JP2015099103A - 回収治具と基板検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板検査装置は、基板回転機器と回収治具30と回収治具保持機器とで構成される。回収治具30は、ガスを供給するガス供給手段34と、基板の縁部に付着した液滴を保持する第一治具31と、ガスを第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する第二治具32と、を備える。
【選択図】図4
Description
基板検査装置は、基板を検査する装置である。例えば、基板は、半導体ウエハー、液晶基板等の基板である。半導体ウエハーは、シリコン、ガリウム、炭化ケイ素等のウエハーである。
基板検査装置は、基板を位置決めする必要がある。通常、基板のコンタミネーションを防止するために、簡易で確実な位置決め機構が要求される。
また、一部の基板検査装置が、半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜の中の、ナトリウム、カリウム、鉄等の不純物の量を正確に測定するのに用いられる。この基板検査装置では、基板を正確に位置決めすることが、不純物の量を正確に測定するために重要である。
半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜中に、不純物が含まれていいると、その不純物の量が微量であっても、半導体素子の電気的特性に大きな影響を与える。
従って、半導体素子の製造設備において、ウエハー表面から不純物の混入をできる限り抑制することが要請されている。
そのために、半導体ウエハーの表面に存在する不純物の量を正確に測定することが行われている。
シリコンウエハーの表面の酸化膜をHF(ふっ化水素)水溶液で溶解した後で、そのHF(ふっ化水素)水溶液を捕集して、HF(ふっ化水素)水溶液中の不純物を分析することが行われる。捕集したHF(ふっ化水素)水溶液の量が少なくすると、不純物の濃度が高くなり、測定精度が向上するという特徴を有する。
例えば、HF(ふっ化水素)水溶液の蒸気に基板を曝し、基板の酸化層を溶解した後で、基板の表面にHF(ふっ化水素)水溶液の液滴を滴下し、その液滴を基板の表面に付着したまま移動する。液滴に酸化膜の中の不純物が捕集される。その液滴中の不純物の量を計測することにより、基板表面の不純物の量を検査する。
その結果、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記第一治具が軸芯を基板の中心軸に沿う方向に向ける筒状部を持ち、前記筒状部が側面に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設けられる。前記第二治具が前記筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆う壁部を持ち、該壁部は前記凹みに対面する位置に該隙間空間と雰囲気の空間と連通する開口を設けられる。
前記ガスが前記隙間空間へ供給される様になった。
その結果、ガスが前記隙間空間に入り、凹みに保持される液滴の前記付着領域の輪郭に沿って開口から基板の表面に吹き付けられて、基板の縁部に付着した液滴を前記付着領域から漏らすことなく保持できる、
上記本発明に係る実施形態の構成により、
前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される。
その結果、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法を安定して維持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、
使用時の姿勢において、使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される。
その結果、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法をより安定して維持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される。
その結果、ガスが前記隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端に端面をもち、前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、側面の全周と端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端に凸の形状をした端面をもつ。前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、側面の全周と凸の形状をした端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記凹みが基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝により形成される、
前記開口を正面から見て前記第一溝が前記第二溝から覗ける様になった。
その結果、第二溝に倣って開口に挿入された基板の縁が第一溝に倣って凹みに対面し、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記第一治具が液体を貯留可能な内部空間をもつ。前記凹みが該内部空間に連通する。
その結果、内部空間に貯留される液体の一部が液滴として基板の縁部に付着できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端部に端面をもつ。前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
その結果、液滴を基板の縁部に付着させて基板の周囲に沿って移動させることをできる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
その結果、前記隙間空間の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
上記本発明に係る実施形態の構成により、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
その結果、基板の面の前記開口に近い個所の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
第一治具が基板の縁部に付着した液滴を保持し、ガスを第一治具に保持される液滴が縁部に付着する付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様にしたので、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、基板の中心軸に沿う方向に向ける軸芯をもつ筒状部に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設け、第二治具の壁部が筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆い、隙間空間と雰囲気を連通する開口を壁部の前記凹みに対面する位置に設け、前記隙間空間へガスを供給する様にしたので、ガスが前記隙間空間に入り、凹みDに保持される液滴の前記付着領域の輪郭に沿って基板の表面に吹き付けられて、基板1の縁部に付着した液滴を前記付着領域から漏らすことなく保持できる、
