JP2015050376A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】プラズマの発光を利用し、基板の面内での均一な処理を可能とする基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】誘導電界により、プラズマ発生室40内でプラズマ生成用ガスがプラズマ化し、波長200nm以下の真空紫外光を発するプラズマが生成される。真空紫外光は、導光板43内を反射しながら基板Sの処理面と平行な方向に伝播していく。伝播の途中で、真空紫外光の一部が、反射部45によって処理容器1内の処理空間S1へ向けて放射される。真空紫外光の光エネルギーによって、基板Sに成膜、エッチング等の処理を行う。
【選択図】図1
【解決手段】誘導電界により、プラズマ発生室40内でプラズマ生成用ガスがプラズマ化し、波長200nm以下の真空紫外光を発するプラズマが生成される。真空紫外光は、導光板43内を反射しながら基板Sの処理面と平行な方向に伝播していく。伝播の途中で、真空紫外光の一部が、反射部45によって処理容器1内の処理空間S1へ向けて放射される。真空紫外光の光エネルギーによって、基板Sに成膜、エッチング等の処理を行う。
【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマの発光を利用して基板の処理を行う基板処理装置及び基板処理方法に関する。
半導体装置やフラットパネルディスプレイなどの製造過程では、基板に対して、各種の処理、例えば成膜処理、エッチング処理、アニール処理、改質処理、硬化処理、灰化処理などが行われる。これらの処理に用いる基板処理装置として、紫外線を利用したものが知られている。
例えば、特許文献1では、減圧可能な容器の内部で真空紫外光(VUV)を発するプラズマを生成させるとともに、このプラズマと、被処理材を載置するステージとの間に、VUVを透過するが、プラズマ中の電子、イオン、ラジカルを透過しないVUV透過フィルタを設けた処理装置が提案されている。ここで、真空紫外光は、紫外線の中でも波長が短い200nm以下の領域の光である。
特許文献2では、成膜容器の成膜室の上方にプラズマ発生室を設け、プラズマ発生室と成膜室とを区切るように紫外線を透過させる紫外線透過板を備えた原子層成長装置が提案されている。
特許文献1及び2に開示された基板処理装置は、いずれも、基板の上方に、基板面よりも広いプラズマ生成空間を有しており、そこでプラズマを生成させ、発せられる紫外線を基板処理に利用するものである。しかし、広いプラズマ生成空間でプラズマを発生させる場合、均一なプラズマを生成させることは困難であり、プラズマ密度に分布が生じることが知られている。プラズマ密度に分布が生じると、紫外線の光度に強弱のむらが発生し、基板の面内、もしくは基板の直上空間において、紫外線の照射量に偏りが生じたり、紫外線の照射自体が不安定になったりする、という問題があった。
また、近年の基板の大型化に伴い、基板面内での処理の均一性を維持することは益々困難になりつつある。
本発明の目的は、プラズマの発光を利用し、基板の面内での均一な処理を可能とする基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
本発明の第1の観点の基板処理装置は、基板を処理する処理空間を有する処理容器と、前記処理容器内で前記基板を保持する基板保持部と、内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させるプラズマ発生室と、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記プラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する前記真空紫外光を反射させながら伝播させる光透過性の導光板と、前記導光板に接して設けられ、前記導光板の内部を伝播する真空紫外光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる反射部と、を備えている。本発明の第1の観点の基板処理装置は、前記プラズマ発生室と前記導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記導光板の端部から前記導光板の内部へ前記真空紫外光を入射させるように配置されている。
本発明の第1の観点の基板処理装置は、一つの前記導光板に対し、複数の前記プラズマ発生室を有していてもよい。
本発明の第1の観点の基板処理装置は、前記導光板の下方に、前記基板を処理する処理ガスを導入するガス導入部を有していてもよい。
本発明の第1の観点の基板処理装置は、前記導光板の内部に、前記基板を処理する処理ガスを前記基板の処理面と平行な方向に拡散させる流路と、該流路に連通し、前記処理空間へ向けて前記処理ガスを噴射する噴射口が設けられていてもよい。
本発明の第1の観点の基板処理装置は、前記導光板が、複数の板状部材を積層して形成されていてもよい。
本発明の第2の観点の基板処理装置は、基板を処理する処理空間を有する処理容器と、前記処理容器内で前記基板を保持する基板保持部と、前記処理空間へ向けて光を照射する複数の光照射ユニットと、を備えている。本発明の第2の観点の基板処理装置において、前記光照射ユニットは、第1の光照射ユニット及び第2の光照射ユニットを含んでいる。
本発明の第2の観点の基板処理装置において、前記第1の光照射ユニットは、内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させる第1のプラズマ発生室と、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記第1のプラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する真空紫外光を反射させながら伝播させる光透過性の第1の導光板と、前記第1の導光板に接して設けられ、前記第1の導光板の内部を伝播する前記真空紫外光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる第1の反射部と、を有している。そして、前記第1の光照射ユニットは、前記第1のプラズマ発生室と前記第1の導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記第1の導光板の端部から前記第1の導光板の内部へ前記真空紫外光を入射させるものである。
本発明の第2の観点の基板処理装置において、前記第2の光照射ユニットは、内部で光を発するプラズマを生成させる第2のプラズマ発生室と、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記第2のプラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する光を反射させながら伝播させる光透過性の第2の導光板と、前記第2の導光板に接して設けられ、前記第2の導光板の内部を伝播する前記光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる第2の反射部と、を有している。そして、前記第2の光照射ユニットは、前記第2のプラズマ発生室と前記第2の導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記第2の導光板の端部から前記第2の導光板の内部へ前記光を入射させるものである。
本発明の第2の観点の基板処理装置は、一つの前記第1の導光板に対し、複数の前記第1のプラズマ発生室を有していてもよい。
本発明の第2の観点の基板処理装置は、前記第1の導光板が環状をなしており、その内側に前記第2の導光板の一部分が配置されていてもよい。
本発明の第2の観点の基板処理装置は、前記第1の導光板と前記第2の導光板が積層されていてもよい。
本発明の第2の観点の基板処理装置において、前記第2のプラズマ発生室で生成する前記プラズマの光が、前記第1のプラズマ発生室で生成する前記真空紫外光とは異なる波長を有する光であってもよい。
本発明の基板処理方法は、上記いずれかの基板処理装置によって基板を処理する。
本発明の基板処理装置及び基板処理方法によれば、プラズマの発光と導光板とを利用したエッジライト方式を採用することによって、基板の面内で均一な処理を行うことができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る枚葉式の基板処理装置の概略構成を示す断面図である。図2は、図1の基板処理装置の天井部を上から見た平面図である。図3は、図1の基板処理装置の要部断面図である。本実施の形態の基板処理装置100は、被処理体である基板Sに対して、各種の処理、例えば成膜処理、エッチング処理、アニール処理、改質処理、硬化処理、灰化処理などを行う処理装置である。ここで、基板Sとしては、例えば半導体ウエハや、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)用基板、太陽電池用基板などを挙げることができる。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る枚葉式の基板処理装置の概略構成を示す断面図である。図2は、図1の基板処理装置の天井部を上から見た平面図である。図3は、図1の基板処理装置の要部断面図である。本実施の形態の基板処理装置100は、被処理体である基板Sに対して、各種の処理、例えば成膜処理、エッチング処理、アニール処理、改質処理、硬化処理、灰化処理などを行う処理装置である。ここで、基板Sとしては、例えば半導体ウエハや、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)用基板、太陽電池用基板などを挙げることができる。
本実施の形態の基板処理装置100は、基板Sを処理するための処理空間S1を有する処理容器1と、処理容器1内で基板Sを保持する基板保持部としての載置台3と、処理容器1の内部の処理空間S1へ向けて紫外線を照射する光照射ユニット5と、制御部7とを備えている。
<処理容器>
処理容器1は、真空引き可能な耐圧容器である。処理容器1は、金属材料によって形成されている。処理容器1を形成する材料としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス等が用いられる。処理容器1は、底壁11、円筒形の側壁13及び天井部15を備えている。なお、処理容器1の全体形状は、円筒形に限らず、例えば角筒形でもよい。
