JP2015141121A - magnetic sensor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a configuration that suppresses erroneous detection of a magnetic field applied in a direction other than a direction orthogonal to both a direction in which a current flows and a direction in which a potential difference is generated in a magnetic sensor having a hall element.SOLUTION: A magnetic sensor 1 includes a first semiconductor substrate 2, a second semiconductor substrate 3, a hall element 4 disposed on a flat surface 2a of the first semiconductor substrate 2, and a junction 5 joining the first semiconductor substrate 2 and the second semiconductor substrates 3. The magnetic sensor 1 is configured such that a magnetic shield 6 for surrounding a periphery of the hall element 4 when viewed from a normal line to the flat surface 2a of the first semiconductor substrate 2 is disposed between the flat surface 2a of the first semiconductor substrate 2 and a surface 3a of the second semiconductor substrate 3.

Description

本発明は、ホール効果を用いて磁界の強度を検出するホール素子を有する磁気センサに関する。   The present invention relates to a magnetic sensor having a Hall element that detects the intensity of a magnetic field using the Hall effect.

従来、ホール効果を用いて磁界の強度を検出するホール素子を有する磁気センサ(例えば、特許文献1に記載の磁気センサ)が知られている。ホール効果とは、電流の流れているものに対し、電流が流れる方向に垂直な磁界が印加されると、電流が流れる方向と磁界が印加された方向の両方に直交する方向に電位差が生じる現象である。   Conventionally, a magnetic sensor having a Hall element that detects the intensity of a magnetic field using the Hall effect (for example, a magnetic sensor described in Patent Document 1) is known. The Hall effect is a phenomenon in which when a magnetic field perpendicular to the direction of current flow is applied to a current flow, a potential difference occurs in the direction perpendicular to both the direction of current flow and the direction of magnetic field application. It is.

特許文献1に記載の磁気センサは、ホール素子と、ホール素子が検出した磁界を電気信号に変換するなどの信号処理を行う信号処理回路とを有する構成とされており、ホール効果を利用して、磁石が発生する磁界や電流が発生する磁界を電気信号に変換して出力する。こうして、この磁気センサでは、電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向にかけられる磁界を検出する。   The magnetic sensor described in Patent Document 1 is configured to include a Hall element and a signal processing circuit that performs signal processing such as converting a magnetic field detected by the Hall element into an electric signal, and uses the Hall effect. The magnetic field generated by the magnet and the magnetic field generated by the current are converted into electrical signals and output. Thus, the magnetic sensor detects a magnetic field applied in a direction orthogonal to both the direction of current flow and the direction of potential difference.

また、特許文献1に記載の磁気センサでは、ホール素子が半導体基板の一面上に設けられており、このホール素子は、いわゆる横型ホール素子、すなわち半導体基板の一面に対して垂直な磁界を検出するホール素子として構成されている。また、この磁気センサでは、ホール素子としてグラフェンが用いられている。   In the magnetic sensor described in Patent Document 1, a Hall element is provided on one surface of a semiconductor substrate, and this Hall element detects a so-called horizontal Hall element, that is, a magnetic field perpendicular to one surface of the semiconductor substrate. It is configured as a Hall element. In this magnetic sensor, graphene is used as the Hall element.

特開2012−215498号公報JP 2012-215498 A

しかしながら、特許文献1に記載の磁気センサのように横型ホール素子を用いた磁気センサでは、電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向以外の方向に印加された磁界を誤検出してしまう場合がある。すなわち、例えば、電流が流れる方向や電位差が生じる方向に印加された磁界を検出してしまう場合がある。特に、特許文献1に記載の磁気センサでは、ホール素子がグラフェンで構成されており、グラフェンは磁界検出感度が高いため、このような誤検出が特に生じ易い。   However, a magnetic sensor using a lateral Hall element such as the magnetic sensor described in Patent Document 1 erroneously detects a magnetic field applied in a direction other than the direction perpendicular to both the direction of current flow and the direction of potential difference. May end up. That is, for example, a magnetic field applied in a direction in which current flows or a direction in which a potential difference occurs may be detected. In particular, in the magnetic sensor described in Patent Document 1, the Hall element is made of graphene, and graphene has a high magnetic field detection sensitivity. Therefore, such erroneous detection is particularly likely to occur.

