JP2015025040A - 地盤注入用固結材の製造方法および製造装置 - Google Patents

地盤注入用固結材の製造方法および製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】SiO2濃度が高くても、部分ゲルの発生量を抑制して生産効率よく安全に地盤注入用固結材を製造できる地盤注入用固結材の製造方法および装置を提供する。
【解決手段】酸LAに、珪酸ソーダLBとコロイダルシリカLCとを滴下し、平面視で円形の撹拌体9を有するとともに、撹拌体9の平面視で円形中心部に回転軸8が突設され、撹拌体9の上部および下部に形成された吸入口10a、10bと、上部に形成された吸入口10aと下部に形成された吸入口10bとの間の上下位置で、吸入口10a、10bよりも撹拌体9の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口11a、11bと、吸入口10a、10bと吐出口11a、11bとを連通する流路12とを備えた撹拌機6を用いて、撹拌体9を回転させることにより、これらを撹拌混合して地盤注入用固結材を製造する。
【選択図】図5

Description

本発明は、地盤注入用固結材の製造方法および装置に関し、さらに詳しくは、SiO2濃度が高くても、部分ゲルの発生量を抑制して生産効率よく安全に地盤注入用固結材を製造できる地盤注入用固結材の製造方法および装置に関するものである。
軟弱地盤の液状化対策として用いられる地盤注入用固結材として、コロイダルシリカおよび珪酸ソーダを含有する溶液型の固結材が知られている(例えば、特許文献1参照)。従来、この溶液型の地盤注入用固結材のSiO2濃度は10質量%程度であり、この程度のSiO2濃度であれば液状化対策として用いるには十分な強度であった。ところが、近年、既存の岸壁、護岸または構造物の耐震補強、構造物の周囲の地盤改良など、従来とは異なる用途に対する地盤注入用固結材の需要が高まりつつある。このような新たな用途では、地盤注入用固結材に対して、より高い強度が要求されている。地盤注入用固結材は、SiO2濃度を高くすることによって高い強度を得ることができる。
従来、この地盤注入用固結材は、例えば、混合槽の中で、所定量の希釈した硫酸やリン酸を、プロペラ型などの撹拌羽根を備えた撹拌機を用いて撹拌しながら、所定量のコロイダルシリカおよび珪酸ソーダを滴下して撹拌混合することにより製造されていた。この製造工程では、混合槽の中の硫酸やリン酸に、強アルカリの珪酸ソーダが滴下されるので、珪酸ソーダが滴下された周辺域ではpHの勾配が非常に大きくなる。そして、撹拌機による撹拌混合が進むことにより混合槽の中の混合液全体としてはpH値が低い状態(酸性)になり、所望のゲル化時間に設定された地盤注入用固結材が製造される。
ところで、珪酸ソーダが滴下された周辺域は、アルカリ領域から酸性領域になる過程で中性領域を通過する。そして、中性領域では、図11に例示するように、混合液のゲル化時間が非常に短くなるため、部分ゲル(白濁)が発生し易くなる。また、混合液のSiO2濃度が高くなる程、ゲル化時間が短くなる。それ故、SiO2濃度を高くしつつ、部分ゲルの発生量を抑制して地盤注入用固結材を製造することは困難であった。地盤注入用固結材は、地盤中に浸透注入させるので、極力、部分ゲルが存在しない清澄な状態であることが要求される。
ここで、撹拌羽根を高速回転させて珪酸ソーダを混合液中に早く分散させることにより、部分ゲルの発生量を抑えることは可能である。しかし、プロペラ型などの従来の撹拌羽根を高速回転させると、周辺に混合液が飛散して作業環境が悪化するという問題が生じる。特に、強酸や強アルカリ溶液が周囲に飛散するのは危険である。また、撹拌羽根の回転数を上げるには限界があるため、珪酸ソーダを短時間に混合液中に十分に分散させることが困難であった。
特開2001−3047号公報
本発明の目的は、SiO2濃度が高くても、部分ゲルの発生量を抑制して生産効率よく安全に地盤注入用固結材を製造できる地盤注入用固結材の製造方法および装置を提供することにある。
上記目的を達成するため本発明の地盤注入用固結材の製造方法は、酸に、1種類以上のシリカ含有注入材を滴下して、撹拌体を回転させることにより、これらを撹拌混合して地盤注入用固結材を製造する地盤注入用固結材の製造方法において、前記撹拌混合を行なう際に、平面視で円形の撹拌体を有するとともに、この撹拌体の平面視で円形中心部に回転軸が突設され、前記撹拌体の上部および下部に形成された吸入口と、前記上部に形成された吸入口と前記下部に形成された吸入口との間の上下位置で、前記吸入口よりも前記撹拌体の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口と、前記吸入口と前記吐出口とを連通する流路とを備えた撹拌機を用いることを特徴とする。