処理容器1は、真空引き可能な耐圧容器である。処理容器1は、金属材料によって形成されている。処理容器1を形成する材料としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス等が用いられる。処理容器1は、底壁11、円筒形の側壁13及び天井部15を備えている。なお、処理容器1の全体形状は、円筒形に限らず、例えば角筒形でもよい。
底壁11には、1つ又は複数の排気口11aが設けられている。図1では、2つの排気口11aを図示している。排気口11aは、排気管17を介して排気装置19に接続されている。この排気装置19を駆動させることによって、処理容器1内を所定の圧力、例えば大気圧から0.1Pa程度の圧力まで減圧排気できるように構成されている。
側壁13には、処理容器1内に基板Sを搬入、搬出するための搬入出口13aが設けられている。搬入出口13aには、ゲートバルブGVが設けられている。ゲートバルブGVは、搬入出口13aを開閉する機能を有し、閉状態で搬入出口13aを気密にシールすると共に、開状態で処理容器1と外部との間で基板Sの移送を可能にする。
天井部15は、枠体15aと、この枠体15aの上に配置されたカバー15bとを備えている。枠体15aは、内側に突出した突出部15a1を有しており、該突出部15a1は、後述する光照射ユニット5の導光板43や、シャワープレート37を支持する支持部材である。
<載置台>
処理容器1の内部には、基板Sを保持する基板保持部としての載置台3が配備されている。載置台3は、底壁11に固定されている。載置台3は、図示を省略するが、基板Sを昇降変位させるための機構、例えばリフトピンなどを有している。従って、基板Sを外部の搬送装置との間で受け渡す受け渡し位置と、基板Sを載置台3上に載置して所定の処理を行う処理位置との間で、基板Sの高さ位置を調整することができる。なお、基板保持部としては、載置台に限らず、例えば、基板Sの裏面に複数箇所で接触する支持ピンを備えた支持装置などを用いることもできる。また、基板保持部は、基板Sを加熱もしくは冷却するための温度調節手段を備えていてもよい。さらに、基板保持部は、処理ガスの分解により生じたイオン等の荷電粒子を基板Sに引き込むためのバイアス電圧を印加する手段を備えていてもよい。
処理容器1の内部には、基板Sを保持する基板保持部としての載置台3が配備されている。載置台3は、底壁11に固定されている。載置台3は、図示を省略するが、基板Sを昇降変位させるための機構、例えばリフトピンなどを有している。従って、基板Sを外部の搬送装置との間で受け渡す受け渡し位置と、基板Sを載置台3上に載置して所定の処理を行う処理位置との間で、基板Sの高さ位置を調整することができる。なお、基板保持部としては、載置台に限らず、例えば、基板Sの裏面に複数箇所で接触する支持ピンを備えた支持装置などを用いることもできる。また、基板保持部は、基板Sを加熱もしくは冷却するための温度調節手段を備えていてもよい。さらに、基板保持部は、処理ガスの分解により生じたイオン等の荷電粒子を基板Sに引き込むためのバイアス電圧を印加する手段を備えていてもよい。
<排気装置>
本実施の形態の基板処理装置100は、さらに排気装置19を備えている。なお、排気装置19は、基板処理装置100の一構成部分とせず、基板処理装置100とは別の外部の装置でもよい。排気装置19は、例えば、ターボ分子ポンプやドライポンプ等の真空ポンプを有している。基板処理装置100は、更に、排気口11aと排気装置19とを接続する排気管17と、排気管17の途中に設けられたAPC(Adaptive Pressure Control)バルブ23と、開閉バルブ25等を備えている。APCバルブ23は、処理容器1内の圧力を計測するための図示しない圧力計に接続されている。排気装置19の真空ポンプを作動させるとともに、APCバルブ23の開度を調節することにより、処理容器1の内部空間を所定の真空度に減圧排気することができる。なお、APCバルブ23は、1つのマスタバルブと複数のスレーブバルブにより構成され、各スレーブバルブは、マスタバルブに連動して作動する。
本実施の形態の基板処理装置100は、さらに排気装置19を備えている。なお、排気装置19は、基板処理装置100の一構成部分とせず、基板処理装置100とは別の外部の装置でもよい。排気装置19は、例えば、ターボ分子ポンプやドライポンプ等の真空ポンプを有している。基板処理装置100は、更に、排気口11aと排気装置19とを接続する排気管17と、排気管17の途中に設けられたAPC(Adaptive Pressure Control)バルブ23と、開閉バルブ25等を備えている。APCバルブ23は、処理容器1内の圧力を計測するための図示しない圧力計に接続されている。排気装置19の真空ポンプを作動させるとともに、APCバルブ23の開度を調節することにより、処理容器1の内部空間を所定の真空度に減圧排気することができる。なお、APCバルブ23は、1つのマスタバルブと複数のスレーブバルブにより構成され、各スレーブバルブは、マスタバルブに連動して作動する。
<ガス供給機構>
本実施の形態の基板処理装置100は、処理容器1内へガスを供給するガス供給装置27を備えている。なお、ガス供給装置27は、基板処理装置100の一構成部分とせず、基板処理装置100とは別の外部の装置でもよい。
本実施の形態の基板処理装置100は、処理容器1内へガスを供給するガス供給装置27を備えている。なお、ガス供給装置27は、基板処理装置100の一構成部分とせず、基板処理装置100とは別の外部の装置でもよい。
天井部15の枠体15aには、処理容器1内にガスを導入するガス導入部15cが設けられている。ガス導入部15cは枠体15aの内部に形成された流路である。ガス導入部15cは、ガス供給装置27に接続されている。なお、ガス導入部15cは、天井部15以外の位置、例えば側壁13などに設けてもよい。
ガス供給装置27は、ガス導入部15cへ供給する1種または複数種のガスを保持するガス供給源29と、ガス供給源29とガス導入部15cとを接続し、ガス導入部15cへガスを供給する一本又は複数本の配管31A(1本のみ図示)を備えている。また、ガス供給装置27は、配管31Aの途中に、ガス流量を制御するマスフローコントローラ(MFC)33Aと、複数の開閉バルブ35A(2つのみ図示)を備えている。ガス導入部15cから処理容器1内に導入されるガスの流量等は、マスフローコントローラ33Aおよび開閉バルブ35Aによって制御される。ガス供給源29から供給するガスとしては、例えば、成膜ガス、エッチングガスなど、処理の目的に応じて選択できる。
(シャワープレート)
シャワープレート37は、枠体15aの突出部15a1に支持されている。シャワープレート37は、導光板43と平行に、かつ導光板43の第2の面43bに対向して配置されており、複数の貫通孔37aを有している。シャワープレート37と導光板43との間の空間S2は、ガス導入部15cから供給される処理ガスを拡散させるガス拡散空間である。ガス導入部15cのガス噴出孔は、空間S2に臨む位置に形成されている。ガス導入部15cからシャワープレート37よりも上方の空間S2に導入された処理ガスは、該空間S2を拡散し、複数の貫通孔37aを介してシャワープレート37の下方の処理空間S1へ供給される。
シャワープレート37は、枠体15aの突出部15a1に支持されている。シャワープレート37は、導光板43と平行に、かつ導光板43の第2の面43bに対向して配置されており、複数の貫通孔37aを有している。シャワープレート37と導光板43との間の空間S2は、ガス導入部15cから供給される処理ガスを拡散させるガス拡散空間である。ガス導入部15cのガス噴出孔は、空間S2に臨む位置に形成されている。ガス導入部15cからシャワープレート37よりも上方の空間S2に導入された処理ガスは、該空間S2を拡散し、複数の貫通孔37aを介してシャワープレート37の下方の処理空間S1へ供給される。
シャワープレート37は、例えば石英などの光透過性の材質で形成されている。シャワープレート37の上面は、導光板43側への光の反射を抑制するために、例えば凹凸形状を有していてもよい。また、シャワープレート37の下面は、シャワープレート37を透過する光を拡散させるために、例えばプリズム状に加工された拡散面を有していてもよい。
<光照射ユニット>
光照射ユニット5は、プラズマによって紫外線を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に紫外線を照射する。本実施の形態において、光照射ユニット5は、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ(以下、単に「アンテナ」と記すことがある。)41A及び41Bと、一つの導光板43と、反射部45を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。
光照射ユニット5は、プラズマによって紫外線を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に紫外線を照射する。本実施の形態において、光照射ユニット5は、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ(以下、単に「アンテナ」と記すことがある。)41A及び41Bと、一つの導光板43と、反射部45を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。
(プラズマ発生室)
プラズマ発生室40は、内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させる。各プラズマ発生室40は、枠体15a、導光板43及び誘電体壁47によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁47は、電磁波を透過する誘電体、例えば石英など、により構成されている。プラズマ発生室40は、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
プラズマ発生室40は、内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させる。各プラズマ発生室40は、枠体15a、導光板43及び誘電体壁47によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁47は、電磁波を透過する誘電体、例えば石英など、により構成されている。プラズマ発生室40は、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
