JP2015142901A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. マイクロ物体を操作するシステムであって、
   空間と時間の両方で変化して、前記マイクロ物体を操作する力場を生成するように構成された電界生成器と、
   前記マイクロ物体がその上で前記電界生成器によって操作される基板と、
   を備え、
   前記基板は、前記電界生成器に恒久的には取り付けられてなく、
   前記電界生成器は、前記基板における前記マイクロ物体が位置する側とは反対側に位置し、且つ
   前記基板は、前記力場が前記基板を通過可能とされている
   システム。
2. 前記力場は、電場及び磁場の少なくとも１つである、請求項１に記載のシステム。
3. 前記電界生成器は、電場を生成するための感光体材料を含む、請求項２に記載のシステム。
4. 前記基板は、電気絶縁材料からなる、請求項２に記載のシステム。
5. 前記基板は、ポリマーまたはセラミクスである、請求項４に記載のシステム。
6. 前記電界生成器は、前記磁場を生成するための複数のコイルを含む、請求項２に記載のシステム。
7. 前記電界生成器は、電界生成器上の摩耗を低減させるための可動ベルトを有している、請求項２に記載のシステム。
8. 前記基板は、非強磁性または常磁性の材料からなる、請求項２に記載のシステム。
9. 第２の基板と、
   前記マイクロ物体の相対位置と相対方向を保持するよう、前記基板から前記第２の基板に前記マイクロ物体を移動させる装置と、をさらに含む請求項１に記載のシステム。
10. 前記電界生成器に恒久的には取り付けられてなく、且つ前記マイクロ物体が定着される最終基板である前記基板と、
    前記最終基板に前記マイクロ物体を定着させるように構成された定着装置と、
    をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
11. 前記マイクロ物体が、前記最終基板に、
    前記基板の局所的加熱、
    接着剤の局所的硬化、及び
    エンボス加工
    の少なくとも１つによって定着される、請求項１０に記載のシステム。
12. 前記基板が、前記電界生成器を通過する、請求項１に記載のシステム。
13. 前記基板のある領域が、複数回に亘って前記電界生成器を通過する、請求項１２に記載のシステム。
14. マイクロ物体を操作する方法であって
    力場を生成させるための複数の電極を有する電界生成器によって、空間と時間の両方で変化して前記マイクロ物体を操作する力場を生成するステップと、
    その上で前記マイクロ物体が前記電界生成器により操作される基板であって、前記電界生成器が前記基板における前記マイクロ物体が位置する側とは反対側に位置し、前記電界生成器に恒久的には取り付けられてなく、前記力場が通過可能な基板を供給するステップと、を含む方法。
15. 前記力場は、電場及び磁場の少なくとも一方である、請求項１４に記載の方法。
16. 前記マイクロ物体の相対位置と相対方向を保持するよう、前記基板から第２の基板に前記マイクロ物体を移動させるステップをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
17. 前記電界生成器に恒久的には取り付けられない基板上に前記マイクロ物体を位置させるステップを含み、前記基板は、最終基板である、請求項１４に記載の方法。
18. 前記マイクロ物体が載置される前記最終基板は、複数の領域に分割され、それぞれが特定のマイクロ組立体に対応し、前記マイクロ組立体の少なくともあるものは、少なくともあるミクロ物体間の配線を含む加工がされる、請求項１７に記載の方法。
19. 前記基板を、前記電界生成器に通過させるステップを含む、請求項１４に記載の方法。
20. 前記電界生成器は、前記電界生成器上の摩耗を低減させるための可動ベルトを有する、請求項１４に記載の方法。