JP2015126091A - Manufacturing method of lead frame with resin, manufacturing method of semiconductor device, injection molding die device, and lead frame with resin - Google Patents

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松 裕 植
澤 恒 相
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澤 恒 相
田 和 範 小
Kazunori Oda
田 和 範 小
合 研三郎 川
Kenzaburo Kawai
合 研三郎 川
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原 留 依 三
康 弘 甲斐田
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康 弘 甲斐田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a lead frame with resin which can improve productivity of a lead frame with resin and prevent warpage from being generated in the lead frame with resin.SOLUTION: A lead frame 10 is placed on a lower die 42, and an upper die 43 for forming a molding space 43a of a reflection resin 23 with the lower die 42 is arranged on the lower die 42. By forming the reflection resin 23 on a surface 10a of the lead frame 10 by performing injection molding of a thermoplastic resin material in the molding space 43a of the upper die 43, the lead frame 10 having a plurality of die pads 25 and a plurality of lead parts 26, and a lead frame 30 with resin provided on the lead frame 10 and having the reflection resin 23 with a plurality of LED element storage parts 23a are obtained. When forming the reflection resin 23 on the surface 10a of the lead frame 10, the temperature of the lower die 42 is made higher than the temperature of the upper die 43.

Description

本発明は、樹脂付リードフレームの製造方法、半導体装置の製造方法、射出成形金型装置および樹脂付リードフレームに関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a lead frame with resin, a method of manufacturing a semiconductor device, an injection mold device, and a lead frame with resin.

近年、LED(発光ダイオード)素子を光源として用いる照明装置が、各種家電、OA機器、車両機器の表示灯、一般照明、車載照明、およびディスプレイ等に用いられている。このような照明装置の中には、リードフレームにLED素子を搭載することにより作製された半導体装置を含むものがある。   In recent years, lighting devices using LED (light emitting diode) elements as light sources have been used for various home appliances, OA equipment, display lights for vehicle equipment, general lighting, in-vehicle lighting, displays, and the like. Some of such lighting devices include a semiconductor device manufactured by mounting LED elements on a lead frame.

また、LED素子用の半導体装置(LEDパッケージ)においては、LED素子からの光を反射させるための反射樹脂が設けられているものが存在する(例えば特許文献1参照)。   Some semiconductor devices (LED packages) for LED elements are provided with a reflective resin for reflecting light from the LED elements (see, for example, Patent Document 1).

特開2006−156704号公報JP 2006-156704 A

従来、LEDパッケージを作製する場合、熱硬化性樹脂をトランスファ成形することによってリードフレーム上に反射樹脂を形成し、その後、この樹脂付リードフレームから個々のLEDパッケージを作製することが行われている。しかしながら、熱硬化性樹脂をトランスファ成形する場合、成形時間が長くなるため、樹脂付リードフレームの生産性を向上することが難しいという問題がある。また従来、樹脂付リードフレームを生産する場合、リードフレームの熱膨張係数と反射樹脂の熱膨張係数とが異なることにより、樹脂付リードフレームに反りが生じてしまうという問題もあった。   Conventionally, when producing an LED package, a reflective resin is formed on a lead frame by transfer molding a thermosetting resin, and thereafter, individual LED packages are produced from the lead frame with resin. . However, when the thermosetting resin is transfer molded, there is a problem that it is difficult to improve the productivity of the lead frame with resin because the molding time becomes long. Conventionally, when a lead frame with resin is produced, there is also a problem that the lead frame with resin is warped because the thermal expansion coefficient of the lead frame is different from the thermal expansion coefficient of the reflective resin.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、樹脂付リードフレームの生産性を向上させるとともに、樹脂付リードフレームに反りが生じることを防止することが可能な、樹脂付リードフレームの製造方法、半導体装置の製造方法、射出成形金型装置および樹脂付リードフレームを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and can improve the productivity of the lead frame with resin and can prevent the lead frame with resin from being warped. An object of the present invention is to provide a manufacturing method, a manufacturing method of a semiconductor device, an injection mold device, and a lead frame with resin.

本発明は、複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有する反射樹脂とを備えた樹脂付リードフレームの製造方法において、下型上にリードフレームを載置する工程と、下型上に、下型との間で反射樹脂の成形空間を形成する上型を配置する工程と、上型の成形空間内に熱可塑性樹脂材料を射出成形して、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する工程とを備え、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する工程において、下型の温度を上型の温度より高くすることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   The present invention includes a lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions provided separately from each die pad, and a reflective resin provided on the lead frame and having a plurality of LED element storage portions. In the method of manufacturing a lead frame with resin, a step of placing a lead frame on the lower die, a step of placing an upper die on the lower die that forms a molding space for reflecting resin with the lower die, Forming a reflective resin on the surface of the lead frame by injection molding a thermoplastic resin material into the molding space of the mold, and increasing the temperature of the lower mold in the step of forming the reflective resin on the surface of the lead frame. A method for manufacturing a resin-attached lead frame, wherein the temperature is higher than a mold temperature.

本発明の反射樹脂は、互いに分離された複数の反射樹脂ブロックを含み、各反射樹脂ブロックに少なくとも1つのLED素子収納部が形成され、互いに隣接する反射樹脂ブロック間に、リードフレームが露出する帯状の露出領域が形成されることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   The reflective resin of the present invention includes a plurality of reflective resin blocks separated from each other, at least one LED element storage portion is formed in each reflective resin block, and a lead frame is exposed between the adjacent reflective resin blocks This is a method of manufacturing a lead frame with resin, characterized in that an exposed region is formed.

本発明は、反射樹脂を形成する工程において、熱可塑性樹脂材料は、露出領域の長手方向に平行に射出されることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   The present invention is a method for manufacturing a lead frame with resin, wherein the thermoplastic resin material is injected in parallel to the longitudinal direction of the exposed region in the step of forming the reflective resin.

本発明の熱可塑性樹脂材料は、液晶ポリマーからなることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   The thermoplastic resin material of the present invention is a method for producing a resin-attached lead frame, comprising a liquid crystal polymer.

本発明は、下型上に、リードフレームを収容する凹部が形成されていることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   The present invention is a method of manufacturing a lead frame with a resin, wherein a recess for accommodating a lead frame is formed on a lower mold.

本発明は、下型の凹部にリードフレームを収容した際、下型の表面とリードフレームの表面とが同一平面上に位置するか、又はリードフレームの表面が下型の表面より0mm超0.1mm以下の範囲で高くなっていることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法である。   In the present invention, when the lead frame is accommodated in the recess of the lower mold, the surface of the lower mold and the surface of the lead frame are positioned on the same plane, or the surface of the lead frame is more than 0 mm from the surface of the lower mold. It is a manufacturing method of the lead frame with resin characterized by being high in the range of 1 mm or less.

本発明は、半導体装置の製造方法において、樹脂付リードフレームの製造方法により、樹脂付リードフレームを作製する工程と、反射樹脂の各LED素子収納部内であって各ダイパッド上にLED素子を搭載する工程と、LED素子と各リード部とを導電部により接続する工程と、反射樹脂の各LED素子収納部内に封止樹脂を充填する工程と、反射樹脂およびリードフレームを切断することにより、反射樹脂およびリードフレームをLED素子毎に分離する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法である。   The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and a method of manufacturing a resin-made lead frame by a method of manufacturing a lead frame with resin, and mounting an LED element on each die pad in each LED element housing portion of a reflective resin. A step of connecting the LED element and each lead portion with a conductive portion, a step of filling a sealing resin in each LED element housing portion of the reflective resin, and cutting the reflective resin and the lead frame to thereby reflect the resin And a step of separating the lead frame for each LED element.