各プラズマ発生室40には、ガス導入路49及び排気路51が接続されている。ガス導入路49及び排気路51は、いずれも、枠体15aに設けられたガスの流路である。ガス導入路49には、ガス供給装置27が接続されている。なお、ガス導入路49は天井部15以外の部位、例えば側壁13などを介して設けられていてもよい。また、ガス導入路49には、ガス供給装置27とは別のガス供給装置を接続してもよい。
ガス供給装置27は、1種または複数種のガスを保持するガス供給源29と、ガス供給源29とガス導入路49とを接続し、ガス導入路49へプラズマ生成用ガスを供給する一本又は複数本の配管31B(1本のみ図示)を備えている。また、ガス供給装置27は、配管31Bの途中に、ガス流量を制御するマスフローコントローラ(MFC)33Bと、複数の開閉バルブ35B(2つのみ図示)を備えている。ガス導入路49から各プラズマ発生室40内に導入されるプラズマ生成用ガスの流量等は、マスフローコントローラ33Bおよび開閉バルブ35Bによって制御される。ガス供給源29から各プラズマ発生室40へ供給されるプラズマ生成用ガスは、真空紫外光を発光するプラズマを生成させるガスであり、例えば、Ar、Kr、Xe、D(重水素)、Hg(水銀;185nm/6.5eV)などを挙げることができる。これらの中でも、Xe(172nm/7.2eV)、Ar(126nm/9.8eV)、Kr(146nm/8.5eV)が好ましい(カッコ内は発光中心波長とフォトンエネルギーを意味する)。また、プラズマ生成用ガスには、希釈用のガスとして、窒素などの不活性ガスを含むことができる。
排気路51は、排気管53を介して、排気装置19に接続されている。従って、排気装置19を作動させることによって、プラズマ発生室40内を減圧し、所定の圧力に調節することができる。なお、図示及び説明を省略するが、排気管53には、処理容器1の底壁11の排気口11aに接続する排気管17と同様に、APCバルブや開閉バルブ等のバルブ類を設けることができる。また、排気路51は、排気装置19とは別の排気装置に接続してもよい。
(高周波アンテナ)
2つのアンテナ41A,41Bは、それぞれプラズマ発生室40の外部であって誘電体壁47の上面に配置されている。各アンテナ41は、図2に示したように、プラズマ発生室40の形状に合わせて、例えば平面視が略弧状をなしている。
2つのアンテナ41A,41Bは、それぞれプラズマ発生室40の外部であって誘電体壁47の上面に配置されている。各アンテナ41は、図2に示したように、プラズマ発生室40の形状に合わせて、例えば平面視が略弧状をなしている。
プラズマ発生室40の外部には、整合器55と、高周波電源57とが設置されている。各アンテナ41の一端は、整合器55を介して高周波電源57に接続されている。各アンテナ41の他端は、天井部15のカバー15bに接続され、処理容器1を介して接地されている。プラズマ発生室40でプラズマを生成する際には、アンテナ41に、高周波電源57から誘導電界形成用の高周波電力(例えば、13.56MHzの高周波電力)が供給される。これにより、誘電体壁47を介して、プラズマ発生室40内に誘導電界が形成される。この誘導電界によって、プラズマ発生室40内でプラズマ生成用ガスが励起し、プラズマが生成する。
(導光板)
導光板43は、板状をなし、天井部15の枠体15aの突出部15a1に支持されている。導光板43と枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板43により、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
導光板43は、板状をなし、天井部15の枠体15aの突出部15a1に支持されている。導光板43と枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板43により、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
導光板43は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面(すなわち、上面)に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板43は、プラズマ発生室40で生成させたプラズマが発する真空紫外光を反射させながら伝播させ得る光透過性を有し、かつ耐熱性を有する材質、例えば石英、フッ化カルシウム(CaF2)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化リチウム(LiF)等によって構成されている。真空紫外光の波長としては、例えば200nm以下が好ましく、特に10nm以上200nm以下の範囲内がより好ましい。
導光板43は、図3に示したように、第1の面43aと、第2の面43bと、を有している。第1の面43aは、反射部45に接する側の面である。第2の面43bは、空間S2及び処理空間S1に臨み、導光板43内を反射しながら伝播する光を処理空間S1へ向けて放射する側の面である。ここで、第2の面43bには、導光板43から照射される光を拡散させるためのプリズム状の拡散面を形成してもよい。また、導光板43は、プラズマ発生室40に臨む端部の面(端面)43cを有している。
プラズマ発生室40と導光板43とは、互いの側方において隣り合って配置されている。より具体的には、プラズマ発生室40には、導光板43の端面43cが露出している。そして、導光板43の端面43cから導光板43の内部へ紫外線、例えば真空紫外光を入射させるように構成されている。真空紫外光は、導光板43の端面43cに対しほぼ直角に入射する。
(反射部)
反射部45は、導光板43の内部を伝播する真空紫外光を反射させて処理空間S1へ向けて照射させる。プラズマ発生室40で生成したプラズマの発光による真空紫外光は、導光板43の端面43cから導光板43内に入射する。そして、真空紫外光は、第1の面43a側では導光板43内を反射しながら基板Sの上面と平行な方向に伝播していく。例えば、導光板43の材質として合成石英を用いる場合、波長193.5nmの真空紫外光の屈折率を1.561とすると、全反射角θは、θ=Sin−1(1/1.561)=39.84°となる。反射部45は、真空紫外光を反射させ、全反射角より小さな反射角の真空紫外光を処理容器1内の空間S2及び処理空間S1へ向けて放射させる。
反射部45は、導光板43の内部を伝播する真空紫外光を反射させて処理空間S1へ向けて照射させる。プラズマ発生室40で生成したプラズマの発光による真空紫外光は、導光板43の端面43cから導光板43内に入射する。そして、真空紫外光は、第1の面43a側では導光板43内を反射しながら基板Sの上面と平行な方向に伝播していく。例えば、導光板43の材質として合成石英を用いる場合、波長193.5nmの真空紫外光の屈折率を1.561とすると、全反射角θは、θ=Sin−1(1/1.561)=39.84°となる。反射部45は、真空紫外光を反射させ、全反射角より小さな反射角の真空紫外光を処理容器1内の空間S2及び処理空間S1へ向けて放射させる。
ここで、図4〜図6を参照しながら、プラズマ発生室40と導光板43と反射部45を利用する光照射ユニット5の原理と好ましい態様について説明する。図4〜図6では、異なる態様における光照射ユニット5による光照射の原理を模式的に説明している。
図4は、反射部45として、複数の反射ドット45aを備えた態様を示している。反射ドット45aは、導光板43の第1の面43aに設けられている。反射ドット45aは、導光板43の第1の面43aに、例えば二酸化チタン、硫酸バリウムなどの光学的な反射率の高い材料をスクリーン印刷法などの手法で所定のパターンに印刷したり、あるいは、第1の面43aに、微細な凹凸を設けたりすることによって形成できる。反射ドット45aは、光源のプラズマPを生成させるプラズマ発生室40からの距離が遠くなるに伴って面積が大きくなるグラデーションパターンにより形成されている。導光板43を間に挟んで互いに対向する2つのプラズマ発生室40A,40Bを有する本実施の形態の基板処理装置100では、2つのプラズマ発生室40の近傍では反射ドット45aの面積が小さく、導光板43の中央付近で反射ドット45aの面積が最も大きくなるように、逆方向の対称なグラデーションパターンで反射ドット45aが形成されている。反射部45aは、導光板43の内部を反射しながら伝播する真空紫外光200を反射させて処理空間S1へ向けて照射させる。
図5は、反射部45として、複数の反射ドット45aと、これら反射ドット45a覆うように光を反射させる反射層45bを備えた態様を示している。反射ドット45aは、図4と同様の構成である。反射層45bは、導光板43の第1の面43a側へ抜けようとする光を第2の面43bへ向けて反射させる。反射層45bの材質としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートなどの透明樹脂を微細発泡させたものを使用できる。反射層45bを設けることによって、真空紫外光200の利用効率を高め、輝度を向上させることができる。
図6は、反射部45として、板状又は薄膜状の反射層を備えた態様を示している。この板状又は薄膜状の反射層は、例えばアルミニウムなどの光反射性の材質により形成されており、導光板43の第1の面43aに接して設けられている。
図4〜図6に例示したようなエッジライト方式の利用により、導光板43に入射し、反射しながら伝播する真空紫外光200を処理容器1内の空間S2及び処理空間S1へ向けて放射させることができる。エッジライト方式では、導光板43と反射部45との光路設計によって真空紫外光200を基板Sの処理面に対し平行な方向に拡散させてから、処理空間S1及び基板Sに向けて均等に照射することが可能になる。従って、基板Sの面内に均一に真空紫外光200を照射することができる。
<制御部>
図1に示したように、基板処理装置100の各構成部は、制御部7に接続されて制御される構成となっている。制御部7は、CPUを備えたコントローラ71と、ユーザーインターフェース72と記憶部73とを備えている。コントローラ71は、コンピュータ機能を有しており、基板処理装置100において、各構成部を統括して制御する。ユーザーインターフェース72は、工程管理者が基板処理装置100を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、基板処理装置100の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部73には、基板処理装置100で実行される各種処理をコントローラ71の制御にて実現するための制御プログラム(ソフトウエア)や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。ユーザーインターフェース72および記憶部73は、コントローラ71に接続されている。