ここで、例えば、前記地盤注入用固結材のSiO2濃度が10質量%超である。前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類を、平面視で前記撹拌体の周縁部近傍に滴下することもできる。前記シリカ含有注入材を、平面視で複数の異なる位置から滴下することもできる。前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下速度を、滴下初期よりも滴下終期で遅くすることもできる。前記撹拌体の回転速度を、滴下初期よりも滴下終期で速くすることもできる。前記撹拌体を例えば、500rpm〜1200rpmの範囲で回転させる。
本発明の地盤注入用固結材の製造装置は、酸を混合槽に供給する酸供給手段と、前記混合槽に1種類以上のシリカ含有注入材を滴下するシリカ滴下手段と、前記混合槽の内部に設置されて回転する撹拌体を有する撹拌機とを備えた地盤注入用固結材の製造装置において、前記撹拌機が平面視で円形の撹拌体を有し、この撹拌体の平面視で円形中心部に前記混合槽の上方に延びる回転軸が突設され、前記撹拌体の上部および下部に形成された吸入口と、前記上部に形成された吸入口と前記下部に形成された吸入口との間の上下位置で、前記吸入口よりも前記撹拌体の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口と、前記吸入口と前記吐出口とを連通する流路とが設けられた構成であることを特徴とする。
ここで、例えば、前記酸供給手段により供給された酸と、前記シリカ滴下手段により滴下されたシリカ含有注入材とを撹拌混合することにより製造される地盤注入用固結材のSiO2濃度が10質量%超に設定された構成にする。前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下位置が、平面視で前記撹拌体の周縁部近傍に設定された構成にすることもできる。前記シリカ含有注入材の滴下位置が、平面視で複数の異なる位置に設定された構成にすることもできる。前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下速度が、滴下初期よりも滴下終期で遅くなる設定にされた構成にすることもできる。前記撹拌体の回転速度が、前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下初期よりも滴下終期で速くなる設定にされた構成にすることもできる。前記撹拌体の回転速度が、500rpm〜1200rpmの範囲に設定された構成にすることもできる。
本発明によれば、酸に、1種類以上のシリカ含有注入材を滴下して、これらを撹拌混合する際に、平面視で円形の撹拌体を有する撹拌機を用いるので、撹拌体を高速で回転させても、混合槽の中の混合液が周辺に飛散して作業環境が悪化する不具合を回避できる。そのため、安全に作業を行なうことができる。
また、前記撹拌体は、その上部および下部に形成された吸入口と、前記上部に形成された吸入口と前記下部に形成された吸入口との間の上下位置で、前記吸入口よりも前記撹拌体の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口と、前記吸入口と前記吐出口とを連通する流路とを備えているので、混合槽の中で回転させることにより、混合液を吸入口から吸い込んで遠心力によって吐出口から吐出して撹拌混合する。これにより、滴下されたシリカ含有注入材は短時間で混合槽の中に広く分散されるので、部分ゲルの発生量を抑えることができる。それ故、SiO2濃度が高くても、部分ゲルの発生量を抑制して生産効率よく地盤注入用固結材を製造することが可能になる。
本発明の地盤注入用固結材の製造装置の全体概要図である。 珪酸ソーダおよびコロイダルシリカの滴下位置を平面視で例示する説明図である。 図1の撹拌体を例示する正面図である。 図3の撹拌体の上面図である。 混合液の撹拌混合状態を縦断面視で例示する説明図である。 珪酸ソーダを複数の異なる場所から滴下する場合の珪酸ソーダおよびコロイダルシリカの滴下位置を平面視で例示する説明図である。 撹拌体の変形例を示す正面図である。 図7の撹拌体の上面図である。 撹拌体の別の変形例を示す正面図である。 図9の撹拌体の上面図である。 pHとゲル化時間の関係を例示するグラフ図である。
以下、本発明の地盤注入用固結材の製造方法および装置を実施形態に基づいて説明する。
