくなり（ｄＰＥＡＫ＜ｄＢＡＳＥ）、通常、ｄＰＥＡＫ＝ｄＢＡＳＥ／４〜ｄＢＡＳＥ／２程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫ≪λｍｉｎとすることで十分な反射防止性能を得ることができる。但し、多峰性微小突起の各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性微小突起の麓部の幅に対する頂点の高さの比の１／２〜１／１０程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起の峰部は単峰性微小突起に比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性微小突起からなる微小突起群は、単峰性微小突起からなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。
なお可視光の反射防止用途の他の用途であっても、又は可視光環境下であっても、当該反射防止材料が設置、使用される環境条件に応じて、想定する反射防止波長に応じたモスアイ構造を形成し、高さ分布を持たせる事により、前記の通り、従来のものより耐擦性があり、かつ、プロセス要件などで低硬度の材料を使用した場合においても互いのスティッキングを防止し、光学的必要性能を合わせ持つ反射防止材料を作製する事が可能となる。例えば、３８０ｎｍ前後の紫外領域について反射防止性能を得たい場合は微小突起の高さが約５０μｍでも可能であり、同様に７００ｎｍ前後の赤外領域については約１５０μｍ（実用上を考慮すると４００μｍ程度）であれば可能である。なお、前記の通り微小突起の配置ピッチについては高さについて飽和するような製作条件を見出し、モスアイの反射率を効果的に操作する事が可能である。さらに、モスアイの頂部構造についても、従来の単峰から改良を加える事で高さと反射率を両立し、かつ物理的にスティッキングを起こしにくく、効果的に反射率を低減する事が可能となっている。
またさらに反射防止物品の反射防止機能は、微小突起の間隔だけでなく、アスペクト比にも依存し、アスペクト比が一定であると、例えば可視光域では十分に小さな反射率を確保できる場合でも、紫外線域では可視光域に比して反射率が増大して反射防止機能が不足する。なおこのような場合において、微小突起のピッチを一段と小さくして紫外線域で十分な反射防止機能を確保できるように設定することも考えられるものの、この場合は、赤外線域で高さが不足して反射率が増大することになる。
しかしながらこの実施形態のように、単峰性の微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合には、多峰性微小突起により隣接突起間間隔を低下させたと等価な反射防止機能を確保することができ、これによりアスペクト比の異なる単峰性の微小突起を混在させた場合と同様に、広い波長帯域で反射率を低減することができる。なお可視光域を中心にした広い波長帯域で十分に小さな反射率を確保する場合、可視光域に係る波長４８０〜６６０ｎｍに対応する４８０〜６６０ｎｍの隣接突起間間隔による微小突起において、多峰性微小突起と単峰性微小突起とを混在させることが望ましい。
なお図１１は、頂点が複数の微小突起を示す写真であり、図１１（ａ）は、ＡＦＭによるものであり、図１１（ｂ）及び（ｃ）は、ＳＥＭによるものである。図１１（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１１（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１１（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。
〔各部の構成〕
反射防止フィルム５（図２）において、基材１１は、ＴＡＣ（Triacetylcellulose）等のセルロース(纖維素)系樹脂、ＰＭＭＡ(ポリメチルメタクリレート)等のアクリル系樹脂、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）等のポリエステル系樹脂、ＰＰ（ポリプロピレン）等のポリオレフィン系樹脂、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）等のビニル系樹脂、ＰＣ（Polycarbonate）等の各種透明樹脂フィルムを適用することができる。また上述したようにタッチパネル用センサーフィルム４の透明フィルム材に微細凹凸形状を作製してタッチパネル用センサーフィルム４と一体に作製する場合、基材１１は、このタッチパネル用センサーフィルム４に適用される透明フィルム材である。
反射防止フィルム５は、基材１１上に、微細な凹凸形状の受容層となる未硬化状態の樹脂層（賦型処理に供する賦型樹脂層であり、以下、適宜、受容層と呼ぶ）１７を形成し、該受容層１７を賦型処理して硬化せしめ、これにより基材１１の表面に微小突起１５が密接して配置される。この実施形態では、この受容層１７に、賦型処理に供する賦型用樹脂の１つであり、親水性樹脂であるアクリレート系紫外線硬化性樹脂が適用され、基材１１上に紫外線硬化性樹脂層により受容層１７が形成される。反射防止フィルム５は、微小突起１５を作成した後、ディスペンサによりアクリレート系紫外線硬化性樹脂を滴下して硬化させることにより、大型突起１６が作製される。
