JP2015142007A - Part mounting device and part mounting method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a part mounting device and a part mounting method that can reduce the amount of transfer material to be supplied to a stage and suppress the cost of the transfer material.SOLUTION: When a film of flux 8 is formed on a stage 24, a squeegee 28a moves to a height position at which a coating film formation interval q is coincident with a thickness t2 smaller than a proper thickness t1 for transferring the flux 8 onto a part. Under this state, a stage 24 moves in the section S1 corresponding to a first non-transfer area C1. Then, the squeegee 28a ascends to a height position at which the coating film formation interval q is coincident with the thickness t1, and under this state, the stage 24 moves in the section S2 corresponding to a transfer area B. Then, the squeegee 28a descends to a height position at which the coating film formation interval q is coincident with the thickness t2, and under this state, the stage 24 moves in the section S3 corresponding to a second non-transfer area C2. Thereafter, a mount head transfers the flux 8 onto the part in the transfer area B, and mounts the part on a board.

Description

本発明は、部品に転写材料を転写して基板に実装する部品実装装置及び部品実装方法に関するものである。   The present invention relates to a component mounting apparatus and a component mounting method for transferring a transfer material onto a component and mounting the transfer material on a substrate.

BGAなどの部品を基板に実装して実装基板を製造する形態として、部品実装装置を用いて部品に設けられたバンプを介して基板の電極に半田接合によって実装する方法が知られている。この方法では、バンプや電極の表面に付着する酸化膜の除去を目的として、フラックスなどの酸化膜除去作用を有する転写材料をバンプに転写した状態でバンプを基板の電極に着地させることが行われている。   As a form of mounting a component such as a BGA on a substrate to manufacture a mounting substrate, a method is known in which a component mounting apparatus is used to mount the component on a substrate electrode by solder bonding via bumps provided on the component. In this method, for the purpose of removing the oxide film adhering to the surface of the bump or electrode, the bump is landed on the electrode of the substrate in a state where a transfer material having an oxide film removing action such as flux is transferred to the bump. ing.

このため、転写材料を成膜した状態で供給する転写装置を備えた部品実装装置が知られている(例えば特許文献1を参照)。特許文献1には、成膜領域を有するステージを往復移動させることにより、ステージと所定の隙間だけ隔てて配設されたスキージによって転写材料を成膜領域で薄く延ばして塗膜を形成する転写装置が例示されている。このような部品実装装置では、成膜領域内に設定された転写領域に部品を保持した搭載ヘッドを下降させることにより、部品の下面に形成されたバンプに転写材料を転写し、転写材料が転写された部品を基板に搭載する。その後、搭載ヘッドが部品供給部に移動して新たな部品を取り出す間に、転写装置はステージを往復移動させて成膜領域に転写材料を成膜する成膜動作を実行する。   For this reason, a component mounting apparatus including a transfer device that supplies a transfer material in a film-formed state is known (see, for example, Patent Document 1). Patent Document 1 discloses a transfer device that forms a coating film by reciprocating a stage having a film formation region so that a transfer material is thinly extended in the film formation region by a squeegee disposed at a predetermined gap from the stage. Is illustrated. In such a component mounting apparatus, the transfer material is transferred to the bumps formed on the lower surface of the component by lowering the mounting head that holds the component in the transfer region set in the film formation region, and the transfer material is transferred. The mounted component is mounted on the board. Thereafter, while the mounting head moves to the component supply unit and takes out a new component, the transfer device performs a film forming operation for moving the stage back and forth to form a transfer material in the film forming region.

特許文献1に示す例も含め、従来の転写装置においては、成膜動作後にスキージによって掻き寄せられた転写材料の残量を検出するためのセンサが設けられている。このセンサによる残量検出結果に基づいて転写材料の補給の可否が判断され、残量が所定値以下であると判断された場合にシリンジなどを用いてステージに転写材料が補給される。   In the conventional transfer apparatus, including the example shown in Patent Document 1, a sensor is provided for detecting the remaining amount of the transfer material scraped by the squeegee after the film forming operation. Whether or not the transfer material can be replenished is determined based on the remaining amount detection result by this sensor, and when it is determined that the remaining amount is equal to or less than a predetermined value, the transfer material is replenished to the stage using a syringe or the like.

特開2013−74005号公報JP2013-74005A

しかしながら、従来の転写装置では全ての成膜領域で同一の条件下で成膜動作が行われることに起因して転写材料の無駄が発生するという問題があった。すなわち、ステージが往復移動する領域の上方には、前述したスキージ、シリンジ、センサなどの各部材が転写装置内で固定した状態で設けられている。したがって、転写時に転写装置の各部材と搭載ヘッドの干渉を防止するためには、ステージの移動距離を長く設定して双方を遠ざける必要がある。   However, the conventional transfer apparatus has a problem that the transfer material is wasted due to the film forming operation being performed under the same conditions in all film forming regions. That is, above the area where the stage reciprocates, the above-described members such as the squeegee, syringe and sensor are fixed in the transfer device. Therefore, in order to prevent interference between each member of the transfer device and the mounting head at the time of transfer, it is necessary to set the moving distance of the stage long and keep both of them apart.

ところが、成膜領域はステージの移動距離に比例して大きくなるため、ステージの移動距離が長くなるほど成膜領域にはバンプへの転写に寄与しない無駄な非転写領域が多く形成されることになる。従来の転写装置では、ステージに対するスキージの高さを非転写領域においても転写領域と同一の高さで成膜動作を行っていたことから、転写領域での塗膜の形成のために本来必要な量以上の転写材料をステージに供給する必要があった。   However, since the film formation area increases in proportion to the movement distance of the stage, the longer the movement distance of the stage, the more wasteful non-transfer areas that do not contribute to the transfer to the bumps are formed in the film formation area. . In the conventional transfer apparatus, the film forming operation is performed with the height of the squeegee with respect to the stage being the same as that of the transfer area even in the non-transfer area. It was necessary to supply more transfer material to the stage.

また、転写材料の補給の判断は、非転写領域を含む全ての成膜領域で転写に必要な厚さの塗膜を形成するために必要な転写材料の量に基づいて行われていたため、転写領域で塗膜を形成するために十分な量の転写材料が残存するにもかかわらず転写材料が補給されていた。したがって、本来、転写材料の補充が必要でない場合であっても、転写材料が補充されて補充回数が多くなってしまう場合があった。そのため、実装基板の生産終了後に廃棄される転写材料の量が多くなって無駄が発生し、転写材料にかかるコストも高くなるという問題もあった。   In addition, the transfer material replenishment determination was made based on the amount of transfer material required to form a coating film having a thickness necessary for transfer in all film formation regions including the non-transfer region. The transfer material was replenished despite a sufficient amount of transfer material remaining to form a coating in the area. Therefore, even if it is not necessary to replenish the transfer material, the transfer material may be replenished and the number of replenishments may increase. For this reason, there is a problem in that the amount of transfer material discarded after the production of the mounting substrate is increased, waste is generated, and the cost for the transfer material is increased.

そこで本発明は、ステージに供給される転写材料の量を削減して転写材料にかかるコストを抑えることができる部品実装装置及び部品実装方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a component mounting apparatus and a component mounting method that can reduce the amount of transfer material supplied to a stage and reduce the cost of the transfer material.

本発明の部品実装装置は、部品供給部から搭載ヘッドにより部品を取り出し、その部品に転写材料を転写して基板に実装する部品実装装置であって、前記搭載ヘッドに保持された部品に転写される転写材料を成膜した状態で供給する転写装置を備え、前記転写装置は、前記転写材料が成膜される成膜領域を有するステージと、前記ステージを往復移動させるステージ移動手段と、前記ステージに対して昇降自在に配設され、前記ステージとの間に所定の隙間を有した状態で前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜するスキージとを備え、前記成膜領域には、部品に転写材料を転写するための転写領域が設定されており、前記ステージに転写材料を成膜する際、転写領域以外における前記ステージに対する前記スキージの高さを、前記転写領域における前記ステージに対する前記スキージの高さよりも低くする。   A component mounting apparatus according to the present invention is a component mounting apparatus that takes out a component from a component supply unit by a mounting head, transfers a transfer material to the component, and mounts it on a substrate. The component mounting device is transferred to the component held by the mounting head. A transfer device that supplies the transfer material in a film-formed state, the transfer device having a film formation region on which the transfer material is formed, stage moving means for reciprocating the stage, and the stage And a squeegee for forming a transfer material in the film formation region by moving the stage with a predetermined gap between the stage and the stage. In the area, a transfer area for transferring the transfer material to the part is set, and when the transfer material is deposited on the stage, the scan with respect to the stage other than the transfer area is set. Di height, lower than the height of the squeegee relative to the stage in the transfer region.

