JP2015017996A - 雰囲気分析装置 - Google Patents

雰囲気分析装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015017996A
JP2015017996A JP2014217948A JP2014217948A JP2015017996A JP 2015017996 A JP2015017996 A JP 2015017996A JP 2014217948 A JP2014217948 A JP 2014217948A JP 2014217948 A JP2014217948 A JP 2014217948A JP 2015017996 A JP2015017996 A JP 2015017996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
container
flexible flat
mini
environment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014217948A
Other languages
English (en)
Inventor
良三 ▲高▼須
良三 ▲高▼須
Ryozo Takasu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2014217948A priority Critical patent/JP2015017996A/ja
Publication of JP2015017996A publication Critical patent/JP2015017996A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

【課題】 雰囲気分析装置に関し、例えばミニエンバイロメントなどの容器内に設置したセンサーと外部の制御回路とを容器に何らの加工を施すことなく接続することを可能にすると共にセンサーから引き出されたフレキシブルフラットケーブルを引き出し方向と例えば反対方向など如何なる位置に在る同軸ケーブルにも無理なく接続することを可能にし、容器内の汚染物質を同定する為の資料を容易に取得することが可能であるようにする。
【解決手段】 QCMセンサーと前記QCMセンサーを直接支持する発振回路基板とを含むセンサー装置と、一端が前記発振回路基板と直接接続され、他端が同軸ケーブルと接続されるフレキシブルフラットケーブルとを有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、例えば半導体ウェーハの保存や搬送に用いる容器内の雰囲気をリアルタイムで分析したり、雰囲気の汚染物質を同定するのに用いて好適な雰囲気分析装置に関する。
現在、半導体関連分野に於いて、例えば半導体ウェーハの保存や搬送にミニエンバイロメント(SMIF、FOUP)と呼ばれる容器が使用されているところであるが、該容器は、ほぼ密閉された小さなものであるため、内部で発生した気体の汚染物質がウェーハに吸着されて、半導体装置の製造に用いた場合、その製造歩留まりが低下したり、或いは、製品の信頼性が低下するなどの問題が起こっている。
従って、ミニエンバイロメント内の雰囲気の清浄度を管理することが重視されているのであるが、ミニエンバイロメントは、ほぼ密閉状態にすることができる容器である為、内部の雰囲気を測定するのは困難である。
従来、高感度で且つ小型の雰囲気センサーとして水晶振動子を主体とするQCM(quartz crystal microbalance)と呼ばれるものが知られている(例えば、特許文献1を参照。)。
そこで、このQCMをミニエンバイロメント内の雰囲気分析に使用すれば有効であろうと考えられるが、前記のような構成を採る場合、ミニエンバイロメント内に設置したセンサーと外部に設置した制御回路との間をケーブルで接続しなければならない。
従って、ミニエンバイロメントには、ケーブルを通す穴をあける等の加工を施さなければならず、工場の生産ラインで使用されているミニエンバイロメントに適用することは困難である。
また、QCMは高感度である為、雰囲気分析をリアルタイムで実施するには、良好に機能させることができるのであるが、汚染物質の種類を同定する、即ち、定性分析することはできない。
特開2002−333394号公報
本発明では、例えばミニエンバイロメントなどの容器内に設置したセンサーと外部の制御回路とを容器に何らの加工を施すことなく接続することを可能にすると共にセンサーから引き出されたフレキシブルフラットケーブルを引き出し方向と例えば反対方向など如何なる位置に在る同軸ケーブルにも無理なく接続することを可能にし、容器内の汚染物質を同定する為の資料を容易に取得することが可能であるようにする。
本発明に依る雰囲気分析装置に於いては、QCMセンサーと前記QCMセンサーを直接支持する発振回路基板とを含むセンサー装置と、一端が前記発振回路基板と直接接続され、他端が同軸ケーブルと接続されるフレキシブルフラットケーブルとを有することが基本になっている。