図1に示したように、基板処理装置100の各構成部は、制御部7に接続されて制御される構成となっている。制御部7は、CPUを備えたコントローラ71と、ユーザーインターフェース72と記憶部73とを備えている。コントローラ71は、コンピュータ機能を有しており、基板処理装置100において、各構成部を統括して制御する。ユーザーインターフェース72は、工程管理者が基板処理装置100を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、基板処理装置100の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部73には、基板処理装置100で実行される各種処理をコントローラ71の制御にて実現するための制御プログラム(ソフトウエア)や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。ユーザーインターフェース72および記憶部73は、コントローラ71に接続されている。
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース72からの指示等にて任意のレシピを記憶部73から呼び出してコントローラ71に実行させることで、コントローラ71の制御下で、基板処理装置100での所望の処理が行われる。前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、例えばCD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用できる。あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。
[基板処理の手順]
以上のように構成された基板処理装置100を用いる基板処理の手順について説明する。ここでは、真空紫外光200を利用して基板S上にCVD(化学気相成長)法によってシリコン薄膜又はシリコン窒化膜を成膜する場合を例に挙げて説明する。
以上のように構成された基板処理装置100を用いる基板処理の手順について説明する。ここでは、真空紫外光200を利用して基板S上にCVD(化学気相成長)法によってシリコン薄膜又はシリコン窒化膜を成膜する場合を例に挙げて説明する。
まず、ゲートバルブGVを開放し、基板Sを外部の搬送装置(図示省略)によって基板処理装置100の載置台3へ受け渡す。
次に、ゲートバルブGVを閉じ、排気装置19を作動させて処理容器1内を減圧排気する。そして、図示しない圧力計によって処理容器1内の圧力をモニタしながら、APCバルブ23の開度をコントロールして所定の真空度まで減圧する。
次に、排気装置19を利用し、2つのプラズマ発生室40内をそれぞれ所定の圧力まで減圧排気する。そして、ガス供給装置27からガス導入路49を介してプラズマ生成用ガスをプラズマ発生室40内に導入するとともに、高周波電源57から例えば13.56MHzの高周波をアンテナ41に印加する。これにより、誘電体壁47を介してプラズマ発生室40内に均一な誘導電界を形成することができる。このようにして形成された誘導電界により、プラズマ発生室40内でプラズマ生成用ガスがプラズマ化し、プラズマPが生成される。生成されたプラズマPは、波長200nm以下の真空紫外光200を発する。発生した真空紫外光200は、図4〜図6に示したように、導光板43内を反射しながら基板Sの処理面と平行な方向に伝播していく。伝播の途中で、真空紫外光200の一部が、反射部45によって処理容器1内の処理空間S1へ向けて放射される。
次に、ガス導入部15cからシャワープレート37よりも上方の空間S2に、処理ガスとして、例えばシランガスを導入する。ガス導入部15cから空間S2に導入されたシランガスは、導光板43直下で拡散し、複数の貫通孔37aを介してシャワープレート37の下方の処理空間S1へ供給される。シャワープレート37よりも上方の空間S2では、真空紫外光200を効率良くシランガスに照射することができる。また、導光板43から放射された真空紫外光200は、シャワープレート37を透過し、処理容器1内の処理空間S1へ放射されるので、処理空間S1においても、シランガスに真空紫外光200が照射される。そして、真空紫外光200の光エネルギーによって、シランガスが分解され、基板S上にシラン分解物を堆積させることができる。シラン分解物が所定の厚みに達した段階で、シランガスの供給を停止する。その後、さらに真空紫外光200の照射を継続することによって、シラン分解物から水素原子を脱離させてシリコン薄膜を形成することができる。
次に、高周波電源57からアンテナ41への高周波の供給を停止するとともに、プラズマ発生室40へのプラズマ生成用ガスの供給を停止し、プラズマP及び真空紫外光200を消滅させる。また、排気装置19を停止し、処理容器1内を所定圧力まで昇圧する。その後、ゲートバルブGVを開放し、外部の搬送装置(図示省略)によって基板Sを処理容器1から搬出する。以上の手順によって、1枚の基板Sに対するシリコン薄膜の成膜処理が終了する。
上記方法によってシリコン薄膜を形成した後で、真空紫外光200の照射を継続しながら、ガス導入部15cから空間S2にアンモニアガスを導入することによって、シリコン窒化膜を形成することもできる。すなわち、アンモニアガスを真空紫外光200によって分解し、生成したアンモニア分解物によって基板S上のシリコン薄膜を窒化し、シリコン窒化膜に改質することができる。
また、シリコン窒化膜を成膜する別の方法として、真空紫外光200を照射しながら、ガス導入部15cから空間S2に、シランガスとアンモニアガスを同時に導入してもよい。この場合、シランガス及びアンモニアガスの分解と窒化珪素の生成が同時進行で起こり、基板S上にシリコン窒化膜を堆積させることができる。
以上のように、本実施の形態の基板処理装置100では、プラズマPの発光と導光板43とを利用したエッジライト方式を採用している。そのため、導光板43と反射部45との光路設計によって真空紫外光200を処理空間S1及び基板Sに向けて均等に照射することが可能になる。従って、従来のプラズマ処理装置における課題であった、プラズマ密度の偏りによる基板Sの面内での処理の不均一を生じさせず、基板Sの面内で均一な処理を行うことが可能となる。また、エッジライト方式を採用することによって、基板Sの大型化にも容易に対応できる。
また、本実施の形態の基板処理装置100では、エッジライト方式によって、天井部15の中央部分及びその上方に高周波アンテナなどの設備を配置することが必須ではなくなる。そのため、処理容器1の天井部15の中央部分の有効利用が可能になる。例えば、天井部15の中央部分に、赤外線、遠赤外線などを発生させる加熱源を配置することにより、真空紫外光200を利用した成膜処理後に、赤外線照射による熱処理を行うことが可能になる。このように、天井部15の中央部分のスペースを有効利用することで、基板Sに対して複数の異なるプロセスを連続して実施することが可能になり、省スペース化とスループットの向上が期待できる。
なお、本実施の形態の基板処理装置100は、2つのプラズマ発生室40を有する構成としたが、プラズマ発生室40は、1つでもよいし、3つ以上でもよい。また、複数のプラズマ発生室40を有する場合に、各プラズマ発生室40へ導入するプラズマ生成用ガスは、同一の種類に限らず、異なる種類でもよい。従って、複数のプラズマ発生室40で、異なる波長の光を発光させることも可能である。また、本実施の形態の基板処理装置100では、2つのプラズマ発生室40に共通して1つの導光板43を設けているが、複数のプラズマ発生室40のそれぞれについて個別に導光板43を設けてもよい。
[第2の実施の形態]
次に、図7を参照しながら、本発明の第2の実施の形態の基板処理装置について説明する。図7は、第2の実施の形態に係る基板処理装置101の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置101では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)におけるシャワープレート37の代わりに、導光板内に、ガス流路を設けている。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置101において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
次に、図7を参照しながら、本発明の第2の実施の形態の基板処理装置について説明する。図7は、第2の実施の形態に係る基板処理装置101の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置101では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)におけるシャワープレート37の代わりに、導光板内に、ガス流路を設けている。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置101において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施の形態の基板処理装置101は、基板Sを処理するための処理空間S1を有する処理容器1と、処理容器1内で基板Sを保持する基板保持部としての載置台3と、処理容器1の内部へ向けて紫外線を照射する光照射ユニット5Aと、制御部7とを備えている。
天井部15の枠体15aには、処理容器1内にガスを導入するガス導入部15dが設けられている。ガス導入部15dは枠体15aの内部に形成された流路である。ガス導入部15dには、ガス供給装置27が接続されている。なお、ガス導入部15dは、例えば側壁13などを介して設けてもよい。ガス供給装置27の構成は、第1の実施の形態と同様である。
<光照射ユニット>
光照射ユニット5Aは、プラズマPによって紫外線を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に紫外線を照射する。本実施の形態において、光照射ユニット5Aは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板43Aと、反射部45と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。