図1〜図4に例示するように、本発明の地盤注入用固結材の製造装置1(以下、製造装置1という)は、混合槽2に酸LAを供給する酸供給手段3と、混合槽2に珪酸ソーダLBを滴下する珪酸ソーダ滴下手段4と、混合槽2にコロイダルシリカLCを滴下するコロイダルシリカ滴下手段5と、撹拌機6とを備えている。この製造装置1は、トラック等の搬送手段により工事現場まで搬送され、その現場に設置される。本発明において地盤注入用固結材は、酸LAと、1種類以上のシリカ含有注入材とを撹拌混合することにより製造される。この実施形態では、シリカ含有注入材として、珪酸ソーダ(水ガラス)LBおよびコロイダルシリカLCの2種類が使用されている。しがって、珪酸ソーダ滴下手段4およびコロイダルシリカ滴下手段5は、シリカ含有注入材滴下手段となる。
酸LAとしては、例えば硫酸またはリン酸の少なくともいずれかを用いることができる。その他に、塩酸、クエン酸等を用いることもできる。シリカ含有注入材としてはその他に、活性シリカ、セメント、スラグ、フライアッシュ、ヒュームドシリカ等を例示できる。地盤注入用固結材には、適宜、添加剤が添加されて撹拌混合される。添加剤としては、例えば、リン酸系化合物、クエン酸系化合物、水溶性アルミニウム化合物であり、これら添加剤の内から少なくとも1種類が添加される。
酸供給手段3は、タンク3aと供給ライン3bとを備えていて、タンク3aに収容された酸LAが供給ライン3bを通じて所定量、混合槽2に供給される。酸LAとしては、酸濃度が50〜80質量%の酸原液またはそれに水を加えて希釈した酸水溶液を使用できる。酸LAの量は、地盤注入用固結材の所望のゲル化時間(即ち、pH値)に応じて設定される。
珪酸ソーダ滴下手段4は、タンク4aと開閉弁4bとを備えていて、開閉弁4bを開弁することにより、タンク4aに収容された珪酸ソーダLBが混合槽2に滴下される。開閉弁4bの開弁具合によって滴下速度がコントロールされる。この滴下速度は例えば、15〜70L/min程度であり、一定速度、或いは可変にして珪酸ソーダLBが滴下される。珪酸ソーダLBとしては、市販品やそれに水を加えて希釈した希釈溶液を使用できる。珪酸ソーダLBのモル比(SiO2/Na2O)は特に限定されないが、2.0〜5.2程度が好ましく、3.1〜3.8程度であれば汎用の珪酸ソーダが使用できるのでより好ましい。
コロイダルシリカ滴下手段5は、タンク5aと開閉弁5bとを備えていて、開閉弁5bを開弁することにより、タンク5aに収容されたコロイダルシリカLCが混合槽2に滴下される。開閉弁5bの開弁具合によって滴下速度がコントロールされる。この滴下速度は例えば、40〜120L/min程度であり、一定速度、或いは可変にしてコロイダルシリカLCが滴下される。コロイダルシリカLCは、コロイド状(粒径約1nm
〜100nmの粒子が水に分散している状態)であり単独では長期的にゲル化しない安定した物質である。コロイダルシリカLCとしては、市販品やそれに水を加えて希釈した希釈溶液を使用できる。
コロイダルシリカLCに含まれるシリカ(SiO2)の平均粒子径としては、3〜30nm程度が好ましく、4〜15nm程度がより好ましい。この平均粒子径は、窒素吸着によるBET法により測定した値である。尚、BET法では測定困難な微粒子については動的光散乱法により測定することもできる。コロイダルシリカLCに含まれるシリカ濃度としては、20〜50質量%程度が好ましい。
撹拌機6は、混合槽2の内部に設置されて回転する撹拌体9を有している。この撹拌体9は平面視で円形状であり、この実施形態では撹拌体9が円柱状に形成されている。撹拌体9の直径は、例えば30cm程度(20cm〜40cm)である。この撹拌体9の平面視で円形中心部に回転軸8が突設されている。側面視で回転軸8と撹拌体9とは直交して接続されていて、回転軸8は混合槽2の上方に延びている。
回転軸8は駆動モータ等の駆動源7によって回転駆動される。撹拌体9の回転数は例えば500rpm〜1200rpmの範囲であり、この範囲で回転数を一定、或いは可変にして回転駆動される。撹拌体9および回転軸8は、混合液による耐食を考慮して、例えばステンレス鋼等で形成される。耐食性をより向上させるには、表面をフッ素樹脂コーティングするとよい。
撹拌体9の上部および下部にはそれぞれ、吸入口10a、10bが形成されている。上部に形成された吸入口10aと下部に形成された吸入口10bとの間の上下位置に吐出口11a、11bが形成されている。この吐出口11a、11bは、吸入口10a、10bよりも撹拌体9の平面視で半径方向外側の位置に形成されている。この実施形態では、円柱状の撹拌体9の上面と下面にそれぞれ吸入口10a、10bが形成され、周面に吐出口11a、11bが形成されている。吐出口11a、11bのうち、相対的に上方位置にある吐出口11aと上部の吸入口10aとは、撹拌体9の内部に形成された流路12により連通している。また、吐出口11a、11bのうち、相対的に下方位置にある吐出口11bと下部の吸入口10bとは、撹拌体9の内部に形成された流路12により連通している。