しかしてこのようにして作成される反射防止フィルム５は、微小突起及び大型突起が、親水性樹脂であるアクリレート系樹脂により作製されることにより、この実施形態のように画像表示装置の内部に配置する場合にあっても、結露による水滴を薄く引き伸ばし、上記画面の曇りを防止することができる。これにより結露による視認性の劣化を有効に回避することができる。
〔製造工程〕
図１２は、反射防止フィルム５の製造工程を示す図である。反射防止フィルム５は、ロール材により基材１１が提供され、賦型樹脂層作製工程ＳＰ２において、この基材１１に、受容層１７係る塗工液をダイ等により塗布して乾燥することにより、受容層１７である賦型樹脂層を作製する。また続く賦型工程ＳＰ３において、賦型用金型であるロール版を使用した賦型処理により、このロール版の周側面に作製された微細凹凸形状を転写して微小突起１５が作製される。これらによりこの実施形態において、賦型樹脂層作製工程ＳＰ２及び賦型工程ＳＰ３は、透明フィルム材である基材１１の表面に、微小突起を作成する微小突起の作成工程を構成する。
この製造工程は、続く大型突起作製工程ＳＰ４において、ロール版の事前検査等により事前に設定された箇所に、ディスペンサにより紫外線硬化性樹脂を滴下して硬化させることにより、大型突起１６が作製される。反射防止フィルム５は、その後、必要に応じて粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して作製される。これにより反射防止フィルム５は、ロール材による長尺の基材１１に、賦型用金型であるロール版２３の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。なおディスペンサにより紫外線硬化性樹脂を滴下して大型突起１６を作成する代わりに、例えばスクリーン印刷により紫外線硬化性樹脂を付着して大型突起１６を作製する場合等、大型突起１６に係る紫外線硬化性樹脂の塗布方法にあっては、種々の手法を適用することができる。さらに大型突起１６の作製については、その径に対する高さの比を０．５以上（高さ／径≧０．５）を確保する場合は、同一箇所に複数回のディスペンサ塗布および硬化処理、あるいはスクリーン印刷および硬化処理を行ない、積層により高さを得る事が好ましい。また紫外線硬化性樹脂に代えて、熱硬化性樹脂を適用する場合等、大型突起１６に係る樹脂にあっては、必要に応じて種々の材料を適用することができる。
図１３は、賦型樹脂層作製工程ＳＰ２、賦型工程ＳＰ３の詳細説明に供する図である。この製造工程は、ダイ２２により基材１１に塗工液を塗布した後、押圧ローラ２４により、ロール版１３の周側面に基材１１を加圧押圧し、これにより基材１１に塗布した紫外線硬化性樹脂をロール版２３の周側面に密着させ、ロール版２３の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより基材１１の表面に微小突起群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ２５を介してロール版２３から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材１１を剥離する。
図１４は、ロール版２３の構成を示す斜視図である。ロール版２３は、円筒形状の金属材料である母材の周側面に、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製され、この微細な凹凸形状が上述したように基材１１に賦型される。ここでこの微細な凹凸形状は、微小突起１５に対応する微小凹部（微細穴）が密接配置されたものである。このため母材は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウム層が設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が適用される。より具体的に、この実施形態では、母材に、円筒形状によるアルミニウム材が適用されるものの、ステンレス、銅等による金属パイプに、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層を設けたものを適用してもよい。
ロール版２３は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、母材の周側面に微細穴が密に作製され、この微細穴を掘り進めると共に、開口部に近付くに従ってより大きな径となるようにこの微細穴の穴径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版２３は、反射防止フィルム５の微小突起に対応する微小凹部を密接配置してなる微細凹凸形状が作製される。
〔陽極酸化処理、エッチング処理〕
図１５は、ロール版２３の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いてこの工程は、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版２３を作製する。
この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、金型をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。