本発明の部品実装方法は、搭載ヘッドに保持された部品に転写される転写材料を成膜した状態で供給する転写装置を備えた部品実装装置を用いて、部品供給部から前記搭載ヘッドにより部品を取り出し、その部品に転写材料を転写して基板に実装する部品実装方法であって、前記転写装置は、前記転写材料が成膜される成膜領域を有するステージと、前記ステージを往復移動させるステージ駆動手段と、前記ステージに対して昇降自在に配設され、前記ステージとの間に所定の隙間を有した状態で前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜するスキージとを備え、前記スキージに対して前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜する成膜工程と、前記ステージに成膜された状態の転写材料を部品に転写する転写工程と、を含み、前記成膜工程において、前記成膜領域に設定された部品に転写材料を転写するための転写領域以外における前記スキージの高さを、前記転写領域における前記スキージの高さよりも低くする。   The component mounting method of the present invention uses a component mounting apparatus provided with a transfer device that supplies a transfer material to be transferred to a component held by the mounting head in the form of a film. Is a component mounting method in which a transfer material is transferred to a component and mounted on a substrate, wherein the transfer device reciprocally moves the stage having a film formation region on which the transfer material is formed and the stage. A squeegee that is disposed so as to be movable up and down with respect to the stage driving means and the stage, and forms a transfer material in the film forming region by moving the stage with a predetermined gap between the stage driving means and the stage. A film forming step of forming a transfer material in the film forming region by moving the stage with respect to the squeegee, and a transfer material formed on the stage A transfer step for transferring to a component, and in the film formation step, the height of the squeegee other than the transfer region for transferring the transfer material to the component set in the film formation region is set in the transfer region. Lower the squeegee height.

本発明によれば、ステージに供給される転写材料の量を削減して転写材料にかかるコストを抑えることができる。   According to the present invention, the cost of the transfer material can be suppressed by reducing the amount of the transfer material supplied to the stage.

本発明の一実施の形態における部品実装装置の平面図The top view of the component mounting apparatus in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における部品実装装置に備えられた転写装置の斜視図The perspective view of the transcription | transfer apparatus with which the component mounting apparatus in one embodiment of this invention was equipped (a),(b)本発明の一実施の形態における部品実装装置に備えられた転写装置の構造説明図(A), (b) Structure explanatory drawing of the transfer device provided in the component mounting apparatus in one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるステージに設定される成膜領域の説明図Explanatory drawing of the film-forming area | region set to the stage in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における部品実装装置の制御系を示すブロック図The block diagram which shows the control system of the component mounting apparatus in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における部品実装動作のフローチャートFlowchart of component mounting operation in one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態における成膜動作の説明図Explanatory drawing of the film-forming operation | movement in one embodiment of this invention (a)(b)(c)本発明の一実施の形態における成膜動作の説明図(A) (b) (c) Explanatory drawing of the film-forming operation | movement in one embodiment of this invention (a)本発明の一実施の形態におけるフラックスの転写動作の説明図(b)本発明の一実施の形態におけるフラックスの検出動作の説明図(c)本発明の一実施の形態における掻き寄せ動作の説明図(A) Explanatory diagram of flux transfer operation in one embodiment of the present invention (b) Explanatory diagram of flux detection operation in one embodiment of the present invention (c) Scavenging operation in one embodiment of the present invention Illustration of 本発明の一実施の形態におけるステージに設定される成膜領域のその他の例を示す図The figure which shows the other example of the film-forming area | region set to the stage in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態における成膜動作の説明図(A) (b) Explanatory drawing of film-forming operation | movement in one embodiment of this invention

まず図1を参照して、本発明の一実施の形態における部品実装装置について説明する。部品実装装置1は基板2に部品を実装する機能を有するものである。部品実装装置1の基台1aには、X方向(基板搬送方向)に基板搬送機構3が配設されている。基板搬送機構3は実装対象となる基板2をX方向に搬送し、所定の実装作業位置に位置決めする。   First, a component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The component mounting apparatus 1 has a function of mounting components on the substrate 2. On the base 1a of the component mounting apparatus 1, a board transfer mechanism 3 is disposed in the X direction (board transfer direction). The substrate transport mechanism 3 transports the substrate 2 to be mounted in the X direction and positions it at a predetermined mounting work position.

基板搬送機構3の両側には部品供給部4A,4Bが配設されている。一方側の部品供給部4Aには、トレイ5aに格納されたBGA(Ball Grid Array)等の複数のバンプを有する部品を供給するトレイフィーダ5と転写装置6がX方向に並列して装着されている。他方側の部品供給部4Bには、キャリアテープに保持されたチップ部品等の小型部品を供給する複数のテープフィーダ7がセットされている。図2において、転写装置6は後述する搭載ヘッド11Aに保持された部品Pに転写されるフラックス(転写材料)8を塗膜の状態で供給する機能を有する。フラックス8は、バンプPa(図3(a))の表面や、部品実装時にバンプPaと接続される基板2の電極の表面に付着する酸化膜を除去する作用を有する粘性流体である。   Component supply units 4A and 4B are disposed on both sides of the substrate transport mechanism 3. A tray feeder 5 for supplying components having a plurality of bumps such as BGA (Ball Grid Array) stored in a tray 5a and a transfer device 6 are mounted in parallel in the X direction on the one-side component supply unit 4A. Yes. A plurality of tape feeders 7 for supplying small components such as chip components held on a carrier tape are set in the other component supply section 4B. In FIG. 2, the transfer device 6 has a function of supplying a flux (transfer material) 8 transferred to a component P held by a mounting head 11A described later in the state of a coating film. The flux 8 is a viscous fluid having an action of removing an oxide film adhering to the surface of the bump Pa (FIG. 3A) and the surface of the electrode of the substrate 2 connected to the bump Pa when mounting the component.

図1において、基台1aのX方向の一端部にはリニア駆動機構を備えたY軸移動テーブル9がX方向と水平面内において直交するY方向に配設されている。Y軸移動テーブル9には、同様にリニア駆動機構を備えた2基のX軸移動テーブル10A,10BがY方向に移動自在に結合されている。X軸移動テーブル10A,10Bには、搭載ヘッド11A,11BがX方向に移動自在に装着されている。Y軸移動テーブル9及びX軸移動テーブル10Aを駆動することにより、搭載ヘッド11AはXY方向に水平移動する。同様に、Y軸移動テーブル9及びX軸移動テーブル10Bを駆動することにより、搭載ヘッド11BはXY方向に水平移動する。   In FIG. 1, a Y-axis moving table 9 provided with a linear drive mechanism is disposed at one end of the base 1a in the X direction in the Y direction perpendicular to the X direction in the horizontal plane. Similarly, two X-axis movement tables 10A and 10B each having a linear drive mechanism are coupled to the Y-axis movement table 9 so as to be movable in the Y direction. On the X-axis movement tables 10A and 10B, mounting heads 11A and 11B are mounted so as to be movable in the X direction. By driving the Y-axis movement table 9 and the X-axis movement table 10A, the mounting head 11A moves horizontally in the XY directions. Similarly, by driving the Y-axis movement table 9 and the X-axis movement table 10B, the mounting head 11B moves horizontally in the XY direction.

図1及び図2において、搭載ヘッド11A,11Bは、複数の単位移載ヘッド11aを備えている。単位移載ヘッド11aは下端部に部品Pを吸着可能な吸着ノズル12を備えており、吸着ノズル12はノズル昇降機構13(図5)の駆動によって個別に上下方向(Z方向)に移動可能となっている。搭載ヘッド11Aは、トレイフィーダ5から供給される部品Pを吸着ノズル12により吸着し、実装作業位置に位置決めされた基板2に搭載する機能を有する。搭載ヘッド11Bは、テープフィーダ7から供給される部品Pを吸着ノズル12により吸着し、実装作業位置に位置決めされた基板2に搭載する機能を有する。   1 and 2, the mounting heads 11A and 11B include a plurality of unit transfer heads 11a. The unit transfer head 11a includes a suction nozzle 12 capable of sucking the component P at the lower end, and the suction nozzle 12 can be individually moved in the vertical direction (Z direction) by driving the nozzle lifting mechanism 13 (FIG. 5). It has become. The mounting head 11 </ b> A has a function of sucking the component P supplied from the tray feeder 5 by the suction nozzle 12 and mounting it on the substrate 2 positioned at the mounting work position. The mounting head 11B has a function of sucking the component P supplied from the tape feeder 7 by the suction nozzle 12 and mounting it on the substrate 2 positioned at the mounting work position.

