JP2012207444A - Method for adjusting solar radiation in wire-reinforced window glass - Google Patents

Method for adjusting solar radiation in wire-reinforced window glass Download PDF

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義弘 徳永
Masato Hirate
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Ayumi Kida
歩 來田
Yoshinori Suzuki
良則 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for adjusting solar radiation in a wire-reinforced window glass which can increase solar shading performance while securing the daylighting property.SOLUTION: Transparent rolling screen sheet materials 10 and 30 each comprises a screen base material 14 comprising a transparent high polymer film and a transparent laminate film 12 bonded to at least one surface of the screen base material 14, in which the transparent laminate film 12 comprises a laminate structure part 18 with solar shading performance at least on one surface of a film base material 16 comprising the transparent high polymer film. The transparent rolling screen sheet materials 10 and 30 are arranged on the indoor side along the indoor-side glass surface of a wire-reinforced window glass 40, apart from the indoor-side glass surface within a range of 1-300 mm.

Description

本発明は、ビル・住宅などの建築物の窓ガラスや自動車等の車両の窓ガラスに網入りガラスを用いる場合に好適な日射調整方法に関するものである。   The present invention relates to a solar radiation adjustment method suitable for the case where a meshed glass is used for a window glass of a building such as a building or a house or a window glass of a vehicle such as an automobile.

従来、ビル・住宅などの建築物や自動車等の車両における居住性を高める目的で、日射による暑さを軽減する対策が検討されている。このような対策の1つとしては、窓ガラスにカーテンやブラインドを用いることにより室内を遮光する方法が挙げられる。また、熱線をカットする機能が付与された窓ガラスを用いることにより熱線による室内の温度上昇を抑える方法が挙げられる。   Conventionally, measures for reducing the heat caused by solar radiation have been studied for the purpose of enhancing the comfort of buildings such as buildings and houses and vehicles such as automobiles. As one of such measures, there is a method of shielding the room by using a curtain or a blind for the window glass. Moreover, the method of suppressing the indoor temperature rise by a heat ray by using the window glass provided with the function to cut a heat ray is mentioned.

後者の方法としては、例えば特許文献1に記載のガラス積層体を窓ガラスに用いる方法が挙げられる。特許文献1には、ガラス基体に熱線反射層を積層したガラス積層体が開示されている。   Examples of the latter method include a method in which the glass laminate described in Patent Document 1 is used for a window glass. Patent Document 1 discloses a glass laminate in which a heat ray reflective layer is laminated on a glass substrate.

特開2000−229380号公報JP 2000-229380 A

ビル・住宅等の建築物の窓ガラスや自動車等の車両の窓ガラスには、ガラスの強化や、防犯、電磁波遮蔽などを目的として、板ガラス内あるいは一対の板ガラス間に網目状の金属線を埋設した網入りガラスが用いられることがある。   In a window glass of a building such as a building or a house, or a window glass of a vehicle such as an automobile, a net-like metal wire is embedded in the glass sheet or between a pair of glass sheets for the purpose of strengthening the glass, preventing crime, shielding electromagnetic waves, etc. Reticulated glass may be used.

窓ガラスに網入りガラスを用いる場合において、特許文献1のようにガラス基体に熱線反射層を積層して、網入り窓ガラスに熱線をカットする機能を付与すると、窓ガラスが日射を吸収しやすくなる。ガラスは熱伝導性が悪いため、窓ガラスの日射を受けた部分と受けていない部分との温度差が大きくなり、ガラスが熱割れを起こすおそれがある。このため、ガラスに熱線をカットする機能を付与した網入りガラスを窓ガラスとして採用することはできない。熱線をカットする機能性フィルムを窓ガラスに直接貼り付ける場合にも、同様に、ガラスが熱割れを起こすおそれがある。   In the case of using meshed glass for the window glass, if the heat ray reflective layer is laminated on the glass substrate as in Patent Document 1 and the function of cutting the heat rays is given to the meshed window glass, the window glass can easily absorb solar radiation. Become. Since glass has poor thermal conductivity, the temperature difference between the portion of the window glass that has been exposed to solar radiation and the portion that has not received solar radiation may increase, and the glass may heat crack. For this reason, the glass with a net having a function of cutting heat rays in the glass cannot be used as the window glass. Similarly, when a functional film that cuts heat rays is directly attached to a window glass, the glass may similarly cause thermal cracking.

一方、カーテンやブラインドは、遮光を目的とするものである。そのため、これらを用いる場合には、採光性に劣る。また、そもそも、カーテンやブラインドは、日射を遮蔽する機能が低い。   On the other hand, curtains and blinds are intended to block light. Therefore, when using these, it is inferior to daylighting property. In the first place, curtains and blinds have a low function of shielding solar radiation.

このように、窓ガラスに網入りガラスを用いる場合には、従来の日射による暑さを軽減する対策は採用できないため、このような場合において、採光性を確保しつつ日射による暑さを軽減する有効な方法がなかった。   Thus, when netted glass is used for the window glass, the conventional measures to reduce the heat caused by solar radiation cannot be adopted. In such a case, the heat caused by solar radiation is reduced while ensuring daylighting. There was no effective method.

本発明が解決しようとする課題は、採光性を確保しつつ日射遮蔽性を高めることが可能な網入り窓ガラスの日射調整方法を提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a solar radiation adjusting method for a window glass with a net that can enhance the solar shading while securing the daylighting property.

上記課題を解決するため本発明に係る網入り窓ガラスの日射調整方法は、透明高分子フィルムよりなるスクリーン基材と、前記スクリーン基材の少なくとも一方面に接着された透明積層フィルムと、を備え、前記透明積層フィルムが透明高分子フィルムよりなるフィルム基材の少なくとも一方面に日射遮蔽性を有する積層構造部を備えた構成の透明ロールスクリーンを、網入り窓ガラスに対し、室内側のガラス面から1〜300mmの範囲内で離して室内側のガラス面に沿って室内側に配置することを要旨とするものである。   In order to solve the above-mentioned problems, a method for adjusting the solar radiation of a mesh window glass according to the present invention comprises a screen substrate made of a transparent polymer film, and a transparent laminated film bonded to at least one surface of the screen substrate. A transparent roll screen having a laminated structure portion having solar radiation shielding properties on at least one surface of a film substrate made of a transparent polymer film, wherein the transparent laminated film has a glass surface on the indoor side with respect to the netted window glass. It is a gist to arrange | position in the indoor side along the glass surface of an indoor side separated within the range of 1-300 mm from.

この際、前記透明ロールスクリーンは、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されていることが好ましい。また、前記透明ロールスクリーンは、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、熱貫流率5.0W/m・K以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されていることが好ましい。 At this time, the transparent roll screen is preferably set to a visible light transmittance of 65% or more, a solar radiation shielding coefficient of 0.69 or less, a visible light reflectance of 10% or less, and a haze of 2.0 or less. The transparent roll screen has a visible light transmittance of 65% or more, a solar shading coefficient of 0.69 or less, a thermal conductivity of 5.0 W / m 2 · K or less, a visible light reflectance of 10% or less, and a haze of 2.0 or less. It is preferable that it is set to.

そして、前記積層構造部を前記スクリーン基材よりも室内側に配置することが好ましい。このとき、さらに、前記透明積層フィルムのフィルム基材を前記積層構造部よりもスクリーン基材側に配置して、前記積層構造部を前記フィルム基材よりも室内側に配置することが好ましい。   And it is preferable to arrange | position the said laminated structure part indoors rather than the said screen base material. At this time, it is preferable that the film base material of the transparent laminated film is further arranged on the screen base material side with respect to the laminated structure portion, and the laminated structure portion is arranged on the indoor side with respect to the film base material.

そして、前記積層構造部が有機分を含有する金属酸化物層と金属層とが積層されたもので構成されていることが好ましい。また、前記金属層の少なくとも一方面に金属酸化物より主に構成されるバリア層を有することが好ましい。また、前記金属酸化物層がチタン酸化物層であることが好ましい。また、前記金属層が銀層または銀合金層であることが好ましい。また、前記バリア層がチタン酸化物より主に構成されることが好ましい。   And it is preferable that the said laminated structure part is comprised by what laminated | stacked the metal oxide layer and metal layer containing an organic content. Moreover, it is preferable to have a barrier layer mainly composed of a metal oxide on at least one surface of the metal layer. The metal oxide layer is preferably a titanium oxide layer. The metal layer is preferably a silver layer or a silver alloy layer. Moreover, it is preferable that the said barrier layer is mainly comprised from a titanium oxide.

本発明に係る網入り窓ガラスの日射調整方法によれば、網入り窓ガラスの室内側に、室内側のガラス面から特定距離だけ離して、室内側のガラス面に沿って日射遮蔽性を有する透明ロールスクリーンを配置することから、日射遮蔽性を有するもの自体が網入り窓ガラスのガラスに密着されず、日射の吸収に起因する熱が網入り窓ガラスに伝達されるのを抑えることができる。このため、日射による暑さを軽減する対策を講じたときに網入り窓ガラスの熱割れが発生するのを抑えることができる。したがって、採光性を確保しつつ日射遮蔽性を高めることができる。   According to the solar radiation adjusting method of the mesh window glass according to the present invention, the interior side of the mesh window glass is separated from the indoor glass surface by a specific distance, and has solar radiation shielding properties along the indoor glass surface. Since the transparent roll screen is arranged, the solar radiation shielding property itself is not in close contact with the glass of the window glass, and heat due to the absorption of sunlight can be prevented from being transmitted to the window glass. . For this reason, when the countermeasure which reduces the heat by solar radiation is taken, it can suppress that the thermal crack of a mesh window glass generate | occur | produces. Therefore, it is possible to enhance the solar shading while securing the daylighting property.

この際、上記透明ロールスクリーンが特定の光学物性を有する場合には、採光性を確保しつつ日射遮蔽性を高める効果に特に優れる。また、上記透明ロールスクリーンの熱貫流率が特定の範囲に設定されていると、断熱性にも優れる。したがって、冬などの寒さ対策に室内で暖房機器を用いたときに、暖房効率を良くできる。   At this time, when the transparent roll screen has specific optical physical properties, it is particularly excellent in the effect of improving the sun shielding property while ensuring the daylighting property. Moreover, when the heat transmissivity of the said transparent roll screen is set to the specific range, it is excellent also in heat insulation. Therefore, heating efficiency can be improved when the heating device is used indoors for measures against cold such as winter.

そして、上記積層構造部をスクリーン基材よりも室内側に配置すると、暖房熱がスクリーン基材に吸収される前に積層構造部によって断熱効果が発揮されるため、暖房効率をより良くできる。このとき、さらに、上記透明積層フィルムのフィルム基材を積層構造部よりもスクリーン基材側に配置して、積層構造部をフィルム基材よりも室内側に配置すると、暖房熱がフィルム基材に吸収される前に積層構造部によって断熱効果が発揮されるため、暖房効率をさらに良くできる。   And if the said laminated structure part is arrange | positioned indoors rather than a screen base material, since a heat insulation effect is exhibited by the laminated structure part before heating heat is absorbed by a screen base material, heating efficiency can be improved. At this time, when the film base of the transparent laminated film is further arranged on the screen base side with respect to the laminated structure, and the laminated structure is arranged on the indoor side with respect to the film base, heating heat is applied to the film base. Since the heat insulating effect is exhibited by the laminated structure before being absorbed, the heating efficiency can be further improved.

そして、上記積層構造部が有機分を含有する金属酸化物層と金属層とが積層されたもので構成されていると、積層構造部は柔軟性に優れるため、透明ロールスクリーンの柔軟性に優れる。このため、透明ロールスクリーンの巻き取り性に優れる。   And when the said laminated structure part is comprised by what laminated | stacked the metal oxide layer and metal layer containing an organic content, since a laminated structure part is excellent in a softness | flexibility, it is excellent in the softness | flexibility of a transparent roll screen. . For this reason, it is excellent in the winding-up property of a transparent roll screen.

そして、上記金属層の少なくとも一方面に、金属酸化物より主に構成されるバリア層が形成されている場合には、各金属層を構成する金属元素の日射による拡散を抑制することができる。そのため、上記可視光透過性、日射遮蔽性を長期にわたって維持しやすくなり、耐久性、信頼性の向上に寄与できる。   And when the barrier layer mainly comprised from a metal oxide is formed in the at least one surface of the said metal layer, the spreading | diffusion by the solar radiation of the metal element which comprises each metal layer can be suppressed. Therefore, it becomes easy to maintain the visible light transmittance and the solar radiation shielding property over a long period of time, and it is possible to contribute to improvement of durability and reliability.