本発明は、複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有する反射樹脂とを備えた樹脂付リードフレームを製造するための射出成形金型装置において、リードフレームが載置される下型と、下型上に配置され、下型との間で反射樹脂の成形空間を形成する上型と、下型および上型に接続され、下型および上型の温度を制御する制御部とを備え、上型の成形空間内に熱可塑性樹脂材料が射出成形されることにより、リードフレームの表面に反射樹脂が形成され、制御部は、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する際、下型の温度を上型の温度より高くすることを特徴とする射出成形金型装置である。   The present invention includes a lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions provided separately from each die pad, and a reflective resin provided on the lead frame and having a plurality of LED element storage portions. In an injection mold apparatus for producing a lead frame with resin, a lower mold on which a lead frame is placed, and an upper mold that is disposed on the lower mold and forms a molding space for reflective resin between the lower mold And a control unit that is connected to the lower mold and the upper mold and controls the temperature of the lower mold and the upper mold, and the surface of the lead frame is formed by injection molding of the thermoplastic resin material in the molding space of the upper mold. The control resin is an injection mold apparatus characterized in that when the reflective resin is formed on the surface of the lead frame, the temperature of the lower mold is set higher than the temperature of the upper mold.

本発明は、下型上に、リードフレームを収容する凹部が形成されていることを特徴とする射出成形金型装置である。   The present invention is an injection mold apparatus characterized in that a recess for accommodating a lead frame is formed on a lower mold.

本発明は、下型の凹部にリードフレームを収容した際、下型の表面とリードフレームの表面とが同一平面上に位置するか、又はリードフレームの表面が下型の表面より0mm超0.1mm以下の範囲で高くなっていることを特徴とする射出成形金型装置である。   In the present invention, when the lead frame is accommodated in the recess of the lower mold, the surface of the lower mold and the surface of the lead frame are positioned on the same plane, or the surface of the lead frame is more than 0 mm from the surface of the lower mold. An injection mold apparatus characterized by being high in a range of 1 mm or less.

本発明は、樹脂付リードフレームにおいて、複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有するとともに熱可塑性樹脂材料からなる反射樹脂とを備え、反射樹脂は、互いに分離された複数の反射樹脂ブロックを含み、各反射樹脂ブロックに少なくとも1つのLED素子収納部が形成され、互いに隣接する反射樹脂ブロック間に、リードフレームが露出する帯状の露出領域が形成されることを特徴とする樹脂付リードフレームである。   In the lead frame with resin, the present invention has a lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions provided separately from each die pad, and a plurality of LED element storage portions provided on the lead frame. And a reflection resin made of a thermoplastic resin material, the reflection resin includes a plurality of reflection resin blocks separated from each other, and at least one LED element storage portion is formed in each reflection resin block, and the reflection resins adjacent to each other A lead frame with a resin, characterized in that a strip-shaped exposed region where the lead frame is exposed is formed between the blocks.

本発明は、熱可塑性樹脂材料は、液晶ポリマーからなることを特徴とする樹脂付リードフレームである。   The present invention is the lead frame with resin, wherein the thermoplastic resin material is made of a liquid crystal polymer.

本発明によれば、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する工程において、下型の温度を上型の温度より高くしたことにより、樹脂付リードフレームを上型および下型から取り出した後、リードフレームと反射樹脂との熱膨張係数の違いによって樹脂付リードフレームに反りが生じる不具合を防止乃至軽減することができる。   According to the present invention, in the step of forming the reflective resin on the surface of the lead frame, the temperature of the lower mold is made higher than the temperature of the upper mold. It is possible to prevent or reduce the problem that the lead frame with resin is warped due to the difference in thermal expansion coefficient between the frame and the reflective resin.

リードフレームを示す全体平面図。The whole top view which shows a lead frame. リードフレームを示す部分拡大平面図。The partial enlarged plan view which shows a lead frame. リードフレームを示す断面図(図2のIII−III線断面図)。Sectional drawing which shows a lead frame (III-III sectional view taken on the line of FIG. 2). 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを示す全体平面図。The whole top view which shows the lead frame with resin by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを示す断面図(図4のV−V線断面図)。Sectional drawing (VV sectional view taken on the line of FIG. 4) which shows the lead frame with resin by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを示す断面図(図4のVI−VI線断面図)。Sectional drawing which shows the lead frame with resin by one embodiment of this invention (VI-VI sectional view taken on the line of FIG. 4). 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを示す部分拡大平面図。The partial enlarged top view which shows the lead frame with resin by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを示す大断面図(図7のVIII−VIII線断面図)。FIG. 8 is a large cross-sectional view (cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. 7) showing a resin-attached lead frame according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを用いて作製された半導体装置を示す断面図(図10のIX−IX線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device produced using the lead frame with resin by one embodiment of this invention (the IX-IX sectional view taken on the line of FIG. 10). 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームを用いて作製された半導体装置を示す平面図。The top view which shows the semiconductor device produced using the lead frame with resin by one embodiment of this invention. リードフレームの製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of a lead frame. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームの製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of the lead frame with resin by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による樹脂付リードフレームの製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of the lead frame with resin by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による半導体装置の製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of the semiconductor device by one embodiment of this invention.

以下、本発明の一実施の形態について、図1乃至図14を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

リードフレームの構成
まず、図1乃至図3により、本実施の形態による樹脂付リードフレームに用いられるリードフレームの概略について説明する。図1は、リードフレームを示す全体平面図であり、図2は、リードフレームを示す部分拡大平面図であり、図3は、リードフレームを示す断面図である。
Construction of the lead frame initially, to FIG. 1 to FIG. 3, the outline of the lead frame used in a resin with a lead frame according to the present embodiment. 1 is an overall plan view showing the lead frame, FIG. 2 is a partially enlarged plan view showing the lead frame, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing the lead frame.

図1に示すリードフレーム10は、LED素子21を搭載した半導体装置20(図9および図10)を作製する際に用いられるものである。このようなリードフレーム10は、矩形状の外形を有する枠体13と、枠体13内に多列および多段に(マトリックス状に)配置された、多数のパッケージ領域14とを備えている。枠体13内には、パッケージ領域14が存在しない部分である帯状の露出領域29が複数形成されている。この露出領域29については後述する。   The lead frame 10 shown in FIG. 1 is used when manufacturing the semiconductor device 20 (FIGS. 9 and 10) on which the LED elements 21 are mounted. Such a lead frame 10 includes a frame body 13 having a rectangular outer shape, and a large number of package regions 14 arranged in a multi-row and multi-stage (matrix shape) within the frame body 13. A plurality of strip-shaped exposed regions 29 that are portions where the package region 14 does not exist are formed in the frame 13. The exposed area 29 will be described later.

図2に示すように、複数のパッケージ領域14は、各々LED素子21が搭載されるダイパッド25と、ダイパッド25に離間して設けられたリード部26とを含んでいる。   As shown in FIG. 2, each of the plurality of package regions 14 includes a die pad 25 on which the LED elements 21 are mounted, and lead portions 26 that are provided apart from the die pad 25.

一つのパッケージ領域14内のダイパッド25とリード部26との間には、隙間16が形成されており、ダイシングされた後(図14(d))、ダイパッド25とリード部26とは互いに電気的に絶縁されるようになっている。なお、各パッケージ領域14は、それぞれ個々の半導体装置20に対応する領域である。図2において、各パッケージ領域14を、長方形状の二点鎖線で示している。   A gap 16 is formed between the die pad 25 and the lead portion 26 in one package region 14, and after dicing (FIG. 14D), the die pad 25 and the lead portion 26 are electrically connected to each other. It is designed to be insulated. Each package region 14 is a region corresponding to each semiconductor device 20. In FIG. 2, each package region 14 is indicated by a rectangular two-dot chain line.

なお、本明細書において、図1に示すように、リードフレーム10の長手方向がX方向に対応し、リードフレーム10の長手方向に垂直な方向がY方向に対応する。すなわち図2に示すように、各パッケージ領域14内のリード部26とダイパッド25とを左右に並べて配置した場合の横方向がX方向に対応し、縦方向がY方向に対応する。   In this specification, as shown in FIG. 1, the longitudinal direction of the lead frame 10 corresponds to the X direction, and the direction perpendicular to the longitudinal direction of the lead frame 10 corresponds to the Y direction. That is, as shown in FIG. 2, the horizontal direction corresponds to the X direction and the vertical direction corresponds to the Y direction when the lead portions 26 and the die pads 25 in each package region 14 are arranged side by side.