図1において、搭載ヘッド11A,11Bには撮像視野を下方に向けた基板認識カメラ14が設けられている。基板認識カメラ14は搭載ヘッド11A,11Bと一体的に移動し、基板2を上方から撮像する。また、基台1aにおいて部品供給部4A,4Bと基板搬送機構3との間には、部品認識カメラ15が配設されている。部品認識カメラ15は、その上方を移動する搭載ヘッド11A,11Bに保持された部品Pを下方から撮像する。   In FIG. 1, the mounting heads 11 </ b> A and 11 </ b> B are provided with a substrate recognition camera 14 whose imaging field of view is directed downward. The substrate recognition camera 14 moves integrally with the mounting heads 11A and 11B, and images the substrate 2 from above. A component recognition camera 15 is disposed between the component supply units 4A and 4B and the board transport mechanism 3 in the base 1a. The component recognition camera 15 images the component P held by the mounting heads 11A and 11B moving above from below.

次に図2及び図3を参照して、転写装置6の構造について説明する。転写装置6は、長尺形状のベース部20に、以下に説明する各部を設けて構成される。ベース部20は、部品供給部4Aに設けられたフィーダベース17(図3(a))にY方向に長手方向を合わせて、矢印aで示す搭載ヘッド11Aのアクセス方向の反対側から着脱自在に装着される。本明細書においては、搭載ヘッド11Aが転写装置6にアクセスする側を前側とし、その反対方向を後側と定義する。   Next, the structure of the transfer device 6 will be described with reference to FIGS. The transfer device 6 is configured by providing each part described below on a long base 20. The base unit 20 is detachable from the side opposite to the access direction of the mounting head 11A indicated by the arrow a, with the longitudinal direction aligned with the feeder base 17 (FIG. 3A) provided in the component supply unit 4A in the Y direction. Installed. In this specification, the side on which the mounting head 11A accesses the transfer device 6 is defined as the front side, and the opposite direction is defined as the rear side.

転写装置6には、フィーダベース17に係合してベース部20を固定する係合部20aが設けられており、さらに係合部20aから後方にはハンドル21が突出して設けられている。転写装置6をフィーダベース17に装着する際には、ベース部20の下面側をフィーダベース17の上面に沿わせてハンドル21を把持して前方に押し込む。これにより、係合部20aがフィーダベース17の後端部17aに係合して、ベース部20は所定位置に装着される。   The transfer device 6 is provided with an engaging portion 20a that engages with the feeder base 17 and fixes the base portion 20, and a handle 21 projects from the rear of the engaging portion 20a. When the transfer device 6 is mounted on the feeder base 17, the lower surface side of the base portion 20 is aligned with the upper surface of the feeder base 17 and the handle 21 is gripped and pushed forward. Thereby, the engaging part 20a engages with the rear end part 17a of the feeder base 17, and the base part 20 is mounted at a predetermined position.

図3(a),(b)において、ベース部20の上面にはガイドレール22が長手方向に配設されており、ガイドレール22にスライド自在に嵌着したスライダ23はステージ24の下面に固着されている。ステージ24の下面に結合されたナット25には送りねじ26が螺合しており、送りねじ26はベース部20の後端部側に配置された第1のモータ27によって回転駆動される。したがって、第1のモータ27を駆動することにより、ステージ24はベース部20の上面において長手方向(Y方向)に往復移動する。上記構成において、ガイドレール22、スライダ23、ナット25、送りねじ26及び第1のモータ27は、ステージ24を往復移動させるステージ移動手段となっている。   3A and 3B, a guide rail 22 is disposed on the upper surface of the base portion 20 in the longitudinal direction, and the slider 23 slidably fitted to the guide rail 22 is fixed to the lower surface of the stage 24. Has been. A feed screw 26 is screwed into a nut 25 coupled to the lower surface of the stage 24, and the feed screw 26 is rotationally driven by a first motor 27 disposed on the rear end side of the base portion 20. Accordingly, by driving the first motor 27, the stage 24 reciprocates in the longitudinal direction (Y direction) on the upper surface of the base portion 20. In the above configuration, the guide rail 22, the slider 23, the nut 25, the feed screw 26, and the first motor 27 serve as stage moving means for reciprocating the stage 24.

次に図2、図3及び図4を参照して、ステージ24について説明する。ステージ24は矩形状部材の上面側に底面が平滑な凹部を形成した構造であり、この凹部の底面はフラックス8の塗膜(薄い膜)を形成するための塗膜形成面24aとなっている。図4において、ステージ24の塗膜形成面24a上には成膜領域Aが設定されており、この成膜領域Aにおいて後述する成膜動作を実行することにより、塗膜形成面24aにはフラックス8の塗膜が形成される。このようにステージ24は、フラックス8が成膜される成膜領域Aを有する。   Next, the stage 24 will be described with reference to FIGS. The stage 24 has a structure in which a concave portion having a smooth bottom surface is formed on the upper surface side of the rectangular member. The bottom surface of the concave portion serves as a coating film forming surface 24a for forming a coating film (thin film) of the flux 8. . In FIG. 4, a film forming area A is set on the coating film forming surface 24a of the stage 24. By performing a film forming operation described later in this film forming area A, a flux is applied to the coating film forming surface 24a. 8 coatings are formed. As described above, the stage 24 has the film formation region A where the flux 8 is formed.

図4に示すように、成膜領域Aには転写領域Bが設定されている。転写領域Bは、搭載ヘッド11Aに保持された部品Pにフラックス8を転写するための領域である。また、部品Pへのフラックス8の転写に寄与しない領域、すなわち、成膜領域Aにおいて転写領域B以外の領域を非転写領域Cとする。本実施の形態においては、転写領域Bは成膜領域Aの略中央に設定され、この転写領域BをY方向に挟んだ両側は、第1の非転写領域C1(前側)と第2の非転写領域C2(後側)となる。   As shown in FIG. 4, a transfer area B is set in the film formation area A. The transfer area B is an area for transferring the flux 8 to the component P held by the mounting head 11A. Further, a region that does not contribute to the transfer of the flux 8 to the component P, that is, a region other than the transfer region B in the film formation region A is defined as a non-transfer region C. In the present embodiment, the transfer region B is set at substantially the center of the film formation region A, and both sides sandwiching the transfer region B in the Y direction are the first non-transfer region C1 (front side) and the second non-transfer region. It becomes the transfer area C2 (rear side).

この転写領域B内には、搭載ヘッド11Aが備える複数の吸着ノズル12に吸着された各部品Pを転写させる位置である転写位置Tが予め設定されている。転写領域Bは、転写位置Tと実装対象となる部品Pのサイズに基づいて設定される。より具体的に説明すると、転写領域Bは部品Pを吸着した吸着ノズル12が1回の昇降動作を行ったときに、部品Pに形成される全てのバンプPaにフラックス8を転写させることが可能な面積となるように設定される。   In the transfer region B, a transfer position T, which is a position to transfer each component P sucked by the plurality of suction nozzles 12 included in the mounting head 11A, is set in advance. The transfer area B is set based on the transfer position T and the size of the component P to be mounted. More specifically, in the transfer area B, the flux 8 can be transferred to all the bumps Pa formed on the component P when the suction nozzle 12 that has sucked the component P performs one lifting operation. It is set to be a large area.

転写領域Bにおいて、ステージ24の移動方向(Y方向)の長さ寸法L1は、転写位置Tと実装対象となる部品Pのサイズから算出された着地目標領域Ba,Bbの長さ寸法に、着地目標領域Ba,Bbの両側の端部から延出代Δyだけ加えた長さ寸法に設定されている。この延出代Δyは、転写領域Bの上方における搭載ヘッド11Aの位置ずれ、吸着ノズル12に吸着された部品Pの位置ずれ等を考慮して定められる。   In the transfer area B, the length dimension L1 in the moving direction (Y direction) of the stage 24 is equal to the length dimension of the landing target areas Ba and Bb calculated from the transfer position T and the size of the component P to be mounted. The length dimension is set by adding an extension allowance Δy from both ends of the target areas Ba and Bb. The extension allowance Δy is determined in consideration of the positional deviation of the mounting head 11A above the transfer region B, the positional deviation of the component P sucked by the suction nozzle 12, and the like.