また、上記金属酸化物層がチタン酸化物層である場合には、比較的高い屈折率が得やすくなるため、可視光透過性を向上させやすくなる。また、上記金属層が銀層または銀合金層である場合には、可視光透過性、日射遮蔽性のバランスに優れる。また、上記バリア層がチタン酸化物より主に構成される場合には、銀等の金属層の構成元素の日射や熱による拡散を抑制しやすい。   Further, when the metal oxide layer is a titanium oxide layer, it is easy to obtain a relatively high refractive index, so that it is easy to improve visible light transmittance. Moreover, when the said metal layer is a silver layer or a silver alloy layer, it is excellent in the balance of visible light transmittance | permeability and solar radiation shielding property. Moreover, when the said barrier layer is mainly comprised from a titanium oxide, it is easy to suppress the spreading | diffusion by the solar radiation of a metal layer, such as silver, and heat.

本発明に適用される透明ロールスクリーンのシート材の一実施形態を示した断面図である。It is sectional drawing which showed one Embodiment of the sheet material of the transparent roll screen applied to this invention. 本発明に適用される透明ロールスクリーンのシート材の他の実施形態を示した断面図である。It is sectional drawing which showed other embodiment of the sheet | seat material of the transparent roll screen applied to this invention. 本発明に係る網入り窓ガラスの日射調整方法を説明するための透明ロールスクリーンのシート材の適用例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the example of application of the sheet material of the transparent roll screen for demonstrating the solar radiation adjustment method of the window glass with a mesh | network concerning this invention.

以下に、本発明に係る網入り窓ガラスの日射調整方法(以下、本日射調整方法ということがある。)について詳細に説明する。   Below, the solar radiation adjustment method (henceforth this solar radiation adjustment method) of the net window glass which concerns on this invention is demonstrated in detail.

本日射調整方法は、網入り窓ガラスに対し、特定の透明ロールスクリーン(以下、本ロールスクリーンということがある。)を用いることにより日射調整を行う方法である。   This solar radiation adjustment method is a method of performing solar radiation adjustment by using a specific transparent roll screen (hereinafter, also referred to as the present roll screen) for a mesh window glass.

網入り窓ガラスは、板ガラス内あるいは一対の板ガラス間に網目状の金属線を埋設したもので構成されている。ガラスとしては、通常のフロートガラス、半強化ガラス、強化ガラスを挙げることができる。ガラスの厚みは、用途等に応じて適宜定めれば良い。   The window glass with a mesh is configured by embedding a mesh-like metal wire in a sheet glass or between a pair of sheet glasses. Examples of the glass include normal float glass, semi-tempered glass, and tempered glass. What is necessary is just to determine the thickness of glass suitably according to a use etc.

本ロールスクリーンは、シート材と、シート材を巻き取るための巻き取り部材とにより構成される。巻き取り部材には、ロールスクリーンにおいて従来より知られる公知の巻き取り部材を用いることができる。本ロールスクリーンのシート材は、スクリーン基材と、スクリーン基材に接着された透明積層フィルムと、を備えたものから構成されている。透明積層フィルムは、フィルム基材と、フィルム基材上に積層された積層構造部と、を備えたものから構成されている。フィルム基材は、積層構造部を形成するためのベースとなる基材である。積層構造部が日射を遮蔽する機能を有する。積層構造部は、フィルム基材の片面のみに形成されていても良いし、両面に形成されていても良い。   This roll screen is composed of a sheet material and a winding member for winding the sheet material. As the winding member, a known winding member conventionally known in a roll screen can be used. The sheet material of this roll screen is composed of a screen base material and a transparent laminated film bonded to the screen base material. A transparent laminated film is comprised from what was provided with the film base material and the laminated structure part laminated | stacked on the film base material. A film base material is a base material used as the base for forming a laminated structure part. The laminated structure has a function of shielding solar radiation. The laminated structure part may be formed only on one side of the film substrate, or may be formed on both sides.

本ロールスクリーンでは、透明性を確保するため、スクリーン基材および透明積層フィルムのフィルム基材に透明高分子フィルムを用いている。また、透明積層フィルムの積層構造部により日射遮蔽機能を得ている。   In this roll screen, a transparent polymer film is used as the screen substrate and the film substrate of the transparent laminated film in order to ensure transparency. Moreover, the solar radiation shielding function is obtained by the laminated structure part of the transparent laminated film.

スクリーン基材を構成する透明高分子フィルムは、採光性を確保するため、優れた可視光透過性を有するものである。このような高分子材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)などを挙げることができる。スクリーン基材の厚みとしては、本ロールスクリーンの操作時などにおいて十分な耐久性や剛性が得られる、柔軟性に優れるなどの観点から、10〜200μm程度であることが好ましい。より好ましくは50〜150μm、さらに好ましくは75〜125μmである。   The transparent polymer film constituting the screen base material has excellent visible light permeability in order to ensure daylighting. Examples of such a polymer material include polyethylene terephthalate (PET) and polycarbonate (PC). The thickness of the screen base material is preferably about 10 to 200 μm from the viewpoint of obtaining sufficient durability and rigidity during operation of the roll screen and the like, and excellent flexibility. More preferably, it is 50-150 micrometers, More preferably, it is 75-125 micrometers.

透明積層フィルムのフィルム基材を構成する透明高分子フィルムは、優れた可視光透過性を有し、その表面に薄膜を支障なく形成できるものであれば、何れのものでも用いることができる。スクリーン基材と透明積層フィルムのフィルム基材には、同種の高分子材料を用いても良いし、異種の高分子材料を用いても良い。   As the transparent polymer film constituting the film substrate of the transparent laminated film, any film can be used as long as it has excellent visible light permeability and can form a thin film on its surface without hindrance. For the film substrate of the screen substrate and the transparent laminated film, the same kind of polymer material may be used, or different kinds of polymer materials may be used.

フィルム基材を構成する透明高分子フィルムの高分子材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー等の高分子材料を例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、2種以上の透明高分子を積層して用いることもできる。   Specifically, as the polymer material of the transparent polymer film constituting the film substrate, for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polyimide, Illustrate polymer materials such as polyamide, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, triacetyl cellulose, polyurethane, cycloolefin polymer, etc. Can do. These may be contained alone or in combination of two or more. Also, two or more kinds of transparent polymers can be laminated and used.

これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性等に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマー等を好適なものとして例示することができる。   Among these, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, cycloolefin polymer, and the like can be exemplified as preferable from the viewpoint of excellent transparency, durability, workability, and the like.

フィルム基材の厚みは、用途、材料の種類、光学特性、耐久性などを考慮して種々調節することができる。フィルム基材の厚みの下限値は、加工時にしわが入り難い、破断し難いなどの観点から、好ましくは、25μm以上、より好ましくは、50μm以上であると良い。一方、フィルム基材の厚みの上限値は、巻回容易性、経済性などの観点から、好ましくは、500μm以下、より好ましくは、250μm以下であると良い。   The thickness of the film substrate can be variously adjusted in consideration of the use, the type of material, optical characteristics, durability, and the like. The lower limit value of the thickness of the film substrate is preferably 25 μm or more, more preferably 50 μm or more, from the viewpoint that wrinkles are difficult to occur during processing and breakage is difficult. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the film substrate is preferably 500 μm or less, more preferably 250 μm or less, from the viewpoints of easy winding and economy.

透明積層フィルムの積層構造部は、有機分を含有する金属酸化物層(以下、「MO層」と略表記することがある。)と金属層(以下、「M層」と略表記することがある。)とを少なくとも含んでいる。積層構造部の基本構造としては、有機分を含有する金属酸化物層(MO層)と金属層(M層)とが交互に積層された積層構造部等を例示することができる。金属層(M層)の何れか一方面または両面には、さらに、バリア層(以下、「B層」と略表記することがある。)が形成されていても良い。   The laminated structure part of the transparent laminated film may be abbreviated as a metal oxide layer (hereinafter sometimes abbreviated as “MO layer”) and a metal layer (hereinafter abbreviated as “M layer”). At least). Examples of the basic structure of the laminated structure portion include a laminated structure portion in which metal oxide layers (MO layers) containing organic components and metal layers (M layers) are alternately laminated. A barrier layer (hereinafter sometimes abbreviated as “B layer”) may be further formed on one or both surfaces of the metal layer (M layer).

透明積層フィルムにおいて、有機分を含有する金属酸化物層は、金属層とともに積層されることで透明性を高める(可視光領域で透過性に優れる)などの機能を発揮するものであり、主として高屈折率層として機能しうるものである。ここで高屈折率とは、633nmの光に対する屈折率が1.7以上ある場合をいう。また、透明積層フィルムにおいて、金属層は、主として日射遮蔽層として機能しうる。透明積層フィルムは、このような積層構造部を有するため、良好な可視光透明性、日射遮蔽性を有する。   In a transparent laminated film, the metal oxide layer containing an organic component exhibits functions such as enhancing transparency (excellent transparency in the visible light region) by being laminated together with the metal layer. It can function as a refractive index layer. Here, the high refractive index means a case where the refractive index for light of 633 nm is 1.7 or more. In the transparent laminated film, the metal layer can mainly function as a solar radiation shielding layer. Since the transparent laminated film has such a laminated structure portion, it has good visible light transparency and solar shading.

積層構造部は、透明積層フィルムのフィルム基材の少なくとも一方面に、有機分を含有する金属酸化物層と金属層とを積層する積層工程により形成することができる。積層工程は、上述した積層構造部の構成に応じて異なるが、基本的には、各層の形成に最適な方法にて、各層を順次積み上げていくことにより形成することができる。   The laminated structure part can be formed by a laminating step of laminating a metal oxide layer containing an organic component and a metal layer on at least one surface of a film substrate of a transparent laminated film. Although the lamination process varies depending on the configuration of the above-described laminated structure portion, it can be basically formed by sequentially stacking each layer by a method optimal for forming each layer.

透明積層フィルムは、積層構造部を外傷などから保護するなどの理由で、積層構造部の上に保護層を備えていることが好ましい。保護層を構成する材料としては、例えば、アクリル系樹脂などを挙げることができる。保護層の厚みは、保護機能と、密着性、透明性、コスト等のバランスの観点から、1〜2μmの範囲内であることが好ましい。赤外線の吸収が抑えられるなどの観点から、より好ましくは1〜1.5μmの範囲内、さらに好ましくは1〜1.2μmの範囲内である。   The transparent laminated film preferably includes a protective layer on the laminated structure part for the purpose of protecting the laminated structure part from external damage and the like. Examples of the material constituting the protective layer include acrylic resins. The thickness of the protective layer is preferably in the range of 1 to 2 μm from the viewpoint of the balance between the protective function, adhesion, transparency, cost and the like. From the viewpoint of suppressing absorption of infrared rays, it is more preferably in the range of 1 to 1.5 μm, and still more preferably in the range of 1 to 1.2 μm.

保護層は、単層で構成されていても良いし、複数の層で構成されていても良い。保護層が複数の層で構成される場合には、複数の層は、異なる種類の樹脂を含む材料により形成されていても良いし、同種の樹脂を含む材料により形成されていても良い。保護層は、例えば、材料を適当な溶剤に希釈し、塗工法を用いて透明積層部の上に層状にコーティングした後、必要に応じて、熱や光、水など、材料に応じた適当な硬化手段により硬化させることにより形成することができる。   The protective layer may be composed of a single layer or a plurality of layers. When the protective layer is composed of a plurality of layers, the plurality of layers may be formed of a material containing different types of resins, or may be formed of a material containing the same type of resin. The protective layer is prepared by, for example, diluting the material in a suitable solvent and coating it on the transparent laminate using a coating method, and then, if necessary, suitable for the material such as heat, light, water, etc. It can be formed by curing with a curing means.

本ロールスクリーンのシート材は、ロールスクリーンとして用いる性質上、両外側に触れることが多い。このため、本ロールスクリーンのシート材は、シート材の最外層としてハードコート層を備えることが好ましい。ハードコート層は、例えばウレタン系材料などにより形成することができる。ハードコート層は、例えばウレタン系材料を含む塗工液を透明高分子フィルム上などにコーティングすることにより形成することができる。   The sheet material of the present roll screen often touches both outer sides due to the property used as a roll screen. For this reason, it is preferable that the sheet material of the present roll screen includes a hard coat layer as the outermost layer of the sheet material. The hard coat layer can be formed of, for example, a urethane material. The hard coat layer can be formed, for example, by coating a coating liquid containing a urethane material on a transparent polymer film.

