JP2014525124A - 可変周波数モードおよび/またはパルス発生モードで動作している電力発生器の電力を測定するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
電気発生器が、パルス発生モードで動作しているとき、電気発生器が、可変周波数モードで動作しているとき、および電気発生器が、パルス発生モードおよび可変周波数モードの両方で並行して動作しているとき、プラズマ処理チャンバに印加される電力の電気特性を測定するための方法および装置が、開示される。一実施形態において、パルス状態検出器は、電力発生器がパルス発生モードで動作しているとき、電力発生器の状態を検出するように構成された電力信号振幅検出器と、振幅検出器によって検出された電力信号振幅の一部を廃棄するように構成されたフィルタであって、廃棄される部分は、交絡事象によって影響を受け得る、フィルタとを備える。
Description
本開示は、概して、電気発生器に関する。特に、限定ではないが、本開示は、プラズマ処理チャンバに印加される電力の電気特性を測定するための方法および装置に関する。
半導体またはフラットパネルディスプレイの製造等のプラズマ処理用途では、RF電力発生器が、電圧をプラズマチャンバ内の負荷に印加し、広範囲の周波数にわたって動作し得る。プラズマ処理業界における経験は、特定のプラズマパラメータ(例えば、イオン密度、電子密度、およびエネルギー分布)を処理される材料(例えば、ウエハ)の特性(例えば、均一性、膜厚、および汚染レベル)に関連付けることを可能にしている。加えて、ウエハ特性を全体的品質と結び付ける、大量の知識が、存在する。したがって、プラズマパラメータを全体的処理の品質に関連付ける、プラズマ処理業界における経験が存在する。
しかしながら、(例えば、プラズマ環境の直接測定による)プラズマパラメータに関する情報の取得は、困難かつ煩わしい。対照的に、プラズマ処理チャンバに印加される電力(特に、無線周波数(RF)電力)の電気特性(例えば、電圧、電流、位相、インピーダンス、電力、反射電力等)の識別は、大量のそのような情報を取得するための比較的に安価な方法である。電気特性を識別するための従来の技法は、電気特性とプラズマパラメータとの間の既知かつ再現性のある関連付けを確立するために十分な量の情報を提供するには、あまりに高価、低速、または不正確である。
整合ネットワークは、典型的には、負荷のインピーダンスを源と整合させ、電力伝達を最大限にするために使用される。電力発生器は、とりわけ、RF電力用途のために、本機能性をユーザに提供する。そのような動作では、発電システムは、RFインピーダンスの周期的測定を行なうと同時に、反射電力が最小限になり得るように、整合回路を調節する。
いくつかの発電システムは、整合ネットワークの出力における電力およびインピーダンスを測定するために、インピーダンスプローブを含む。そのような用途では、これらの測定は、継続的に行なわれ、これは、電力が、パルス発生動作モードで送達されるとき、測定値が、パルスオフ周期の間にも収集され、不正確な報告を生じさせ、したがって、整合同調アルゴリズムの不正確な制御を生じさせることを意味する。これらの測定はまた、特定の用途に基づいてプログラムされた固定動作周波数に対して行なわれる。
RF電力発生器のユーザは、増加していく割合で、パルス発生RFエネルギーをそのプロセスに組み込んでいる。加えて、「周波数掃引」とも称される、電力発生器の周波数が変動するモードにおける動作は、マクロインピーダンス調節(周波数同調のみに依拠する、固定整合用途と併用される)ならびにマイクロインピーダンス調節(磁場摂動等の影響のため、高速の周期的インピーダンス変化の間、整合を提供するために、周波数同調を使用する、従来の自動整合用途)の両方のために広範に使用されている。加えて、周波数掃引はまた、プラズマ安定性に影響を及ぼすために使用され得る。
これらの用途の多くでは、電力発生器と整合ネットワークとの間にリンクを有し、電力発生器の動作周波数およびパルスオン/オフ状態を整合ネットワークに通信することは、実践的でも望ましくもない。そのような通信リンクのために要求されるケーブルは、望ましくなく、かつ標準化されず、いくつかの加工環境においては、達成不可能である。さらに、そのような通信方法は、固有の遅延を有し、タイムリーかつ正確な情報を整合ネットワークに送達する能力に影響を及ぼす。故に、電力測定技法を改善する必要がある。
