JP2015054502A - Light-transmitting laminate and method for manufacturing light-transmitting laminate - Google Patents

Light-transmitting laminate and method for manufacturing light-transmitting laminate Download PDF

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翔一 池野
Shoichi Ikeno
翔一 池野
正隆 犬塚
Masataka Inuzuka
正隆 犬塚
雅史 廣▲瀬▼
Masashi Hirose
雅史 廣▲瀬▼
山崎 裕一郎
Yuichiro Yamazaki
裕一郎 山崎
健司 竹脇
Kenji Takewaki
健司 竹脇
後藤 修
Osamu Goto
修 後藤
徹司 楢▲崎▼
Tetsuji Narasaki
徹司 楢▲崎▼
竹内 哲也
Tetsuya Takeuchi
哲也 竹内
久美 別所
Hisami Bessho
久美 別所
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Sumitomo Riko Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmitting laminate excellent in workability and a method for manufacturing a light-transmitting laminate.SOLUTION: A light-transmitting laminate 10 includes layers in the following order on a surface of a light-transmitting substrate 12: a thin film layer 14 comprising a plurality of thin films stacked including a metal thin film and a high refractive index thin film having a refractive index higher than that of the light-transmitting substrate 12; a pressure-sensitive adhesive layer 16 and/or an adhesive layer; and a protective layer including a polyolefin layer 18 and a hard coat layer 20. When a square piece comprising only the protective layer is taken out from the light-transmitting laminate 10, a corner of the square piece curls with the hard coat layer 20 inside, giving a radius of curvature of 2.1 mm or more in the curling portion.

Description

本発明は、ビル・住宅等の建築物の窓ガラスや自動車等の車両の窓ガラスなどに好適に用いられる光透過性積層体および光透過性積層体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a light transmissive laminate suitably used for window glass of buildings such as buildings and houses, and window glass of vehicles such as automobiles, and a method for producing the light transmissive laminate.

ビル・住宅等の建築物の窓ガラスや自動車等の車両の窓ガラスなどには日射を遮蔽する目的で遮熱性を有する光透過性積層体が施工されることがある。この種の光透過性積層体としては、基材の面に反射層とオレフィン系樹脂層およびハードコート層で構成される保護層とを有する赤外線反射フィルム(特許文献1)が知られている。   A light-transmitting laminate having a heat shielding property may be applied to a window glass of a building such as a building or a house or a window glass of a vehicle such as an automobile for the purpose of shielding solar radiation. As this type of light-transmitting laminate, an infrared reflective film (Patent Document 1) having a reflective layer, a protective layer composed of an olefinic resin layer and a hard coat layer on the surface of a substrate is known.

特開2013−010341号公報JP 2013-010341 A

しかし、保護層としてオレフィン系樹脂層およびハードコート層を有する構成においては、オレフィン系樹脂層の熱による収縮とハードコート層の硬化による収縮のバランスにより、光透過性積層体の反り返りが大きくなることがある。この光透過性積層体を窓ガラスなどに施工する場合、窓ガラスなどの面から光透過性積層体の面の一部が自発的に浮き上がり、施工が妨げられる。   However, in the configuration having the olefin resin layer and the hard coat layer as the protective layer, the warp of the light-transmitting laminate increases due to the balance between the shrinkage due to heat of the olefin resin layer and the shrinkage due to hardening of the hard coat layer. There is. When this light-transmitting laminate is applied to a window glass or the like, a part of the surface of the light-transmitting laminate rises spontaneously from the surface of the window glass or the like, thereby hindering the installation.

本発明が解決しようとする課題は、施工性に優れる光透過性積層体および光透過性積層体の製造方法を提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a light transmissive laminate having excellent workability and a method for producing the light transmissive laminate.

上記課題を解決するため本発明に係る光透過性積層体は、光透過性基板の面上に、金属薄膜と前記光透過性基板よりも屈折率の高い高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層と、粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層およびハードコート層が含まれる保護層と、をこの順で有する光透過性積層体であって、該光透過性積層体から取り出した前記保護層のみからなる方形片の角部がハードコート層を内側にしてカールするものであり、そのカールした部分の曲率半径が2.1mm以上となることを要旨とするものである。   In order to solve the above problems, a light transmissive laminate according to the present invention includes a plurality of metal thin films and a high refractive index thin film having a higher refractive index than the light transmissive substrate on the surface of the light transmissive substrate. A light transmissive laminate having a thin film layer in which thin films are laminated, a pressure-sensitive adhesive layer and / or an adhesive layer, and a protective layer including a polyolefin layer and a hard coat layer in this order, The corner of the rectangular piece consisting only of the protective layer taken out from the permeable laminate is curled with the hard coat layer inside, and the radius of curvature of the curled portion is 2.1 mm or more. To do.

そして、本発明に係る光透過性積層体は、前記光透過性基板の面上に前記薄膜層と前記粘着剤層および/または接着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と、前記ポリオレフィン層と前記ハードコート層とをこの順で有する第2の積層体のポリオレフィン層と、が貼り合わされて形成されていることが好ましい。   And the light-transmitting laminated body which concerns on this invention is the adhesive of the 1st laminated body which has the said thin film layer and the said adhesive layer and / or adhesive layer in this order on the surface of the said light-transmitting board | substrate. It is preferable that the layer and / or the adhesive layer and the polyolefin layer of the second laminate having the polyolefin layer and the hard coat layer in this order are bonded together.

この場合、下記の式(1)で表される前記第1の積層体の歪みaと下記の式(2)で表される前記第2の積層体の歪みbの比(b/a)が、1.0〜2.6であることが好ましい。
a=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
ただし、
Ta:貼り合わせ時に前記第1の積層体に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に前記第2の積層体に加えた張力(N)
Sa:前記第1の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Sb:前記第2の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Ea:前記第1の積層体の引張弾性率(GPa)
Eb:前記第2の積層体の引張弾性率(GPa)
In this case, the ratio (b / a) of the strain a of the first laminate represented by the following formula (1) and the strain b of the second laminate represented by the following formula (2) is: 1.0 to 2.6 is preferable.
a = (Ta / Sa) / Ea (1)
b = (Tb / Sb) / Eb (2)
However,
Ta: Tension (N) applied to the first laminate at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate at the time of bonding
Sa: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate is applied
Sb: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate is applied
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate

そして、前記ハードコート層は、硬化性樹脂を含む硬化性材料の硬化物からなることが好ましい。   And it is preferable that the said hard-coat layer consists of hardened | cured material of the curable material containing curable resin.

また、前記粘着剤層および/または接着剤層の粘着剤および/または接着剤は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂から選択される少なくとも1種であることが好ましい。   Further, the pressure-sensitive adhesive and / or adhesive of the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer is preferably at least one selected from an acrylic resin, an epoxy resin, and a urethane resin.

一方、本発明に係る光透過性積層体の製造方法は、光透過性基板の面上に、金属薄膜と前記光透過性基板よりも屈折率の高い高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層と、粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層およびハードコート層が含まれる保護層と、をこの順で有する光透過性積層体の製造方法であって、前記光透過性基板の面上に前記薄膜層と前記粘着剤層および/または接着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と、前記ポリオレフィン層と前記ハードコート層とをこの順で有する第2の積層体のポリオレフィン層と、を貼り合わせることを要旨とするものである。   On the other hand, the method for producing a light transmissive laminate according to the present invention includes a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film having a higher refractive index than the light transmissive substrate on the surface of the light transmissive substrate. Is a method for producing a light-transmitting laminate comprising, in this order, a thin film layer in which is laminated, a pressure-sensitive adhesive layer and / or an adhesive layer, and a protective layer including a polyolefin layer and a hard coat layer, The pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate having the thin film layer and the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer in this order on the surface of the light-transmitting substrate, and the polyolefin layer The gist is to bond the polyolefin layer of the second laminate having the hard coat layer in this order.

この場合、貼り合わせ前に前記第2の積層体に張力を加えて前記ハードコート層側に反るように前記第2の積層体を湾曲させるとともに、貼り合わせ前に前記第1の積層体に張力を加えて前記第1の積層体に歪みを加えて、前記第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と前記第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることが好ましい。   In this case, the second laminated body is bent so as to bend toward the hard coat layer side by applying tension to the second laminated body before bonding, and the first laminated body is bonded to the first laminated body before bonding. It is preferable to apply strain to the first laminated body to apply a tension so that the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminated body is bonded to the polyolefin layer of the second laminated body.

また、下記の式(1)で表される前記第1の積層体の歪みaと下記の式(2)で表される前記第2の積層体の歪みbの比(b/a)が1.0〜2.6となるように、前記第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と前記第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることが好ましい。
a=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
ただし、
Ta:貼り合わせ時に前記第1の積層体に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に前記第2の積層体に加えた張力(N)
Sa:前記第1の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Sb:前記第2の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Ea:前記第1の積層体の引張弾性率(GPa)
Eb:前記第2の積層体の引張弾性率(GPa)
Further, the ratio (b / a) between the strain a of the first laminate represented by the following formula (1) and the strain b of the second laminate represented by the following formula (2) is 1. It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer and / or the adhesive layer of the first laminate and the polyolefin layer of the second laminate are bonded to each other so as to be 0.0 to 2.6.
a = (Ta / Sa) / Ea (1)
b = (Tb / Sb) / Eb (2)
However,
Ta: Tension (N) applied to the first laminate at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate at the time of bonding
Sa: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate is applied
Sb: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate is applied
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate

本発明に係る光透過性積層体によれば、光透過性積層体から取り出した保護層のみからなる方形片の角部がハードコート層を内側にしてカールするものであり、光透過性積層体はハードコート層を内側にして反り返っていることから、光透過性積層体の面の中央部分を窓ガラスなどに接触させることができ、窓ガラスなどの面に施工しやすい。そして、そのカールした部分の曲率半径が2.1mm以上となるため、光透過性積層体の方形の角部の浮き上がりが小さく、施工性に優れる。   According to the light-transmitting laminate according to the present invention, the corners of the rectangular piece made of only the protective layer taken out from the light-transmitting laminate are curled with the hard coat layer inside, and the light-transmitting laminate. Is warped with the hard coat layer on the inside, the central portion of the surface of the light-transmitting laminate can be brought into contact with the window glass or the like, and is easy to construct on the surface of the window glass or the like. And since the curvature radius of the curled part becomes 2.1 mm or more, the lift of the square corner part of the light-transmitting laminate is small, and the workability is excellent.

このとき、光透過性積層体が、光透過性基板の面上に薄膜層と粘着剤層および/または接着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層とハードコート層とをこの順で有する第2の積層体のポリオレフィン層と、を貼り合わせて形成されると、上記構成の光透過性積層体を得ることができる。   At this time, the light-transmitting laminate has the thin-film layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and / or the adhesive layer on the surface of the light-transmitting substrate in this order, and the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive of the first laminate. When the layer, the polyolefin layer of the second laminate having the polyolefin layer and the hard coat layer in this order are bonded together, a light transmissive laminate having the above-described configuration can be obtained.

この際、第1の積層体の歪みaと第2の積層体の歪みbの比(b/a)が特定範囲内であると、特に、上記構成の光透過性積層体を得やすい。   At this time, when the ratio (b / a) between the strain a of the first laminate and the strain b of the second laminate is within a specific range, it is particularly easy to obtain the light transmissive laminate having the above configuration.

そして、ハードコート層が硬化性樹脂を含む硬化性材料の硬化物からなると、耐擦傷性に優れる。   And when a hard-coat layer consists of hardened | cured material of the curable material containing curable resin, it is excellent in abrasion resistance.

また、粘着剤層および/または接着剤層の粘着剤および/または接着剤がアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂から選択される少なくとも1種であると、ポリオレフィン層と薄膜層を接着させ、ポリオレフィン層の自発的な剥離を抑制することができる。   When the pressure-sensitive adhesive and / or adhesive of the pressure-sensitive adhesive layer and / or the adhesive layer is at least one selected from acrylic resin, epoxy resin, and urethane resin, the polyolefin layer and the thin film layer are bonded to each other, and the polyolefin layer Spontaneous peeling can be suppressed.

そして、本発明に係る光透過性積層体の製造方法によれば、第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることから、光透過性積層体の方形の角部の浮き上がりの小さい、施工性に優れる光透過性積層体を得ることができる。   According to the method for manufacturing a light-transmitting laminate according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate and the polyolefin layer of the second laminate are bonded together. It is possible to obtain a light-transmitting laminate that is excellent in workability and has small lift at the square corners of the transparent laminate.

このとき、貼り合わせ前に第2の積層体に張力を加えてハードコート層側に反るように第2の積層体を湾曲させるとともに、貼り合わせ前に第1の積層体に張力を加えて第1の積層体に歪みを加えて、第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることで、光透過性積層体の方形の角部の浮き上がりの小さい、施工性に優れる光透過性積層体を得やすい。   At this time, a tension is applied to the second laminate before bonding so that the second laminate is bent so as to warp the hard coat layer side, and a tension is applied to the first laminate before bonding. By applying strain to the first laminate and bonding the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate to the polyolefin layer of the second laminate, the rectangular shape of the light-transmitting laminate is obtained. It is easy to obtain a light-transmitting laminate with excellent cornering and small workability.

また、第1の積層体の歪みaと第2の積層体の歪みbの比(b/a)が特定範囲内となるように第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることで、特に、光透過性積層体の方形の角部の浮き上がりの小さい、施工性に優れる光透過性積層体を得やすい。   Further, the pressure-sensitive adhesive layer and / or the adhesive layer of the first laminate so that the ratio (b / a) of the strain a of the first laminate and the strain b of the second laminate is within a specific range. By sticking together the polyolefin layer of the second laminate, it is easy to obtain a light-transmitting laminate excellent in workability, in particular, with small lift at the square corners of the light-transmitting laminate.

本発明の一実施形態に係る光透過性積層体の断面図である。It is sectional drawing of the light-transmitting laminated body which concerns on one Embodiment of this invention. 光透過性積層体から保護層を剥離する操作を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows operation which peels a protective layer from a light-transmitting laminated body. 光透過性積層体から剥離した保護層の断面図であり、1周よりも小さい範囲で角部がカールしている状態(a)と、1周程度角部がカールしている状態(b)を示した図である。It is sectional drawing of the protective layer peeled from the light-transmitting laminated body, The state (a) in which the corner | angular part is curled in the range smaller than one round, and the state (b) in which the corner | angular part is curled about one round FIG. 第1の積層体と第2の積層体を貼り合わせる工程の模式図である。It is a schematic diagram of the process of bonding a 1st laminated body and a 2nd laminated body. 第1の積層体と第2の積層体を貼り合わせる工程の断面図である。It is sectional drawing of the process of bonding a 1st laminated body and a 2nd laminated body. 第2の積層体の断面図(a)と、所定の張力を加えた後の第2の積層体の断面図(b)である。It is sectional drawing (a) of a 2nd laminated body, and sectional drawing (b) of the 2nd laminated body after applying predetermined tension | tensile_strength. ハードコート層を内側にして反り返っている光透過性積層体の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a light-transmitting laminate that is warped with a hard coat layer inside.

本発明に係る光透過性積層体について詳細に説明する。   The light transmissive laminate according to the present invention will be described in detail.

本発明に係る光透過性積層体は、光透過性基板の面上に、金属薄膜と高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層と、粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層およびハードコート層が含まれる保護層と、をこの順で有している。   The light transmissive laminate according to the present invention includes a thin film layer in which a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film are laminated on a surface of a light transmissive substrate, an adhesive layer, and / or an adhesive. It has an agent layer and a protective layer including a polyolefin layer and a hard coat layer in this order.

図1には、本発明に係る光透過性積層体の一実施形態を示す。図1に示す光透過性積層体10は、光透過性基板12の面上に、金属薄膜と高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層14と、粘着剤層16と、ポリオレフィン層18と、ハードコート層20と、をこの順で有している。   FIG. 1 shows an embodiment of a light transmissive laminate according to the present invention. A light transmissive laminate 10 shown in FIG. 1 includes a thin film layer 14 in which a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film are laminated on a surface of a light transmissive substrate 12, and an adhesive layer 16. And the polyolefin layer 18 and the hard coat layer 20 in this order.

薄膜層14は、光透過性基板12の一方の面上に直接形成されている。薄膜層14とポリオレフィン層18の間には粘着剤層16が設けられており、粘着剤層16は薄膜層14とポリオレフィン層18の両方に接している。つまり、ポリオレフィン層18は、粘着剤層16を介して薄膜層14の面上に設けられている。ポリオレフィン層18の面上には、ハードコート層20が接して設けられている。よって、光透過性積層体10は、光透過性基板12と、光透過性基板12に接する薄膜層14と、薄膜層14に接する粘着剤層16と、粘着剤層16に接するポリオレフィン層18と、ポリオレフィン層18に接するハードコート層20と、をこの順で有している。   The thin film layer 14 is directly formed on one surface of the light transmissive substrate 12. An adhesive layer 16 is provided between the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18, and the adhesive layer 16 is in contact with both the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18. That is, the polyolefin layer 18 is provided on the surface of the thin film layer 14 via the pressure-sensitive adhesive layer 16. A hard coat layer 20 is provided in contact with the surface of the polyolefin layer 18. Therefore, the light transmissive laminate 10 includes a light transmissive substrate 12, a thin film layer 14 in contact with the light transmissive substrate 12, an adhesive layer 16 in contact with the thin film layer 14, and a polyolefin layer 18 in contact with the adhesive layer 16. And a hard coat layer 20 in contact with the polyolefin layer 18 in this order.