図3において、ステージ24を前側に移動させた状態において、転写領域Bよりも後方であって搭載ヘッド11との干渉が生じないステージ24の上方の位置には、成膜スキージユニット28及び掻き寄せユニット29が配置されている。また、成膜スキージユニット28と掻き寄せユニット29の間には、フラックス8を供給するフラックス供給シリンジ30のニードル30aが挿入配置されている。成膜スキージユニット28は、ベース部20に立設されたブラケット31によって保持されており、これによりベース部20に対して水平方向の位置が固定された状態となっている。   In FIG. 3, when the stage 24 is moved to the front side, the film formation squeegee unit 28 and the scraping unit are positioned at a position behind the transfer region B and above the stage 24 where no interference with the mounting head 11 occurs. A unit 29 is arranged. Further, between the film forming squeegee unit 28 and the scraping unit 29, a needle 30a of a flux supply syringe 30 for supplying the flux 8 is inserted and disposed. The film forming squeegee unit 28 is held by a bracket 31 erected on the base portion 20, and the horizontal position is fixed with respect to the base portion 20.

図3(a),(b)を参照して、成膜スキージユニット28の詳細について説明する。なお、図3(b)は、図3(a)におけるA断面を示している。成膜スキージユニット28は、下方に延出して下端部が塗膜形成面24aとの間に塗膜形成隙間g(図7(a))を保って配設されたスキージ28aを備えている。スキージ28aは連結部材32に結合されており、連結部材32はブラケット31にスライドユニット33を介して装着されている。したがって、スキージ28aはブラケット31に対して上下動自在となっている。   Details of the film formation squeegee unit 28 will be described with reference to FIGS. FIG. 3B shows a cross section A in FIG. The film forming squeegee unit 28 includes a squeegee 28a that extends downward and has a lower end portion disposed with a coating film forming gap g (FIG. 7A) between the coating film forming surface 24a. The squeegee 28 a is coupled to the connecting member 32, and the connecting member 32 is attached to the bracket 31 via the slide unit 33. Therefore, the squeegee 28 a is movable up and down with respect to the bracket 31.

塗膜形成面24aにフラックス8が供給された状態で、ステージ24をステージ移動手段によってY方向(前側)に水平移動させることにより、スキージ28aは塗膜形成面24aにフラックス8を成膜する。これにより、成膜領域Aには塗膜形成隙間gに応じた厚みを有するフラックス8の塗膜が形成される。すなわち、成膜領域Aはステージ24とスキージ28aが相対移動する区間内で形成される。そして、ステージ24を前側へ移動させることにより、図4(a)に示すように、フラックス8が成膜された転写領域Bを搭載ヘッド11による転写位置Tに位置させることができる。このように、転写装置6は搭載ヘッド11に保持された部品Pに転写される転写材料を成膜した状態で供給する。   The squeegee 28a forms the flux 8 on the coating film forming surface 24a by horizontally moving the stage 24 in the Y direction (front side) by the stage moving means in a state where the flux 8 is supplied to the coating film forming surface 24a. As a result, a coating film of flux 8 having a thickness corresponding to the coating film formation gap g is formed in the film formation region A. That is, the film formation region A is formed in a section where the stage 24 and the squeegee 28a move relative to each other. Then, by moving the stage 24 to the front side, as shown in FIG. 4A, the transfer region B on which the flux 8 is formed can be positioned at the transfer position T by the mounting head 11. As described above, the transfer device 6 supplies the transfer material transferred to the component P held by the mounting head 11 in a film-formed state.

図3(a)において、掻き寄せユニット29は下方に延出したスクレーパ29aを備えている。スクレーパ29aは下方に付勢されて、ステージ24の高さ位置に関わらず常に塗膜形成面24aに当接した状態にある。ステージ移動手段によってステージ24をY方向(後側)に移動させることにより、スクレーパ29aは成膜領域Aに成膜されたフラックス8を掻き寄せる。   In FIG. 3A, the scraping unit 29 includes a scraper 29a extending downward. The scraper 29a is biased downward and is always in contact with the coating film forming surface 24a regardless of the height position of the stage 24. By moving the stage 24 in the Y direction (rear side) by the stage moving means, the scraper 29a scrapes the flux 8 deposited on the deposition region A.

図2及び図3に示すように、ステージ24の上方において、スキージ28aとスクレーパ29aとの間には、反射式の光センサ(転写材料検出部)38が検出光軸38aによる検出方向を塗膜形成面24aに向けて配設されている。光センサ38は検出光を塗膜形成面24aに照射し、その反射光を受光する。受光信号は後述する検出処理部45(図5)に出力される。   As shown in FIGS. 2 and 3, above the stage 24, between the squeegee 28a and the scraper 29a, a reflective optical sensor (transfer material detector) 38 indicates the direction of detection by the detection optical axis 38a. It arrange | positions toward the formation surface 24a. The optical sensor 38 irradiates the coating film forming surface 24a with detection light and receives the reflected light. The received light signal is output to a detection processing unit 45 (FIG. 5) described later.

図3(a),(b)において、連結部材32には上下方向に配設された昇降部材34が結合されている。ベース部20の内部に貫入した昇降部材34の下端部には、カムフォロア35が結合されている。ベース部20の内部には第2のモータ36が水平姿勢で配設されており、第2のモータ36の回転軸に結合された円板カム37はカムフォロア35に当接している。この状態で第2のモータ36を回転駆動することにより、昇降部材34は円板カム37のカム特性にしたがって昇降する。これにより、スキージ28aはステージ24に対して昇降する。   3 (a) and 3 (b), the connecting member 32 is coupled with an elevating member 34 disposed in the vertical direction. A cam follower 35 is coupled to the lower end portion of the elevating member 34 that penetrates into the base portion 20. A second motor 36 is disposed in a horizontal posture inside the base portion 20, and a disc cam 37 coupled to the rotation shaft of the second motor 36 is in contact with the cam follower 35. By rotating the second motor 36 in this state, the elevating member 34 moves up and down according to the cam characteristics of the disc cam 37. As a result, the squeegee 28a moves up and down with respect to the stage 24.

すなわち、昇降部材34、カムフォロア35、円板カム37及び第2のモータ36は、スキージ28aの上下方向の位置を調整するスキージ位置調整手段となっている。また、スキージ28aはステージ24に対して昇降自在に配設され、ステージ24との間に所定の隙間を有した状態でステージ24を移動させることにより成膜領域Aに転写材料を成膜する。後述する成膜動作を開始する前に、スキージ位置調整手段はスキージ28aの上下方向の位置を調整して、スキージ28aの下端部と塗膜形成面24aとの間の塗膜形成隙間gを変更する。これにより、成膜領域Aに形成されるフラックス8の塗膜の厚さが可変となる。なお、本実施の形態においては、スキージ位置調整手段としてカム機構を採用しているが、昇降部材34を任意に昇降させることが可能な直動機構であれば、カム機構以外の駆動方式を用いてもよい。   That is, the elevating member 34, the cam follower 35, the disc cam 37, and the second motor 36 are squeegee position adjusting means for adjusting the vertical position of the squeegee 28a. The squeegee 28a is disposed so as to be movable up and down with respect to the stage 24, and the transfer material is deposited on the deposition region A by moving the stage 24 with a predetermined gap between the squeegee 28a. Before the film forming operation described later is started, the squeegee position adjusting means adjusts the vertical position of the squeegee 28a to change the coating film forming gap g between the lower end of the squeegee 28a and the coating film forming surface 24a. To do. Thereby, the thickness of the coating film of the flux 8 formed in the film formation region A becomes variable. In the present embodiment, a cam mechanism is employed as the squeegee position adjusting means. However, a drive system other than the cam mechanism is used as long as it is a linear motion mechanism capable of arbitrarily raising and lowering the elevating member 34. May be.