この実施形態では、このようにして繰り返す陽極酸化処理における印加電圧の制御により、単峰性微小突起と多峰性微小突起が混在するようにロール版２３を作成するようにし、さらに微小突起の高さの分布を制御する。反射防止物品は、微小突起の高さ分布の制御により、例えば反射防止機能を果たす視野角方向の特性を制御することができる。
〔高さ分布の制御〕
ここで陽極酸化処理により微細穴を作製する場合、陽極酸化時の印加電圧と微細穴のピッチとは、比例する関係にある。これによりこのように陽極酸化処理、エッチング処理との繰り返しにおいて、陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が異なる微細穴を混在させてその比率を制御することができ、これにより微小突起の高さの分布を制御することができる。
またこのように陽極酸化処理における印加電圧を可変する場合にあっては、太さの大きな微細穴の底面に、複数の微細穴を作製して多峰性微小突起に係る微細穴とすることも可能であり、この太さの太い微細穴の高さの制御、底面に作製する微細穴の深さの制御等により、多峰性微小突起についても、高さの分布を制御することができる。
図１６は、このような高さの分布の制御の説明に供する模式図であり、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細穴を示す図である。陽極酸化処理の印加電圧と作製される微細穴のピッチとは比例関係である。しかしながら実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細穴のピッチは種々にばらつく。しかしながらこの図１６においては、このようなばらつきが無いものとして、微細穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお図１６（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ各工程により作製される微細穴を平面視した図、及びａ−ａ線により切り取って示す対応する断面図である。
ここで始めにこの実施形態では、低い印加電圧Ｖ１により第１の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理（以下、適宜、第１工程と呼ぶ）を実行し、これにより図１６（ａ）に示すように、この低い印加電圧Ｖ１に係る基本ピッチによる微細穴ｆ１を作製する。ここでこの第１の陽極酸化処理は、アルミニウムのフラット面に、後続する陽極酸化のきっかけを作製するものである。なおこの場合、必要に応じてこの第１工程のエッチング処理を省略してもよい。
続いてこの実施形態では、第１の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）により第２の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第２工程と呼ぶ）。ここでこの場合、図１６（ｂ）に示すように、印加電圧を上昇させたことにより、第１の陽極酸化処理により作製された微細穴ｆ１のうち、この第２の陽極酸化処理に係る印加電圧に対応する微細穴のみ深さ方向に掘り進められ（符号ｆ２により示す）、エッチング処理されることになる。これによりこの第２の工程により、例えば２段階により印加電圧を可変すれば、深さの異なる分布を呈する微細穴を混在させることができる。
続いてこの実施形態では、第２の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）により第３の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第３工程と呼ぶ）（図１６（ｃ））。ここでこの第３工程は、ピッチの異なる微細穴を作製するための工程である。このためこの工程では、第２の陽極酸化工程における印加電圧Ｖ２から徐々に印加電圧を上昇させる。ここでこの印加電圧の上昇を離散的に（段階的に）実行すると、微小突起の高さ分布を離散的に設定することができ、深さの分布が異なる微細穴を混在させることができる。またこの印加電圧の上昇を連続的に変化させると、深さ分布を正規分布に設定することができる。
さらにこの第３の工程において、陽極酸化に係る特定電圧の印加時間、エッチング処理の時間が、第１、第２工程よりも長く設定され、これにより符号ｆ３により示すように、第１工程、第２工程で作製された微細穴ｆ１、ｆ２を飲み込むように、これら微細穴ｆ１、ｆ２と合体して底部の略平坦な微細穴が作製される。
続いてこの実施形態では、第３の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）により第４の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第４工程と呼ぶ）（図１６（ｄ））。ここでこの第４工程は、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細穴を作製するための工程であり、これによりこの印加電圧Ｖ４はこのピッチに対応する電圧である。この第４工程において、印加電圧を徐々に上昇させることにより、第３工程により大きく掘り進められた微細穴の一部がさらに一段と掘り進められて、この掘り進められた微細穴が単峰性の微小突起に対応する微細穴ｆ４となる。