また、図2に示すように、各パッケージ領域14内のリード部26は、図2の上方(Y方向プラス側)および下方(Y方向マイナス側)に隣接する他のパッケージ領域14内のリード部26と、それぞれリード連結部52によって連結されている。さらに、各パッケージ領域14内のダイパッド25は、図2の上方(Y方向プラス側)および下方(Y方向マイナス側)に隣接する他のパッケージ領域14内のダイパッド25と、それぞれダイパッド連結部53により連結されている。   Further, as shown in FIG. 2, the lead portions 26 in each package region 14 are lead portions in other package regions 14 adjacent to the upper side (Y direction plus side) and the lower side (Y direction minus side) of FIG. 26 and the lead connecting part 52, respectively. Further, the die pad 25 in each package region 14 is connected to the die pad 25 in another package region 14 adjacent to the upper side (Y direction plus side) and the lower side (Y direction minus side) of FIG. It is connected.

さらに、各パッケージ領域14内のダイパッド25は、図2の右方(X方向プラス側)に隣接する他のパッケージ領域14内のリード部26と、パッケージ領域連結部54により連結されている。さらにまた、各パッケージ領域14内のリード部26は、図2の左方(X方向マイナス側)に隣接する他のパッケージ領域14内のダイパッド25と、パッケージ領域連結部54により連結されている。   Further, the die pad 25 in each package region 14 is connected to the lead portion 26 in another package region 14 adjacent to the right side (X direction plus side) in FIG. Furthermore, the lead portion 26 in each package region 14 is connected to the die pad 25 in another package region 14 adjacent to the left side (X direction minus side) in FIG.

これらリード連結部52、ダイパッド連結部53およびパッケージ領域連結部54は、裏面側からハーフエッチングされることにより、リードフレーム10の他の部分より薄肉状に形成されている。なお、最も外周に位置するパッケージ領域14内のリード部26およびダイパッド25は、リード連結部52、ダイパッド連結部53、およびパッケージ領域連結部54のうちの1つまたは複数によって、枠体13に連結されている。   The lead connecting portion 52, the die pad connecting portion 53, and the package region connecting portion 54 are formed thinner than other portions of the lead frame 10 by being half-etched from the back side. The lead part 26 and the die pad 25 in the package area 14 located on the outermost periphery are connected to the frame body 13 by one or more of the lead connection part 52, the die pad connection part 53, and the package area connection part 54. Has been.

一方、図3の断面図に示すように、リードフレーム10は、リードフレーム本体11と、リードフレーム本体11上に形成されためっき層12とからなっている。   On the other hand, as shown in the sectional view of FIG. 3, the lead frame 10 includes a lead frame main body 11 and a plating layer 12 formed on the lead frame main body 11.

このうちリードフレーム本体11は金属板からなっている。リードフレーム本体11を構成する金属板の材料としては、例えば銅、銅合金、42合金(Ni42%のFe合金)等を挙げることができる。このリードフレーム本体11の厚みは、半導体装置の構成にもよるが、0.05mm〜0.5mmとすることが好ましい。   Of these, the lead frame body 11 is made of a metal plate. Examples of the material of the metal plate constituting the lead frame body 11 include copper, copper alloy, 42 alloy (Ni 42% Fe alloy), and the like. The thickness of the lead frame main body 11 is preferably 0.05 mm to 0.5 mm, although it depends on the configuration of the semiconductor device.

また、めっき層12は、リードフレーム本体11の表面および裏面を含む全面に設けられている。表面側のめっき層12は、LED素子21からの光を反射するための反射層として機能する。他方、裏面側のめっき層12は、はんだとの密着性を高める役割を果たす。このめっき層12は、例えば銀(Ag)の電解めっき層からなっている。めっき層12は、その厚みが極薄く形成されており、具体的には0.005μm〜0.2μmとされることが好ましい。なお、めっき層12は、必ずしもリードフレーム本体11の表面および裏面の全体に設ける必要はなく、リードフレーム本体11の表面および裏面のうち、一部のみに設けても良い。   The plating layer 12 is provided on the entire surface including the front surface and the back surface of the lead frame main body 11. The plating layer 12 on the front side functions as a reflection layer for reflecting light from the LED element 21. On the other hand, the plating layer 12 on the back side plays a role of increasing the adhesion with the solder. The plating layer 12 is made of, for example, an electrolytic plating layer of silver (Ag). The plating layer 12 is formed to have an extremely thin thickness, and is specifically preferably 0.005 μm to 0.2 μm. The plating layer 12 is not necessarily provided on the entire front and back surfaces of the lead frame body 11, and may be provided on only a part of the front and back surfaces of the lead frame body 11.

また、ダイパッド25の裏面に、第1のアウターリード部27が形成され、リード部26の底面に、第2のアウターリード部28が形成されている。第1のアウターリード部27および第2のアウターリード部28は、それぞれ半導体装置20と外部の配線基板(図示せず)とを接続する際に用いられる。   A first outer lead portion 27 is formed on the back surface of the die pad 25, and a second outer lead portion 28 is formed on the bottom surface of the lead portion 26. The first outer lead portion 27 and the second outer lead portion 28 are used when connecting the semiconductor device 20 and an external wiring board (not shown), respectively.

樹脂付リードフレームの構成
次に、図4乃至図8により、図1乃至図3に示す樹脂付リードフレームの一実施の形態について説明する。図4は、本実施の形態による樹脂付リードフレームを示す全体平面図であり、図5および図6は、本実施の形態による樹脂付リードフレームを示す断面図であり、図7は、本実施の形態による樹脂付リードフレームを示す部分拡大平面図であり、図8は、本実施の形態による樹脂付リードフレームを示す断面図である。
Structure of Lead Frame with Resin Next, an embodiment of the lead frame with resin shown in FIGS. 1 to 3 will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is an overall plan view showing the lead frame with resin according to the present embodiment, FIGS. 5 and 6 are sectional views showing the lead frame with resin according to the present embodiment, and FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a lead frame with resin according to the present embodiment.

図4乃至図8に示す樹脂付リードフレーム30は、LED素子21(図9および図10参照)を載置するために用いられるものである。このような樹脂付リードフレーム30は、リードフレーム10と、リードフレーム10上に設けられた反射樹脂23とを備えている。   The lead frame 30 with resin shown in FIGS. 4 to 8 is used for mounting the LED element 21 (see FIGS. 9 and 10). Such a lead frame 30 with resin includes a lead frame 10 and a reflective resin 23 provided on the lead frame 10.

このうちリードフレーム10は、複数のダイパッド25と、各ダイパッド25に離間してそれぞれ設けられた複数のリード部26とを有している。なお、リードフレーム10の構成は、上述した図1乃至図3に示すものと同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。   Among these, the lead frame 10 includes a plurality of die pads 25 and a plurality of lead portions 26 provided separately from each die pad 25. The configuration of the lead frame 10 is the same as that shown in FIGS. 1 to 3 described above, and detailed description thereof is omitted here.

一方、反射樹脂23は、リードフレーム10と一体化されており、LED素子21(後述)を取り囲むLED素子収納部23aを有している。また、LED素子収納部23aの内側には側壁23bが形成されている。さらに、ダイパッド25とリード部26との間の隙間16にも、反射樹脂23が充填されている。   On the other hand, the reflective resin 23 is integrated with the lead frame 10 and has an LED element storage portion 23a surrounding an LED element 21 (described later). A side wall 23b is formed inside the LED element storage portion 23a. Furthermore, the gap 16 between the die pad 25 and the lead part 26 is also filled with the reflective resin 23.

また、図4に示すように、反射樹脂23は、互いに分離されるとともに互いに同一の形状を有する複数の反射樹脂ブロック23cから構成されている。各反射樹脂ブロック23cは、Y方向に沿って細長状に延びており、それぞれ内部に上述したLED素子収納部23aが形成されている。この場合、各反射樹脂ブロック23cは、縦横に配列された複数のLED素子収納部23aを含んでいるが、これに限られるものではなく、各反射樹脂ブロック23cが少なくとも1つのLED素子収納部23aを含んでいればよい。   As shown in FIG. 4, the reflective resin 23 is composed of a plurality of reflective resin blocks 23c that are separated from each other and have the same shape. Each reflective resin block 23c extends in an elongated shape along the Y direction, and the above-described LED element storage portion 23a is formed therein. In this case, each reflective resin block 23c includes a plurality of LED element storage portions 23a arranged vertically and horizontally, but is not limited thereto, and each reflective resin block 23c includes at least one LED element storage portion 23a. Should be included.