次に図5を参照して、部品実装装置1の制御系について説明する。部品実装装置1に備えられた制御部40は、記憶部41、搭載制御部42、転写領域設定部43、成膜動作制御部44、検出処理部45及び認識処理部46を含んで構成される。この制御部40には、基板搬送機構3、テープフィーダ7、トレイフィーダ5、Y軸移動テーブル9、X軸移動テーブル10A,10B、ノズル昇降機構13、基板認識カメラ14、部品認識カメラ15、第1のモータ27、第2のモータ36及び光センサ38が接続されている。   Next, the control system of the component mounting apparatus 1 will be described with reference to FIG. The control unit 40 provided in the component mounting apparatus 1 includes a storage unit 41, a mounting control unit 42, a transfer region setting unit 43, a film forming operation control unit 44, a detection processing unit 45, and a recognition processing unit 46. . The controller 40 includes a substrate transport mechanism 3, a tape feeder 7, a tray feeder 5, a Y-axis movement table 9, X-axis movement tables 10A and 10B, a nozzle lifting mechanism 13, a substrate recognition camera 14, a component recognition camera 15, a first A first motor 27, a second motor 36, and an optical sensor 38 are connected.

記憶部41は、部品データ41a、実装データ41b及び成膜データ41cを記憶する。部品データ41aは、実装対象となる部品Pの種類やサイズ等の情報を含むデータである。実装データ41bは、基板2にフラックス転写後の部品Pを実装するためのデータである。成膜データ41cは、転写装置6によってフラックス8を成膜するためのデータである。この成膜データ41cには、部品Pの種類に応じて設定された転写領域B、スキージ28aを上下動させる第2のモータ36の制御パラメータ等、フラックス8を成膜するために必要な各種の情報が含まれる。   The storage unit 41 stores component data 41a, mounting data 41b, and film formation data 41c. The component data 41a is data including information such as the type and size of the component P to be mounted. The mounting data 41b is data for mounting the component P after flux transfer on the substrate 2. The film formation data 41 c is data for forming the flux 8 by the transfer device 6. The film formation data 41c includes various areas necessary for forming the flux 8, such as the transfer region B set according to the type of the component P, the control parameter of the second motor 36 that moves the squeegee 28a up and down, and the like. Contains information.

搭載制御部42は、実装データ41bに基づいて基板搬送機構3、トレイフィーダ5、テープフィーダ7、Y軸移動テーブル9、X軸移動テーブル10A,10B及びノズル昇降機構13を制御する。これにより、搭載ヘッド11Aは、トレイフィーダ5から供給された部品Pを取り出し、転写装置6において供給されたフラックス8を部品Pに転写させた後に、実装作業位置に位置決めされた基板2に部品Pを搭載する。また、搭載ヘッド11Bは、テープフィーダ7から供給された部品Pを取り出し、実装作業位置に位置決めされた基板2に部品Pを搭載する。   The mounting control unit 42 controls the substrate transport mechanism 3, the tray feeder 5, the tape feeder 7, the Y-axis moving table 9, the X-axis moving tables 10A and 10B, and the nozzle lifting mechanism 13 based on the mounting data 41b. Thus, the mounting head 11A takes out the component P supplied from the tray feeder 5, transfers the flux 8 supplied by the transfer device 6 to the component P, and then mounts the component P on the substrate 2 positioned at the mounting work position. Is installed. The mounting head 11B takes out the component P supplied from the tape feeder 7 and mounts the component P on the substrate 2 positioned at the mounting work position.

転写領域設定部43は、成膜動作の開始前に部品データ41aを参照し、実装対象となる部品Pのサイズに応じて転写領域Bを設定する。転写領域Bの位置は、成膜データ41cに含まれ、記憶部41に記憶される。   The transfer area setting unit 43 refers to the component data 41a before starting the film forming operation, and sets the transfer area B according to the size of the component P to be mounted. The position of the transfer region B is included in the film formation data 41 c and is stored in the storage unit 41.

成膜動作制御部44は、成膜データ41cに基づいてステージ24の塗膜形成面24aにフラックス8を成膜するための動作を実行する。より具体的に述べると、成膜動作制御部44は第2のモータ36を制御することによってスキージ28aの高さ位置を調整し、また、第1のモータ27を制御することによってステージ24を所定の速度で水平移動させる。成膜動作制御部44は、スキージ位置調整手段を構成する第2のモータ36を制御してスキージ28aを上下方向に移動させるスキージ移動制御部としても機能する。   The film forming operation control unit 44 executes an operation for forming the flux 8 on the coating film forming surface 24a of the stage 24 based on the film forming data 41c. More specifically, the film formation operation control unit 44 adjusts the height position of the squeegee 28a by controlling the second motor 36, and controls the first motor 27 to set the stage 24 to a predetermined level. Move horizontally at a speed of. The film forming operation control unit 44 also functions as a squeegee movement control unit that controls the second motor 36 constituting the squeegee position adjusting unit to move the squeegee 28a in the vertical direction.

検出処理部45は、光センサ38から出力された受光信号を検出処理することにより、塗膜形成面24aにおけるフラックス8の残量を検出する。そして、この検出結果に基づいてフラックス8の補給の要否を判定する。このように、検出処理部45は、スキージ28aとスクレーパ29aとの間に配設された転写材料検出部により、ステージ24に供給された転写材料の残量を検出して補給の要否を判定する補給要否判定部となっている。   The detection processing unit 45 detects the remaining amount of the flux 8 on the coating film forming surface 24a by detecting the light reception signal output from the optical sensor 38. Then, it is determined whether or not the flux 8 needs to be replenished based on the detection result. As described above, the detection processing unit 45 determines the necessity of replenishment by detecting the remaining amount of the transfer material supplied to the stage 24 by the transfer material detection unit disposed between the squeegee 28a and the scraper 29a. This is a supply necessity determination unit.

認識処理部46は、基板認識カメラ14によって取得した撮像データを認識することにより、基板2の位置を検出する。また、部品認識カメラ15によって取得した撮像データを認識することにより、吸着ノズル12に吸着された部品Pの位置を検出する。搭載ヘッド11A若しくは搭載ヘッド11Bによる部品Pの搭載動作においては、基板2及び部品Pの位置検出結果を加味して搭載位置の補正が行われる。   The recognition processing unit 46 detects the position of the substrate 2 by recognizing imaging data acquired by the substrate recognition camera 14. Further, the position of the component P sucked by the suction nozzle 12 is detected by recognizing the imaging data acquired by the component recognition camera 15. In the mounting operation of the component P by the mounting head 11A or the mounting head 11B, the mounting position is corrected in consideration of the position detection results of the substrate 2 and the component P.

本実施の形態における部品実装装置1は以上のように構成され、次に図6のフローチャート及び図7〜図10の動作説明図を参照して、トレイフィーダ5によって供給された部品Pを基板2に実装するための部品実装動作について説明する。部品実装動作は、搭載ヘッド11Aを主体としてなされる部品搭載動作と、転写装置6を主体としてなされる成膜及び掻き取り動作の双方を含む。まず、搭載ヘッド11Aによって部品Pを取り出す(ST1A:部品取り出し工程)。すなわち、搭載ヘッド11Aはトレイフィーダ5による部品Pの供給位置まで移動し、所望の部品Pを吸着ノズル12によって吸着する。   The component mounting apparatus 1 in the present embodiment is configured as described above. Next, referring to the flowchart of FIG. 6 and the operation explanatory diagrams of FIGS. 7 to 10, the component P supplied by the tray feeder 5 is replaced with the substrate 2. The component mounting operation for mounting on will be described. The component mounting operation includes both a component mounting operation mainly performed by the mounting head 11 </ b> A and a film formation and scraping operation mainly performed by the transfer device 6. First, the component P is extracted by the mounting head 11A (ST1A: component extraction step). That is, the mounting head 11 </ b> A moves to the supply position of the component P by the tray feeder 5 and sucks the desired component P by the suction nozzle 12.