光照射ユニット5Aは、プラズマPによって紫外線を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に紫外線を照射する。本実施の形態において、光照射ユニット5Aは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板43Aと、反射部45と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。
(導光板)
導光板43Aは、板状をなし、天井部15の枠体15aの突出部15a1に支持されている。導光板43Aと枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板43Aにより、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
導光板43Aは、板状をなし、天井部15の枠体15aの突出部15a1に支持されている。導光板43Aと枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板43Aにより、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
導光板43Aは、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面(すなわち、上面)に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板43Aは、第1の実施の形態と同様に、プラズマ発生室40で生成させたプラズマPが発する真空紫外光200を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。また、導光板43Aは、複数の板状部材(図7では、2枚の板状部材43A1と43A2)を重ねあわせ、接合面で屈折率が変化しない接合方法で一体化した積層構造を有している。ここで、接合面で屈折率が変化しない接合方法としては、例えば拡散接合を挙げることができる。
下段の板状部材43A2には、所定形状の溝や孔が形成されている。これらの溝や孔は、板状部材43A1と43A2を積層した状態で、図7に示したように、ガス流路としてのガス拡散室80及び複数のガス噴射口81を形成するものである。ガス拡散室80は、例えば板状部材43A2の中央付近から放射状に形成することができる。ガス拡散室80は、枠体15aのガス導入部15dに接続されており、基板Sを処理する処理ガスを基板Sの処理面と平行な方向に拡散させる流路である。また、複数のガス噴射口81は、ガス拡散室80に連通し、処理空間S1へ向けて処理ガスを噴射する。
本実施の形態において、プラズマ発生室40と導光板43Aとは、互いの側方において隣り合って配置されている。そして、導光板43Aの端面から導光板43Aの内部へ紫外線、例えば真空紫外光200を入射させることができる。ここで、導光板43Aは、接合面で屈折率が変化しない接合方法によって板状部材43A1と43A2とを接合させた積層構造を有している。従って、導光板43Aに入射した真空紫外光200は反射しながら、基板Sの処理面と平行な方向に伝播していき、反射部45によりその一部の光が反射して処理空間S1へ向けて照射される。これにより、基板Sの面内で均一な処理が可能になる。
また、本実施の形態の基板処理装置101では、導光板43Aの内部にガス流路としてのガス拡散室80及び複数のガス噴射口81を設けたことによって、導光板43A内部のガス流路で真空紫外光200を処理ガスに効率よく照射することができる。これにより、処理ガスの分解やガス分子の励起を促すことができる。
以上のように、本実施の形態の基板処理装置101では、導光板43A内にガス流路を設けることによって、シャワープレートを省略して部品点数を削減できる。また、導光板43A内にガスを通流させることで、ガス分子への真空紫外光200の照射効率を高めることができる。本実施の形態における他の構成及び効果は、第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。
[第3の実施の形態]
次に、図8を参照しながら、本発明の第3の実施の形態の基板処理装置について説明する。図8は、第3の実施の形態に係る基板処理装置102の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置102では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)とほぼ同様の構成を有する光照射ユニットに加え、天井部15の中央部にも、独立した光照射ユニットを有している。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置102において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
次に、図8を参照しながら、本発明の第3の実施の形態の基板処理装置について説明する。図8は、第3の実施の形態に係る基板処理装置102の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置102では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)とほぼ同様の構成を有する光照射ユニットに加え、天井部15の中央部にも、独立した光照射ユニットを有している。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置102において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施の形態の基板処理装置102は、基板Sを処理するための処理空間S1を有する処理容器1と、処理容器1内で基板Sを保持する基板保持部としての載置台3と、処理容器1の内部へ向けて光を照射する光照射ユニットと、制御部7とを備えている。本実施の形態の基板処理装置102は、光照射ユニットとして、第1の光照射ユニット5B及び第2の光照射ユニット5Cを備えている。
<第1の光照射ユニット>
第1の光照射ユニット5Bは、プラズマPによって第1の光としての紫外線、例えば真空紫外光200を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に真空紫外光200を照射する。本実施の形態において、第1の光照射ユニット5Bは、第1の実施の形態における光照射ユニット5とほぼ同様の構成である。第1の光照射ユニット5Bは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板83と、反射部85と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。本実施の形態では、導光板83及び反射部85が、いずれも環状に形成されている点で、第1の実施の形態における導光板43及び反射部45と異なっている。
第1の光照射ユニット5Bは、プラズマPによって第1の光としての紫外線、例えば真空紫外光200を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に真空紫外光200を照射する。本実施の形態において、第1の光照射ユニット5Bは、第1の実施の形態における光照射ユニット5とほぼ同様の構成である。第1の光照射ユニット5Bは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板83と、反射部85と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。本実施の形態では、導光板83及び反射部85が、いずれも環状に形成されている点で、第1の実施の形態における導光板43及び反射部45と異なっている。
(導光板)
環状に形成された導光板83は、板状をなし、天井部15の枠体15aに支持されている。導光板83と枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。導光板83は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板83は、第1の実施の形態と同様に、プラズマ発生室40で生成させたプラズマPが発する真空紫外光200を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。
環状に形成された導光板83は、板状をなし、天井部15の枠体15aに支持されている。導光板83と枠体15aの突出部15a1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。導光板83は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板83は、第1の実施の形態と同様に、プラズマ発生室40で生成させたプラズマPが発する真空紫外光200を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。
(反射部)
第1の光照射ユニット5Bにおける反射部85は、環状である点を除き、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
第1の光照射ユニット5Bにおける反射部85は、環状である点を除き、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
本実施の形態において、プラズマ発生室40A,40Bと導光板83とは、互いの側方において隣り合って配置されている。そして、第1の実施の形態と同様に、導光板83の端面から導光板83の内部へ紫外線、例えば真空紫外光200を入射させ、エッジライト方式によって、空間S2及び処理空間S1へ向けて真空紫外光200を照射することができる。ここで、導光板83は環状であるが、導光板83と反射部85との光学設計によって、処理空間S1や基板Sの処理面に向けて均一に真空紫外光200を照射できる。従って、基板Sの面内で均一な処理が可能になる。
第1の光照射ユニット5Bにおける他の構成は第1の実施の形態の基板処理装置100における光照射ユニット5と同様である。
<第2の光照射ユニット>