本ロールスクリーンのシート材は、上記する構成のスクリーン基材および透明積層フィルムを用いて構成されるなどによって、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されることが好ましい。このような光学特性を有する場合には、採光性を確保しつつ日射遮蔽性を高める効果に特に優れる。   The sheet material of the present roll screen is constituted by using the screen base material and the transparent laminated film having the above-described configuration, etc., so that the visible light transmittance is 65% or more, the solar radiation shielding coefficient is 0.69 or less, and the visible light reflectance is 10%. Hereinafter, the haze is preferably set to 2.0 or less. When it has such an optical characteristic, it is especially excellent in the effect which improves solar shading property, ensuring lighting property.

また、シート材の可視光透過率の好ましい範囲としては70%以上を挙げることができる。シート材の日射遮蔽係数の好ましい範囲としては0.60以下、0.50以下を挙げることができる。シート材の可視光反射率の好ましい範囲としては9.5%以下、9.0%以下を挙げることができる。シート材のヘイズの好ましい範囲としては1.5以下、1.0以下を挙げることができる。   A preferable range of the visible light transmittance of the sheet material is 70% or more. Preferable ranges of the solar radiation shielding coefficient of the sheet material include 0.60 or less and 0.50 or less. Preferable ranges of the visible light reflectance of the sheet material include 9.5% or less and 9.0% or less. Preferable ranges of the haze of the sheet material include 1.5 or less and 1.0 or less.

この際、さらに、本ロールスクリーンの熱貫流率を特定の範囲に設定すると、断熱性にも優れる。したがって、冬などの寒さ対策に室内で暖房機器を用いたときに、暖房効率を良くできる。   At this time, if the heat transmissivity of the roll screen is set within a specific range, the heat insulation is excellent. Therefore, heating efficiency can be improved when the heating device is used indoors for measures against cold such as winter.

以上の構成よりなる本ロールスクリーンのシート材についての好適な積層形態について説明する。図1、図2は、本発明に適用される透明ロールスクリーンのシート材の一実施形態を示した断面図である。   The suitable lamination | stacking form about the sheet | seat material of this roll screen which consists of the above structure is demonstrated. 1 and 2 are sectional views showing an embodiment of a sheet material of a transparent roll screen applied to the present invention.

図1に示すように、第1実施形態のシート材10は、透明積層フィルム12の保護層20側で、接着層22を介して透明積層フィルム12がスクリーン基材14に接着されている。このため、第1実施形態のシート材10では、スクリーン基材14とフィルム基材16が積層構造部18の外側に配置され、これらにより積層構造部18が挟まれている構造になっている。スクリーン基材14の外側およびフィルム基材16の外側には、保護膜としてのハードコート層24a,24bが形成されている。   As shown in FIG. 1, in the sheet material 10 of the first embodiment, the transparent laminated film 12 is bonded to the screen base material 14 via the adhesive layer 22 on the protective layer 20 side of the transparent laminated film 12. For this reason, in the sheet material 10 of the first embodiment, the screen base material 14 and the film base material 16 are arranged outside the laminated structure portion 18, and the laminated structure portion 18 is sandwiched between them. Hard coat layers 24 a and 24 b as protective films are formed on the outer side of the screen base material 14 and the outer side of the film base material 16.

また、図2に示すように、第2実施形態のシート材30は、透明積層フィルム12のフィルム基材16側で、接着層22を介して透明積層フィルム12がスクリーン基材14に接着されている。このため、第2実施形態のシート材30では、積層構造部18に対してスクリーン基材14とフィルム基材16が同じ面側に配置されている。第2実施形態のシート材30では、スクリーン基材14と保護層20の外側にそれぞれ保護膜としてのハードコート層24a,24bが形成されている。   As shown in FIG. 2, the sheet material 30 of the second embodiment is such that the transparent laminated film 12 is bonded to the screen substrate 14 via the adhesive layer 22 on the film substrate 16 side of the transparent laminated film 12. Yes. For this reason, in the sheet material 30 of the second embodiment, the screen base material 14 and the film base material 16 are arranged on the same surface side with respect to the laminated structure portion 18. In the sheet material 30 of the second embodiment, hard coat layers 24a and 24b as protective films are formed on the outside of the screen base material 14 and the protective layer 20, respectively.

そして、このような本ロールスクリーンのシート材10,30を用いた日射調製方法について説明する。図3(a)(b)は、本発明に係る網入り窓ガラスの日射調整方法を説明するための本ロールスクリーンのシート材の適用例を示した断面図である。   And the solar radiation preparation method using the sheet | seat materials 10 and 30 of such this roll screen is demonstrated. 3 (a) and 3 (b) are cross-sectional views showing an application example of the sheet material of the present roll screen for explaining the method for adjusting the solar radiation of the mesh window glass according to the present invention.

図3(a)(b)に示すように、本日射調整方法は、このような構成の本ロールスクリーンのシート材10,30を、網入り窓ガラス40に対し、室内側のガラス面から離して、室内側のガラス面に沿って室内側に配置する。本ロールスクリーンのシート材10,30を網入り窓ガラス40のガラス面から離すことにより、日射遮蔽性を有するもの自体が網入り窓ガラス40のガラスに密着されず、日射の吸収に起因する熱が網入り窓ガラス40に伝達されるのを抑えることができる。このため、日射による暑さを軽減する対策を講じたときに網入り窓ガラス40の熱割れが発生するのを抑えることができる。また、網入り窓ガラス40と本ロールスクリーンのシート材10,30との間の隙間が空気層となるため、これにより断熱性を高めることができる。   As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the present solar radiation adjustment method separates the sheet materials 10 and 30 of the roll screen having such a configuration from the glass surface on the indoor side with respect to the netted window glass 40. Then, it is arranged on the indoor side along the glass surface on the indoor side. By separating the sheet materials 10 and 30 of the present roll screen from the glass surface of the mesh window glass 40, the solar radiation shielding property itself is not in close contact with the glass of the mesh window glass 40, and heat caused by absorption of solar radiation. Can be prevented from being transmitted to the mesh window glass 40. For this reason, when the countermeasure which reduces the heat by solar radiation is taken, it can suppress that the thermal crack of the mesh window glass 40 generate | occur | produces. Moreover, since the clearance gap between the meshed window glass 40 and the sheet | seat materials 10 and 30 of this roll screen becomes an air layer, this can improve heat insulation.

網入り窓ガラス40に対して本ロールスクリーンのシート材10,30を離す距離は、室内側のガラス面から1〜300mmの範囲内に設定する。シート材10,30を離す距離が短いと、日射の吸収に起因する熱が本ロールスクリーンのシート材10,30から網入り窓ガラス40に伝達されやすくなる。一方、シート材10,30を離す距離が長いと、日射の吸収に起因する熱が網入り窓ガラス40に伝達されにくくなるが、本ロールスクリーンのシート材10,30と網入り窓ガラス40との間から入射する日射により、日射調整効果が弱くなりやすい。また、シート材10,30を離す距離としては、より好ましくは50〜250mmの範囲内、さらに好ましくは100〜200mmの範囲内である。   The distance which separates the sheet | seat materials 10 and 30 of this roll screen with respect to the window glass 40 with a net | network is set in the range of 1-300 mm from the glass surface of an indoor side. When the distance separating the sheet materials 10 and 30 is short, heat due to absorption of solar radiation is easily transmitted from the sheet materials 10 and 30 of the present roll screen to the mesh window glass 40. On the other hand, when the distance separating the sheet materials 10 and 30 is long, heat due to the absorption of solar radiation becomes difficult to be transmitted to the mesh window glass 40, but the sheet materials 10 and 30 of the present roll screen and the mesh window glass 40 The solar radiation adjustment effect tends to be weakened by solar radiation incident from between. Moreover, as distance which separates the sheet | seat materials 10 and 30, More preferably, it exists in the range of 50-250 mm, More preferably, it exists in the range of 100-200 mm.

また、図3(a)(b)に示すように、図1、2のいずれの構成においても、スクリーン基材14よりも室内側に積層構造部18を配置することができる。スクリーン基材14は高分子材料により形成されており、赤外線を吸収する場合がある。特に、PETなどは赤外線を吸収しやすい。積層構造部18は、日射遮蔽性(近赤外線反射性)を有するとともに遠赤外線反射性も有する。そうすると、スクリーン基材14よりも室内側に積層構造部18を配置することによって、室内の暖房熱がスクリーン基材14に吸収される前に積層構造部18によって断熱効果が発揮されるため、暖房効率をより良くできる。   Further, as shown in FIGS. 3A and 3B, the laminated structure 18 can be disposed on the indoor side of the screen base material 14 in any of the configurations of FIGS. The screen substrate 14 is made of a polymer material and may absorb infrared rays. In particular, PET and the like tend to absorb infrared rays. The laminated structure 18 has solar radiation shielding properties (near infrared reflectance) and also has far infrared reflectance. Then, by arranging the laminated structure portion 18 on the indoor side of the screen base material 14, the heat insulating effect is exhibited by the laminated structure portion 18 before the indoor heating heat is absorbed by the screen base material 14. Efficiency can be improved.

また、図2の構成では、さらに、透明積層フィルム12のフィルム基材16が積層構造部18よりもスクリーン基材14側に配置されている。このため、図3(b)に示すように、積層構造部18はフィルム基材16よりも室内側に配置される。これにより、高分子材料により形成されているフィルム基材16により暖房熱が吸収される前に積層構造部18によって断熱効果が発揮されるため、暖房効率をさらに良くできる。そして、図2の構成であれば、本ロールスクリーンのシート材30の熱貫流率を上記する特定の範囲に設定しやすい。なお、図2の構成においては、図3(b)に示すように、保護層20が積層構造部18よりも室内側に配置される。このため、保護層18での暖房熱の吸収を低く抑えるなどの観点から、保護層18の厚みを例えば1〜1.5μmの範囲内で薄くすることが好ましい。より好ましくは1〜1.2μmの範囲内である。   Further, in the configuration of FIG. 2, the film base 16 of the transparent laminated film 12 is further arranged on the screen base 14 side than the laminated structure portion 18. For this reason, as shown in FIG. 3B, the laminated structure portion 18 is disposed on the indoor side of the film base material 16. Thereby, since the heat insulation effect is exhibited by the laminated structure portion 18 before the heating heat is absorbed by the film base material 16 formed of the polymer material, the heating efficiency can be further improved. And if it is the structure of FIG. 2, it is easy to set the heat | fever flow rate of the sheet | seat material 30 of this roll screen to the above-mentioned specific range. In the configuration of FIG. 2, as shown in FIG. 3B, the protective layer 20 is disposed on the indoor side of the laminated structure portion 18. For this reason, it is preferable to reduce the thickness of the protective layer 18 within a range of 1 to 1.5 μm, for example, from the viewpoint of suppressing the absorption of heating heat in the protective layer 18. More preferably, it is in the range of 1 to 1.2 μm.

そして、上記積層構造部が有機分を含有する金属酸化物層と金属層とが積層されたもので構成されていると、積層構造部は柔軟性に優れるため、透明ロールスクリーンの柔軟性に優れる。このため、透明ロールスクリーンの巻き取り性に優れる。   And when the said laminated structure part is comprised by what laminated | stacked the metal oxide layer and metal layer containing an organic content, since a laminated structure part is excellent in a softness | flexibility, it is excellent in the softness | flexibility of a transparent roll screen. . For this reason, it is excellent in the winding-up property of a transparent roll screen.

透明積層フィルムの積層構造部の基本単位としては、具体的には、例えば、透明高分子フィルム側から、MO層│B層/M層/B層、MO層│M層/B層、MO層│B層/M層といった第1基本単位、または、透明高分子フィルム側から、B層/M層/B層│MO層、M層/B層│MO層、B層/M層│MO層といった第2基本単位などを例示することができる。なお、「│」が層の区切りを意味する。また、「/」はM層にB層が付随していることを意味する。   Specifically, the basic unit of the laminated structure portion of the transparent laminated film is, for example, from the transparent polymer film side, MO layer | B layer / M layer / B layer, MO layer | M layer / B layer, MO layer │From the first basic unit such as B layer / M layer, or transparent polymer film side, B layer / M layer / B layer│MO layer, M layer / B layer│MO layer, B layer / M layer│MO layer The second basic unit can be exemplified. Note that “|” means a layer separation. “/” Means that the B layer is attached to the M layer.