前述した部品Pの取り出し動作と並行して、転写装置6においてフラックス8の成膜が行われる(ST1B:成膜工程)。すなわち、スキージ28aに対してステージ24を移動させることにより成膜領域Aにフラックス8を成膜する。この工程での成膜動作を詳細に説明する。図7は、ステージ24が後退位置にあって、成膜動作の開始前にスキージ28aの下端部が塗膜形成面24aにおける端部(本例では右側)に位置し、且つニードル30aを介してスキージ28aとスクレーパ29aとの間にフラックス8が供給された状態を示している。ここでいう塗膜形成面24aにおける端部とは、成膜領域Aにおいて最も前側の端部、すなわち第1の非転写領域C1の開始端C1aをさす。成膜動作の開始前に、スキージ28aは下端部と塗膜形成面24aとの間の塗膜形成隙間gが、部品Pにフラックス8を転写するために適正な厚みt1よりも小さい厚みt2と一致する高さ位置に移動する(矢印b1)。なお、図7における符号S1,S2,S3は、それぞれ第1の非転写領域C1、転写領域B、第2の非転写領域C2に対応した区間を示す。   In parallel with the above-described operation of taking out the component P, the transfer device 6 forms the flux 8 (ST1B: film formation step). That is, the flux 8 is deposited in the deposition region A by moving the stage 24 relative to the squeegee 28a. The film forming operation in this step will be described in detail. FIG. 7 shows that the stage 24 is in the retracted position, and the lower end portion of the squeegee 28a is positioned at the end portion (right side in this example) of the coating film forming surface 24a before the film forming operation is started. The state where the flux 8 is supplied between the squeegee 28a and the scraper 29a is shown. The edge part in the coating film formation surface 24a here refers to the foremost edge part in the film-forming area A, that is, the start edge C1a of the first non-transfer area C1. Before the film forming operation is started, the squeegee 28a has a thickness t2 in which the coating film forming gap g between the lower end portion and the coating film forming surface 24a is smaller than an appropriate thickness t1 for transferring the flux 8 to the component P. Move to the matching height position (arrow b1). 7 indicate sections corresponding to the first non-transfer area C1, the transfer area B, and the second non-transfer area C2, respectively.

次いで図8(a)に示すように、ステージ24は第1の非転写領域C1に対応する区間S1を移動する(矢印c1)。すなわち、ステージ24は、スキージ28aの下端部が第1の非転写領域C1の開始端C1aから終端C1b(転写領域Bの開始端Bc)に到達するまで、塗膜形成隙間gを厚みt2に保ったまま移動する。そして、ステージ24はスキージ28aの下端部が終端C1bに到達した位置で移動を停止する。これにより、第1の非転写領域C1には適正な厚みt1よりも小さい厚みt2を有するフラックス8の塗膜が形成される。   Next, as shown in FIG. 8A, the stage 24 moves in the section S1 corresponding to the first non-transfer area C1 (arrow c1). That is, the stage 24 maintains the coating film formation gap g at the thickness t2 until the lower end portion of the squeegee 28a reaches the end C1b (start end Bc of the transfer region B) from the start end C1a of the first non-transfer region C1. Move while standing. The stage 24 stops moving at the position where the lower end of the squeegee 28a reaches the end C1b. Thereby, the coating film of the flux 8 having a thickness t2 smaller than the appropriate thickness t1 is formed in the first non-transfer area C1.

次いで図8(b)に示すように、スキージ28aは塗膜形成隙間gが厚みt1と一致する高さ位置まで上昇する(矢印b2)。次いで、ステージ24は転写領域Bに対応する区間S2を移動する(矢印c2)。すなわち、ステージ24は、スキージ28aの下端部が転写領域Bの開始端Bcから終端Bd(第2の非転写領域C2の開始端C2a)に到達するまで、塗膜形成隙間gを厚みt1に保ったまま移動する。そして、ステージ24はスキージ28aの下端部が終端Bdに到達した位置で移動を停止する。これにより、転写領域Bには適正な厚みt1を有するフラックス8の塗膜が形成される。   Next, as shown in FIG. 8B, the squeegee 28a rises to a height position at which the coating film formation gap g matches the thickness t1 (arrow b2). Next, the stage 24 moves in the section S2 corresponding to the transfer region B (arrow c2). That is, the stage 24 maintains the coating film formation gap g at the thickness t1 until the lower end of the squeegee 28a reaches the end Bd from the start end Bc of the transfer region B (start end C2a of the second non-transfer region C2). Move while standing. The stage 24 stops moving at the position where the lower end of the squeegee 28a reaches the end Bd. As a result, a coating film of the flux 8 having an appropriate thickness t1 is formed in the transfer region B.

次いで図8(c)に示すように、スキージ28aは塗膜形成隙間gが厚みt2と一致する高さ位置まで再び下降する(矢印b3)。次いで、ステージ24は第2の非転写領域C2に対応する区間S3を移動する(矢印c3)。すなわち、ステージ24は、スキージ28aの下端部が第2の非転写領域の開始端C2aから終端C2bに到達するまで、塗膜形成隙間gを厚みt2に保ったまま移動する。そして、ステージ24はスキージ28aの下端部が終端C2bに到達した位置で移動を停止する。これにより、第2の非転写領域C2には適正な厚みt1よりも小さい厚みt2を有するフラックス8の塗膜が形成される。なお、第2の非転写領域C2にフラックス8を成膜する理由は、搭載ヘッド11Aが転写領域Bの上方まで移動したときに、ステージ24の上方に配置される各部材(成膜スキージユニット28等)と干渉する事態を防止するためである。   Next, as shown in FIG. 8C, the squeegee 28a descends again to a height position at which the coating film formation gap g matches the thickness t2 (arrow b3). Next, the stage 24 moves in the section S3 corresponding to the second non-transfer area C2 (arrow c3). That is, the stage 24 moves while keeping the coating film formation gap g at the thickness t2 until the lower end of the squeegee 28a reaches the end C2b from the start end C2a of the second non-transfer area. The stage 24 stops moving at the position where the lower end of the squeegee 28a reaches the end C2b. Thereby, the coating film of the flux 8 having a thickness t2 smaller than the appropriate thickness t1 is formed in the second non-transfer area C2. The reason why the flux 8 is formed in the second non-transfer area C2 is that each member (film formation squeegee unit 28) disposed above the stage 24 when the mounting head 11A moves to above the transfer area B. Etc.) in order to prevent the situation from interfering.

このように、本実施の形態においては、ステージ24に転写材料を成膜する際、転写領域B以外におけるステージ24に対するスキージ28aの高さを、転写領域Bにおけるステージ24に対するスキージ28aの高さよりも低くするようにしている。これにより、ステージ24に供給される転写材料の量を削減するとともに、基板2の生産終了後に廃棄される転写材料の量を低減させて、転写材料にかかるコストを抑えることができる。また、転写領域Bに対応した区間S2の両端(開始端Bc,終端Bd)の近傍においては、スキージ28aの高さ位置が切り換わることに伴ってフラックス8の膜厚が不均一となるおそれがある。しかしながら、区間S2の両端を転写領域Bが有する延出代Δyでカバーすることによって、フラックス8の転写に実際に寄与する着地目標領域Ba,Bbにおける塗膜の適正な厚みt1を担保することができる。   As described above, in the present embodiment, when the transfer material is formed on the stage 24, the height of the squeegee 28a with respect to the stage 24 in the area other than the transfer area B is set higher than the height of the squeegee 28a with respect to the stage 24 in the transfer area B. I try to keep it low. As a result, the amount of transfer material supplied to the stage 24 can be reduced, and the amount of transfer material discarded after the production of the substrate 2 can be reduced, thereby reducing the cost of the transfer material. Further, in the vicinity of both ends (start end Bc, end Bd) of the section S2 corresponding to the transfer region B, the film thickness of the flux 8 may become non-uniform as the height position of the squeegee 28a is switched. is there. However, by covering both ends of the section S2 with the extension allowance Δy of the transfer region B, it is possible to ensure an appropriate thickness t1 of the coating film in the landing target regions Ba and Bb that actually contribute to the transfer of the flux 8. it can.

第1の非転写領域C1と第2の非転写領域C2に対応する区間S1,S3においては、スキージ28aの下端部を塗膜形成面24aに当接させて塗膜形成隙間gの値をゼロにしてもよい。しかしながら、スキージ28aの高さ位置をこのように設定した場合、ステージ24の水平移動時にスキージ28aの摩擦によって塗膜形成面24aが損傷するおそれがある。したがって、区間S1,S3では塗膜形成隙間gを僅かに設けたうえでステージ24を移動させた方が望ましい。また、第1の非転写領域C1と第2の非転写領域C2との間で塗膜の厚みを一致させる必要はないが、少なくとも何れかの領域において転写領域Bにおける塗膜の厚みt1よりも小さくする。望ましくは、第1の非転写領域C1と第2の非転写領域の双方に形成されるフラックス8の塗膜の厚みをt1よりも小さくする。   In the sections S1 and S3 corresponding to the first non-transfer area C1 and the second non-transfer area C2, the lower end portion of the squeegee 28a is brought into contact with the coating film forming surface 24a so that the value of the coating film forming gap g is zero. It may be. However, when the height position of the squeegee 28a is set in this way, the coating film forming surface 24a may be damaged by friction of the squeegee 28a when the stage 24 is moved horizontally. Therefore, it is desirable to move the stage 24 after slightly providing the coating film formation gap g in the sections S1 and S3. In addition, it is not necessary to match the thickness of the coating film between the first non-transfer area C1 and the second non-transfer area C2, but at least in any area than the thickness t1 of the coating film in the transfer area B. Make it smaller. Desirably, the thickness of the coating film of the flux 8 formed in both the first non-transfer area C1 and the second non-transfer area is smaller than t1.