第2の光照射ユニット5Cは、プラズマPによって光を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に光を照射する。ここで、第2の光照射ユニット5Cでは、例えば紫外線などを含む第2の光を照射できるように構成されている。以下の説明では、第2の光照射ユニット5Cが、真空紫外光200とは異なる波長を有する第2の光を照射するものとして説明する。第2の光照射ユニット5Cは、プラズマ発生室40Cと、高周波アンテナ41Cと、導光板87と、反射部89と、を備えている。
第2の光照射ユニット5Cは、プラズマPによって光を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に光を照射する。ここで、第2の光照射ユニット5Cでは、例えば紫外線などを含む第2の光を照射できるように構成されている。以下の説明では、第2の光照射ユニット5Cが、真空紫外光200とは異なる波長を有する第2の光を照射するものとして説明する。第2の光照射ユニット5Cは、プラズマ発生室40Cと、高周波アンテナ41Cと、導光板87と、反射部89と、を備えている。
(プラズマ発生室)
プラズマ発生室40Cは、内部で第2の光を発するプラズマPを生成させる。プラズマ発生室40Cは、カバー15b1、導光板87及び誘電体壁91によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁91は、例えば石英などの誘電体により構成されている。プラズマ発生室40Cは、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
プラズマ発生室40Cは、内部で第2の光を発するプラズマPを生成させる。プラズマ発生室40Cは、カバー15b1、導光板87及び誘電体壁91によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁91は、例えば石英などの誘電体により構成されている。プラズマ発生室40Cは、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
プラズマ発生室40Cには、ガス導入路93及び排気路95が接続されている。ガス導入路93には、ガス供給装置27が接続されている。なお、ガス導入路93は、ガス供給装置27とは別のガス供給装置に接続してもよい。
ガス供給装置27は、ガス導入路93へ供給する1種または複数種のガスを保持するガス供給源29と、ガス供給源29とガス導入路93とを接続し、ガス導入部へガスを供給する一本又は複数本の配管31C(1本のみ図示)を備えている。また、ガス供給装置27は、配管31Cの途中に、ガス流量を制御するマスフローコントローラ(MFC)33Cと、複数の開閉バルブ35C(2つのみ図示)を備えている。ガス導入路93からプラズマ発生室40C内に導入されるガスの流量等は、マスフローコントローラ33Cおよび開閉バルブ35Cによって制御される。ガス供給源29からプラズマ発生室40Cへ供給されるプラズマ生成用ガスは、第2の光を発するプラズマPを生成させる。このようなプラズマPを生成させるためのプラズマ生成用ガスとしては、特に限定されないが、例えば、紫外線を発生させるものとしてAr、Kr、Xe、Hgなど、赤外線を発生させるものとしてBr、Iなどを挙げることができる。また、プラズマ生成用ガスには、希釈用のガスとして、窒素などの不活性ガスを含むことができる。
排気路95は、排気管97及び排気管53を介して、排気装置19に接続されている。排気装置19を作動させることによって、プラズマ発生室40C内を減圧し、所定の圧力に調節することができる。なお、図示及び説明を省略するが、排気管97には、処理容器1の底壁11の排気口11aに接続する排気管17と同様に、APCバルブ、開閉バルブ等のバルブ類を設けることができる。また、排気路95は、排気装置19とは別の排気装置に接続してもよい。
なお、第2の光照射ユニット5Cに、複数のプラズマ発生室を設けることもできる。
(高周波アンテナ)
高周波アンテナであるアンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの外部であって誘電体壁91の上面に配置されている。アンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの形状に合わせて、例えば平面視が略円弧形状をなしている。
高周波アンテナであるアンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの外部であって誘電体壁91の上面に配置されている。アンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの形状に合わせて、例えば平面視が略円弧形状をなしている。
プラズマ発生室40の外部には、整合器55と、高周波電源57とが設置されている。アンテナ41Cの一端は、整合器55を介して高周波電源57に接続されている。アンテナ41Cの他端は、天井部15のカバー15b1に接続され、処理容器1を介して接地されている。プラズマ発生室40CでプラズマPを生成する際には、アンテナ41Cに、高周波電源57から誘導電界形成用の高周波電力(例えば、13.56MHzの高周波電力)が供給される。これにより、アンテナ41Cによって、プラズマ発生室40C内に誘導電界が形成される。この誘導電界によって、プラズマ発生室40C内でプラズマ生成用ガスのプラズマPが生成する。
(導光板)
天井部15の中央に配置された導光板87は、第1の光照射ユニット5Bにおける導光板83よりも大きな厚みを有している。導光板87の下部は、環状をなす導光板83の内側に挿入され、部分的に内外2重に導光板が配置されている。導光板87は、プラズマ発生室40Cで生成させたプラズマPが発する光を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。導光板87は、天井部15のカバー15b1に支持されている。導光板87とカバー15b1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板83及び導光板87により、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
天井部15の中央に配置された導光板87は、第1の光照射ユニット5Bにおける導光板83よりも大きな厚みを有している。導光板87の下部は、環状をなす導光板83の内側に挿入され、部分的に内外2重に導光板が配置されている。導光板87は、プラズマ発生室40Cで生成させたプラズマPが発する光を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。導光板87は、天井部15のカバー15b1に支持されている。導光板87とカバー15b1との間は、図示しないシール部材が配置され、気密性が維持されている。従って、導光板83及び導光板87により、処理容器1内の処理空間S1の気密性が保持される。
(反射部)
第2の光照射ユニット5Cにおける反射部89は、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
第2の光照射ユニット5Cにおける反射部89は、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
また、本実施の形態において、プラズマ発生室40Cと導光板87とは、互いの側方において部分的に隣り合って配置されている。そして、導光板87の端部から導光板87の内部へ第2の光を入射させ、第1の実施の形態と同様のエッジライト方式によって、空間S2及び処理空間S1へ向けて第2の光を直接照射することができる。ここで、導光板87は、導光板83に比べて小径であるが、導光板87と反射部89との光学設計によって、処理空間S1や基板Sの処理面に向けて均一に第2の光を直接照射できる。従って、基板Sの面内で均一な処理が可能になる。
本実施の形態では、真空紫外光200を照射できる第1の光照射ユニット5Bに加え、第2の光、例えば真空紫外光200とは波長の異なる光を照射できる第2の光照射ユニット5Cを有することにより、基板Sに対して複数のプロセスを連続もしくは同時に実施することが可能になる。具体的には、例えば、第1の光照射ユニット5Bによる真空紫外光200を利用した成膜処理中、あるいは成膜処理後に、同じ処理容器1内で、真空紫外光200の照射と同時に、あるいは真空紫外光200の照射に引き続き、第2の光照射ユニット5Cによって特定の波長を持つ第2の光を、直接、処理空間S1および基板Sに向けて照射し、特定のガスを選択的かつ効率的に励起することが可能である。従って、本実施の形態の基板処理装置102によって、省スペース化と、基板Sの処理のスループットの向上を図ることができる。
なお、本実施の形態の基板処理装置102では、第1の光照射ユニット5Bから第2の光を照射し、第2の光照射ユニット5Cから真空紫外光200を照射してもよい。また、第1の光照射ユニット5Bから照射される光と第2の光照射ユニット5Cから照射される光を、共に真空紫外光200とすることも可能である。また、第2の光照射ユニット5Cの配置は、第1の光照射ユニット5Bの中央に限らず、第1の光照射ユニット5Bの導光板83の中心から偏った位置に、導光板87を配置することもできる。
なお、本実施の形態の基板処理装置102では、第2の実施の形態の基板処理装置101と同様に、導光板83及び/又は導光板87の内部に処理ガスの流路を設けることもできる。本実施の形態における他の構成及び効果は、第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。
[第4の実施の形態]
次に、図9を参照しながら、本発明の第4の実施の形態の基板処理装置について説明する。図9は、第4の実施の形態に係る基板処理装置103の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置103では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)とほぼ同様の構成を有する光照射ユニットに加え、天井部15の中央部にも、独立した光照射ユニットを有している。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置103において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