続いてこの実施形態では、第１工程における印加電圧Ｖ１により第５の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（図１６（ｅ））。ここでこの第５の工程において、第３工程により底面が平坦面とされた微細穴であって、第４の工程の陽極酸化処理の影響を受けていない微細穴について、底面に微細な穴が複数個形成され、これにより多峰突起用の微細穴ｆ５が作製される。ここでこの第５工程の印加電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、底面に形成される微細な穴ｆ５の数を増やしたり、減らしたりすることができる。
ここでこの一連の工程では、第１及び第２の工程により作製された深さの異なる微細穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微小突起ｆ３を作製し、第４の工程において、単峰性微小突起に係る微細穴を作製し、また第５の工程において、底面が平坦な微小突起ｆ３の底面を加工して単峰性微小突起に係る微細穴を作製していることにより、これら第１〜第４の工程に係る陽極酸化処理の印加電圧、処理時間、エッチング処理の処理時間等を制御して各工程で作製される微細穴の深さ等を制御することにより、微小突起の高さの分布、多峰性微小突起の高さの分布を制御することができる。なおこれら第１〜第５の工程は、必要に応じて省略したり、繰り返したり、工程を一体化してもよいことは言うまでも無い。
図１７及び図１８は、この第１〜第５の工程により作製されたロール版を使用して生産された微小突起の高さの分布を示す図である。
図１７は、第２工程、第３工程、第４工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第４工程では、第３工程の印加電圧から印加電圧を低下させたものである。この図１７に示す反射防止物品では、微小突起の高さ分布が正規分布を示しており、微小突起が作製されてなる面の鉛直線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止物品防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性微小突起の耐擦傷性の機能を発揮させることができ、また可視光域を中心とした広い波長帯域で十分に反射率を低減する等の、光学特性の機能向上を図ることができる。。
なおこの図１７の例では、微小突起の高さｈの平均値ｍが１４５．７ｎｍであり、その標準偏差δが２２．１ｎｍであった。またこの平均値ｍ及び標準偏差δにより低高度領域をｈ＜ｍ−σ、中高度領域をｍ−σ≦ｈ≦ｍ＋σ、高高度領域をｈ＞ｍ＋σを定義したとき、総数Ｎｔ（２６３個）の微小突起のうち、多峰性微小突起は、中高度領域、中高度領域、高高度領域にそれぞれ２個、２３個、５個の分布が得られ、これによっても多峰性微小突起が概ね微小突起全体と同一の高さ分布を示していることが判る。
図１８は、上述の第１〜第５の工程のうちで、第２工程では段階的に電圧を上昇させて第３工程の処理を併せて実行し、第４工程では、図１７の例による最高電圧に比して一段とより高い電圧により陽極酸化処理を実行して深さの深い微細穴を作製し、またさらにこの第４工程に対応して第５工程を２回繰り返したものである。
この図１８の例では、高さの高い側と低い側とに分布のピークを有する双方性の特性による度数分布が得られ、高さの高い微小突起の分布を増大させることができ、さらに各分布に対応して多峰性微小突起の分布を形成することができる。これにより斜め方向からの光学特性を向上して広い視野角特性を向上することができる。また可視光域を中心とした広い波長帯域で十分に反射率を低下させることができる。
〔第１実施形態の効果〕
この実施形態によれば、微小突起に比して形状の大きな大型突起を設けることにより、耐擦傷性を向上することができる。特にこの大型突起にあっては、スペーサとして機能させることができることにより、画像表示パネルの出射面側に配置して視認性、光の利用効率を向上する場合に、この出射面側の他の部材との接触による微小突起の損傷を有効に回避することができ、これにより局所的に微小突起が磨耗したり、反射防止物品が接触対象に密着してしまう等の事故を有効に回避することができる。
またこのときこの大型突起を、１個／ｃｍ２以上、３０個／ｃｍ２以下の密度により配置することにより、反射防止機能を損なくことなく、また画質劣化を知覚させることなく、確実に他の部材の接触を防止することができる。またこの大型突起が、高さが５μｍ以上、１００μｍ以下であることであることにより、反射防止機能を損なくことなく、また画質劣化を知覚させることなく、確実に他の部材の接触を防止することができる。またさらに各種の作製手法により大型突起を所望する大きさで簡易かつ確実に作製することができる。
またこの大型突起が、付け根部分の幅が、５μｍ以上、１００μｍ以下であることによっても、反射防止機能を損なくことなく、また画質劣化を知覚させることなく、確実に他の部材の接触を防止することができる。またさらに各種の作製手法により大型突起を所望する大きさで簡易かつ確実に作製することができる。またこの大型突起を、微小突起に係る欠陥の箇所に作製することにより、欠陥の箇所を有効に利用して大型突起を配置することができる。