また、前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される様にしたので、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口Wとの隙間寸法を安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される様にしたので、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法をより安定して維持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Sに一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される様にしたので、ガスが前記隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、側面の全周と端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と凸の形状をした前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、側面の全周と凸の形状をした端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記開口を正面から見て基板の中心軸に交差する方向に延びる前記第一溝が前記第二溝から覗ける様にしたので、第二溝に倣って開口に挿入された基板の縁が第一溝に倣って凹みに対面し、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、凹みが液体を貯留可能な内部空間に連通する様にしたので、内部空間に貯留される液体の一部が液滴として基板の縁部に付着できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
回収治具保持機器が上記にうちの一つに記載の回収治具を保持し、基板回転機器が基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる様にしたので、液滴を基板の縁部に付着させて基板の周囲に沿って移動させることをできる。
また、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する様にしたので、前記隙間空間の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
また、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する様にしたので、基板の面の前記開口に近い個所の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。、
その結果、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置と回収治具、及び基板の縁部に液滴を付着させて縁部に沿って移動させるのに好適な基板検査装置と回収治具とを提供できる。
図1は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の平面図である。図2は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の正面図である。図3は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
以下では、基板1の中心軸が垂直である場合を例に、説明する。
基板1がシリコンウェハーである場合に、基板1に存在する不純物の量を検査するには、第一の方法では、基板の表面を液体蒸気(例えば、HF(ふっ化水素)水溶液の蒸気)に晒して、液体により基板1の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板1を検査するために基板1に液滴4を付着して移動させる。第二の方法では、基板の表面に液体(例えば、HF(ふっ化水素)水溶液の蒸気)を滴下する。液体により基板1の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板1を検査するために基板1に液滴4を付着して移動させる。
基板検査装置2は、基板1の表面に液滴(例えば、HF(ふっ化水素)水溶液)を滴下し、液滴4を基板1の表面を所定の領域をなぞる様に移動させ、その液滴4を回収する。その液滴4に混ざった不純物の量を測定すると、基板1の表面の所定の領域に存在した不純物の量を特定できる。
基板検査装置2は、下部構造体3と基板回転機器10と回収治具保持機器20と回収治具30と液体回収機器40と基板芯だし機器50とで構成されてもよい。
例えば、基板回転機器10は、水平になった基板1の下面を下方から保持面で保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる機器であり、基板保持部材(図示せず)と基板保持基台(図示せず)とで構成される。
基板保持部材は、水平になった基板1の下面を下方から保持面Mで保持する部材である。真空チャック機構が、保持面Mに設けられる。真空チャック機構は、負圧により保持面Mに保持された基板1を固定する。
基板保持基台は、基板保持部材を回転中心軸の回りに回転自在に支持する機器である。
回収治具30の詳細は、後述する。
回収治具保持機器20は、基板1の縁部1aに付着した液滴4を保持する姿勢をとる回収治具を保持できる。
水平アーム21は、先端部に回収治具フォルダー24を固定し、後端部をアーム回転軸22に固定した梁構造である。
アーム回転軸22は、水平アーム21の後端部を固定し、垂直な回転軸の回りに回転する構造体である。
アーム回転基台23は、アーム回転軸22を回転自在に保持する構造体であり、下部構造3に取り付けられる。
回収治具フォルダー24は、回収治具30を保持する構造体である。回収治具フォルダー24の先端部は、回収治具30が嵌合する嵌合部を持つ。
例えば、液体回収機器40は、回収治具30が保持する液滴4を容器に回収する。
図4は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の正面断面図である。図5は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の側面断面図である。図6は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具のA−A断面図である。図7は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。図8は、本発明の第二の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。図9は、本発明の第三の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。
回収治具30は、ガス供給手段34と第一治具31と第二治具32とで構成される。
例えば、回収治具30は、ガス供給手段34と第一治具31と第二治具32とフランジ33とで構成される。
回収治具30は、ガス供給手段34と第一治具31と第二治具32と圧力測定器35とで構成されてもよい。