各反射樹脂ブロック23cは、リードフレーム10の表面10a側において、隣接する反射樹脂ブロック23cに対して完全に分離されている。また、互いに隣接する反射樹脂ブロック23c同士の間には、それぞれリードフレーム10が露出する帯状の露出領域29が形成されている。各帯状の露出領域29は、その長手方向がY方向に対して平行であり、それぞれリードフレーム10の外形を構成する長方形の一方の長辺から他方の長辺まで途切れることなく延びている。なお、本実施の形態において、複数の露出領域29は、互いに同一の幅を有するとともに等間隔で並んでいるが、必ずしもこれに限るものではない。   Each reflective resin block 23 c is completely separated from the adjacent reflective resin block 23 c on the surface 10 a side of the lead frame 10. Further, between the reflective resin blocks 23c adjacent to each other, a strip-shaped exposed region 29 where the lead frame 10 is exposed is formed. Each strip-shaped exposed region 29 has a longitudinal direction parallel to the Y direction, and extends from one long side of the rectangle constituting the outer shape of the lead frame 10 to the other long side without interruption. In the present embodiment, the plurality of exposed regions 29 have the same width and are arranged at equal intervals. However, the present invention is not necessarily limited to this.

反射樹脂23は、例えばリードフレーム10上に熱可塑性樹脂を射出成形することにより形成されたものである。反射樹脂23に使用される熱可塑性樹脂については、特に耐熱性、耐候性および機械的強度の優れたものを選ぶことが望ましい。このような熱可塑性樹脂の種類としては、例えばポリアミド、ポリフタルアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルサルホン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド等を使用することができるが、とりわけ液晶ポリマーを使用することが好ましい。液晶ポリマーを用いた場合、反射樹脂23の射出方向に沿ってポリマーが配向するので、例えば、反射樹脂23の射出方向を露出領域29の長手方向(Y方向)に平行にすることにより、反射樹脂23が露出領域29の長手方向(Y方向)に反ることを防止乃至軽減することができる。さらにまた、これらの樹脂中に光反射剤として、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウムおよび窒化ホウ素のうちいずれかを添加することによって、LED素子収納部23aの底面及び側壁23bにおいて、発光素子からの光の反射率を増大させ、半導体装置20全体の光取り出し効率を増大させることが可能となる。   The reflective resin 23 is formed, for example, by injection molding a thermoplastic resin on the lead frame 10. As the thermoplastic resin used for the reflective resin 23, it is particularly preferable to select a thermoplastic resin having excellent heat resistance, weather resistance and mechanical strength. Examples of such thermoplastic resins include polyamide, polyphthalamide, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyether sulfone, polybutylene terephthalate, polyetherimide, etc. It is preferable to do. When the liquid crystal polymer is used, the polymer is aligned along the emission direction of the reflection resin 23. For example, by making the emission direction of the reflection resin 23 parallel to the longitudinal direction (Y direction) of the exposed region 29, the reflection resin 23 can be prevented or reduced from warping in the longitudinal direction (Y direction) of the exposed region 29. Furthermore, by adding any one of titanium dioxide, zirconium dioxide, potassium titanate, aluminum nitride, and boron nitride as a light reflecting agent in these resins, the bottom surface and the side wall 23b of the LED element storage portion 23a, The reflectance of light from the light emitting element can be increased, and the light extraction efficiency of the entire semiconductor device 20 can be increased.

半導体装置の構成
次に、図9および図10により、図4乃至図8に示す樹脂付リードフレーム30を用いて作製された半導体装置の一実施の形態について説明する。図9および図10は、それぞれ半導体装置(SONタイプ)を示す断面図および平面図である。
Configuration of Semiconductor Device Next, an embodiment of a semiconductor device manufactured using the lead frame 30 with resin shown in FIGS. 4 to 8 will be described with reference to FIGS. 9 and 10 are a cross-sectional view and a plan view, respectively, showing a semiconductor device (SON type).

図9および図10に示すように、半導体装置(LEDパッケージ)20は、(個片化された)リードフレーム10と、リードフレーム10のダイパッド25に載置されたLED素子21と、LED素子21とリードフレーム10のリード部26とを電気的に接続するボンディングワイヤ(導電部)22とを備えている。   As shown in FIGS. 9 and 10, the semiconductor device (LED package) 20 includes a lead frame 10 (individualized), an LED element 21 placed on a die pad 25 of the lead frame 10, and an LED element 21. And a bonding wire (conductive part) 22 that electrically connects the lead part 26 of the lead frame 10.

また、LED素子21を取り囲むように(個片化された)反射樹脂23が設けられており、LED素子21は、反射樹脂23のLED素子収納部23a内に収納されている。さらに、LED素子21とボンディングワイヤ22とは、透光性の封止樹脂24によって封止されている。この封止樹脂24は、反射樹脂23のLED素子収納部23a内に充填されている。   Further, a reflective resin 23 (separated) is provided so as to surround the LED element 21, and the LED element 21 is stored in the LED element storage portion 23 a of the reflective resin 23. Furthermore, the LED element 21 and the bonding wire 22 are sealed with a translucent sealing resin 24. The sealing resin 24 is filled in the LED element storage portion 23 a of the reflective resin 23.

以下、このような半導体装置20を構成する各構成部材について、順次説明する。   Hereinafter, the respective constituent members constituting such a semiconductor device 20 will be sequentially described.

LED素子21は、発光層として例えばGaP、GaAs、GaAlAs、GaAsP、AlInGaP、またはInGaN等の化合物半導体単結晶からなる材料を適宜選ぶことにより、紫外光から赤外光に渡る発光波長を選択することができる。このようなLED素子21としては、従来一般に用いられているものを使用することができる。   The LED element 21 selects an emission wavelength ranging from ultraviolet light to infrared light by appropriately selecting a material made of a compound semiconductor single crystal such as GaP, GaAs, GaAlAs, GaAsP, AlInGaP, or InGaN as a light emitting layer. Can do. As such an LED element 21, those conventionally used in general can be used.

またLED素子21は、はんだまたはダイボンディングペーストにより、反射樹脂23のLED素子収納部23a内においてダイパッド25上に固定実装されている。なお、ダイボンディングペーストを用いる場合、耐光性のあるエポキシ樹脂やシリコーン樹脂からなるダイボンディングペーストを選択することが可能である。   The LED element 21 is fixedly mounted on the die pad 25 in the LED element storage portion 23a of the reflective resin 23 by solder or die bonding paste. When using a die bonding paste, it is possible to select a die bonding paste made of an epoxy resin or a silicone resin having light resistance.

ボンディングワイヤ22は、例えば金等の導電性の良い材料からなり、その一端がLED素子21の端子部21aに接続されるとともに、その他端がリード部26上に接続されている。   The bonding wire 22 is made of a material having good conductivity such as gold, and one end thereof is connected to the terminal portion 21 a of the LED element 21, and the other end is connected to the lead portion 26.

反射樹脂23は、上述したように、例えばリードフレーム10上に熱可塑性樹脂を射出成形することにより形成されたものである。反射樹脂23の形状は、射出成形に使用する金型の設計により、様々に実現することが可能である。例えば、反射樹脂23の全体形状を、図9および図10に示すように直方体としても良く、あるいは円筒形または錐形等の形状とすることも可能である。またLED素子収納部23aの底面は、長円形、レーストラック形、矩形、円形、楕円形または多角形等とすることができる。LED素子収納部23aの側壁23bの断面形状は、図9のように直線から構成されていても良いし、あるいは曲線から構成されていてもよい。   As described above, the reflective resin 23 is formed, for example, by injection molding a thermoplastic resin on the lead frame 10. The shape of the reflective resin 23 can be variously realized by designing a mold used for injection molding. For example, the overall shape of the reflective resin 23 may be a rectangular parallelepiped as shown in FIGS. 9 and 10, or may be a cylindrical shape or a cone shape. The bottom surface of the LED element storage portion 23a can be oval, racetrack, rectangular, circular, elliptical, polygonal, or the like. The cross-sectional shape of the side wall 23b of the LED element storage portion 23a may be constituted by a straight line as shown in FIG. 9, or may be constituted by a curve.