スキージ28aの高さ位置の切り換えは、ステージ24の移動を停止させずに行ってもよい。すなわち、ステージ24を移動させながらスキージ28aを上昇させ、スキージ28aを厚みt2に対応した高さ位置から厚みt1に対応した高さ位置に切り替えるようにしてもよい。その逆も同様である。   The switching of the height position of the squeegee 28a may be performed without stopping the movement of the stage 24. That is, the squeegee 28a may be raised while moving the stage 24, and the squeegee 28a may be switched from a height position corresponding to the thickness t2 to a height position corresponding to the thickness t1. The reverse is also true.

フラックス8を成膜後、搭載ヘッド11Aによってフラックス8の転写を行う(ST2A:転写工程)。すなわち、図9(a)に示すように、部品Pを保持した搭載ヘッド11Aはステージ24上に移動し、ここで吸着ノズル12を昇降させる(矢印d)。これにより、部品PのバンプPaにフラックス8が転写される。このように、転写工程ではステージ24に成膜された状態の転写材料を部品Pに転写する。その後、搭載ヘッド11Aは基板2の上方まで移動し、基板2上の所定の実装位置に部品Pを搭載する(ST3A)。以上説明した(ST1A),(ST2A),(ST3A)の各工程は、搭載ヘッド11Aを主体としてなされる。   After depositing the flux 8, the flux 8 is transferred by the mounting head 11A (ST2A: transfer step). That is, as shown in FIG. 9A, the mounting head 11A holding the component P moves onto the stage 24, where the suction nozzle 12 is moved up and down (arrow d). Thereby, the flux 8 is transferred to the bumps Pa of the component P. As described above, in the transfer process, the transfer material deposited on the stage 24 is transferred to the component P. Thereafter, the mounting head 11A moves to above the substrate 2 and mounts the component P at a predetermined mounting position on the substrate 2 (ST3A). The steps (ST1A), (ST2A), and (ST3A) described above are performed mainly with the mounting head 11A.

また、フラックス8を成膜後、検出処理部45によってフラックス8の補給の要否判定が行われる(ST2B:補給要否判定工程)。すなわち、図9(b)に示すように、スキージ28aが所定の高さ位置まで上昇した状態で(矢印b4)、検出処理部45はスクレーパ29aとスキージ28aとの間に配設された光センサ38(転写材料検出部)により、ステージ24に供給されたフラックス8の残量を検出して補給の要否を判定する。フラックス8の補給が必要であると判定した場合、フラックス供給シリンジ30によってフラックス8を補給する(ST3B:フラックス補給工程)。このフラックス8を補給するための各工程は、搭載ヘッド11A側でなされる転写動作等と並行して行われる。   Further, after forming the flux 8, the detection processing unit 45 determines whether or not the flux 8 needs to be replenished (ST2B: replenishment necessity determining step). That is, as shown in FIG. 9B, in the state where the squeegee 28a is raised to a predetermined height position (arrow b4), the detection processing unit 45 is an optical sensor disposed between the scraper 29a and the squeegee 28a. 38 (transfer material detection unit) detects the remaining amount of the flux 8 supplied to the stage 24 and determines whether replenishment is necessary. When it is determined that the flux 8 needs to be replenished, the flux 8 is replenished by the flux supply syringe 30 (ST3B: flux replenishing step). Each process for supplying the flux 8 is performed in parallel with the transfer operation and the like performed on the mounting head 11A side.

フラックス8の補給は必要ないと判断したとき、若しくはフラックス8の補給が完了したとき、成膜動作制御部44はフラックス8の転写(ST2A)が完了しているかを判断する(ST4B:転写完了判断工程)。そして、フラックス8の転写が完了していると判断したとき、フラックス8の掻き寄せが行われる(ST5B:掻き寄せ工程)。すなわち、図9(c)に示すように、ステージ24が後退することによって(矢印e)、塗膜形成面24a上のフラックス8はスクレーパ29aによって一方側に掻き寄せられる。以上説明した(ST1B),(ST2B),(ST3B),(ST4B),(ST5B)の各工程は、転写装置6を主体としてなされる。   When it is determined that the replenishment of the flux 8 is not necessary, or when the replenishment of the flux 8 is completed, the film forming operation control unit 44 determines whether the transfer of the flux 8 (ST2A) is completed (ST4B: transfer completion determination). Process). When it is determined that the transfer of the flux 8 has been completed, the flux 8 is scraped (ST5B: scraping step). That is, as shown in FIG. 9C, when the stage 24 moves backward (arrow e), the flux 8 on the coating film forming surface 24a is scraped to one side by the scraper 29a. Each of the steps (ST1B), (ST2B), (ST3B), (ST4B), and (ST5B) described above is performed with the transfer device 6 as a main body.

転写領域Bは実装対象となる部品Pのサイズにより適宜設定される。具体的に説明すると、転写領域設定部43は成膜動作の開始前に成膜データ41cを参照し、実装対象となる部品Pのサイズに応じて転写領域を設定する。ステージ24が水平移動する際、スキージ28aは、設定された転写領域Bに対応する区間S2において、塗膜形成隙間gが厚みt1と一致する高さに位置する。   The transfer area B is appropriately set depending on the size of the component P to be mounted. More specifically, the transfer region setting unit 43 refers to the film formation data 41c before the start of the film formation operation, and sets the transfer region according to the size of the component P to be mounted. When the stage 24 moves horizontally, the squeegee 28a is positioned at a height where the coating film formation gap g matches the thickness t1 in the section S2 corresponding to the set transfer region B.

以上説明したように、本実施の形態における部品実装装置1は、部品供給部4Aから搭載ヘッド11Aにより部品Pを取り出し、その部品Pに転写材料を転写して基板2に実装する。そして、この部品実装装置1によれば、ステージ24に転写材料を成膜する際、転写領域B以外におけるステージ24に対するスキージ28aの高さを、転写領域Bにおけるステージ24に対するスキージ28aの高さよりも低くするので、ステージ24に供給される転写材料の量を削減して転写材料にかかるコストを抑えることができる。   As described above, the component mounting apparatus 1 according to the present embodiment takes out the component P from the component supply unit 4A by the mounting head 11A, transfers the transfer material to the component P, and mounts it on the substrate 2. According to the component mounting apparatus 1, when the transfer material is deposited on the stage 24, the height of the squeegee 28a with respect to the stage 24 in the area other than the transfer area B is set higher than the height of the squeegee 28a with respect to the stage 24 in the transfer area B. Therefore, the cost of the transfer material can be reduced by reducing the amount of the transfer material supplied to the stage 24.

次に図10を参照して、成膜領域の応用例について説明する。図10は、転写領域B1(転写位置T)を、成膜領域A1の略中央ではなく、搭載ヘッド11Aのアクセス側(紙面上側)に設定している。成膜領域A1においては、搭載ヘッド11Aのアクセス側(紙面上側)における端部から所定の範囲にわたって転写領域B1が設定されており、それ以外の領域は非転写領域C3となっている。すなわち、非転写領域C3は、前述のように第1の非転写領域C1(前側)と第2の非転写領域C2に分かれてしまうことがない。   Next, an application example of the film formation region will be described with reference to FIG. In FIG. 10, the transfer area B1 (transfer position T) is set not on the approximate center of the film formation area A1, but on the access side (upper side of the paper) of the mounting head 11A. In the film formation region A1, the transfer region B1 is set over a predetermined range from the end on the access side (upper side of the paper) of the mounting head 11A, and the other region is a non-transfer region C3. That is, the non-transfer area C3 is not divided into the first non-transfer area C1 (front side) and the second non-transfer area C2 as described above.

転写領域B1の位置を前述のように設定することで、フラックス8の転写位置Tが搭載ヘッド11Aのアクセス側にさらに近づけられる。したがって、部品Pを取り出した搭載ヘッド11Aが転写装置6にアクセスする際の移動距離や、フラックス転写後の部品Pを保持した搭載ヘッド11Aが部品認識カメラ15を経由して基板2の上方まで移動する際の移動距離を短縮して、生産性をより向上させることができる。   By setting the position of the transfer region B1 as described above, the transfer position T of the flux 8 can be made closer to the access side of the mounting head 11A. Accordingly, the moving distance when the mounting head 11A that has taken out the component P accesses the transfer device 6 or the mounting head 11A that holds the component P after the flux transfer moves above the substrate 2 via the component recognition camera 15. It is possible to shorten the moving distance when performing and improve the productivity.

次に図11を参照して、成膜領域A1が設定された場合における成膜動作を簡潔に説明する。まず、図11(a)に示すように、塗膜形成隙間gが厚みt1と一致する高さ位置にスキージ28aが移動した状態で(矢印b5)、ステージ24は転写領域B1に対応する区間S4を移動する(矢印c4)。次いで図11(b)に示すように、塗膜形成隙間gが厚みt2と一致する高さ位置にスキージ28aが下降した状態で(矢印b6)、ステージ24は非転写領域C3に対応する区間S5を移動する(矢印c5)。これにより、転写領域B1には適正な厚みt1を有するフラックス8の塗膜が形成され、非転写領域C3には厚みt1よりも小さい厚みt2を有するフラックス8の塗膜が形成される。この応用例では、スキージ28aの高さ位置を切り換える回数が1回で済むため、成膜動作時間を短縮させることができる。   Next, with reference to FIG. 11, the film forming operation when the film forming region A1 is set will be briefly described. First, as shown in FIG. 11A, in a state where the squeegee 28a has moved to a height position at which the coating film formation gap g coincides with the thickness t1 (arrow b5), the stage 24 has a section S4 corresponding to the transfer region B1. (Arrow c4). Next, as shown in FIG. 11B, in a state where the squeegee 28a is lowered to a height position where the coating film formation gap g coincides with the thickness t2 (arrow b6), the stage 24 is in the section S5 corresponding to the non-transfer area C3. (Arrow c5). As a result, a coating film of flux 8 having an appropriate thickness t1 is formed in the transfer area B1, and a coating film of flux 8 having a thickness t2 smaller than the thickness t1 is formed in the non-transfer area C3. In this application example, since the number of times of switching the height position of the squeegee 28a is only one, the film forming operation time can be shortened.

本発明によれば、転写材料の成膜待ち時間の発生を抑制して生産性を向上でき、電子部品実装分野において特に有用である。   According to the present invention, it is possible to improve the productivity by suppressing the occurrence of a film formation waiting time of the transfer material, which is particularly useful in the field of electronic component mounting.

1 部品実装装置
2 基板
4A,4B 部品供給部
6 転写装置
8 フラックス
11(11A,11B) 搭載ヘッド
22 ガイドレール
23 スライダ
24 ステージ
25 ナット
26 送りねじ
27 第1のモータ
28a スキージ
29a スクレーパ
38 光センサ
43 転写領域設定部
44 成膜動作制御部
45 検出処理部
A,A1 成膜領域
B,B1 転写領域
P 部品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Component mounting apparatus 2 Board | substrate 4A, 4B Component supply part 6 Transfer apparatus 8 Flux 11 (11A, 11B) Mounting head 22 Guide rail 23 Slider 24 Stage 25 Nut 26 Feed screw 27 First motor 28a Squeegee 29a Scraper 38 Optical sensor 43 Transfer area setting section 44 Film formation operation control section 45 Detection processing section A, A1 Film formation area B, B1 Transfer area P Parts

Claims (6)

部品供給部から搭載ヘッドにより部品を取り出し、その部品に転写材料を転写して基板に実装する部品実装装置であって、
前記搭載ヘッドに保持された部品に転写される転写材料を成膜した状態で供給する転写装置を備え、
前記転写装置は、
前記転写材料が成膜される成膜領域を有するステージと、
前記ステージを往復移動させるステージ移動手段と、
前記ステージに対して昇降自在に配設され、前記ステージとの間に所定の隙間を有した状態で前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜するスキージとを備え、
前記成膜領域には、部品に転写材料を転写するための転写領域が設定されており、
前記ステージに転写材料を成膜する際、転写領域以外における前記ステージに対する前記スキージの高さを、前記転写領域における前記ステージに対する前記スキージの高さよりも低くすることを特徴とする部品実装装置。
A component mounting apparatus that removes a component from a component supply unit with a mounting head, transfers a transfer material to the component, and mounts the component on a substrate
A transfer device for supplying a transfer material to be transferred to a component held by the mounting head in a filmed state;
The transfer device includes:
A stage having a film formation region on which the transfer material is formed;
Stage moving means for reciprocating the stage;
A squeegee that is disposed so as to be movable up and down with respect to the stage, and forms a transfer material in the film formation region by moving the stage with a predetermined gap between the stage and the stage;
In the film formation region, a transfer region for transferring the transfer material to the part is set,
The component mounting apparatus, wherein when the transfer material is deposited on the stage, a height of the squeegee with respect to the stage in a region other than the transfer region is set lower than a height of the squeegee with respect to the stage in the transfer region.
前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に成膜された転写材料を掻き寄せるスクレーパと前記スキージと前記スクレーパとの間に配設された転写材料検出部により、前記ステージに供給された転写材料の残量を検出して補給の要否を判定する補給要否判定部を備えたことを特徴とする請求項1に記載の部品実装装置。   A transfer material supplied to the stage by a scraper that moves the stage to scrape the transfer material formed in the film formation region, and a transfer material detector disposed between the squeegee and the scraper. The component mounting apparatus according to claim 1, further comprising a replenishment necessity determination unit that detects a remaining amount of the toner and determines whether or not replenishment is necessary. 部品のサイズに応じて前記転写領域を設定する転写領域設定部を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の部品実装装置。   The component mounting apparatus according to claim 1, further comprising a transfer region setting unit that sets the transfer region according to a size of the component. 搭載ヘッドに保持された部品に転写される転写材料を成膜した状態で供給する転写装置を備えた部品実装装置を用いて、部品供給部から前記搭載ヘッドにより部品を取り出し、その部品に転写材料を転写して基板に実装する部品実装方法であって、
前記転写装置は、
前記転写材料が成膜される成膜領域を有するステージと、
前記ステージを往復移動させるステージ駆動手段と、
前記ステージに対して昇降自在に配設され、前記ステージとの間に所定の隙間を有した状態で前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜するスキージとを備え、
前記スキージに対して前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に転写材料を成膜する成膜工程と、
前記ステージに成膜された状態の転写材料を部品に転写する転写工程と、を含み、
前記成膜工程において、
前記成膜領域に設定された部品に転写材料を転写するための転写領域以外における前記スキージの高さを、前記転写領域における前記スキージの高さよりも低くすることを特徴とする部品実装方法。
Using a component mounting apparatus having a transfer device that supplies a transfer material to be transferred to a component held by the mounting head in a film state, the component is taken out from the component supply unit by the mounting head, and the transfer material is transferred to the component. Is a component mounting method for transferring and mounting on a board,
The transfer device includes:
A stage having a film formation region on which the transfer material is formed;
Stage driving means for reciprocating the stage;
A squeegee that is disposed so as to be movable up and down with respect to the stage, and forms a transfer material in the film formation region by moving the stage with a predetermined gap between the stage and the stage;
A film forming step of forming a transfer material in the film forming region by moving the stage relative to the squeegee;
A transfer step of transferring the transfer material deposited on the stage to a component,
In the film forming step,
A component mounting method, wherein the height of the squeegee in a region other than the transfer region for transferring the transfer material to the component set in the film formation region is made lower than the height of the squeegee in the transfer region.
前記ステージを移動させることにより前記成膜領域に成膜された転写材料を掻き寄せるスクレーパと前記スキージとの間に配設された転写材料検出部により、前記ステージに供給された転写材料の残量を検出して補給の要否を判定する補給要否判定工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の部品実装方法。   The remaining amount of the transfer material supplied to the stage by the transfer material detector disposed between the scraper and the squeegee that moves the stage to scrape the transfer material deposited in the film formation region. The component mounting method according to claim 4, further comprising a replenishment necessity determination step for detecting whether or not replenishment is necessary. 部品のサイズに応じて前記転写領域を設定することを特徴とする請求項4又は5に記載の部品実装方法。   6. The component mounting method according to claim 4, wherein the transfer region is set according to a size of the component.
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