また大型突起を、画像表示パネルの遮光部であるブラックマトリックスと重なり合う箇所に配置することにより、大型突起を一段と目立たなくすることができる。また微小突起を作成した後の後加工により大型突起を作成することにより、例えば後発的に欠陥が発生した場合に、この欠陥の箇所に大型突起の作成箇所を変更したり、同一のロール版を使用して大型突起の密度の異なる反射防止フィルムを作成したり、大型突起の大きさを異ならせる等の、大型突起の配置等に関して柔軟に対応することができ、その結果、生産性を向上することができる。
〔第２実施形態〕
図１９は、図１５との対比により本発明の第２実施形態に係るロール版の製造工程を示す図である。この実施形態では、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより微小突起１５に対応する微小凹部を母材に作製した後、後加工工程において、大型突起１６に対応する大型凹部を作成してロール版を作成する。この実施形態では、この大型突起に対応する大型凹部を備えたロール版を使用して大型突起を備えた反射防止フィルムを作成する点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。なおこれによりこの実施形態では、反射防止フィルムの後加工により大型突起を作成する代わりに、ロール版に作製された対応する凹部により大型突起を作成することになるものの、これらを併せて実行するようにして、ロール版より作製された大型突起と反射防止フィルムの後加工により作製された大型突起とを混在させるようにしてもよい。
ここで図１９に示す後加工工程は、上述した大きさの大型突起に対応する大型凹部を作成可能な種々の手法を広く適用することができる。具体的に、ドリルを使用した切削加工により大型凹部を作成してもよく、またレーザービーム（例えば波長５３２ｎｍ）の照射により大型凹部を作成してもよい。ここで、ドリルやレーザービームを用いる場合には発生する削り屑の処理のため真空吸引等の集塵手段を併用することが望ましい。
これによりこの実施形態において、ロール版は、微小突起に対応する微小凹部と、微小突起に対して形状の大きな大型突起に対応する大型凹部とが作成され、大型凹部は、離散したランダムな配置により作製され、微小凹部より深さが深く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より表面側が幅広に作製される。微小突起に係る微小凹部は、大型凹部間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置されることになる。
この実施形態のように、ロール版に対応する大型凹部を作成して大型突起を作成するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、大型突起を作成するための反射防止フィルムの後加工を省略できることにより、制御工程を簡略化することができる。
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を組み合わせ、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには従来構成と組み合わせることができる。
すなわち上述の実施形態では、画像表示パネルの出射面とタッチパネル用センサーフィルムとの間に反射防止フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、タッチパネル用センサーフィルムの内部に設ける場合、さらには画像表示パネルの出射面に配置される他の部材に反射防止フィルムを設ける場合等にも広く適用することができる。
具体的に、タッチパネル用センサーフィルムの内側に配置する場合、透明フィルムによる基材の微小突起群を形成し、この微小突起群の上にＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の電極を作成して電極フィルムを作成する場合に、この微小突起群に大型突起を混在させる。タッチパネル用センサーフィルムは、この電極フィルムを積層して作成されることにより、微小突起により視認性、光の利用効率を向上するようにし、大型突起をスペーサとして機能させることにより指等による押圧操作により、電極フィルムの微小突起が損傷しないようにすることができる。また画像表示パネルの出射面に配置される他の部材にあっては、例えば視野角特性を補正する光学フィルムを例示することができる。
また上述の実施形態では、画像表示パネルの出射面側に反射防止フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、入射面側に配置して視認性、光の利用効率を向上する場合にも広く適用することができる。具体的に、画像表示パネルの入射面に配置することにより、画像表示パネルでの光の反射を低減する場合、バックライト装置の出射面に配置して、この出射面における光の反射を低減する場合に適用することができる。なお像表示パネルの入射面に配置する場合は、反射防止フィルムを別体により作製して画像表示パネルの入射面に貼り付けて保持するようにしてもよく、また画像表示パネルの入射面側の部材（この場合は直線偏光版の基材である）に一体に作製しても良い。またバックライト装置の出射面に配置する場合、反射防止フィルムを別体により作製してバックライト装置の出射面に貼り付けるようにしてもよく、バックライト装置の出射面に配置される光学フィルム（例えば指向性を補正するプリズムシート等である）に一体に作製しても良い。