この実施形態では、吸入口10a、10bが合計で4つ、吐出口11a、11bが合計で4つ形成されている。吸入口10a、10b、吐出口11a、11bの数は適宜、設定することができるが、複数にすることが好ましく、例えば、4つ〜8つ程度に設定する。上部の吸入口10aと連通する吐出口11aと、下部の吸入口10bと連通する吐出口11bの数(即ち、上部の吸入口10aと下部の吸入口10bの数)は同じにすることも、異ならすこともできる。前者の数を後者よりも多くすると、滴下させた珪酸ソーダLB、コロイダルシリカLCを混合液中に早く広く分散させることが期待できる。
吸入口10a、10bは、平面視で撹拌体9の周方向に等間隔で配置することが好ましい。吐出口11a、11bも、平面視で撹拌体9の周方向に等間隔で配置することが好ましい。これにより、滴下させた珪酸ソーダLB、コロイダルシリカLCを混合液中に早く広く分散させ易くなる。吸入口10a、10b、吐出口11a、11bの内径は例えば、38mm程度(30mm〜40mm)である。
撹拌体9の上部に形成された吸入口10aと下部に形成された吸入口10bとは、平面視で撹拌体9の周方向にずれた位置に配置されている。吸入口10aと吸入口10bとは、平面視で撹拌体9の周方向で一致した位置に配置することもできるが、周方向にずらして配置することが好ましく、できるだけ周方向に離れるように配置することが好ましい。これにより、滴下させた珪酸ソーダLB、コロイダルシリカLCを混合液中に早く広く分散させ易くなる。
吐出口11a、11bの内、相対的に上方位置にある吐出口11aと下方位置にある吐出口11bとは、平面視で撹拌体9の周方向にずれた位置に配置されている。吸入口10aと吸入口10bとは、平面視で撹拌体9の周方向で一致した位置に配置することもできるが、周方向にずらして配置することが好ましく、できるだけ周方向に離れるように配置することが好ましい。これにより、滴下させた珪酸ソーダLB、コロイダルシリカLCを混合液中に早く広く分散させ易くなる。
図2において二点鎖線で示すように、珪酸ソーダLBの滴下位置PB、コロイダルシリカLCの滴下位置PCは、平面視で撹拌体9の周縁部近傍に設定されている。珪酸ソーダLBの滴下位置PBとコロイダルシリカLCの滴下位置PCとは、対向した位置に設定されているが、両者の位置は、滴下する珪酸ソーダLBとコロイダルシリカLCとが直接接触しない配置であればよい。
次に、この製造装置1を用いて地盤注入用固結材を製造する方法を説明する。
例えば、硫酸またはリン酸の少なくともいずれかの酸LAを所定量、酸供給手段3aにより混合槽2に供給する。この供給された酸LAに上述した添加剤を所定量添加し、撹拌体9を回転させることにより撹拌混合して混合液を調製する。添加剤の含有量は酸LAの量に対して変わるが、通常は酸LA100質量部に対して2〜50質量部程度添加する。
次いで、撹拌体9を回転させて混合槽2の内部の混合液を撹拌混合しながら、珪酸ソーダ滴下手段4により、所定量の珪酸ソーダLBを混合槽2の内部の混合液に滴下する。また、コロイダルシリカ滴下手段5により、所定量のコロイダルシリカLCを混合槽2の内部の混合液に滴下する。このようにして、混合槽2の内部で酸LA、珪酸ソーダLBおよびコロイダルシリカLCを撹拌混合して地盤注入用固結材を製造する。本発明では、例えば、SiO2濃度が10質量%超の地盤注入用固結材を製造する。製造される地盤注入用固結材は例えばpH値が3程度である。
珪酸ソーダLBとコロイダルシリカLCとは、例えば同時に滴下する。尚、同時に滴下するとは、珪酸ソーダLBの滴下工程とコロイダルシリカLCの滴下工程とが、時間的に一部または全部重複してもよいことを意味する。また、珪酸ソーダLBの滴下工程とコロイダルシリカLCの滴下工程とを時間的に重複させず、珪酸ソーダLBを先に滴下することも、或いは、後に滴下することもできる。即ち、本発明では、珪酸ソーダLBとコロイダルシリカLCとを順不同に滴下することができる。珪酸ソーダLBの滴下工程では、撹拌体9の回転数を例えば500rpm〜1200rpmの範囲で回転させる。
図5に例示するように、撹拌体9の回転によって、それぞれの吸入口10a、10b、吐出口11a、11bには遠心力が作用する。ここで、吐出口11a、11bはそれぞれ、連通する吸入口10a、10bよりも回転軸8から遠い位置にあるため、吐出口11a、11bにおいては、吸入口10a、10bにおいてよりも大きな遠心力が作用する。そのため、流路12に存在する混合液は、吸入口10a、10bから吐出口11a、11bに向かうように流動する。即ち、上部の吸入口10aおよび下部の吸入口10bから吸入された混合液は、流路12を通じて吐出口11a、11bから吐出されることになる。吐出口11aから吐出された混合液は、主に上部の吸入口10aから吸入されるように混合槽2の中を循環する。吐出口11bから吐出された混合液は、主に下部の吸入口10bから吸入されるように混合槽2の中を循環する。このようにして、この撹拌体9は混合槽2の内部の混合液を遠心力によって撹拌混合する。