封止樹脂24としては、光の取り出し効率を向上させるために、半導体装置20の発光波長において光透過率が高く、また屈折率が高い材料を選択するのが望ましい。したがって耐熱性、耐候性、及び機械的強度が高い特性を満たす樹脂として、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂を選択することが可能である。特に、LED素子21として高輝度LEDを用いる場合、封止樹脂24が強い光にさらされるため、封止樹脂24は高い耐候性を有するシリコーン樹脂からなることが好ましい。   As the sealing resin 24, it is desirable to select a material having a high light transmittance and a high refractive index at the emission wavelength of the semiconductor device 20 in order to improve the light extraction efficiency. Therefore, it is possible to select an epoxy resin or a silicone resin as a resin that satisfies the characteristics of high heat resistance, weather resistance, and mechanical strength. In particular, when a high-brightness LED is used as the LED element 21, the sealing resin 24 is preferably made of a silicone resin having high weather resistance because the sealing resin 24 is exposed to strong light.

なお、リードフレーム10の詳細については、図1乃至図3を用いて既に説明したので、ここでは詳細な説明を省略する。   Since the details of the lead frame 10 have already been described with reference to FIGS. 1 to 3, detailed description thereof is omitted here.

リードフレームの製造方法
次に、図1乃至図3に示すリードフレーム10の製造方法について、図11(a)−(f)を用いて説明する。なお、図11(a)−(f)は、本実施の形態によるリードフレーム10の製造方法を示す断面図であり、図3に示す断面に対応している。
Manufacturing Method of Lead Frame Next, a manufacturing method of the lead frame 10 shown in FIGS. 1 to 3 will be described with reference to FIGS. 11A to 11F are cross-sectional views showing a method for manufacturing the lead frame 10 according to the present embodiment, and correspond to the cross section shown in FIG.

まず図11(a)に示すように、平板状の金属基板31を準備する。この金属基板31としては、上述のように銅、銅合金、42合金(Ni42%のFe合金)等からなる金属基板を使用することができる。なお金属基板31は、その両面に対して脱脂等を行い、洗浄処理を施したものを使用することが好ましい。   First, as shown in FIG. 11A, a flat metal substrate 31 is prepared. As the metal substrate 31, a metal substrate made of copper, copper alloy, 42 alloy (Ni 42% Fe alloy) or the like can be used as described above. In addition, it is preferable to use what the metal substrate 31 performed the degreasing | defatting etc. to the both surfaces, and performed the washing process.

次に、金属基板31の表裏全体にそれぞれ感光性レジスト32a、33aを塗布し、これを乾燥する(図11(b))。なお感光性レジスト32a、33aとしては、従来公知のものを使用することができる。   Next, photosensitive resists 32a and 33a are applied to the entire front and back surfaces of the metal substrate 31, respectively, and dried (FIG. 11B). As the photosensitive resists 32a and 33a, conventionally known resists can be used.

続いて、この金属基板31に対してフォトマスクを介して露光し、現像することにより、所望の開口部32b、33bを有するエッチング用レジスト層32、33を形成する(図11(c))。   Subsequently, the metal substrate 31 is exposed through a photomask and developed to form etching resist layers 32 and 33 having desired openings 32b and 33b (FIG. 11C).

次に、エッチング用レジスト層32、33を耐腐蝕膜として金属基板31に腐蝕液でエッチングを施す(図11(d))。腐蝕液は、使用する金属基板31の材質に応じて適宜選択することができる。例えば、金属基板31として銅を用いる場合、通常、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板31の両面からスプレーエッチングにて行うことができる。   Next, the etching resist layers 32 and 33 are used as an anticorrosion film, and the metal substrate 31 is etched with an etching solution (FIG. 11D). Corrosion liquid can be suitably selected according to the material of the metal substrate 31 to be used. For example, when copper is used as the metal substrate 31, a ferric chloride aqueous solution is usually used and spray etching can be performed from both surfaces of the metal substrate 31.

次いで、エッチング用レジスト層32、33を剥離して除去することにより、枠体13と、複数のダイパッド25と、複数のリード部26とを含むリードフレーム本体11が得られる(図11(e))。   Next, the etching resist layers 32 and 33 are peeled and removed to obtain the lead frame body 11 including the frame 13, the plurality of die pads 25, and the plurality of lead portions 26 (FIG. 11E). ).

次に、リードフレーム本体11の表面および裏面に電解めっきを施すことにより、リードフレーム本体11上に金属(例えば銀)を析出させて、リードフレーム本体11の表面および裏面を含む全面にめっき層12を形成する(図11(f))。なお、リードフレーム本体11の一部のみにめっき層12を形成しても良い。   Next, by electroplating the front and back surfaces of the lead frame main body 11, a metal (for example, silver) is deposited on the lead frame main body 11, and the plating layer 12 is formed on the entire surface including the front and back surfaces of the lead frame main body 11. Is formed (FIG. 11F). The plating layer 12 may be formed only on a part of the lead frame body 11.

このようにして、図1乃至図3に示すリードフレーム10が得られる(図11(f))。   In this way, the lead frame 10 shown in FIGS. 1 to 3 is obtained (FIG. 11F).

樹脂付リードフレームの製造方法
次に、図4乃至図8に示す樹脂付リードフレーム30の製造方法について、図12(a)−(d)および図13(a)−(d)を用いて説明する。図12(a)−(d)および図13(a)−(d)は、それぞれ本実施の形態による樹脂付リードフレーム30の製造方法を示す断面図である。このうち図12(a)−(d)は、図8に示す断面(図7のVIII−VIII線断面)に対応しており、図13(a)−(d)は、図4のXII−XII線断面に対応している。
Manufacturing Method of Lead Frame with Resin Next, a manufacturing method of the lead frame with resin 30 shown in FIGS. 4 to 8 will be described with reference to FIGS. 12 (a)-(d) and FIGS. 13 (a)-(d). To do. 12 (a)-(d) and FIGS. 13 (a)-(d) are cross-sectional views showing a method of manufacturing the lead frame 30 with resin according to the present embodiment. 12A to 12D correspond to the cross section shown in FIG. 8 (cross section taken along line VIII-VIII in FIG. 7), and FIGS. 13A to 13D correspond to XII in FIG. It corresponds to the XII line cross section.

まず上述した工程により(図11(a)−(f))、リードフレーム10を作製する(図12(a)、図13(a))。   First, the lead frame 10 is manufactured by the above-described steps (FIGS. 11A to 11F) (FIGS. 12A and 13A).

続いて、このリードフレーム10を、射出成形機(図示せず)の射出成形金型装置40内に装着する(図12(b)、図13(b))。   Subsequently, the lead frame 10 is mounted in an injection mold apparatus 40 of an injection molding machine (not shown) (FIGS. 12B and 13B).

この射出成形金型装置40は、リードフレーム10が載置される下型42と、下型42上に配置された上型43と、下型42および上型43に接続された制御部44とを備えている。本実施の形態において、このように、下型42と上型43と制御部44とを備えた射出成形金型装置40も提供する。   The injection mold apparatus 40 includes a lower mold 42 on which the lead frame 10 is placed, an upper mold 43 disposed on the lower mold 42, and a control unit 44 connected to the lower mold 42 and the upper mold 43. It has. In the present embodiment, an injection mold apparatus 40 including the lower mold 42, the upper mold 43, and the control unit 44 is also provided.

図12(b)、図13(b)に示すように、リードフレーム10が射出成形金型装置40の下型42上に載置された後、上型43が下型42に対して相対的に接近し、上型43が下型42上に配置されることにより、リードフレーム10が上型43と下型42との間に保持される。   As shown in FIGS. 12B and 13B, after the lead frame 10 is placed on the lower mold 42 of the injection mold apparatus 40, the upper mold 43 is relative to the lower mold 42. When the upper die 43 is disposed on the lower die 42, the lead frame 10 is held between the upper die 43 and the lower die 42.

