JP2015141619A - 支持体および支持体の製造方法、積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ - Google Patents
支持体および支持体の製造方法、積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015141619A JP2015141619A JP2014014807A JP2014014807A JP2015141619A JP 2015141619 A JP2015141619 A JP 2015141619A JP 2014014807 A JP2014014807 A JP 2014014807A JP 2014014807 A JP2014014807 A JP 2014014807A JP 2015141619 A JP2015141619 A JP 2015141619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- layer
- ito
- transparent conductive
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims abstract description 52
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims abstract description 52
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 51
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 10
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 9
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 216
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 31
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 28
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Position Input By Displaying (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体を製造するために一方の側にITOからなる透明導電層が形成される支持体は、一方の側の最表層として有機材を含むITO結晶化促進層を備え、ITO結晶化促進層の、透明導電層が形成される側の表面における表面自由エネルギーが、60mJ/m2以上である。
【選択図】図2
Description
以下、図1乃至図7を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図1に示すように、積層体10は、支持体11と、支持体11の一方の側の面11a上に設けられた第1透明導電層16aと、を含んでいる。まず、第1透明導電層16aについて説明し、その後、支持体11について説明する。
第1透明導電層16aを構成する材料としては、導電性を有しながら透光性を示す材料が用いられ、本実施の形態では、インジウム錫酸化物(ITO)などの金属酸化物が用いられる。ここでITOとは、89〜99重量%のインジウムと、1〜11重量%の錫と、0.5重量%以下のその他の添加元素または不可避の不純物と、を含む金属酸化物を意味している。第1透明導電層16aの厚みは、例えば18〜50nmの範囲内となっている。
支持体11は、図1および図2に示すように、基材12と、基材12の一方の側の面12a上に順に設けられた第1ハードコート層13a、第1インデックスマッチング層14a、第1ITO結晶化促進層15aと、を含んでいる。以下、基材12、第1ハードコート層13a、第1インデックスマッチング層14a、および第1ITO結晶化促進層15aについてそれぞれ説明する。
基材12としては、十分な透光性を有するフィルムやガラスが用いられる。基材12に用いられるフィルムを構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、シクロオレフィンポリマー(COP)、環状オレフィン・コポリマー(COC)、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などが挙げられる。基材12の厚みは、例えば25〜200μmの範囲内となっている。
第1ハードコート層13aは、擦り傷を防止するという目的や、層間の界面に低分子重合体(オリゴマー)が析出して白く濁ってみえることを防ぐという目的のために設けられる層である。第1ハードコート層13aとしては、例えばアクリル樹脂などが用いられる。なお図1および図2に示すように、第1ハードコート層13aと同一の材料から構成された第2ハードコート層13bが、基材12の他方の面12b上にさらに設けられていてもよい。ハードコート層13a,13bの厚みは、例えば0.1〜10μmの範囲内となっている。
第1インデックスマッチング層14aは、積層体10における光の透過率や反射率を調整するという目的のために、基材12と第1透明導電層16aとの間に設けられる層である。本実施の形態では、第1インデックスマッチング層14aは、基材12を構成する材料よりも高い屈折率を有する材料から構成される第1高屈折率層を含んでいる。また、本実施の形態の第1インデックスマッチング層14aは、第1高屈折率層と第1ITO結晶化促進層15aとの間に、基材12を構成する材料よりも低い屈折率を有する材料から構成される第1低屈折率層を含んでいる。
第1ITO結晶化促進層15aは、支持体11の一方の側の面11a上に設けられるITOからなる第1透明導電層16aの結晶化を促進する、という目的のために設けられる層である。
はじめに、図5Aに示すように、基材12を用意する。次に、図5Bに示すように、アクリル樹脂を含む塗工液を、コーターを用いて基材12の両側に塗工する。これによって、基材12の両側にハードコート層13a,13bが形成される。次に、有機樹脂および有機樹脂内に分散された高屈折率材料の粒子、例えばジルコニウムの粒子を含む塗工液を、コーターを用いて第1ハードコート層13a上に塗工する。これによって、第1ハードコート層13a上に第1高屈折率層が形成される。その後、有機樹脂および有機樹脂内に分散された低屈折率材料の粒子、例えば酸化珪素の粒子を含む塗布液を、コーターを用いて第1高屈折率層上に塗工する。これによって、第1高屈折率層上に第1低屈折率層が形成される。このようにして、第1ハードコート層13a上に第1インデックスマッチング層14aが形成される。その後、ポリシロキサンを有する有機材を含む塗工液を、コーターを用いて第1インデックスマッチング層14a上に塗工する。これによって、第1インデックスマッチング層14a上に第1ITO結晶化促進層15aが形成される。このようにして、図2に示す支持体11を得ることができる。