本発明は上記点に鑑みて、ホール素子を有する磁気センサにおいて、電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向以外の方向に印加された磁界を誤検出し難い構成を提供することを目的とする。   In view of the above points, the present invention provides a configuration in which a magnetic sensor having a Hall element is less likely to erroneously detect a magnetic field applied in a direction other than the direction perpendicular to both the direction of current flow and the direction of potential difference. With the goal.

上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、平面(2a)を有する第1半導体基板(2)と、第1半導体基板の平面に向けられた一面(3a)を有する第2半導体基板(3)と、第1半導体基板の平面に設けられ、ホール効果を用いて第1半導体基板の平面に垂直な磁界を検出するホール素子(4)と、第1半導体基板の平面と第2半導体基板の一面との間に設けられ、第1半導体基板と第2半導体基板とを接合する接合部(5)と、を有し、第1半導体基板または第2半導体基板の少なくとも一方において、ホール素子が検出した磁界を電気信号に変換するための信号処理回路が設けられた磁気センサであって、以下の特徴を有する。   To achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a first semiconductor substrate (2) having a flat surface (2a) and a second semiconductor having one surface (3a) directed to the flat surface of the first semiconductor substrate. A substrate (3), a Hall element (4) provided on the plane of the first semiconductor substrate and detecting a magnetic field perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate using the Hall effect, the plane of the first semiconductor substrate, and the second A bonding portion (5) provided between one surface of the semiconductor substrate and bonding the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate; and a hole in at least one of the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate. A magnetic sensor provided with a signal processing circuit for converting a magnetic field detected by an element into an electrical signal, has the following characteristics.

すなわち、第1半導体基板の平面と第2半導体基板の一面との間には、第1半導体基板の平面に対する垂線の方向から見てホール素子の周囲を囲み、軟磁性体を含む構成とされた磁気シールド部(6)が設けられており、ホール素子は、第1半導体基板と、第2半導体基板と、接合部および磁気シールド部の少なくとも一方と、によって封止された構成とする。   That is, the space between the plane of the first semiconductor substrate and one surface of the second semiconductor substrate surrounds the periphery of the Hall element when viewed from the direction of the perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate, and includes a soft magnetic material. The magnetic shield part (6) is provided, and the Hall element is sealed by the first semiconductor substrate, the second semiconductor substrate, and at least one of the bonding part and the magnetic shield part.

このため、ホール素子に対して印加される磁界のうち、第1半導体基板の平面に垂直な磁界には影響が無いが、第1半導体基板の平面を含む直線方向に印加される磁界が小さくなる。すなわち、ホール素子として検出すべき磁界である電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向に印加される磁界(第1半導体基板の平面に垂直な磁界)以外の磁界の影響が小さくなる。これにより、誤検出が生じ難くなるという効果が得られる。   Therefore, the magnetic field applied to the Hall element is not affected by the magnetic field perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate, but the magnetic field applied in the linear direction including the plane of the first semiconductor substrate is reduced. . That is, the influence of a magnetic field other than a magnetic field (a magnetic field perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate) applied in a direction orthogonal to both the direction in which a current that is a magnetic field to be detected as a Hall element and the direction in which a potential difference occurs is small. Become. Thereby, the effect that it becomes difficult to produce a misdetection is acquired.

なお、この欄および特許請求の範囲で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。   In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each means described in this column and the claim shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.

本発明の第1実施形態に係る磁気センサを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a magnetic sensor according to a first embodiment of the present invention. 図1に示す磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, Hall element, etc.) in the magnetic sensor shown in FIG. 図1に示す磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の平面構成を示す図である。It is a figure which shows the plane structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor shown in FIG. 図1に示す磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の平面構成を示す図である。It is a figure which shows the planar structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の平面構成を示す図である。It is a figure which shows the plane structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の別の他の実施形態に係る磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の平面構成を示す図である。It is a figure which shows the planar structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor which concerns on another embodiment of this invention. 本発明の別の他の実施形態に係る磁気センサにおけるセンサチップ部分(第1半導体基板、ホール素子などで構成された部分)の平面構成を示す図である。It is a figure which shows the planar structure of the sensor chip part (part comprised by the 1st semiconductor substrate, the Hall element, etc.) in the magnetic sensor which concerns on another embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other will be described with the same reference numerals.