ところで、図13(b)に示すように、下型42上にはリードフレーム10を収容する凹部42aが形成されている。リードフレーム10が凹部42aに収容されることにより、リードフレーム10を下型42上で正しく位置決めすることができる。また、下型42の凹部42aはリードフレーム10に対応する平面形状を有している。さらに、下型42の凹部42aの深さは、リードフレーム10の厚みと略同一となっている。すなわち、リードフレーム10が凹部42aに収容された際、下型42の表面42b(凹部42a以外の表面)とリードフレーム10の表面10aとがほぼ同一平面上に位置するか、又はリードフレーム10の表面10aが下型42の表面42bより0mm超0.1mm以下の範囲で高くなっている。これにより、上型43のゲートランナー部43b側から熱可塑性樹脂材料を供給した際、熱可塑性樹脂材料が下型42の表面42bからリードフレーム10の表面10a上へスムーズに流れるようになっている。   By the way, as shown in FIG. 13B, a recess 42 a for accommodating the lead frame 10 is formed on the lower mold 42. By accommodating the lead frame 10 in the recess 42a, the lead frame 10 can be correctly positioned on the lower mold 42. Further, the recess 42 a of the lower mold 42 has a planar shape corresponding to the lead frame 10. Further, the depth of the recess 42 a of the lower mold 42 is substantially the same as the thickness of the lead frame 10. That is, when the lead frame 10 is accommodated in the recess 42a, the surface 42b (the surface other than the recess 42a) of the lower mold 42 and the surface 10a of the lead frame 10 are located on substantially the same plane, or the lead frame 10 The surface 10a is higher than the surface 42b of the lower mold 42 in the range of more than 0 mm and 0.1 mm or less. Thus, when the thermoplastic resin material is supplied from the gate runner portion 43b side of the upper mold 43, the thermoplastic resin material smoothly flows from the surface 42b of the lower mold 42 onto the surface 10a of the lead frame 10. .

上型43は、下型42との間で反射樹脂23の成形空間43aを形成している。この成形空間43aは、反射樹脂23の形状に対応するとともに、熱可塑性樹脂材料を導入するゲートランナー部43bに連通されている。   The upper mold 43 forms a molding space 43 a for the reflective resin 23 with the lower mold 42. The molding space 43a corresponds to the shape of the reflective resin 23 and communicates with a gate runner portion 43b for introducing a thermoplastic resin material.

また、制御部44は、下型42および上型43の温度を制御することが可能であり、この場合、予め下型42の温度を上型43の温度より高く設定するようになっている。すなわち下型42の温度をTとし、上型43の温度Tとしたとき、T>Tとなっている。これらの温度T、Tの差ΔT(=T−T)は、リードフレーム10の材料(例えば銅)の熱膨張係数と、反射樹脂23の材料(液晶ポリマー)の熱膨張係数とを考慮して定めることができる。具体的には、ΔTは例えば10℃〜60℃とすることができる。 The controller 44 can control the temperatures of the lower mold 42 and the upper mold 43. In this case, the temperature of the lower mold 42 is set higher than the temperature of the upper mold 43 in advance. That is, the temperature of the lower mold 42 and T M, when the temperature T R of the upper mold 43, and has a T M> T R. The difference ΔT (= T M −T R ) between these temperatures T M and T R is that the thermal expansion coefficient of the material of the lead frame 10 (for example, copper) and the thermal expansion coefficient of the material of the reflective resin 23 (liquid crystal polymer). Can be determined in consideration of Specifically, ΔT can be set at, for example, 10 ° C. to 60 ° C.

次に、上型43の成形空間43a内に、例えば液晶ポリマーからなる熱可塑性樹脂材料を射出成形することにより、リードフレーム10の表面10aに反射樹脂23を形成する。この際、射出成形機の樹脂供給部(図示せず)から熱可塑性樹脂材料が供給され、この熱可塑性樹脂材料は、ゲートランナー部43bを通過して、成形空間43a内に流し込まれる。その後、熱可塑性樹脂材料を下型42および上型43の間で硬化させることにより、リードフレーム10の表面10aに反射樹脂23が形成される(図12(c)、図13(c))。なお、ダイパッド25とリード部26との間の隙間16にも反射樹脂23が充填される(図12(c))。   Next, the reflective resin 23 is formed on the surface 10 a of the lead frame 10 by injection molding a thermoplastic resin material made of, for example, a liquid crystal polymer in the molding space 43 a of the upper mold 43. At this time, a thermoplastic resin material is supplied from a resin supply portion (not shown) of the injection molding machine, and the thermoplastic resin material passes through the gate runner portion 43b and is poured into the molding space 43a. Thereafter, the thermoplastic resin material is cured between the lower mold 42 and the upper mold 43, whereby the reflective resin 23 is formed on the surface 10a of the lead frame 10 (FIGS. 12C and 13C). The reflective resin 23 is also filled in the gap 16 between the die pad 25 and the lead part 26 (FIG. 12C).

次いで、反射樹脂23が形成されたリードフレーム10を下型42および上型43から取り出す。この反射樹脂23およびリードフレーム10は、下型42および上型43内で制御部44によって加熱されており、下型42および上型43から取り出された後、反射樹脂23およびリードフレーム10は徐々に冷却される。本実施の形態において、上述したように、下型42の温度を上型43の温度より高く設定したことにより、取り出された直後、リードフレーム10の温度は反射樹脂23の温度より高くなっている。一方、一般に、反射樹脂23の材料の熱膨張係数は、リードフレーム10の材料の熱膨張係数より大きい。したがって、リードフレーム10および反射樹脂23が冷却されて温度が同一となったとき、その一方が過剰に収縮することが無い。これにより、リードフレーム10および反射樹脂23の熱膨張係数の違いによってこれらに反りが生じることを防止乃至軽減することができる。   Next, the lead frame 10 on which the reflective resin 23 is formed is taken out from the lower mold 42 and the upper mold 43. The reflective resin 23 and the lead frame 10 are heated by the control unit 44 in the lower mold 42 and the upper mold 43. After being taken out from the lower mold 42 and the upper mold 43, the reflective resin 23 and the lead frame 10 are gradually added. To be cooled. In the present embodiment, as described above, the temperature of the lower die 42 is set higher than the temperature of the upper die 43, so that the temperature of the lead frame 10 is higher than the temperature of the reflective resin 23 immediately after being taken out. . On the other hand, in general, the thermal expansion coefficient of the material of the reflective resin 23 is larger than the thermal expansion coefficient of the material of the lead frame 10. Therefore, when the lead frame 10 and the reflective resin 23 are cooled and the temperature becomes the same, one of them does not shrink excessively. Thereby, it is possible to prevent or reduce the occurrence of warping in the lead frame 10 and the reflective resin 23 due to the difference in thermal expansion coefficient.

その後、ゲートランナー部43bに対応するゲートランナー樹脂23dをリードフレーム10および反射樹脂23に対して折り曲げることにより、ゲートランナー樹脂23dを取り除く(ゲートブレイク)。このようにして、反射樹脂23とリードフレーム10とが一体に形成された樹脂付リードフレーム30が得られる(図12(d)、図13(d))。   Thereafter, the gate runner resin 23d corresponding to the gate runner portion 43b is bent with respect to the lead frame 10 and the reflective resin 23 to remove the gate runner resin 23d (gate break). In this way, the lead frame 30 with resin in which the reflective resin 23 and the lead frame 10 are integrally formed is obtained (FIGS. 12D and 13D).

ところで、本実施の形態において、上述したように、反射樹脂23を形成する工程において(図13(c))、例えば液晶ポリマーからなる熱可塑性樹脂材料は、露出領域29(図4参照)の長手方向に平行に射出されるようになっている。すなわち、熱可塑性樹脂材料は、Y方向プラス側からY方向マイナス側に向けて射出される。この場合、熱可塑性樹脂材料を構成する液晶ポリマーがその射出方向に沿って配向するので、反射樹脂23の強度が露出領域29の長手方向(Y方向)に沿って高められ、反射樹脂23が露出領域29の長手方向(Y方向)に反ってしまう不具合を防止乃至軽減することができる。   By the way, in this embodiment, as described above, in the step of forming the reflective resin 23 (FIG. 13C), for example, the thermoplastic resin material made of a liquid crystal polymer is the length of the exposed region 29 (see FIG. 4). Injected parallel to the direction. That is, the thermoplastic resin material is injected from the Y direction plus side toward the Y direction minus side. In this case, since the liquid crystal polymer constituting the thermoplastic resin material is oriented along the injection direction, the strength of the reflective resin 23 is increased along the longitudinal direction (Y direction) of the exposed region 29, and the reflective resin 23 is exposed. Problems that warp in the longitudinal direction (Y direction) of the region 29 can be prevented or reduced.