積層構造部は、第1基本単位から選択される1または2以上の基本単位が単数または複数繰り返し積層されていても良いし、第2基本単位から選択される1または2以上の基本単位が単数または複数繰り返し積層されていても良い。   In the stacked structure portion, one or more basic units selected from the first basic units may be singularly or plurally stacked, or one or more basic units selected from the second basic units may be singular. Alternatively, a plurality of layers may be laminated repeatedly.

これらのうち、M層を構成する元素がMO層中に拡散するのを抑制しやすいなどの観点から、第1基本単位であれば、MO層│B層/M層/B層の単位を、第2基本単位であれば、B層/M層/B層│MO層の単位を好適に選択することができる。   Among these, from the viewpoint of easily suppressing the elements constituting the M layer from diffusing into the MO layer, the MO layer | B layer / M layer / B layer unit is determined as long as it is the first basic unit. In the case of the second basic unit, a unit of B layer / M layer / B layer | MO layer can be suitably selected.

積層構造部を構成する薄膜層のうち、透明高分子フィルムに接して配置される薄膜層は、有機分を含有する金属酸化物層(MO層)であると良い。高可視光透過、低可視光反射等の光学特性に優れる等の利点がある。また、積層構造部を構成する薄膜層のうち、最外層に配置される薄膜層は、有機分を含有する金属酸化物層(MO層)であると良い。   Of the thin film layers constituting the laminated structure, the thin film layer disposed in contact with the transparent polymer film is preferably a metal oxide layer (MO layer) containing an organic component. There are advantages such as excellent optical characteristics such as high visible light transmission and low visible light reflection. Moreover, the thin film layer arrange | positioned at the outermost layer among the thin film layers which comprise a laminated structure part is good in it being a metal oxide layer (MO layer) containing an organic content.

積層構造部の積層数は、可視光透過性、日射遮蔽性等の光学特性、各薄膜層の材料や膜厚、製造コストなどを考慮して異ならせることができる。上記積層数としては、2〜10層などが好ましく、3層、5層、7層、9層などの奇数層がより好ましい。さらに好ましくは、製造コストなどの観点から、3層、5層、7層であると良い。   The number of laminated structures can be varied in consideration of optical characteristics such as visible light transparency and solar shading, the material and film thickness of each thin film layer, manufacturing cost, and the like. The number of stacked layers is preferably 2 to 10 layers, and more preferably odd layers such as 3 layers, 5 layers, 7 layers, and 9 layers. More preferably, from the viewpoint of production cost and the like, the number of layers is 3 layers, 5 layers, and 7 layers.

積層構造部は、より具体的には、透明性と日射遮蔽性とのバランスを取りやすい、製造コストの抑制などの観点から、透明高分子フィルム側から、MO層(1層目)│B層/M層/B層(2層目)│MO層(3層目)、MO層(1層目)│B層/M層(2層目)│MO層(3層目)、MO層(1層目)│M層/B層(2層目)│MO層(3層目)、MO層(1層目)│M層(2層目)│MO層(3層目)などの3層積層構造部、MO層(1層目)│B層/M層/B層(2層目)│MO層(3層目)│B層/M層/B層(4層目)│MO層(5層目)、MO層(1層目)│B層/M層(2層目)│MO層(3層目)│B層/M層(4層目)│MO層(5層目)、MO層(1層目)│M層/B層(2層目)│MO層(3層目)│M層/B層(4層目)│MO層(5層目)、MO層(1層目)│M層(2層目)│MO層(3層目)│M層(4層目)│MO層(5層目)などの5層積層構造部、MO層(1層目)│B層/M層/B層(2層目)│MO層(3層目)│B層/M層/B層(4層目)│MO層(5層目)│B層/M層/B層(6層目)│MO層(7層目)、MO層(1層目)│B層/M層(2層目)│MO層(3層目)│B層/M層(4層目)│MO層(5層目)│B層/M層(6層目)│MO層(7層目)、MO層(1層目)│M層/B層(2層目)│MO層(3層目)│M層/B層(4層目)│MO層(5層目)│M層/B層(6層目)│MO層(7層目)、MO層(1層目)│M層(2層目)│MO層(3層目)│M層(4層目)│MO層(5層目)│M層(6層目)│MO層(7層目)などの7層積層構造部を好適な構造として例示することができる。   More specifically, the laminated structure is more easily formed from the MO polymer layer (first layer) | layer B from the transparent polymer film side, from the viewpoint of easy balance between transparency and solar shading and manufacturing cost reduction. / M layer / B layer (second layer) | MO layer (third layer), MO layer (first layer) | B layer / M layer (second layer) | MO layer (third layer), MO layer ( First layer) | M layer / B layer (second layer) | MO layer (third layer), MO layer (first layer) | M layer (second layer) | MO layer (third layer), etc. 3 Layer stack structure, MO layer (first layer) | B layer / M layer / B layer (second layer) | MO layer (third layer) | B layer / M layer / B layer (fourth layer) | MO Layer (5th layer), MO layer (1st layer) | B layer / M layer (2nd layer) | MO layer (3rd layer) | B layer / M layer (4th layer) | MO layer (5 layers) Eye), MO layer (first layer) | M layer / B layer (second layer) | MO layer (third layer) | M layer / B layer (fourth layer) ) | MO layer (5th layer), MO layer (1st layer) | M layer (2nd layer) | MO layer (3rd layer) | M layer (4th layer) | MO layer (5th layer), etc. 5 layer laminated structure, MO layer (1st layer) | B layer / M layer / B layer (2nd layer) | MO layer (3rd layer) | B layer / M layer / B layer (4th layer) │MO layer (5th layer) │B layer / M layer / B layer (6th layer) │MO layer (7th layer), MO layer (1st layer) │B layer / M layer (2nd layer) │ MO layer (3rd layer) | B layer / M layer (4th layer) | MO layer (5th layer) | B layer / M layer (6th layer) | MO layer (7th layer), MO layer (1 Layer) | M layer / B layer (2nd layer) | MO layer (3rd layer) | M layer / B layer (4th layer) | MO layer (5th layer) | M layer / B layer (6 layers) Eye) | MO layer (7th layer), MO layer (1st layer) | M layer (2nd layer) | MO layer (3rd layer) | M layer (4th layer) | MO layer (5th layer) │M layer (6th layer) │M It can be exemplified a seven-layer laminated structure, such as a layer (seventh layer) as a preferred structure.

なお、本願における積層数は、B層がM層に付随する薄膜層であるため、B層を含めたM層を1層、MO層を1層として数えている。   In addition, since the B layer is a thin film layer accompanying the M layer, the number of layers in the present application is counted as one M layer including the B layer and one MO layer.

本フィルムにおいて、各薄膜層は、一度に形成されたものであっても良いし、分割形成されたものであっても良い。また、積層構造部中に含まれる各薄膜層のうち、一部または全部が分割形成されていても良い。各薄膜層が、複数の分割層よりなる場合、その分割数は、各薄膜層ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。なお、分割層は積層数として数えず、複数の分割層が集合して形成された1つの薄膜層を1層として数える。   In the present film, each thin film layer may be formed at a time or may be formed in a divided manner. In addition, some or all of the thin film layers included in the stacked structure portion may be divided and formed. When each thin film layer is composed of a plurality of divided layers, the number of divisions may be the same or different for each thin film layer. Note that the divided layers are not counted as the number of stacked layers, but one thin film layer formed by aggregating a plurality of divided layers is counted as one layer.

本フィルムにおいて、各薄膜層の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、この点は、各薄膜層が複数の分割層よりなる場合も同様である。また、各薄膜層の膜厚は、ほぼ同一であっても良いし、各膜ごとに異なっていても良い。   In this film, the composition or material of each thin film layer may be formed from the same composition or material, or may be formed from different compositions or materials. This also applies to the case where each thin film layer is composed of a plurality of divided layers. Moreover, the film thickness of each thin film layer may be substantially the same, and may differ for each film.

以下、本フィルムの積層構造部を構成する金属酸化物層(MO層)および金属層(M層)、本フィルムの積層構造部を任意に構成することがあるバリア層(B層)についてより詳細に説明する。   Hereinafter, the metal oxide layer (MO layer) and metal layer (M layer) constituting the laminated structure part of the film, and the barrier layer (B layer) that may optionally constitute the laminated structure part of the film are described in more detail. Explained.

<金属酸化物層>
上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
<Metal oxide layer>
Specific examples of the metal oxide include titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, indium and tin oxide, magnesium oxide, and aluminum oxide. Products, zirconium oxide, niobium oxide, cerium oxide, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more. Further, these metal oxides may be double oxides in which two or more metal oxides are combined.

上記金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタン(TiO)、ITO、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)などを好適なものとして例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。 As the metal oxide, titanium oxide (TiO 2 ), ITO, zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), and the like are particularly preferable from the viewpoint of a relatively large refractive index with respect to visible light. It can be illustrated. These may be contained alone or in combination of two or more.

ここで、金属酸化物層は、主として上述した金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、本フィルムの柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル−ゲル法の出発原料に由来する成分等、金属酸化物層の形成材料に由来する成分などを例示することができる。   Here, the metal oxide layer is mainly composed of the metal oxide described above, but may contain an organic component in addition to the metal oxide. It is because the softness | flexibility of this film can be improved more by containing an organic content. Specific examples of this type of organic component include components derived from the material for forming the metal oxide layer, such as components derived from the starting material of the sol-gel method.

上記有機分としては、より具体的には、例えば、上述した金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物(その分解物なども含む)や、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物(後述する)等の各種添加剤などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, examples of the organic component include organic metal compounds (including decomposition products thereof) such as metal alkoxides, metal acylates, and metal chelates of the above-described metal oxides, and the above organic metals. Examples thereof include various additives such as an organic compound (described later) that reacts with a compound to form an ultraviolet-absorbing chelate. These may be contained alone or in combination of two or more.

金属酸化物層中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、3質量%以上、より好ましくは、5質量%以上、さらに好ましくは、7質量%以上であると良い。一方、金属酸化物層中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやくなる、耐溶剤性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、30質量%以下、より好ましくは、25質量%以下、さらに好ましくは、20質量%以下であると良い。   The lower limit of the content of the organic component contained in the metal oxide layer is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and still more preferably, from the viewpoint of easily imparting flexibility. It is good that it is 7% by mass or more. On the other hand, the upper limit of the content of the organic component contained in the metal oxide layer is preferably 30% by mass or less, from the viewpoint of easily ensuring a high refractive index and easily ensuring solvent resistance. More preferably, it is 25 mass% or less, More preferably, it is good in it being 20 mass% or less.

なお、上記有機分の含有量は、X線光電子分光法(XPS)などを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法(IR)(赤外吸収分析)などを用いて調べることができる。   In addition, content of the said organic content can be investigated using a X ray photoelectron spectroscopy (XPS) etc. Moreover, the kind of said organic content can be investigated using infrared spectroscopy (IR) (infrared absorption analysis) etc.

金属酸化物層の膜厚は、日射遮蔽性、視認性、反射色などを考慮して調節することができる。   The film thickness of the metal oxide layer can be adjusted in consideration of solar shading, visibility, reflection color, and the like.

金属酸化物層の膜厚の下限値は、反射色の赤色や黄色の着色を抑制しやすくなる、高透明性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、10nm以上、より好ましくは、15nm以上、さらに好ましくは、20nm以上であると良い。一方、金属酸化物層の膜厚の上限値は、反射色の緑色の着色を抑制しやすくなる、高透明性が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、90nm以下、より好ましくは、85nm以下、さらに好ましくは、80nm以下であると良い。   The lower limit of the film thickness of the metal oxide layer is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm, from the viewpoints of easily suppressing the red and yellow colors of the reflected color and easily obtaining high transparency. As described above, more preferably, it is 20 nm or more. On the other hand, the upper limit value of the film thickness of the metal oxide layer is preferably 90 nm or less, more preferably 85 nm, from the viewpoint that it is easy to suppress the green color of the reflected color and high transparency is easily obtained. Hereinafter, more preferably, it is 80 nm or less.

以上のような構成を有する金属酸化物層は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。   The metal oxide layer having the above structure can be formed by either a vapor phase method or a liquid phase method. The liquid phase method does not need to be evacuated or use a large electric power as compared with the gas phase method. Therefore, it is advantageous in terms of cost, and is excellent in productivity.

上記液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に利用することができる。   As the liquid phase method, a sol-gel method can be suitably used from the viewpoint of easily leaving an organic component.