(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係る磁気センサ1について図1〜図4を参照して説明する。なお、図2は、図1に示す磁気センサ1におけるセンサチップ部分(第1半導体基板2、ホール素子4などで構成された部分)を、図1とは上下逆向きにして示したものである。
(First embodiment)
A magnetic sensor 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 shows the sensor chip portion (portion constituted by the first semiconductor substrate 2, the Hall element 4 and the like) in the magnetic sensor 1 shown in FIG. 1 upside down from FIG. .

図1、図2に示すように、磁気センサ1は、第1半導体基板2と、第2半導体基板3と、第1半導体基板2の平面2aに設けられたホール素子4と、第1、2半導体基板2、3とを接合する接合部5とを有する。図2、図3に示すように、磁気センサ1は、第1半導体基板2の平面2aと第2半導体基板3の一面3aとの間において、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見てホール素子4の周囲を囲む構成とされた磁気シールド部6が設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the magnetic sensor 1 includes a first semiconductor substrate 2, a second semiconductor substrate 3, a Hall element 4 provided on the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2, It has the junction part 5 which joins the semiconductor substrates 2 and 3. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the magnetic sensor 1 is formed from a direction perpendicular to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2 between the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2 and one surface 3 a of the second semiconductor substrate 3. A magnetic shield portion 6 configured to surround the periphery of the Hall element 4 when viewed is provided.

磁気センサ1は、ホール効果を利用して、磁石が発生する磁界や電流が発生する磁界を電気信号に変換して出力する。これにより、磁気センサ1は、電流が流れる方向(図1中の矢印Bxを参照)と電位差が生じる方向(図1中の矢印Byを参照)の両方に直交する方向(図1中の矢印Bzを参照)に印加される磁界を検出する。この磁気センサ1は、例えば、電流センサとして適用される。   The magnetic sensor 1 uses the Hall effect to convert a magnetic field generated by a magnet or a magnetic field generated by a current into an electrical signal and output the electrical signal. As a result, the magnetic sensor 1 has a direction (arrow Bz in FIG. 1) that is orthogonal to both the direction of current flow (see arrow Bx in FIG. 1) and the direction in which a potential difference occurs (see arrow By in FIG. 1). ) Is detected. The magnetic sensor 1 is applied as a current sensor, for example.

第1半導体基板2は、Si(シリコン)などの半導体で構成された薄板状の半導体基板である。図2、図3に示すように、本実施形態に係る磁気センサ1では、第1半導体基板2が平面2aを有する構成とされており、この平面2aにおいてホール素子4が設けられている。なお、図4に示すように、本実施形態に係る磁気センサ1では、第1半導体基板2の表面にシリコン酸化膜7が形成されており、このシリコン酸化膜7の表面として平面2aが形成された構成とされている。   The first semiconductor substrate 2 is a thin plate-like semiconductor substrate made of a semiconductor such as Si (silicon). As shown in FIGS. 2 and 3, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the first semiconductor substrate 2 has a plane 2a, and the Hall element 4 is provided on the plane 2a. As shown in FIG. 4, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the silicon oxide film 7 is formed on the surface of the first semiconductor substrate 2, and the plane 2 a is formed as the surface of the silicon oxide film 7. It has been configured.

ホール素子4は、横型ホール素子、すなわち第1半導体基板2の平面2aに対して垂直な磁界(図1、図4中の矢印Bzを参照)を検出するホール素子である。ホール素子4としては、公知のホール素子であれば、特に構成が限定されるものではないが、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁界検出感度の高い素子であるグラフェンを採用している。   The Hall element 4 is a horizontal Hall element, that is, a Hall element that detects a magnetic field perpendicular to the plane 2a of the first semiconductor substrate 2 (see arrow Bz in FIGS. 1 and 4). The configuration of the Hall element 4 is not particularly limited as long as it is a known Hall element, but the magnetic sensor 1 according to the present embodiment employs graphene that is an element with high magnetic field detection sensitivity.

図3に示すように、ここでは、ホール素子4は、第1半導体基板2の平面2aに形成された四角形の半導体領域21aの4隅において、互いに直交するように4つの電極4a、4b、4c、4dが設けられた構成とされている。半導体領域21aは、半導体領域21aに配置された図示しない電極(配線)を介してこれらの電極4a〜4dと電気的に接続される。なお、本実施形態に係る磁気センサ1では、第1半導体基板2の平面2aにおいて、第1半導体基板2の基板電位を検出するための電位検出用電極21bが設けられている。   As shown in FIG. 3, here, the Hall element 4 includes four electrodes 4 a, 4 b, 4 c that are orthogonal to each other at four corners of a rectangular semiconductor region 21 a formed on the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2. 4d is provided. The semiconductor region 21a is electrically connected to these electrodes 4a to 4d via electrodes (wirings) (not shown) disposed in the semiconductor region 21a. In the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, a potential detection electrode 21b for detecting the substrate potential of the first semiconductor substrate 2 is provided on the plane 2a of the first semiconductor substrate 2.