光透過性積層体10において、薄膜層14は光透過性基板12の一方の面上にのみ形成されており、薄膜層14が形成されている面とは反対の面である他方の面上には、必要に応じて、光透過性積層体10を窓ガラスなどの被着体に貼着するための粘着剤層と、この粘着剤層の表面を覆うセパレータとをこの順で設けることができる。   In the light transmissive laminate 10, the thin film layer 14 is formed only on one surface of the light transmissive substrate 12, and on the other surface that is opposite to the surface on which the thin film layer 14 is formed. If necessary, an adhesive layer for adhering the light transmissive laminate 10 to an adherend such as a window glass and a separator covering the surface of the adhesive layer can be provided in this order. .

光透過性基板12は、薄膜層14を形成するためのベースとなる基材である。光透過性基板12の材料としては、光透過性を有し、その表面に薄膜を支障なく形成でき、柔軟性を有するものであれば、特に限定されるものではない。例えば、光透過性高分子フィルムやフレキシブルガラスなどが挙げられる。光透過性とは、波長領域360〜830nmにおける透過率の値が50%以上であることをいう。   The light transmissive substrate 12 is a base material serving as a base for forming the thin film layer 14. The material of the light-transmitting substrate 12 is not particularly limited as long as it is light-transmitting, can form a thin film on its surface without hindrance, and has flexibility. For example, a light transmissive polymer film, flexible glass, etc. are mentioned. Light transmittance means that the transmittance value in the wavelength region of 360 to 830 nm is 50% or more.

光透過性高分子フィルムの材料としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのうちでは、透明性、耐久性、加工性に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーがより好ましい材料として挙げられる。   Specific examples of the material for the light transmissive polymer film include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polyamide, polybutylene terephthalate, and polyetheretherketone. , Polymer materials such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, triacetyl cellulose, polyurethane, and cycloolefin polymer. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymer are more preferable materials from the viewpoint of excellent transparency, durability, and workability.

光透過性高分子フィルムの厚みは、用途、光学特性、材料種、耐久性などを考慮して適宜調整すればよい。例えば加工時にしわが入りにくい、破断しにくいなどの観点から、25μm以上が好ましい。より好ましくは50μm以上である。また、柔軟性、取り扱い性、経済性などの観点から、500μm以下が好ましい。より好ましくは250μm以下である。フレキシブルガラスの厚みは、用途、光学特性、耐久性などを考慮して適宜調整すればよい。   The thickness of the light transmissive polymer film may be appropriately adjusted in consideration of the application, optical characteristics, material type, durability, and the like. For example, it is preferably 25 μm or more from the viewpoint of being difficult to wrinkle during processing and difficult to break. More preferably, it is 50 μm or more. Moreover, 500 micrometers or less are preferable from viewpoints, such as a softness | flexibility, a handleability, and economical efficiency. More preferably, it is 250 μm or less. The thickness of the flexible glass may be appropriately adjusted in consideration of applications, optical characteristics, durability, and the like.

薄膜層14は、金属薄膜と高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなるものである。薄膜層14に含まれる金属薄膜および高屈折率薄膜の数やその位置は特に限定されるものではない。より好ましい薄膜層14の構成としては、金属薄膜と高屈折率薄膜とが交互に配置される構成、高屈折率薄膜が薄膜層14の両側にそれぞれ配置される構成、これらの組み合わせなどが挙げられる。   The thin film layer 14 is formed by laminating a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film. The number of metal thin films and high refractive index thin films included in the thin film layer 14 and their positions are not particularly limited. More preferable configuration of the thin film layer 14 includes a configuration in which metal thin films and high refractive index thin films are alternately arranged, a configuration in which high refractive index thin films are respectively disposed on both sides of the thin film layer 14, and combinations thereof. .

薄膜層14の層数は、光透過性、日射遮蔽性などの光学特性の要求などに応じて適宜設定すればよい。薄膜層14の層数としては、各薄膜の材料や膜厚、製造コストなどを考慮すると、2〜10層の範囲内であることが好ましい。また、光学特性を考慮すると、奇数層がより好ましく、特に3層、5層、7層、9層が好ましい。また、コストの面から3層がより好ましい。   The number of layers of the thin film layer 14 may be set as appropriate in accordance with requirements for optical properties such as light transmittance and solar shading. The number of thin film layers 14 is preferably in the range of 2 to 10 layers in consideration of the material, film thickness, manufacturing cost, etc. of each thin film. In consideration of optical characteristics, odd-numbered layers are more preferable, and 3-layer, 5-layer, 7-layer, and 9-layer are particularly preferable. Moreover, 3 layers are more preferable from the surface of cost.

薄膜層14の特に好ましい構成を具体的に示すと、光透過性基板12側から順に、高屈折率薄膜/金属薄膜(2層)、金属薄膜/高屈折率薄膜(2層)、高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜(3層)、金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜(3層)、高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜(5層)、金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜(5層)、高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜(7層)、金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜/高屈折率薄膜/金属薄膜(7層)などが挙げられる。   Specifically, a particularly preferable configuration of the thin film layer 14 is shown in order from the light-transmitting substrate 12 side: high refractive index thin film / metal thin film (2 layers), metal thin film / high refractive index thin film (2 layers), high refractive index. Thin film / metal thin film / high refractive index thin film (3 layers), metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film (3 layers), high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film ( 5 layers), metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film (5 layers), high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / High refractive index thin film (7 layers), metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film / high refractive index thin film / metal thin film (7 layers), etc.

金属薄膜は、遠赤外線を反射しやすい金属から構成され、日射遮蔽層として機能することができる。高屈折率薄膜は、金属薄膜とともに積層されることで光透過性を高めるなどの機能を発揮することができる。高屈折率薄膜は、光透過性基板よりも高い屈折率を持つ。屈折率は、633nmの光に対する屈折率をいう。高屈折率薄膜としては、金属酸化物薄膜や有機薄膜などが挙げられる。   A metal thin film is comprised from the metal which is easy to reflect a far infrared ray, and can function as a solar radiation shielding layer. The high refractive index thin film can exhibit functions such as enhancing light transmittance by being laminated together with the metal thin film. The high refractive index thin film has a higher refractive index than the light transmissive substrate. The refractive index refers to the refractive index for light of 633 nm. Examples of the high refractive index thin film include a metal oxide thin film and an organic thin film.

高屈折率薄膜を2層以上有する場合、高屈折率薄膜は、金属酸化物薄膜のみで構成されていてもよいし、有機薄膜のみで構成されていてもよいし、金属酸化物薄膜と有機薄膜の両方が含まれる構成であってもよい。また、高屈折率薄膜を2層以上有する場合、すべての高屈折率薄膜が同一の材料からなるものであってもよいし、一部の高屈折率薄膜が他とは異なる材料からなるものであってもよいし、すべての高屈折率薄膜が互いに異なる材料からなるものであってもよい。   In the case of having two or more high refractive index thin films, the high refractive index thin film may be composed only of a metal oxide thin film, or may be composed only of an organic thin film, or a metal oxide thin film and an organic thin film. Both of them may be included. When two or more high refractive index thin films are provided, all the high refractive index thin films may be made of the same material, or some of the high refractive index thin films are made of a material different from the others. Alternatively, all high refractive index thin films may be made of different materials.

高屈折率薄膜が金属酸化物薄膜の場合、薄膜層14にはバリア薄膜がさらに含まれていてもよい。バリア薄膜は、金属薄膜の一方面または両面に形成される。バリア薄膜は金属薄膜に付随する薄膜であり、金属薄膜とともに1層として数える。バリア薄膜は、金属薄膜を構成する元素が金属酸化物薄膜中に拡散するのを抑制することができる。   When the high refractive index thin film is a metal oxide thin film, the thin film layer 14 may further include a barrier thin film. The barrier thin film is formed on one side or both sides of the metal thin film. The barrier thin film is a thin film accompanying the metal thin film, and is counted as one layer together with the metal thin film. The barrier thin film can suppress diffusion of elements constituting the metal thin film into the metal oxide thin film.

ポリオレフィン層18は、ポリオレフィンが含まれる材料で構成される。ポリオレフィン層18は、薄膜層14の面を覆っており、薄膜層14の面から金属薄膜に塩水が浸入するのを抑えることができる。薄膜層14の面からの塩水腐食を抑える効果に優れるなどの理由で、ポリオレフィン層18はポリオレフィンフィルムから形成されることが好ましい。また、ポリオレフィンは比較的柔軟な材料であることから、ポリオレフィン層18は、柔軟性に優れ、光透過性積層体10を窓ガラスなどの被着体に施工するときのスキージ応力を緩和することができる。ポリオレフィン層18の材料としては、ポリオレフィンであれば特に限定されるものではない。ポリオレフィン層18の材料としては、ポリプロピレン、ポリシクロオレフィンなどが挙げられる。ポリオレフィン層18の材料としては、光透過性に優れるなどの観点から、ポリプロピレンが好ましい。特に、二軸延伸ポリプロピレン(OPP)が好ましい。   The polyolefin layer 18 is made of a material containing polyolefin. The polyolefin layer 18 covers the surface of the thin film layer 14 and can prevent salt water from entering the metal thin film from the surface of the thin film layer 14. The polyolefin layer 18 is preferably formed from a polyolefin film for reasons such as excellent effects of suppressing salt water corrosion from the surface of the thin film layer 14. In addition, since polyolefin is a relatively flexible material, the polyolefin layer 18 has excellent flexibility and can relieve squeegee stress when the light-transmitting laminate 10 is applied to an adherend such as a window glass. it can. The material of the polyolefin layer 18 is not particularly limited as long as it is a polyolefin. Examples of the material of the polyolefin layer 18 include polypropylene and polycycloolefin. The material of the polyolefin layer 18 is preferably polypropylene from the viewpoint of excellent light transmittance. In particular, biaxially oriented polypropylene (OPP) is preferred.

ポリオレフィン層18の厚みとしては、断熱性に優れる(熱貫流率を低く抑える)などの観点から、30μm以下であることが好ましい。より好ましくは24μm以下である。また、施工時のスキージ応力を緩和する効果に優れるなどの観点から、10μm以上であることが好ましい。より好ましくは13μm以上である。   The thickness of the polyolefin layer 18 is preferably 30 μm or less from the viewpoint of excellent heat insulating properties (suppressing the heat flow rate low). More preferably, it is 24 μm or less. Moreover, it is preferable that it is 10 micrometers or more from a viewpoint of being excellent in the effect which relieve | moderates the squeegee stress at the time of construction. More preferably, it is 13 μm or more.

粘着剤層16は、ポリオレフィン層18を薄膜層14の面上に接着することができる。薄膜層14とポリオレフィン層18の間に粘着剤層16を有していることで、薄膜層14とポリオレフィン層18の層間密着性を良好にできる。粘着剤は、表面の粘着性を利用して圧力をかけて接着するものであり、感圧接着剤として、固化により剥離抵抗力を発揮する接着剤とは区別される。粘着剤としては、アクリル樹脂系粘着剤、シリコーン樹脂系粘着剤、ウレタン系粘着剤などが挙げられる。   The pressure-sensitive adhesive layer 16 can bond the polyolefin layer 18 on the surface of the thin film layer 14. By having the pressure-sensitive adhesive layer 16 between the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18, interlayer adhesion between the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18 can be improved. The pressure-sensitive adhesive is applied by applying pressure using the adhesiveness of the surface, and is distinguished from an adhesive that exhibits a peeling resistance force by solidification as a pressure-sensitive adhesive. Examples of the pressure-sensitive adhesive include acrylic resin-based pressure-sensitive adhesives, silicone resin-based pressure-sensitive adhesives, and urethane-based pressure-sensitive adhesives.

なお、ここでは、より好ましい構成として、粘着剤層16と示しているが、粘着剤層16に代えて接着剤層としてもよい。また、粘着剤層16に加えて接着剤層を粘着剤層16よりも薄膜層14側あるいはポリオレフィン層18のいずれかに配置してもよい。   In addition, although it has shown as the adhesive layer 16 as a more preferable structure here, it may replace with the adhesive layer 16 and may be an adhesive layer. Further, in addition to the pressure-sensitive adhesive layer 16, an adhesive layer may be disposed on either the thin film layer 14 side or the polyolefin layer 18 with respect to the pressure-sensitive adhesive layer 16.

粘着剤層や接着剤層は、ヤング率の低いものからなることが好ましい。具体的には、ヤング率が1200MPa以下のものからなることが好ましい。ヤング率の低い粘着剤層や接着剤層により、薄膜層14がポリオレフィン層18の収縮応力の影響を受けにくくなり、薄膜層14の複数の薄膜間で剥離が抑えられる。これにより、薄膜層14の端部(周縁)から塩水腐食が進行するのを抑えることができる。また、ヤング率の低い粘着剤層や接着剤層は、これ自体の収縮が小さいため、自身の収縮による薄膜層14の複数の薄膜間での剥離も抑えられる。   The pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer are preferably made of a material having a low Young's modulus. Specifically, the Young's modulus is preferably 1200 MPa or less. The adhesive layer or adhesive layer having a low Young's modulus makes the thin film layer 14 less susceptible to the shrinkage stress of the polyolefin layer 18, and peeling between the thin films of the thin film layer 14 is suppressed. Thereby, it can suppress that saltwater corrosion advances from the edge part (periphery) of the thin film layer 14. FIG. In addition, since the pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer having a low Young's modulus has a small shrinkage, the peeling of the thin film layer 14 between the plurality of thin films due to the shrinkage can be suppressed.

粘着剤層や接着剤層のヤング率は、応力緩和などによる薄膜層14の端部(周縁)からの塩水腐食を抑える観点から、900MPa以下、300MPa以下などが好ましい。一方、遮熱目的で用いられる光透過性積層体10は日射により高温にさらされることから、この場合には高温クリープ特性も重要である。高温クリープ特性に優れるなどの観点から、粘着剤層や接着剤層のヤング率は、28.5MPa以上であることが好ましい。より好ましくは67.3MPa以上である。なお、高温クリープ特性を測る温度は、日射による高温にさらされることを想定し、40℃程度である。粘着剤層や接着剤層のヤング率は、例えば、主剤および硬化剤の種類、配合比率、添加剤の配合などにより調整することが可能である。なお、添加剤としては、可塑剤などが挙げられる。   The Young's modulus of the pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer is preferably 900 MPa or less and 300 MPa or less from the viewpoint of suppressing salt water corrosion from the end (periphery) of the thin film layer 14 due to stress relaxation or the like. On the other hand, since the light-transmitting laminate 10 used for heat shielding is exposed to high temperatures by solar radiation, high-temperature creep characteristics are also important in this case. From the viewpoint of excellent high-temperature creep characteristics, the Young's modulus of the pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer is preferably 28.5 MPa or more. More preferably, it is 67.3 MPa or more. The temperature at which the high temperature creep characteristic is measured is about 40 ° C., assuming that it is exposed to high temperatures due to solar radiation. The Young's modulus of the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer can be adjusted by, for example, the types of the main agent and the curing agent, the blending ratio, the blending of additives, and the like. Examples of the additive include a plasticizer.

粘着剤層や接着剤層の厚みとしては、断熱性に優れる(熱貫流率を低く抑える)などの観点から、22.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは5.0μm以下、さらに好ましくは3.0μm以下である。また、ポリオレフィン層18との密着性に優れるなどの観点から、0.3μm以上であることが好ましい。より好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1.0μm以上である。また、高温クリープ特性に優れるなどの観点から、0.3μm以上であることが好ましい。より好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1.0μm以上である。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer is preferably 22.0 μm or less from the viewpoint of excellent heat insulation (suppressing the heat transmissivity low). More preferably, it is 5.0 micrometers or less, More preferably, it is 3.0 micrometers or less. Moreover, it is preferable that it is 0.3 micrometer or more from a viewpoint of being excellent in adhesiveness with the polyolefin layer 18, etc. More preferably, it is 0.5 micrometer or more, More preferably, it is 1.0 micrometer or more. Moreover, it is preferable that it is 0.3 micrometer or more from a viewpoint of being excellent in a high temperature creep characteristic. More preferably, it is 0.5 micrometer or more, More preferably, it is 1.0 micrometer or more.

ハードコート層20は、薄膜層14やポリオレフィン層18の面上を覆っており、これらの表面に傷が付くのを抑えることができる。この観点から、ハードコート層20は、硬化性樹脂を含む硬化性材料の硬化物からなることが好ましい。硬化性樹脂としては、シリコーン樹脂やアクリル樹脂などが挙げられる。シリコーン樹脂やアクリル樹脂は、熱硬化性であっても良いし、光硬化性であっても良いし、水硬化性であっても良い。アクリル樹脂としては、アクリル・ウレタン樹脂、シリコーンアクリル樹脂、アクリル・メラミン樹脂などが挙げられる。   The hard coat layer 20 covers the surfaces of the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18 and can suppress the surface from being scratched. From this viewpoint, the hard coat layer 20 is preferably made of a cured product of a curable material containing a curable resin. Examples of the curable resin include a silicone resin and an acrylic resin. The silicone resin and acrylic resin may be thermosetting, photocurable, or water curable. Examples of the acrylic resin include acrylic / urethane resin, silicone acrylic resin, acrylic / melamine resin, and the like.

