JP2015164164A - 光電変換素子および太陽電池 - Google Patents

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健一 森脇
淳一 森
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淳一 森
美博 菅原
Yoshihiro Sugawara
美博 菅原
卓郎 椙山
Takuro Sugiyama
卓郎 椙山
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Hiroyuki Takahashi
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Abstract

【課題】所定の変換効率を維持し、かつ基板と電極の密着性および光電変換層と電極の密着性に優れた光電変換素子および太陽電池を提供する。【解決手段】基板上に形成された裏面電極と、裏面電極上に形成されたCIGS系半導体化合物を含む光電変換層とを有する光電変換素子である。裏面電極はモリブデンを主成分として酸素とナトリウムを含有する。裏面電極全体の平均ナトリウム濃度CnaTは1.5at%を超え10at%以下であり、裏面電極は基板と裏面電極の第1の界面から膜厚方向に裏面電極の総厚の1/3〜2/3の第1の領域での平均酸素濃度CoCと、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTとは、CoT<CoCである。【選択図】図2

Description

本発明は、モリブデンを主成分とする電極と、Cu(In,Ga)Seを用いた光電変換層を有する光電変換素子および太陽電池に関し、特に、所定の変換効率を維持し、かつ基板と電極の密着性および光電変換層と電極の密着性に優れた光電変換素子および太陽電池に関する。
近年、光吸収率が高く、薄膜化できることから、光電変換層にカルコパイライト系のCuInSe、またはCu(In,Ga)Se(以下、CuInSe、およびCu(In,Ga)Seを合わせて単にCIGSという)を用いた太陽電池が検討されている。CIGS膜を光電変換層に用いた太陽電池は、光電変換層の裏面電極としてMoを主とする電極が広く用いられている(例えば、特許文献1、2参照)。
特許文献1には、アルカリ金属に加えて酸素を含有したMo裏面電極が記載されている。具体的には、基板と、第1の電極と、セレン化銅インジウム(CIS)系合金材料を含むp形半導体吸収層と、n形半導体層と、第2の電極とを備える太陽電池が記載されている。第1の電極は、アルカリ元素またはアルカリ化合物と、格子歪曲元素または格子歪曲化合物とを含む第1の遷移金属層を含む。また、第1の遷移金属層はモリブデンを含む。アルカリ元素またはアルカリ化合物はナトリウムを含み、格子歪曲化合物または格子歪曲元素は酸素、MoOおよびMoOからなる群より選択される。
p形半導体吸収層は、第1の遷移金属層から拡散した0.005〜1.5at%のナトリウムを含む。第1の遷移金属層は、少なくとも59at%のモリブデン、5〜40at%の酸素および0.01〜1.5at%のナトリウムを含む。
特許文献2には、積層されたモリブデンからなる電極層が形成され、これらの層のうち、少なくとも一層は酸化モリブデンの濃度が高い。酸化モリブデンの濃度が高い濃化層は1〜75at%、好ましくは20〜75at%の酸素を含み、基板と接する面に形成されている。
特表2012−523709号公報 特表2011−501404号公報
特許文献1では、電極の酸素量とナトリウム量(アルカリ金属量)を制御している。特許文献2では、酸素量を制御している。しかしながら、特許文献1、2のように、単純にアルカリ金属量と酸素量を制御するだけでは、CIGS膜の光電変換層向けの裏面電極としては十分ではない。特に、基板と裏面電極との密着性、CIGS膜の光電変換層と裏面電極との密着性の観点では、裏面電極のモリブデン中の酸素濃度だけでは制御することができない。現在、所定の変換効率を維持し、かつ基板と裏面電極の密着性および光電変換層と裏面電極の密着性がともに優れた太陽電池が望まれている。