従来の撹拌機では、プロペラ型やディスパージョン型の撹拌羽根を回転させて混合液に衝突させることにより撹拌混合するので、高速回転させると混合液が周辺に飛散して作業環境が悪化することが懸念される。特に、強酸や強アルカリ溶液が周囲に飛散するのは危険である。したがって、撹拌羽根の回転数を大幅に増大させることも難しくなる。
一方、本発明では、平面視で円形の撹拌体9を用いるので、混合槽2の内部の混合液を過度にかき乱すことはない。また、遠心力を利用して混合液を撹拌混合するので、撹拌体9を高速回転させても混合液が周囲に飛散し難くなる。それ故、安全に作業を行なうことができる。
また、混合液は上述したように撹拌体9によって撹拌混合されるので、滴下された珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCを混合槽2の内部で停滞させることなく、短時間で混合液中に広く分散させることができる。ここで、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCを滴下する前の混合槽2の内部の混合液は強酸性であり、滴下された珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCの周辺域は一時的にアルカリ性になる。しかし、撹拌体9による撹拌混合により、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCが混合液中に即座に分散されるので、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCが滴下された周辺域は、アルカリから急速に酸性になり、中性領域を通過する時間が短くなるので部分ゲルの発生量を抑えるには有利になる。それ故、SiO2濃度が高くても、部分ゲルの発生量を抑制して生産効率よく地盤注入用固結材を製造することが可能になる。
このようにして本発明では、従来方法に比して部分ゲルの発生量を抑制できるので、SiO2濃度が10質量%超であっても生産効率よく地盤注入用固結材を製造することができる。例えば、部分ゲルの発生を抑えつつ、SiO2濃度が13〜15質量%程度の地盤注入用固結材を製造することも可能になる。
本発明は、従来よりもSiO2濃度が高い地盤注入用固結材を製造することができるので、その固結強度は従来よりも高くなる。例えば、一軸圧縮強度(28日強度:qu)が300kPa以上の地盤注入用固結材を製造することができる。具体的には、一軸圧縮強度(28日強度:qu)が400〜800kPa程度の地盤注入用固結材を製造することができる。したがって、既存の岸壁、護岸または構造物の耐震補強、構造物の周囲の地盤改良などの新たな用途に対して十分に実用に耐え得る固結強度を有する地盤注入用固結材を製造することができる。
珪酸ソーダLBの滴下位置PBは図2に例示したように、平面視で撹拌体9の周縁部近傍に滴下するとよい。これにより、滴下した珪酸ソーダLBを停滞させることなく、混合液中に短時間で広く分散させ易くなる。コロイダルシリカLCの滴下位置PCも同様に平面視で撹拌体9の周縁部近傍に滴下するとよい。このようにシリカ含有注入材の少なくとも1種類を、平面視で撹拌体9の周縁部近傍に滴下することが好ましい。
また、滴下した珪酸ソーダLBを混合液中に短時間で広く分散させるには、珪酸ソーダLBを平面視で複数(例えば2〜4箇所)の異なる位置から滴下するとよい。この場合、図6に例示するように、それぞれの珪酸ソーダLBの滴下位置PBを互いに最も離れた位置にすることにより、一段と迅速に混合液中に分散させ易くなる。コロイダルシリカLCについても同様に、平面視で複数(例えば2〜4箇所)の異なる位置から滴下するとよい。
珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCを滴下する前の混合槽2の内部の混合液は強酸性であるが、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCを滴下するに連れて、混合液全体としては当初よりもpH値が若干大きくなる。即ち、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCの滴下初期よりも滴下終期において、混合液中の滴下した珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCの周辺域は、pHの勾配が若干緩やかになるため、アルカリ領域から酸性領域になる過程で中性領域を通過する時間が当初よりも若干長くなる。