上記ゾル−ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、金属酸化物層の前駆体層を形成した後、この前駆体層中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有する金属酸化物層を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。   More specifically, as the sol-gel method, for example, a coating liquid containing a metal organometallic compound that constitutes a metal oxide is coated in a thin film shape, and this is dried as necessary to obtain a metal oxide. Examples include a method of forming a precursor layer of a physical layer and then hydrolyzing and condensing an organometallic compound in the precursor layer to synthesize an oxide of a metal constituting the organometallic compound. . According to this, a metal oxide layer containing a metal oxide as a main component and containing an organic component can be formed. Hereinafter, the above method will be described in detail.

上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   The coating liquid can be prepared by dissolving the organometallic compound in a suitable solvent. In this case, specific examples of the organometallic compound include organic compounds of metals such as titanium, zinc, indium, tin, magnesium, aluminum, zirconium, niobium, cerium, silicon, hafnium, and lead. Can do. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。   Specific examples of the organometallic compound include metal alkoxides, metal acylates, and metal chelates of the above metals. A metal chelate is preferable from the viewpoint of stability in air.

上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。   As the organic metal compound, in particular, a metal organic compound that can be a metal oxide having a high refractive index can be preferably used. Examples of such organometallic compounds include organic titanium compounds.

上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのM−O−R結合(Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示す)を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのM−O−CO−R結合(Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示す)を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。   Specific examples of the organic titanium compound include M-O-R bonds such as tetra-n-butoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-i-propoxy titanium, and tetramethoxy titanium (R represents an alkyl group). , M represents a titanium atom) and an acylate of titanium having an M—O—CO—R bond (R represents an alkyl group and M represents a titanium atom) such as isopropoxy titanium stearate. Examples thereof include titanium chelates such as diisopropoxy titanium bisacetylacetonate, dihydroxy bis lactato titanium, diisopropoxy bis triethanolaminato titanium, diisopropoxy bis ethyl acetoacetate titanium, and the like. These may be used alone or in combination. These may be either monomers or multimers.

上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、1〜20質量%、より好ましくは、3〜15質量%、さらに好ましくは、5〜10質量%の範囲内にあると良い。   The content of the organometallic compound in the coating liquid is preferably from 1 to 20% by mass, more preferably from 3 to 20% from the viewpoint of the film thickness uniformity of the coating film and the film thickness that can be applied at one time. It is good if it exists in the range of 15 mass%, More preferably, 5-10 mass%.

また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the solvent for dissolving the organometallic compound include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, heptanol and isopropyl alcohol, organic acid esters such as ethyl acetate, acetonitrile, acetone and methyl ethyl ketone. Examples thereof include ketones such as tetrahydrofuran, cycloethers such as dioxane, acid amides such as formamide and N, N-dimethylformamide, hydrocarbons such as hexane, aromatics such as toluene, and the like. These may be used alone or in combination.

この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分重量に対して、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、5〜100倍量、より好ましくは、7〜30倍量、さらに好ましくは、10〜20倍量の範囲内であると良い。   At this time, the amount of the solvent is preferably 5 to 100 times the amount of the solid content weight of the organometallic compound from the viewpoint of the film thickness uniformity of the coating film and the film thickness that can be applied at one time. More preferably, the amount is 7 to 30 times, and further preferably 10 to 20 times.

上記溶媒量が100倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、5倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。   When the amount of the solvent is more than 100 times, the film thickness that can be formed by a single coating becomes thin, and a tendency to require many coatings to obtain a desired film thickness is observed. On the other hand, when the amount is less than 5 times, the film thickness becomes too thick, and there is a tendency that the hydrolysis / condensation reaction of the organometallic compound does not proceed sufficiently. Therefore, the amount of the solvent is preferably selected in consideration of these.

また、上記コーティング液中には、ゾル−ゲル法による加水分解が促進され、高屈折率化が図りやすくなるなどの観点から、必要に応じて水が含まれていても良い。   In addition, the coating liquid may contain water as necessary from the viewpoint of promoting hydrolysis by a sol-gel method and facilitating a high refractive index.

上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、1度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。   The coating liquid is prepared, for example, by mixing an organometallic compound weighed so as to have a predetermined ratio, an appropriate amount of solvent, and other components added as necessary, with a stirring means such as a stirrer for a predetermined time. It can be prepared by a method such as stirring and mixing. In this case, the components may be mixed at a time or may be mixed in a plurality of times.

また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、1種または2種以上併用しても良い。   In addition, as a coating method of the coating liquid, from the viewpoint of easy uniform coating, a micro gravure method, a gravure method, a reverse roll coating method, a die coating method, a knife coating method, a dip coating method, a spin coating method, a bar coating method, and the like. Various wet coating methods such as a coating method can be exemplified as suitable ones. These may be appropriately selected and used, and one or more may be used in combination.

また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、80℃〜120℃の温度範囲、0.5分〜5分の乾燥時間などを例示することができる。   Further, when the coated coating liquid is dried, it may be dried using a known drying apparatus. In this case, as the drying conditions, specifically, for example, a temperature range of 80 ° C to 120 ° C, Examples of the drying time include 0.5 minutes to 5 minutes.

また、前駆体層中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線、電子線、X線等の光エネルギーの照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、好ましくは、光エネルギーの照射、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を透明高分子フィルムに与え難いからである(とりわけ、紫外線照射の場合は、比較的簡易な設備で済む利点がある。)。また、有機分として、有機金属化合物(その分解物なども含む)などを残存させやすい利点もあるからである。   Specific examples of means for hydrolyzing and condensing the organometallic compound in the precursor layer include various means such as irradiation with light energy such as ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and heating. can do. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, preferably, irradiation with light energy, particularly ultraviolet irradiation can be suitably used. Compared with other means, it is possible to produce a metal oxide at a low temperature in a short time, and it is difficult to give heat load such as thermal degradation to the transparent polymer film (especially in the case of ultraviolet irradiation, There is an advantage that simple equipment can be used.) In addition, there is an advantage that an organic metal compound (including a decomposition product thereof) or the like is easily left as an organic component.

この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。   In this case, specific examples of the ultraviolet irradiator to be used include a mercury lamp, a xenon lamp, a deuterium lamp, an excimer lamp, a metal halide lamp, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、照射する光エネルギーの光量は、前駆体層を主に形成している有機金属化合物の種類、コーティング層の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する光エネルギーの光量が過度に小さすぎると、金属酸化物層の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する光エネルギーの光量が過度に大きすぎると、光エネルギーの照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。   Further, the amount of light energy to be irradiated can be variously adjusted in consideration of the type of the organometallic compound mainly forming the precursor layer, the thickness of the coating layer, and the like. However, if the amount of light energy to be irradiated is too small, it is difficult to increase the refractive index of the metal oxide layer. On the other hand, if the amount of light energy to be irradiated is excessively large, the transparent polymer film may be deformed by heat generated during the light energy irradiation. Therefore, these should be noted.

照射する光エネルギーが紫外線である場合、その光量は、金属酸化物層の屈折率、透明高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長300〜390nmのとき、好ましくは、300〜8000mJ/cm、より好ましくは、500〜5000mJ/cmの範囲内であると良い。 When the light energy to be irradiated is ultraviolet light, the light amount is preferably 300 to 8000 mJ / cm at a measurement wavelength of 300 to 390 nm from the viewpoint of the refractive index of the metal oxide layer, damage to the transparent polymer film, and the like. 2 , more preferably in the range of 500 to 5000 mJ / cm 2 .

なお、前駆体層中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段として、光エネルギーの照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して光吸収性(例えば、紫外線吸収性)のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め光吸収性キレートが形成されたところに光エネルギーの照射がなされるので、比較的低温下において金属酸化物層の高屈折率化を図り得やすくなるからである。   When light energy irradiation is used as a means for hydrolyzing and condensing the organometallic compound in the precursor layer, it reacts with the organometallic compound in the coating liquid described above to absorb light (for example, absorbs ultraviolet rays). It is preferable to add an additive such as an organic compound that forms a chelate. When the additive is added to the coating solution that is the starting solution, light energy is irradiated where the light-absorbing chelate has been formed in advance, so that the metal oxide layer is formed at a relatively low temperature. This is because a high refractive index can be easily achieved.

上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−メトキシ−2−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the additive include additives such as β diketones, alkoxy alcohols, and alkanolamines. More specifically, examples of the β diketones include acetylacetone, benzoylacetone, ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, diethyl malonate, and the like. Examples of the alkoxy alcohols include 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxy-2-propanol, and the like. Examples of the alkanolamines include monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. These may be used alone or in combination.

これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。   Of these, β diketones are particularly preferred, and acetylacetone can be most preferably used.

また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子1モルに対して、好ましくは、0.1〜2倍モル、より好ましくは、0.5〜1.5倍モルの範囲内にあると良い。   The blending ratio of the additive is preferably 0.1 to 1 mol of the metal atom in the organometallic compound from the viewpoint of easiness in increasing the refractive index and stability in the state of the coating film. It is good that it is in the range of 2 times mole, more preferably 0.5 to 1.5 times mole.

<金属層>
金属層の金属としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属の合金などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。
<Metal layer>
Specific examples of the metal of the metal layer include silver, gold, platinum, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin, nickel, cobalt, niobium, tantalum, tungsten, zirconium, lead, palladium, indium and the like. These metals, alloys of these metals, etc. can be illustrated. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記金属としては、積層時の可視光透過性、熱線反射性、導電性などに優れるなどの観点から、銀または銀合金が好ましい。より好ましくは、熱、光、水蒸気などの環境に対する耐久性が向上するなどの観点から、銀を主成分とし、銅、ビスマス、金、パラジウム、白金、チタンなどの金属元素を少なくとも1種以上含んだ銀合金であると良い。さらに好ましくは、銅を含む銀合金(Ag−Cu系合金)、ビスマスを含む銀合金(Ag−Bi系合金)、チタンを含む銀合金(Ag−Ti系合金)等であると良い。銀の拡散抑制効果が大きい、コスト的に有利であるなどの利点があるからである。   The metal is preferably silver or a silver alloy from the viewpoints of excellent visible light transparency, heat ray reflectivity, conductivity, and the like during lamination. More preferably, from the viewpoint of improving durability against environment such as heat, light, and water vapor, the main component is silver, and at least one metal element such as copper, bismuth, gold, palladium, platinum, and titanium is included. It should be a silver alloy. More preferably, a silver alloy containing copper (Ag—Cu alloy), a silver alloy containing bismuth (Ag—Bi alloy), a silver alloy containing titanium (Ag—Ti alloy), or the like may be used. This is because there are advantages such as a large silver diffusion suppression effect and cost advantage.

銅を含む銀合金を用いる場合、銀、銅以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   In the case of using a silver alloy containing copper, in addition to silver and copper, for example, other elements and inevitable impurities may be contained as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Bi、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag−Cu系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Bi, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, etc. in Ag-Cu alloys Element which can be precipitated as a single phase in Y; La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ti, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

銅を含む銀合金を用いる場合、銅の含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、1原子%以上、より好ましくは、2原子%以上、さらに好ましくは、3原子%以上であると良い。一方、銅の含有量の上限値は、高透明性を確保しやすくなる、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、20原子%以下、より好ましくは、10原子%以下、さらに好ましくは、5原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing copper, the lower limit of the copper content is preferably 1 atomic% or more, more preferably 2 atomic% or more, and even more preferably 3 atomic% or more, from the viewpoint of obtaining the effect of addition. It is good to be. On the other hand, the upper limit of the copper content is preferably 20 atomic% or less, more preferably 10 atomic%, from the viewpoint of manufacturability such as easy to ensure high transparency and easy production of a sputtering target. Hereinafter, it is more preferable that it is 5 atomic% or less.

また、ビスマスを含む銀合金を用いる場合、銀、ビスマス以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   Further, when using a silver alloy containing bismuth, in addition to silver and bismuth, for example, other elements and inevitable impurities may be included as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver. good.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag−Bi系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Cu, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, etc., in Ag-Bi alloys Element which can be precipitated as a single phase in Y; La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ti, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

ビスマスを含む銀合金を用いる場合、ビスマスの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子%以上、より好ましくは、0.05原子%以上、さらに好ましくは、0.1原子%以上であると良い。一方、ビスマスの含有量の上限値は、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、5原子%以下、より好ましくは、2原子%以下、さらに好ましくは、1原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing bismuth, the lower limit of the bismuth content is preferably 0.01 atomic% or more, more preferably 0.05 atomic% or more, and still more preferably, from the viewpoint of obtaining the effect of addition. It may be 0.1 atomic% or more. On the other hand, the upper limit of the bismuth content is preferably 5 atomic% or less, more preferably 2 atomic% or less, and still more preferably 1 atomic% from the viewpoint of manufacturability such as easy production of a sputtering target. It is good to be below.