硬化樹脂層20の厚みは、断熱性に優れる(熱貫流率を低く抑える)などの観点から、2.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは1.6μm以下である。また、耐擦傷性に優れるなどの観点から、0.4μm以上であることが好ましい。より好ましくは0.6μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上である。   The thickness of the cured resin layer 20 is preferably 2.0 μm or less from the viewpoint of excellent heat insulation properties (suppressing the heat transmissivity low). More preferably, it is 1.6 μm or less. Moreover, it is preferable that it is 0.4 micrometer or more from a viewpoint of being excellent in abrasion resistance. More preferably, it is 0.6 micrometer or more, More preferably, it is 0.8 micrometer or more.

ポリオレフィン層18の粘着剤層16に接する面やハードコート層20に接する面には、必要に応じて、層間密着性を向上させるなどの目的で、表面処理が施されていてもよい。このような表面処理としては、コロナ処理などが挙げられる。また、ポリオレフィン層18の粘着剤層16に接する面やハードコート層20に接する面には、層間密着性を向上させるなどの目的で、易接着層が設けられていてもよい。易接着層としては、極性基を有する変性ポリオレフィン層、アクリル樹脂層などが挙げられる。極性基としては、N、O、Sなどのヘテロ原子を有するものなどが挙げられる。変性ポリオレフィンとしては、極性基を有するポリプロピレンコポリマー、極性基を有するポリエチレン、極性基を有するポリイソプレン、極性基を有するポリイソブチレンなどが挙げられる。   The surface of the polyolefin layer 18 that is in contact with the pressure-sensitive adhesive layer 16 or the surface that is in contact with the hard coat layer 20 may be subjected to surface treatment for the purpose of improving interlayer adhesion, if necessary. Examples of such surface treatment include corona treatment. In addition, an easy adhesion layer may be provided on the surface of the polyolefin layer 18 in contact with the pressure-sensitive adhesive layer 16 or the surface in contact with the hard coat layer 20 for the purpose of improving interlayer adhesion. Examples of the easy adhesion layer include a modified polyolefin layer having a polar group and an acrylic resin layer. Examples of the polar group include those having a heteroatom such as N, O, and S. Examples of the modified polyolefin include a polypropylene copolymer having a polar group, polyethylene having a polar group, polyisoprene having a polar group, polyisobutylene having a polar group, and the like.

このような層構成の本発明に係る光透過性積層体10において、図2に示すように、保護層だけを剥離してこれを取り出すと、保護層のみからなる方形片が得られる。取り出した保護層のみからなる方形片の角部は、図3に示すように、ハードコート層20を内側にしてカールする。図3(a)は、1周よりも小さい範囲で角部がカールしている状態を示したものであり、図3(b)は、1周程度、角部がカールしている状態を示したものである。これにより、光透過性積層体10はハードコート層20を内側にして反り返ることとなる。すると、光透過性積層体10の面の中央部分を窓ガラスなどに接触させることができ、窓ガラスなどの面に施工しやすい。このとき、光透過性積層体10では、そのカールした部分の曲率半径が2.1mm以上となっている。このため、光透過性積層体10の方形の角部の浮き上がりは小さく、施工性に優れる。なお、図3(b)のカール状態における曲率半径は、巻き径から求めることができる。   In the light-transmitting laminate 10 according to the present invention having such a layer structure, as shown in FIG. 2, when the protective layer alone is peeled and taken out, a square piece composed of only the protective layer is obtained. As shown in FIG. 3, the corners of the rectangular piece made of only the protective layer taken out are curled with the hard coat layer 20 inside. FIG. 3A shows a state where the corner is curled in a range smaller than one round, and FIG. 3B shows a state where the corner is curled about one round. It is a thing. Thereby, the light-transmitting laminate 10 is warped with the hard coat layer 20 inside. Then, the center part of the surface of the light transmissive laminated body 10 can be contacted with a window glass etc., and it is easy to construct it on surfaces, such as a window glass. At this time, in the light transmissive laminate 10, the radius of curvature of the curled portion is 2.1 mm or more. For this reason, the square corner of the light transmissive laminate 10 has a small lift and is excellent in workability. Note that the radius of curvature in the curled state of FIG. 3B can be obtained from the winding diameter.

上記カールした部分の曲率半径は、より施工性に優れるなどの観点から、より好ましくは2.3mm以上、さらに好ましくは2.5mm以上であるとよい。   The curvature radius of the curled portion is preferably 2.3 mm or more, and more preferably 2.5 mm or more, from the viewpoint of more excellent workability.

上記カールした部分の曲率半径は、ポリオレフィン層18の熱収縮とハードコート層20の硬化収縮のバランス、保護層に加える張力の大きさ、例えば貼り合わせにより光透過性積層体10を形成する場合において保護層と貼り合わせる相手側に加える張力の大きさ、保護層に加える張力と相手側に加える張力のバランスなどにより、調整することができる。ポリオレフィン層18の熱収縮とハードコート層20の硬化収縮のバランスは、ポリオレフィン層18やハードコート層20の材種、ハードコート層20を形成する硬化性材料の硬化条件(例えばUV光量など)や乾燥条件などにより、調整することができる。   The radius of curvature of the curled portion is the balance between the heat shrinkage of the polyolefin layer 18 and the cure shrinkage of the hard coat layer 20, the magnitude of the tension applied to the protective layer, for example, when the light transmissive laminate 10 is formed by bonding. It can be adjusted by the magnitude of the tension applied to the other side to be bonded to the protective layer, the balance between the tension applied to the protective layer and the tension applied to the other side, or the like. The balance between the heat shrinkage of the polyolefin layer 18 and the cure shrinkage of the hard coat layer 20 includes the type of the polyolefin layer 18 and the hard coat layer 20, the curing conditions of the curable material forming the hard coat layer 20 (for example, the UV light amount, etc.) It can be adjusted depending on the drying conditions.

光透過性積層体10は、例えば、光透過性基板12上に所定の積層構造となるように各薄膜を所定の薄膜形成手法によって順次積み上げて薄膜層14を形成し、薄膜層14の表面に粘着剤を塗工して粘着剤層16を形成し、粘着剤層16の表面にポリオレフィンフィルムを配置して圧力を加えてポリオレフィン層18を形成し、ポリオレフィン層18の面上に硬化性樹脂を塗工して硬化処理することによりハードコート層20を形成する、といったように、順に各層を積層する方法により製造することもできるが、次のように、第1の積層体と第2の積層体を貼り合わせる方法により製造することがより好ましい。   For example, the light transmissive laminate 10 forms a thin film layer 14 by sequentially stacking thin films on a light transmissive substrate 12 so as to have a predetermined laminated structure by a predetermined thin film formation technique. A pressure-sensitive adhesive is applied to form a pressure-sensitive adhesive layer 16, a polyolefin film is placed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 16, pressure is applied to form a polyolefin layer 18, and a curable resin is placed on the surface of the polyolefin layer 18. It can also be manufactured by a method of laminating each layer in order, such as forming the hard coat layer 20 by coating and curing, but the first laminate and the second laminate are as follows. It is more preferable to manufacture by a method of bonding the bodies.

図4には、第1の積層体と第2の積層体を貼り合わせる工程の模式図を示す。また、図5には、第1の積層体と第2の積層体を貼り合わせる工程の断面図を示す。   In FIG. 4, the schematic diagram of the process of bonding a 1st laminated body and a 2nd laminated body is shown. FIG. 5 is a cross-sectional view of a process of bonding the first stacked body and the second stacked body.

図5に示すように、第1の積層体1は、光透過性基板12の面上に薄膜層14と粘着剤層16とをこの順で有するものからなる。第1の積層体1は、例えば、光透過性基板12上に所定の積層構造となるように各薄膜を所定の薄膜形成手法によって順次積み上げて薄膜層14を形成し、必要に応じて後酸化等の熱処理を行った後、薄膜層14の表面に粘着剤を塗工して粘着剤層16を形成することにより得ることができる。第1の積層体1は、粘着剤層16が表面に現れていればよく、密着性が確保されるのであれば光透過性基板12と薄膜層14との間や薄膜層14と粘着剤層16との間に他の層が存在していてもよい。他の層としては、後述する易接着層や、接着剤層、バリア層などが挙げられる。   As shown in FIG. 5, the 1st laminated body 1 consists of what has the thin film layer 14 and the adhesive layer 16 on the surface of the transparent substrate 12 in this order. For example, the first laminated body 1 is formed by sequentially stacking thin films on a light-transmitting substrate 12 by a predetermined thin film forming method so as to have a predetermined stacked structure, and forming a thin film layer 14 and, if necessary, post-oxidation After the heat treatment such as the above, the pressure-sensitive adhesive layer 16 can be obtained by coating the surface of the thin film layer 14 with a pressure-sensitive adhesive. The first laminate 1 only needs to have the pressure-sensitive adhesive layer 16 appearing on the surface. If adhesion is ensured, the light-transmitting substrate 12 and the thin-film layer 14 or the thin-film layer 14 and the pressure-sensitive adhesive layer are used. There may be other layers between 16 and 16. Examples of other layers include an easy-adhesion layer, an adhesive layer, and a barrier layer described later.

図5に示すように、第2の積層体2は、ポリオレフィン層18とハードコート層20とをこの順で有するものからなる。第2の積層体2は、例えば、ポリオレフィンフィルムの面上に硬化性樹脂を塗工して硬化処理することにより得ることができる。第2の積層体2は、ポリオレフィン層18が表面に現れていればよく、密着性が確保されるのであればポリオレフィン層18とハードコート層20との間に他の層が存在していてもよい。他の層としては、後述する易接着層や、接着剤層、バリア層などが挙げられる。   As shown in FIG. 5, the 2nd laminated body 2 consists of what has the polyolefin layer 18 and the hard-coat layer 20 in this order. The second laminate 2 can be obtained, for example, by applying a curable resin on the surface of the polyolefin film and performing a curing treatment. The second laminate 2 only needs to have the polyolefin layer 18 appearing on the surface, and other layers may be present between the polyolefin layer 18 and the hard coat layer 20 as long as adhesion is secured. Good. Examples of other layers include an easy-adhesion layer, an adhesive layer, and a barrier layer described later.

図4に示すように、第1の積層体1は、各層を形成した後、乾燥炉30を経て得ることができる。貼り合わせ工程においては、第1の積層体1の粘着剤層16と、第2の積層体2のポリオレフィン層18と、が貼り合わされる。この際、圧力を加えて両者を貼り合わせる。なお、粘着剤に代えて接着剤を用いる場合には、薄膜層14の表面に接着剤を塗工し、両者を貼り合わせた後、接着剤を硬化させればよい。   As shown in FIG. 4, the first laminate 1 can be obtained through a drying furnace 30 after forming each layer. In the bonding step, the pressure-sensitive adhesive layer 16 of the first laminate 1 and the polyolefin layer 18 of the second laminate 2 are bonded together. At this time, pressure is applied to bond the two together. When an adhesive is used instead of the adhesive, the adhesive may be cured after applying the adhesive to the surface of the thin film layer 14 and bonding them together.

第2の積層体2は、ポリオレフィン層18の熱収縮が大きいため、初めは図6(a)のようにポリオレフィン層18を内側にして湾曲しているが、貼り合わせ前に第2の積層体2に所定の大きさの張力が加えられると、ポリオレフィン層18が伸びて、図6(b)に示すように、ハードコート層20を内側にして湾曲する。貼り合わせ前に第2の積層体2をこのように湾曲させると、光透過性積層体10から取り出した保護層のみからなる方形片の角部を、図3に示すように、ハードコート層20を内側にしてカールさせやすい。   The second laminate 2 is curved with the polyolefin layer 18 inside as shown in FIG. 6 (a) because the polyolefin layer 18 has a large thermal shrinkage. When a predetermined amount of tension is applied to 2, the polyolefin layer 18 expands and bends with the hard coat layer 20 inside as shown in FIG. 6 (b). When the second laminated body 2 is curved in this manner before bonding, the corners of the rectangular piece made of only the protective layer taken out from the light transmissive laminated body 10 are hard coated layer 20 as shown in FIG. Easy to curl inside.

一方、第1の積層体1は、初めは平らな歪みの少ない構造をしているが、貼り合わせ前に第1の積層体1に所定の大きさの張力が加えられると、柔軟な粘着剤層16が伸びて第1の積層体1に歪みが付加される。   On the other hand, the first laminate 1 initially has a flat structure with little distortion, but if a predetermined amount of tension is applied to the first laminate 1 before bonding, a flexible adhesive is used. The layer 16 extends to add strain to the first laminate 1.

この状態で両者が貼り合わされると、第1の積層体1の歪みが第2の積層体2の反りを緩和して、光透過性積層体10を反りの少ないものにすることができる。反りは少ないものの、得られた光透過性積層体10は、図7に示すように、ハードコート層20を内側にして湾曲する構造となる。得られた光透過性積層体10はハードコート層20を内側にして反り返っていることから、光透過性積層体10の面の中央部分を窓ガラスなどに接触させることができ、窓ガラスなどの面に施工しやすい。そして、反りが少ないため、施工性に優れる。   When both are bonded together in this state, the distortion of the first laminate 1 can alleviate the warp of the second laminate 2, and the light transmissive laminate 10 can be made less warped. Although the warpage is small, the obtained light-transmitting laminate 10 has a structure that curves with the hard coat layer 20 inside as shown in FIG. Since the obtained light transmissive laminate 10 is warped with the hard coat layer 20 inside, the central portion of the surface of the light transmissive laminate 10 can be brought into contact with a window glass or the like. Easy to install on the surface. And since there is little curvature, it is excellent in workability.

また、第1の積層体1に歪みが付加されなくても、両者が貼り合わされると、第1の積層体1の剛性により、第2の積層体2の反りをある程度緩和して、光透過性積層体10の反りをある程度緩和することができる。   Even if the first laminated body 1 is not distorted, if the two are bonded together, the rigidity of the first laminated body 1 reduces the warpage of the second laminated body 2 to some extent and transmits light. Warpage of the conductive laminate 10 can be alleviated to some extent.

貼り合わせ前に第2の積層体2に加える張力としては、ハードコート層20を内側にして湾曲させるなどの観点から、40N以上であることが好ましい。より好ましくは50N以上、さらに好ましくは60N以上である。一方、加える張力が大きすぎると、ポリオレフィン層18が伸びすぎて第2の積層体2の反りが大きくなる、貼り合わせたときにたるみが発生しやすいなどのため、第2の積層体2に加える張力としては、好ましくは95N以下、より好ましくは90N以下、さらに好ましくは80N以下であるとよい。   The tension applied to the second laminate 2 before bonding is preferably 40 N or more from the viewpoint of bending the hard coat layer 20 inside. More preferably, it is 50N or more, More preferably, it is 60N or more. On the other hand, if the tension to be applied is too large, the polyolefin layer 18 is stretched too much and the warp of the second laminate 2 becomes large. The tension is preferably 95 N or less, more preferably 90 N or less, and even more preferably 80 N or less.

貼り合わせ前に第1の積層体1に加える張力としては、第2の積層体2の反りを緩和するだけの歪みを付加するなどの観点から、120N以上であることが好ましい。より好ましくは140N以上、さらに好ましくは160N以上である。一方、加える張力が大きすぎると、粘着剤層16が伸びすぎて第1の積層体1の歪みが大きくなる、貼り合わせたときにたるみが発生しやすいなどのため、第1の積層体1に加える張力としては、好ましくは200N以下、より好ましくは190N以下、さらに好ましくは180N以下であるとよい。   The tension applied to the first laminated body 1 before bonding is preferably 120 N or more from the viewpoint of adding a strain that alleviates the warp of the second laminated body 2. More preferably, it is 140N or more, More preferably, it is 160N or more. On the other hand, if the applied tension is too large, the pressure-sensitive adhesive layer 16 is stretched too much and the distortion of the first laminate 1 becomes large. The tension to be applied is preferably 200 N or less, more preferably 190 N or less, and even more preferably 180 N or less.

第1の積層体1および第2の積層体2に張力を加える場合には、第1の積層体1の歪みaと第2の積層体2の歪みbの比(b/a)は、1.0〜2.6の範囲内であることが好ましい。歪み比(b/a)が1.0以上であると、貼り合わせたときにたるみが生じるのを抑えやすい。また、歪み比(b/a)が2.6以下であると、光透過性積層体10の反りが小さく、光透過性積層体10の施工性に優れる。歪み比(b/a)の下限としては、より好ましくは1.4以上、さらに好ましくは1.7以上である。また、歪み比(b/a)の上限としては、より好ましくは2.3以下である。   When tension is applied to the first laminate 1 and the second laminate 2, the ratio (b / a) of the strain a of the first laminate 1 to the strain b of the second laminate 2 is 1 It is preferable to be within the range of 0.0 to 2.6. When the strain ratio (b / a) is 1.0 or more, it is easy to suppress sagging when bonded. Further, when the strain ratio (b / a) is 2.6 or less, the warp of the light transmissive laminate 10 is small, and the workability of the light transmissive laminate 10 is excellent. The lower limit of the strain ratio (b / a) is more preferably 1.4 or more, and even more preferably 1.7 or more. The upper limit of the strain ratio (b / a) is more preferably 2.3 or less.