本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、所定の変換効率を維持し、かつ基板と電極の密着性および光電変換層と電極の密着性に優れた光電変換素子および太陽電池を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の第1の態様は、基板上に形成された裏面電極と、裏面電極上に形成されたCIGS系半導体化合物を含む光電変換層とを有する光電変換素子であって、裏面電極は、モリブデンを主成分として酸素とナトリウムを含有するものであり、裏面電極全体の平均ナトリウム濃度をCnaTとするとき、CnaTは1.5at%を超え10at%以下であり、裏面電極は、基板と裏面電極の第1の界面から膜厚方向に裏面電極の総厚の1/3〜2/3の第1の領域での平均酸素濃度をCoCとし、裏面電極全体の平均酸素濃度をCoTとするとき、CoT<CoCを満たすことで本発明の効果が期待できる。
裏面電極は、基板と裏面電極の第1の界面から膜厚方向に100nm迄の第2の領域での平均酸素濃度をCoS、光電変換層との第2の界面から膜厚方向に100nm迄の第3の領域での平均酸素濃度をCoAとするとき、CoCに対して、CoS<CoC、かつCoC>CoAであることが好ましい。より具体的には、CoSは1〜6at%であり、CoAは5〜30at%であることが好ましい。裏面電極は、積層構造を有する形態が好ましい。
裏面電極は、第1の領域での平均ナトリウム濃度をCnaCとするとき、CnaTに対して、CnaT<CnaCであることが好ましい。裏面電極は、膜厚方向にナトリウム濃度分布を有するものであってもよい。
基板は、可撓性を有することが好ましい。基板は、有機高分子で構成されたものであることが好ましい。
本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様の光電変換素子を有することを特徴とする太陽電池を提供するものである。
本発明によれば、所定の変換効率を維持し、かつ基板と電極の密着性および光電変換層と電極の密着性に優れた光電変換素子および太陽電池を提供することができる。
本発明の実施形態の光電変換素子を示す模式的断面図である。 (a)は、本発明の実施形態の光電変換素子の裏面電極の構成を説明するための模式図であり、(b)は、本発明の実施形態の光電変換素子の裏面電極の一例を示す模式的断面図である。 (a)、(b)は、それぞれ平均酸素濃度が異なる光電変換素子の裏面電極を示す模式図である。 本発明の実施形態の太陽電池を示す模式的断面図である。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の光電変換素子および太陽電池を詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態の光電変換素子を示す模式的断面図である。
図1に示す本実施形態の光電変換素子10は、基板12の表面12aに形成された裏面電極14と、裏面電極14の表面14aに形成された光電変換層16と、この光電変換層16の表面16aに形成されたバッファ層18と、このバッファ層18の表面18aに形成された透明電極20と、裏面電極14の表面14aおよび透明電極20の表面20aに、それぞれ形成された上部電極22とを有する。
なお、基板12の表面12aに垂直な方向を膜厚方向Fといい、この膜厚方向Fが光電変換素子10の光電変換層16、バッファ層18および透明電極20等の各構成要素の積層方向である。
基板12は、光電変換素子10の各構成要素を支持するものである。基板12の構成は、電気絶縁性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、ガラス等で構成される。光電変換素子10をフレキシブルなものとする場合、基板12に可撓性を有するものを用いる。この場合、例えば、基板12に、陽極酸化により金属基板表面上に生成する金属酸化膜が絶縁体である材料が用いられる。金属基板としては、Al基板またはSUS等の他の金属とAl基板等の複合金属基板を用いることができる。この場合でも、電気絶縁層は少なくとも一方の面に形成されていればよい。
また、基板12は、例えば、有機高分子で構成することもできる。この場合、基板12は、例えば、イミド系樹脂で構成され、より具体的にはポリイミドで構成される。基板12の厚みは、可撓性、軽量性およびハンドリング性の観点で選択されることが望ましく、5μm以上200μm以下が好ましく、7μm以上100μm以下がさらに好ましい。基板12の厚みが5μm未満であると、ロールツーロール方式で基板12を加熱しながら搬送する際のハンドリングが困難である。一方、基板12の厚みが200μmを超えると可撓性および軽量性の点で、有機高分子を使用するメリットが少なく好適ではない。