また、チタンを含む銀合金を用いる場合、銀、チタン以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。   In addition, when using a silver alloy containing titanium, other than silver and titanium, for example, other elements and inevitable impurities may be included as long as they do not adversely affect the aggregation / diffusion suppression effect of silver. good.

上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pb、Biなど、Ag−Ti系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。   Specific examples of the other elements include elements that can be dissolved in Ag such as Mg, Pd, Pt, Au, Zn, Al, Ga, In, Sn, Sb, Li, Cd, Hg, and As. ; Be, Ru, Rh, Os, Ir, Cu, Ge, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Si, Tl, Pb, Bi, etc., Ag-Ti system Elements that can be precipitated as a single phase in the alloy; Y, La, Ce, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Zr, Hf, Na, Ca, Sr, Ba, Sc, Pr, Eu, Ho, Er, Tm Examples include elements capable of precipitating intermetallic compounds with Ag such as Yb, Lu, S, Se, and Te. These may be contained alone or in combination of two or more.

チタンを含む銀合金を用いる場合、チタンの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子%以上、より好ましくは、0.05原子%以上、さらに好ましくは、0.1原子%以上であると良い。一方、チタンの含有量の上限値は、膜にした場合、完全な固溶体が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、2原子%以下、より好ましくは、1.75原子%以下、さらに好ましくは、1.5原子%以下であると良い。   When using a silver alloy containing titanium, the lower limit value of the titanium content is preferably 0.01 atomic% or more, more preferably 0.05 atomic% or more, and still more preferably, from the viewpoint of obtaining an addition effect. It may be 0.1 atomic% or more. On the other hand, the upper limit of the content of titanium is preferably 2 atomic% or less, more preferably 1.75 atomic% or less, and still more preferably, from the viewpoint that a complete solid solution is easily obtained when it is formed into a film. Is preferably 1.5 atomic% or less.

なお、上記銅、ビスマス、チタン等の副元素割合は、ICP分析法を用いて測定することができる。また、上記金属層を構成する金属(合金含む)は、部分的に酸化されていても良い。   Note that the proportion of subelements such as copper, bismuth and titanium can be measured using ICP analysis. Further, the metal (including alloy) constituting the metal layer may be partially oxidized.

金属層の膜厚の下限値は、安定性、熱線反射性などの観点から、好ましくは、3nm以上、より好ましくは、5nm以上、さらに好ましくは、7nm以上であると良い。一方、金属層の膜厚の上限値は、可視光の透明性、経済性などの観点から、好ましくは、30nm以下、より好ましくは、20nm以下、さらに好ましくは、15nm以下であると良い。   The lower limit of the thickness of the metal layer is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 7 nm or more from the viewpoints of stability, heat ray reflectivity, and the like. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the metal layer is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and further preferably 15 nm or less, from the viewpoint of transparency of visible light, economy, and the like.

ここで、金属層を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法(CVD)などの気相法などを例示することができる。金属層は、これらのうち何れか1つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を用いて形成されていても良い。   Here, as a method for forming the metal layer, specifically, for example, physical vapor deposition (PVD) such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, MBE, laser ablation, thermal CVD, etc. Examples thereof include a vapor phase method such as a chemical vapor deposition method (CVD) such as a plasma CVD method. The metal layer may be formed using any one of these methods, or may be formed using two or more methods.

これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。   Of these methods, sputtering methods such as a DC magnetron sputtering method and an RF magnetron sputtering method can be preferably used from the viewpoint of obtaining a dense film quality and relatively easy film thickness control.

なお、金属層は、後述する後酸化等を受けて、金属層の機能を損なわない範囲内で酸化されていても良い。   In addition, the metal layer may be oxidized within the range which does not impair the function of a metal layer by receiving the post-oxidation etc. which are mentioned later.

<バリア層>
本フィルムにおいて、バリア層は、主として、金属層を構成する元素が、金属酸化物層中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、金属酸化物層と金属層との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。
<Barrier layer>
In the present film, the barrier layer mainly has a barrier function that suppresses diffusion of elements constituting the metal layer into the metal oxide layer. Further, by interposing between the metal oxide layer and the metal layer, it is possible to contribute to improving the adhesion between them.

なお、バリア層は、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。   Note that the barrier layer may have discontinuous portions such as floating islands as long as the diffusion can be suppressed.

バリア層を構成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。なお、バリア層は、上記金属酸化物以外に不可避不純物などを含んでいても良い。   Specific examples of the metal oxide constituting the barrier layer include, for example, titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, indium and tin oxide, and magnesium oxide. And aluminum oxide, zirconium oxide, niobium oxide, cerium oxide, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more. Further, these metal oxides may be double oxides in which two or more metal oxides are combined. Note that the barrier layer may contain inevitable impurities in addition to the metal oxide.

ここで、バリア層としては、金属層を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、金属酸化物層中に含まれる金属の酸化物より主に構成されていると良い。   Here, the barrier layer is mainly composed of a metal oxide contained in the metal oxide layer from the viewpoint of excellent diffusion suppression effect of the metal constituting the metal layer and excellent adhesion. good.

より具体的には、例えば、金属酸化物層としてTiO層を選択した場合、バリア層は、TiO層中に含まれる金属であるTiの酸化物より主に構成されるチタン酸化物層であると良い。 More specifically, for example, when a TiO 2 layer is selected as the metal oxide layer, the barrier layer is a titanium oxide layer mainly composed of an oxide of Ti that is a metal contained in the TiO 2 layer. Good to have.

また、バリア層がチタン酸化物層である場合、当該バリア層は、当初からチタン酸化物として形成された薄膜層であっても良いし、金属Ti層が後酸化されて形成された薄膜層、または、部分酸化されたチタン酸化物層が後酸化されて形成された薄膜層等であっても良い。   When the barrier layer is a titanium oxide layer, the barrier layer may be a thin film layer formed as titanium oxide from the beginning, or a thin film layer formed by post-oxidation of a metal Ti layer, Alternatively, it may be a thin film layer formed by post-oxidizing a partially oxidized titanium oxide layer.

バリア層は、金属酸化物層と同じように主に金属酸化物から構成されるが、金属酸化物層よりも膜厚が薄く設定される。これは、金属層を構成する金属の拡散は、原子レベルで生じるので、屈折率を十分確保するのに必要な膜厚まで厚くする必要性が低いからである。また、薄く形成することで、その分、成膜コストが安価になり、本フィルムの製造コストの低減にも寄与することができる。   The barrier layer is mainly composed of a metal oxide in the same manner as the metal oxide layer, but is set to be thinner than the metal oxide layer. This is because the diffusion of the metal constituting the metal layer occurs at the atomic level, so that it is not necessary to increase the film thickness to a sufficient level to ensure a sufficient refractive index. Moreover, by forming it thinly, the film-forming cost is reduced correspondingly, and it can contribute to the reduction of the manufacturing cost of this film.

バリア層の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、1nm以上、より好ましくは、1.5nm以上、さらに好ましくは、2nm以上であると良い。一方、バリア層の膜厚の上限値は、経済性などの観点から、好ましくは、15nm以下、より好ましくは、10nm以下、さらに好ましくは、8nm以下であると良い。   The lower limit value of the thickness of the barrier layer is preferably 1 nm or more, more preferably 1.5 nm or more, and still more preferably 2 nm or more, from the viewpoint of easily ensuring barrier properties. On the other hand, the upper limit value of the thickness of the barrier layer is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, and still more preferably 8 nm or less, from the viewpoint of economy and the like.

バリア層が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの下限値は、バリア性などの観点から、1.0/4.0以上、より好ましくは、1.0/3.8以上、さらに好ましくは、1.0/3.5以上、さらにより好ましくは、1.0/3.0以上、最も好ましくは、1.0/2.8以上であると良い。   When the barrier layer is mainly composed of titanium oxide, the lower limit value of the atomic molar ratio Ti / O of titanium to oxygen in the titanium oxide is 1.0 / 4.0 or more from the viewpoint of barrier properties and the like. Preferably, 1.0 / 3.8 or higher, more preferably 1.0 / 3.5 or higher, even more preferably 1.0 / 3.0 or higher, most preferably 1.0 / 2.8. It is good to be above.

バリア層が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの上限値は、可視光の透明性などの観点から、好ましくは、1.0/0.5以下、より好ましくは、1.0/0.7以下、さらに好ましくは、1.0/1.0以下、さらにより好ましくは、1.0/1.2以下、最も好ましくは、1.0/1.5以下であると良い。   When the barrier layer is mainly composed of titanium oxide, the upper limit of the atomic molar ratio Ti / O of titanium to oxygen in the titanium oxide is preferably 1.0 / 0.5 or less, more preferably 1.0 / 0.7 or less, more preferably 1.0 / 1.0 or less, even more preferably 1.0 / 1.2 or less, most preferably 1 0.0 / 1.5 or less is preferable.

上記Ti/O比は、当該層の組成から算出することができる。当該層の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜層の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光X線分析(EDX)を好適に用いることができる。   The Ti / O ratio can be calculated from the composition of the layer. As a composition analysis method of the layer, energy dispersive X-ray fluorescence analysis (EDX) can be preferably used from the viewpoint of enabling comparatively accurate analysis of the composition of an extremely thin thin film layer.

具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法(ミクロトーム)などを用いて、分析対象となる当該層を含む積層構造部の断面方向の厚みが100nm以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から積層構造部と当該層の位置を、透過型電子顕微鏡(TEM)により確認する。次いで、EDX装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該層の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やX線を発生させる。この際の特性X線を検出して分析することで、当該層の構成元素分析を行うことができる。   A specific composition analysis method will be described. First, using an ultrathin section method (microtome) or the like, a test piece having a thickness of 100 nm or less in the cross-sectional direction of the laminated structure including the layer to be analyzed is prepared. Next, the position of the laminated structure portion and the layer is confirmed with a transmission electron microscope (TEM) from the cross-sectional direction. Next, an electron beam is emitted from the electron gun of the EDX apparatus and is incident on the vicinity of the center of the film thickness of the layer to be analyzed. Electrons incident from the surface of the test specimen enter to a certain depth and generate various electron beams and X-rays. By detecting and analyzing characteristic X-rays at this time, the constituent elements of the layer can be analyzed.

本フィルムにおいて、バリア層は、緻密な膜を形成できる、数nm〜数十nm程度の薄膜層を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法を好適に利用することができる。   In this film, the gas phase method can be suitably used as the barrier layer from the viewpoint that a dense film can be formed and a thin film layer of about several nm to several tens of nm can be formed with a uniform film thickness.

上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法(CVD)などを例示することができる。上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。   Specific examples of the vapor phase method include physical vapor deposition methods (PVD) such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, MBE, and laser ablation, thermal CVD, and plasma CVD. Examples thereof include chemical vapor deposition (CVD) and the like. As the vapor phase method, a sputtering method such as a DC magnetron sputtering method or an RF magnetron sputtering method is preferable from the viewpoint of excellent adhesion at the film interface as compared with a vacuum deposition method and the like and easy control of the film thickness. Can be used.

なお、上記積層構造部中に含まれうる各バリア層は、これら気相法のうち何れか1つの方法を利用して形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を利用して形成されていても良い。   Note that each barrier layer that can be included in the stacked structure portion may be formed by using any one of these vapor phase methods, or by using two or more methods. It may be formed.

また、上記バリア層は、上述した気相法を利用し、当初から金属酸化物層として成膜しても良いし、あるいは、一旦、金属層や部分酸化された金属酸化物層を成膜した後、これを事後的に酸化して形成することも可能である。なお、部分酸化された金属酸化物層とは、さらに酸化される余地がある金属酸化物層を指す。   The barrier layer may be formed as a metal oxide layer from the beginning by using the above-described vapor phase method, or a metal layer or a partially oxidized metal oxide layer is once formed. Later, it can be formed by oxidizing it afterwards. The partially oxidized metal oxide layer refers to a metal oxide layer that has room for further oxidation.