例えば、回収治具30は、ガス供給手段34と第一治具31と第二治具32とフランジ33と圧力測定器35とで構成される。
ガスは、エアー、窒素、その他である。
ガス供給手段34が、ガスを後述する隙間空間Sに供給する。
ガス供給手段34が、ガスを、ガス導入孔Kを通過して、後述する隙間空間Sに供給する。
第一治具31は、軸芯を基板1の中心軸に沿う方向に向ける筒状部31aを持ち、筒状部が側面に基板1の縁部1aに付着した液滴4を保持する凹みDを設けられてもよい。
例えば、基板1の中心軸が垂直である場合に、第一治具31は、軸芯を上下方向に向ける筒状部31aを持ち、筒状部31aが側面に基板1の縁部1aに付着した液滴4を保持する凹みDを設けられる。
第一治具31が、筒状部31aの他方の端部に球状の凸の形状をした端面をもっていてもよい。
後述する開口Оを横から見て後述する第一溝31bが後述する第二溝32bから覗ける様になっていてもよい。
第一溝31bの幅が基板1の厚みより大きくてもよい。
第二治具32が、ガスを第一治具31に保持される液滴4が基板1の縁部1aに付着する領域である付着領域の輪郭の全周に沿って基板1の面に吹き付ける様に案内してもよい。
ガスが隙間空間Sへ供給される様になった。
例えば、使用時の姿勢において、第二溝32bが基板1の表面に平行に対面する面と基板1の裏面に平行に対面する面と基板1の縁部1aに対面する一対の面とで形成される。
例えば、筒状部材の軸芯が上下方向に延びる場合、ガスが、隙間空間Sへ上方から供給される。
図8は、回収治具30が圧力測定器35をもたない様子を示す。
基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間Sの圧力に応じて基板1と回収治具30との基板1の中心軸に沿った向きの相対距離を調整してもよい。
基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間の圧力に応じて基板1と回収治具30との上下方向の相対距離を調整してもよい。
基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間の圧力に応じて、回収治具保持機器20が回収治具30の上下方向の距離を調整してもよい。
基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間の圧力が所定の圧力により、回収治具保持機器20が回収治具30の上下方向の距離を調整してもよい。
所定の圧力は、開口Wと基板1の表面、裏面との隙間が所定の値になる様に予め設定される値である。
基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力に応じて基板1と回収治具30との基板1の中心軸に沿った向きの相対距離を調整してもよい。
基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力に応じて基板1と回収治具30との上下方向の相対距離を調整してもよい。
基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力に応じて、回収治具保持機器20が回収治具30の上下方向の距離を調整してもよい。
例えば、基板1の中心軸が垂直である場合に、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力が所定の圧力になる様に、回収治具保持機器20が回収治具30の上下方向の距離を調整する。
所定の圧力は、開口Wと基板1の表面、裏面との隙間が所定の値になる様に予め設定される値である。
第一治具31が基板1の縁部1aに付着した液滴4を保持し、ガスを第一治具31に保持される液滴4が縁部1aに付着する付着領域の輪郭に沿って基板1の面に吹き付ける様にしたので、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、基板1の中心軸に沿う方向に向ける軸芯をもつ筒状部に基板1の縁部1aに付着した液滴4を保持する凹みを設け、第二治具32の壁部が筒状部31aを側面の少なくとも凹みDを設けられる箇所との間に隙間空間Sを設けて覆い、隙間空間Sと雰囲気を連通する開口Wを壁部の凹みDに対面する位置に設け、隙間空間Sへガスを供給する様にしたので、ガスが隙間空間Sに入り、凹みDに保持される液滴4の付着領域の輪郭に沿って基板1の表面に吹き付けられて、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着領域から漏らすことなく保持できる、
また、開口Wが基板1の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板1の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝32bにより形成される様にしたので、開口Wに挿入される基板1の縁部1aと第二溝32bで形成される開口Wとの隙間寸法を安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、第二溝32bが基板1の表面に対面する面と基板1の裏面に対面する面と基板1の縁部1aに対面する一対の面とで形成される様にしたので、開口Wに挿入される基板1の縁部1aと第二溝32bで形成される開口Wとの隙間寸法をより安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、第二溝32bが基板1の表面に平行に対面する面と基板1の裏面に平行に対面する面と基板1の縁部1aに対面する一対の面とで形成される様にしたので、開口Wに挿入される基板1の縁部1aと第二溝32bで形成される開口Wとの隙間寸法をより安定して維持できる。
また、壁部32aが筒状部31aを側面と間に隙間空間Sを設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Sに一端充満してから開口Wと基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、ガスが隙間空間Sへ筒状部31aの一方の端の側から供給される様にしたので、ガスが隙間空間Sに充満してから開口Wと基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部32aが筒状部31aを側面と端面と間に隙間空間Sを設けて覆う様にしたので、側面の全周及び端面と壁部32aとの隙間空間Sに充満してから開口と基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部32aが筒状部31aを側面の全周及び凸の形状をした端面と間に隙間空間Sを設けて覆う様にしたので、側面の全周及び凸の形状をした端面と壁部との隙間空間Sに充満してから開口Wと基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、開口Wを正面から見て基板1の中心軸に交差する方向に延びる第一溝が第二溝から覗ける様にしたので、第二溝32bに倣って開口Wに挿入された基板1の縁が第一溝31bに倣って凹みDに対面し、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、凹みDが液体を貯留可能な内部空間Hに連通する様にしたので、内部空間Hに貯留される液体の一部が液滴4として基板1の縁部1aに付着できる。