次に、図9を参照しながら、本発明の第4の実施の形態の基板処理装置について説明する。図9は、第4の実施の形態に係る基板処理装置103の概略構成を示す断面図である。本実施の形態の基板処理装置103では、第1の実施の形態の基板処理装置100(図1)とほぼ同様の構成を有する光照射ユニットに加え、天井部15の中央部にも、独立した光照射ユニットを有している。以下、第1の実施の形態の基板処理装置100との相違点を中心に説明し、本実施の形態の基板処理装置103において、第1の実施の形態の基板処理装置100と同じ構成には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施の形態の基板処理装置103は、基板Sを処理するための処理空間S1を有する処理容器1と、処理容器1内で基板Sを保持する基板保持部としての載置台3と、処理容器1の内部へ向けて光を照射する光照射ユニットと、制御部7とを備えている。本実施の形態の基板処理装置103は、光照射ユニットとして、第1の光照射ユニット5D及び第2の光照射ユニット5Eを備えている。
<第1の光照射ユニット>
第1の光照射ユニット5Dは、プラズマPによって第1の光としての紫外線、例えば真空紫外光200を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に真空紫外光200を照射する。本実施の形態において、第1の光照射ユニット5Dは、第1の実施の形態における光照射ユニット5とほぼ同様の構成である。第1の光照射ユニット5Dは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板43と、反射部85と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。本実施の形態では、反射部85が環状に形成されている点で、第1の実施の形態における反射部45と異なっている。
第1の光照射ユニット5Dは、プラズマPによって第1の光としての紫外線、例えば真空紫外光200を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に真空紫外光200を照射する。本実施の形態において、第1の光照射ユニット5Dは、第1の実施の形態における光照射ユニット5とほぼ同様の構成である。第1の光照射ユニット5Dは、2つのプラズマ発生室40A及び40Bと、2つの高周波アンテナ41A及び41Bと、導光板43と、反射部85と、を備えている。なお、2つのプラズマ発生室40A,40Bを区別しない場合は、単に「プラズマ発生室40」と記す。また、2つのアンテナ41A,41Bを区別しない場合は、単に「アンテナ41」と記す。本実施の形態では、反射部85が環状に形成されている点で、第1の実施の形態における反射部45と異なっている。
(導光板)
導光板43の構成と機能は、第1の実施の形態の基板処理装置100と同様である。導光板43は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板43は、第1の実施の形態と同様に、プラズマ発生室40で生成させたプラズマPが発する真空紫外光200を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する材質によって構成されている。
導光板43の構成と機能は、第1の実施の形態の基板処理装置100と同様である。導光板43は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板43は、第1の実施の形態と同様に、プラズマ発生室40で生成させたプラズマPが発する真空紫外光200を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する材質によって構成されている。
(反射部)
第1の光照射ユニット5Dにおける反射部85は、環状である点を除き、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
第1の光照射ユニット5Dにおける反射部85は、環状である点を除き、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
本実施の形態において、プラズマ発生室40A,40Bと導光板43とは、互いの側方において隣り合って配置されている。そして、第1の実施の形態と同様に、導光板43の端部から導光板43の内部へ紫外線、例えば真空紫外光200を入射させ、エッジライト方式によって、空間S2及び処理空間S1へ向けて真空紫外光200を照射することができる。ここで、反射部85は環状であるが、導光板43と反射部85との光学設計によって、処理空間S1や基板Sの処理面に向けて均一に真空紫外光200を照射できる。従って、基板Sの面内で均一な処理が可能になる。
第1の光照射ユニット5Dにおける他の構成は第1の実施の形態の基板処理装置100における光照射ユニット5と同様である。
<第2の光照射ユニット>
第2の光照射ユニット5Eは、プラズマPによって光を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に光を照射する。ここで、第2の光照射ユニット5Eでは、紫外線などを含む第2の光を照射できるように構成されている。以下の説明では、第2の光照射ユニット5Eが真空紫外光200と同じ波長又は異なる波長を有する第2の光を照射するものとして説明する。第2の光照射ユニット5Eは、プラズマ発生室40Cと、アンテナ41Cと、導光板99と、反射部89と、を備えている。
第2の光照射ユニット5Eは、プラズマPによって光を発生させ、処理容器1の内部の処理空間S1に光を照射する。ここで、第2の光照射ユニット5Eでは、紫外線などを含む第2の光を照射できるように構成されている。以下の説明では、第2の光照射ユニット5Eが真空紫外光200と同じ波長又は異なる波長を有する第2の光を照射するものとして説明する。第2の光照射ユニット5Eは、プラズマ発生室40Cと、アンテナ41Cと、導光板99と、反射部89と、を備えている。
(プラズマ発生室)
プラズマ発生室40Cは、内部で第2の光を発するプラズマPを生成させる。プラズマ発生室40Cは、カバー15b1、導光板99及び誘電体壁91によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁91は、例えば石英などの誘電体により構成されている。プラズマ発生室40Cは、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
プラズマ発生室40Cは、内部で第2の光を発するプラズマPを生成させる。プラズマ発生室40Cは、カバー15b1、導光板99及び誘電体壁91によって囲まれた空間であり、本実施の形態では平面視弧状をなしている。誘電体壁91は、例えば石英などの誘電体により構成されている。プラズマ発生室40Cは、図示しないシール部材によって気密に封止されている。
プラズマ発生室40Cには、ガス導入路93及び排気路95が接続されている。ガス導入路93には、ガス供給装置27が接続されている。なお、ガス導入路93は、ガス供給装置27とは別のガス供給装置に接続してもよい。
ガス供給装置27は、ガス導入路93へ供給する1種または複数種のガスを保持するガス供給源29と、ガス供給源29とガス導入路93とを接続し、ガス導入部へガスを供給する一本又は複数本の配管31C(1本のみ図示)を備えている。また、ガス供給装置27は、配管31Cの途中に、ガス流量を制御するマスフローコントローラ(MFC)33Cと、複数の開閉バルブ35C(2つのみ図示)を備えている。ガス導入路93からプラズマ発生室40C内に導入されるガスの流量等は、マスフローコントローラ33Cおよび開閉バルブ35Cによって制御される。ガス供給源29からプラズマ発生室40Cへ供給されるプラズマ生成用ガスは、第2の光を発するプラズマPを生成させる。このようなプラズマPを生成させるためのプラズマ生成用ガスとしては、特に限定されないが、例えば、紫外線を発生させやすいものとしてAr、Kr、Xe、Hgなど、赤外線を発生させやすいものとしてBr、Iなどを挙げることができる。また、プラズマ生成用ガスには、希釈用のガスとして、窒素などの不活性ガスを含むことができる。
排気路95は、排気管97及び排気管53を介して、排気装置19に接続されている。排気装置19を作動させることによって、プラズマ発生室40C内を減圧し、所定の圧力に調節することができる。なお、図示及び説明を省略するが、排気管97には、処理容器1の底壁11の排気口11aに接続する排気管17と同様に、APCバルブ、開閉バルブ等のバルブ類を設けることができる。また、排気路95は、排気装置19とは別の排気装置に接続してもよい。
なお、第2の光照射ユニット5Cに、複数のプラズマ発生室を設けることもできる。
(高周波アンテナ)
高周波アンテナであるアンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの外部であって誘電体壁91の上面に配置されている。アンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの形状に合わせて、例えば平面視が略円弧形状をなしている。
高周波アンテナであるアンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの外部であって誘電体壁91の上面に配置されている。アンテナ41Cは、プラズマ発生室40Cの形状に合わせて、例えば平面視が略円弧形状をなしている。
プラズマ発生室40Cの外部には、整合器55と、高周波電源57とが設置されている。アンテナ41Cの一端は、整合器55を介して高周波電源57に接続されている。アンテナ41Cの他端は、天井部15のカバー15b1に接続され、処理容器1を介して接地されている。プラズマ発生室40CでプラズマPを生成する際には、アンテナ41Cに、高周波電源57から誘導電界形成用の高周波電力(例えば、13.56MHzの高周波電力)が供給される。これにより、アンテナ41Cによって、プラズマ発生室40C内に誘導電界が形成される。この誘導電界によって、プラズマ発生室40C内でプラズマ生成用ガスのプラズマPが生成する。
(導光板)
天井部15の中央に配置された導光板99は、第1の光照射ユニット5Dにおける導光板43よりも大きな厚みを有している。導光板99は、導光板43の上に積層されており、部分的に上下2重に導光板が配置されている。導光板99は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板99は、プラズマ発生室40Cで生成させたプラズマPが発する光を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。導光板99は、天井部15のカバー15b1に支持されている。