当初から金属酸化物層として成膜する場合、具体的には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながら薄膜を形成すれば良い(反応性スパッタリング法)。反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ti/O比を有するチタン酸化物層を得る場合、雰囲気中の酸素濃度(不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合)は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。   When forming a metal oxide layer from the beginning, specifically, for example, a gas containing oxygen as a reactive gas is mixed with an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas, and the metal and oxygen are mixed. A thin film may be formed while reacting (reactive sputtering method). For example, when a titanium oxide layer having the Ti / O ratio is obtained by using the reactive sputtering method, the oxygen concentration in the atmosphere (the volume ratio of the gas containing oxygen to the inert gas) is the film thickness range described above. The optimum ratio may be appropriately selected in consideration of the above.

一方、金属層や部分酸化された金属酸化物層を成膜した後、これを事後的に後酸化する場合、具体的には、透明高分子フィルム上に上述した積層構造部を形成した後、積層構造部中の金属層や部分酸化された金属酸化物層を後酸化させる等すれば良い。なお、金属層の成膜には、スパッタリング法等を、部分酸化された金属酸化物層の成膜には、上述した反応性スパッタリング法等を用いれば良い。   On the other hand, after forming a metal layer or a partially oxidized metal oxide layer and then post-oxidizing it, specifically, after forming the above-described laminated structure on the transparent polymer film, What is necessary is just to post-oxidize the metal layer in a laminated structure part, or the metal oxide layer partially oxidized. Note that a sputtering method or the like may be used for forming the metal layer, and the above-described reactive sputtering method or the like may be used for forming the partially oxidized metal oxide layer.

また、後酸化手法としては、加熱処理、加圧処理、化学処理、自然酸化等を例示することができる。これら後酸化手法のうち、比較的簡単かつ確実に後酸化を行うことができるなどの観点から、加熱処理が好ましい。上記加熱処理としては、例えば、上述した積層構造部を有する透明高分子フィルムを加熱炉等の加熱雰囲気中に存在させる方法、温水中に浸漬する方法、マイクロ波加熱する方法や、積層構造部中の金属層や部分酸化された金属酸化物層等を通電加熱する方法などを例示することができる。これらは1または2以上組み合わせて行っても良い。   Examples of the post-oxidation technique include heat treatment, pressure treatment, chemical treatment, and natural oxidation. Of these post-oxidation techniques, heat treatment is preferable from the viewpoint of enabling post-oxidation relatively easily and reliably. Examples of the heat treatment include, for example, a method in which the transparent polymer film having the laminated structure described above is present in a heating atmosphere such as a heating furnace, a method of immersing in warm water, a method of microwave heating, Examples thereof include a method of energizing and heating the metal layer, the partially oxidized metal oxide layer, and the like. These may be performed in combination of one or two or more.

上記加熱処理時の加熱条件としては、具体的には、例えば、好ましくは、30℃〜60℃、より好ましくは、32℃〜57℃、さらに好ましくは、35℃〜55℃の加熱温度、加熱雰囲気中に存在させる場合、好ましくは、5日間以上、より好ましくは、10日間以上、さらに好ましくは、15日間以上の加熱時間から選択すると良い。上記加熱条件の範囲内であれば、後酸化効果、透明高分子フィルムの熱変形・融着抑制等が良好だからである。   As heating conditions at the time of the heat treatment, specifically, for example, preferably 30 ° C. to 60 ° C., more preferably 32 ° C. to 57 ° C., more preferably 35 ° C. to 55 ° C., heating When present in the atmosphere, the heating time is preferably selected from 5 days or longer, more preferably 10 days or longer, and even more preferably 15 days or longer. This is because the post-oxidation effect, the suppression of thermal deformation and fusion of the transparent polymer film, and the like are good within the above heating conditions.

また、上記加熱処理時の加熱雰囲気は、大気中、高酸素雰囲気中、高湿度雰囲気中など酸素や水分の存在する雰囲気が好ましい。特に好ましくは、製造性、低コスト化等の観点から、大気中であると良い。   The heating atmosphere during the heat treatment is preferably an atmosphere containing oxygen or moisture, such as in the air, a high oxygen atmosphere, or a high humidity atmosphere. Particularly preferably, it is in the air from the viewpoint of manufacturability and cost reduction.

積層構造部中に上述した後酸化薄膜を含んでいる場合には、後酸化時に、金属酸化物層中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、太陽光が当たっても金属酸化物層が化学反応し難くなる。具体的には、例えば、金属酸化物層がゾル−ゲル法により形成されている場合、後酸化時に、金属酸化物層中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、金属酸化物層中に残存していたゾル−ゲル法による出発原料(金属アルコキシド等)と水分(吸着水等)・酸素等とが、太陽光によってゾルゲル硬化反応し難くなる。そのため、硬化収縮等の体積変化によって生じる内部応力を緩和することが可能となり、積層構造部の界面剥離等を抑制しやすくなる等、太陽光に対する耐久性を向上させやすくなる。   When the post-oxidation thin film described above is included in the laminated structure portion, since the moisture and oxygen contained in the metal oxide layer are consumed during post-oxidation, the metal oxidation is performed even when exposed to sunlight. The physical layer becomes difficult to chemically react. Specifically, for example, when the metal oxide layer is formed by a sol-gel method, since the moisture and oxygen contained in the metal oxide layer are consumed during post-oxidation, the metal oxide layer The starting material (metal alkoxide, etc.) by the sol-gel method remaining in the layer and moisture (adsorbed water, etc.), oxygen, etc. are difficult to undergo a sol-gel curing reaction by sunlight. Therefore, it is possible to relieve internal stress caused by volume change such as curing shrinkage, and it is easy to suppress interfacial peeling of the laminated structure portion, and to improve durability against sunlight.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

<透明積層フィルム(1)の作製>
(コーティング液の調製)
ゾル−ゲル法によるTiO層の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ−n−ブトキシチタン4量体(日本曹達(株)製、「B4」)と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、n−ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて10分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ−n−ブトキシチタン4量体/アセチルアセトン/n−ブタノール/イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ6.75質量%/3.38質量%/59.87質量%/30.00質量%とした。
<Preparation of transparent laminated film (1)>
(Preparation of coating solution)
A coating solution used for forming a TiO 2 layer by a sol-gel method was prepared. That is, tetra-n-butoxytitanium tetramer (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., “B4”) as titanium alkoxide, and acetylacetone as an additive that forms an ultraviolet-absorbing chelate, n-butanol and isopropyl It mix | blended with the mixed solvent with alcohol, and this was mixed for 10 minutes using the stirrer, and the coating liquid was prepared. At this time, the composition of tetra-n-butoxy titanium tetramer / acetylacetone / n-butanol / isopropyl alcohol was 6.75% by mass / 3.38% by mass / 59.87% by mass / 30.00% by mass, respectively. did.

(各層の積層)
厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績(株)製、「コスモシャイン(登録商標)A4100」)の一方面上に、1層目として、TiO層を以下の手順により成膜した。
(Lamination of each layer)
A TiO 2 layer was formed as a first layer on one side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine (registered trademark) A4100”) by the following procedure.

すなわち、PETフィルムのPET面側に、マイクログラビアコーターを用いて、それぞれ所定の溝容積のグラビアロールで上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を100℃で80秒間乾燥させ、TiO層の前駆体層を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機〔高圧水銀ランプ(160W/cm)〕を用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体層に対して連続的に紫外線を1.5秒間照射した。これによりPETフィルム上に、ゾルゲル硬化時に紫外線エネルギーを用いるゾル−ゲル法(以下「(ゾルゲル+UV)」と省略することがある。)によるTiO層(1層目)を成膜した。 That is, the coating liquid was continuously applied to the PET surface side of the PET film with a gravure roll having a predetermined groove volume using a micro gravure coater. Subsequently, the coating film was dried at 100 ° C. for 80 seconds using an in-line drying furnace to form a precursor layer of TiO 2 layer. Then, using an in-line ultraviolet irradiator [high pressure mercury lamp (160 W / cm)], the precursor layer was continuously irradiated with ultraviolet rays for 1.5 seconds at the same linear velocity as that during the coating. Thus, a TiO 2 layer (first layer) was formed on the PET film by a sol-gel method using ultraviolet energy during sol-gel curing (hereinafter sometimes abbreviated as “(sol gel + UV)”).

次に、1層目の上に、2層目を構成する各薄膜を成膜した。すなわち、DCマグネトロンスパッタ装置を用い、1層目のTiO層上に、下側の金属Ti層をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側の金属Ti層上に、Ag−Cu合金層をスパッタリングにより成膜した。次いで、このAg−Cu合金層上に、上側の金属Ti層をスパッタリングにより成膜した。 Next, each thin film constituting the second layer was formed on the first layer. That is, a lower metal Ti layer was formed by sputtering on the first TiO 2 layer using a DC magnetron sputtering apparatus. Next, an Ag—Cu alloy layer was formed on the lower metal Ti layer by sputtering. Next, an upper metal Ti layer was formed on the Ag—Cu alloy layer by sputtering.

この際、上側および下側の金属Ti層の成膜条件は、Tiターゲット(純度4N)、真空到達圧:5×10−6(Torr)、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10−3(Torr)、投入電力:1.5(kW)、成膜時間:1.1秒とした。 At this time, the film formation conditions of the upper and lower metal Ti layers were as follows: Ti target (purity 4N), vacuum ultimate pressure: 5 × 10 −6 (Torr), inert gas: Ar, gas pressure: 2.5 × 10 −3 (Torr), input power: 1.5 (kW), and film formation time: 1.1 seconds.

また、Ag−Cu合金薄膜の成膜条件は、Ag−Cu合金ターゲット(Cu含有量:4原子%)、真空到達圧:5×10−6(Torr)、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10−3(Torr)、投入電力:1.5(kW)、成膜時間:1.1秒とした。 The film formation conditions of the Ag—Cu alloy thin film are as follows: Ag—Cu alloy target (Cu content: 4 atom%), vacuum ultimate pressure: 5 × 10 −6 (Torr), inert gas: Ar, gas pressure: 2.5 × 10 −3 (Torr), input power: 1.5 (kW), and film formation time: 1.1 seconds.

次に、3層目として、2層目の上に、(ゾルゲル+UV)によるTiO層を成膜した。ここでは、1層目に準じた成膜手順を2回行うことにより、所定の膜厚とした。 Next, as the third layer, a TiO 2 layer by (sol gel + UV) was formed on the second layer. Here, the film forming procedure according to the first layer is performed twice to obtain a predetermined film thickness.

次に、4層目として、3層目の上に、4層目を構成する各薄膜を成膜した。ここでは、2層目に準じた成膜手順を行った。   Next, as the fourth layer, each thin film constituting the fourth layer was formed on the third layer. Here, a film forming procedure according to the second layer was performed.

但し、Ag−Cu合金薄膜の成膜時に、上述した成膜条件を、Ag−Cu合金ターゲット(Cu含有量:4原子%)、真空到達圧:5×10−6(Torr)、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10−3(Torr)、投入電力:1.8(kW)、成膜時間:1.1秒と変更することで、膜厚を変化させた。 However, when the Ag—Cu alloy thin film was formed, the film formation conditions described above were as follows: Ag—Cu alloy target (Cu content: 4 atomic%), vacuum ultimate pressure: 5 × 10 −6 (Torr), inert gas : Ar, gas pressure: 2.5 × 10 −3 (Torr), input power: 1.8 (kW), and film formation time: 1.1 seconds, thereby changing the film thickness.

次に、5層目として、4層目の上に、3層目と同じ構成の(ゾルゲル+UV)によるTiO層を成膜した。 Next, as the fifth layer, a TiO 2 layer having the same configuration as the third layer (sol gel + UV) was formed on the fourth layer.

次に、6層目として、5層目の上に、2層目と同じ構成の各薄膜を成膜した。   Next, as the sixth layer, each thin film having the same configuration as the second layer was formed on the fifth layer.

次に、7層目として、6層目の上に、(ゾルゲル+UV)によるTiO層を成膜した。ここでは、1層目に準じた成膜手順を1回行うことにより、所定の膜厚とした。 Next, as the seventh layer, a TiO 2 layer by (sol gel + UV) was formed on the sixth layer. Here, a predetermined film thickness is obtained by performing the film formation procedure according to the first layer once.

その後、上記積層工程を経て得られた透明積層フィルムを、加熱炉内にて、40℃で300時間加熱処理することにより、積層構造部中に含まれる金属Ti層/Ag−Cu合金層/金属Ti層(2、4、6層目)を後酸化させた。   Thereafter, the transparent laminated film obtained through the above-described lamination step is heat-treated in a heating furnace at 40 ° C. for 300 hours, so that the metal Ti layer / Ag—Cu alloy layer / metal contained in the laminated structure portion. The Ti layer (2, 4, 6th layer) was post-oxidized.