ここで、例えば、電極4bから電極4dへ一定の電流が流されると、第1半導体基板2の平面2aに平行な成分を主に含む電流が流されることとなる。このとき、その電流に対して平面2aに垂直な磁界(図4中の矢印Bzを参照)が印加されると、上述したホール効果により、電極4aと電極4cとの間にその磁界に応じたホール電圧が発生する。そして、その発生したホール電圧信号を検出することで、第1半導体基板2の平面2aに垂直な磁界が求められることとなる。なお、このホール素子4においては、電極4aおよび電極4cに電流を流して電極4bおよび電極4dにてホール電圧信号を検出することもできる。こうした電極の入れ替えを利用することにより、ホール素子4に発生するオフセット電圧(不平衡電圧)を相殺することができる。   Here, for example, when a constant current flows from the electrode 4b to the electrode 4d, a current mainly including a component parallel to the plane 2a of the first semiconductor substrate 2 is allowed to flow. At this time, when a magnetic field perpendicular to the plane 2a is applied to the current (see arrow Bz in FIG. 4), the magnetic field is applied between the electrodes 4a and 4c due to the Hall effect described above. Hall voltage is generated. Then, by detecting the generated Hall voltage signal, a magnetic field perpendicular to the plane 2a of the first semiconductor substrate 2 is obtained. In the Hall element 4, a Hall voltage signal can be detected by the electrodes 4b and 4d by passing a current through the electrodes 4a and 4c. By utilizing such electrode replacement, the offset voltage (unbalanced voltage) generated in the Hall element 4 can be canceled.

第2半導体基板3は、第1半導体基板2と同様、Si(シリコン)などの半導体で構成された薄板状の半導体基板である。図1、図2に示すように、第2半導体基板3は、第1半導体基板2の平面2aに向けられた一面3aを有し、第1半導体基板2の平面2aと第2半導体基板3の一面3aの間に設けられた後述する接合部5を介して、第2半導体基板3と接合されている。第2半導体基板3には、ホール素子4が検出した磁界を電気信号に変換するための図示しない信号処理回路が設けられている。なお、この信号処理回路は、第1半導体基板2に設けられていてもよい。   Similar to the first semiconductor substrate 2, the second semiconductor substrate 3 is a thin semiconductor substrate made of a semiconductor such as Si (silicon). As shown in FIGS. 1 and 2, the second semiconductor substrate 3 has one surface 3 a directed to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2, and the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2 and the second semiconductor substrate 3 It is joined to the second semiconductor substrate 3 via a joint part 5 described later provided between the one surface 3a. The second semiconductor substrate 3 is provided with a signal processing circuit (not shown) for converting the magnetic field detected by the Hall element 4 into an electric signal. This signal processing circuit may be provided on the first semiconductor substrate 2.

図1、図2に示すように、接合部5は、第1半導体基板2の平面2aと第2半導体基板3の一面3aとの間に設けられ、第1半導体基板2と第2半導体基板3とを接合する部材である。接合部5は、材質が特に限定されるものではなく、例えばSiを含む材料や軟磁性材料で構成され得る。なお、接合部5は、スパッタ、蒸着、CVDなどの成膜方法により形成される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the bonding portion 5 is provided between the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2 and one surface 3 a of the second semiconductor substrate 3, and the first semiconductor substrate 2 and the second semiconductor substrate 3. It is a member which joins. The material of the joint 5 is not particularly limited, and can be made of, for example, a material containing Si or a soft magnetic material. Note that the bonding portion 5 is formed by a film forming method such as sputtering, vapor deposition, or CVD.