また上述の実施形態では、画像表示装置の内部に反射防止フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、画像表示装置の最表面に配置してもよい。この場合、例えば指等の接触による微小突起の損傷を低減することができる。なおこの場合、反射防止フィルムの表面には、撥水処理により撥水樹脂層を設けることが好ましく、撥水樹脂層を設けることにより、撥水性を確保して汚れが付着し難くすることができる。なおこのような撥水樹脂層は、例えばフッ素系樹脂を含有する樹脂組成物を用いて、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレイコート等のコーティング法でコーティングして作成することができる。
なお上述の実施形態では、フィルム形状による反射防止物品である反射防止フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品は、その形状を平坦なフィルム形状とする場合に限らず、平坦なシート形状、平板形状（相対的に厚みの薄い順に、フィルム、シート、板と呼称する）とすることもでき、また平坦な形状に代えて、湾曲形状、立体形状を呈したフィルム形状、シート形状、板形状とすることもでき、さらには各種レンズ、各種プリズム等の立体形状のものを用途に応じて適宜採用することができる。
なおこれらの場合において、基材１１は、反射防止物品の形状に応じて、シート材、板材の他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、螢石等の各種透明無機材料等を適用することができる。
また上述の実施形態では、賦型用樹脂にアクリレート系の紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エポキシ系、ポリエステル系等の各種紫外線硬化性樹脂、或いはアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電子線硬化性樹脂、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用する場合にも広く適用することができ、さらには例えば加熱した熱可塑性の樹脂を押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。
また、上述の実施形態では、図２について上述したように、基材１１の一方の面上に作製した受容層１７に微小突起群１５、１５Ａ、１５Ｂ、・・を賦形し、該受容層１７を硬化せしめて反射防止物品を形成しており、基材と受容層との２層構造により反射防止フィルムが構成されている。しかしながら、本発明は、かかる形態のみに限定される訳では無い。本発明の反射防止物品は、基材１１の一方の面上に、他の層を介さずに直接、微小突起群１５、１５Ａ、１５Ｂ、・・を賦形した単層構成であっても良い。また基材１１の一方の面に１層以上の中間層（層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる層。プライマー層、アンカー層等とも呼称される。）を介して受容層１７を形成し、該受容層表面に微小突起群１５、１５Ａ、１５Ｂ、・・を賦形した３層以上により構成してもよい。
更に、上述の実施形態では、図２示すように、基材１１の一方の面上にのみ微小突起群１５、１５Ａ、１５Ｂ、・・を形成しているが、本発明はかかる形態には限定され無い。基材１１の両面上に（直接或いは他の層を介して）各々微小突起群１５、１５Ａ、１５Ｂ、・・を作成する場合にも広く適用することができる。
また、上述の実施形態では、図２に示すように、各隣接微小突起間の谷底（高さの極小点）を連ねた面は高さが一定な平面であったが、本発明はこれに限らず、図２０に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λｍａｘ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λｍａｘである）でうねった構成としてもよい。又該周期的なうねりは、基材１１の表裏面に平行なＸＹ平面（図２０参照）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いはＸＹ平面における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λｍａｘを満たす周期Ｄでうねった凹凸面２０が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱し、殘留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、反射防止効果を一段と向上させることができる。
また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりフィルム形状による反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作製する場合等、賦型処理に係る工程、金型は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