本開示の例証的実施形態は、図面に示され、以下に要約される。これらおよび他の実施形態は、「発明を実施するための形態」の項により完全に説明される。しかしながら、本明細書の特許請求の範囲を本概要または「発明を実施するための形態」に説明される形態に限定する意図はないことを理解されたい。当業者は、多数の修正、均等物、および代替構造が、特許請求の範囲に表されるような本開示の精神および範囲内にあることを認識し得る。
本明細書に開示されるのは、整合ネットワークが、(1)電力発生器のパルス状態が、オンであるか、オフであるか、(2)電力発生器の動作周波数、ならびに(3)電力発生器の動作周波数と、電力発生器のパルス状態がオンであるか、オフであるかを並行して検出することを可能にするための新規方法および装置である。
前述のように、前述の実施形態および実装は、例証目的にすぎない。開示される技術の多数の他の実施形態、実装、および詳細が、以下の「発明を実施するための形態」、参照される図、および特許請求の範囲から、当業者によって容易に認識される。
本開示の種々の目的および利点ならびにより完全な理解は、付随の図面と関連して検討されるとき、以下の「発明を実施するための形態」および添付の特許請求の範囲を参照することによって、明白となり、かつより容易に理解される。
次に、(同じまたは類似要素は、いくつかの図を通して、同じ参照番号で指定される)図面を参照すると、特に、図1を参照すると、提示されるのは、本開示のいくつかの実施形態が実装されるプラズマ処理環境(または、システム)100を描写する、ブロック図である。示されるように、電力発生器102は、インピーダンス整合ネットワーク106を介して、プラズマチャンバ104に結合される。システム100のいくつかの変形例では、1つより多い電力発生器102が存在してもよいことに留意されたい。加えて、電力発生器102は、無線周波数(RF)電力を送達するように構成されるタイプであってもよい。システム100の分析部分108は、電力発生器102の出力に結合された第1のセンサ110からの入力を受信するように配置される。分析部分108はまた、プラズマチャンバ104の入力に結合された第2のセンサ112からの入力を受信するように配置される。描写されるように、分析部分108はまた、マン・マシン・インターフェース114に結合され、マン・マシン・インターフェース114は、キーボード、ディスプレイ、およびポインティングデバイス(例えば、マウス)を含んでもよい。
これらの構成要素の図示された配列は、機能的であり、実際のハードウェア略図であることを意味するものではない。したがって、構成要素は、実際の実装では、組み合わせられるか、またはさらに分けられることができる。例えば、センサ110、112の一方または両方の機能性は、整合ネットワーク106内に、または分析部分108の構成要素とともに実装されてもよい。代替として、第1のセンサ110は、電力発生器102の筐体内に完全に含まれてもよい。当業者は、図1に開示される機能性の分配に対して、多数の他の可能性が存在することを容易に理解する。さらに、図1に含まれる構成要素は、例示的実装を描写しており、本明細書にさらに論じられる他の実施形態では、いくつかの構成要素は、省略されてもよく、かつ/または他の構成要素が、システム100に追加されてもよいことを認識されたい。
電力発生器102は、概して、電力をプラズマチャンバ104に提供し、プラズマ処理のために、プラズマをチャンバ104内において点火および持続させる。典型的には、そのような電力は、RF電力である。要求されないが、多くの実施形態では、電力発生器102は、2つ以上の電力発生器102の集合によって実現され、電力発生器102はそれぞれ、異なる周波数で電力を提供する。必ず要求されるわけではないが、電力発生器102は、Advanced Energy Incorporated(Fort Collins, Colorado)から利用可能な1つ以上のRF電力発生器によって実現されてもよい。