第1の積層体1の歪みaおよび第2の積層体2の歪みbは、それぞれ下記の式(1)および下記の式(2)で表される。
a=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
ただし、
Ta:貼り合わせ時に第1の積層体1に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に第2の積層体2に加えた張力(N)
Sa:第1の積層体1の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Sb:第2の積層体2の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Ea:第1の積層体1の引張弾性率(GPa)
Eb:第2の積層体2の引張弾性率(GPa)
The strain a of the first laminated body 1 and the strain b of the second laminated body 2 are represented by the following formula (1) and the following formula (2), respectively.
a = (Ta / Sa) / Ea (1)
b = (Tb / Sb) / Eb (2)
However,
Ta: Tension (N) applied to the first laminate 1 at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate 2 at the time of bonding
Sa: sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate 1 is applied
Sb: sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate 2 is applied
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate 1
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate 2

光透過性積層体10は、ビル・住宅等の建築物の窓ガラスや自動車等の車両の窓ガラスなどに好適に施工される。光透過性積層体10は、室内側に配置され、薄膜層14が形成されている面を室内側に、薄膜層14が形成されていない面を屋外側にして、窓ガラスなどの被着体に貼り付けられる。この際、光透過性積層体10を窓ガラスなどの被着体に貼着するための粘着剤層により光透過性積層体10を被着体に貼り付けることができる。   The light transmissive laminate 10 is preferably applied to a window glass of a building such as a building or a house or a window glass of a vehicle such as an automobile. The light-transmitting laminate 10 is disposed on the indoor side, and the surface on which the thin film layer 14 is formed is on the indoor side, and the surface on which the thin film layer 14 is not formed is on the outdoor side. Is pasted. At this time, the light transmissive laminate 10 can be attached to the adherend by an adhesive layer for attaching the light transmissive laminate 10 to an adherend such as a window glass.

こうして光透過性積層体10は、屋外から差し込む日射を薄膜層14で反射するので、良好な日射遮蔽性を有する。また、薄膜層14によって室内における冷暖房効果が向上するので、優れた断熱性を備える。そして、ハードコート層20によって良好な耐擦傷性が発揮され、ハードコート層20と薄膜層14の間に配置されたポリオレフィン層18よって施工時のスキージ応力が緩和され、粘着剤層16によってポリオレフィン層18の密着性が確保される。また、粘着剤層16により薄膜層14の端部からの塩水腐食が抑えられ、ポリオレフィン層18により薄膜層14の面からの塩水腐食が抑えられるので、塩水腐食による劣化が抑えられる。   In this way, the light transmissive laminate 10 reflects the solar radiation inserted from the outside by the thin film layer 14, and thus has good solar shielding properties. Moreover, since the air-conditioning effect in a room improves with the thin film layer 14, it has the outstanding heat insulation. The hard coat layer 20 exhibits good scratch resistance, the polyolefin layer 18 disposed between the hard coat layer 20 and the thin film layer 14 relieves squeegee stress during construction, and the pressure-sensitive adhesive layer 16 provides a polyolefin layer. 18 adhesion is ensured. Moreover, since the adhesive layer 16 suppresses salt water corrosion from the end of the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18 suppresses salt water corrosion from the surface of the thin film layer 14, deterioration due to salt water corrosion is suppressed.

なお、光透過性積層体10では、薄膜層14は光透過性基板12の一方の面上にのみ設けられているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、薄膜層は光透過性基板12の両面上にそれぞれ設けられていてもよい。この場合、光透過性基板12の他方の面上に設けられた薄膜層の面上に、窓ガラスなどの被着体に貼着する粘着剤層を設けることができる。また、その粘着剤層の面上には、セパレータを設けることができる。   In the light transmissive laminate 10, the thin film layer 14 is provided only on one surface of the light transmissive substrate 12. However, the present invention is not limited to this configuration, and the thin film layer is light transmissive. It may be provided on both surfaces of the conductive substrate 12, respectively. In this case, an adhesive layer that is attached to an adherend such as a window glass can be provided on the surface of the thin film layer provided on the other surface of the light-transmitting substrate 12. Moreover, a separator can be provided on the surface of the adhesive layer.

また、光透過性積層体10では、薄膜層14とポリオレフィン層18の両方に接して粘着剤層16が設けられているが、薄膜層14とポリオレフィン層18の間で密着性が確保されるのであれば、薄膜層14と粘着剤層16の間や粘着剤層16とポリオレフィン層18の間に、粘着剤層以外の層が設けられていてもよい。このような層としては、接着剤よりなる接着剤層やバリア層などが挙げられる。バリア層は、一方の層の成分が他方の層に移行するのを抑えるものである。このようなバリア層としては、金属または金属酸化物などが挙げられる。   Further, in the light transmissive laminate 10, the pressure-sensitive adhesive layer 16 is provided in contact with both the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18, but adhesion is ensured between the thin film layer 14 and the polyolefin layer 18. If there is, a layer other than the pressure-sensitive adhesive layer may be provided between the thin film layer 14 and the pressure-sensitive adhesive layer 16 or between the pressure-sensitive adhesive layer 16 and the polyolefin layer 18. Examples of such a layer include an adhesive layer made of an adhesive and a barrier layer. A barrier layer suppresses that the component of one layer transfers to the other layer. Examples of such a barrier layer include metals and metal oxides.

また、ハードコート層20はポリオレフィン層18に接して設けられているが、密着性が確保されるのであれば、ポリオレフィン層18とハードコート層20の間に層が1層以上設けられていてもよい。このような層としては、上述する易接着層や、接着剤層、バリア層などが挙げられる。   The hard coat layer 20 is provided in contact with the polyolefin layer 18, but one or more layers may be provided between the polyolefin layer 18 and the hard coat layer 20 as long as adhesion is ensured. Good. Examples of such a layer include the above-described easy adhesion layer, an adhesive layer, and a barrier layer.

また、光透過性積層体10では、薄膜層14は光透過性基板12に接して設けられているが、密着性が確保されるのであれば、光透過性基板12と薄膜層14の間に層が1層以上設けられていてもよい。このような層としては、上述する易接着層や、接着剤層、バリア層などが挙げられる。   In the light transmissive laminate 10, the thin film layer 14 is provided in contact with the light transmissive substrate 12. However, if adhesion is ensured, the light transmissive laminate 10 is provided between the light transmissive substrate 12 and the thin film layer 14. One or more layers may be provided. Examples of such a layer include the above-described easy adhesion layer, an adhesive layer, and a barrier layer.

本発明においては、薄膜層に溝部が形成されていてもよい。溝部は、薄膜層に含まれる金属薄膜を分断することで表面抵抗を高めて電波透過性を発現するものとなる。電波透過性を有する光透過性積層体は、室内あるいは車内での携帯電話やテレビジョン、ETC車載器等の使用に際し、電波受信を妨げないものとなる。溝部は、金属薄膜を分断するものであれば、薄膜層の厚さ方向の一部に形成されていてもよいが、表面抵抗値を高くしやすいなどの観点からいうと、薄膜層の厚さ方向の全体にわたって形成されているほうが好ましい。   In the present invention, a groove may be formed in the thin film layer. A groove part raises surface resistance by dividing the metal thin film contained in a thin film layer, and expresses radio wave transmissivity. The light-transmitting laminate having radio wave permeability does not interfere with radio wave reception when using a cellular phone, a television, an ETC on-board device, or the like indoors or in a vehicle. The groove portion may be formed in a part of the thickness direction of the thin film layer as long as it divides the metal thin film, but from the viewpoint of easily increasing the surface resistance value, the thickness of the thin film layer It is preferable to form the entire direction.

薄膜層に形成する溝部の幅は、特に限定されるものではないが、電波透過性の面から0.05μm以上、視認性の面から30μm以下であることが好ましい。溝部の幅は、光学顕微鏡により薄膜層の表面を5枚撮影し、1枚ごとに溝部3箇所(計15箇所)について測定した幅の平均値で表すことができる。また、溝部を有する光透過性積層体の表面抵抗値は、電波透過性の観点から100Ω/□以上、日射遮蔽性、光透過性、外観等の観点から1000Ω/□以下が好ましい。表面抵抗値は渦電流計等を用いて測定することができる。   The width of the groove formed in the thin film layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 μm or more from the radio wave transmitting surface and 30 μm or less from the visibility surface. The width of the groove portion can be represented by an average value of the widths measured for three portions (total of 15 portions) of the surface of the thin film layer taken by an optical microscope. Further, the surface resistance value of the light transmissive laminate having a groove is preferably 100 Ω / □ or more from the viewpoint of radio wave transmission, and 1000 Ω / □ or less from the viewpoint of solar shading, light transmission, appearance, and the like. The surface resistance value can be measured using an eddy current meter or the like.

薄膜層に溝部を形成する方法としては、薄膜層にレーザー加工を施して溝部を形成する方法、光透過性基板に薄膜層が形成されたものに延伸加工を施して薄膜層に亀裂を発生させる方法、薄膜層に応力を加えて薄膜層に亀裂を発生させる方法などが挙げられる。亀裂はランダムに形成されることから、亀裂よりなる溝部は方向性のない溝部となりやすい。このため、表面抵抗の方向性が出にくく、表面抵抗が均一化されやすい。薄膜層に亀裂を発生させる応力を加える方法としては、例えば、薄膜層の高屈折率薄膜をゾル−ゲル法により形成する金属酸化物薄膜で構成する方法などがある。   As a method of forming a groove portion in the thin film layer, a method of forming a groove portion by applying laser processing to the thin film layer, or extending a thin film layer formed on a light-transmitting substrate to generate a crack in the thin film layer. And a method of applying a stress to the thin film layer to generate a crack in the thin film layer. Since the cracks are randomly formed, the groove part formed of the cracks tends to be a non-directional groove part. For this reason, the directivity of the surface resistance is difficult to be obtained, and the surface resistance is easily made uniform. As a method for applying a stress for generating a crack in the thin film layer, for example, there is a method of forming a high refractive index thin film of the thin film layer with a metal oxide thin film formed by a sol-gel method.

この場合、金属酸化物薄膜は、金属酸化物前駆体の有機金属化合物に紫外線、電子線、熱等のエネルギーを与えてこれを加水分解・縮合反応させる(ゾル−ゲル硬化させる)ことにより形成することができる。金属酸化物薄膜の形成時には前駆体薄膜の硬化収縮応力が薄膜に蓄積される。この応力を解放することにより、薄膜層に亀裂を発生させることができる。この応力を解放しやすくするためには、薄膜層と光透過性基板の間に軟化温度の低い高分子材料が含まれる高分子層を設けることが好ましい。高分子層は、高分子フィルムから形成してもよいし、塗膜としてもよい。   In this case, the metal oxide thin film is formed by applying energy such as ultraviolet rays, electron beams, heat and the like to the metal oxide precursor organometallic compound to cause hydrolysis and condensation reaction (sol-gel curing). be able to. When the metal oxide thin film is formed, the curing shrinkage stress of the precursor thin film is accumulated in the thin film. By releasing this stress, a crack can be generated in the thin film layer. In order to easily release the stress, it is preferable to provide a polymer layer containing a polymer material having a low softening temperature between the thin film layer and the light-transmitting substrate. The polymer layer may be formed from a polymer film or a coating film.

高分子層が、金属酸化物薄膜の形成時の温度よりも低い軟化温度を有する場合には、金属酸化物薄膜の形成時に高分子層が軟化することによって薄膜層に蓄積された硬化収縮応力が解放されて薄膜層に亀裂が形成される。また、金属酸化物薄膜の形成時に高分子層が軟化しなくても、その後の加熱処理によって高分子層を軟化させることにより、薄膜層に蓄積された硬化収縮応力が解放されて薄膜層に亀裂が形成される。高分子層の軟化温度は、特に限定されるものではないが、ゾルゲル硬化時の温度によって、あるいは、加熱時の温度によって、柔軟性が増して亀裂を発生させやすいなどの観点から、140℃以下であることが好ましい。より好ましくは120℃以下である。一方、硬化収縮応力をある程度薄膜に蓄積してその後解放し、これにより亀裂を発生しやすくするなどの観点から、高分子層の軟化温度は40℃以上であることが好ましい。より好ましくは50℃以上である。なお、軟化温度は、非晶性高分子の場合はガラス転移温度(Tg)であり、結晶性高分子の場合は融点(Tm)であり、示差走査熱量測定(DSC)により測定することができる。   When the polymer layer has a softening temperature lower than the temperature at the time of forming the metal oxide thin film, the hardening shrinkage stress accumulated in the thin film layer is reduced by the polymer layer softening at the time of forming the metal oxide thin film. It is released and a crack is formed in the thin film layer. Even if the polymer layer does not soften during the formation of the metal oxide thin film, the heat shrinkage accumulated in the thin film layer is released by cracking the thin film layer by softening the polymer layer by subsequent heat treatment. Is formed. The softening temperature of the polymer layer is not particularly limited, but it is 140 ° C. or less from the viewpoint of increasing flexibility and easily generating cracks depending on the temperature at the time of sol-gel curing or the temperature at the time of heating. It is preferable that More preferably, it is 120 degrees C or less. On the other hand, the softening temperature of the polymer layer is preferably 40 ° C. or higher from the viewpoint of accumulating a certain amount of curing shrinkage stress in the thin film and then releasing it, thereby facilitating cracking. More preferably, it is 50 ° C. or higher. The softening temperature is a glass transition temperature (Tg) in the case of an amorphous polymer, and a melting point (Tm) in the case of a crystalline polymer, and can be measured by differential scanning calorimetry (DSC). .

高分子層の高分子材料としては、具体的には、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ブチラール樹脂などが挙げられる。これらのうちでは、光学特性(透明性)に優れる、塗工性に優れるなどの観点から、アクリル樹脂、ブチラール樹脂が好ましい。また、軟化時における弾性率の変化(低下)が大きく溝部を形成しやすいなどの観点から、熱可塑性アクリル樹脂が好ましい。高分子層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、製造上の観点などから0.05μm以上、溝部の端部の沈み込みによる溝部での乱反射を抑えるなどの観点から1.0μm以下が好ましい。   Specific examples of the polymer material for the polymer layer include acrylic resin, phenoxy resin, and butyral resin. Of these, acrylic resins and butyral resins are preferred from the viewpoints of excellent optical properties (transparency) and excellent coating properties. Moreover, a thermoplastic acrylic resin is preferable from the viewpoint of a large change (decrease) in elastic modulus during softening and easy formation of a groove. The thickness of the polymer layer is not particularly limited, but is 0.05 μm or more from the viewpoint of manufacturing, and 1.0 μm or less from the viewpoint of suppressing irregular reflection at the groove due to the sinking of the end of the groove. Is preferred.

以下、薄膜層の金属酸化物薄膜、有機薄膜、金属薄膜、バリア薄膜について詳細に説明する。   Hereinafter, the metal oxide thin film, organic thin film, metal thin film, and barrier thin film of the thin film layer will be described in detail.

薄膜層の金属酸化物薄膜の金属酸化物としては、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などが挙げられる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複合酸化物であっても良い。これらのうちでは、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、チタンの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、亜鉛の酸化物、スズの酸化物などが好ましい。   Metal oxide of thin film layer As metal oxide of thin film, oxide of titanium, oxide of zinc, oxide of indium, oxide of tin, oxide of indium and tin, oxide of magnesium, oxidation of aluminum Products, zirconium oxide, niobium oxide, cerium oxide, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more. These metal oxides may be composite oxides in which two or more metal oxides are combined. Among these, titanium oxide, indium and tin oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like are preferable from the viewpoint of relatively high refractive index with respect to visible light.

金属酸化物薄膜は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に利用することができる。   The metal oxide thin film can be formed by either a vapor phase method or a liquid phase method. The liquid phase method does not need to be evacuated or use a large electric power as compared with the gas phase method. Therefore, it is advantageous in terms of cost, and is excellent in productivity. As the liquid phase method, a sol-gel method can be suitably used from the viewpoint of easily leaving an organic component.

金属酸化物薄膜は、主として上述した金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、光透過性積層体の柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル−ゲル法の出発原料に由来する成分等、金属酸化物薄膜の形成材料に由来する成分などを例示することができる。   The metal oxide thin film is mainly composed of the metal oxide described above, but may contain an organic component in addition to the metal oxide. It is because the softness | flexibility of a light transmissive laminated body can be improved more by containing an organic component. Specific examples of this type of organic component include components derived from a material for forming a metal oxide thin film, such as a component derived from a starting material of a sol-gel method.

上記有機分としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物(その分解物なども含む)や、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物(後述する)等の各種添加剤などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, as the organic component, for example, an organic metal compound (including a decomposition product thereof) such as a metal alkoxide, metal acylate, metal chelate or the like of a metal oxide, or the above organic metal compound Various additives such as an organic compound (described later) that reacts to form an ultraviolet-absorbing chelate can be exemplified. These may be contained alone or in combination of two or more.

金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、3質量%以上、より好ましくは、5質量%以上、さらに好ましくは、7質量%以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやくなる、耐溶剤性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、30質量%以下、より好ましくは、25質量%以下、さらに好ましくは、20質量%以下であると良い。有機分の含有量は、X線光電子分光法(XPS)などを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法(IR)(赤外吸収分析)などを用いて調べることができる。   The lower limit of the content of the organic component contained in the metal oxide thin film is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and still more preferably, from the viewpoint of easily imparting flexibility. It is good that it is 7% by mass or more. On the other hand, the upper limit of the content of the organic component contained in the metal oxide thin film is preferably 30% by mass or less, from the viewpoint of easily ensuring a high refractive index and easily ensuring solvent resistance. More preferably, it is 25 mass% or less, More preferably, it is good in it being 20 mass% or less. The organic content can be examined using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) or the like. Moreover, the kind of said organic content can be investigated using infrared spectroscopy (IR) (infrared absorption analysis) etc.