また、本実施の形態において、上述したように、反射樹脂23は、互いに分離されるとともに互いに同一の形状を有する複数の反射樹脂ブロック23cから構成されており、互いに隣接する反射樹脂ブロック23c同士の間には、リードフレーム10が露出する帯状の露出領域29が形成されている。これにより、反射樹脂23の存在しない複数の領域が露出領域29の長手方向に直交する方向(X方向)に沿って間隔を空けて存在するので、反射樹脂23がこの方向(X方向)に反ってしまう不具合を防止乃至軽減することができる。   In the present embodiment, as described above, the reflection resin 23 is composed of a plurality of reflection resin blocks 23c that are separated from each other and have the same shape, and the reflection resin blocks 23c that are adjacent to each other. A strip-shaped exposed region 29 where the lead frame 10 is exposed is formed therebetween. As a result, the plurality of regions where the reflective resin 23 does not exist are present at intervals along the direction (X direction) perpendicular to the longitudinal direction of the exposed region 29, so that the reflective resin 23 warps in this direction (X direction). Can be prevented or reduced.

半導体装置の製造方法
次に、図9および図10に示す半導体装置20の製造方法について、図14(a)−(e)を用いて説明する。図14(a)−(e)は、本実施の形態による半導体装置20の製造方法を示す断面図であり、図3に示す断面に対応している。
Manufacturing Method of Semiconductor Device Next, a manufacturing method of the semiconductor device 20 shown in FIGS. 9 and 10 will be described with reference to FIGS. 14A to 14E are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the semiconductor device 20 according to the present embodiment, and correspond to the cross-section illustrated in FIG.

まず、上述した工程(図12(a)−(d)、図13(a)−(d))により、樹脂付リードフレーム30を作製し、この樹脂付リードフレーム30の反射樹脂23の各LED素子収納部23a内であって、リードフレーム10のダイパッド25上にLED素子21を搭載する。この場合、はんだまたはダイボンディングペーストを用いて、LED素子21をダイパッド25上に載置して固定する(ダイアタッチ工程)(図14(a))。   First, the lead frame 30 with resin is manufactured by the above-described steps (FIGS. 12A to 12D and FIGS. 13A to 13D), and each LED of the reflective resin 23 of the lead frame 30 with resin is manufactured. The LED element 21 is mounted on the die pad 25 of the lead frame 10 in the element storage portion 23a. In this case, the LED element 21 is placed and fixed on the die pad 25 using a solder or a die bonding paste (die attach step) (FIG. 14A).

次に、LED素子21の端子部21aと、リード部26表面とを、ボンディングワイヤ22によって互いに電気的に接続する(ワイヤボンディング工程)(図14(b))。   Next, the terminal portion 21a of the LED element 21 and the surface of the lead portion 26 are electrically connected to each other by the bonding wire 22 (wire bonding step) (FIG. 14B).

その後、反射樹脂23のLED素子収納部23a内に封止樹脂24を充填し、封止樹脂24によりLED素子21とボンディングワイヤ22とを封止する(図14(c))。   Thereafter, the sealing resin 24 is filled in the LED element storage portion 23a of the reflective resin 23, and the LED element 21 and the bonding wire 22 are sealed with the sealing resin 24 (FIG. 14C).

次に、反射樹脂23およびリードフレーム10のうち各パッケージ領域14間に位置する部分を切断することにより、反射樹脂23およびリードフレーム10をLED素子21毎に分離する(ダイシング工程)(図14(d))。この際、まずリードフレーム10をダイシングテープ37上に載置して固定し、その後、例えばダイヤモンド砥石等からなるブレード38によって、各LED素子21間の反射樹脂23、ならびにリードフレーム10のリード連結部52、ダイパッド連結部53およびパッケージ領域連結部54を切断する。   Next, the reflective resin 23 and the lead frame 10 are cut into portions between the package regions 14 to separate the reflective resin 23 and the lead frame 10 for each LED element 21 (dicing step) (FIG. 14 ( d)). At this time, the lead frame 10 is first placed and fixed on the dicing tape 37, and thereafter, the reflective resin 23 between the LED elements 21 and the lead connecting portion of the lead frame 10 by a blade 38 made of, for example, a diamond grindstone. 52, the die pad connecting portion 53 and the package region connecting portion 54 are cut.

このようにして、図9および図10に示す半導体装置20を得ることができる(図14(e))。   In this way, the semiconductor device 20 shown in FIGS. 9 and 10 can be obtained (FIG. 14E).

以上説明したように本実施の形態によれば、リードフレーム10の表面10aに熱可塑性樹脂材料を射出成形することにより反射樹脂23を形成するので、熱硬化性樹脂材料をトランスファ成形する場合と比べて、成形時間を短縮することができ、樹脂付リードフレーム30の生産性を向上することができる。また、反射樹脂23を形成する際、下型42の温度を上型43の温度より高くしたことにより、リードフレーム10の熱膨張係数と反射樹脂23の熱膨張係数とが異なることにより、リードフレーム10および反射樹脂23に反りが生じる不具合を防止乃至軽減することができる。   As described above, according to the present embodiment, since the reflection resin 23 is formed by injection molding of the thermoplastic resin material on the surface 10a of the lead frame 10, it is compared with the case where the thermosetting resin material is transfer molded. Thus, the molding time can be shortened, and the productivity of the lead frame 30 with resin can be improved. Further, when the reflective resin 23 is formed, the temperature of the lower mold 42 is made higher than the temperature of the upper mold 43, so that the thermal expansion coefficient of the lead frame 10 and the thermal expansion coefficient of the reflective resin 23 are different. 10 and the reflection resin 23 can be prevented or reduced from warping.

また、本実施の形態によれば、反射樹脂23は、互いに分離された複数の反射樹脂ブロック23cを含み、互いに隣接する反射樹脂ブロック23c間に、リードフレーム10が露出する帯状の露出領域29が形成されるので、反射樹脂23が露出領域29の長手方向に直交する方向(X方向)に反る不具合を防止乃至軽減することができる。   In addition, according to the present embodiment, the reflective resin 23 includes a plurality of reflective resin blocks 23c separated from each other, and a strip-shaped exposed region 29 where the lead frame 10 is exposed is between the adjacent reflective resin blocks 23c. Since it is formed, the problem that the reflective resin 23 warps in the direction (X direction) orthogonal to the longitudinal direction of the exposed region 29 can be prevented or reduced.

さらに、本実施の形態によれば、熱可塑性樹脂材料は液晶ポリマーからなり、熱可塑性樹脂材料は、露出領域29の長手方向(Y方向)に平行に射出されるので、反射樹脂23が露出領域29の長手方向(Y方向)に反る不具合を防止乃至軽減することができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the thermoplastic resin material is made of a liquid crystal polymer, and the thermoplastic resin material is injected in parallel to the longitudinal direction (Y direction) of the exposed region 29, so that the reflective resin 23 is exposed region. The problem of warping in the longitudinal direction (Y direction) 29 can be prevented or reduced.