整合ネットワーク106は、本実施形態では、概して、本印加される電圧の周波数、チャンバ圧力、ガス組成物、および標的または基板材料に伴って変動し得るチャンバインピーダンスを電力発生器102のための理想的負荷に変換するように構成される。当業者は、種々の異なる整合ネットワークタイプが、本目的のために使用され得ることを理解する。整合ネットワーク106は、Advanced Energy Incorporated(Fort Collins, Colorado)から利用可能なNAVIGATORモデルデジタルインピーダンス整合ネットワークによって実現されてもよいが、他のインピーダンス整合ネットワーク106もまた、採用されてもよい。
第1のセンサ110は、本実施形態では、概して、電力発生器102が、所望のレベルの出力電力(例えば、一定出力電力)を維持することが可能であるように、フィードバックを電力発生器102に提供するように構成される。一実施形態では、例えば、第1のセンサ110は、発生器によって印加される電気特性のパラメータ(例えば、反射される電力、反射係数等)を測定し、測定されたパラメータと所定の設定点との間の差に基づいて、フィードバックを電力発生器102に提供する。
第2のセンサ112は、図1に描写された実施形態では、概して、プラズマチャンバ104内のプラズマの特性評価を提供するように構成される。例えば、第2のセンサ112によって得られた測定値は、プラズマチャンバ104内のプラズマの安定性および処理の結果に影響を及ぼすか、またはそれを示す、イオンエネルギー分布、電子密度、エネルギー分布、そのようなパラメータの組み合わせまたは他のパラメータを推定するために使用されることができる。
多くの実施形態では、さらなる実施例として、プラズマチャンバ104への入力111において測定される電気特性(例えば、電圧、電流、インピーダンス、位相)は、関連付けられたプラズマパラメータの値を予測するために使用されることができ、それらの測定された電気特性は、終点検出のために使用されてもよい。例えば、第2のセンサ112からの測定値は、既知の情報(例えば、特定の電圧からの逸脱が、1つ以上のプラズマパラメータに影響を及ぼす程度、または及ぼさない程度を示す情報)と併せて使用されてもよい。図1に描写されないが、センサ110、112は、1つ以上の変換器、電子機器、および処理論理(例えば、ソフトウェア、ハードウェア、ファームウェア、またはそれらの組み合わせ内に具現化される命令)を含んでもよい。
分析部分108は、概して、情報(例えば、電気特性のパラメータに関する情報)をセンサ110、112から受信し、情報が、適用可能であるとき、その情報を処理し、マン・マシン・インターフェース114を介して、その情報をユーザに伝達するように構成される。分析部分108は、ソフトウェア、または専用ハードウェア、および/またはファームウェアと併せて、汎用コンピュータによって実現されてもよい。
特定の構造および動作の詳細が、図1に図示および説明されるが、そのような構造および詳細は、単に、例証の目的のために提示され、変更および修正が、本開示の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によって容易に行なわれ得ることは、明らかに理解される。
本明細書に開示される方法および装置は、情報を整合ネットワーク106に提供し、整合ネットワーク106が、システム100の許容可能な性能を達成するために行なわなければならない調節をより正確に決定することを可能にする。本明細書に開示される技術は、整合ネットワーク106の入力側(例えば、第1のセンサ110)、整合ネットワーク106の出力側(例えば、第2のセンサ112)、またはシステム100の他の部分で動作してもよい(例えば、本明細書に開示される機能性は、システム100のまわりに分散された構成要素内で実現されてもよい)。
本明細書に開示される技術の実施形態は、パルス発生動作モード、可変周波数動作モード、ならびにパルス発生モードおよび可変周波数モードが並行して動作する動作モードを含む、種々の動作モードで動作してもよい。
本開示の第1の部分は、継続的、自動的、かつ自律的に、電力発生器102が、電力信号をプラズマチャンバ104に送達しているかどうかを決定するための方法を対象とする。