即ち、珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCの滴下初期よりも滴下終期において部分ゲルが発生し易くなる。そこで、珪酸ソーダLBの滴下速度を、滴下初期よりも滴下終期で遅くすることにより、滴下終期において滴下した珪酸ソーダLBを混合液中に停滞し難くしてより早く分散させる。これにより、部分ゲルの発生量を抑制するには有利になる。コロイダルシリカLCについても同様に、滴下速度を滴下初期よりも滴下終期で遅くすることにより、滴下終期において滴下したコロイダルシリカLC混合液中に停滞し難くしてより早く分散させるとよい。このようにシリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下速度を滴下初期よりも滴下終期で遅くすることもできる。
或いは、撹拌体9の回転速度を、珪酸ソーダLBの滴下初期よりも滴下終期で速くすることによっても部分ゲルの発生量を抑制するには有利になる。即ち、撹拌体9の回転速度を、滴下初期よりも滴下終期で速くすることにより、滴下終期において滴下した珪酸ソーダLBが混合液中に停滞し難くしてより早く分散させる。或いは、珪酸ソーダLBの滴下速度を滴下初期よりも滴下終期で遅くするとともに、撹拌体9の回転速度を珪酸ソーダLBの滴下初期よりも滴下終期で速くすることにより、部分ゲルの発生量を一段と抑制することもできる。同様に、撹拌体9の回転速度を、コロイダルシリカLCの滴下初期よりも滴下終期で速くすることもできる。
撹拌体9の回転数は、例えば500rpm〜1200rpmの範囲で回転させる。500rpm未満であると滴下した珪酸ソーダLBを混合液中に短時間で広く分散させ難くなる。一方、回転数を1200rpm超にするには高出力の駆動源7が必要になる等、撹拌機6が特別な仕様になる。さらに好ましくは、撹拌体9の回転数を600rpm〜800rpmの範囲に設定する。撹拌体9の回転数は一定にしてもよいが、回転数を可変にすることもできる。例えば、上述したように珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCの滴下初期と滴下終期とで撹拌体9の回転数を変化させることもできる。
図7、8に例示するように、吐出口11a、11bを同じ高さレベルにした撹拌体9を用いることもできる。吐出口11a、11b以外は、図3、4に例示した撹拌体9と同じ仕様である。この撹拌体9では、上部の吸入口10aから吸い込まれた混合液と、下部の吸入口10bから吸い込まれた混合液とが、撹拌体9の同じ高さレベルに形成された吐出口11a、11bから吐出される。この撹拌体9によれば、撹拌体9の上下寸法を小さくすることが可能になる。
図9、10に例示するように、撹拌体9を上側の撹拌分割体9aと下側の撹拌分割体9bとに分割して、それぞれを上下に連結した構成にすることもできる。この撹拌体9では、円盤状の上側の撹拌分割体9aと下側の撹拌分割体9bとが回転軸8を介して上下間隔をあけて連結されている。上側の撹拌分割体9aは、その上部に吸入口10aを有し、側部に吐出口11aを有し、吸入口10aと吐出口11aとは流路12により連通している。下側の撹拌分割体9bは、その下部に吸入口10bを有し、側部に吐出口11bを有し、吸入口10bと吐出口11bとは流路12により連通している。
この撹拌体9では、撹拌分割体9a、9bの上下間隔を適宜調整することができる。そのため、混合液(珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLC)を効率的に撹拌混合できる最適な吸入口10a、10bの位置、最適な吐出口11a、11bの位置に設定することが容易になる。
この撹拌体9では、上側の撹拌分割体9aが下側の撹拌分割体9bよりも外径が大きくなっているが、両者を同じ外径にすることもできる。滴下される珪酸ソーダLBやコロイダルシリカLCをできるだけ早く広く混合液中に分散させるには、下側の撹拌分割体9bに比して上側の撹拌分割体9aの外径を大きくして、混合液の上方部分をより大きな遠心力によって撹拌混合することが望ましい。
既述した実施形態では、溶液型の地盤注入用固結材を例にして説明したが、本発明はこれに限らず、上述したシリカ含有注入材を1種類単独で、或いは複数種類を組み合わせて用いることができる。
