JP2015040198A - 異性化反応制御方法、及び異性体製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(異性化反応制御方法の概要)
本実施の形態に係る異性化反応制御方法は、分子が形を変形する異性化反応等の化学反応において、選択的に所定の形状の分子を生成させる反応に関する。具体的に、本実施の形態に係る異性化反応制御方法は、ナノレベルで平滑な平面構造を有するナノ層状無機材料を用い、当該ナノ層状無機材料の表面近傍に存在する電荷によるクーロン場を利用して選択的に所定の形状の分子を生成させる反応に関する。より具体的に、本実施の形態に係る異性化反応制御方法は、粘土鉱物等の無機化合物の表面近傍に存在する電荷と複数の異性体を含むイオン性分子の電荷との間で作用する静電相互作用を利用して、複数の異性体のうちの一の異性体から他の異性体への異性化反応を、粘土鉱物の面内において選択的に促進若しくは抑制する方法である。
本実施の形態に係る異性化反応制御方法に用いる無機化合物は、例えば、無機層状化合物である。具体的に、複数の第1電荷を含むと共に互いに隣接する複数の第1電荷が予め定められた間隔で表面近傍に配列している無機層状化合物である。つまり、無機層状化合物は、ナノレベルで平滑なシート構造(すなわち、スタックした場合に層構造を呈する構造)を有し、表面近傍に分子の大きさの間隔(すなわち、数nm程度の間隔)で負電荷が存在する粘土鉱物である(以下、「粘土シート」若しくは「ナノシート」と表す場合がある。)。したがって、「予め定められた間隔」は、無機層状化合物の結晶構造に応じて決定される。無機層状化合物は、例えば、[SiO4]4−四面体が2次元網目状に配列したシートを含む粘土鉱物である。一例として、サポナイト等の無機層状化合物を異性化反応制御方法に用いることができる。なお、サポナイトの負電荷は、Si原子と置換されているAl原子が電荷発生点になっているので、Al原子の上に電荷が存在する。
本実施の形態に係る異性化反応制御方法は、複数の第1電荷を含むと共に互いに隣接する複数の第1電荷が予め定められた間隔で表面近傍に配列している無機層状化合物の面上に、複数の第1電荷と引き合う複数の第2電荷を含み、複数の異性体を有する多価イオン性分子を接触させ、第1電荷と第2電荷との静電相互作用により一の異性体から他の異性体への異性化反応の加減速を制御する異性化反応制御工程を備える。
以下、本実施の形態に係る異性化反応制御方法を用いたアゾベンゼン誘導体分子の異性化反応の例を説明する。
上記説明における本実施の形態に係る異性化反応制御方法を用いて所望の異性体を製造する異性体製造方法について説明する。
本実施の形態に係る異性化反応制御方法によれば、所望の異性体内の第2電荷間の距離に応じて無機層状化合物の第1電荷間の距離を設計することで、無機層状化合物と所望の異性体との間に強力な静電引力を作用させることができる。これにより、異性化反応制御方法によれば、所望の異性化反応のみを抑制若しくは促進できる。したがって、光を用いた異性化反応の場合、一の異性体から他の異性体への異性化反応に要する光の波長帯と、他の異性体から一の異性体への異性化反応に要する光の波長帯とが重畳する場合であっても、所望の異性体ではない異性体が生成する副反応を抑制できると共に、所望の異性体への異性化反応の効率のみを実質的に向上させることができるので、所望の異性体を高収率で製造することができる。
2 多価イオン性分子
10、12 第1電荷
15 間隔
20、22 第2電荷
25 距離
Claims (6)
- 複数の第1電荷を含むと共に互いに隣接する前記複数の第1電荷が予め定められた間隔で表面近傍に配列している無機層状化合物の面上に、前記複数の第1電荷と引き合う複数の第2電荷を含み、複数の異性体を有する多価イオン性分子を接触させ、前記第1電荷と前記第2電荷との静電相互作用により一の異性体から他の異性体への異性化反応の加減速を制御する異性化反応制御工程
を備える異性化反応制御方法。 - 前記異性化反応制御工程が、前記予め定められた間隔を前記一の異性体に含まれる前記複数の第2電荷間の距離に対応させることで、前記一の異性体から前記他の異性体への前記異性化反応を抑制する請求項1に記載の異性化反応制御方法。
- 前記無機層状化合物が、粘土鉱物であり、
前記予め定められた間隔が、前記無機層状化合物の結晶構造に応じて決定される請求項1又は2に記載の異性化反応制御方法。 - 前記無機層状化合物の表面又は裏面の少なくとも一方の面上に前記多価イオン性分子が吸着する請求項1〜3のいずれか1項に記載の異性化反応制御方法。
- 前記異性化反応を駆動させるエネルギーを加えるエネルギー供給工程
を更に備える請求項1〜4のいずれか1項に記載の異性化反応制御方法。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の異性化反応制御方法を用いて前記一の異性体を前記無機層状化合物の面上に吸着させるか、若しくは前記面上で前記他の異性体から前記一の異性体への前記異性化反応をさせることで前記面上に前記一の異性体を生成させる異性体生成工程と、
前記異性体生成工程によって生成した前記一の異性体を前記無機層状化合物から脱離させる脱離工程とを備える異性体製造方法。
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