図2Aを参照すると、描写されるのは、電力発生器102によって発生したパルス発生信号200ならびにその信号の電圧または電力の例証的実施例である。典型的には、常時ではないが、電力発生器102によって送達される電力信号は、電力発生器102のパルスオン状態に対応する、パルス発生信号200の部分204および208に図示されるような正弦波信号である。最初に、電力発生器102は、アイドル状態(部分202に対応する)であり、それは、電力発生器102が、信号を発生させていないことを示す。電力発生器102が、パルス発生モードで動作するように構成されると、電力発生器102は、第1の期間の間、電力信号204をプラズマチャンバ104に送達する。次いで、電力発生器102は、ある期間の間、電力信号をプラズマチャンバ104に送達することを停止し、これは、パルス発生信号200の部分206に対応する。次に、電力発生器102は、別の期間の間、プラズマチャンバへの電力信号の送達を再開し、これは、パルス発生信号200の部分208に対応する。パルス発生モードで動作しているとき、システム100は、本方式で動作を継続する。故に、電力発生器102が、パルス発生モードで動作するとき、電力発生器102によって送達された電力信号200の振幅は、高(パルスオン状態204、208に対応する)、次いで、低(パルスオフ状態202、206、210に対応する)を交互する。
常時ではないが、多くの場合、パルスオン状態204、208およびパルスオフ状態202、206、210の間の期間は、一定のままである。しかしながら、パルスオン204、208およびパルスオフ202、206、210の持続時間は、経時的および相互に対して、変動し、プラズマからの所望の結果を達成してもよい。故に、電力発生器102がパルス発生モードで動作するとき、電力発生器102の状態(例えば、パルスオン204、208状態またはパルスオフ202、206、210状態)を継続的に監視する必要性がある。
電力発生器102が、パルスオン204、208状態にあるか、パルスオフ202、206、210状態にあるかを検出するための本明細書に開示される方法および装置は、電力発生器102によって発生したパルス発生信号200の振幅または電力のいずれかの測定(継続的な測定、または実質的に継続的な測定)を行なうことを含む。
図2Bを参照すると、描写されるのは、パルス発生信号200の測定された振幅または電力を反映する信号201である。多くの実装では、パルス発生信号200の振幅または電力の継続的な測定は、1つ以上の技法(その1つは、以下に詳細に説明される)に従って、行なわれてもよい。一実施形態では、パルス発生信号の200の振幅または電力は、適切なサンプリングレートにおいて、デジタル的にサンプリングされる。別の実施形態では、パルス発生信号200の振幅または電力は、アナログ回路によって測定され、電力発生器102によって発生したパルス発生信号200の振幅または電力の継続的な測定を行なう。
より具体的には、測定された信号201の部分212は、電力が、電力発生器102によって発生していない、パルス発生信号200の部分202に対応する。同様に、測定された信号201の部分214、216、218、および220は、それぞれ、パルス発生信号200の部分204、206、208および210に対応する。
図2Aおよび図2Bを参照しながら、電力発生器102が、パルスオン状態204、208であるかどうか、または電力発生器102が、パルスオフ状態206、210であるかどうかを決定するための例示的方法を描写する流れ図300である、図3を同時に参照する。しかしながら、図3に描写された方法は、本明細書に描写された特定の実施形態に限定されないことを認識されたい。
図3に示されるように、ブロック300および302では、電力発生器102によって発生した電力信号200は、(例えば、センサ110、112の一方または両方によって)信号200の振幅または電力のいずれかを取得するように測定される。