上記ゾル−ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、金属酸化物薄膜の前駆体薄膜を形成した後、この前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有する金属酸化物薄膜を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。   More specifically, as the sol-gel method, for example, a coating liquid containing a metal organometallic compound that constitutes a metal oxide is coated in a thin film shape, and this is dried as necessary to obtain a metal oxide. Examples include a method of forming a precursor thin film of a thin film and then hydrolyzing and condensing an organometallic compound in the precursor thin film to synthesize an oxide of a metal constituting the organometallic compound. . According to this, a metal oxide thin film containing a metal oxide as a main component and containing an organic component can be formed. Hereinafter, the above method will be described in detail.

上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   The coating liquid can be prepared by dissolving the organometallic compound in a suitable solvent. In this case, specific examples of the organometallic compound include organic compounds of metals such as titanium, zinc, indium, tin, magnesium, aluminum, zirconium, niobium, cerium, silicon, hafnium, and lead. Can do. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。   Specific examples of the organometallic compound include metal alkoxides, metal acylates, and metal chelates of the above metals. A metal chelate is preferable from the viewpoint of stability in air.

上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。   As the organic metal compound, in particular, a metal organic compound that can be a metal oxide having a high refractive index can be preferably used. Examples of such organometallic compounds include organic titanium compounds.

上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのM−O−R結合(Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示す)を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのM−O−CO−R結合(Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示す)を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。   Specific examples of the organic titanium compound include M-O-R bonds such as tetra-n-butoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-i-propoxy titanium, and tetramethoxy titanium (R represents an alkyl group). , M represents a titanium atom) and an acylate of titanium having an M—O—CO—R bond (R represents an alkyl group and M represents a titanium atom) such as isopropoxy titanium stearate. Examples thereof include titanium chelates such as diisopropoxy titanium bisacetylacetonate, dihydroxy bis lactato titanium, diisopropoxy bis triethanolaminato titanium, diisopropoxy bis ethyl acetoacetate titanium, and the like. These may be used alone or in combination. These may be either monomers or multimers.

上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、1〜20質量%、より好ましくは、3〜15質量%、さらに好ましくは、5〜10質量%の範囲内にあると良い。   The content of the organometallic compound in the coating liquid is preferably from 1 to 20% by mass, more preferably from 3 to 20% from the viewpoint of the film thickness uniformity of the coating film and the film thickness that can be applied at one time. It is good if it exists in the range of 15 mass%, More preferably, 5-10 mass%.

また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the solvent for dissolving the organometallic compound include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, heptanol and isopropyl alcohol, organic acid esters such as ethyl acetate, acetonitrile, acetone and methyl ethyl ketone. Examples thereof include ketones such as tetrahydrofuran, cycloethers such as dioxane, acid amides such as formamide and N, N-dimethylformamide, hydrocarbons such as hexane, aromatics such as toluene, and the like. These may be used alone or in combination.

この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分質量に対して、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、5〜100倍量、より好ましくは、7〜30倍量、さらに好ましくは、10〜20倍量の範囲内であると良い。   At this time, the amount of the solvent is preferably 5 to 100 times the amount of the solid content mass of the organometallic compound from the viewpoint of the film thickness uniformity of the coating film and the film thickness that can be applied at one time. More preferably, the amount is 7 to 30 times, and further preferably 10 to 20 times.

上記溶媒量が100倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、5倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。   When the amount of the solvent is more than 100 times, the film thickness that can be formed by a single coating becomes thin, and a tendency to require many coatings to obtain a desired film thickness is observed. On the other hand, when the amount is less than 5 times, the film thickness becomes too thick, and there is a tendency that the hydrolysis / condensation reaction of the organometallic compound does not proceed sufficiently. Therefore, the amount of the solvent is preferably selected in consideration of these.

上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、1度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。   The coating liquid is prepared, for example, by mixing an organometallic compound weighed so as to have a predetermined ratio, an appropriate amount of solvent, and other components added as necessary, with a stirring means such as a stirrer for a predetermined time. It can be prepared by a method such as stirring and mixing. In this case, the components may be mixed at a time or may be mixed in a plurality of times.

また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、1種または2種以上併用しても良い。   In addition, as a coating method of the coating liquid, from the viewpoint of easy uniform coating, a micro gravure method, a gravure method, a reverse roll coating method, a die coating method, a knife coating method, a dip coating method, a spin coating method, a bar coating method, and the like. Various wet coating methods such as a coating method can be exemplified as suitable ones. These may be appropriately selected and used, and one or more may be used in combination.

また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、80℃〜120℃の温度範囲、0.5分〜5分の乾燥時間などを例示することができる。   Further, when the coated coating liquid is dried, it may be dried using a known drying apparatus. In this case, as the drying conditions, specifically, for example, a temperature range of 80 ° C to 120 ° C, Examples of the drying time include 0.5 minutes to 5 minutes.

また、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線、電子線、X線等の光エネルギーの照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、好ましくは、光エネルギーの照射、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を光透過性高分子フィルムに与え難いからである(とりわけ、紫外線照射の場合は、比較的簡易な設備で済む利点がある。)。また、有機分として、有機金属化合物(その分解物なども含む)などを残存させやすい利点もあるからである。   Specific examples of the means for hydrolyzing and condensing the organometallic compound in the precursor thin film include various means such as irradiation with light energy such as ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and heating. can do. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, preferably, irradiation with light energy, particularly ultraviolet irradiation can be suitably used. Compared with other means, it is possible to produce a metal oxide at a low temperature in a short time, and it is difficult to give heat load such as thermal degradation to the light transmissive polymer film (especially in the case of ultraviolet irradiation, This has the advantage of requiring relatively simple equipment.) In addition, there is an advantage that an organic metal compound (including a decomposition product thereof) or the like is easily left as an organic component.

さらには、ゾルゲル硬化時に光エネルギーを用いるゾル−ゲル法を採用した場合には、スパッタ等により形成した金属酸化物薄膜に比べ、粗な金属酸化物薄膜とすることができる。そのため、建築物の窓ガラスなどに光透過性積層体を水貼り施工した場合に、窓ガラスとの間に水が残ったときでも、良好な水抜け性が得られ、水貼り施工性を向上させることができるなどの利点があるからである。   Furthermore, when a sol-gel method using light energy at the time of sol-gel curing is employed, a rough metal oxide thin film can be obtained as compared with a metal oxide thin film formed by sputtering or the like. Therefore, when a light-transmitting laminate is applied with water to a window glass of a building, even when water remains between the window glass, good water drainage is obtained, and the water application workability is improved. This is because there is an advantage such as being able to be made.

この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。   In this case, specific examples of the ultraviolet irradiator to be used include a mercury lamp, a xenon lamp, a deuterium lamp, an excimer lamp, a metal halide lamp, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、照射する光エネルギーの光量は、前駆体薄膜を主に形成している有機金属化合物の種類、前駆体薄膜の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する光エネルギーの光量が過度に小さすぎると、金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する光エネルギーの光量が過度に大きすぎると、光エネルギーの照射の際に生じる熱により光透過性高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。   Further, the amount of light energy to be irradiated can be variously adjusted in consideration of the type of the organometallic compound mainly forming the precursor thin film, the thickness of the precursor thin film, and the like. However, if the amount of light energy to be irradiated is too small, it is difficult to increase the refractive index of the metal oxide thin film. On the other hand, if the amount of light energy to be irradiated is excessively large, the light transmissive polymer film may be deformed by heat generated during the light energy irradiation. Therefore, these should be noted.

照射する光エネルギーが紫外線である場合、その光量は、金属酸化物薄膜の屈折率、光透過性高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長300〜390nmのとき、好ましくは、300〜8000mJ/cm、より好ましくは、500〜5000mJ/cmの範囲内であると良い。 When the light energy to irradiate is ultraviolet rays, the amount of light is preferably from 300 to 8000 mJ at a measurement wavelength of 300 to 390 nm from the viewpoint of the refractive index of the metal oxide thin film, damage to the light transmissive polymer film, and the like. / Cm 2 , more preferably in the range of 500 to 5000 mJ / cm 2 .

なお、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段として、光エネルギーの照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して光吸収性(例えば、紫外線吸収性)のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め光吸収性キレートが形成されたところに光エネルギーの照射がなされるので、比較的低温下において金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り得やすくなるからである。   When light energy irradiation is used as a means for hydrolyzing and condensing the organometallic compound in the precursor thin film, it reacts with the organometallic compound in the coating liquid described above to absorb light (for example, absorbs ultraviolet rays). It is preferable to add an additive such as an organic compound that forms a chelate. When the above additives are added to the coating solution as the starting solution, light energy is irradiated where the light-absorbing chelate has been formed in advance, so that the metal oxide thin film is formed at a relatively low temperature. This is because a high refractive index can be easily achieved.

上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−メトキシ−2−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the additive include additives such as β diketones, alkoxy alcohols, and alkanolamines. More specifically, examples of the β diketones include acetylacetone, benzoylacetone, ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, diethyl malonate, and the like. Examples of the alkoxy alcohols include 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxy-2-propanol, and the like. Examples of the alkanolamines include monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. These may be used alone or in combination.

これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。   Of these, β diketones are particularly preferred, and acetylacetone can be most preferably used.

また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子1モルに対して、好ましくは、0.1〜2倍モル、より好ましくは、0.5〜1.5倍モルの範囲内にあると良い。   The blending ratio of the additive is preferably 0.1 to 1 mol of the metal atom in the organometallic compound from the viewpoint of easiness in increasing the refractive index and stability in the state of the coating film. It is good that it is in the range of 2 times mole, more preferably 0.5 to 1.5 times mole.

金属酸化物薄膜の膜厚は、日射遮蔽性、視認性、反射色などを考慮して調節することができる。金属酸化物薄膜の膜厚の下限値は、反射色の赤色や黄色の着色を抑制しやすくなる、高透明性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、5nm以上、より好ましくは、10nm以上、さらに好ましくは、15nm以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜の膜厚の上限値は、反射色の緑色の着色を抑制しやすくなる、高透明性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、90nm以下、より好ましくは、85nm以下、さらに好ましくは、80nm以下であると良い。   The film thickness of the metal oxide thin film can be adjusted in consideration of solar shading, visibility, reflection color, and the like. The lower limit of the thickness of the metal oxide thin film is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm, from the viewpoints of easily suppressing the red and yellow colors of the reflected color and obtaining high transparency. As described above, more preferably, it is 15 nm or more. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the metal oxide thin film is preferably 90 nm or less, more preferably 85 nm, from the viewpoints of easily suppressing the green color of the reflected color and easily obtaining high transparency. Hereinafter, more preferably, it is 80 nm or less.

有機薄膜は、光透過性を有し、光透過性基板よりも高い屈折率を持つ。屈折率は、633nmの光に対する屈折率をいう。例えば、光透過性基板がポリエチレンテレフタレートフィルムからなる場合には、ポリエチレンテレフタレートフィルムの633nmの光に対する屈折率が1.58であるため、有機薄膜の633nmの光に対する屈折率は少なくとも1.59以上、好ましくは1.60以上である必要がある。より好ましくは1.65以上である。このようなポリマーであれば、特に限定されるものではない。   The organic thin film is light transmissive and has a higher refractive index than the light transmissive substrate. The refractive index refers to the refractive index for light of 633 nm. For example, when the light transmissive substrate is made of a polyethylene terephthalate film, since the refractive index of the polyethylene terephthalate film for light of 633 nm is 1.58, the refractive index of the organic thin film for light of 633 nm is at least 1.59 or more, Preferably it should be 1.60 or more. More preferably, it is 1.65 or more. If it is such a polymer, it will not specifically limit.

有機薄膜が金属薄膜に接して設けられる場合、層間密着性に優れるなどの面で、ポリマーとしては、さらに、N、S、Oから選択される少なくとも一種の元素を含む官能基を有することが好ましい。これらの元素は金属薄膜の金属と結びつきの強い元素であり、これらの元素を含む官能基により、有機薄膜を構成するポリマーは有機薄膜に接する金属薄膜と強く密着し、有機薄膜と金属薄膜の間の層間密着性が良好になる。N、S、Oの中でも特にN、Sが金属の中でもAgと結びつきの強い元素であり、NやSを含む官能基を有するポリマーからなる有機薄膜であれば、有機薄膜とAgを含む金属薄膜の間の層間密着性が特に良好になる。また、N、S、Oの中でも特にN、Sを含むポリマーは屈折率が比較的高い傾向にある点で、好ましい。   When the organic thin film is provided in contact with the metal thin film, the polymer preferably further has a functional group containing at least one element selected from N, S, and O in terms of excellent interlayer adhesion. . These elements are elements that are strongly associated with the metal of the metal thin film. Due to the functional groups containing these elements, the polymer that forms the organic thin film is in close contact with the metal thin film that is in contact with the organic thin film, and between the organic thin film and the metal thin film. The interlayer adhesion is improved. Among N, S, and O, N and S are elements that are strongly associated with Ag, among metals, and an organic thin film made of a polymer having a functional group containing N or S, an organic thin film and a metal thin film containing Ag The interlaminar adhesion is particularly good. Further, among N, S, and O, a polymer containing N and S is preferable in that the refractive index tends to be relatively high.

Nを含む官能基としては、カルバゾール基、イミド基、ニトリル基などが挙げられる。これらのうちでは、有機薄膜と金属薄膜の間の層間密着性により優れるなどの観点から、カルバゾール基、イミド基などがより好ましい。そして、Nを含む官能基を有するポリマーとしては、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリイミドなどが挙げられる。   Examples of the functional group containing N include a carbazole group, an imide group, and a nitrile group. Among these, a carbazole group, an imide group, and the like are more preferable from the viewpoint of excellent interlayer adhesion between the organic thin film and the metal thin film. Examples of the polymer having a functional group containing N include polyvinyl carbazole (PVK) and polyimide.

Sを含む官能基としては、スルホニル基(−SO−)、チオール基、チオエステル基などが挙げられる。これらのうちでは、有機薄膜と金属薄膜の間の層間密着性により優れるなどの観点から、スルホニル基、チオール基などがより好ましい。そして、Sを含む官能基を有するポリマーとしては、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリスルホン、ポリフェニルスルホンなどが挙げられる。 Examples of the functional group containing S include a sulfonyl group (—SO 2 —), a thiol group, and a thioester group. Among these, a sulfonyl group, a thiol group, and the like are more preferable from the viewpoint of excellent interlayer adhesion between the organic thin film and the metal thin film. Examples of the polymer having a functional group containing S include polyethersulfone (PES), polysulfone, and polyphenylsulfone.

Oを含む官能基としては、カルボキシル基、エステル基、ケトン基、ヒドロキシル基などが挙げられる。これらのうちでは、有機薄膜と金属薄膜の間の層間密着性により優れるなどの観点から、カルボキシル基、エステル基などがより好ましい。そして、Oを含む官能基を有するポリマーとしては、エポキシ樹脂などが挙げられる。   Examples of the functional group containing O include a carboxyl group, an ester group, a ketone group, and a hydroxyl group. Among these, a carboxyl group, an ester group, and the like are more preferable from the viewpoint of excellent interlayer adhesion between the organic thin film and the metal thin film. And as a polymer which has a functional group containing O, an epoxy resin etc. are mentioned.

有機薄膜の膜厚は、日射遮蔽性、視認性、反射色などを考慮して調節することができる。有機薄膜の膜厚の下限値は、反射色の赤色や黄色の着色を抑制しやすくなる、高い光透過性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、5nm以上、より好ましくは、10nm以上、さらに好ましくは、15nm以上であると良い。一方、有機薄膜の膜厚の上限値は、反射色の緑色の着色を抑制しやすくなる、高い光透過性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、90nm以下、より好ましくは、85nm以下、さらに好ましくは、80nm以下であると良い。   The thickness of the organic thin film can be adjusted in consideration of solar shading, visibility, reflection color, and the like. The lower limit of the film thickness of the organic thin film is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, from the viewpoints of easily suppressing the red and yellow colors of the reflected color and easily obtaining high light transmittance. More preferably, it is 15 nm or more. On the other hand, the upper limit value of the film thickness of the organic thin film is preferably 90 nm or less, more preferably 85 nm or less, from the viewpoints of easily suppressing the green color of the reflected color and easily obtaining high light transmittance. More preferably, it is 80 nm or less.

有機薄膜は、ポリマーを含む塗工液を調製し、これを光透過性基板の面などに塗工した後、乾燥させて塗工膜とすることにより形成できる。塗工液の調製には、ポリマーを溶解させる溶剤を必要に応じて用いることができる。このような溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族類などが挙げられる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   The organic thin film can be formed by preparing a coating solution containing a polymer, applying the coating solution to the surface of a light-transmitting substrate, etc., and then drying to form a coating film. In preparing the coating solution, a solvent for dissolving the polymer can be used as necessary. Examples of such solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, heptanol and isopropyl alcohol, organic acid esters such as ethyl acetate, ketones such as acetonitrile, acetone and methyl ethyl ketone, and cycloethers such as tetrahydrofuran and dioxane. Acid amides such as formamide and N, N-dimethylformamide, hydrocarbons such as hexane, and aromatics such as toluene and xylene. These may be used alone or in combination.

金属薄膜の金属としては、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属の合金などが挙げられる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   Metals of the metal thin film include metals such as silver, gold, platinum, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin, nickel, cobalt, niobium, tantalum, tungsten, zirconium, lead, palladium, and indium. An alloy etc. are mentioned. These may be contained alone or in combination of two or more.