撹拌体のみを異ならせて、表1に記載のA液、B液、C液を撹拌混合することにより、地盤注入用固結材を製造した(実施例1、比較例1)。実施例1では図9、10に例示した構造の撹拌体を用い、比較例1では一般的な3枚の撹拌羽根を備えたプロペラ型を用いた。実施例1の撹拌体の外径は約6.4cm、比較例1の撹拌体の外径は約6.8cmであった。撹拌体の回転数は600rpmとし、17×17×17cmの混合槽にC液を収容して撹拌しながら、C液に対してA液とB液を同時に滴下して撹拌混合することにより、SiO2濃度14質量%、pH値が約2の地盤注入用固結材を3.5L製造した。A液の滴下時間は0.5分、その滴下位置は平面視で撹拌体の周縁部近傍(1箇所)に設定した。B液の滴下時間は5分、その滴下位置は平面視で撹拌体の周縁部近傍(1箇所)であって、A液の滴下位置と対向する位置に設定した。表2には、それぞれの条件下で製造した地盤注入用固結材を目視観察した結果、撹拌混合の際の混合液の飛散具合および地盤注入用固結材を45μmのメッシュにより濾過して得られたゲルの発生量(地盤注入用固結材100g中)を示した。
Figure 2015025040
Figure 2015025040
表2の結果から実施例1は比較例1に比して、混合液の飛散を防止しつつ、部分ゲルの発生量を大幅に抑制してSiO2濃度14質量%の地盤注入用固結材を製造できることが分かる。
[B液の滴下位置による効果]
実施例1の撹拌体を用いてB液の滴下位置のみを異ならせ(平面視で撹拌体の周縁部近傍と、周縁部よりも平面視で約3cm外周側の位置の2箇所)、他は上述した条件と同じに設定にして地盤注入用固結材を製造した。それぞれの条件下で製造した地盤注入用固結材を45μmのメッシュにより濾過して得られたゲルの発生量(地盤注入用固結材100g中)を確認した結果、周縁部近傍を滴下位置にした場合は、周縁部よりも外周側の位置を滴下位置にした場合に比して、ゲルの発生量を1/3程度にできることが分かった。
[撹拌体の回転数による効果]
実施例1の撹拌体を用いて回転数のみを異ならせ(200rpm〜800rpmの範囲で一定回転数とした)、他は上述した条件と同じに設定にして地盤注入用固結材を製造した。それぞれの条件下で製造した地盤注入用固結材を45μmのメッシュにより濾過して得られたゲルの発生量(地盤注入用固結材100g中)を確認した結果、600rpm程度までは回転数を増大させるに連れてゲルの発生量が減少した。撹拌体の回転数が500rpm以上の場合はゲルの発生量を十分に抑えることができ、600rpm以上になるとゲルの発生量はあまり変わらないことが分かった。
[B液の滴下位置の数による効果]
実施例1の撹拌体を用いてB液の滴下位置の数のみを異ならせ(1箇所〜4箇所)、他は上述した条件と同じに設定にして地盤注入用固結材を製造した。B液の滴下位置が2箇所の場合は平面視で撹拌体の周縁部近傍の対向する位置、3箇所の場合は、1箇所を挟んで平面視で撹拌体の周縁部近傍の周方向に左右それぞれに90°離した位置、4箇所の場合は平面視で撹拌体の周縁部近傍の周方向にそれぞれ90°離した位置に配置した。
それぞれの条件下で製造した地盤注入用固結材を45μmのメッシュにより濾過して得られたゲルの発生量(地盤注入用固結材100g中)を確認した結果、滴下位置の数が1箇所の場合と4箇所の場合はゲルの発生量が同等であり、2箇所の場合は1箇所の場合の1/3程度、3箇所の場合は1箇所の場合の1/2程度に抑制できることが分かった。
次に、撹拌体のみを異ならせて、表3に記載のB液、C液を撹拌混合することにより、地盤注入用固結材を製造した(実施例2、比較例2)。実施例2では上記実施例1と同じ撹拌体を用い、比較例2では上記比較例1と同じ撹拌体を用いた。撹拌体の回転数は600rpmとし、17×17×17cmの混合槽にC液を収容して撹拌しながら、C液に対してB液を滴下して撹拌混合することにより、SiO2濃度13質量%、pH値が約2の地盤注入用固結材を製造した。B液の滴下時間は5分、その滴下位置は平面視で撹拌体の周縁部近傍(1箇所)に設定した。表4には、それぞれの条件下で製造した地盤注入用固結材を目視観察した結果、撹拌混合の際の混合液の飛散具合および地盤注入用固結材を45μmのメッシュにより濾過して得られたゲルの発生量(地盤注入用固結材100g中)を示した。
Figure 2015025040
Figure 2015025040
表4の結果から実施例2は比較例2に比して、混合液の飛散を防止しつつ、部分ゲルの発生量を大幅に抑制してSiO2濃度13質量%の地盤注入用固結材を製造できることが分かる。
1 製造装置
2 混合槽
3 酸供給手段
3a タンク
3b 供給ライン
4 珪酸ソーダ滴下手段(シリカ滴下手段)
4a タンク
4b 開閉弁
5 コロイダルシリカ滴下手段(シリカ滴下手段)
5a タンク
5b 開閉弁
6 撹拌機
7 駆動源
8 回転軸
9 撹拌体
9a、9b 撹拌分割体
10a、10b 吸入口
11a、11b 吐出口
12 流路
LA 酸
LB 珪酸ソーダ(シリカ含有注入材)
LC コロイダルシリカ(シリカ含有注入材)

Claims (14)