10 リードフレーム
11 リードフレーム本体
12 めっき層
13 枠体
20 半導体装置
21 LED素子
22 ボンディングワイヤ(導電部)
23 反射樹脂
23a LED素子収納部
23c 反射樹脂ブロック
24 封止樹脂
25 ダイパッド
26 リード部
27 第1のアウターリード部
28 第2のアウターリード部
29 露出領域
30 樹脂付リードフレーム
40 射出成形金型装置
42 下型
42a 凹部
42b 表面
43 上型
43a 成形空間
43b ゲートランナー部
44 制御部
52 リード連結部
53 ダイパッド連結部
54 パッケージ領域連結部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Lead frame 11 Lead frame main body 12 Plating layer 13 Frame body 20 Semiconductor device 21 LED element 22 Bonding wire (conductive part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 23 Reflective resin 23a LED element accommodating part 23c Reflective resin block 24 Sealing resin 25 Die pad 26 Lead part 27 1st outer lead part 28 2nd outer lead part 29 Exposed area 30 Lead frame with resin 40 Injection mold apparatus 42 Lower die 42a Recess 42b Surface 43 Upper die 43a Molding space 43b Gate runner part 44 Control part 52 Lead connecting part 53 Die pad connecting part 54 Package area connecting part

Claims (12)

複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有する反射樹脂とを備えた樹脂付リードフレームの製造方法において、
下型上にリードフレームを載置する工程と、
下型上に、下型との間で反射樹脂の成形空間を形成する上型を配置する工程と、
上型の成形空間内に熱可塑性樹脂材料を射出成形して、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する工程とを備え、
リードフレームの表面に反射樹脂を形成する工程において、下型の温度を上型の温度より高くすることを特徴とする樹脂付リードフレームの製造方法。
A lead frame with a resin, comprising: a lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions spaced apart from each die pad; and a reflective resin provided on the lead frame and having a plurality of LED element storage portions In the manufacturing method of
Placing the lead frame on the lower mold;
Placing an upper mold on the lower mold to form a molding space for the reflective resin with the lower mold;
A step of injection-molding a thermoplastic resin material in the molding space of the upper mold and forming a reflective resin on the surface of the lead frame,
A method of manufacturing a resin-attached lead frame, wherein in the step of forming a reflective resin on the surface of the lead frame, the temperature of the lower die is set higher than the temperature of the upper die.
反射樹脂は、互いに分離された複数の反射樹脂ブロックを含み、各反射樹脂ブロックに少なくとも1つのLED素子収納部が形成され、互いに隣接する反射樹脂ブロック間に、リードフレームが露出する帯状の露出領域が形成されることを特徴とする請求項1記載の樹脂付リードフレームの製造方法。   The reflective resin includes a plurality of reflective resin blocks separated from each other, and at least one LED element storage portion is formed in each reflective resin block, and a strip-shaped exposed region in which the lead frame is exposed between the adjacent reflective resin blocks. The method for manufacturing a lead frame with resin according to claim 1, wherein: 反射樹脂を形成する工程において、熱可塑性樹脂材料は、露出領域の長手方向に平行に射出されることを特徴とする請求項2記載の樹脂付リードフレームの製造方法。   3. The method of manufacturing a lead frame with a resin according to claim 2, wherein in the step of forming the reflective resin, the thermoplastic resin material is injected in parallel with a longitudinal direction of the exposed region. 熱可塑性樹脂材料は、液晶ポリマーからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項記載の樹脂付リードフレームの製造方法。   The method for manufacturing a lead frame with a resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermoplastic resin material is made of a liquid crystal polymer. 下型上に、リードフレームを収容する凹部が形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項記載の樹脂付リードフレームの製造方法。   The method for manufacturing a lead frame with a resin according to any one of claims 1 to 4, wherein a recess for accommodating the lead frame is formed on the lower mold. 下型の凹部にリードフレームを収容した際、下型の表面とリードフレームの表面とが同一平面上に位置するか、又はリードフレームの表面が下型の表面より0mm超0.1mm以下の範囲で高くなっていることを特徴とする請求項5記載の樹脂付リードフレームの製造方法。   When the lead frame is accommodated in the lower mold recess, the surface of the lower mold and the surface of the lead frame are located on the same plane, or the surface of the lead frame is more than 0 mm and 0.1 mm or less from the surface of the lower mold 6. The method of manufacturing a lead frame with a resin according to claim 5, wherein the height is high. 半導体装置の製造方法において、
請求項1乃至6のいずれか一項記載の樹脂付リードフレームの製造方法により、樹脂付リードフレームを作製する工程と、
反射樹脂の各LED素子収納部内であって各ダイパッド上にLED素子を搭載する工程と、
LED素子と各リード部とを導電部により接続する工程と、
反射樹脂の各LED素子収納部内に封止樹脂を充填する工程と、
反射樹脂およびリードフレームを切断することにより、反射樹脂およびリードフレームをLED素子毎に分離する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
In a method for manufacturing a semiconductor device,
A step of producing a lead frame with resin by the method for producing a lead frame with resin according to any one of claims 1 to 6,
A step of mounting the LED element on each die pad in each LED element storage portion of the reflective resin;
Connecting the LED element and each lead portion by a conductive portion;
A step of filling a sealing resin into each LED element housing portion of the reflective resin;
And a step of separating the reflection resin and the lead frame for each LED element by cutting the reflection resin and the lead frame.
複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有する反射樹脂とを備えた樹脂付リードフレームを製造するための射出成形金型装置において、
リードフレームが載置される下型と、
下型上に配置され、下型との間で反射樹脂の成形空間を形成する上型と、
下型および上型に接続され、下型および上型の温度を制御する制御部とを備え、
上型の成形空間内に熱可塑性樹脂材料が射出成形されることにより、リードフレームの表面に反射樹脂が形成され、
制御部は、リードフレームの表面に反射樹脂を形成する際、下型の温度を上型の温度より高くすることを特徴とする射出成形金型装置。
A lead frame with a resin, comprising: a lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions spaced apart from each die pad; and a reflective resin provided on the lead frame and having a plurality of LED element storage portions In the injection mold equipment for manufacturing
A lower mold on which the lead frame is placed;
An upper mold that is disposed on the lower mold and forms a molding space for the reflective resin with the lower mold;
A control unit connected to the lower mold and the upper mold and controlling the temperature of the lower mold and the upper mold;
The thermoplastic resin material is injection-molded in the molding space of the upper mold, whereby a reflective resin is formed on the surface of the lead frame,
The controller is configured to make the temperature of the lower mold higher than the temperature of the upper mold when the reflective resin is formed on the surface of the lead frame.
下型上に、リードフレームを収容する凹部が形成されていることを特徴とする請求項8記載の射出成形金型装置。   9. The injection mold apparatus according to claim 8, wherein a recess for accommodating the lead frame is formed on the lower mold. 下型の凹部にリードフレームを収容した際、下型の表面とリードフレームの表面とが同一平面上に位置するか、又はリードフレームの表面が下型の表面より0mm超0.1mm以下の範囲で高くなっていることを特徴とする請求項9記載の射出成形金型装置。   When the lead frame is accommodated in the lower mold recess, the surface of the lower mold and the surface of the lead frame are located on the same plane, or the surface of the lead frame is more than 0 mm and 0.1 mm or less from the surface of the lower mold The injection mold apparatus according to claim 9, wherein the mold is high. 樹脂付リードフレームにおいて、
複数のダイパッドと各ダイパッドに離間してそれぞれ設けられた複数のリード部とを有するリードフレームと、
リードフレーム上に設けられ、複数のLED素子収納部を有するとともに熱可塑性樹脂材料からなる反射樹脂とを備え、
反射樹脂は、互いに分離された複数の反射樹脂ブロックを含み、各反射樹脂ブロックに少なくとも1つのLED素子収納部が形成され、互いに隣接する反射樹脂ブロック間に、リードフレームが露出する帯状の露出領域が形成されることを特徴とする樹脂付リードフレーム。
For lead frames with resin,
A lead frame having a plurality of die pads and a plurality of lead portions provided separately from each die pad;
A reflection resin provided on the lead frame and having a plurality of LED element storage portions and made of a thermoplastic resin material;
The reflective resin includes a plurality of reflective resin blocks separated from each other, and at least one LED element storage portion is formed in each reflective resin block, and a strip-shaped exposed region in which a lead frame is exposed between adjacent reflective resin blocks A lead frame with resin, characterized in that is formed.
熱可塑性樹脂材料は、液晶ポリマーからなることを特徴とする請求項11記載の樹脂付リードフレーム。   The lead frame with resin according to claim 11, wherein the thermoplastic resin material is made of a liquid crystal polymer.
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