金属薄膜の金属としては、積層時の可視光透過性、熱線反射性、導電性などに優れるなどの観点から、銀または銀合金が好ましい。より好ましくは、熱、光、水蒸気などの環境に対する耐久性が向上するなどの観点から、銀を主成分とし、銅、ビスマス、金、パラジウム、白金、チタンなどの金属元素を少なくとも1種以上含んだ銀合金であると良い。さらに好ましくは、銅を含む銀合金(Ag−Cu系合金)、ビスマスを含む銀合金(Ag−Bi系合金)、チタンを含む銀合金(Ag−Ti系合金)等であると良い。銀の拡散抑制効果が大きい、コスト的に有利であるなどの利点があるからである。   As the metal of the metal thin film, silver or a silver alloy is preferable from the viewpoint of being excellent in visible light transmittance, heat ray reflectivity, conductivity, and the like at the time of lamination. More preferably, from the viewpoint of improving durability against environment such as heat, light, and water vapor, the main component is silver, and at least one metal element such as copper, bismuth, gold, palladium, platinum, and titanium is included. It should be a silver alloy. More preferably, a silver alloy containing copper (Ag—Cu alloy), a silver alloy containing bismuth (Ag—Bi alloy), a silver alloy containing titanium (Ag—Ti alloy), or the like may be used. This is because there are advantages such as a large silver diffusion suppression effect and cost advantage.

銅を含む銀合金を用いる場合、銀、銅以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   In the case of using a silver alloy containing copper, in addition to silver and copper, for example, other elements and inevitable impurities may be contained as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Bi、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag−Cu系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Bi, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, etc. in Ag-Cu alloys Element which can be precipitated as a single phase in Y; La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ti, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

銅を含む銀合金を用いる場合、銅の含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、1原子%以上、より好ましくは、2原子%以上、さらに好ましくは、3原子%以上であると良い。一方、銅の含有量の上限値は、高透明性を確保しやすくなる、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、20原子%以下、より好ましくは、10原子%以下、さらに好ましくは、5原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing copper, the lower limit of the copper content is preferably 1 atomic% or more, more preferably 2 atomic% or more, and even more preferably 3 atomic% or more, from the viewpoint of obtaining the effect of addition. Good to be. On the other hand, the upper limit of the copper content is preferably 20 atomic% or less, more preferably 10 atomic%, from the viewpoint of manufacturability such as easy to ensure high transparency and easy production of a sputtering target. Hereinafter, it is more preferable that it is 5 atomic% or less.

また、ビスマスを含む銀合金を用いる場合、銀、ビスマス以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   Further, when using a silver alloy containing bismuth, in addition to silver and bismuth, for example, other elements and inevitable impurities may be included as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver. good.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag−Bi系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Cu, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, etc., in Ag-Bi alloys Element which can be precipitated as a single phase in Y; La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ti, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

ビスマスを含む銀合金を用いる場合、ビスマスの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子%以上、より好ましくは、0.05原子%以上、さらに好ましくは、0.1原子%以上であると良い。一方、ビスマスの含有量の上限値は、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、5原子%以下、より好ましくは、2原子%以下、さらに好ましくは、1原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing bismuth, the lower limit of the bismuth content is preferably 0.01 atomic% or more, more preferably 0.05 atomic% or more, and still more preferably, from the viewpoint of obtaining the effect of addition. It may be 0.1 atomic% or more. On the other hand, the upper limit of the bismuth content is preferably 5 atomic% or less, more preferably 2 atomic% or less, and still more preferably 1 atomic% from the viewpoint of manufacturability such as easy production of a sputtering target. It is good to be below.

また、チタンを含む銀合金を用いる場合、銀、チタン以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   In addition, when using a silver alloy containing titanium, other than silver and titanium, for example, other elements and inevitable impurities may be included as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver. good.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pb、Biなど、Ag−Ti系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Cu, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, Bi, etc., Ag-Ti system Elements that can be precipitated as a single phase in the alloy; Y, La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

チタンを含む銀合金を用いる場合、チタンの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子%以上、より好ましくは、0.05原子%以上、さらに好ましくは、0.1原子%以上であると良い。一方、チタンの含有量の上限値は、膜にした場合、完全な固溶体が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、2原子%以下、より好ましくは、1.75原子%以下、さらに好ましくは、1.5原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing titanium, the lower limit value of the titanium content is preferably 0.01 atomic% or more, more preferably 0.05 atomic% or more, and still more preferably, from the viewpoint of obtaining an addition effect. It may be 0.1 atomic% or more. On the other hand, the upper limit of the content of titanium is preferably 2 atomic% or less, more preferably 1.75 atomic% or less, and still more preferably, from the viewpoint that a complete solid solution is easily obtained when it is formed into a film. Is preferably 1.5 atomic% or less.

なお、上記銅、ビスマス、チタン等の副元素割合は、ICP分析法を用いて測定することができる。また、上記金属薄膜を構成する金属(合金含む)は、部分的に酸化されていても良い。   Note that the proportion of subelements such as copper, bismuth and titanium can be measured using ICP analysis. Further, the metal (including alloy) constituting the metal thin film may be partially oxidized.

金属薄膜の膜厚の下限値は、安定性、熱線反射性などの観点から、好ましくは、3nm以上、より好ましくは、5nm以上、さらに好ましくは、7nm以上であると良い。一方、金属薄膜の膜厚の上限値は、可視光の透明性、経済性などの観点から、好ましくは、30nm以下、より好ましくは、20nm以下、さらに好ましくは、15nm以下であると良い。   The lower limit of the thickness of the metal thin film is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and further preferably 7 nm or more from the viewpoints of stability, heat ray reflectivity, and the like. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the metal thin film is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and further preferably 15 nm or less, from the viewpoint of transparency of visible light, economy, and the like.

ここで、金属薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法(CVD)などの気相法などを例示することができる。金属薄膜は、これらのうち何れか1つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を用いて形成されていても良い。   Here, as a method of forming the metal thin film, specifically, for example, physical vapor deposition (PVD) such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, MBE, laser ablation, thermal CVD, etc. Examples thereof include a vapor phase method such as a chemical vapor deposition method (CVD) such as a plasma CVD method. The metal thin film may be formed using any one of these methods, or may be formed using two or more methods.

これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。   Of these methods, sputtering methods such as a DC magnetron sputtering method and an RF magnetron sputtering method can be preferably used from the viewpoint of obtaining a dense film quality and relatively easy film thickness control.

なお、金属薄膜は、後述する後酸化等を受けて、金属薄膜の機能を損なわない範囲内で酸化されていても良い。   In addition, the metal thin film may be oxidized within the range which does not impair the function of a metal thin film by receiving the post-oxidation etc. which are mentioned later.

金属薄膜に付随するバリア薄膜は、主として、金属薄膜を構成する元素が、金属酸化物薄膜中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、金属酸化物薄膜と金属薄膜との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。バリア薄膜は、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。   The barrier thin film associated with the metal thin film mainly has a barrier function that suppresses diffusion of elements constituting the metal thin film into the metal oxide thin film. Moreover, by interposing between a metal oxide thin film and a metal thin film, it can also contribute to the improvement of adhesiveness of both. The barrier thin film may have discontinuous portions such as floating islands as long as the diffusion can be suppressed.

バリア薄膜を構成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。なお、バリア薄膜は、上記金属酸化物以外に不可避不純物などを含んでいても良い。   Specific examples of the metal oxide constituting the barrier thin film include, for example, titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, indium and tin oxide, and magnesium oxide. And aluminum oxide, zirconium oxide, niobium oxide, cerium oxide, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more. Further, these metal oxides may be double oxides in which two or more metal oxides are combined. The barrier thin film may contain inevitable impurities in addition to the metal oxide.

ここで、バリア薄膜としては、金属薄膜を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、金属酸化物薄膜中に含まれる金属の酸化物より主に構成されていると良い。   Here, the barrier thin film is mainly composed of a metal oxide contained in the metal oxide thin film from the viewpoint of excellent diffusion suppression effect of the metal constituting the metal thin film and excellent adhesion. good.

より具体的には、例えば、金属酸化物薄膜としてTiO薄膜を選択した場合、バリア薄膜は、TiO薄膜中に含まれる金属であるTiの酸化物より主に構成されるチタン酸化物薄膜であると良い。 More specifically, for example, when a TiO 2 thin film is selected as the metal oxide thin film, the barrier thin film is a titanium oxide thin film mainly composed of an oxide of Ti that is a metal contained in the TiO 2 thin film. Good to have.

また、バリア薄膜がチタン酸化物薄膜である場合、当該バリア薄膜は、当初からチタン酸化物として形成された薄膜であっても良いし、金属Ti薄膜が後酸化されて形成された薄膜、または、部分酸化されたチタン酸化物薄膜が後酸化されて形成された薄膜等であっても良い。   When the barrier thin film is a titanium oxide thin film, the barrier thin film may be a thin film formed as titanium oxide from the beginning, a thin film formed by post-oxidizing a metal Ti thin film, or It may be a thin film formed by post-oxidizing a partially oxidized titanium oxide thin film.

バリア薄膜は、金属酸化物薄膜と同じように主に金属酸化物から構成されるが、金属酸化物薄膜よりも膜厚が薄く設定される。これは、金属薄膜を構成する金属の拡散は、原子レベルで生じるので、屈折率を十分確保するのに必要な膜厚まで厚くする必要性が低いからである。また、薄く形成することで、その分、成膜コストが安価になり、光透過性積層体の製造コストの低減にも寄与することができる。   The barrier thin film is mainly composed of a metal oxide in the same manner as the metal oxide thin film, but is set to be thinner than the metal oxide thin film. This is because the diffusion of the metal constituting the metal thin film occurs at the atomic level, so that it is not necessary to increase the film thickness to a sufficient level to ensure a sufficient refractive index. Moreover, by forming it thinly, the film formation cost is reduced correspondingly, which can contribute to the reduction of the manufacturing cost of the light-transmitting laminate.

バリア薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、1nm以上、より好ましくは、1.5nm以上、さらに好ましくは、2nm以上であると良い。一方、バリア薄膜の膜厚の上限値は、経済性などの観点から、好ましくは、15nm以下、より好ましくは、10nm以下、さらに好ましくは、8nm以下であると良い。   The lower limit value of the thickness of the barrier thin film is preferably 1 nm or more, more preferably 1.5 nm or more, and further preferably 2 nm or more, from the viewpoint of easily ensuring barrier properties. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the barrier thin film is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, and still more preferably 8 nm or less, from the viewpoint of economy and the like.

バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの下限値は、バリア性などの観点から、1.0/4.0以上、より好ましくは、1.0/3.8以上、さらに好ましくは、1.0/3.5以上、さらにより好ましくは、1.0/3.0以上、最も好ましくは、1.0/2.8以上であると良い。   When the barrier thin film is mainly composed of titanium oxide, the lower limit value of the atomic molar ratio Ti / O of titanium to oxygen in the titanium oxide is 1.0 / 4.0 or more from the viewpoint of barrier properties and the like. Preferably, 1.0 / 3.8 or higher, more preferably 1.0 / 3.5 or higher, even more preferably 1.0 / 3.0 or higher, most preferably 1.0 / 2.8. It is good to be above.

バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの上限値は、可視光の透明性などの観点から、好ましくは、1.0/0.5以下、より好ましくは、1.0/0.7以下、さらに好ましくは、1.0/1.0以下、さらにより好ましくは、1.0/1.2以下、最も好ましくは、1.0/1.5以下であると良い。   When the barrier thin film is mainly composed of titanium oxide, the upper limit value of the atomic molar ratio Ti / O of titanium to oxygen in the titanium oxide is preferably 1.0 / 0.5 or less, more preferably 1.0 / 0.7 or less, more preferably 1.0 / 1.0 or less, even more preferably 1.0 / 1.2 or less, most preferably 1 0.0 / 1.5 or less is preferable.

上記Ti/O比は、当該薄膜の組成から算出することができる。当該薄膜の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光X線分析(EDX)を好適に用いることができる。   The Ti / O ratio can be calculated from the composition of the thin film. As a method for analyzing the composition of the thin film, energy dispersive X-ray fluorescence analysis (EDX) can be suitably used from the viewpoint that the composition of an extremely thin film can be analyzed relatively accurately.

具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法(ミクロトーム)などを用いて、分析対象となる当該薄膜を含む薄膜層の断面方向の厚みが100nm以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から薄膜層と当該薄膜の位置を、透過型電子顕微鏡(TEM)により確認する。次いで、EDX装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該薄膜の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やX線を発生させる。この際の特性X線を検出して分析することで、当該薄膜の構成元素分析を行うことができる。   A specific composition analysis method will be described. First, a test piece having a thickness in the cross-sectional direction of a thin film layer including the thin film to be analyzed is 100 nm or less using an ultrathin section method (microtome) or the like. Next, the position of the thin film layer and the thin film is confirmed with a transmission electron microscope (TEM) from the cross-sectional direction. Next, an electron beam is emitted from the electron gun of the EDX apparatus and is incident on the vicinity of the central portion of the thin film to be analyzed. Electrons incident from the surface of the test specimen enter to a certain depth and generate various electron beams and X-rays. By detecting and analyzing characteristic X-rays at this time, the constituent elements of the thin film can be analyzed.

バリア薄膜は、緻密な膜を形成できる、数nm〜数十nm程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法を好適に利用することができる。   As the barrier thin film, a vapor phase method can be suitably used from the viewpoint that a dense film can be formed, and a thin film of about several nm to several tens of nm can be formed with a uniform film thickness.

上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法(CVD)などを例示することができる。上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。   Specific examples of the vapor phase method include physical vapor deposition methods (PVD) such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, MBE, and laser ablation, thermal CVD, and plasma CVD. Examples thereof include chemical vapor deposition (CVD) and the like. As the vapor phase method, a sputtering method such as a DC magnetron sputtering method or an RF magnetron sputtering method is preferable from the viewpoint of excellent adhesion at the film interface as compared with a vacuum deposition method and the like and easy control of the film thickness. Can be used.

なお、上記薄膜層に含まれる各バリア薄膜は、これら気相法のうち何れか1つの方法を利用して形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を利用して形成されていても良い。   Each barrier thin film included in the thin film layer may be formed using any one of these vapor phase methods, or may be formed using two or more methods. May be.

また、上記バリア薄膜は、上述した気相法を利用し、当初から金属酸化物薄膜として成膜しても良いし、あるいは、一旦、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を成膜した後、これを事後的に酸化して形成することも可能である。なお、部分酸化された金属酸化物薄膜とは、さらに酸化される余地がある金属酸化物薄膜を指す。   The barrier thin film may be formed as a metal oxide thin film from the beginning by using the above-described vapor phase method, or a metal thin film or a partially oxidized metal oxide thin film is once formed. Later, it can be formed by oxidizing it afterwards. The partially oxidized metal oxide thin film refers to a metal oxide thin film that has room for further oxidation.

当初から金属酸化物薄膜として成膜する場合、具体的には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながら薄膜を形成すれば良い(反応性スパッタリング法)。反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ti/O比を有するチタン酸化物薄膜を得る場合、雰囲気中の酸素濃度(不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合)は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。   When forming a metal oxide thin film from the beginning, specifically, for example, a gas containing oxygen as a reactive gas is mixed with an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas, and the metal and oxygen are mixed. A thin film may be formed while reacting (reactive sputtering method). For example, when the titanium oxide thin film having the Ti / O ratio is obtained by using the reactive sputtering method, the oxygen concentration in the atmosphere (volume ratio of the gas containing oxygen to the inert gas) is the above-described film thickness range. The optimum ratio may be appropriately selected in consideration of the above.

一方、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を成膜した後、これを事後的に後酸化する場合、具体的には、光透過性基板上に上述した薄膜層を形成した後、薄膜層中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を後酸化させる等すれば良い。なお、金属薄膜の成膜には、スパッタリング法等を、部分酸化された金属酸化物薄膜の成膜には、上述した反応性スパッタリング法等を用いれば良い。   On the other hand, when a metal thin film or a partially oxidized metal oxide thin film is formed and then post-oxidized later, specifically, after forming the above-described thin film layer on a light-transmitting substrate, the thin film The metal thin film in the layer or the partially oxidized metal oxide thin film may be post-oxidized. Note that the sputtering method or the like may be used for forming the metal thin film, and the reactive sputtering method or the like described above may be used for forming the partially oxidized metal oxide thin film.

また、後酸化手法としては、加熱処理、加圧処理、化学処理、自然酸化等を例示することができる。これら後酸化手法のうち、比較的簡単かつ確実に後酸化を行うことができるなどの観点から、加熱処理が好ましい。上記加熱処理としては、例えば、上述した薄膜層を有する光透過性高分子フィルムを加熱炉等の加熱雰囲気中に存在させる方法、温水中に浸漬する方法、マイクロ波加熱する方法や、薄膜層中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜等を通電加熱する方法などを例示することができる。これらは1または2以上組み合わせて行っても良い。   Examples of the post-oxidation technique include heat treatment, pressure treatment, chemical treatment, and natural oxidation. Of these post-oxidation techniques, heat treatment is preferable from the viewpoint of enabling post-oxidation relatively easily and reliably. Examples of the heat treatment include, for example, a method in which a light-transmitting polymer film having the above-described thin film layer is present in a heating atmosphere such as a heating furnace, a method of immersing in warm water, a method of microwave heating, Examples thereof include a method of energizing and heating a metal thin film, a partially oxidized metal oxide thin film, and the like. These may be performed in combination of one or two or more.