次に、スパッタリング法などの真空成膜法を用いて、第1ITO結晶化促進層15a上に第1透明導電層16aを形成する。その後、第1透明導電層16a中のITOの結晶化をさらに進行させるため、第1透明導電層16aに対してアニール処理を施してもよい。このようにして、図1に示す積層体10を得ることができる。なお、支持体11の表面に第1透明導電層16aを形成する前に、第1ITO結晶化促進層15aの表面にプラズマ処理を施すことによって、当該表面における表面自由エネルギーを所望の程度以上に高め、その後、当該表面に第1透明導電層16aを形成してもよい。
次に、積層体10の用途の一例として、積層体10を加工することにより得られるタッチパネルセンサについて説明する。タッチパネルセンサ60は、液晶表示パネルや有機EL表示パネルなどの表示パネルの観察者側に設けられ、人体などの被検出体の接触位置を検出するための透明導電パターンなどを含むセンサである。タッチパネルセンサ60としては、被検出体からの圧力に基づいてタッチ箇所を検出する抵抗膜方式のタッチパネルセンサや、人体などの被検出体からの静電気に基づいてタッチ箇所を検出する静電容量方式のタッチパネルセンサなど様々なタイプのものが知られているが、ここでは、積層体10をパターニングすることによって静電容量方式のタッチパネルセンサ60を形成する例について、図6および図7を参照して説明する。図6は、タッチパネルセンサ60を示す平面図であり、図7は、図6に示すタッチパネルセンサ60の線VII−VIIに沿った断面図である。なお図6および図7においては、図4に示す基材12の一方の側および他方の側に配置されたインデックスマッチング層14a,14b、および、ITO結晶化促進層15a,15bを含む支持体11を用いて作製された積層体10であって、図3に示すように支持体11の一方の側および他方の側に配置された透明導電層16a,16bを含む積層体10を用いることにより、タッチパネルセンサ60が作製されている。
次に、図8を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。図8は、本発明の第2の実施の形態における積層体を示す断面図である。
次に、図9を参照して、本発明の第3の実施の形態について説明する。図9は、本発明の第3の実施の形態における積層体を示す断面図である。
次に、図10を参照して、本発明の第4の実施の形態について説明する。図10は、本発明の第4の実施の形態における積層体を示す断面図である。
基材12と、基材12の一方の側に順に設けられた第1ハードコート層13aおよび第1インデックスマッチング層14aと、を備えた支持体11を作製した。支持体11の最表層15aは、第1インデックスマッチング層14a上に、以下のシリコーン材料を含む塗工液を塗工することにより形成された。塗工液の塗工は、ミカサ社製スピンコーターを用いて行われた。
・シリコーン系材料:信越化学(株)製 KS-3601 / CAT-PL-56
続いて、このようにして得られた支持体11の最表層15aの表面11aにおける水接触角、ジヨードメタン接触角、および、エチレングリコール接触角を測定した。そして、得られた接触角から、表面自由エネルギーを求めた。各接触角の測定条件、表面自由エネルギーの測定・解析条件、並びに、接触角及び表面自由エネルギーの測定結果を、以下に示す。
<測定条件>
測定装置:共和界面科学株式会社製接触角計
水、ジヨードメタン及びエチレングリコールの滴下量:1.0マイクロリットル
<表面自由エネルギーの測定・解析条件>
表面自由エネルギーの測定解析に使用されたソフトウェア:KYOWA interFAce Measurement and Analysis System(FAMAS)
表面自由エネルギー理論名:Owens-Wendt
<測定結果>
水接触角:105度
ジヨードメタン接触角:67.2度
エチレングリコール接触角:89.1度
表面自由エネルギー:25.3mJ/m2
次に、支持体11の最表層15aの表面の表面粗さを、AFM(原子間力顕微鏡)を用いて測定した。表面粗さの測定条件および測定結果を、以下に示す。
<測定条件>
測定装置:エスアイアイテクノロジー株式会社製ナノキュート
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
その後、支持体11の表面11a上に透明導電層16aを形成し、透明導電層16aのシート抵抗の測定を行った。シート抵抗の測定条件及び測定結果を以下に示す。
<測定条件>
測定装置:三菱化学(株)製ロレスター
測定方法:4端子法
<測定結果>
シート抵抗:161Ω/□
支持体11の最表層15aを、以下のシラザン系材料を含む塗工液で形成したこと以外は、サンプル1の場合と同様にして、支持体11および積層体10を作製した。
・シラザン系材料:AZ ELECTRONIC MATERIALS製 NL-120A-20
以下に、評価1〜3の評価結果を示す。
(評価1 支持体の表面自由エネルギー)
<測定結果>
水接触角:104度
ジヨードメタン接触角:76.7度
エチレングリコール接触角:87.0度
表面自由エネルギー:19.3mJ/m2
(評価2 支持体の平滑性)
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
(評価3 透明導電層のシート抵抗)
<測定結果>
シート抵抗:169Ω/□
支持体11の最表層15aを、以下の有機−無機ハイブリット系材料を含む塗工液で形成したこと以外は、サンプル1の場合と同様にして、支持体11および積層体10を作製した。
・有機−無機ハイブリット系材料:JSR(株)製 グラスカHPC7506A
以下に、評価1〜3の評価結果を示す。
(評価1 支持体の表面自由エネルギー)
<測定結果>
水接触角:88度
ジヨードメタン接触角:68度
エチレングリコール接触角:88度
表面自由エネルギー:26.2mJ/m2
(評価2 支持体の平滑性)
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
(評価3 透明導電層のシート抵抗)
<測定結果>
シート抵抗:156Ω/□
支持体11の最表層15aを、以下のシロキサン系材料を含む塗工液で形成したこと以外は、サンプル1の場合と同様にして、支持体11および積層体10を作製した。
・シロキサン系材料:コルコート(株)製 コルコートN-103X
以下に、評価1〜3の評価結果を示す。
(評価1 支持体の表面自由エネルギー)
<測定結果>
水接触角:33.2度
ジヨードメタン接触角:40.5度
エチレングリコール接触角:4.2度
表面自由エネルギー:63.2mJ/m2
(評価2 支持体の平滑性)
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
(評価3 透明導電層のシート抵抗)
<測定結果>
シート抵抗:125Ω/□
支持体11の最表層15aを、以下のシロキサン系材料を含む塗工液で形成したこと以外は、サンプル1の場合と同様にして、支持体11および積層体10を作製した。
・シロキサン系材料:コルコート(株)製 コルコートPX