図2、図3に示すように、本実施形態に係る磁気センサ1では、接合部5が、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見て、ホール素子4を連続的に囲んで形成されている。すなわち、接合部5は、ホール素子4の周囲を一周全周に亘って囲んで形成されている(以下、「一周全周に亘って」の意として「連続的に」という)。また、図3に示すように、接合部5は、第1半導体基板2の平面2aの外縁に沿って形成されている。そして、本実施形態に係る磁気センサ1では、グラフェンからなるホール素子4が、第1半導体基板2、第2半導体基板3、および接合部5によって封止(例えば、真空封止、不活性ガス封止)されている。ここでいう封止とは、ホール素子4が外気に触れないように外部に対して隔離された状態となっていることを意味する。このようにホール素子4が封止されていることにより、本実施形態に係る磁気センサ1では、ホール素子4の特に経時的特性変化が小さくなり、高精度に検出を行うことができる。また、本実施形態に係る磁気センサ1において、第1半導体基板2や第2半導体基板3の周囲にモールド樹脂を設けたモールド封止構造とされてもよい。   As shown in FIGS. 2 and 3, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the junction 5 continuously surrounds the Hall element 4 when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2. Is formed. That is, the junction 5 is formed so as to surround the entire circumference of the Hall element 4 (hereinafter referred to as “continuously” as meaning “around the entire circumference”). Further, as shown in FIG. 3, the bonding portion 5 is formed along the outer edge of the flat surface 2 a of the first semiconductor substrate 2. In the magnetic sensor 1 according to this embodiment, the Hall element 4 made of graphene is sealed by the first semiconductor substrate 2, the second semiconductor substrate 3, and the bonding portion 5 (for example, vacuum sealing, inert gas sealing). Has been stopped). The term “sealing” as used herein means that the Hall element 4 is isolated from the outside so as not to touch the outside air. Since the Hall element 4 is sealed in this way, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, a change in characteristics of the Hall element 4 in particular with time is reduced, and detection can be performed with high accuracy. In the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, a mold sealing structure in which a mold resin is provided around the first semiconductor substrate 2 and the second semiconductor substrate 3 may be used.

ここで、本実施形態に係る磁気センサ1では、上述したように、第1半導体基板2の平面2aと第2半導体基板3の一面3aとの間において、磁気シールド部6が設けられている。図2、図3に示すように、磁気シールド部6は、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見て、ホール素子4の周囲を連続的に囲んで形成されている。図3に示すように、磁気シールド部6は、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見て、接合部5で囲まれた領域に形成されており、ここでは一例として、四角形の外形に沿って連続的に形成された構成とされている。磁気シールド部6は、透磁性が高い材料(軟磁性材料)を含む材料であれば、特に材料が限定されるものではないが、ここではNiFe(ニッケル鉄)、パーマロイ、フェライトなどの軟磁性体で構成されている。磁気シールド部6は、膜としてスパッタ、蒸着、CVD法などで成膜し、その後フォトリソグラフィ、エッチングまたはリフトオフなどの方法により形成される。   Here, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, as described above, the magnetic shield portion 6 is provided between the flat surface 2 a of the first semiconductor substrate 2 and the one surface 3 a of the second semiconductor substrate 3. As shown in FIGS. 2 and 3, the magnetic shield 6 is formed so as to continuously surround the periphery of the Hall element 4 when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2. As shown in FIG. 3, the magnetic shield part 6 is formed in a region surrounded by the joint part 5 when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2. It is set as the structure formed continuously along the external shape. The material of the magnetic shield portion 6 is not particularly limited as long as it includes a material having a high magnetic permeability (soft magnetic material). Here, a soft magnetic material such as NiFe (nickel iron), permalloy, and ferrite is used. It consists of The magnetic shield portion 6 is formed as a film by sputtering, vapor deposition, CVD, or the like, and then formed by a method such as photolithography, etching, or lift-off.

本実施形態に係る磁気センサ1では、上記した磁気シールド部6が設けられており、軟磁性材料を含む材料で構成された磁気シールド部6によってホール素子4が囲まれた構成とされているため、囲まれた領域の外部の磁界が内部の磁界に与える影響は小さくなる。すなわち、平面2aに対する垂線の方向から見て、磁気シールド部6がホール素子4の周囲を囲んで平面2aに形成されていることにより、ホール素子4に対して印加される磁界のうち、平面2aに垂直な磁界(Bz)には影響が無いが、平面2aを含む直線方向(Bx、By)に印加される磁界は小さくなる。すなわち、ホール素子4として検出すべき磁界である、電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向に印加される磁界(平面2aに垂直な磁界)以外の磁界の影響が小さくなる。このため、本実施形態に係る磁気センサ1では、誤検出が生じ難くなるという効果が得られる。なお、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁気シールド部6が連続的に形成されているため、この効果が特に大きくなる。   In the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the magnetic shield part 6 described above is provided, and the Hall element 4 is surrounded by the magnetic shield part 6 made of a material containing a soft magnetic material. The influence of the external magnetic field on the enclosed area on the internal magnetic field is reduced. That is, when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2a, the magnetic shield portion 6 is formed on the plane 2a so as to surround the Hall element 4, so that the plane 2a out of the magnetic field applied to the Hall element 4 can be obtained. However, the magnetic field applied in the linear direction (Bx, By) including the plane 2a is small. That is, the influence of a magnetic field other than a magnetic field (magnetic field perpendicular to the plane 2a) applied in a direction orthogonal to both the direction of current flow and the direction of potential difference, which is a magnetic field to be detected as the Hall element 4, is reduced. For this reason, in the magnetic sensor 1 which concerns on this embodiment, the effect that it becomes difficult to produce a misdetection is acquired. In the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, since the magnetic shield portion 6 is continuously formed, this effect is particularly great.