上記加熱処理時の加熱条件としては、具体的には、例えば、好ましくは、30℃〜60℃、より好ましくは、32℃〜57℃、さらに好ましくは、35℃〜55℃の加熱温度、加熱雰囲気中に存在させる場合、好ましくは、5日間以上、より好ましくは、10日間以上、さらに好ましくは、15日間以上の加熱時間から選択すると良い。上記加熱条件の範囲内であれば、後酸化効果、光透過性高分子フィルム12の熱変形・融着抑制等が良好だからである。   As heating conditions at the time of the heat treatment, specifically, for example, preferably 30 ° C. to 60 ° C., more preferably 32 ° C. to 57 ° C., more preferably 35 ° C. to 55 ° C., heating When present in the atmosphere, the heating time is preferably selected from 5 days or longer, more preferably 10 days or longer, and even more preferably 15 days or longer. This is because the post-oxidation effect, the thermal deformation / fusing suppression of the light transmissive polymer film 12 and the like are good within the above heating condition range.

また、上記加熱処理時の加熱雰囲気は、大気中、高酸素雰囲気中、高湿度雰囲気中など酸素や水分の存在する雰囲気が好ましい。特に好ましくは、製造性、低コスト化等の観点から、大気中であると良い。   The heating atmosphere during the heat treatment is preferably an atmosphere containing oxygen or moisture, such as in the air, a high oxygen atmosphere, or a high humidity atmosphere. Particularly preferably, it is in the air from the viewpoint of manufacturability and cost reduction.

薄膜層中に上述した後酸化薄膜を含んでいる場合には、後酸化時に、金属酸化物薄膜中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、太陽光が当たっても金属酸化物薄膜が化学反応し難くなる。具体的には、例えば、金属酸化物薄膜がゾル−ゲル法により形成されている場合、後酸化時に、金属酸化物薄膜中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、金属酸化物薄膜中に残存していたゾル−ゲル法による出発原料(金属アルコキシド等)と水分(吸着水等)・酸素等とが、太陽光によってゾルゲル硬化反応し難くなる。そのため、硬化収縮等の体積変化によって生じる内部応力を緩和することが可能となり、薄膜層の界面剥離等を抑制しやすくなる等、太陽光に対する耐久性を向上させやすくなる。   When the above-mentioned post-oxidation thin film is included in the thin film layer, since the moisture and oxygen contained in the metal oxide thin film are consumed during post-oxidation, the metal oxide is exposed to sunlight. The thin film becomes difficult to chemically react. Specifically, for example, when the metal oxide thin film is formed by a sol-gel method, the water and oxygen contained in the metal oxide thin film are consumed during post-oxidation. The starting material (metal alkoxide, etc.) by the sol-gel method remaining in the thin film and moisture (adsorbed water, etc.), oxygen, etc. are difficult to undergo a sol-gel curing reaction by sunlight. Therefore, it becomes possible to relieve internal stress caused by volume changes such as curing shrinkage, and it becomes easy to suppress interfacial peeling of the thin film layer, and to improve durability against sunlight.

以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail using Examples and Comparative Examples.

(実施例1)
実施例1に係る光透過性積層体として、光透過性高分子フィルムの一方面に、概略以下の3層薄膜からなる薄膜層と、この薄膜層に接して積層された粘着剤層と、この粘着剤層に接して積層されたポリオレフィン層と、このポリオレフィン層に接して積層されたハードコート層と、を有する光透過性積層体を作製した。
Example 1
As the light transmissive laminate according to Example 1, a thin film layer consisting of the following three-layer thin films on one surface of the light transmissive polymer film, a pressure-sensitive adhesive layer laminated in contact with the thin film layer, A light-transmitting laminate having a polyolefin layer laminated in contact with the pressure-sensitive adhesive layer and a hard coat layer laminated in contact with the polyolefin layer was produced.

実施例1に係る光透過性積層体は、光透過性高分子フィルムの一方面に薄膜層と粘着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層と、ポリオレフィンフィルムの一方面にハードコート層を有する第2の積層体のポリオレフィン層と、を貼り合わせることにより作製した。   The light-transmitting laminate according to Example 1 includes a pressure-sensitive adhesive layer of the first laminate having a thin film layer and a pressure-sensitive adhesive layer in this order on one surface of the light-transmitting polymer film, and one surface of the polyolefin film. And a polyolefin layer of the second laminate having a hard coat layer.

実施例1に係る光透過性積層体は、光透過性高分子フィルムの一方面に、ゾル−ゲル法及びUV照射によるTiO薄膜(1層目)│チタン酸化物薄膜/Ag−Cu合金薄膜/チタン酸化物薄膜(2層目)│ゾル−ゲル法及びUV照射によるTiO薄膜(3層目)が順に積層されてなる薄膜層を有している。 In the light transmissive laminate according to Example 1, a TiO 2 thin film (first layer) by a sol-gel method and UV irradiation (titanium oxide thin film / Ag—Cu alloy thin film) is formed on one surface of a light transmissive polymer film. / Titanium oxide thin film (second layer) | A thin film layer in which a TiO 2 thin film (third layer) by sol-gel method and UV irradiation is sequentially laminated.

なお、チタン酸化物薄膜は、金属Ti薄膜が熱酸化されて形成されたものであり、これがバリア薄膜に該当する。このチタン酸化物薄膜は、Ag−Cu合金薄膜に付随する薄膜として、Ag−Cu合金薄膜に含めて積層数を数えている。   The titanium oxide thin film is formed by thermally oxidizing a metal Ti thin film, and this corresponds to a barrier thin film. This titanium oxide thin film is included in the Ag—Cu alloy thin film as a thin film accompanying the Ag—Cu alloy thin film, and the number of laminated layers is counted.

以下、具体的な作製手順を示す。   A specific manufacturing procedure will be described below.

<第1積層体の作製>
(コーティング液の調製)
先ず、ゾル−ゲル法によるTiO薄膜の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ−n−ブトキシチタン4量体(日本曹達(株)製、「B4」)と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、n−ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて10分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ−n−ブトキシチタン4量体/アセチルアセトン/n−ブタノール/イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ6.75質量%/3.38質量%/59.87質量%/30.00質量%とした。
<Preparation of first laminate>
(Preparation of coating solution)
First, a coating solution used for forming a TiO 2 thin film by a sol-gel method was prepared. That is, tetra-n-butoxytitanium tetramer (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., “B4”) as titanium alkoxide, and acetylacetone as an additive that forms an ultraviolet-absorbing chelate, n-butanol and isopropyl It mix | blended with the mixed solvent with alcohol, and mixed this for 10 minutes using the stirrer, and prepared the coating liquid. At this time, the composition of tetra-n-butoxy titanium tetramer / acetylacetone / n-butanol / isopropyl alcohol was 6.75% by mass / 3.38% by mass / 59.87% by mass / 30.00% by mass, respectively. did.

(薄膜層の形成)
光透過性高分子フィルムとして、一方面に易接着層を有する厚み50μmの長尺のポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績(株)製、「コスモシャイン(登録商標)A4100」)(以下、「PETフィルム」という。)を用い、このPETフィルムの易接着層面側とは反対側の面(PET面)側に、1層目として、TiO薄膜を以下の手順により成膜した。
(Formation of thin film layer)
As a light-transmitting polymer film, a long polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm and having an easy-adhesion layer on one side (“Cosmo Shine (registered trademark) A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) (hereinafter “PET film”) As a first layer, a TiO 2 thin film was formed by the following procedure on the surface (PET surface) opposite to the easily adhesive layer surface side of this PET film.

すなわち、PETフィルムのPET面側に、マイクログラビアコーターを用いて、所定の溝容積のグラビアロールで上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を乾燥させ、TiO薄膜の前駆体膜を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機〔高圧水銀ランプ(160W/cm)〕を用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体膜に対して連続的に紫外線を照射した。これによりPETフィルム上にTiO薄膜(1層目)を成膜した。 That is, the coating liquid was continuously applied to the PET surface side of the PET film with a gravure roll having a predetermined groove volume using a micro gravure coater. Subsequently, the coating film was dried using an in-line drying furnace to form a precursor film of a TiO 2 thin film. Subsequently, the precursor film was continuously irradiated with ultraviolet rays at the same linear velocity as that during the coating using an in-line ultraviolet irradiation machine [high pressure mercury lamp (160 W / cm)]. As a result, a TiO 2 thin film (first layer) was formed on the PET film.

次に、1層目の上に、2層目を構成する各薄膜を成膜した。   Next, each thin film constituting the second layer was formed on the first layer.

すなわち、DCマグネトロンスパッタ装置を用い、1層目のTiO薄膜上に、下側の金属Ti薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側の金属Ti薄膜上に、Ag−Cu合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このAg−Cu合金薄膜上に、上側の金属Ti薄膜をスパッタリングにより成膜した。 That is, a lower metal Ti thin film was formed by sputtering on the first TiO 2 thin film using a DC magnetron sputtering apparatus. Next, an Ag—Cu alloy thin film was formed on the lower metal Ti thin film by sputtering. Next, an upper metal Ti thin film was formed on the Ag—Cu alloy thin film by sputtering.

次に、3層目として、2層目の上に、(ゾルゲル+UV)によるTiO薄膜を成膜した。 Next, as the third layer, a TiO 2 thin film by (sol gel + UV) was formed on the second layer.

次に、得られた薄膜層付きフィルムを、加熱炉内にて、大気中で加熱処理することにより、薄膜層中に含まれる金属Ti薄膜を熱酸化させ、チタン酸化物薄膜とした。   Next, the obtained film with a thin film layer was heat-treated in a heating furnace in the atmosphere, whereby the metal Ti thin film contained in the thin film layer was thermally oxidized to obtain a titanium oxide thin film.

なお、TiO薄膜の屈折率(測定波長は633nm)は、FilmTek3000(Scientific
Computing International社製)により測定した。
The refractive index of the TiO 2 thin film (measurement wavelength is 633 nm) is FilmTek 3000 (Scientific
(Made by Computing International).

また、金属Ti薄膜を熱酸化させて形成したチタン酸化物薄膜についてEDX分析を行い、Ti/O比を次のようにして求めた。   Moreover, the EDX analysis was performed about the titanium oxide thin film formed by thermally oxidizing the metal Ti thin film, and Ti / O ratio was calculated | required as follows.

すなわち、薄膜層付きフィルムをミクロトーム(LKB(株)製、「ウルトロームV2088」)により切り出し、分析対象となるチタン酸化物薄膜(バリア薄膜)を含む薄膜層の断面方向の厚みが100nm以下の試験片を作製した。作製した試験片の断面を、電界放出型電子顕微鏡(HRTEM)(日本電子(株)製、「JEM2001F」)により確認した。そして、EDX装置(分解能133eV以下)(日本電子(株)製、「JED−2300T」)を用い、この装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となるチタン酸化物薄膜(バリア薄膜)の膜厚中央部近傍に入射させ、発生した特性X線を検出して分析することにより、チタン酸化物薄膜(バリア薄膜)の構成元素分析を行った。   That is, a thin film layer-attached film is cut out by a microtome (LKB Co., Ltd., “Ultrome V2088”), and a thin film layer containing a titanium oxide thin film (barrier thin film) to be analyzed has a thickness in the cross-sectional direction of 100 nm or less. Was made. The cross section of the produced test piece was confirmed with a field emission electron microscope (HRTEM) (manufactured by JEOL Ltd., “JEM2001F”). Then, using an EDX apparatus (resolution of 133 eV or less) (“JED-2300T” manufactured by JEOL Ltd.), an electron beam is emitted from the electron gun of this apparatus, and a titanium oxide thin film (barrier thin film) to be analyzed The elemental element of the titanium oxide thin film (barrier thin film) was analyzed by detecting the incident characteristic X-ray and analyzing it.

また、合金薄膜中の副元素(Cu)含有量を次のようにして求めた。すなわち、各成膜条件において、別途、ガラス基板上にAg−Cu合金薄膜を形成した試験片を作製し、この試験片を6%HNO溶液に浸漬し、20分間超音波による溶出を行った後、得られた試料液を用いて、ICP分析法の濃縮法により測定した。 Further, the content of the subelement (Cu) in the alloy thin film was determined as follows. That is, under each film forming condition, a test piece in which an Ag—Cu alloy thin film was formed on a glass substrate was separately prepared, and this test piece was immersed in a 6% HNO 3 solution and eluted with ultrasonic waves for 20 minutes. Then, it measured by the concentration method of ICP analysis method using the obtained sample solution.

また、各薄膜の膜厚を、上記電界放出型電子顕微鏡(HRTEM)(日本電子(株)製、「JEM2001F」)による試験片の断面観察から測定した。   Moreover, the film thickness of each thin film was measured from the cross-sectional observation of the test piece by the said field emission electron microscope (HRTEM) (the JEOL Co., Ltd. make, "JEM2001F").

表1に、薄膜層の詳細な層構成を示す。   Table 1 shows the detailed layer structure of the thin film layer.

Figure 2015054502
Figure 2015054502

(粘着剤層の形成)
薄膜層の表面に、アクリル樹脂系粘着剤(東洋インキ社製「主剤:BPS5260、硬化剤:BHS8515」)を塗布して、粘着剤層(厚み1.5μm)を形成した。
(Formation of adhesive layer)
On the surface of the thin film layer, an acrylic resin adhesive (“Main Agent: BPS5260, Curing Agent: BHS8515” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to form an adhesive layer (thickness: 1.5 μm).

以上により、第1の積層体を作製した。   The 1st laminated body was produced by the above.

<第2の積層体の作製>
OPPフィルム(東洋紡社製「P2111」、厚み:20μm、長尺、片面:コロナ処理)のコロナ処理が施されていない面にコロナ処理を施した。次いで、紫外線硬化性のアクリル樹脂(DIC(株)製、「UVTクリアーTEF−046」)を溶媒で希釈し、塗工液を調製した。次いで、OPPフィルムの一方面に塗工液を塗工し、乾燥し、さらに光量368mJ/cmの紫外線を照射して、ハードコート層(厚み1.5μm)を形成した。
<Preparation of second laminate>
The surface of the OPP film (“P2111” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 20 μm, long, single side: corona treatment) that was not subjected to corona treatment was subjected to corona treatment. Next, an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by DIC Corporation, “UVT Clear TEF-046”) was diluted with a solvent to prepare a coating solution. Next, a coating solution was applied to one surface of the OPP film, dried, and further irradiated with ultraviolet rays having a light amount of 368 mJ / cm 2 to form a hard coat layer (thickness: 1.5 μm).

以上により、第2の積層体を作製した。   The 2nd laminated body was produced by the above.

<光透過性積層体の作製>
図4に示すように、長尺の第1の積層体および長尺の第2の積層体を所定の張力(140N、50N)を加えながらそれぞれ繰り出し、第1の積層体の粘着剤層と第2の積層体のポリオレフィン層とが接するように圧力をかけて貼り合わせた。以上により、実施例1に係る光透過性積層体を作製した。
<Preparation of light transmissive laminate>
As shown in FIG. 4, the long first laminated body and the long second laminated body are respectively fed out while applying a predetermined tension (140N, 50N), and the adhesive layer and the first laminated body The two laminates were bonded together under pressure so that they were in contact with the polyolefin layer. Thus, a light transmissive laminate according to Example 1 was produced.

(実施例2〜8)
第1の積層体の幅、第1の積層体の繰り出し張力、第2の積層体の幅、第2の積層体の繰り出し張力のいずれかを変えた以外、実施例1と同様にして、実施例2〜8に係る光透過性積層体を作製した。
(Examples 2 to 8)
Implemented in the same manner as in Example 1 except that any one of the width of the first laminated body, the feeding tension of the first laminated body, the width of the second laminated body, and the feeding tension of the second laminated body was changed. Light transmissive laminates according to Examples 2 to 8 were produced.

(実施例9)
第1の積層体の粘着剤層とOPPフィルムとを貼り合わせた後、ポリオレフィン層の面上にハードコート層を形成することにより、実施例9に係る光透過性積層体を作製した。
Example 9
After the pressure-sensitive adhesive layer of the first laminate and the OPP film were bonded together, a light-coated laminate according to Example 9 was produced by forming a hard coat layer on the surface of the polyolefin layer.

(比較例1〜9)
ハードコート層を形成する際のUV光量、第1の積層体の幅、第1の積層体の繰り出し張力、第2の積層体の幅、第2の積層体の繰り出し張力のいずれかを変えた以外、実施例1と同様にして、比較例1〜8に係る光透過性積層体を作製した。なお、比較例9では、貼り合わせ時にタルミが生じたため、加工不良により光透過性積層体を作製できなかった。
(Comparative Examples 1-9)
One of the UV light amount, the width of the first laminated body, the feeding tension of the first laminated body, the width of the second laminated body, and the feeding tension of the second laminated body when changing the hard coat layer was changed. Except for the above, in the same manner as in Example 1, light transmissive laminates according to Comparative Examples 1 to 8 were produced. In Comparative Example 9, since the tarmi occurred at the time of bonding, a light-transmitting laminate could not be produced due to processing defects.

作製した各光透過性積層体から剥離した保護層の曲率半径を測定した。また、第2の積層体の曲率半径を測定した。さらに、第1の積層体と第2の積層体について、歪み量を求め、その歪み比を算出した。測定方法は以下の通りである。そして、作製した各光透過性積層体について施工性を評価した。また、あわせてハードコート密着性、耐擦傷性、外観、加工性を評価した。評価方法は以下の通りである。これらの結果を表2、3に示す。   The radius of curvature of the protective layer peeled from each of the produced light transmissive laminates was measured. Moreover, the curvature radius of the 2nd laminated body was measured. Furthermore, the strain amount was calculated | required about the 1st laminated body and the 2nd laminated body, and the distortion ratio was computed. The measuring method is as follows. And construction property was evaluated about each produced light transmissive laminated body. In addition, hard coat adhesion, scratch resistance, appearance, and processability were evaluated. The evaluation method is as follows. These results are shown in Tables 2 and 3.