以下に、評価1〜3の評価結果を示す。
(評価1 支持体の表面自由エネルギー)
<測定結果>
水接触角:35.5度
ジヨードメタン接触角:39.3度
エチレングリコール接触角:6.3度
表面自由エネルギー:62.0mJ/m2
(評価2 支持体の平滑性)
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
(評価3 透明導電層のシート抵抗)
<測定結果>
シート抵抗:128Ω/□
支持体11の最表層15aを、以下のシロキサン系材料を含む塗工液で形成したこと以外は、サンプル1の場合と同様にして、支持体11および積層体10を作製した。
・シロキサン系材料:コルコート(株)製 コルコートSS-C1
以下に、評価1〜3の評価結果を示す。
(評価1 支持体の表面自由エネルギー)
<測定結果>
水接触角:27.5度
ジヨードメタン接触角:38.4度
エチレングリコール接触角:3.8度
表面自由エネルギー:66.0mJ/m2
(評価2 支持体の平滑性)
<測定結果>
表面粗さ:2.1nm以下
すなわち、表面11aは、十分に平滑であった。
(評価3 透明導電層のシート抵抗)
<測定結果>
シート抵抗:129Ω/□
11 支持体
12 基材
13 ハードコート層
14 インデックスマッチング層
15 ITO結晶化促進層
16 透明導電層
60 タッチパネルセンサ
62 透明導電パターン
64 取出パターン
65 端子部
Claims (11)
- タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体を製造するために一方の側にITOからなる透明導電層が形成される支持体であって、
当該支持体は、
前記一方の側の最表層として有機材を含むITO結晶化促進層
を備え、
前記ITO結晶化促進層の、前記透明導電層が形成される側の表面における表面自由エネルギーが、60mJ/m2以上である、支持体。 - 当該支持体の前記一方の側の表面におけるエチレングリコール接触角が、10度以下である、請求項1に記載の支持体。
- 当該支持体の前記一方の側の表面は、原子間力顕微鏡を用いて測定した当該支持体の前記一方の側の表面の表面粗さが、2.1nm以下である、請求項1または2に記載の支持体。
- 前記有機材は、ポリシロキサンを含んでいる、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の支持体。
- タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体を製造するために一方の側にITOからなる透明導電層が形成される支持体の製造方法であって、
基材を用意する工程と、
前記基材の一方の側に、前記支持体の前記一方の側の最表層として有機材を含むITO結晶化促進層を形成する工程と、
を備え、
前記ITO結晶化促進層の、前記透明導電層が形成される側の表面における表面自由エネルギーは、60mJ/m2以上である、支持体の製造方法。 - 前記有機材は、ポリシロキサンを含んでいる、請求項5に記載の支持体の製造方法。
- 前記ITO結晶化促進層は、前記基材の前記一方の側に、当該ITO結晶化促進層を形成するための塗工液を塗工することによって形成される、請求項5または6に記載の支持体の製造方法。
- タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体の製造方法であって、
一方の側の最表層として有機材を含むITO結晶化促進層を有しており、当該一方の側の表面における表面自由エネルギーが60mJ/m2以上である支持体を用意する工程と、
前記支持体の前記一方の側の表面にITOからなる透明導電層を形成する工程と、
を備えた、積層体の製造方法。 - 前記有機材は、ポリシロキサンを含んでいる、請求項8に記載の積層体の製造方法。
- 前記支持体を用意する工程は、
前記支持体の前記一方の側の表面に、当該表面における表面自由エネルギーが60mJ/m2以上となるようにプラズマ処理を施す工程
を有している、請求項8または9に記載の積層体を製造する方法。 - 請求項8に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体を加工することによって得られる、タッチパネルセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014014807A JP6405636B2 (ja) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 積層体および積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014014807A JP6405636B2 (ja) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 積層体および積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015141619A true JP2015141619A (ja) | 2015-08-03 |
JP6405636B2 JP6405636B2 (ja) | 2018-10-17 |
Family
ID=53771908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014014807A Active JP6405636B2 (ja) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 積層体および積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6405636B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108169945A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种On-Cell触控显示面板、制作方法及显示装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002333516A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Toray Ind Inc | 透明基板および透明基板の製造方法 |
JP2006130866A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
JP2012103958A (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-31 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
JP2012140646A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Innovation & Infinity Global Corp | 拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法 |