裏面電極14は、モリブデンを主成分とし、酸素とナトリウムを含有するものであり、各組成の含有量の総和を100at%で表す。本発明で、主成分とは最も多い成分のことをいう。なお、裏面電極14については、後に詳細に説明する。
光電変換層16は、裏面電極14上に形成されたものであり、カルコパイライト結晶構造を有するCuInSeおよびCu(In,Ga)Se等のCIGS系半導体化合物を含む層である。以下、CIGS系半導体化合物を含む層のことをCIGS膜ともいう。光電変換層16の厚みは、1.0〜3.0μmであるのが好ましく、1.5〜2.5μmであるのがより好ましい。ここで、一般に、アルカリ金属、特にNaが、CIGSで構成された光電変換層16に拡散されると光電変換効率が高くなることが知られている。
なお、CIGS膜の形成方法(CIGS膜の成膜方法)は特に限定されず、例えば、1)多源蒸着法、2)セレン化法、3)スパッタ法、4)ハイブリッドスパッタ法、および5)メカノケミカルプロセス法の方法により形成することができる。その他のCIGS膜の成膜方法としては、スクリーン印刷法、近接昇華法、MOCVD法、およびスプレー法(ウェット成膜法)等が挙げられる。
バッファ層18は、具体的には、CdS、ZnS,Zn(S,O)および/またはZn(S,O,OH)、SnS,Sn(S,O)および/またはSn(S,O,OH)、InS,In(S,O)および/またはIn(S,O,OH)等の、Cd,Zn,Sn,Inからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素を含む金属硫化物を含むことが好ましい。バッファ層18の膜厚は、10nm〜2μmが好ましく、15〜200nmがより好ましい。
透明電極20は、光を光電変換層16に取り込むと共に、裏面電極14と対になって、光電変換層16で生成された電流が流れる電極として機能するものである。透明電極20は、公知の組成で構成することができるが、ZnO:Al等のn−ZnO等で構成することが好ましい。透明電極20の膜厚は、例えば、50nm〜2μmである。
なお、バッファ層18と透明電極20との間には、例えば、窓層(図示せず)を設けてもよい。この窓層は、例えば、厚さ10nm程度のZnO層で構成される。
上部電極22は、光電変換素子10がセルの場合に、光電変換層16で発生した電流を透明電極20から取り出すための電極である。このため、上部電極22は、モジュール形態では必ずしも設ける必要はない。
上部電極22は、例えば、アルミニウムより構成されるものである。上部電極22は、例えば、スパッタ法、蒸着法、CVD法等によって形成される。上部電極22のことをグリッド電極ともいう。
以下、裏面電極14について詳細に説明する。
図2(a)は、本発明の実施形態の光電変換素子の裏面電極の構成を説明するための模式図であり、(b)は、本発明の実施形態の光電変換素子の裏面電極の一例を示す模式的断面図である。
裏面電極14は、裏面電極14全体の平均ナトリウム濃度をCnaTとするとき、CnaTは1.5at%を超え10at%以下である。
裏面電極14全体の平均ナトリウム濃度CnaTが1.5at%以下であると、光電変換層16の光電変換効率を高くする効果が十分に得られない。
裏面電極14全体の平均ナトリウム濃度CnaTが10at%を超えると、光電変換層16との第2の界面Bでナトリウム化合物が生成され、裏面電極14と光電変換層16と密着性が低下して剥離しやすくなる。
裏面電極14は、例えば、膜厚の総厚L(図2(a)参照)が100〜1000nmである。裏面電極14は、例えば、膜厚方向Fに酸素濃度分布を有する。図2(a)に示すように、膜厚方向Fにおいて第1の界面Bから裏面電極14の総厚Lの1/3〜2/3の領域を第1の領域Gとする。このとき、第1の領域Gでの平均酸素濃度をCoCとし、裏面電極14全体の平均酸素濃度をCoTとする。第1の領域Gでの平均酸素濃度CoCは上述の裏面電極14全体の平均酸素濃度CoTよりも大きい。すなわち、CoT<CoCの関係にある。
CoT<CoCの関係にない場合、基板12側に酸素が偏在したり、CIGS膜(光電変換層16)側に酸素が偏在する。基板12側に酸素が偏在すると、Mo膜の結晶性が劣化し、裏面電極14の抵抗値が大きくなる。一方、CIGS膜(光電変換層16)側に酸素が偏在すると、CIGS膜(光電変換層16)内へのNa拡散が制限され、結果的に太陽電池特性が低下する。