(剥離した保護層の曲率半径)
作製した光透過性積層体から200mm×200mmに切り出した試験片を平らな台上に1日静置した後、5N、180°の条件でポリオレフィン層とハードコート層からなる保護層を剥離し、剥離した保護層を平らな台上に置き、カールした試験片の角部の曲率半径(巻き径)を四隅についてそれぞれ測定し、その平均値を剥離した保護層の曲率半径とした。
(The radius of curvature of the peeled protective layer)
After the test piece cut out to 200 mm × 200 mm from the produced light transmissive laminate was left on a flat table for 1 day, the protective layer composed of the polyolefin layer and the hard coat layer was peeled off under conditions of 5N and 180 °, The peeled protective layer was placed on a flat table, and the curvature radii (winding diameters) at the corners of the curled test piece were measured at the four corners, and the average value was taken as the curvature radius of the peeled protective layer.

(第2の積層体の曲率半径)
作製した長尺の第2の積層体から200mm×200mmに切り出した試験片を平らな台上に1日静置した後、カールした試験片の角部の曲率半径(巻き径)を四隅についてそれぞれ測定し、その平均値を第2の積層体の曲率半径とした。
(Curvature radius of second laminate)
After the test piece cut out to 200 mm × 200 mm from the produced long second laminate was left on a flat table for one day, the curvature radii (winding diameters) of the corners of the curled test piece were measured at the four corners. The average value was measured as the radius of curvature of the second laminate.

(歪み量、歪み比)
製造条件から、下記の式(1)で表される第1の積層体の歪みaと下記の式(2)で表される第2の積層体の歪みbをそれぞれ求めた。また、歪み比(b/a)を求めた。
a(%)=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b(%)=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
Ta:貼り合わせ時に第1の積層体に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に第2の積層体に加えた張力(N)
Sa:第1の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(単位mm
Sb:第2の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(単位mm
Ea:第1の積層体の引張弾性率(GPa)
Eb:第2の積層体の引張弾性率(GPa)
(Distortion amount, distortion ratio)
From the manufacturing conditions, the strain a of the first laminate represented by the following formula (1) and the strain b of the second laminate represented by the following formula (2) were respectively determined. Further, the strain ratio (b / a) was determined.
a (%) = (Ta / Sa) / Ea (1)
b (%) = (Tb / Sb) / Eb (2)
Ta: Tension (N) applied to the first laminate at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate at the time of bonding
Sa: cross-sectional area (unit: mm 2 ) in the direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate is applied
Sb: sectional area in the direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate is applied (unit: mm 2 )
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate

(引張弾性率の測定)
第1の積層体および第2の積層体のそれぞれについて、JIS K7161:1994に準じて、引張弾性率(GPa)を測定した。なお、引張速度は、毎分300mmとした。試験片は、ロール方向に長さ150mm、幅25mmで切り出したものを用いた。
(Measurement of tensile modulus)
About each of the 1st laminated body and the 2nd laminated body, the tensile elasticity modulus (GPa) was measured according to JISK7161: 1994. The tensile speed was 300 mm per minute. The test piece was cut in the roll direction with a length of 150 mm and a width of 25 mm.

(施工性評価)
光透過性積層体を窓貼りするための粘着剤を光透過性基板に塗布し、その粘着剤面をセパレータで覆い、施工する窓サイズよりも幅20〜30mm、長さ50mmほど大きく採寸した。スクレーパー等によりガラスの洗浄を行った後、セパレーターを剥離し、粘着面及びガラス面に大量の施工水を噴霧し、窓に貼り付けして位置決めした。次いで、表面に施工水を噴霧し、上部から真ん中にかけてスキージして仮止めした。次いで、余剰部をカットした。次いで、フィルム表面に施工水を噴霧し、上から下へ、真ん中から外側へスキージを行った。以上の操作を行った後、カールの影響で端部浮きが発生した場合を施工不良「×」とし、端部浮きが発生しなかった場合を良好「○」とした。
(Evaluation of workability)
An adhesive for pasting the light transmissive laminate was applied to the light transmissive substrate, the adhesive surface was covered with a separator, and the width was measured to be 20 to 30 mm larger and 50 mm long than the window size to be constructed. After the glass was washed with a scraper or the like, the separator was peeled off, and a large amount of construction water was sprayed on the adhesive surface and the glass surface, which was attached to a window and positioned. Next, construction water was sprayed on the surface, and squeegeeed from the top to the middle to temporarily fix it. Then, the excess part was cut. Subsequently, construction water was sprayed on the film surface, and squeegee was performed from top to bottom and from the middle to the outside. After performing the above operations, the case where the edge lift occurred due to the curl was defined as poor construction “x”, and the case where the edge lift did not occur was evaluated as “good”.

(セパレータ剥離時のカール量評価)
作製した光透過性積層体から200mm×200mmに切り出した試験片を平らな台上に1日静置した後、角が台から浮き上がった高さを四隅についてそれぞれ測定し、4点データの平均をカール量とした。カール量が30mm以上である場合を不良「×」とし、30mm未満である場合を良好「○」とした。なお、この評価方法は、上記(施工性評価)と相関があり、代替評価として用いることができる。結果は上記(施工性評価)と同じであるため、これらの結果はまとめて(施工性評価)に示した。
(Evaluation of curl when the separator is peeled off)
After the test piece cut out to 200 mm × 200 mm from the produced light transmissive laminate was left on a flat table for one day, the height at which the corners were lifted from the table was measured at each of the four corners, and the average of the four-point data was calculated. The curl amount was used. The case where the curl amount was 30 mm or more was judged as “bad”, and the case where it was less than 30 mm was judged as “good”. This evaluation method has a correlation with the above (workability evaluation) and can be used as an alternative evaluation. Since the results are the same as the above (Evaluation of workability), these results are collectively shown in (Evaluation of workability).

(密着性評価)
第2の積層体を用いて、JIS K5600−5−6に準拠して測定した。ハードコート層の面に対して垂直になるように刃を当て、2mm間隔で6本の切り込みを入れた後、90度方向を変えて先の切り込みと直交する6本の切り込みを2mm間隔で入れて、25マスを作製した。その後、ハードコート層の格子にカットした部分にテープを貼り、テープ上をこすった。その後、テープを60度に近い角度で確実に引き剥がした上で、ハードコート層の剥離の有無を調べた。剥離が見られなかった場合を良好「○」、剥離が見られた場合を不良「×」とした。
(Adhesion evaluation)
It measured based on JISK5600-5-6 using the 2nd laminated body. Place the blade so that it is perpendicular to the surface of the hard coat layer, make 6 cuts at 2mm intervals, then change the direction by 90 degrees and make 6 cuts perpendicular to the previous cut at 2mm intervals. 25 squares were produced. Thereafter, a tape was applied to the portion of the hard coat layer cut into the lattice, and the tape was rubbed. Thereafter, the tape was surely peeled off at an angle close to 60 degrees, and then the presence or absence of peeling of the hard coat layer was examined. The case where peeling was not observed was evaluated as “good”, and the case where peeling was observed was rated as “bad”.

(耐擦傷性評価)
スチールウール(日本スチール社製「Bon Star No.0000」)を用い、第2の積層体のハードコート層の表面に一定の荷重(20g/cm)をかけながらスチールウールを10往復擦り付けた。この際、目視にて傷が全く観測されなかった場合を良好「○」、傷が観測された場合を不良「×」とした。
(Abrasion resistance evaluation)
Using steel wool (“Bon Star No. 0000” manufactured by Nippon Steel Co., Ltd.), steel wool was rubbed back and forth 10 times while applying a constant load (20 g / cm 2 ) to the surface of the hard coat layer of the second laminate. At this time, the case where no scratches were observed by visual inspection was judged as “good”, and the case where scratches were observed was judged as “poor”.

(外観)
加工後に目視にてシワが発生していない場合を良好「○」、シワが発生している場合を「×」とした。
(appearance)
The case where wrinkles did not occur visually after processing was evaluated as “good”, and the case where wrinkles occurred was defined as “x”.

(加工性)
貼り合わせ時に、タルミが生じた場合を不良「×」、タルミが生じなかった場合を良好「○」とした。
(Processability)
In the case of bonding, a case where the talmi was generated was evaluated as “Poor”, and a case where the talmi was not generated was determined as “good”.

Figure 2015054502
Figure 2015054502

Figure 2015054502
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比較例1〜2では、UV光量が少ないため、ハードコート層として満足する耐傷性を有していない。このため、施工時に面に傷が入り、施工性に劣っている。比較例3〜8では、作製した光透過性積層体から剥離した保護層のみからなる方形片の角部は、ハードコート層を内側にしてカールしているが、そのカールした部分の曲率半径は2.1mm未満である。そして、比較例3〜8の光透過性積層体では、施工性に劣っている。   Comparative Examples 1 and 2 do not have satisfactory scratch resistance as a hard coat layer because the amount of UV light is small. For this reason, the surface is damaged at the time of construction, and the workability is inferior. In Comparative Examples 3 to 8, the corners of the rectangular piece consisting only of the protective layer peeled from the produced light transmissive laminate are curled with the hard coat layer inside, but the radius of curvature of the curled portion is It is less than 2.1 mm. And in the light transmissive laminated body of Comparative Examples 3-8, it is inferior to workability.

これに対し、各実施例では、作製した光透過性積層体から剥離した保護層のみからなる方形片の角部は、ハードコート層を内側にしてカールしている。また、そのカールした部分の曲率半径は2.1mm以上である。そして、各実施例の光透過性積層体によれば、施工性に優れることが確認できた。また、各実施例の光透過性積層体によれば、ハードコート層の密着性、耐擦傷性にも優れることが確認できた。さらに、各実施例の光透過性積層体によれば、熱シワやタルミも発生せず、加工性も良好であることが確認できた。   On the other hand, in each Example, the corner | angular part of the square piece which consists only of the protective layer peeled from the produced light-transmitting laminated body is curled with the hard-coat layer inside. Further, the radius of curvature of the curled portion is 2.1 mm or more. And according to the light-transmitting laminated body of each Example, it has confirmed that it was excellent in workability. Moreover, according to the light transmissive laminated body of each Example, it has confirmed that it was excellent also in the adhesiveness of a hard-coat layer, and scratch resistance. Furthermore, according to the light transmissive laminated body of each Example, it was confirmed that heat wrinkles and tarmi were not generated and the workability was good.

以上、本発明の実施形態・実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。   Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. .

10 光透過性積層体
12 光透過性基板
14 薄膜層
16 粘着剤層
18 ポリオレフィン層
20 ハードコート層
1 第1の積層体
2 第2の積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light transmissive laminated body 12 Light transmissive substrate 14 Thin film layer 16 Adhesive layer 18 Polyolefin layer 20 Hard-coat layer 1 1st laminated body 2 2nd laminated body

Claims (8)

光透過性基板の面上に、金属薄膜と前記光透過性基板よりも屈折率の高い高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層と、粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層およびハードコート層が含まれる保護層と、をこの順で有する光透過性積層体であって、
該光透過性積層体から取り出した前記保護層のみからなる方形片の角部がハードコート層を内側にしてカールするものであり、そのカールした部分の曲率半径が2.1mm以上となることを特徴とする光透過性積層体。
A thin film layer in which a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film having a higher refractive index than the light transmissive substrate are laminated on the surface of the light transmissive substrate, an adhesive layer and / or an adhesive A light-transmitting laminate having an agent layer and a protective layer including a polyolefin layer and a hard coat layer in this order,
The corners of the rectangular piece consisting only of the protective layer taken out from the light-transmitting laminate are curled with the hard coat layer inside, and the radius of curvature of the curled portion is 2.1 mm or more. A light-transmitting laminate as a feature.
前記光透過性基板の面上に前記薄膜層と前記粘着剤層および/または接着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と、前記ポリオレフィン層と前記ハードコート層とをこの順で有する第2の積層体のポリオレフィン層と、が貼り合わされて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光透過性積層体。   The pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate having the thin film layer and the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer in this order on the surface of the light-transmitting substrate, and the polyolefin layer The light-transmitting laminate according to claim 1, wherein the second laminate having the hard coat layer in this order is bonded to the polyolefin layer. 下記の式(1)で表される前記第1の積層体の歪みaと下記の式(2)で表される前記第2の積層体の歪みbの比(b/a)が、1.0〜2.6であることを特徴とする請求項2に記載の光透過性積層体。
a=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
ただし、
Ta:貼り合わせ時に前記第1の積層体に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に前記第2の積層体に加えた張力(N)
Sa:前記第1の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Sb:前記第2の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Ea:前記第1の積層体の引張弾性率(GPa)
Eb:前記第2の積層体の引張弾性率(GPa)
The ratio (b / a) between the strain a of the first laminate represented by the following formula (1) and the strain b of the second laminate represented by the following formula (2) is 1. It is 0-2.6, The light transmissive laminated body of Claim 2 characterized by the above-mentioned.
a = (Ta / Sa) / Ea (1)
b = (Tb / Sb) / Eb (2)
However,
Ta: Tension (N) applied to the first laminate at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate at the time of bonding
Sa: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate is applied
Sb: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate is applied
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate
前記ハードコート層が、硬化性樹脂を含む硬化性材料の硬化物からなることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光透過性積層体。   The light-transmitting laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer is made of a cured product of a curable material containing a curable resin. 前記粘着剤層および/または接着剤層の粘着剤および/または接着剤が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光透過性積層体。   5. The pressure-sensitive adhesive layer and / or the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive layer is at least one selected from an acrylic resin, an epoxy resin, and a urethane resin. 2. The light transmissive laminate according to item 1. 光透過性基板の面上に、金属薄膜と前記光透過性基板よりも屈折率の高い高屈折率薄膜とが含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層と、粘着剤層および/または接着剤層と、ポリオレフィン層およびハードコート層が含まれる保護層と、をこの順で有する光透過性積層体の製造方法であって、
前記光透過性基板の面上に前記薄膜層と前記粘着剤層および/または接着剤層とをこの順で有する第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と、前記ポリオレフィン層と前記ハードコート層とをこの順で有する第2の積層体のポリオレフィン層と、を貼り合わせることを特徴とする光透過性積層体の製造方法。
A thin film layer in which a plurality of thin films including a metal thin film and a high refractive index thin film having a higher refractive index than the light transmissive substrate are laminated on the surface of the light transmissive substrate, an adhesive layer and / or an adhesive A method for producing a light transmissive laminate having an agent layer and a protective layer including a polyolefin layer and a hard coat layer in this order,
The pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate having the thin film layer and the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer in this order on the surface of the light-transmitting substrate, and the polyolefin layer A method for producing a light-transmitting laminate, comprising bonding a polyolefin layer of a second laminate having the hard coat layer in this order.
貼り合わせ前に前記第2の積層体に張力を加えて前記ハードコート層側に反るように前記第2の積層体を湾曲させるとともに、貼り合わせ前に前記第1の積層体に張力を加えて前記第1の積層体に歪みを加えて、前記第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と前記第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることを特徴とする請求項6に記載の光透過性積層体の製造方法。   Prior to bonding, the second laminated body is bent to bend toward the hard coat layer by applying tension to the second laminated body, and tension is applied to the first laminated body before bonding. The strain is applied to the first laminate, and the pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate and the polyolefin layer of the second laminate are bonded together. 6. A method for producing a light transmissive laminate according to item 6. 下記の式(1)で表される前記第1の積層体の歪みaと下記の式(2)で表される前記第2の積層体の歪みbの比(b/a)が1.0〜2.6となるように、前記第1の積層体の粘着剤層および/または接着剤層と前記第2の積層体のポリオレフィン層とを貼り合わせることを特徴とする請求項6または7に記載の光透過性積層体の製造方法。
a=(Ta/Sa)/Ea ・・・(1)
b=(Tb/Sb)/Eb ・・・(2)
ただし、
Ta:貼り合わせ時に前記第1の積層体に加えた張力(N)
Tb:貼り合わせ時に前記第2の積層体に加えた張力(N)
Sa:前記第1の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Sb:前記第2の積層体の張力を加えた方向と直交する方向の断面積(mm
Ea:前記第1の積層体の引張弾性率(GPa)
Eb:前記第2の積層体の引張弾性率(GPa)
The ratio (b / a) between the strain a of the first laminate represented by the following formula (1) and the strain b of the second laminate represented by the following formula (2) is 1.0. The pressure-sensitive adhesive layer and / or adhesive layer of the first laminate and the polyolefin layer of the second laminate are bonded to each other so as to be -2.6. The manufacturing method of the light transmissive laminated body of description.
a = (Ta / Sa) / Ea (1)
b = (Tb / Sb) / Eb (2)
However,
Ta: Tension (N) applied to the first laminate at the time of bonding
Tb: Tension (N) applied to the second laminate at the time of bonding
Sa: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the first laminate is applied
Sb: cross-sectional area (mm 2 ) in a direction orthogonal to the direction in which the tension of the second laminate is applied
Ea: Tensile elastic modulus (GPa) of the first laminate
Eb: Tensile elastic modulus (GPa) of the second laminate
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