WO2013002406A1 (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Jnc株式会社 | 耐候性積層フィルム |
JP2013163328A (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | Toray Ind Inc | 導電性基板の製造方法 |
JP2013211135A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Teijin Ltd | 透明導電性積層体 |
-
2014
- 2014-01-29 JP JP2014014807A patent/JP6405636B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002333516A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Toray Ind Inc | 透明基板および透明基板の製造方法 |
JP2006130866A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
JP2012103958A (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-31 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
JP2012140646A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Innovation & Infinity Global Corp | 拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法 |
WO2013002406A1 (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Jnc株式会社 | 耐候性積層フィルム |
JP2013163328A (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | Toray Ind Inc | 導電性基板の製造方法 |
JP2013211135A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Teijin Ltd | 透明導電性積層体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108169945A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种On-Cell触控显示面板、制作方法及显示装置 |
CN108169945B (zh) * | 2018-01-02 | 2020-12-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种On-Cell触控显示面板、制作方法及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6405636B2 (ja) | 2018-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6444004B2 (ja) | 光学スタック、及びディスプレイ | |
KR101269316B1 (ko) | 투명 도전성 필름의 제조 방법 | |
KR101227752B1 (ko) | 투명 도전성 필름, 그 제조 방법 및 그것을 구비한 터치 패널 | |
TWI630522B (zh) | 薄膜式觸控感測器 | |
WO2006126604A1 (ja) | 透明面状体及び透明タッチスイッチ | |
TWI524234B (zh) | Touch panel sensor | |
KR102085877B1 (ko) | 정전 용량식 터치 패널 부착 표시 장치 | |
JP2008243622A (ja) | 透明面状体及び透明タッチスイッチ | |
TWI531668B (zh) | Conductive film | |
TWI482062B (zh) | Touch panel sensor | |
TWI524235B (zh) | Touch panel sensor | |
TW201743176A (zh) | 壓電膜 | |
JP5305807B2 (ja) | 透明面状体及び透明タッチスイッチ | |
KR102365236B1 (ko) | 압전 센서 및 그 압전 센서를 사용한 디스플레이 | |
KR101942294B1 (ko) | 터치 스크린 패널 및 이를 구비하는 화상표시장치 | |
JP6405636B2 (ja) | 積層体および積層体の製造方法、並びに、タッチパネルセンサ | |
TWI613078B (zh) | 被使用在用以製作電子零件的積層體、薄膜感測器及具備薄膜感測器之觸控面板裝置 | |
JP2015146253A (ja) | 積層体およびタッチパネル用導電性パターン基材 | |
WO2015080442A1 (ko) | 디스플레이용 하이브리드형 플렉서블 기판 및 그 제조방법 | |
JP6642863B2 (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP6446209B2 (ja) | 透明電極パターン積層体及びこれを備えたタッチスクリーンパネル | |
TWI609301B (zh) | Laminated body and stack manufacturing method for manufacturing electronic parts, film sensor, touch panel device with thin film sensor, and film forming method for forming metal layer with concentration gradient | |
TW201816014A (zh) | 觸控式感測器以及包括該觸控式感測器的觸控式螢幕面板 | |
JP6349695B2 (ja) | フィルムセンサを作製するために用いられる積層体 | |
JP5926170B2 (ja) | 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170901 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180821 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180903 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6405636 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |