JP2015015362A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】特性の良好な半導体装置を製造する。
【解決手段】配線基板のチップ搭載領域に封止材を介して半導体チップを配置し、半導体チップに熱を加えながら半導体チップに荷重を加えることで、配線基板の複数のボンディングリード3cと半導体チップの複数の突起電極11を半田材を介してそれぞれ電気的に接続し、複数の突起電極11と複数のボンディングリード3cのフリップチップ接合部を封止材10で封止する。そして、突起電極11の端面の幅W2は、ボンディングリード3cの接合部3caの幅W1よりも小さい(W1>W2)。この接合部3caの幅W1は、ボンディングリード3cの延在方向と交差する方向の長さである。
【選択図】図5

Description

本発明は、半導体装置の製造方法に関し、例えば、半導体チップの突起電極と、配線基板の端子とを接続した半導体装置の製造方法に好適に利用できるものである。
特開2000−77471号公報(特許文献1)には、回路基板上の導体パターンに、半田を介して半導体チップに設けられたバンプがフリップチップ実装されたフリップチップ実装基板が開示されている。
特開2011−96768号公報(特許文献2)には、半導体回路基板上の銅バンプおよびはんだめっきが、実装基板上のはんだめっきとフリップチップ実装されたフリップチップ実装装置が開示されている。
特開2000−77471号公報 特開2011−96768号公報
本願発明者は、半導体チップを配線基板に実装する技術であって、半導体チップの表面(電極形成面)が配線基板のチップ搭載面と対向するように半導体チップを配線基板のチップ搭載面上に配置し、半導体チップの電極形成面上に形成された複数の突起電極と、配線基板のチップ搭載面に形成された複数のボンディングリードとを、それぞれ電気的に接続する、所謂、フリップチップ実装技術について検討している。
近年、半導体装置の高機能化に伴い、半導体チップの複数の突起電極が配置される複数のボンディングパッドの数は増加する傾向にある。また、半導体チップの表面(主面、素子形成面)に形成された回路の構成またはその形成位置によって、半導体チップの表面に形成するボンディングパッド(上記突起電極が形成される電極)のレイアウトは、様々である。言い換えると、複数のボンディングパッドを半導体チップの表面に均等に配置する、すなわち、半導体チップの各辺に沿って配置されるボンディングパッドの数やボンディングパッドの配置ピッチを揃えることが困難となってきている。そして、本願発明者は、このような半導体チップを、予め配線基板のチップ搭載面に封止材を配置してから半導体チップを配線基板上にフリップチップ実装する、所謂、先塗布方式により半導体チップを配線基板に実装したところ、突起電極とボンディングリードの位置ずれが生じるものを確認した。
このような不具合について、本願発明者が鋭意検討したところ、特に、(1)その表面に形成されるボンディングパッドのレイアウトが不均一である半導体チップに、(2)上記先塗布方式を採用したものについて、突起電極とボンディングリードの位置ずれが生じ易いことが判明した。このように、突起電極とボンディングリードとの接続信頼性向上の観点から、半導体装置の構成やその製造方法について、更なる改善の余地があることが判明した。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される実施の形態のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本願において開示される一実施の形態に示される半導体装置の製造方法は、配線基板のチップ搭載領域に封止材を介して半導体チップを配置し、半導体チップに熱を加えながら半導体チップに荷重を加えることで、配線基板の複数のボンディングリードと半導体チップの複数の突起電極を半田材を介してそれぞれ電気的に接続し、複数の突起電極と複数のボンディングリードの接合部を封止材で封止するものである。そして、ボンディングリードの接合部の幅は、突起電極の端面の幅よりも大きい。この接合部の幅は、ボンディングリードの延在方向と交差する方向の長さである。
本願において開示される、以下に示す代表的な実施の形態に示される半導体装置の製造方法によれば、特性の良好な半導体装置を製造することができる。
実施の形態1の半導体装置の構造の一例を示す断面図である。 実施の形態1の下段パッケージの上面の構成を示す平面図である。 実施の形態1の半導体チップの表面の構成を示す平面図である。 ボンディングリードと突起電極のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図および断面図である。 ボンディングリードと突起電極のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図および断面図である。 ボンディングパッドと突起電極の接続部を模式的に示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す平面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す平面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す平面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 ボンディングリードの接合部の幅が、突起電極の幅より小さい場合のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図である。 ボンディングリードの接合部の幅が、突起電極の幅より小さい場合のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図である。 下段パッケージの製造工程を示す平面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 下段パッケージの製造工程を示す断面図である。 半導体装置(POP)の製造方法の一例を示す断面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例2の構成を示す平面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例3の構成を示す平面図および断面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例4の構成を示す平面図および断面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例5の構成を示す平面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例6の製造工程を示す断面図である。 実施の形態1の半導体装置の変形例7の製造工程を説明するための断面図である。 両持ちタイプのボンディングリードの構成を示す平面図である。 実施の形態2の半導体装置の製造工程を示す断面図である。 実施の形態3の第1例の下段パッケージの配線基板の構成を示す平面図である。 実施の形態3の第1例の下段パッケージの突起電極近傍の構成を示す断面図である。 実施の形態3の第2例の下段パッケージの配線基板の構成を示す平面図である。 実施の形態3の第2例の下段パッケージの突起電極近傍の構成を示す断面図である。 実施の形態3の第3例の下段パッケージの配線基板の構成を示す平面図である。 溝を有するボンディングリードの構成を示す平面図である。
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、応用例、詳細説明、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数等(個数、数値、量、範囲等を含む)についても同様である。
以下、実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一または関連する符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、複数の類似の部材(部位)が存在する場合には、総称の符号に記号を追加し個別または特定の部位を示す場合がある。また、以下の実施の形態では、特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。
また、実施の形態で用いる図面においては、断面図であっても図面を見易くするためにハッチングを省略する場合もある。また、平面図であっても図面を見易くするためにハッチングを付す場合もある。
また、断面図および平面図において、各部位の大きさは実デバイスと対応するものではなく、図面を分かりやすくするため、特定の部位を相対的に大きく表示する場合がある。また、断面図と平面図が対応する場合においても、図面を分かりやすくするため、特定の部位を相対的に大きく表示する場合がある。
(実施の形態1)
以下、図面を参照しながら本実施の形態の半導体装置の構造および製法について詳細に説明する。
[構造説明]
<半導体装置>
図1は、本実施の形態の半導体装置の構造の一例を示す断面図である。図1に示す半導体装置は、下段パッケージ6と上段パッケージ7とによって構成される。このとき、図1に示すように、各パッケージには、半導体チップが搭載されている。このように、あるパッケージ(下段パッケージ6)上に他のパッケージ(上段パッケージ7)を積層した構造体を、POP(Package On Package)型の半導体装置と呼ぶことがある。下段パッケージ6と上段パッケージ7との間は、導電性部材を介して互いに電気的に接続される。そのため、各種機能を有するパッケージ間を電気的に接続することで、システム(半導体システム)を構成することができる。パッケージに搭載される半導体チップの機能に制限はないが、例えば、上段パッケージ7に搭載される半導体チップ4として、メモリ系の半導体チップを用い、下段パッケージ6に搭載される半導体チップ2として、メモリ系の半導体チップを制御するロジック系の半導体チップを用いることができる。これにより、システムを構成することができる。
<下段パッケージ>
下段パッケージ6は、配線基板(基材、パッケージ基板ともいう)3と、配線基板3上にフリップチップ実装された半導体チップ2と、配線基板3と半導体チップ2との間を封止する封止材(樹脂)10と、複数の外部端子16とを有している。
具体的には、図1に示すように、配線基板3の複数のボンディングリード(電極、端子)3cと、半導体チップ2の複数の突起電極(突起状電極、柱状電極、バンプ電極、バンプ)11とが、半田材11aを介して接合されるとともに、配線基板3と半導体チップ2との間および上記フリップチップ接合部(11、11a、3c、結合部ともいう)の外周が、封止材10によって封止されている。
配線基板3は、例えば、絶縁層3hを介して設けられた複数の配線層を有する多層配線基板である。配線3gを覆う絶縁層3hは、上面3aと、この上面3aと反対側の下面(実装面、裏面)3bとを有する。絶縁層3hの上面3aには、複数の配線層のうちの最上層の配線層に形成された配線の一部からそれぞれ成る、複数のボンディングリード3cおよび複数のプリスタックランド(端子、電極)3dが設けられている(図1参照)。ここで、本実施の形態においては、複数のボンディングリード3cは、追って詳細に説明するように、チップ搭載領域(17f)の中央領域(2ac)に形成された中央リード3cc、チップ搭載領域(17f)の周縁領域(2ap)に形成された周縁リード3cpとからなる(図2参照)。プリスタックランド3dは、上段パッケージ7との接続部である。プリスタックランド3dと上段パッケージ7のランド(端子、電極)12dとは、導電性部材9を介して電気的に接続される。本実施の形態の導電性部材9は、例えば、半田ボールである。
また、絶縁層3hの上面3aには、開口部3iを有する絶縁膜3fが形成されている。絶縁膜3fは、例えば、ソルダレジスト膜である。絶縁膜3fの開口部3iからはボンディングリード3cやプリスタックランド3dが露出している。
一方、絶縁層3hの下面3bには、複数のランド3eが設けられている。また、絶縁層3hの下面3bの表層には、開口部3jを有する絶縁膜3fが形成されている。絶縁膜3fは、例えば、ソルダレジスト膜である。絶縁膜3fの開口部3jからはランド3eが露出している。
なお、上記絶縁層3hの内部には、その上面3a側のボンディングリード3cやプリスタックランド3dと、その下面3b側のランド3eとを電気的に接続する配線や上下の配線間を接続するビアなどが設けられている。
半導体チップ2は、トランジスタなどの複数の半導体素子(図示せず)が形成された半導体基板を有する。複数の半導体素子は、配線層と絶縁層が交互に形成された多層配線層(図示せず)により電気的に接続され、所望の回路が構成される。
また、半導体チップ2は、表面2a、表面2aの反対側に位置する裏面2bを備えている。ここでは、上記半導体基板の半導体素子の形成面(主面)側を表面2aとする。また、半導体チップ2は、表面2aと裏面2bの間に位置する側面を備えている。
半導体チップ2の表面2aには、複数のボンディングパッド(電極パッド、端子、電極ともいう)2cが設けられている。ボンディングパッド2cは、例えば、半導体素子間を接続する多層配線層のうちのいずれかの配線と電気的に接続されている。複数のボンディングパッド2cの表面上には、それぞれ、突起電極11が設けられている。突起電極11は、銅を主成分とする材料よりなり、例えば銅ポストバンプである。ここで、本実施の形態において、複数のボンディングパッド2cは、追って詳細に説明するように、半導体チップ2の中央領域(2ac)に形成(配置)された中央パッド2ccと、半導体チップ2の周縁領域(2ap)に形成(配置)された周縁パッド2cpとからなる。また、複数の突起電極11は、半導体チップ2の中央領域(2ac)に形成された中央電極11cと、半導体チップ2の周縁領域(2ap)に形成された周縁電極11pとからなる(図3参照)。
配線基板3のボンディングリード3cは、半導体チップ2のボンディングパッド2cと、突起電極11および半田材11aを介して電気的に接続されるため、ボンディングリード3cと、ボンディングパッド2c(突起電極11)とは、対応する位置に配置される。
次いで、図2および図3に示す平面図を参照しながら、下段パッケージの上面および半導体チップの表面2aの構成を説明するとともに、ボンディングリード、ボンディングパッドおよび突起電極の平面レイアウトについて説明する。図2は、本実施の形態の下段パッケージの上面の構成を示す平面図である。具体的には、図1に示す半導体チップ2より下層の構成を示す平面図である。図3は、本実施の形態の半導体チップの表面の構成を示す平面図である。
図2に示すように、配線基板3の上面からの平面視における形状(平面形状ともいう)は四角形である。例えば、配線基板3の平面形状は、一辺の長さが7mm〜8mm程度の正方形である。また、配線基板3上に封止材10を介して配置された半導体チップ2の平面形状は四角形である。半導体チップ2の平面形状は、配線基板3の平面形状より小さく、例えば、一辺の長さが5mm程度の正方形である。半導体チップ2は、配線基板3の中央部(チップ搭載領域17f)に配置され、その外周部からは配線基板3が露出している。
半導体チップ2の側面から、その外側に向かって封止材10が広がっている。言い換えれば、半導体チップ2のチップ搭載領域17fのみならず、その外側に向かってはみ出すように、封止材10が広がって配置されている。配線基板3の平面形状および半導体チップ2の平面形状は長方形でもよい。
また、配線基板3の半導体チップ2の配置領域の外周部には、複数のプリスタックランド3d(導電性部材9)が配置されている。配線基板3の4つの側面に沿って、それぞれ複数列(図2では2列)の複数のプリスタックランド3dが配置されている。なお、図2においては、半導体チップ2の裏面が四角形に示されるところ、半導体チップ2と配線基板3との接続関係を明確にするため、四角形の内部に、突起電極11とボンディングリード3cのレイアウトを明示してある。
即ち、図2のチップ搭載領域17fにおいては、半導体チップ2の突起電極11と配線基板3のボンディングリード3cとが重なるように配置され、前述したように、これらは、半田材(11a)を介して接合されている。
図2に示すように、複数のボンディングリード3cのうち、周縁リード3cpは、半導体チップ2の4つの側面(チップ搭載領域17fの4つの辺)に沿って、その周縁に配置されている。言い換えれば、周縁リード3cpは、X方向またはY方向に並んで、チップ搭載領域17f(半導体チップ2)の周縁に配置されている。一方、中央リード3ccは、チップ搭載領域17f(半導体チップ2)の周縁領域(2ap)で囲まれた中央領域((中央部ともいう)2ac)に配置されている。ここでは、中央リード3ccは、中央領域(2ac)において、Y方向に並んで配置されている。ここで、ボンディングリード3cは、絶縁膜(3f)から露出した導体パターン部であり、接合部と引き出し部(配線部)とを有する。接合部は、平面形状が四角形の領域であり、配線部より幅の大きい領域(幅広部ともいう)である。引き出し部は、接合部から延在する接合部より幅の小さい領域(幅狭部ともいう)である。この幅は、ボンディングリード3cの延在方向と交差する方向の幅を意味する。例えば、中央リード3ccは、X方向に延在、言い換えれば、その平面形状において、X方向に長辺を有し、Y方向に並んで配置されている。よって、この場合、中央リード3ccの平面形状における接合部および引き出し部の幅は、Y方向(即ち、中央リード3ccの延在方向と交差する方向)の長さとなる。このボンディングリード3cの接合部の幅をW1とする(図5参照)。
図3に示すように、ボンディングパッド2cの平面形状は、四角形である。複数のボンディングパッド2cのうち、周縁パッド2cpは、半導体チップ2の4つの側面に沿って配置されている。言い換えれば、周縁パッド2cpは、X方向またはY方向に並んで配置される。さらに、別の言い方をすれば、周縁パッド2cpは、平面視において、半導体チップ2の表面2aの周縁領域(周縁部ともいう)2apに、かつ表面2aの縁に沿って形成されている。一方、中央パッド2ccは、半導体チップ2の周縁領域2apで囲まれた中央領域(中央部ともいう)2acに、Y方向に並んで配置されている。
突起電極11は、ボンディングパッド2c上に配置されている。突起電極11の平面形状は、円形である。言い換えれば、突起電極11は、円柱状である。なお、突起電極11を多角柱状としてもよい。
この複数の突起電極11のうち、周縁電極11pは、周縁パッド2cp上に配置される。即ち、周縁電極11pは、半導体チップ2の4つの側面に沿って配置されている。言い換えれば、周縁電極11pは、X方向またはY方向に並んで配置される。一方、中央電極11cは、中央パッド2cc上に配置され、半導体チップ2の周縁領域2apで囲まれた中央領域(中央部ともいう)2acに、Y方向に並んで配置されている。突起電極11の平面形状の幅、ここでは、円形の直径をW2とする(図5参照)。
このように、半導体チップ2に中央パッド2ccを設けることで、IRドロップを低減することができ、回路特性を向上させることができる。例えば、図3に示すように、半導体チップ2の中央領域2acには、複数の回路領域(回路ブロックともいう)CAが設けられている。ここでは、3×3の回路領域CAが設けられている。このような場合、中央部に設けられた回路領域CAに、周縁パッド2cpから電源電位または接地電位(GND)を供給すると、その配線経路においてIRドロップが生じる恐れがある。即ち、周縁パッド2cpから遠距離にある回路領域CAにおいて、大きな電力を消費した場合、電流を供給する配線の抵抗が大きいと、配線の抵抗Rと電流Iの積、つまりIR(V;ボルト)の電圧降下が生じる。このIRドロップが大きくなると、電源電位が動作電位以下となり、所望の回路動作に悪影響を与え得る。
そこで、本実施の形態1においては、半導体チップ2の中央部に設けられた回路領域CAの直上に、中央パッド2ccを設けている。これにより、当該回路領域CAと中央パッド2ccとの距離を短くでき、これらの間の配線の長さを低減することができる。その結果、配線長に起因するIRドロップを低減することができ、回路の動作性のばらつきを低減するなど、回路特性を向上させることができる。
また、本実施の形態1においては、ボンディングリード3cの接合部の幅W1を、突起電極11の幅W2より大きくしている。言い換えれば、突起電極の端面の幅である突起電極11の幅W2を、ボンディングリード3cの接合部の幅W1よりも小さくしている。図4および図5は、ボンディングリードと突起電極のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図および断面図である。図4(A)は平面図、図4(B)は断面図であり、例えば、図2のA−A断面部に対応する。図5(A)は平面図、図5(B)は断面図であり、例えば、図2のB−B断面部に対応する。
図4(A)および(B)に示すように、突起電極11とボンディングリード3cとが半田材11aを介して接合されている。前述したように、ボンディングリード3cは、絶縁膜3fから露出した接合部3caと引き出し部(配線部)3cbとを有する。
図5(A)および(B)に示すように、突起電極11とボンディングリード3cとが半田材11aを介して接合されている。但し、図5(A)および(B)に示す方向、即ち、ボンディングリード3cの延在方向と交差する方向においては、狭いピッチで、複数のボンディングリード3cが並んで配置されている。そこで、ボンディングリード3cの接合部の幅(ボンディングリードの延在方向と交差する方向の長さ)W1を、突起電極11の幅(直径)W2より大きくすることにより、ボンディングリード3cと突起電極11との位置ずれによる不具合を抑制することができる。ボンディングリード3cの接合部の幅W1および突起電極11の幅W2の値に制限はないが、幅W1は、例えば、30μm程度、幅W2は、例えば、25μm程度である。また、ボンディングリード3cの接合部3ca間の幅(ピッチ)は、50μm程度である。上記位置ずれによる不具合を抑制するという効果の詳細については、後述の下段パッケージの製造方法の欄でも説明する。
なお、上記ボンディングリード3cと半田材11aを介して接合されている突起電極11は、半導体チップ2の表面2aのボンディングパッド2c上に配置されている。図6は、ボンディングパッドと突起電極の接続部を模式的に示す断面図である。図6に示すように、ボンディングパッド2cの表面(図では下側)に突起電極11が配置され、この突起電極11が、図4および図5に示すように、半田材11aを介してボンディングリード3cに接合されている。なお、図1においては、図示は省略したが、ボンディングパッド2cは、絶縁膜よりなる保護膜(パッシベーション膜ともいう)2pにより覆われ、開口部を介して突起電極11と接続されている。ここでは、開口部の幅(径)は、突起電極11の幅W2より小さく設定されている。この突起電極11の高さを“H1”とする。
<上段パッケージ>
上段パッケージ7は、配線基板12と、配線基板12上にダイボンド材13を介して搭載された半導体チップ4と、半導体チップ4と配線基板12とを電気的に接続するワイヤ15と、ワイヤ15の周囲を覆う封止体14とを有している(図1参照)。
配線基板12は、例えば、絶縁層12eを介して設けられたランド(端子、電極)12dとボンディングリード(リード、電極、端子)12cとを有する。
絶縁層12eの上面12aには、複数のボンディングリード12cが設けられている。また、絶縁層12eの上面12aには、開口部12gを有する絶縁膜12fが形成されている。絶縁膜12fは、例えば、ソルダレジスト膜である。絶縁膜12fの開口部12gからはボンディングリード12cが露出している。一方、絶縁層12eの下面12bには、複数のランド12dが設けられている。また、絶縁層12eの下面12bには、開口部12hを有する絶縁膜12fが形成されている。絶縁膜12fは、例えば、ソルダレジスト膜である。絶縁膜12fの開口部12hからはランド12dが露出している。
なお、上記絶縁層12eの内部には、その上面12a側のボンディングリード12cと、その下面12b側のランド12dとを電気的に接続するビアなどが設けられている。
半導体チップ4は、トランジスタなどの複数の半導体素子(図示せず)が形成された半導体基板を有する。複数の半導体素子は、配線層と絶縁層が交互に形成された多層配線層(図示せず)により電気的に接続され、所望の回路が構成される。
また、半導体チップ4は、表面4a、表面4aの反対側に位置する裏面4bを備えている。ここでは、上記半導体基板の半導体素子の形成面側を表面4aとする。
半導体チップ4の表面4aには、複数のボンディングパッド(電極パッド、端子、電極ともいう)4cが設けられている。ボンディングパッド4cは、例えば、半導体素子間を接続する多層配線層のうちのいずれかの配線と電気的に接続されている。
配線基板12のボンディングリード12cと、半導体チップ4の表面4aのボンディングパッド4cとは、ワイヤ15を介して接続されている。このように、半導体チップ4の表面4aのボンディングパッド4cと配線基板12のボンディングリード12cとをワイヤ15を介して接続する構成であるため、半導体チップ4の裏面4bと配線基板12の上面とがダイボンド材13を介して接合されている。半導体チップ4上および複数のワイヤ15の外周を含む配線基板12の上面側は、封止体14によって封止されている。
なお、図示は省略するが、配線基板12の平面形状は四角形である。また、半導体チップ4の平面形状は四角形であり、配線基板12の平面形状より小さい。半導体チップ4は、配線基板12の中央部に配置され、その外周部からは配線基板12が露出している。
このような上段パッケージ7が、複数の導電性部材9を介して下段パッケージ6上に搭載され、これによって電子装置であるPOP1が構成されている。
なお、本実施の形態では、下段パッケージ6の配線基板3が4層の配線層構造の多層配線基板であり、上段パッケージ7の配線基板12が2層の配線層構造の多層配線基板である場合を説明したが、各基板の配線層数はこれらに限定されるものではない。
[製法説明]
次いで、図面を参照しながら、本実施の形態の下段パッケージの製造方法を説明するとともに、当該下段パッケージの構成をより明確にする。
<下段パッケージの製造方法>
図7〜図20(図16および図17を除く)は、下段パッケージの製造工程を示す平面図または断面図である。
1.配線基板(多数個取り基板)準備
図7および図8に示す多数個取り基板(配線基板)17を準備する。多数個取り基板17は、上面(表面、チップ搭載面)17aと、上面17aとは反対側の下面(裏面、実装面)17bとを有している(図8)。さらに、多数個取り基板17は、複数のデバイス形成部17c、複数のデバイス形成部17cのうちの互いに隣り合うデバイス形成部17cの間に設けられた切断部(除去部、ダイシング部)17d、および平面視において複数のデバイス形成部17cの周囲に設けられた枠部17eを備えている(図7)。
また、上面17a側の複数のデバイス形成部17cのそれぞれは、四角形であり、その中央部には、四角形のチップ搭載領域17fが設けられている。また、各チップ搭載領域17fには、複数のボンディングリード3cが露出している。複数のボンディングリード3cのうち、周縁リード3cpは、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って、その周縁(周縁領域2ap)に配置されている。一方、中央リード3ccは、周縁リード3cpの内側であって、チップ搭載領域17fの中央領域(2ac)に配置されている。また、デバイス形成部17cの周縁部には、複数のプリスタックランド3dが形成されている。複数のプリスタックランド3dは、デバイス形成部17cの4つの辺に沿って形成され、図7においては、複数列(ここでは、2列)のプリスタックランド3dが形成されている。また、多数個取り基板17の上面には、複数のボンディングリード3cおよびプリスタックランド3dのそれぞれの上部に開口部を有する絶縁膜3fであるソルダレジスト膜が形成されている(図8)。
また、多数個取り基板17の下面17b側には、上面17a側の複数のボンディングリード3cと電気的に接続された複数のランド3eが形成されている(図8)。複数のランド3eは、デバイス形成部17cの4つの辺に沿って形成され、複数列(ここでは、4列)のランド3eが形成されている(図18参照、図18においては、ランド3e上の外部端子16を表示している。)。また、多数個取り基板17の下面17b側には、複数のランド3eのそれぞれの上部に開口部を有する絶縁膜3fであるソルダレジスト膜が形成されている。
多数個取り基板17は、絶縁層3hを介して設けられた複数の配線(配線層)3gを有する多層配線基板であり、配線3g、ボンディングリード3c、プリスタックランド3dおよびランド3eは、導電性部材からなる。このうち、ボンディングリード3c、プリスタックランド3dおよびランド3eは、例えば銅(Cu)を主成分とする材料からなる。このような、多数個取り基板17は、例えばビルドアップ工法によって形成することができる。また、上記導電性部材からなる導体パターンは、絶縁層3hの上面3aや下面3bに、サブトラクト法やセミアディティブ法などの工法を用いて形成することができる。セミアディティブ法は、絶縁層上にめっき膜を薄く形成し、導体パターンを形成しない領域にフォトレジスト膜を形成し、フォトレジスト膜の非形成部分にめっき膜を厚く形成した後、フォトレジスト膜とその下部の薄いめっき膜を除去することにより、導体パターンを形成する方法である。一方、サブトラクト法は、絶縁層上に金属膜を形成し、不要な部分を薬液などにより溶解して除去する(エッチングするともいう)ことにより、金属膜よりなる導体パターンを形成する方法である。このような工法によれば、微細な導体パターンを狭ピッチで形成することができる。
また、各ボンディングリード3cのそれぞれの表面には、半田材11aが形成されている(図8)。半田材11aの形成方法に制限はないが、例えば、めっき法を用いて形成することができる。例えば、各ボンディングリード3cとめっき液を接触させ、各ボンディングリード3c上に半田よりなるめっき膜を半田材11aとして形成する。このように、無電界めっきにより半田材11aを形成してもよい。また、ボンディングリード3cのうち、所望の領域のみに半田材11aを形成する場合には、めっき膜を形成しない領域を予めフォトレジスト膜で覆っておいてもよい。また、フォトレジスト膜の下層に予め給電層を形成しておき、電界めっきにより、半田材11aを形成してもよい。この場合、めっき膜の形成後、めっき膜をマスクとして給電層を除去する。
また、半田材11aを印刷法や半田粒子を用いた方法により形成してもよい。例えば、ボンディングリード3c上を含む多数個取り基板17上に、半田ペーストを印刷法などを用いて塗布する。半田ペーストには、半田成分を活性化するフラックス成分が含まれている。次いで、熱処理を施す。これにより、溶融半田がボンディングリード3c(主として接合部)上に凝集する。次いで、冷却により、溶融半田を凝固させ、フラックスの残渣を取り除く。これにより、半田材11aが形成された多数個取り基板17を得ることができる。また、半田粒子をボンディングリード3cに付着させることにより半田材11aを形成する場合には、例えば、まず、多数個取り基板17のボンディングリード3cを処理液と接触させ、その表面に化学反応により粘着膜を形成する。次いで、ボンディングリード3cの表面を乾燥した後、ボンディングリード3cの表面上を含む多数個取り基板17の上面に、半田粒子を塗布する。これにより、粘着膜に半田粒子が付着する。さらに、半田粒子上を含む多数個取り基板17上に、フラックスペーストを塗布し、熱処理を施した後、溶融半田を冷却し、不要なフラックスを取り除く。このような方法によっても、半田材11aが形成された多数個取り基板17を得ることができる。
半田材11aとしては、例えば、鉛フリー半田を用いることができる。鉛フリー半田としては、例えば、錫(Sn)、錫−ビスマス(Sn−Bi)または錫−銅−銀(Sn−Cu−Ag)を主成分とする半田材を用いることができる。ここで、鉛フリー半田とは、鉛(Pb)の含有量が0.1wt%以下のものを意味する。この含有量は、RoHS(Restriction of Hazardous Substances)指令の基準として定められている。
また、半田材11aに換えて、金属膜をボンディングリード3c上に形成してもよい。この金属膜は、例えば、上記めっき法(無電界めっき、電解めっき)により形成することができる。金属膜としては、例えば、金(Au)を主成分とするめっき膜やニッケル(Ni)を主成分とするめっき膜などを用いることができる。ニッケル(Ni)を主成分とするめっき膜としては、ニッケル(Ni)と他の金属(例えば、金(Au)やパラジウム(Pd)など)の合金よりなるめっき膜を用いることができる。
このように、ボンディングリード3c上に、半田材11aや金属膜を配置することにより、ボンディングリード3cの表面に酸化膜などの不所望な膜が生成することを防止することができ、ボンディングリード3cと半田材11aや金属膜との接合強度を向上させることができる。
2.半導体チップ準備
次いで、半導体チップ2を準備する。半導体チップ2の構成は、図1〜図3を参照して説明したとおりである。前述したとおり半導体チップ2は、トランジスタなどの複数の半導体素子(図示せず)が形成された半導体基板を有する。半導体チップ2の表面2aには、複数の突起電極11が形成されている(図1、図3参照)。この突起電極11は、例えば銅ポストバンプであり、銅よりなるポスト部の表面に半田材11aが形成されている。突起電極11および半田材11aの形成方法に制限はないが、突起電極11および半田材11aを、半導体チップ2を切り出す前のウエハ(略円形の半導体基板)の状態で、一括して形成してもよい。ウエハの複数のチップ領域には、トランジスタなどの半導体素子が複数形成されている。各半導体素子は、多層配線を介して電気的に接続され、このうち、最上層には、ボンディングパッド2cが形成される。このようなウエハ上のボンディングパッド2cの表面に突起電極11を形成する。図9〜図11は、突起電極および半田材の形成工程の一例を示す断面図である。なお、2fは、ボンディングパッド2cの下層に位置する絶縁膜である。突起電極11は、例えば、めっき法により形成することができる。例えば、ウエハ状態において、突起電極11の形成領域に開口部を有するマスクMを形成する(図9)。このマスクの開口部内に、銅などの金属をめっき成長させる。このようなめっき法によれば、ボンディングパッド2cに加わるストレスを低減しつつ、突起電極11を形成することができる。例えば、突起電極をボンディングパッド2cに圧着する方式と比較し、大幅にストレスを低減できる。また、複数のチップ領域を有するウエハ状態で、突起電極11を一括して形成することができるため、製造効率を向上させることができる。
次いで、突起電極11の端面上に半田材11aを形成する(図10)。銅などの金属のめっき成長に引き続き、半田を成長させることにより半田材11aを形成する。このように連続して、突起電極11および半田材11aを形成することにより、金属と半田との界面に酸化膜などの不所望な膜が生成することを防止することができ、突起電極11と半田材11aとの接合強度を向上させることができる。次いで、マスクMを除去した後、熱処理を施し、半田材11aの少なくとも一部を溶融させ、次いで、溶融半田を冷却する。この際、溶融半田の表面張力により、半田材11aは、ドーム形状となる(図11)。このようにして、ボンディングパッド2c上の突起電極11上に半田材11aが形成されたウエハが得られる。
次いで、必要に応じて、ウエハの裏面を研磨することにより、ウエハを薄膜化し、ウエハをチップ領域毎に分割(個片化)する。例えば、ウエハのチップ領域間に位置するスクライブラインに沿ってウエハを切断し、分割する。切断方法に制限はないが、例えば、ダイシングブレード(回転刃)を用いた切断方法やレーザを用いた切断方法を用いることができる。
このようにして、突起電極11上に半田材11aが形成された半導体チップ2を複数個取得することができる。
3.封止材配置
図12および図13に示すように、多数個取り基板17の上面17a側に封止材10を貼り付ける(配置する)。本実施の形態では、封止材10として、フィルム状の封止材(NCF:Non Conductive Film)10を多数個取り基板17の上面17a側の各チップ搭載領域17f毎に配置する。
この封止材10は、絶縁性の材料からなるものであり、フィルム状の封止材としては、例えば熱硬化性のエポキシ系樹脂等を用いることができる。この封止材10の厚さをT1とする。後述するように、熱を加えることにより、ボンディングリード3cと突起電極11とを半田材11aを介して接合する方式では、フリップチップ接合部(11、11a、3c)の熱が冷めた際に、破断等の接合不良が発生し易い。そこで、本実施の形態では、半導体チップ2をチップ搭載領域17fに搭載するダイボンド工程の前に予め封止材10をチップ搭載領域17fに配置している。これにより、上記接合とフリップチップ接合部の封止(保護)を一度に行うことができるため、上記接続不良を低減することができる。また、フィルム状の封止材10を用いることで、後述するペースト状の封止材を用いる場合と比較し、貼りつける領域(形状)や膜厚の調整が容易となる。
4.ダイボンド
図14および図15に示すように、まず、吸着ツール20によって半導体チップ2の裏面2bを吸着し、ダイボンド用のステージ8によって支持された多数個取り基板17の上面17aに設けられた各デバイス形成部17cのチップ搭載領域17fに、半導体チップ2を搬送する。これにより、半導体チップ2の表面2aが、多数個取り基板17の上面17a側と対向するように、チップ搭載領域17fに配置される。この際、半導体チップ2のボンディングパッド2c(突起電極11)と配線基板3のボンディングリード3cとが対応するように位置合わせする。言い換えれば、半導体チップ2の表面2aが多数個取り基板17の上面7aと対向するように、かつ複数の突起電極11のそれぞれの端面が複数のボンディングリード3cのそれぞれの接合部と対向するように、吸着ツール20を用いて、半導体チップ2を多数個取り基板17のチップ搭載領域17f上に搬送する。
この後、半導体チップ2をチップ搭載領域17fに配置したら、吸着ツール20の吸着を停止し、半導体チップ2から吸着ツール20を移動させる(引き離す)。
次いで、ツール汚染対策用の耐熱シート22を介して加熱ツール21を半導体チップ2の裏面2bに押し当て(接触させ)、半導体チップ2に荷重(ここでは垂直荷重が好ましい)を印加し、かつ半導体チップ2を介してフリップチップ接合部(11、11a、3c)を加熱する。この加熱により、多数個取り基板17のボンディングリード3c上の半田材11aと半導体チップ2の突起電極11の表面の半田材11aとが溶融し、ボンディングリード3cと突起電極11が半田材11aを介して接合する。言い換えれば、ボンディングリード3cと突起電極11が半田材11aを介して電気的に接続される。また、封止材(ここでは、フィルム状の封止材)10も溶融し、半導体チップ2と多数個取り基板17との隙間、さらにはフリップチップ接合部(11、11a、3c)の周囲がこの封止材10により封止(保護)される。この際、厚さT1の封止材10は、溶融と荷重によりチップ搭載領域17fの外周に押し出される。よって、封止後の封止材10の厚さはT2(<T1)となる。
また、封止材10の厚さT1を、突起電極11の高さ(H1)より大きく設定する、言い換えると、突起電極11の高さ(H1)を、上記の封止材配置工程において多数個取り基板17の各デバイス形成部17cにおけるチップ搭載領域17fに配置された封止材10の厚さT1よりも低くすることで、溶融した封止材10を、半導体チップ2と多数個取り基板17との隙間およびフリップチップ接合部(11、11a、3c)の周囲に充填することができる。この突起電極11の高さ(H1)は、ボンディングパッド2cの表面から突起電極11の端面までの距離である(図6参照)。
なお、耐熱シート22を用いずに直接、加熱ツール21を半導体チップ2に押し当ててフリップチップ接合を行っても良い。但し、加熱ツール21の汚染対策を考慮した場合は、耐熱シート22を使用し、封止材10が加熱ツール21に付着しないようにすることが好ましい。
また、多数個取り基板17のボンディングリード3c上の半田材11aの溶融は、ステージ8側から多数個取り基板17を介して熱を印加して行ってもよいし、ステージ8と加熱ツール21の両側から熱を印加してもよい。また、荷重を印加する前に予備加熱を行ってもよい。
この後、封止材10が硬化する。これにより、ダイボンド工程を完了する。
このように、多数個取り基板17上に、溶融した封止材10を介して半導体チップ2を押し当てた場合、半導体チップ2の位置ずれが生じやすい。例えば、半導体チップ2がX方向、Y方向または斜め方向にずれて接合され得る。例えば、半導体チップ2がX方向にずれた場合、X方向に並ぶボンディングパッド2cにおいては、隣のボンディングパッド2cや突起電極11と近接することとなり、短絡の要因となり得る。特に、半田材11aを用いて接合する場合には、半田材11aが突起電極11の外周にはみ出すため、ずれと半田材11aのはみ出しにより、さらに短絡(半田ブリッジともいう)の発生率が高くなる。特に、中央電極11cが形成されている場合、この電極により、溶融した封止材(10)の流れが抑制され、ずれが生じ易くなる。さらに、発明者の検討によれば、中央リード3ccの延在方向(図2においては、X方向)に、半導体チップ2が流され易いことが判明している。言い換えれば、中央リード3ccの延在方向にずれが生じやすい傾向にある。このような場合、中央リード3ccの延在方向(図2においては、X方向)に並ぶ周縁リード3cp部において、ずれの影響が大きくなる。
特に、図16および図17に示すように、ボンディングリード3cの接合部の幅W1が、突起電極11の幅W2より小さい場合には、ずれと半田材(11a)のはみ出しにより、さらに短絡(半田ブリッジともいう)の発生率が高くなる(図17参照)。図16および図17は、ボンディングリードの接合部の幅が、突起電極の幅より小さい場合のフリップチップ接合部を模式的に示す平面図である。
具体的には、図16に示すようにボンディングリード3cのほぼ中央に突起電極11が位置する場合の突起電極11と隣のボンディングリード3cとの間隔をS1とする。これに対し、図17に示すようにボンディングリード3cと突起電極11との位置がずれた場合には、突起電極11と隣のボンディングリード3cとの間隔S2が間隔S1より小さくなる。さらに、ボンディングリード3cと突起電極11との間の半田材が隣のボンディングリード側にはみ出す場合には、半田材(11a)と隣のボンディングリード3cとの間隔が間隔S1より小さくなる。このように、ボンディングリード3cと突起電極11との位置ずれや半田材(11a)のはみ出しにより、短絡の発生率が高くなる。
このような突起電極11の位置ずれは、溶融した封止材10がチップ搭載領域17fからその外周にはみ出る(移動する)ために、突起電極11も押し流される(移動する)ことが要因であると考えられる。この際、チップ搭載領域17fに配置されるボンディングパッド2cの数やピッチが揃っていれば、溶融した封止材10の広がり方は、チップ搭載領域17fどの辺に対してもほぼ均一となると考えられる。このため、位置ずれは生じ難いが、本実施の形態のように、中央電極(コアバンプともいう)11cが形成されている場合、中央電極11cの配列方向によって、溶融した封止材10の広がり方が不均一となり、例えば、中央リード3ccの延在方向(図2においては、X方向)に、半導体チップ2が流され易くなるものと考えられる。
これに対し、本実施の形態においては、ボンディングリード3cの接合部の幅W1を、突起電極11の幅W2より大きくしたので(図5等参照)、位置ずれの許容範囲を大きくすることができる。これにより、ボンディングリード3cと突起電極11との電気的接続を良好にすることができる。また、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。また、半田材11aのはみ出しをボンディングリード3cの接合部内に収めることができ、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。
また、フィルム状の封止材10は、溶融時において、後述するペースト状の封止材より粘度が大きいため、溶融した封止材10の流れが制限され易く、ずれが生じやすいため、本実施の形態の適用による効果が大きい。
さらに、ボンディングリード3cの接合部3caに繋がる配線部3cbが接合部3caから一方向にのみ引き出されている、いわゆる“片持ちタイプ”のボンディングリードを用いた場合には、後述する“両持ちタイプ”のボンディングリードと比較し、ボンディングリード(絶縁膜から露出した部分)が変形し易く、位置ずれが生じやすいため、本実施の形態の適用による効果が大きい。
また、封止材10が加熱ツール21に付着しないように、耐熱シート22を介して加熱ツール21を半導体チップ2の裏面2bに押し当てる場合には(図15参照)、加熱ツール21により半導体チップ2を吸着し難く、位置ずれが生じやすいため、本実施の形態の適用による効果が大きい。但し、この位置ずれ対策については、耐熱シート22に穴をあけて、半導体チップ2を吸着することにより改善することが可能である。
5.外部端子形成
図18および図19に示すように、多数個取り基板17の下面17b側の複数のランド3eに外部端子16をそれぞれ形成する。なお、外部端子16は、例えば半田ボール等のボール状電極である。このようなボール状電極を格子状に配置した端子構造はBGA(Ball Grid Array)と呼ばれる。この外部端子16の形状はボール状に限定されるものではなく、例えば、ランド3eの表面に半田膜を設けて平面電極構造としてもよい。このような端子構造は、LGA(Land Grid Array)と呼ばれる。
また、上記半田ボールや各半田材等、本実施の形態で使用する半田材は、鉛(Pb)を実質的に含まない、鉛フリー半田を用いることができる。鉛フリー半田としては、例えば、錫(Sn)、錫−ビスマス(Sn−Bi)または錫−銅−銀(Sn−Cu−Ag)を主成分とする半田材を用いることができる。
6.個片化
図20に示すように個片化を行う。ここでは、回転する切断刃であるダイシング用のブレード23を用いて個片化を行う。詳細には、多数個取り基板17の表裏を反転させ、多数個取り基板17の下面17b側を上方に向けた状態で、下方を向いた上面17a側をダイシング用治具24によって保持し、この状態で、多数個取り基板17の上方からブレード23を進入・回転させてダイシングを行う。なお、個片化は、ブレード23を用いたダイシングによる切断に限らず、金型による切断を行ってもよい。
これにより、図1に示す下段パッケージ6の組み立てが完了する。
<上段パッケージの製造方法>
上段パッケージ7の製造方法に制限はないが、例えば、次のようにして製造することができる。例えば、配線基板12上にダイボンド材13を塗布し、半導体チップ4の表面4aを上側として搭載することにより、配線基板12上に半導体チップ4の裏面4bを固着する(図1参照)。次いで、半導体チップ4のボンディングパッド4cと配線基板12のボンディングリード12cとをワイヤ15を用いて接続する(ワイヤボンディング)。次いで、半導体チップ4の表面4a上およびワイヤ15の周囲を含む配線基板12の上部に、樹脂等の封止材を塗布し、硬化させることより封止体14を形成する。次いで、配線基板12の下面の複数のランド12dに、導電性部材9として半田ボールをそれぞれ接続する。例えば、ランド12dに、半田ボール配置し、加熱することにより、ランド12dの表面に半田ボールを接合する。なお、印刷法やめっき法などで、半田材をランド12dの表面に形成することにより突起電極を形成し、導電性部材9として用いてもよい。
<半導体装置(POP)の製造方法>
図21は、半導体装置(POP)の製造方法の一例を示す断面図である。図21に示すように、下段パッケージ6の複数のプリスタックランド3dのそれぞれに、予め導電性部材(例えば半田材)25を形成しておく。次いで、プリスタックランド3dに形成された導電性部材25と上段パッケージ7のランド12dに形成された導電性部材9を溶融し、接続する。これにより、上段パッケージ7と下段パッケージ6とを電気的に接続することができ、半導体装置(POP)を製造することができる。
以下に、本実施の形態1の変形例について説明する。
(変形例1)
上記実施の形態においては、半田材として、鉛フリー半田を例に説明したが、鉛含有半田(例えば、鉛(Pb)と錫(Sn)の合金)を用いてもよい。
(変形例2)
上記実施の形態においては、配線基板3の複数のボンディングリード3cのうち、複数の周縁リード3cpが、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って一列に配置されている例について説明したが(図2参照)、複数の周縁リード3cpを、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って二列に配置してもよい。この場合、図22に示すように、1列目の複数の周縁リード3cpに対し2列目の複数の周縁リード3cpをそれぞれ千鳥状に配置してもよい。図22は、本実施の形態の半導体装置の変形例2の構成を示す平面図である。
この場合、半導体チップ2の複数のボンディングパッド2cのうち、複数の周縁パッド2cpも千鳥状に配置される。また、半導体チップ2の複数のボンディングパッド2cの表面上にそれぞれ配置された複数の突起電極11も、千鳥状に配置される。
(変形例3)
上記実施の形態においては、ボンディングリード3cを構成する接合部と引き出し部(配線部)のうち、接合部3caの平面形状を四角形としたが(図5参照)、図23に示すように、接合部3caの平面形状を円形としてもよい。図23は、本実施の形態の半導体装置の変形例3の構成を示す平面図および断面図である。この場合、接合部の幅W1は、円形の直径(接合部の径)となり、突起電極11の平面形状の幅(円形の直径)W2より大きくなる。言い換えれば、突起電極11の平面形状の幅(突起電極11の端面の幅)W2は、接合部の径W1より小さくなる。
(変形例4)
上記実施の形態において説明したように、半導体チップ2の表面2aは、絶縁膜よりなる保護膜(パッシベーション膜ともいう)2pにより覆われ、開口部を介して突起電極11とボンディングパッド2cとが接続されている(図6参照)。この図6においては、開口部の幅(径)を、突起電極11の幅W2より小さくしたが、図24に示すように、開口部の幅(径)を、突起電極11の幅W2より大きくしてもよい。図24は、本実施の形態の半導体装置の変形例4の構成を示す平面図および断面図である。断面図は、例えば、平面図のD−D断面部に対応する。この場合、保護膜2pの開口部は、突起電極11の幅W2より大きく、保護膜2pの開口部内であって、突起電極11の外周においては、ボンディングパッド2cの表面が露出している。
(変形例5)
実施の形態1においては、中央領域(2ac)に形成された中央パッド2ccおよび中央電極(コアバンプともいう)11cを有する半導体チップ2を例に説明したが(図3参照)、これに限らず、図25に示すように、中央パッド2ccおよび中央電極(コアバンプともいう)11cを有さない半導体チップ2を用いてもよい。図25は、本実施の形態の半導体装置に用いられる半導体チップの表面の構成を示す平面図である。
この場合、実施の形態1(図3)の場合と異なり、複数のボンディングパッド2cが、周縁パッド2cpのみで構成され、中央パッド2ccが設けられていない。また、複数の突起電極11が、周縁電極11pのみで構成され、中央電極11cが設けられていない。
但し、実施の形態1(図3)の場合、周縁パッド2cpが、半導体チップ2の4つの側面に沿って、それぞれ9個ずつ並んで均等に配置されているのに対し、本実施の形態(図25)においては、各側面に沿って並ぶ周縁パッド2cpの数が異なり、周縁パッド2cpのレイアウトが不均一となっている。以下、詳細に説明する。
図25に示す半導体チップ2においては、例えば、3×3の回路領域(CA、CAh)が設けられている。このうち、1行目の3つの回路領域(図25においては、最上段の回路領域)には、例えば、発熱源となる素子(例えば、MOS−FET)を有する回路が設けられている。このような、発熱源となる素子を有する回路領域を“CAh”で示す。回路領域CAhの近傍の領域においては、周縁パッド2cpが密に配置されている。具体的には、半導体チップ2のX方向に延在する側面(辺)のうち、回路領域CAhに近い側面(辺)で、かつ、複数の回路領域CAhの配列方向と並ぶ側面(辺)、すなわち、図25で言う半導体チップ2の上辺に沿って、11個の周縁パッド2cpが並んで配置されている。また、半導体チップ2のY方向に延在する側面(辺)においては、10個の周縁パッド2cpが回路領域CAhに近づくように、図25で言う半導体チップ2の上辺に全体的に寄っている。これに対し、半導体チップ2のX方向に延在する側面(辺)のうち、回路領域CAhから遠い側面(辺)、すなわち、図25で言う半導体チップ2の下辺に沿って、9個の周縁パッド2cpが並んで配置されている。このように、半導体チップの表面(主面)の各辺に沿ってそれぞれ形成された周縁パッド2cpのうち、半導体チップの表面の第1辺(例えば、回路領域CAhの近傍の辺であって、図25で言う上辺)に沿って形成された周縁パッド2cpの総数は、半導体チップの表面の他の辺(例えば、回路領域CAhから遠い辺であって、図25で言う下辺)に沿ってそれぞれ形成された複数の周縁パッド2cpの総数と異なる。この周縁パッド2cp上には、周縁電極11pが設けられるため、周縁電極11pのレイアウトも、周縁パッド2cpと同様に不均一となっている。また、周縁電極11pと対応して設けられる周縁リード3cpのレイアウトも不均一となっている。
このように、中央パッド2ccが設けられていない場合であっても、周縁パッド2cp(周縁電極11p)のレイアウトが不均一である場合には、封止材(10)の流れが、不均一な周縁パッド2cp(周縁電極11p)により抑制され、ずれが生じやすくなる。
このため、実施の形態1と同様に、ボンディングリード3cの接合部の幅W1を、突起電極11の幅W2より大きくすることにより(図5参照)、位置ずれの許容範囲を大きくすることができ、ボンディングリード3cと突起電極11との電気的接続を良好にすることができる。また、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。また、半田材11aのはみ出しをボンディングリード3cの接合部内に収めることができ、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。
(変形例6)
実施の形態1においては、封止材10として、フィルム状の封止材(NCF:Non Conductive Film)10を用いたが、ペースト状の封止材10N(NCP:Non Conductive Paste)を用いてもよい。図26は、本実施の形態の半導体装置(下段パッケージ)の製造工程を示す断面図である。
この場合、図26に示すように、多数個取り基板17の上面17a側に、ペースト状の封止材10Nを塗布(吐出)する。例えば、ペースト状の封止材10Nを、チップ搭載領域17fの中央部に塗布する。この封止材10Nは、絶縁性の材料からなるものであり、例えば熱硬化性のエポキシ系樹脂等を用いることができる。封止材10Nの塗布量は、例えば、封止後の封止材10Nの厚さT2を考慮し、封止の際、半導体チップ2と多数個取り基板17との隙間から封止材10Nがチップ搭載領域17fの外側に向かってはみ出す程度の量とする。次いで、吸着ツール20によって半導体チップ2の裏面2bを吸着し、多数個取り基板17の上面17a側のチップ搭載領域17f上に半導体チップ2を搬送し、搬送後、吸着を停止してチップ搭載領域17f上に配置する。この際、半導体チップ2のボンディングパッド2c(突起電極11)と配線基板3のボンディングリード3cとが対応するように位置合わせする。
次いで、ツール汚染対策用の耐熱シート22を介して加熱ツール21を半導体チップ2の裏面2bに押し当て、半導体チップ2に荷重(ここでは垂直荷重が好ましい)を印加し、かつ半導体チップ2を介してフリップチップ接合部(11、11a、3c)を加熱する。この加熱により、多数個取り基板17のボンディングリード3c上の半田材11aと半導体チップ2の突起電極11の表面の半田材11aとが溶融し、ボンディングリード3cと突起電極11が直接または半田材11aを介して接合する。また、封止材10Nは押し広げられ、半導体チップ2と多数個取り基板17との隙間、さらにはフリップチップ接合部の周囲がこの封止材10Nにより封止(保護)される。この後、封止材10Nが硬化する。
このように、ペースト状の封止材10Nを用いた場合であっても、中央電極11cや不均一な周縁パッド2cpのレイアウトにより、溶融した封止材(10N)の流れが抑制され、ずれが生じ易くなる。このため、実施の形態1と同様に、ボンディングリード3cの接合部の幅W1を、突起電極11の幅W2より大きくすることにより(図5参照)、位置ずれの許容範囲を大きくすることができ、ボンディングリード3cと突起電極11との電気的接続を良好にすることができる。また、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。また、半田材11aのはみ出しをボンディングリード3cの接合部内に収めることができ、隣り合うボンディングパッド2cや突起電極11間の短絡を抑制することができる。
(変形例7)
実施の形態1においては、半導体チップ2側および配線基板3側の双方に半田材を設けたが、いずれか一方の半田材を省略してもよい。図27は、本実施の形態の半導体装置(下段パッケージ)の製造工程を説明するための断面図である。
図27(A)は、双方に半田材を設けた場合の断面図である。この場合、実施の形態1で説明したように、半導体チップ2の突起電極11の表面に半田材11aを設けるとともに、配線基板3のボンディングリード3c上にも半田材11aを設け、突起電極11とボンディングリード3cとを半田材11aを介して接合する。
これに対し、図27(B)においては、配線基板側の半田材が設けられていない。即ち、配線基板の絶縁層3h上に設けられたボンディングリード3cの表面には、半田材が設けられておらず、この場合、配線基板の表面には、ボンディングリード3cが露出している。
このボンディングリード3cの上部に、封止材10を配置し、さらに、ボンディングリード3cの上部に、半導体チップ2の突起電極11を半田材11aを介して搭載する。この後、実施の形態1と同様に、突起電極11の近傍に熱を加えることにより、突起電極11の表面の半田材11aを溶融させ、ボンディングリード3cと突起電極11とを半田材11aを介して接合する。このように、半導体チップ2側および配線基板3側のいずれか一方に半田材を設けた場合でも、ボンディングリード3cと突起電極11との半田材11aを介した接合が可能である。
ここで、図27(B)に示すように、ボンディングリード3cの表面に、半田材を設けない場合には、ボンディングリード3cの表面に、酸化防止膜を形成してもよい。例えば、酸化防止膜として、フラックス成分を含有する絶縁膜(プリフラックス膜ともいう)を設けてもよい。このように、ボンディングリード3cの表面をコーティングする処理をOSP(Organic Solderability Preservative)処理という。このような処理を行うことにより、ボンディングリード3cの表面の酸化を防止することができ、突起電極11と半田材11aとの接合強度を向上させることができる。特に、ボンディングリード3cの材料として、酸化し易い金属(例えば、銅など)を用いる場合には、OSP処理を施すことが好ましい。
また、プリフラックス膜(フラックス膜、フラックスともいう)は、半田材11aの接合を妨げることがないため、事前に除去する必要がなく、また、半田材11aによる接合後に、容易に取り除くことができるため、酸化防止膜として用いて好適である。
一方、ボンディングリード3cにOSP処理を施さず、熱により、配線基板のボンディングリード3cと突起電極11とを半田材11aを介して接合しつつ、封止材10を溶融し、半導体チップ2と配線基板(多数個取り基板17)との隙間、さらにはフリップチップ接合部(11、11a、3c)の周囲を封止する場合には、封止材10として、活性剤を含有する封止材を用いてもよい。活性剤を含有する封止材としては、フラックス成分を含有する封止材を用いることができる。もちろん、活性剤を含有する封止材10と、OSP処理とを併用してもよい。
(変形例8)
実施の形態1においては、ボンディングリード3cの接合部3caに繋がる配線部3cbが接合部3caから一方向にのみ引き出されている、いわゆる“片持ちタイプ”のボンディングリードを例示したが(図4参照)、いわゆる“両持ちタイプ”のボンディングリードを用いてもよい。図28は、両持ちタイプのボンディングリードの構成を示す平面図である。図28に示すように、両持ちタイプのボンディングリードにおいては、ボンディングリード3cの接合部3caに繋がる配線部3cbが接合部から両方向に引き出されている。片持ちタイプのボンディングリードは、両持ちタイプのボンディングリードと比較して変形しやすく、変形によるボンディングリードと突起電極とのずれが生じやすい。このため、上記実施の形態1等の構成を適用することにより、より効果的に接合のずれを低減することができる。
(実施の形態2)
実施の形態1においては、配線基板3のボンディングリード3cと半導体チップ2の突起電極11とを半田材11aを介して接合する場合について説明したが、配線基板のみならず、突起電極11と接合すべき端子(ボンディングリード3c)が設けられていれば、他の基材を用いてもよい。
本実施の形態2においては、一例として、実施の形態1で説明した、突起電極11を有する半導体チップ2と貫通電極(TSV:through silicon via)TSVを有する半導体チップ20Cとの接合について説明する。図29は、本実施の形態の半導体装置(下段パッケージ)の製造工程を示す断面図である。
半導体チップ2には、実施の形態1と同様に、複数のボンディングパッドが設けられている。また、複数のボンディングパッド上には、それぞれ、突起電極11が設けられている。この半導体チップ2は、例えば、シリコン(Si)などから成る半導体基板であり、例えば、半導体基板の主面にメモリ素子が形成されている。
また、半導体チップ20Cは、例えば、シリコン(Si)などから成る半導体基板であり、半導体チップ2のボンディングパッド(突起電極11)と対応する位置に、貫通電極TSVが形成されている。この貫通電極TSVは、半導体基板(半導体チップ20C)の内部を貫通する電極であり、例えば、半導体チップ20Cの周縁領域や中央領域に配置される。この半導体チップ20Cの貫通電極TSVが設けられていない領域には、例えば、論理回路を構成する素子が形成されている。
図29に示すように、半導体チップ20Cの上面に、封止材10を介して、半導体チップ2を搭載する。この際、半導体チップ2の突起電極11と半導体チップ20Cの貫通電極TSVが対応するように位置合わせする。この後、実施の形態1と同様に、突起電極11の近傍に熱を加えることにより、突起電極11の表面の半田材(図示せず)を溶融させ、貫通電極TSVと突起電極11とを半田材を介して接合する。このように、半導体チップ2、20C間の接続を行う場合でも、貫通電極TSVの接合部の幅W1を、突起電極11の幅W2より大きくすることにより、位置ずれの許容範囲を大きくすることができ、実施の形態1と同様の効果を奏する。
なお、図29においては、半導体チップ20Cの下面側は、封止材10を介して、配線基板3と接合されている。例えば、半導体チップ20Cの貫通電極TSVと配線基板3のボンディングリード(図示せず)が、突起電極BPを介して接合している。
(実施の形態3)
本実施の形態3においては、アライメント用のボンディングリード(3AL)を設けた例について説明する。
(第1例)
図30は、本実施の形態の第1例の半導体装置(下段パッケージ)の配線基板の構成を示す平面図であり、図31は、本実施の形態の半導体装置(下段パッケージ)の突起電極近傍の構成を示す断面図である。例えば、図31の断面図は、図30に示す対角線部の断面と対応する。
図30に示すように、チップ搭載領域17fの周縁領域には、周縁リード3cpが配置されている。周縁リード3cpは、チップ搭載領域17fの4つの辺(半導体チップ2の4つの側面)に沿って、チップ搭載領域17fの周縁に配置されている。ここでは、複数の周縁リード3cpを、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って二列に配置し、1列目の複数の周縁リード3cpに対し2列目の複数の周縁リード3cpをそれぞれ千鳥状に配置している。
一方、チップ搭載領域17fの中央領域には、中央リードとして、アライメント用リード3ALが配置されている。アライメント用リード3ALは、絶縁膜(例えば、ソルダレジスト膜)3fの円形の開口部から露出した導体パターンよりなる。この導体パターンは、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿ったライン状のパターンと、チップ搭載領域17fの対角線上に位置するコーナー状(L字状、逆L字状など)のパターンとの二種の形状が存在する。これらのパターンを、図30においては、ハッチングを付して示してある。
このように、ライン状のパターンとコーナー状のパターンを、アライメント用リード3ALとして、チップ搭載領域17fの中央領域に複数設けることにより、アライメント用リード3ALと半導体チップ2の突起電極11とのずれを低減することができる。例えば、アライメント用リード3ALと突起電極11との位置合わせ精度を向上させることができる。また、チップ搭載領域17fの中央領域から周縁領域に向かい、内側から順次位置合わせ並びに接合が可能となるため、接合のずれを低減することができる。即ち、図31に示すように、半導体チップ2の中央電極11cと配線基板のアライメント用リード3ALを半田材11aを介して精度良く接合することができる。これにより、周縁領域においても、位置ずれを抑えつつ、周縁電極(11p)と周縁リード3cpとを半田材11aを介して精度良く接合することができる。また、図31に示すように、絶縁膜(例えば、ソルダレジスト膜)3fの開口部内に、半田材11aの一部を収容することができる。言い換えれば、半田材11aの一部が、絶縁膜(例えば、ソルダレジスト膜)3fの開口部内に配置される。
なお、本例においては、アライメント用リード(3AL)の幅(ここでは、ライン幅)W1と突起電極11の幅(径)W2の大小関係は、W1>W2の関係である必要はない。また、周縁リード(3cp)の幅W1と周縁電極11pの幅(径)W2の大小関係についても、W1>W2の関係である必要はない。但し、周縁リード(3cp)の幅W1と周縁電極11pの幅(径)W2の大小関係が、W1>W2の関係であれば、位置ずれに対するマージンがより大きくなる。
また、本例においては、先塗布方式の採用、即ち、熱により、配線基板のボンディングリード(3c、3AL)と突起電極11とを半田材11aを介して接合しつつ、封止材10を溶融し、半導体チップ2と配線基板(多数個取り基板17)との隙間、さらにはフリップチップ接合部(11、11a、3c、3AL)の周囲を封止する方式の採用は必須ではない。よって、配線基板のボンディングリード(3c、3AL)と突起電極11とを半田材11aを介して接合した後、半導体チップ2と配線基板(多数個取り基板17)との隙間、さらにはフリップチップ接合部の周囲に溶融樹脂を充填し、封止を行ってもよい。但し、上記アライメント用のボンディングリード(3AL)を設けることにより、チップ搭載領域(17f)の中央領域から周縁領域に向かう溶融樹脂の流れに沿って、内側から順次位置合わせ並びに接合が可能となるため、先塗布方式を採用した場合においても、効果的に接合のずれを低減することができることは言うまでもない。
(第2例)
図32は、本実施の形態の第2例の半導体装置(下段パッケージ)の配線基板の構成を示す平面図であり、図33は、本実施の形態の半導体装置(下段パッケージ)の突起電極近傍の構成を示す断面図である。例えば、図33の断面図は、図32に示す対角線部の断面と対応する。
図32に示すように、本例においても、チップ搭載領域17fの周縁領域には、周縁リード3cpが配置されている。周縁リード3cpは、チップ搭載領域17fの4つの辺(半導体チップ2の4つの側面)に沿って、その周縁に配置されている。ここでは、複数の周縁リード3cpを、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って二列に配置し、1列目の複数の周縁リード3cpに対し2列目の複数の周縁リード3cpをそれぞれ千鳥状に配置している。
一方、チップ搭載領域17fの中央領域には、中央リードとして、アライメント用リード3ALが配置されている。アライメント用リード3ALは、絶縁膜(例えば、ソルダレジスト膜)3fの円形の開口部から露出した導体パターンよりなる。この導体パターンは、第1部3AL1と第2部3AL2とを有し、これらの間には、ライン状またはコーナー状の溝(スリット)Gが設けられている。第1部3AL1と第2部3AL2のパターンを、図33においては、ハッチングを付して示してある。
具体的には、複数のアライメント用リード3ALの中には、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿ったライン状の溝Gを有するアライメント用リード3ALと、チップ搭載領域17fの対角線上に位置するコーナー状(L字状、逆L字状など)の溝Gを有するアライメント用リード3ALとの二種が存在する。
このように、チップ搭載領域17fの中央領域に、アライメント用リード3ALを複数設けることにより、アライメント用リード3ALと半導体チップ2の突起電極11とのずれを低減することができる。例えば、アライメント用リード3ALと突起電極11との位置合わせ精度を向上させることができる。また、チップ搭載領域17fの中央領域から周縁領域に向かい、内側から順次位置合わせ並びに接合が可能となるため、接合のずれを低減することができる。即ち、図33に示すように、半導体チップ2の中央電極11cと配線基板のアライメント用リード3ALを半田材11aを介して精度良く接合することができる。これにより、周縁領域においても、位置ずれを抑えつつ、周縁電極11pと周縁リード3cpとを半田材11aを介して精度良く接合することができる。また、アライメント用リード3ALの内部にライン状またはコーナー状の溝(スリット)Gを設けることにより、突起電極11の外周にはみ出す半田材11aを、この溝G内に収容することができる。言い換えれば、半田材11aの一部が、溝(スリット)Gの内部に配置される。これにより、突起電極11の外周にはみ出す半田材11aの量を低減することができる。
このように、周縁領域においても、位置ずれを抑えつつ、周縁電極(11p)と周縁リード3cpとを半田材11aを介して精度良く接合することができる。また、突起電極11の外周にはみ出す半田材11aによる短絡を防止することができる。
なお、本例においては、アライメント用のボンディングリード(3AL)の幅(ここでは、第1部3AL1の最大幅と第2部3AL2の最大幅の和)W1と突起電極11の幅(径)W2の大小関係は、W1>W2の関係である必要はない。また、周縁リード(3cp)の幅W1と周縁電極11pの幅(径)W2の大小関係についても、W1>W2の関係である必要はない。但し、周縁リード(3cp)の幅W1と周縁電極11pの幅(径)W2の大小関係が、W1>W2の関係であれば、位置ずれに対するマージンがより大きくなる。
また、本例においては、先塗布方式の採用、即ち、熱により、配線基板のボンディングリード(3c、3AL)と突起電極11とを半田材11aを介して接合しつつ、封止材10を溶融し、半導体チップ2と配線基板(多数個取り基板17)との隙間、さらにはフリップチップ接合部の周囲を封止する方式の採用は必須ではない。よって、配線基板のボンディングリード(3c、3AL)と突起電極11とを半田材11aを介して接合した後、半導体チップ2と配線基板(多数個取り基板17)との隙間、さらにはフリップチップ接合部(11、11a、3c、3AL)の周囲に溶融樹脂を充填し、封止を行ってもよい。但し、上記アライメント用のボンディングリード(3AL)を設けることにより、チップ搭載領域17fの中央領域から周縁領域に向かう溶融樹脂の流れに沿って、内側から順次位置合わせ並びに接合が可能となるため、先塗布方式を採用した場合においても、効果的に接合のずれを低減することができることは言うまでもない。
(第3例)
図34は、本実施の形態の第3例の半導体装置(下段パッケージ)の配線基板の構成を示す平面図である。
上記第2例においては、チップ搭載領域17fの対角線上に、コーナー状(L字状、逆L字状など)の溝Gを有するアライメント用リード3ALを設けたが(図32参照)、溝Gの平面形状に制限はなく、円形としてもよい。
具体的には、図34に示すように、アライメント用リード3ALとして、チップ搭載領域17fの4つの辺に沿って、ライン状の溝Gを有するアライメント用リード3ALを配置し、チップ搭載領域17fの対角線上に、円形の溝3Gを有するアライメント用リード3ALを配置する。溝3Gを囲む導体パターン3AL3を、図34においては、ハッチングを付して示してある。
このように、溝Gの平面形状を変化させた本例においても、第2例と同様に、アライメント用リード3ALと半導体チップ2の突起電極11とのずれを低減することができる。これにより、周縁領域においても、位置ずれを抑えつつ、周縁電極(11p)と周縁リード3cpとを半田材11aを介して精度良く接合することができる。また、突起電極11の外周にはみ出す半田材11aによる短絡を防止することができる。
<変形例>
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、上記実施の形態1乃至3のそれぞれにおいては、あるパッケージ(下段パッケージ6)上に他のパッケージ(上段パッケージ7)を積層した構造体(POP:Package On Package)を半導体装置として説明したが、他のパッケージを積層せず、下段パッケージ6(または上段パッケージ7)の組み立てが完了した状態のものを半導体装置として使用または出荷することもできる。
また、上記実施の形態1〜3に示す各種構成を、適宜組み合わせて適用することが可能である。例えば、実施の形態3の第2例で説明した溝(スリット)Gを、実施の形態1のボンディングリード(図4参照)に適用してもよい。図35は、溝を有するボンディングリードの構成を示す平面図である。
図35(A)に示すように、ボンディングリード3cの延在方向と交差する方向に溝Gを設けてもよく、また、図35(B)に示すように、ボンディングリード3cの延在方向に溝Gを設けてもよい。
また、実施の形態1の変形例3で説明した接合部の平面形状が円形のボンディングリード3cを有する配線基板3(図23参照)と、実施の形態1の変形例5で説明した中央パッド2ccおよび中央電極(コアバンプともいう)11cを有さない半導体チップ2(図25参照)とを組み合わせて下段パッケージを構成してもよい。
このように、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上記実施の形態1〜3に示す各種構成を、適宜組み合わせて適用することが可能である。
また、上記実施の形態は、以下の[付記]のようにも記載され得るが、本発明の範囲は、以下の付記に限定されるものではない。
[付記]
(付記1)
上面、前記上面のチップ搭載領域に形成された複数のボンディングリード、前記複数のボンディングリードのそれぞれの接合部を露出するように前記上面に形成された上面側絶縁膜、前記上面とは反対側の下面、前記下面に形成され、かつ前記複数のボンディングリードとそれぞれ電気的に接続された複数のランド、および前記複数のランドのそれぞれを露出するように前記下面に形成された下面側絶縁膜、を有する配線基板と、
表面、前記表面に形成された複数のパッド、前記複数のパッドにそれぞれ形成された複数の突起電極、前記複数の突起電極のそれぞれの端面に形成された半田材、および前記表面とは反対側の裏面を有し、前記半田材を介して前記複数の突起電極が前記配線基板の前記複数のボンディングリードとそれぞれ電気的に接続され、前記配線基板の前記チップ搭載領域に、封止材を介して配置された半導体チップと、
を有し、
前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の平面形状は、四角形からなり、
前記複数のパッドは、平面視において、前記半導体チップの前記表面の周縁部に、かつ前記表面の縁に沿って形成された複数の周縁パッドと、前記半導体チップの前記表面のうちの前記周縁部で囲まれる中央部に形成された複数の中央パッドと、を有し、
前記複数の中央パッドは、第1方向に沿って配列されており、
前記複数の突起電極のそれぞれは、多角柱または円柱からなり、
前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の幅は、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面の幅よりも大きく、
前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の前記幅は、前記複数のボンディングリードのそれぞれの延在方向と交差する方向の長さである、半導体装置。
1 POP
2 半導体チップ
2a 表面
2ac 中央領域
2ap 周縁領域
2b 裏面
2c ボンディングパッド
2cc 中央パッド
2cp 周縁パッド
2f 絶縁膜
2p 保護膜
3 配線基板
3a 上面
3AL アライメント用リード
3AL1 第1部
3AL2 第2部
3b 下面
3c ボンディングリード
3ca 接合部
3cb 引き出し部(配線部)
3cc 中央リード
3cp 周縁リード
3d プリスタックランド
3e ランド
3f 絶縁膜
3g 配線
3h 絶縁層
3i 開口部
3j 開口部
4 半導体チップ
4a 表面
4b 裏面
4c ボンディングパッド
6 下段パッケージ
7 上段パッケージ
8 ステージ
9 導電性部材
10 封止材(樹脂)
10N 封止材(ペースト状の封止材)
11 突起電極
11a 半田材
11c 中央電極
11p 周縁電極
12 配線基板
12a 上面
12b 下面
12c ボンディングリード
12d ランド
12e 絶縁層
12f 絶縁膜
12g 開口部
12h 開口部
13 ダイボンド材
14 封止体
15 ワイヤ
16 外部端子
17 多数個取り基板
17a 上面
17b 下面
17c デバイス形成部
17d 切断部
17e 枠部
17f チップ搭載領域
20 吸着ツール
20C 半導体チップ
21 加熱ツール
22 耐熱シート
23 ブレード
24 ダイシング用治具
25 導電性部材
BP 突起電極
CA 回路領域
CAh 回路領域
G 溝
M マスク
TSV 貫通電極
W1 幅
W2 幅

Claims (9)

  1. 以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
    (a)上面、前記上面のチップ搭載領域に形成された複数のボンディングリード、前記複数のボンディングリードのそれぞれの接合部を露出するように前記上面に形成された上面側絶縁膜、前記上面とは反対側の下面、前記下面に形成され、かつ前記複数のボンディングリードとそれぞれ電気的に接続された複数のランド、および前記複数のランドのそれぞれを露出するように前記下面に形成された下面側絶縁膜、を有する配線基板を準備する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の平面形状は、四角形からなり、
    (b)前記(a)工程の後、前記配線基板の前記チップ搭載領域に、封止材を配置する工程;
    (c)前記(b)工程の後、表面、前記表面に形成された複数のパッド、前記複数のパッドにそれぞれ形成された複数の突起電極、前記複数の突起電極のそれぞれの端面に形成された半田材、および前記表面とは反対側の裏面を有する半導体チップを、前記半導体チップの前記表面が前記配線基板の前記上面と対向するように、かつ前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面が前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部と対向するように、吸着ツールを用いて前記配線基板の前記チップ搭載領域上に搬送する工程;
    ここで、
    前記複数のパッドは、平面視において、前記半導体チップの前記表面の周縁部に、かつ前記表面の縁に沿って形成された複数の周縁パッドと、前記半導体チップの前記表面のうちの前記周縁部で囲まれる中央部に形成された複数の中央パッドと、を有し、
    前記複数の中央パッドは、第1方向に沿って配列されており、
    前記複数の突起電極のそれぞれは、多角柱または円柱からなり、
    前記複数の突起電極のそれぞれの高さは、前記(b)工程において前記配線基板上に配置された前記封止材の厚さよりも低く、
    (d)前記(c)工程の後、加熱ツールを前記半導体チップの前記裏面に接触させ、前記半導体チップに熱を加えながら前記半導体チップの前記裏面に荷重を加えることで前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面に形成された前記半田材を溶融させ、前記半田材を介して前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のボンディングリードをそれぞれ電気的に接続し、さらに、前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部を前記封止材で封止する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の幅は、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面の幅よりも大きく、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の前記幅は、前記複数のボンディングリードのそれぞれの延在方向と交差する方向の長さである。
  2. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれは、銅を主成分とする材料からなり、
    前記複数のボンディングリードのうち、前記上面側絶縁膜から露出する部分の表面には、めっき法により、錫、金またはニッケルを主成分とするめっき膜が形成されている、半導体装置の製造方法。
  3. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれは、銅を主成分とする材料からなり、
    前記複数のボンディングリードのうち、前記上面側絶縁膜から露出する部分の表面にフラックスが形成されている、半導体装置の製造方法。
  4. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数の突起電極のそれぞれは、銅を主成分とする材料からなる、半導体装置の製造方法。
  5. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部に繋がる配線は、前記接合部から一方向にのみ引き出されている、半導体装置の製造方法。
  6. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部には、開口部が形成されており、
    前記(d)工程により、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面に形成された前記半田材の一部が前記開口部内に配置される、半導体装置の製造方法。
  7. 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部には、スリットが形成されており、
    前記(d)工程により、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面に形成された前記半田材の一部が前記スリット内に配置される、半導体装置の製造方法。
  8. 以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
    (a)上面、前記上面のチップ搭載領域に形成された複数のボンディングリード、前記複数のボンディングリードのそれぞれの接合部を露出するように前記上面に形成された上面側絶縁膜、前記上面とは反対側の下面、前記下面に形成され、かつ前記複数のボンディングリードとそれぞれ電気的に接続された複数のランド、および前記複数のランドのそれぞれを露出するように前記下面に形成された下面側絶縁膜、を有する配線基板を準備する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の平面形状は、円形からなり、
    (b)前記(a)工程の後、前記配線基板の前記チップ搭載領域に、封止材を配置する工程;
    (c)前記(b)工程の後、表面、前記表面に形成された複数のパッド、前記複数のパッドにそれぞれ形成された複数の突起電極、前記複数の突起電極のそれぞれの端面に形成された半田材、および前記表面とは反対側の裏面を有する半導体チップを、前記半導体チップの前記表面が前記配線基板の前記上面と対向するように、かつ前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面が前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部と対向するように、吸着ツールを用いて前記配線基板の前記チップ搭載領域上に搬送する工程;
    ここで、
    前記複数のパッドは、平面視において、前記半導体チップの前記表面の周縁部に、かつ前記表面の縁に沿って形成された複数の周縁パッドと、前記半導体チップの前記表面のうちの前記周縁部で囲まれる中央部に形成された複数の中央パッドと、を有し、
    前記複数の中央パッドは、第1方向に沿って配列されており、
    前記複数の突起電極のそれぞれは、多角柱または円柱からなり、
    前記複数の突起電極のそれぞれの高さは、前記(b)工程において前記配線基板上に配置された前記封止材の厚さよりも低く、
    (d)前記(c)工程の後、加熱ツールを前記半導体チップの前記裏面に接触させ、前記半導体チップに熱を加えながら前記半導体チップの前記裏面に荷重を加えることで前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面に形成された前記半田材を溶融させ、前記半田材を介して前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のボンディングリードをそれぞれ電気的に接続し、さらに、前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のリボンディングードのそれぞれの前記接合部を前記封止材で封止する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の径は、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面の幅よりも大きい。
  9. 以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
    (a)上面、前記上面のチップ搭載領域に形成された複数のボンディングリード、前記複数のボンディングリードのそれぞれの接合部を露出するように前記上面に形成された上面側絶縁膜、前記上面とは反対側の下面、前記下面に形成され、かつ前記複数のボンディングリードとそれぞれ電気的に接続された複数のランド、および前記複数のランドのそれぞれを露出するように前記下面に形成された下面側絶縁膜、を有する配線基板を準備する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の平面形状は、四角形からなり、
    (b)前記(a)工程の後、前記配線基板の前記チップ搭載領域に、封止材を配置する工程;
    (c)前記(b)工程の後、平面形状が四角形からなる表面、前記表面に形成された複数のパッド、前記複数のパッドにそれぞれ形成された複数の突起電極、前記複数の突起電極のそれぞれの端面に形成された半田材、および前記表面とは反対側の裏面を有する半導体チップを、前記半導体チップの前記表面が前記配線基板の前記上面と対向するように、かつ前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面が前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部と対向するように、吸着ツールを用いて前記配線基板の前記チップ搭載領域上に搬送する工程;
    ここで、
    前記複数のパッドは、平面視において、前記半導体チップの前記表面の周縁部に、かつ前記表面の各辺に沿ってそれぞれ形成されており、
    前記半導体チップの前記表面の各辺に沿ってそれぞれ形成された前記複数のパッドのうち、前記半導体チップの前記表面の第1辺に沿って形成された複数の第1パッドの総数は、前記半導体チップの前記表面の他の辺に沿ってそれぞれ形成された複数の第2パッドの総数と異なり、
    前記複数の突起電極のそれぞれは、多角柱または円柱からなり、
    前記複数の突起電極のそれぞれの高さは、前記(b)工程において前記配線基板上に配置された前記封止材の厚さよりも低く、
    (d)前記(c)工程の後、加熱ツールを前記半導体チップの前記裏面に接触させ、前記半導体チップに熱を加えながら前記半導体チップの前記裏面に荷重を加えることで前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面に形成された前記半田材を溶融させ、前記半田材を介して前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のボンディングリードをそれぞれ電気的に接続し、さらに、前記半導体チップの前記複数の突起電極と前記配線基板の前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部を前記封止材で封止する工程;
    ここで、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の幅は、前記複数の突起電極のそれぞれの前記端面の幅よりも大きく、
    前記複数のボンディングリードのそれぞれの前記接合部の前記幅は、前記複数のボンディングリードのそれぞれの延在方向と交差する方向の長さである。
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CN113287373A (zh) * 2019-01-10 2021-08-20 株式会社电装 半导体装置及其制造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113287373A (zh) * 2019-01-10 2021-08-20 株式会社电装 半导体装置及其制造方法
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