なお、本実施形態に係る磁気センサ1では、ホール素子4が、上述したように、第1、2半導体基板2、3、および接合部5によって封止されているが、第1、2半導体基板2、3、および磁気シールド部6によって封止された構成とされてもよい。   In the magnetic sensor 1 according to this embodiment, the Hall element 4 is sealed by the first and second semiconductor substrates 2 and 3 and the bonding portion 5 as described above. It may be configured to be sealed by 2, 3 and the magnetic shield part 6.

以上説明したように、本実施形態に係る磁気センサ1では、第1半導体基板2の平面2aと第2半導体基板3の一面3aとの間において、平面2aに対する垂線の方向から見てホール素子4の周囲を囲む構成とされた磁気シールド部6を設けている。   As described above, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the Hall element 4 is seen between the plane 2a of the first semiconductor substrate 2 and the one surface 3a of the second semiconductor substrate 3 when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2a. Is provided with a magnetic shield portion 6 configured to surround the periphery of the magnetic field.

このため、本実施形態に係る磁気センサ1では、ホール素子4に対して印加される磁界のうち、平面2aに垂直な磁界には影響が無いが、平面2aを含む直線方向に印加される磁界が小さくなる。すなわち、ホール素子4として検出すべき磁界である、電流が流れる方向と電位差が生じる方向の両方に直交する方向に印加される磁界(平面2aに垂直な磁界)以外の磁界の影響が小さくなる。これにより、本実施形態に係る磁気センサ1では、誤検出が生じ難くなるという効果が得られる。   For this reason, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the magnetic field applied to the Hall element 4 has no effect on the magnetic field perpendicular to the plane 2a, but is applied in the linear direction including the plane 2a. Becomes smaller. That is, the influence of a magnetic field other than a magnetic field (magnetic field perpendicular to the plane 2a) applied in a direction orthogonal to both the direction of current flow and the direction of potential difference, which is a magnetic field to be detected as the Hall element 4, is reduced. Thereby, in the magnetic sensor 1 which concerns on this embodiment, the effect that it becomes difficult to produce a misdetection is acquired.

特に、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁気シールド部6を連続的に形成された構成としている。このため、本実施形態に係る磁気センサ1では、上述した誤検出が生じ難くなる効果が特に大きくなる。   In particular, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the magnetic shield portion 6 is formed continuously. For this reason, in the magnetic sensor 1 which concerns on this embodiment, the effect which becomes difficult to produce the erroneous detection mentioned above becomes especially large.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について図5を参照して説明する。本実施形態は、第1実施形態において、磁気シールド部6を、ホール素子4と信号処理回路とを電気的に接続する配線として構成したものである。その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, in the first embodiment, the magnetic shield portion 6 is configured as a wiring that electrically connects the Hall element 4 and the signal processing circuit. Others are the same as those in the first embodiment, and therefore only the parts different from the first embodiment will be described.

図5に示すように、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁気シールド部6を、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見て、ホール素子4の周囲を囲む四角形の外形に沿って断続的に形成した構成としている。ここでは、一例として、この四角形を2つとし、一方の四角形(以下、外側四角形という)が他方の四角形(以下、内側四角形という)の周囲を囲んだ構成としている。そして、本実施形態に係る磁気センサ1では、これら2つの四角形(外側四角形、内側四角形)を囲んで接合部5を設けている。   As shown in FIG. 5, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the magnetic shield portion 6 has a rectangular outer shape that surrounds the periphery of the Hall element 4 when viewed from the direction perpendicular to the plane 2 a of the first semiconductor substrate 2. It is set as the structure formed intermittently along. Here, as an example, two quadrangles are used, and one quadrangle (hereinafter referred to as an outer quadrangle) surrounds the other quadrangle (hereinafter referred to as an inner quadrangle). And in the magnetic sensor 1 which concerns on this embodiment, the junction part 5 is provided surrounding these two squares (an outer side square, an inner side square).

図5に示すように、外側四角形の外形に沿って形成された磁気シールド部6を、2つの部位(図5中の符号6a、6bを参照)によって構成している。また、内側四角形の外形に沿って形成された磁気シールド部6を、4つの部位(図5中の符号6c、6d、6e、6fを参照)によって構成している。これら6つの部位6a〜6fのうち4つ(6a〜6d)は、それぞれ、ホール素子4の電極4a、4b、4c、4dのいずれかに電気的に接続されると共に、第2半導体基板3に形成された信号処理回路に電気的に接続される。また、6つの部位6a〜6fのうち残りの2つ(6e、6f)は、第1半導体基板2の基板電位を検出するための電位検出用電極21bとして用いられる。このように、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁気シールド部6を、ホール素子4と信号処理回路とを電気的に接続する配線として利用する構成としている。   As shown in FIG. 5, the magnetic shield part 6 formed along the outer shape of the outer quadrangle is constituted by two parts (see reference numerals 6a and 6b in FIG. 5). Moreover, the magnetic shield part 6 formed along the outer shape of the inner quadrangle is constituted by four parts (see reference numerals 6c, 6d, 6e, and 6f in FIG. 5). Four (6a to 6d) of these six portions 6a to 6f are electrically connected to any one of the electrodes 4a, 4b, 4c, and 4d of the Hall element 4, and are connected to the second semiconductor substrate 3. It is electrically connected to the formed signal processing circuit. The remaining two (6e, 6f) of the six parts 6a to 6f are used as a potential detection electrode 21b for detecting the substrate potential of the first semiconductor substrate 2. Thus, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the magnetic shield 6 is used as a wiring that electrically connects the Hall element 4 and the signal processing circuit.

なお、本実施形態では、上述したように磁気シールド部6を配線として利用する構成とするため、磁気シールド部6を、コンタクト抵抗が低い材料であるNi(ニッケル)系材料で構成することが特に好ましい。   In the present embodiment, since the magnetic shield portion 6 is used as a wiring as described above, it is particularly preferable that the magnetic shield portion 6 is made of a Ni (nickel) -based material that is a material having a low contact resistance. preferable.

上記で説明したように、本実施形態に係る磁気センサ1では、磁気シールド部6を、ホール素子4と信号処理回路とを電気的に接続する配線として構成している。このため、本実施形態に係る磁気センサ1では、部品点数が少なく、製造が容易となる。   As described above, in the magnetic sensor 1 according to this embodiment, the magnetic shield portion 6 is configured as a wiring that electrically connects the Hall element 4 and the signal processing circuit. For this reason, in the magnetic sensor 1 according to the present embodiment, the number of parts is small, and the manufacture becomes easy.

(他の実施形態)
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
(Other embodiments)
The present invention is not limited to the embodiment described above, and can be appropriately changed within the scope described in the claims.

例えば、第1、2実施形態では、第1半導体基板2の平面2aに対する垂線の方向から見て、接合部5を、第1半導体基板2の平面2aの外縁に沿って形成し、磁気シールド部6を、接合部5で囲まれた領域に形成していた。しかしながら、図6、図7に示すように、磁気シールド部6を、第1半導体基板2の平面2aの外縁に沿って形成し、接合部5を、磁気シールド部6で囲まれた領域に形成してもよい。   For example, in the first and second embodiments, the junction 5 is formed along the outer edge of the plane 2a of the first semiconductor substrate 2 when viewed from the direction of the perpendicular to the plane 2a of the first semiconductor substrate 2, and the magnetic shield unit 6 was formed in a region surrounded by the joint 5. However, as shown in FIGS. 6 and 7, the magnetic shield portion 6 is formed along the outer edge of the flat surface 2 a of the first semiconductor substrate 2, and the joint portion 5 is formed in a region surrounded by the magnetic shield portion 6. May be.