具体的には、裏面電極14において、基板12の表面12aと裏面電極14との第1の界面Bとする。第1の界面Bから膜厚方向Fに100nm迄の領域を第2の領域Gとする。また、裏面電極14において、裏面電極14の表面14aと光電変換層16との第2の界面Bとする。第2の界面Bから第1の界面Bに膜厚方向Fで向かって100nm迄を第3の領域Gとする。第2の領域Gでの平均酸素濃度をCoSとし、第3の領域Gでの平均酸素濃度をCoAとする。この場合、裏面電極14全体の平均酸素濃度CoCは、平均酸素濃度CoSおよび平均酸素濃度CoAのいずれよりも大きいことが好ましい。すなわち、平均酸素濃度CoCに対して、CoS<CoC、かつCoC>CoAであることが好ましい。
裏面電極14は、第2の領域Gでの平均酸素濃度CoSが1〜6at%であることが好ましい。平均酸素濃度CoSを1〜6at%とすることで、密度を高くでき、かつ電気抵抗を低くできる。
平均酸素濃度CoSが1at%未満の場合、裏面電極14と基板12との密着性が悪くなり、平均酸素濃度CoSが6at%を超えると、裏面電極14の密度が低くなり、かつ電気抵抗が高くなる。
裏面電極14は、第3の領域Gでの平均酸素濃度CoAは5〜30at%であることが好ましい。平均酸素濃度CoAが5〜30at%であれば、裏面電極14の表面14aの表面形状が変化し、粗度が増加する。これにより、光電変換層16とのアンカー効果が発現して裏面電極14と光電変換層16との密着性を高くすることができる。
第3の領域Gでの平均酸素濃度CoAが5at%未満であると、裏面電極14の表面14aは、上述のように平坦であり(図3(b)参照)、裏面電極14の表面14aは、光電変換層16とのアンカー効果が得られる程の粗度が得られない。
一方、第3の領域Gでの平均酸素濃度CoAが30at%を超えると、CIGS膜(光電変換層16)と裏面電極14間の第1の界面BにMoxSe膜が形成されにくくなり、オーミック接触不良の問題が生じる。さらにCIGS膜へのアルカリ(主にNa)拡散量が減少してしまい、CIGS膜の太陽電池特性を劣化させる。
平均酸素濃度CoAの違いにより、裏面電極14の表面14aの表面形状が変化し、粗度が増加することについて、図3(a)、(b)を基に具体的に説明する。図3(a)は、第3の領域Gでの平均酸素濃度が16at%の裏面電極14であり、図3(b)は、第3の領域Gでの平均酸素濃度が4at%の裏面電極14である。図3(a)と(b)を比較するとわかるように、平均酸素濃度が低い図3(b)の裏面電極14は、表面14aが平坦である。これに対して、平均酸素濃度が高い図3(a)の裏面電極14は、表面14aが凹凸しており、図3(b)の裏面電極14に比して凸凹が大きい。このように平均酸素濃度CoAを高くすることで粗度が増加する。
裏面電極14は、例えば、膜厚方向Fにナトリウム濃度分布を有する。裏面電極14において、第1の領域Gでの平均ナトリウム濃度をCnaCとする。このとき、CnaCは上述のCnaTよりも大きいことが好ましい。すなわち、CnaT<CnaCの関係にあることが好ましい。
CnaT<CnaCの関係にない場合、基板12側にNaが偏析したり、CIGS膜(光電変換層16)側にNaが偏析する。基板12側にNaが偏析すると、光電変換層16成膜前に裏面電極14表面が酸化されると共に、基板12と裏面電極14との間での密着性が低下し、裏面電極14にクラックが発生してしまう。また、CIGS膜(光電変換層16)側にNaが偏析すると、光電変換層16と裏面電極14との第2の界面Bで剥離が生じる。
裏面電極14における酸素濃度およびナトリウム濃度は、例えば、X線光電子分光法(XPS)を用いて測定することができる。
なお、裏面電極14の構成については、上述の酸素濃度およびナトリウム濃度を実現することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。裏面電極14は、多層構造とすることで、各層毎に酸素濃度およびナトリウム濃度の調整することで、上述の酸素濃度およびナトリウム濃度を容易に実現することができる。
例えば、図2(b)に示す裏面電極14は3層の積層構造で下層、中間層および上層に分けて各層の機能を分離し、裏面電極14の酸素濃度およびナトリウム濃度を上述の範囲とすることにより、光電変換層16へナトリウムを供給することができ、裏面電極14の低抵抗化を図り、かつ裏面電極14と基板12との密着性を高め、裏面電極14と光電変換層16との界面でのナトリウム化合物の生成を抑制し、さらには表面形状を変化させて光電変換層16との密着性を確保することができる。これにより、所定の変換効率を維持し、かつ基板12と裏面電極14、裏面電極14と光電変換層16の密着性に優れた光電変換素子10を得ることができる。
