JP2015000426A - 加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射率測定部114は、反射率測定用光源113から照射された照明光による加工箇所の反射率を測定する。反射率測定用光源113から照射された照明光は、半反射ミラー115で反射して半反射ミラー106を透過し、集光レンズ107で集光されて加工箇所で反射する。加工箇所で反射した反射光は、集光レンズ107,半反射ミラー106,半反射ミラー115,半反射ミラー111,および半反射ミラー112を通過し、反射率測定部114で光強度が測定される。反射率測定部114は、入射側に設けたカットフィルターにより加工用のレーザーの反射光を遮断しているので、加工用のレーザーを照射して加工しているときの反射率も測定可能である。
【選択図】 図1
Description
Claims (5)
- グラフェンが形成された基板を載置するステージと、
パルスレーザーを前記グラフェンの所望の加工箇所に照射するレーザー照射手段と、
前記加工箇所に反射率測定用の光を照射する反射率測定用光源と、
前記加工箇所における前記反射率測定用光源による光の反射率を測定する反射率測定手段と
を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項1記載の加工装置において、
前記反射率測定手段が測定した反射率と設定された目的値との比較により前記加工箇所に照射されるレーザーの条件を変更する制御手段
を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項1または2記載の加工装置において、
前記グラフェンの前記加工箇所を水で覆われた状態とする液体供給手段を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項3記載の加工装置において、
前記水を脱気する脱気手段を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の加工装置において、
前記グラフェンの前記加工箇所を所望とするガスの雰囲気とする前記ガスを前記加工箇所に供給するガス供給手段を備えることを特徴とする加工装置。
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JP2013127341A JP2015000426A (ja) | 2013-06-18 | 2013-06-18 | 加工装置 |
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Cited By (1)
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CN110767542A (zh) * | 2018-07-26 | 2020-02-07 | 中国计量科学研究院 | 二维材料电学性能调控系统及其调控方法 |
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