  1. 酸に、1種類以上のシリカ含有注入材を滴下して、撹拌体を回転させることにより、これらを撹拌混合して地盤注入用固結材を製造する地盤注入用固結材の製造方法において、
    前記撹拌混合を行なう際に、平面視で円形の撹拌体を有するとともに、この撹拌体の平面視で円形中心部に回転軸が突設され、前記撹拌体の上部および下部に形成された吸入口と、前記上部に形成された吸入口と前記下部に形成された吸入口との間の上下位置で、前記吸入口よりも前記撹拌体の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口と、前記吸入口と前記吐出口とを連通する流路とを備えた撹拌機を用いることを特徴とする地盤注入用固結材の製造方法。
  2. 前記地盤注入用固結材のSiO2濃度が10質量%超である請求項1に記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  3. 前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類を、平面視で前記撹拌体の周縁部近傍に滴下する請求項1または2に記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  4. 前記シリカ含有注入材を、平面視で複数の異なる位置から滴下する請求項1〜3のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  5. 前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下速度を、滴下初期よりも滴下終期で遅くする請求項1〜4のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  6. 前記撹拌体の回転速度を、前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下初期よりも滴下終期で速くする請求項1〜5のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  7. 前記撹拌体を500rpm〜1200rpmの範囲で回転させる請求項1〜6のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造方法。
  8. 酸を混合槽に供給する酸供給手段と、前記混合槽に1種類以上のシリカ含有注入材を滴下するシリカ滴下手段と、前記混合槽の内部に設置されて回転する撹拌体を有する撹拌機とを備えた地盤注入用固結材の製造装置において、
    前記撹拌機が平面視で円形の撹拌体を有し、この撹拌体の平面視で円形中心部に前記混合槽の上方に延びる回転軸が突設され、前記撹拌体の上部および下部に形成された吸入口と、前記上部に形成された吸入口と前記下部に形成された吸入口との間の上下位置で、前記吸入口よりも前記撹拌体の平面視で半径方向外側の位置に形成された吐出口と、前記吸入口と前記吐出口とを連通する流路とが設けられた構成であることを特徴とする地盤注入用固結材の製造装置。
  9. 前記酸供給手段により供給された酸と、前記シリカ滴下手段により滴下されたシリカ含有注入材とを撹拌混合することにより製造される地盤注入用固結材のSiO2濃度が10質量%超に設定された請求項8に記載の地盤注入用固結材の製造装置。
  10. 前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下位置が、平面視で前記撹拌体の周縁部近傍に設定された請求項8または9に記載の地盤注入用固結材の製造装置。
  11. 前記シリカ含有注入材の滴下位置が、平面視で複数の異なる位置に設定された請求項8〜10のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造装置。
  12. 前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下速度が、滴下初期よりも滴下終期で遅くなる設定にされた請求項8〜11のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造装置。
  13. 前記撹拌体の回転速度が、前記シリカ含有注入材の少なくとも1種類の滴下初期よりも滴下終期で速くなる設定にされた請求項8〜12のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造装置。
  14. 前記撹拌体の回転速度が、500rpm〜1200rpmの範囲に設定された請求項8〜13のいずれかに記載の地盤注入用固結材の製造装置。
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