このため、有機高分子のように変形する基板12を用いても、安定して高効率な光電変換素子10を得ることができる。
さらに、裏面電極14を形成する際の成膜条件を最適化させ圧縮方向の膜応力を付与させることで、クラックの発生も抑制でき、大面積での裏面電極14の欠陥を低減し、生産性を大幅に向上させることができる。
裏面電極14は、第1の界面B側から第1電極層24、第2電極層26および第3電極層28が、この順で膜厚方向Fに積層されている。
例えば、上述の3層構造の場合、スパッタ成膜の際の成膜圧力を変えたり、スパッタリングターゲットの組成を変えて3層を形成することができる。
第1電極層24、第2電極層26および第3電極層28は、いずれも、例えば、スパッタ法により形成される。スパッタ成膜の際の成膜圧力を、第1電極層24では、例えば、0.1〜0.2Paとし、第3電極層28では、例えば、2.0〜8.0Paと変えることで、その密度を変える。第1電極層24の成膜圧力を第3電極層28の成膜圧力よりも低くすることで、第1電極層24bの方を高い密度にすることができる。
例えば、第1電極層24は上述の図3(b)に示す裏面電極14と同じ形態であり、第3電極層28は上述の図3(a)に示す裏面電極14と同じ形態である。
なお、第2電極層26は、酸素濃度およびナトリウム濃度が他の層よりも第1電極層24の方が高い。これは、スパッタリングターゲットに、例えば、ナトリウムが添加されたMoターゲットを用いることで酸素濃度およびナトリウム濃度が他の層に比して相対的に高い第2電極層26を形成することができる。
なお、裏面電極14の積層数は3層に限定されない。
第1電極層24は下層であり、第2電極層26は中間層であり、第3電極層28は上層である。第1電極層24、第2電極層26および第3電極層28は、例えば、いずれも裏面電極14の総厚Lの1/3の厚さを有する。第1電極層24、第2電極層26および第3電極層28は、いずれもモリブデンが主成分である。
第1電極層24は、裏面電極14中で最も密度が高く、最も抵抗が小さいモリブデン層である。第1電極層24は、上述の第2の領域Gを含む厚さに形成されている。第1電極層24において、第2の領域Gでの平均酸素濃度CoSを1〜6at%とすることで、基板12との密着性を確保できるとともに低抵抗を実現できる。
第2電極層26は、光電変換層16へのナトリウム供給を担うモリブデン層であり、上述の第1の領域Gに相当する層である。
第3電極層28は、光電変換層16との密着性を確保するための層である。第3電極層28は、上述の第3の領域Gを含む厚さに形成されている。
次に、本発明の実施形態の太陽電池について説明する。
図4は、本発明の実施形態の太陽電池を示す模式的断面図である。
図4に示す太陽電池30は、図1に示す光電変換素子10を集積したものである。太陽電池30において、図1に示す光電変換素子10と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
太陽電池30は、裏面電極14と光電変換層16とバッファ層18と透明電極20と膜厚方向Fに積層されており、裏面電極14のみを貫通する第1の開溝部P1、光電変換層16とバッファ層18とを貫通する第2の開溝部P2、および光電変換層16とバッファ層18と透明電極20とを貫通する第3の開溝部P3が形成されている。
太陽電池30では、第1の開溝部P1〜第3の開溝部P3によって、複数の光電変換素子32に分離されている。第2の開溝部P2内に透明電極20が充填されることで、ある光電変換素子32の透明電極20が隣接する光電変換素子32の裏面電極14に直列接続した構造が得られる。各光電変換素子32で発生する電圧が加算されるように電気的に直列接続されており、このとき光電変換機能の有効部分は領域34である。
太陽電池30では、図4に示すD方向に電子が流れるように構成されており、裏面電極14がプラス極であり、透明電極20がマイナス極である。
なお、図4は光電変換素子32の繰返し直列接続構造をわかり易く図示したものであり、マイナス引出し電極の接続は図示したように透明電極20であってもよいし、第2の開溝部P2の下に位置する裏面電極14であってもよい。
なお、太陽電池30においても、裏面電極14の構成以外は、公知の太陽電池または太陽電池モジュールと同様の構成である。このため、その製造方法についても、公知の太陽電池または太陽電池モジュールの製造方法により製造することができる。