また上述の実施形態では、画像表示パネルに反射防止フィルムによる反射防止物品を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、種々の用途に適用することができる。具体的には、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用する硝子板表面（外界側）、或いは表面及び裏面（商品又は展示物側面）の両面に配置するようにしても良い。なおこの場合、該硝子板表面の光反射防止による商品、美術品等の顧客や観客に対する視認性を向上することができる。
また眼鏡、望遠鏡、写真機、ビデオカメラ、銃砲の照準鏡（狙撃用スコープ）、双眼鏡、潜望鏡等の各種光学機器に用いるレンズ又はプリズムの表面に配置する場合にも広く適用することができる。この場合、レンズ又はプリズム表面の光反射防止による視認性を向上することができる。またさらに書籍の印刷部（文字、写真、図等）表面に配置する場合にも適用して、文字等の表面の光反射を防止し、文字等の視認性向上することができる。また看板、ポスター、其の他各種店頭、街頭、外壁等における各種表示（道案内、地図、或いは禁煙、入口、非常口、立入禁止等）の表面に配置して、これらの視認性を向上することができる。またさらに白熱電球、発光ダイオード、螢光燈、水銀燈、ＥＬ（電場発光）等を用いた照明器具の窓材（場合によっては、拡散板、集光レンズ、光学フィルタ等も兼ねる）の入光面側に配置するようにして、窓材入光面の光反射を防止し、光源光の反射損失を低減し、光利用効率を向上することができる。またさらに時計、其の他各種計測機器の表示窓表面（表示観察者側）に配置して、これら表示窓表面の光反射を防止し、視認性を向上することができる。
またさらに、自動車、鉄道車両、船舶、航空機等の乗物の操縦室（運転室、操舵室）の窓の室内側、室外側、あるいはその両側の表面に配置して窓における室内外光を反射防止して、操縦者（運転者、操舵者）の外界視認性を向上することができる。またさらに、防犯等の監視、銃砲の照準、天体観測等に用いる暗視装置のレンズないしは窓材表面に配置して、夜間、暗闇での視認性を向上することができる。
またさらに、住宅、店舗、事務所、学校、病院等の建築物の窓、扉、間仕切、壁面等を構成する透明基板(窓硝子等)の表面（室内側、室外側、あいはその両側）の表面に配置して、外界の視認性、あるいは採光効率を向上することができる。またさらに、温室、農業用ビニールハウスの透明シート、ないしは透明板（窓材）の表面に配置して、太陽光の採光効率を向上することができる。さらにまた、太陽電池表面に配置して、太陽光の利用効率（発電効率）を向上することができる。
またさらに、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域（の全域又は一部帯域）としたが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定しても良い。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域における反射防止効果を希望する最短波長に設定すれば良い。例えば、最短波長Λｍｉｎが８５０ｎｍの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離ｄ（乃至は其の最大値ｄｍａｘ）を８５０ｎｍ以下、例えば、ｄ（ｄｍａｘ）＝８００ｎｍと設計すれば良い。尚、この場合は、可視光線帯域（３８０〜７８０ｎｍ）に於いては反射防止効果は期待し得ず、專ら波長８５０ｎｍ以上の赤外線に対しての反射防止効果を奏する反射防止物品が得られる。
以上例示の各種実施形態において、硝子板等の透明基板の表面、裏面、或いは表裏両面に本発明のフィルム状の反射防止物品を配置する場合、該透明基板の全面に亙って配置、被覆する以外に、一部分の領域にのみ配置することも出来る。かかる例としては、例えば、１枚の窓硝子について、其の中央部分の正方形領域において、室内側表面にのみフィルム状の反射防止物品を粘着剤で貼着し、その他領域には反射防止物品を貼着し無い場合を挙げることが出来る。透明基板の一部分の領域にのみ反射防止物品を配置する形態の場合は、特別な表示や衝突防止柵等の設置無しでも、該透明基板の存在を視認し易くして、人が該透明基板に衝突、負傷する危険性を低減する効果、及び室内（屋内）の覗き見防止と該透明基板の（該反射防止物品の配置領域における）透視性とが両立出来ると言う効果を奏し得る。
１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３ バックライト装置
４ タッチパネル用センサーフィルム
５、５Ａ 反射防止フィルム
１１ 基材
１５、１５Ａ、１５Ｂ 微小突起
１６ 大型突起
１７ 受容層、賦型樹脂層
２０ 凹凸面
２２ ダイ
２３ ロール版
２４、２５ ローラ
ＢＭ ブラックマトリックス
ｇ 溝

Claims (11)

  1. 表面の微細凹凸形状により反射防止を図る反射防止物品において、
    前記表面に、微小突起と、前記微小突起に比して形状の大きな大型突起とが配置され、
    前記大型突起は、
    離散したランダムな配置により作製され、
    前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広であり、
    前記微小突起は、
    前記大型突起間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置された