前記手段を採ることに依り、ミニエンバイロメントなどの容器内に於ける汚染物質の濃度変化を高感度で、且つ、リアルタイムで検出することができる。そして、容器内に設置したセンサーであるQCMと外部の制御回路とを接続する為に容器を加工することは一切不要であり、多くの容器に簡単にセットして、雰囲気分析を行うことができる。また、センサー装置から引き出された信号線、即ち、フレキシブルフラットケーブルは、柔軟である為、その引き出し方向と反対方向に位置する同軸ケーブルと容易に接続することが可能であり、その際、制御回路や同軸ケーブル、或いは、容器などに過度の負担をかけることはない。この構成の雰囲気分析装置に依れば、容器内の汚染物質を定性分析して同定することが容易であり、速やかに汚染物質への対応策を採ることができ、そして、汚染物質を定性分析する為の資料を取得するのに必要な金属薄膜付き板はセンサーと簡単に着脱できる構造になっているので、その設置は簡単である。
センサー及び近傍の構成を表す要部説明図である。 ミニエンバイロメントである容器にセンサー装置を設置した状態を表す要部説明図である。 金属薄膜付きシリコンウェーハをセンサー装置近傍にセットするのに好適な保持機構を表す要部説明図である。
図1はセンサー及び近傍の構成を表す要部説明図であって、(A)は要部上面を、そして、(B)は要部側面をそれぞれ示している。
図に於いて、1は発振回路基板、2は水晶振動子を主体とするセンサー(QCM)、3はセンサーを保護するスペーサー、4はフレキシブルフラットケーブル、5はコネクタ、6は同軸ケーブルをそれぞれ示している。
前記したところから明らかであるが、本発明に依る雰囲気分析装置では、発振回路基板1を介してセンサー2と制御回路とを接続する信号線として、所要長さのフレキシブルフラットケーブル4及び同軸ケーブル6を用いている。ここで、フレキシブルフラットケーブル4の所要長さとは、センサー2及び発振回路基板1を含むセンサー装置をミニエンバイロメントなどの容器内に設置し、信号を容器外に取り出す場合、信号線が容器を通過するのに必要な長さの意味である。
図2はミニエンバイロメントである容器にセンサー装置を設置した状態を表す要部説明図であり、図1に於いて用いた記号と同じ記号で指示した部分は同一或いは同効の部分を表すものとする。
図に於いて、11は発振回路基板1及びセンサー2を含むセンサー装置、12は容器本体、13は容器底部をそれぞれ示している。
図から明らかであるが、制御回路に接続されている同軸ケーブル6とセンサー装置11との間にはフレキシブルフラットケーブル4が介在し、フレキシブルフラットケーブル4は容器本体12と容器底部13との間を容易に通過して内外を結ぶ役割を果たしている。
このように、容器自体には何らの加工を施すことなく、容器内にセンサー装置11を設置し、且つ、フレキシブルフラットケーブル4を容器外に導出することができ、そして、フレキシブルフラットケーブル4は薄いので、容器の密閉性に影響を与えることはない。
ところで、QCMからなるセンサー2は高感度であるが、汚染物質の種類を同定する、即ち、定性分析することは不可能である。そこで、本発明に依る雰囲気分析装置に於いては、容器内の汚染物質を金属薄膜に吸着させ、その吸着された汚染物質をXPS(X−ray photoelectron spectroscopy)やSIMS(secondary ion mass spectrometry)を用いて物理分析することで同定することができる。
汚染物質の同定を行うには、金属薄膜を成膜したシリコンウェーハをセンサー装置11と同様に容器内に設置し、金属薄膜に汚染物質を吸着させ、その曝露が終了した後、容器外に取り出して、XPSやSIMSを用いて汚染物質の分析を行う。
QCMからなるセンサー2を構成する水晶振動子では、その表面の汚染物質を分析することは可能であるが、水晶振動子は、その製造時に表面の清浄度を管理していないので、ミニエンバイロメントなどの容器内に曝露する前から汚染を受けているおそれがあり、分析用の試料として用いるのは適切ではない。
その点、表面分析用の金属薄膜をスパッタリングなどで成膜すれば、清浄な金属薄膜表面を用意することができるので好ましい。また、基準にする為の参照用として、雰囲気に曝露しない試料を作ることができるので、分析手段としてはより望ましい。
前記した金属薄膜付きのシリコンウェーハをセンサー装置11と共にミニエンバイロメントなどの容器内に設置するには、何らかの保持機構が必要となるが、シリコンウェーハの設置場所はセンサー装置11の近傍であって、且つ、簡単容易に着脱できる構成であることが望ましい。
図3は金属薄膜付きシリコンウェーハをセンサー装置近傍にセットするのに好適な保持機構を表す要部説明図であり、図に於いて、1は発振回路基板、14は保持機構、14Aは保持機構を構成する狭幅のコ字型板、14Bは広幅のコ字型板、14Cは狭幅のコ字型板と広幅のコ字型板とを積層することで生成された溝をそれぞれ示している。
図3に見られる金属薄膜付きシリコンウェーハの保持機構に依れば、センサー装置11に於ける発振回路基板1にシリコンウェーハを予め取り付けておくことができる保持機構14が設けられ、ウェーハの装着及び取り外しは、ウェーハを保持機構14に形成された溝14C内を滑動させるのみで良いから、その作業は容易である。
1 発振回路基板
2 水晶振動子を主体とするセンサー(QCM)
3 センサーを保護するスペーサー
4 フレキシブルフラットケーブル
5 コネクタ
6 同軸ケーブル
11 発振回路基板1及びセンサー2を含むセンサー装置
12 容器本体
13 容器底部
14 ウェーハの保持機構
14A 狭幅のコ字型板
14B 広幅のコ字型板
14C 溝

Claims (1)