太陽電池30においても、光電変換素子10と同様の上述の効果を得ることができる。太陽電池30でも、所定の変換効率を維持することができ、かつ基板12と裏面電極14、裏面電極14と光電変換層16の密着性に優れる。
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の光電変換素子および太陽電池について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
本実施例では、下記に示す実施例1〜10および比較例1〜7の光電変換素子を作製し、本発明の効果を確認した。実施例1〜10および比較例1〜7の光電変換素子の基板、裏面電極および光電変換層の構成ならびに裏面電極の成膜圧力を下記表1に示す。
また、以下に示す密着性、シート抵抗、および変換効率の測定を行った。その結果を下記表3に示す。下記表3において「−」は実施していないことを示す。
なお、酸素濃度(at%)およびナトリウム濃度(at%)は、実施例1〜10および比較例1〜7において、裏面電極として形成したMo膜をArを用いて膜厚方向にエッチングを行い、膜厚方向でMo膜を露出させた。そして、Mo膜の露出部分を膜厚方向に沿ってXPSにより元素分析を行った。得られた元素分析の結果に基づいて酸素濃度(at%)およびナトリウム濃度(at%)を求めた。
(密着性)
密着性については、光電変換層としてCIGS膜を成膜した後、CIGS膜と裏面電極との剥離の有無および基板と裏面電極との剥離の有無を目視にて確認した。
(シート抵抗)
シート抵抗については、4端子法を用いた測定を行い評価した。なお、測定には、抵抗率計(三菱アナリテック社製LORESTA)を用いた。
(変換効率)
変換効率については、3cm角サイズで作製した光電変換素子を8セル(1セル:0.5cm)に分割して、太陽電池セルを作製した。AM(Air mass)1.5、100mW/cmの疑似太陽の下での電流−電圧特性(I−V特性)を測定し、その測定結果を用いて、変換効率η(%)を測定した。
以下、実施例1〜10および比較例1〜7の光電変換素子について説明する。
(実施例1)
実施例1は、図1に示す光電変換素子10と同じ構成である。
実施例1では、基板に、厚さ25μmのポリイミド基板(宇部興産製ユーピレックス(登録商標)−S)を用いた。CIGS膜の成膜にロールツーロール成膜装置を用いるため、ポリイミド基板には、ロールツーロール成膜装置の成膜可能な長さを有する長尺のものを用いた。
次に、ロールツーロール成膜装置を用いて、基板の表面、すなわち、ポリイミド基板の表面に裏面電極として、スパッタ法により、総厚が600nmのMo膜を形成した。Mo膜が図2(b)に示す3層構造とし、各層は下記表1に示す成膜圧力にて形成した。
なお、第1電極層と第3電極層には、スパッタリングターゲットとして、モリブデンターゲットを用いた。第2電極層には、スパッタリングターゲットとして、ナトリウムを含有するモリブデンターゲットを用いた。なお、スパッタリングターゲットのナトリウム含有量は、所定のナトリウム濃度になるように、予め実験を行い決定した。
次に、ロールツーロール成膜装置を用いた3段階法により、光電変換層として膜厚が1.8μmのCIGS膜を成膜した。
CIGS膜の成膜については、まず、ロールツーロール成膜装置の巻出し部から送り出された、上述のMo製の裏面電極が形成された基板に対し、1段階目にて、基板温度を350℃に加熱した状態でIn,Ga,Seを蒸着することで、(In,Ga)Se膜を形成する。その後、2段階目にて基板温度を550℃に加熱した状態でCu,Seを蒸着する。
ここで、Cu:(In+Ga):Se=1:1:2に達した時点で、カルコパイライト構造のCu(In,Ga)Se結晶が形成される。さらにCu,Se蒸着を続けることで、最表面にCuxSe層が生成され、Cu過剰組成となる。3段階目にて基板温度を550℃に加熱した状態で、制御されたIn,Ga,Seを蒸着することで、Cu過剰組成からわずかにCu不足組成のCIGS膜を成膜することができる。
次に、CIGS膜上にバッファ層として、厚さ50nmのCdS層を、CBD法により形成した。そして、バッファ層形成後、スパッタリング法により、バッファ層(CdS層)上に窓層として、厚さ10nmのZnO層を形成し、連続して窓層(ZnO層)上に透明電極として、厚さ300nmのZnO:Al膜を連続製膜した。