    反射防止物品。
  2. 前記大型突起は、
    １個／ｃｍ２以上、３０個／ｃｍ２以下の密度により配置された
    請求項１に記載の反射防止物品。
  3. 前記大型突起は、
    高さが５μｍ以上、１００μｍ以下である
    請求項１又は請求項２に記載の反射防止物品。
  4. 前記大型突起は、
    付け根部分の幅が、５μｍ以上、１００μｍ以下である
    請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載の反射防止物品。
  5. 前記大型突起は、
    前記微小突起に係る欠陥の箇所に作製された
    請求項１、請求項２、請求項３、請求項４の何れかに記載の反射防止物品。
  6. 前記反射防止物品が、
    フィルム形状であり、画像表示パネルの出射面側に配置され、
    前記大型突起は、
    前記画像表示パネルの出射面側に配置した際に、前記画像表示パネルの画素間の遮光部と重なり合う箇所に配置された
    請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５の何れかに記載の反射防止物品。
  7. 請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６の何れかに記載の反射防止物品が、画像表示パネルの出射面側及び又は入射面側に配置された
    画像表示装置。
  8. 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
    前記反射防止物品は、
    前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
    前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
    前記反射防止物品の製造方法は、
    基材の表面に、賦型樹脂層を作成する賦型樹脂層作成工程と、
    賦型用金型を使用した前記賦型樹脂層の賦型処理により、前記基材に前記微小突起を作成する賦型工程と、
    前記微小突起を作成した前記基材の表面に、前記大型突起を作成する大型突起作製工程とを備える
    反射防止物品の製造方法。
  9. 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
    前記反射防止物品は、
    前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
    前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
    前記反射防止物品の製造方法は、
    陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、賦型用金型に前記微小突起に対応する微小凹部を作成する微小凹部の作成工程と、
    前記微小凹部を作成してなる前記賦型用金型に前記大型突起に対応する大型凹部を作成する後加工工程と、
    基材の表面に、賦型樹脂層を作成する賦型樹脂層作成工程と、
    前記賦型用金型を使用した前記賦型樹脂層の賦型処理により、前記基材に前記微小突起及び前記大型突起を作成する賦型工程とを備える
    反射防止の製造方法。
  10. 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の生産に使用する反射防止物品の賦型用金型において、
    前記微小突起に対応する微小凹部と、前記微小突起に対して形状の大きな大型突起に対応する大型凹部とが作成され、
    前記大型凹部は、
    離散したランダムな配置により作製され、
    前記微小凹部より深さが深く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より表面側が幅広であり、
    前記微小凹部は、
    前記大型凹部間に、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下により密接して配置された
    反射防止物品の賦型用金型。
  11. 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の生産に使用する賦型用金型の製造方法において、
    前記反射防止物品は、
    前記微小突起より高さが高く、かつ反射防止を図る波長帯域の最長波長より付け根部分が幅広である大型突起が、離散したランダムな配置により設けられ、
    前記微小突起が、前記大型突起間に設けられ、
    前記賦型用金型の製造方法は、
    陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、賦型用金型に前記微小突起に対応する微小凹部を作成する微小凹部の作成工程と、
    前記微小凹部を作成してなる前記賦型用金型に前記大型突起に対応する大型凹部を作成する後加工工程とを備える
    賦型用金型の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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