JP2015114387A - 光学素子の形成方法及び光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エッチング技術によってシリコン層3に溝を形成して、シリコン凸条パターン5、シリコン凹条パターン7、及び隣り合うシリコン凸条パターン同士5を結合するシリコン支柱パターン9を形成する。シリコン層3に対して熱酸化処理を施して、シリコン凸条パターン5、シリコン凹条パターン7及びシリコン支柱パターン9から二酸化ケイ素凸条パターン11、二酸化ケイ素凹条パターン13及び二酸化ケイ素支柱パターン15を形成してサブ波長構造をもつ光学素子を形成する。二酸化ケイ素凸条パターン11及びシリコン凹条パターン13の形状はシリコン凸条パターン5及びシリコン凹条パターン7の形状に対して歪んでいる。
【選択図】図1
Description
nTM={n1 -2×f + n2 -2×(1−f)}-1/2 ・・・(2)
δ=(nTE−nTM)×d ・・・(3)
これに対し、実施例(A)のサブ波長構造では、任意の大きさの領域を凹凸パターンの長さ方向で移動させると、任意の領域内の平均的な位相差が変化する。
5 シリコン凸条パターン
7 シリコン凹条パターン
9 シリコン支柱パターン
11 二酸化ケイ素凸条パターン
13 二酸化ケイ素凹条パターン
15 二酸化ケイ素支柱パターン
31,35 光学素子
33 サブ波長構造領域
35 サブ波長構造
Claims (4)
- 凸条パターンと凹条パターンが繰り返されたサブ波長構造をもつ光学素子の形成方法であって、
エッチング技術によってシリコン層に溝を形成して、シリコン凸条パターン、シリコン凹条パターン、及び隣り合う前記シリコン凸条パターン同士を結合するシリコン支柱パターンを形成するエッチング工程と、
前記シリコン層に対して熱酸化処理を施して、前記シリコン凸条パターン、前記シリコン凹条パターン及び前記シリコン支柱パターンから二酸化ケイ素凸条パターン、二酸化ケイ素凹条パターン及び二酸化ケイ素支柱パターンを形成する熱酸化工程と、を含み、
前記シリコン凸条パターンの形状に対して歪んだ前記二酸化ケイ素凸条パターンを含む光学素子を形成することを特徴とする光学素子の形成方法。 - 前記エッチング工程において、複数の前記シリコン支柱パターンが不規則な配置で形成される請求項1に記載の光学素子の形成方法。
- 前記エッチング工程において、前記シリコン凸条パターンと前記シリコン凹条パターンの凹凸繰返し方向が互いに異なっている複数のサブ波長構造領域が形成される請求項1又は2に記載の光学素子の形成方法。
- 請求項1から3のいずれか一項に記載の光学素子の形成方法によって形成された光学素子であって、
長さ方向で幅寸法が変化している前記二酸化ケイ素凹条パターンを含んでいることを特徴とする光学素子。
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