天井部15の中央に配置された導光板99は、第1の光照射ユニット5Dにおける導光板43よりも大きな厚みを有している。導光板99は、導光板43の上に積層されており、部分的に上下2重に導光板が配置されている。導光板99は、載置台3に保持された状態の基板Sの処理面に対して平行に、かつ、処理空間S1を介して基板Sの上方に配置されている。導光板99は、プラズマ発生室40Cで生成させたプラズマPが発する光を反射させながら伝播させ得る光透過性、かつ耐熱性を有する石英等の材質によって構成されている。導光板99は、天井部15のカバー15b1に支持されている。
(反射部)
第2の光照射ユニット5Eにおける反射部89は、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
第2の光照射ユニット5Eにおける反射部89は、第1の実施の形態の基板処理装置100における反射部45と同様の構成と機能を有している。
また、本実施の形態において、プラズマ発生室40Cと導光板99とは、互いの側方において部分的に隣り合って配置されている。そして、導光板99の端部から導光板99の内部へ第2の光を入射させ、第1の実施の形態と同様のエッジライト方式によって、空間S2及び処理空間S1へ向けて第2の光を照射することができる。ここで、導光板99は、導光板43に比べて小径であるが、導光板99と反射部89との光学設計によって、処理空間S1や基板Sの処理面に向けて均一に第2の光を照射できる。従って、基板Sの面内で均一な処理を行う調整が可能になる。この場合、導光板99から放射された光は、導光板43を介して処理空間S1へ向けて放射される。
本実施の形態では、真空紫外光200を照射できる第1の光照射ユニット5Dに加え、第2の光、例えば真空紫外光200とは同じ波長又は異なる波長の光を照射できる第2の光照射ユニット5Eを有することにより、基板Sに対して単一のプロセスおよび/または複数のプロセスを行う場合に、基板Sの面内での処理の均一性を向上させることが可能になる。具体的には、例えば、第1の光照射ユニット5Dによる真空紫外光200を利用した成膜処理において、処理室側に起因する要因によって基板Sの面内で処理の偏りが存在する場合(例えばゲートバルブGVの存在などに起因したプロセス結果の特異点が存在する場合など)に、前記処理の偏りを容易に改善することができる。この場合、例えば第2の光照射ユニット5Eを、第1の光照射ユニット5Dの導光板43の中央ではなく、中央から少しずらした位置に配置することによって、前記処理の偏りを緩和する、といった調整が可能となる。従って、本実施の形態の基板処理装置103によって、処理空間S1および基板Sに向けて、特定の部位での光量を増加させる調整が可能になり、基板Sの処理の均一性向上を図ることができる。
なお、本実施の形態の基板処理装置103では、第1の光照射ユニット5Dから第2の光を照射し、第2の光照射ユニット5Eから真空紫外光200を照射してもよい。また、第1の光照射ユニット5Dから照射される光と第2の光照射ユニット5Eから照射される光を、共に真空紫外光200とすることも可能である。また、上記のとおり、第2の光照射ユニット5Eの配置は、第1の光照射ユニット5Dの中央に限らず、第1の光照射ユニット5Dの導光板43の中心から偏った位置に、導光板99を積層して配置することもできる。
なお、本実施の形態の基板処理装置103では、第2の実施の形態の基板処理装置101と同様に、導光板43の内部に処理ガスの流路を設けることもできる。本実施の形態における他の構成及び効果は、第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、真空紫外光200を発生させるためのプラズマPの生成方法として誘導結合プラズマ方式を例に挙げたが、例えば、平行平板方式、表面波プラズマ方式、ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ方式、ヘリコン波プラズマ方式、マイクロ波プラズマ方式など他の方式も適用可能である。
また、上記実施の形態では、基板処理の具体例として、真空紫外光200を利用したCVD法によるシリコン薄膜及びシリコン窒化膜の成膜を例に挙げたが、本発明の基板処理装置は、例えば、太陽電池用アモルファスシリコン膜、シリコン酸化膜などの成膜にも利用可能である。
さらに、本発明の基板処理装置は、成膜処理以外に、エッチング処理、アニール処理、改質処理(例えば、有機膜中の炭素除去、膜中の水素脱離による高酸素濃度化など)、硬化処理(例えば、光化学反応によるポリマー生成)、灰化処理、処理容器内の浄化処理(例えば、NF3や有機シロキサン化合物の分解除去処理、不純物の酸化除去処理など)、シリコン基板やガラス基板の不純物除去などの基板前処理など多様な用途に適用可能である。
1…処理容器、3…載置台、5…光照射ユニット、7…制御部、11…底壁、13…側壁、13a…搬入出口、15…天井部、15a…枠体、15b…カバー、15c…ガス導入部、17…排気管、19…排気装置、23…APCバルブ、27…ガス供給装置、29…ガス供給源、31A,31B…配管、33A,33B…マスフローコントローラ(MFC)、35A,35B…開閉バルブ、37…シャワープレート、40A,40B…プラズマ発生室、41A,41B…高周波アンテナ、43…導光板、45…反射部、47…誘電体壁、49…ガス導入路、51…排気路、53…排気管、55…整合器、57…高周波電源、71…コントローラ、72…ユーザーインターフェース、73…記憶部、100…基板処理装置、S…基板、GV…ゲートバルブ
Claims (11)
- 基板を処理する処理空間を有する処理容器と、
前記処理容器内で前記基板を保持する基板保持部と、
内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させるプラズマ発生室と、
前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記プラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する真空紫外光を反射させながら伝播させる光透過性の導光板と、
前記導光板に接して設けられ、前記導光板の内部を伝播する前記真空紫外光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる反射部と、
を備え、
前記プラズマ発生室と前記導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記導光板の端部から前記導光板の内部へ前記真空紫外光を入射させるように配置されている基板処理装置。 - 一つの前記導光板に対し、複数の前記プラズマ発生室を有している請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記導光板の下方に、前記基板を処理する処理ガスを導入するガス導入部を有している請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記導光板の内部に、前記基板を処理する処理ガスを前記基板の処理面と平行な方向に拡散させる流路と、該流路に連通し、前記処理空間へ向けて前記処理ガスを噴射する噴射口が設けられている請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記導光板が、複数の板状部材を積層して形成されている請求項4に記載の基板処理装置。
- 基板を処理する処理空間を有する処理容器と、
前記処理容器内で前記基板を保持する基板保持部と、
前記処理空間へ向けて光を照射する複数の光照射ユニットと、
を備え、
前記光照射ユニットは、第1の光照射ユニット及び第2の光照射ユニットを含み、
前記第1の光照射ユニットは、
内部で真空紫外光を発するプラズマを生成させる第1のプラズマ発生室と、
前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記第1のプラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する真空紫外光を反射させながら伝播させる光透過性の第1の導光板と、
前記第1の導光板に接して設けられ、前記第1の導光板の内部を伝播する前記真空紫外光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる第1の反射部と、を有し、前記第1のプラズマ発生室と前記第1の導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記第1の導光板の端部から前記第1の導光板の内部へ前記真空紫外光を入射させるものであり、
前記第2の光照射ユニットは、
内部で光を発するプラズマを生成させる第2のプラズマ発生室と、
前記基板保持部に保持された状態の前記基板の処理面に対して、平行に、かつ、前記処理空間を介して上方に配置され、前記第2のプラズマ発生室で生成させた前記プラズマが発する光を反射させながら伝播させる光透過性の第2の導光板と、
前記第2の導光板に接して設けられ、前記第2の導光板の内部を伝播する前記光を反射させて前記処理空間へ向けて照射させる第2の反射部と、
を有し、前記第2のプラズマ発生室と前記第2の導光板とが、互いの側方において隣り合い、前記第2の導光板の端部から前記第2の導光板の内部へ前記光を入射させるものである、基板処理装置。 - 一つの前記第1の導光板に対し、複数の前記第1のプラズマ発生室を有している請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記第1の導光板が環状をなしており、その内側に前記第2の導光板の一部分が配置されている請求項6または7に記載の基板処理装置。
- 前記第1の導光板と前記第2の導光板が積層されている請求項6または7に記載の基板処理装置。
- 前記第2のプラズマ発生室で生成する前記プラズマの光が、前記第1のプラズマ発生室で生成する前記真空紫外光とは異なる波長を有する光である請求項6から9のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 請求項1から10のいずれか1項に記載の基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法。
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2013
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