  1. QCMセンサーと
    前記QCMセンサーを直接支持する発振回路基板と
    を含むセンサー装置と、
    一端が前記発振回路基板と直接接続され、他端が同軸ケーブルと接続されるフレキシブルフラットケーブルとを有すること
    を特徴とする雰囲気分析装置。
JP2014217948A 2014-10-27 2014-10-27 雰囲気分析装置 Pending JP2015017996A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014217948A JP2015017996A (ja) 2014-10-27 2014-10-27 雰囲気分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014217948A JP2015017996A (ja) 2014-10-27 2014-10-27 雰囲気分析装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011082384A Division JP5661541B2 (ja) 2011-04-04 2011-04-04 雰囲気分析方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015017996A true JP2015017996A (ja) 2015-01-29

Family

ID=52439078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014217948A Pending JP2015017996A (ja) 2014-10-27 2014-10-27 雰囲気分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015017996A (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5119463A (ja) * 1974-08-09 1976-02-16 Seiko Instr & Electronics Suishohatsushinkairokiban
JPH042108U (ja) * 1990-04-20 1992-01-09
JPH05327159A (ja) * 1992-05-22 1993-12-10 Tootaru Saundo Sutatsuku:Kk 基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続構造
JPH07326929A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Kyocera Corp 水晶発振器
JP2000113922A (ja) * 1998-10-07 2000-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続装置
JP2002333394A (ja) * 2001-05-09 2002-11-22 Fujitsu Ltd 分子汚染濃度計測方法及びその計測装置
JP2003101319A (ja) * 2001-09-26 2003-04-04 Toshiba Corp 車載アンテナ装置とその高周波伝送線路
JP2003308904A (ja) * 2002-04-18 2003-10-31 Canon Inc プリント配線基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続構造
JP2004264254A (ja) * 2003-03-04 2004-09-24 Seiko Epson Corp 質量測定チップおよび質量測定装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5119463A (ja) * 1974-08-09 1976-02-16 Seiko Instr & Electronics Suishohatsushinkairokiban
JPH042108U (ja) * 1990-04-20 1992-01-09
JPH05327159A (ja) * 1992-05-22 1993-12-10 Tootaru Saundo Sutatsuku:Kk 基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続構造
JPH07326929A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Kyocera Corp 水晶発振器
JP2000113922A (ja) * 1998-10-07 2000-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続装置
JP2002333394A (ja) * 2001-05-09 2002-11-22 Fujitsu Ltd 分子汚染濃度計測方法及びその計測装置
JP2003101319A (ja) * 2001-09-26 2003-04-04 Toshiba Corp 車載アンテナ装置とその高周波伝送線路
JP2003308904A (ja) * 2002-04-18 2003-10-31 Canon Inc プリント配線基板とフレキシブルフラットケーブルとの接続構造
JP2004264254A (ja) * 2003-03-04 2004-09-24 Seiko Epson Corp 質量測定チップおよび質量測定装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI496228B (zh) 半導體晶圓監視裝置及方法
US8220630B1 (en) EUV pod with fastening structure
CN108352338A (zh) 颗粒监控装置
US8418853B2 (en) Reticle POD with sensor
KR101565091B1 (ko) 반도체 공정 오염감시용 웨이퍼 이송장치
US20100129940A1 (en) Vibration monitoring of electronic substrate handling systems
JP2015081947A (ja) レチクル収納容器及びデュアルポッド
JP5682675B2 (ja) 雰囲気分析装置
JP2012094567A (ja) 異常原因分析方法及び異常分析プログラム
JP4899089B2 (ja) 雰囲気分析装置及び雰囲気分析方法
JP5993649B2 (ja) プローブカードへの基板当接装置、基板当接装置を備えた基板検査装置、及びプローブカードへの基板当接方法
JP5661541B2 (ja) 雰囲気分析方法
JP2015017996A (ja) 雰囲気分析装置
US10255785B1 (en) Intelligent environmental and security monitoring system
JP2010526428A (ja) トランスポートポッドインターフェース
JP2010060555A (ja) 低温測定装置
Beebe et al. Monitoring wafer cleanliness and metal contamination via VPD ICP-MS: case studies for next generation requirements
JP5541190B2 (ja) P型シリコンウェーハの金属不純物濃度評価方法
WO2020187473A1 (en) A substrate container, a lithographic apparatus and a method using a lithographic apparatus
JP5799845B2 (ja) ガスの金属汚染評価方法
CN104538326A (zh) 一种晶圆切割切口检测装置
US6734422B2 (en) Portable outgas detection apparatus
CN103913466A (zh) 晶圆缺陷的检测装置及其检测方法
KR101338817B1 (ko) 글래스 감지 장치
Rider Current understanding of the electrostatic risk to reticles used in microelectronics and similar manufacturing processes

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141027

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151006

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151204

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160301

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160531