また、壁部32aが筒状部31aを側面の全周と間に隙間空間Sを設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Sに一端充満してから開口Wと基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部32aが筒状部31aを端面と間に隙間空間Sを設けて覆う様にしたので、端面と壁部32aとの隙間空間Sに充満してから開口Wと基板1の縁部1aとの隙間から出て、基板1の縁部1aに付着した液滴4を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
回収治具保持機器20が上記にうちの一つに記載の回収治具30を保持し、基板回転機器10が基板1を保持して基板1の中心軸の回りに回転させる様にしたので、液滴4を基板1の縁部1aに付着させて基板1の周囲に沿って移動させることをできる。
また、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間Sの圧力に応じて基板11と回収治具30との相対距離を調整する様にしたので、隙間空間の圧力を基に基板1の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
また、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、隙間空間Sの圧力に応じて基板1と回収治具30との基板1の中心軸に沿った向きの相対距離を調整する様にしたので、隙間空間Sの圧力を基に基板1の面と回収治具30の開口Wと凹みDとのギャップを調整できる。
また、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力に応じて基板1と回収治具30との相対距離を調整する様にしたので、基板1の面の開口Wに近い個所の圧力を基に基板1の面と回収治具の開口Wと凹みDとのギャップを調整できる。、
また、基板1の縁部1aが開口Wに挿入されるときに、基板1の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Wに近い箇所の圧力に応じて基板1と回収治具30との基板1の中心軸に沿った向きの相対距離を調整する様にしたので、基板1の面の開口Wに近い個所の圧力を基に基板1の面と回収治具30の開口Wと凹みDとのギャップを調整できる。、
基板1の中心軸が垂直である場合を例に説明したが、これに限定されない。例えば、基板1の中心軸が水平であってもよい。例えば、基板1の中心軸が傾いていてもよい。
W 開口
D 凹み
K ガス導入孔
1 基板
1a 縁部1a
2 基板検査装置
3 下部構造体
4 液滴
10 基板回転機器
20 回収治具保持機器
21 水平アーム
22 アーム回転軸
23 アーム回転基台
24 回収治具フォルダー
30 回収治具
31 第一治具
31a 筒状部
31b 第一溝
32 第二治具
32a 壁部
32b 第二溝
33 フランジ
34 ガス供給手段
35 圧力測定器
40 液滴回収機器
50 基板芯だし機器
Claims (15)
- 基板を検査するために基板に液滴を付着させて保持する回収治具であって、
ガスを供給するガス供給手段と、
基板の縁部に付着した液滴を保持する第一治具と、
前記ガスを前記第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する第二治具と、
を備える、
ことを特徴とする回収治具。 - 前記第一治具が軸芯を基板の中心軸に沿う方向に向ける筒状部を持ち、前記筒状部が側面に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設けられ、
前記第二治具が前記筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆う壁部を持ち、該壁部は前記凹みに対面する位置に該隙間空間と雰囲気の空間と連通する開口を設けられ、
前記ガスが前記隙間空間へ供給される様になった、
ことを特徴とする請求項1に記載の回収治具。 - 前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される、
ことを特徴とする請求項2に記載の回収治具。 - 使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される、
ことを特徴とする請求項3に記載の回収治具。 - 前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項4に記載の回収治具。 - 前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される、
ことを特徴とする請求項5に記載の回収治具。 - 前記筒状部が他方の端部に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項6に記載の回収治具。 - 前記筒状部が他方の端彌に凸の形状をした端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項7に記載の回収治具。 - 前記凹みが基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝により形成され、
前記開口を正面から見て前記第一溝が前記第二溝から覗ける様になった、
ことを特徴とする請求項2に記載に回収治具。 - 前記第一治具が液体を貯留可能な内部空間をもち、前記凹みが該内部空間に連通する、
ことを特徴とする請求項9に記載の回収治具。 - 前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項2に記載の回収治具。 - 前記筒状部が他方の端部に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項2に記載の回収治具。 - 基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項1乃至12のうちの一つに記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。 - 基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項2に記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備え、
基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する、
ことを特徴とする基板検査装置。 - 基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項2に記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備え、
基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する、
ことを特徴とする基板検査装置。
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- 2013-11-19 JP JP2013239360A patent/JP6285156B2/ja active Active
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