JP2015147937A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 対応するＮＲ’_４ ^＋の構造を有する第四級アンモニウム対イオンを有する、ジェミナルビスホスホン酸基の少なくとも１種の塩またはその部分エステルを含む有機基が結合されている顔料を含む改質顔料であって、Ｒ'は、同一でも異なっていてもよく、Ｃ２〜Ｃ６アルキル基であり、かつ該第四級アンモニウム対イオンは、総炭素が少なくとも６個であり、かつ該改質顔料が、水性分散液の形態であり、かつ該水性分散液が、１０質量％〜１５質量％の改質顔料含量で、１０００マイクロジーメンス／ｃｍ以下の導電率を有している、改質顔料（但し、水溶性有機溶媒が該分散液の総質量の１５質量％以上を構成する分散液を除く）。
2. 前記水性分散液が、１０質量％〜１５質量％の改質顔料含量で、４００ｐｐｍ以下のリン酸塩イオン濃度を有している、請求項１記載の改質顔料。
3. 前記有機基が、式−ＣＱ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２を有する基の塩を含んでおり、Ｑは、Ｈ、Ｒ、ＯＲ、ＳＲまたはＮＲ_２であり、Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１８アシル基、アラルキル基、アルカリル基、またはアリール基である、請求項１記載の改質顔料。
4. 前記有機基が、式−(ＣＨ_２)_ｎ−ＣＱ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２を有する基の塩を含んでおり、Ｑは、Ｈ、Ｒ、ＯＲ、ＳＲまたはＮＲ_２であり、Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１８アシル基、アラルキル基、アルカリル基、またはアリール基であり、ｎは１〜３である、請求項１記載の改質顔料。
5. 前記有機基が、式−ＣＲ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２を有する基の塩またはその部分エステルを含んでおり、ＲはＨもしくはＣ１〜Ｃ６アルキル基である、請求項１記載の改質顔料。
6. 前記有機基が、式−ＣＯ−Ｑ−ＣＨ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２もしくは−ＳＯ_２−Ｑ−ＣＨ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２を有する基の塩またはその部分エステルを含んでおり、ＱはＯ、Ｓ、もしくはＮＲ’であり、Ｒ’は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１８アシル基、アラルキル基、アルカリル基、またはアリール基である、請求項１記載の改質顔料。
7. 前記有機基が、式−Ｘ−ＣＯ−Ｑ−ＣＨ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２もしくは−Ｘ−ＳＯ_２−Ｑ−ＣＨ(ＰＯ_３Ｈ_２)_２を有する基の塩またはその部分エステルを含んでおり、Ｘは、該顔料に結合しており、アリーレン、ヘテロアリーレン、アルキレン、アルカリレン、またはアラルキレン基である、請求項１記載の改質顔料。
8. Ｘがアリーレン基である、請求項７記載の改質顔料。
9. Ｑが、ＮＨである、請求項６または７記載の改質顔料。
10. ａ）液体ビヒクル、および、
    ｃ）請求項１〜９のいずれか１項記載の改質顔料、
    を含むインクジェットインク組成物。
11. ａ）液体ビヒクル、
    ｂ）共溶媒、および、
    ｃ）請求項１〜９のいずれか１項記載の改質顔料、
    を含むインクジェットインク組成物。
12. 前記インクジェットインク組成物が、１０質量％〜１５質量％の改質顔料含量で、１０００マイクロジーメンス／ｃｍ以下の導電率を有している、請求項１０または１１記載のインクジェットインク組成物。
13. 前記インクジェットインク組成物が、更に、１０質量％〜１５質量％の改質顔料含量で、６０℃で４週間の後に１０００マイクロジーメンス／ｃｍ以下の導電率を有している、請求項１０または１１記載のインクジェットインク組成物。
14. 改質顔料の水性分散液の導電率増加を低減する方法であって、以下の工程、
    ｉ）対応する対イオンを有する、ジェミナルビスホスホン酸基の少なくとも１種の塩またはその部分エステルが結合されている顔料を含む改質顔料の水性分散液を準備する工程、ならびに、
    ｉｉ）該改質顔料の対イオンをイオン交換して、ＮＲ’_４ ^＋の構造を有する対応する第四級アンモニウム対イオンを有する、ジェミナルビスホスホン酸基の少なくとも１種の塩またはその部分エステルが結合されている顔料を含む改質顔料の水性分散液（但し、水溶性有機溶媒が該分散液の総質量の１５質量％以上を構成する分散液を除く）を形成する工程であって、ここでＲ’は、同じでも異なっていてもよく、Ｃ２〜Ｃ６アルキル基であり、そしてこの第四級アンモニウム対イオンは総炭素が少なくとも６個であり、かつ該改質顔料の水性分散液が、１０質量％〜１５質量％の改質顔料含量で、１０００マイクロジーメンス／ｃｍ以下の導電率を有している、工程、
    を含んでなる、方法。