(保護層の形成)
紫外線硬化性のアクリル樹脂(DICグラフィックス社製、「UCシーラーTE014」)を濃度20%となるようにMEKで希釈し、塗液を調製した。次に、上記により作製した積層構造部付きフィルムの積層構造部の表面に、調製した塗液を塗工し、100℃で2分間乾燥し、さらに400mJ/cmの紫外線を照射した。これにより、透明積層部の表面に、アクリル樹脂(硬化物)よりなる保護層を形成した。
(Formation of protective layer)
An ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by DIC Graphics, “UC Sealer TE014”) was diluted with MEK to a concentration of 20% to prepare a coating solution. Next, the prepared coating liquid was applied to the surface of the laminated structure part of the film with the laminated structure part produced as described above, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and further irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 . This formed the protective layer which consists of an acrylic resin (hardened | cured material) on the surface of a transparent laminated part.

以上により、7層積層構造部を有する透明積層フィルム(1)を作製した。   Thus, a transparent laminated film (1) having a 7-layer laminated structure was produced.

<透明積層フィルム(2)の作製>
保護層の厚みを変更した以外は透明積層フィルム(1)と同様にして、7層積層構造部を有する透明積層フィルム(2)を作製した。
<Preparation of transparent laminated film (2)>
A transparent laminated film (2) having a 7-layer laminated structure was produced in the same manner as the transparent laminated film (1) except that the thickness of the protective layer was changed.

<透明積層フィルム(3)の作製>
透明積層フィルム(1)の各層の積層手順と同じ手順で3層目まで成膜した以外は透明積層フィルム(2)と同様にして、3層積層構造部を有する透明積層フィルム(3)を作製した。
<Preparation of transparent laminated film (3)>
A transparent laminated film (3) having a three-layer laminated structure is produced in the same manner as the transparent laminated film (2) except that the third layer is formed in the same procedure as the lamination procedure of each layer of the transparent laminated film (1). did.

<ロールスクリーン用シート材(1)の作製>
厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績(株)製、「コスモシャイン(登録商標)A4100」)に対し、接着剤を用いて透明積層フィルム(1)の保護層側を接着した(接着層の厚み22μm)。次いで、UV硬化型ハードコート剤(東洋インキ社製「LCH」)を両外側面に塗工し、乾燥・硬化させることにより、ハードコート層を形成した。以上により、ロールスクリーン用シート材(1)を作製した。
<Production of Roll Screen Sheet Material (1)>
The protective layer side of the transparent laminated film (1) was bonded to a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine (registered trademark) A4100”) (adhesive layer thickness). 22 μm). Subsequently, a UV curable hard coat agent (“LCH” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to both outer side surfaces, dried and cured to form a hard coat layer. Thus, a roll screen sheet material (1) was produced.

<ロールスクリーン用シート材(2)の作製>
ポリエチレンテレフタレートフィルムに対し、接着剤を用いて透明積層フィルム(1)のPETフィルム側を接着した以外はロールスクリーン用シート材(1)と同様にしてロールスクリーン用シート材(2)を作製した。
<Production of Roll Screen Sheet Material (2)>
A roll screen sheet material (2) was produced in the same manner as the roll screen sheet material (1) except that the PET film side of the transparent laminated film (1) was bonded to the polyethylene terephthalate film using an adhesive.

<ロールスクリーン用シート材(3)の作製>
7層積層構造部を有する透明積層フィルム(1)に代えて3層積層構造部を有する透明積層フィルム(2)を用いた以外はロールスクリーン用シート材(2)の作製と同様にして、ロールスクリーン用シート材(3)を作製した。
<Production of Roll Screen Sheet Material (3)>
In the same manner as the production of the roll screen sheet material (2) except that the transparent laminated film (2) having a three-layer laminated structure is used instead of the transparent laminated film (1) having a seven-layer laminated structure, a roll A screen sheet material (3) was produced.

表1に、透明積層フィルム(1)〜(3)の詳細な層構成を示す。また、表2に、シート材(1)〜(3)の詳細な層構成を示す。併せて、表2に、シート材(1)〜(3)の物性データをまとめて示す。測定方法は以下の通りである。   Table 1 shows the detailed layer structure of the transparent laminated films (1) to (3). Table 2 shows the detailed layer structure of the sheet materials (1) to (3). In addition, Table 2 summarizes the physical property data of the sheet materials (1) to (3). The measuring method is as follows.

Figure 2012207444
Figure 2012207444

Figure 2012207444
Figure 2012207444

<可視光透過率>
JIS A5759に準拠し、分光光度計(島津製作所(株)製「UV3100」)を用いて、波長300〜1000nmの透過スペクトルを測定し、可視光透過率を計算する事により求めた。
<Visible light transmittance>
In accordance with JIS A5759, a transmission spectrum with a wavelength of 300 to 1000 nm was measured using a spectrophotometer (“UV3100” manufactured by Shimadzu Corporation), and the visible light transmittance was calculated.

<日射遮蔽係数>
JIS R3106に準拠し、ガラス面及びフィルム面の垂直放射率を求め、JIS A5759に準拠して日射遮蔽係数を求めた。
<Sunlight shielding coefficient>
Based on JIS R3106, the vertical emissivity of the glass surface and the film surface was calculated | required, and the solar radiation shielding coefficient was calculated | required based on JISA5759.

<可視光反射率>
JIS A5759に準拠し、分光光度計(島津製作所(株)製「UV3100」)を用いて、波長300〜1000nmの反射スペクトルを測定し、可視光反射率を計算する事により求めた。
<Visible light reflectance>
In accordance with JIS A5759, a spectrophotometer (“UV3100” manufactured by Shimadzu Corporation) was used to measure a reflection spectrum at a wavelength of 300 to 1000 nm, and the visible light reflectance was calculated.

<ヘイズ>
JIS K7105に準拠し、ヘイズメーター(スガ試験機(株)製HGM−2DP)を用いて、ヘイズ値を求めた。
<Haze>
Based on JIS K7105, the haze value was calculated | required using the haze meter (Suga Test Instruments Co., Ltd. product HGM-2DP).

<熱貫流率>
JIS R3106に準拠し、ガラス面およびフィルム面の垂直放射率を求め、JIS A5759に準拠して熱貫流率を求めた。
<Heat transmissibility>
Based on JIS R3106, the vertical emissivity of the glass surface and the film surface was determined, and the thermal transmissivity was determined based on JIS A5759.

シート材(1)によれば、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下を満たす。このため、高透明で日射遮蔽性に優れることが分かる。シート材(2)によれば、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、熱貫流率5.0W/m・K以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下を満たす。このため、高透明で日射遮蔽性に優れるとともに断熱性にも優れることが分かる。シート材(3)によれば、可視光透過率65%以上、熱貫流率5.0W/m・K以下、ヘイズ2.0以下を満たす。このため、高透明で断熱性に優れることが分かる。 According to the sheet material (1), the visible light transmittance is 65% or more, the solar radiation shielding coefficient is 0.69 or less, the visible light reflectance is 10% or less, and the haze is 2.0 or less. For this reason, it turns out that it is highly transparent and is excellent in solar shading. According to the sheet material (2), the visible light transmittance is 65% or more, the solar radiation shielding coefficient is 0.69 or less, the thermal conductivity is 5.0 W / m 2 · K or less, the visible light reflectance is 10% or less, and the haze is 2.0. Satisfies the following: For this reason, it turns out that it is highly transparent, is excellent in solar radiation shielding property, and is excellent also in heat insulation. According to the sheet material (3), the visible light transmittance is 65% or more, the thermal conductivity is 5.0 W / m 2 · K or less, and the haze is 2.0 or less. For this reason, it turns out that it is highly transparent and excellent in heat insulation.

したがって、これらのシート材を用いることにより、採光性を確保しつつ、日射による暑さの軽減や、冬季の寒さの軽減あるいは暖房効率の向上などを図ることができる。そして、このシート材を有する透明ロールスクリーンを、網入り窓ガラスに対し、室内側のガラス面から1〜300mmの範囲内で離して室内側のガラス面に沿って室内側に配置することにより、網入り窓ガラスの熱割れを起こすことなく、このような日射調整を行うことができる。   Therefore, by using these sheet materials, it is possible to reduce the heat caused by solar radiation, reduce the cold in winter, or improve the heating efficiency while ensuring the daylighting property. And, by disposing the transparent roll screen having this sheet material in a range of 1 to 300 mm from the glass surface on the indoor side with respect to the window glass, the indoor roll glass is disposed on the indoor side along the glass surface on the indoor side. Such solar radiation adjustment can be performed without causing thermal cracking of the window glass.

以上、本発明の実施形態・実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。   Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. .

10,30 ロールスクリーン用シート材
12 透明積層フィルム
14 スクリーン基材
16 シート基材
18 積層構造部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,30 Roll screen sheet material 12 Transparent laminated film 14 Screen base material 16 Sheet base material 18 Laminated structure part

Claims (10)

透明高分子フィルムよりなるスクリーン基材と、前記スクリーン基材の少なくとも一方面に接着された透明積層フィルムと、を備え、前記透明積層フィルムが透明高分子フィルムよりなるフィルム基材の少なくとも一方面に日射遮蔽性を有する積層構造部を備えた構成の透明ロールスクリーンを、網入り窓ガラスに対し、室内側のガラス面から1〜300mmの範囲内で離して室内側のガラス面に沿って室内側に配置することを特徴とする網入り窓ガラスの日射調整方法。   A screen substrate made of a transparent polymer film, and a transparent laminated film bonded to at least one surface of the screen substrate, wherein the transparent laminated film is formed on at least one surface of the film substrate made of a transparent polymer film. The transparent roll screen having a structure having a laminated structure having solar radiation shielding property is separated from the glass window on the interior side within the range of 1 to 300 mm from the indoor glass surface along the indoor glass surface. The solar radiation adjustment method of the window glass with a mesh characterized by arrange | positioning. 前記透明ロールスクリーンは、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The said transparent roll screen is set to visible light transmittance 65% or more, solar radiation shielding coefficient 0.69 or less, visible light reflectance 10% or less, and haze 2.0 or less. Solar radiation adjustment method for a glass window. 前記透明ロールスクリーンは、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、熱貫流率5.0W/m・K以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。 The transparent roll screen has a visible light transmittance of 65% or more, a solar radiation shielding coefficient of 0.69 or less, a thermal conductivity of 5.0 W / m 2 · K or less, a visible light reflectance of 10% or less, and a haze of 2.0 or less. The method for adjusting solar radiation of a mesh window glass according to claim 1. 前記積層構造部を前記スクリーン基材よりも室内側に配置することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   4. The method for adjusting solar radiation of a meshed window glass according to claim 1, wherein the laminated structure portion is disposed on the indoor side of the screen base material. 5. 前記透明積層フィルムのフィルム基材を前記積層構造部よりもスクリーン基材側に配置して、前記積層構造部を前記フィルム基材よりも室内側に配置することを特徴とする請求項4に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The film base material of the transparent laminated film is disposed on the screen base material side with respect to the laminated structure portion, and the laminated structure portion is disposed on the indoor side with respect to the film base material. Solar radiation adjustment method for a glass window. 前記積層構造部が有機分を含有する金属酸化物層と金属層とが積層されたもので構成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   6. The mesh window glass according to claim 1, wherein the laminated structure portion is formed by laminating a metal oxide layer containing an organic component and a metal layer. Solar radiation adjustment method. 前記金属層の少なくとも一方面に金属酸化物より主に構成されるバリア層を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The solar radiation adjusting method for a mesh window glass according to any one of claims 1 to 6, further comprising a barrier layer mainly composed of a metal oxide on at least one surface of the metal layer. 前記金属酸化物層がチタン酸化物層であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The said metal oxide layer is a titanium oxide layer, The solar radiation adjustment method of the mesh window glass of any one of Claim 1 to 7 characterized by the above-mentioned. 前記金属層が銀層または銀合金層であることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The said metal layer is a silver layer or a silver alloy layer, The solar radiation adjustment method of the meshed window glass of any one of Claim 1 to 8 characterized by the above-mentioned. 前記バリア層がチタン酸化物より主に構成されることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の網入り窓ガラスの日射調整方法。   The method for adjusting solar radiation of a mesh window glass according to any one of claims 1 to 9, wherein the barrier layer is mainly composed of titanium oxide.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10385608B2 (en) 2014-12-04 2019-08-20 Sharp Kabushiki Kaisha Daylighting device

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