次に、透明電極の表面に、スパッタ法にて、アルミニウムからなる上部電極を形成して光電変換素子を作製した。
(実施例2)
実施例2は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例3)
実施例3は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。なお、実施例3は4層構造である。
(実施例4)
実施例4は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。なお、実施例4は4層構造である。
(実施例5)
実施例5は、基板に、厚さ1.1mmの白板ガラスを用い、ロールツーロール成膜装置ではなく枚葉式の成膜装置を用いた点、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例6)
実施例6は、基板に、厚さ50μmのステンレス鋼箔を用い、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例7)
実施例7は、基板に、厚さ200μmのアルミニウム基材の片側表面に、厚さ10μmの陽極酸化膜が形成されたものを用い、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例8)
実施例8は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例9)
実施例9は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(実施例10)
実施例10は、裏面電極の成膜条件が下記表1に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(比較例1)
比較例1は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なり、さらにスパッタリングターゲットが異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
第1電極層と第2電極層には、スパッタリングターゲットとして、モリブデンターゲットを用いた。第3電極層には、スパッタリングターゲットとして、ナトリウムを含有するモリブデンターゲットを用いた。なお、スパッタリングターゲットのナトリウム含有量は、所定のナトリウム濃度になるように、予め実験を行い決定した。
(比較例2)
比較例2は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なり、さらにスパッタリングターゲットが異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
第2電極層と第3電極層には、スパッタリングターゲットとして、モリブデンターゲットを用いた。第1電極層には、スパッタリングターゲットとして、ナトリウムを含有するモリブデンターゲットを用いた。なお、スパッタリングターゲットのナトリウム含有量は、所定のナトリウム濃度になるように、予め実験を行い決定した。
(比較例3)
比較例3は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(比較例4)
比較例4は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(比較例5)
比較例5は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(比較例6)
比較例6は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
(比較例7)
比較例7は、裏面電極の成膜条件が下記表2に示すように異なる点以外は、実施例1と同様にして作製したものである。
上記表3に示すように、実施例1〜9は、いずれも剥離が発生しなかった。また、シート抵抗も低く、高い変換効率が得られた。実施例10は、密着性が他の実施例1〜9に比して劣った。
一方、比較例1は、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTの方が第1の領域での平均酸素濃度CoCよりも高く、裏面電極全体の平均ナトリウム濃度CnaTの方が平均ナトリウム濃度Cnaよりも高く、かつ第2の領域での平均酸素濃度CoSが高く、さらにはCoS<CoC、かつCoC>CoAも満たさない。このため、基板と裏面電極との間で剥離が生じてしまい、変換効率の測定を実施例することができなかった。また、シート抵抗も高い。
比較例2は、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTの方が第1の領域での平均酸素濃度CoCよりも高く、かつ裏面電極全体の平均ナトリウム濃度CnaTの方が平均ナトリウム濃度Cnaよりも高く、CoC>CoAも満たさない。このため、CIGS膜と裏面電極との間で剥離が生じてしまい、変換効率の測定を実施例することができなかった。
比較例3は、裏面電極全体の平均ナトリウム濃度CnaTが1.5at%以下であり、変換効率が低い。
比較例4は、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTの方が第1の領域での平均酸素濃度CoCよりも高く、かつ第3の領域での平均酸素濃度CoAも高く、さらにはCoS<CoC、かつCoC>CoAも満たさない。このため、シート抵抗が高く、変換効率も低い。
比較例5は、裏面電極全体の平均ナトリウム濃度CnaTが10at%を超えているため、CIGS膜と裏面電極との間で剥離が生じてしまい、変換効率の測定を実施例することができなかった。また、シート抵抗も高い。
比較例6は、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTの方が第1の領域での平均酸素濃度CoCよりも高く、かつCoS<CoC、かつCoC>CoAも満たさない。このため、変換効率が低い。
比較例7は、裏面電極全体の平均酸素濃度CoTの方が第1の領域での平均酸素濃度CoCよりも高く、変換効率が低い。
10、32 光電変換素子
12 基板
14 裏面電極
16 光電変換層
18 バッファ層
20 透明電極
22 上部電極
30 太陽電池
34 領域

Claims (8)

  1. 基板上に形成された裏面電極と、前記裏面電極上に形成されたCIGS系半導体化合物を含む光電変換層とを有する光電変換素子であって、
    前記裏面電極は、モリブデンを主成分として酸素とナトリウムを含有するものであり、
    前記裏面電極全体の平均ナトリウム濃度をCnaTとするとき、CnaTは1.5at%を超え10at%以下であり、
    前記裏面電極は、前記基板と前記裏面電極の第1の界面から膜厚方向に前記裏面電極の総厚の1/3〜2/3の第1の領域での平均酸素濃度をCoCとし、前記裏面電極全体の平均酸素濃度をCoTとするとき、CoT<CoCであることを特徴とする光電変換素子。
  2. 前記裏面電極は、積層構造を有する請求項1に記載の光電変換素子。
  3. 前記裏面電極は、前記基板と前記裏面電極の第1の界面から膜厚方向に100nm迄の第2の領域での平均酸素濃度をCoS、前記光電変換層との第2の界面から膜厚方向に100nm迄の第3の領域での平均酸素濃度をCoAとするとき、前記CoCに対して、CoS<CoC、かつCoC>CoAである請求項1または2に記載の光電変換素子。
  4. 前記裏面電極の、前記CoSは1〜6at%であり、前記CoAは5〜30at%である請求項1〜3のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  5. 前記裏面電極は、前記第1の領域での平均ナトリウム濃度をCnaCとするとき、前記CnaTに対して、CnaT<CnaCである請求項1〜4のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  6. 前記基板は、可撓性を有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  7. 前記基板は、有機高分子で構成されたものである請求項1〜6のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  8. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光電変換素子を有することを特徴とする太陽電池。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018155349A1 (ja) * 2017-02-27 2018-08-30 国立研究開発法人産業技術総合研究所 太陽電池及びその製造方法

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