また、第1、2実施形態では、磁気シールド部6とは別部材である接合部5を設けていたが、磁気シールド部6と接合部5とを同一としてもよい。すなわち、接合部5によって磁気シールド部6を構成してもよく、例えば、図8に示すように、第1実施形態において、第1半導体基板2および第2半導体基板3が磁気シールド部6を介して接合された構成としてもよい。すなわち、ここでは、ホール素子4を、第1半導体基板2、第2半導体基板3、および磁気シールド部6によって封止している。なお、ここでは、磁気シールド部6を、第1半導体基板2の平面2aの外縁に沿って形成している。   Further, in the first and second embodiments, the joint portion 5, which is a separate member from the magnetic shield portion 6, is provided, but the magnetic shield portion 6 and the joint portion 5 may be the same. That is, the magnetic shield part 6 may be configured by the joint part 5. For example, as shown in FIG. 8, in the first embodiment, the first semiconductor substrate 2 and the second semiconductor substrate 3 are interposed via the magnetic shield part 6. It is good also as a structure joined together. That is, here, the Hall element 4 is sealed by the first semiconductor substrate 2, the second semiconductor substrate 3, and the magnetic shield portion 6. Here, the magnetic shield part 6 is formed along the outer edge of the flat surface 2 a of the first semiconductor substrate 2.

2 第1半導体基板
2a 第1半導体基板の平面
3 第2半導体基板
3a 第2半導体基板の一面
4 ホール素子
5 接合部
6 磁気シールド部
7 シリコン酸化膜
2 First semiconductor substrate 2a Plane of first semiconductor substrate 3 Second semiconductor substrate 3a One surface of second semiconductor substrate 4 Hall element 5 Junction part 6 Magnetic shield part 7 Silicon oxide film

Claims (4)

平面(2a)を有する第1半導体基板(2)と、
前記第1半導体基板の平面に向けられた一面(3a)を有する第2半導体基板(3)と、
前記第1半導体基板の平面に設けられ、ホール効果を用いて前記第1半導体基板の平面に垂直な磁界を検出するホール素子(4)と、
前記第1半導体基板の平面と前記第2半導体基板の一面との間に設けられ、前記第1半導体基板と前記第2半導体基板とを接合する接合部(5)と、を有し、
前記第1半導体基板および前記第2半導体基板の少なくとも一方において、前記ホール素子が検出した磁界を電気信号に変換するための信号処理回路が設けられた磁気センサであって、
前記第1半導体基板の平面と前記第2半導体基板の一面との間には、前記第1半導体基板の平面に対する垂線の方向から見て前記ホール素子の周囲を囲み、軟磁性体を含む構成とされた磁気シールド部(6)が設けられており、
前記ホール素子は、前記第1半導体基板と、前記第2半導体基板と、前記接合部および前記磁気シールド部の少なくとも一方と、によって封止された構成とされていることを特徴とする磁気センサ。
A first semiconductor substrate (2) having a plane (2a);
A second semiconductor substrate (3) having one surface (3a) directed to the plane of the first semiconductor substrate;
A Hall element (4) provided on a plane of the first semiconductor substrate and detecting a magnetic field perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate by using a Hall effect;
A bonding portion (5) provided between the plane of the first semiconductor substrate and one surface of the second semiconductor substrate and bonding the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate;
A magnetic sensor provided with a signal processing circuit for converting a magnetic field detected by the Hall element into an electrical signal in at least one of the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate,
A structure between the plane of the first semiconductor substrate and one surface of the second semiconductor substrate surrounds the periphery of the Hall element when viewed from a direction perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate, and includes a soft magnetic material. Magnetic shield part (6) is provided,
The Hall element is configured to be sealed by the first semiconductor substrate, the second semiconductor substrate, and at least one of the bonding portion and the magnetic shield portion.
前記磁気シールド部が、前記第1半導体基板の平面に対する垂線の方向から見て、前記ホール素子の周囲を一周全周に亘って囲んで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。   2. The magnetic shield portion according to claim 1, wherein the magnetic shield portion is formed so as to surround the circumference of the Hall element over the entire circumference when viewed from a direction perpendicular to the plane of the first semiconductor substrate. Magnetic sensor. 前記磁気シールド部が、前記ホール素子と前記信号処理回路とを電気的に接続する配線として構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 1, wherein the magnetic shield part is configured as a wiring that electrically connects the Hall element and the signal processing circuit. 前記接合部によって前記磁気シールド部を構成していることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 1, wherein the magnetic shield portion is configured by the joint portion.
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