ブロック304では、所定の閾値222が、電力発生器102が、現在、電力信号をプラズマチャンバ104に送達しているかどうかを決定するために使用される。一実施形態では、所定の閾値222は、プログラム可能である。そのような決定を行なうために、測定された信号201が、所定の閾値222を上回るか、下回るかに関して、査定が行なわれる。測定された信号201が、所定の閾値222を上回る場合(システム100内の雑音または遅延等の交絡因子を除外する)、電力発生器102は、パルスオン状態204、208である。測定された信号が、所定の閾値222を下回る場合、電力発生器102は、パルスオフ状態202、206、210である(再び、システム100内の雑音または遅延等の交絡因子を除外する)。
開示される技術はまた、パルス発生信号200が、パルスオン状態204、208とパルスオフ状態202、206、210との間を遷移するとき、遅延および信号雑音を考慮する。特に、閾値222を上回る所定の(および、プログラム可能)数の連続的な測定値が、(例えば、分析部分108内の処理構成要素によって)検索されてもよい。開示される方法300は、そのような測定が、状態間の遷移の間に発生する雑音のため、およびある状態から他の状態への遷移に対する測定の不確実性のため、誤読取を受けやすいことを認識し、特定の状態の終了時、1つ以上の測定値を廃棄する選択肢を特徴とする(ブロック306)。
特に、パルスオン状態204、208の終了時、雑音が発生する可能性があり、実際、電力発生器102が、プラズマチャンバ104への電力の送達を既に停止しているとき、高い誤読取につながり得る。加えて、不完全な測定値が、パルスオン状態204、208からパルスオフ状態202、206、210へのパルスの下降時間の間、記録される危険がある。故に、本明細書に開示される方法は、所定の閾値222を上回る、いくつかの数(プログラム可能であってもよい)の連続サンプルを検索し、次いで、いくつかの数(この場合もまた、プログラム可能であってもよい)の最近の測定値を廃棄し、遷移点で生じる雑音による、またはそのような遷移点において生じ得る測定誤差による、潜在的な誤った高い測定値を考慮する(ブロック306)。
測定中の雑音および遅延を考慮するための開示される手段の一例証的実施例は、以下のように実装される。測定値は、m(n)、m(n+1)、m(n+2)等と指定される。遅延測定値もまた、記憶され、m(n−1)、m(n−2)等と指定される。各間隔に対して、m(n−D2)からm(n+D1)の全サンプルが、所定の閾値222を上回る場合、測定m(n)は、有効であると見なされる。m(n)に対する決定は、m(n+D1)サンプルが受信されるまで、行なうことができず、したがって、これは、D1の遅延測定、およびD1+D2の閾値指標が、記憶されることを含意する。本アルゴリズムからの結果、測定値は、以下の3つの条件((1)測定値が、所定の閾値を上回る、(2)測定値の後のD1のサンプルが、閾値を上回る、(3)測定値の前のD2のサンプルが、閾値を上回る)を満たす場合のみ、有効である。各測定値の前および後のサンプルをチェックすることによって、パルスオン状態204、208とパルスオフ状態206、210との間の遷移に近接して得られた測定値は、廃棄され(ブロック306、308、310、312、314、および316)、閾値検出の精度を改善することができる。
前述の閾値検出における改善に加え、遷移状態近傍のサンプルを廃棄し、測定の精度を改善することが望ましい。測定精度の改善に照らして、M(i)として指定される個々の測定値群として、サンプルを論じることが最も適切であり、ここでは、M(i)は、測定結果を計算するために使用される個々のサンプルm(l)...m(n)の集合を表す。パルスオンまたはパルスオフ遷移状態近傍では、測定された信号m(n)の振幅の分散は、群M(i)の不正確性を生じさせ得る。これらの振幅分散は、プラズマ負荷の動態あるいは電力発生器の傾斜率および/または減衰率の結果であり得る。(例えば、所定の閾値に対する測定値の比較による)パルスオン状態の検出後のいくつかの廃棄されたサンプル群は、E1として指定され、パルスオフ状態の検出の前のいくつかの廃棄されたサンプル群は、E2として指定される。一実施形態では、E1およびE2は、測定されるべき信号の動態の事前の知識に基づいて、プログラムされ得る。本事例では、サンプル群は、M(ON+E1)とM(OFF−E2)との間にある場合、有効であると見なされ、ここでは、M(ON)は、パルスオンの検出後の第1の有効サンプル群を表し、M(OFF)は、パルスオフの検出に先立った最後の有効サンプル群を表す。別の実施形態では、E1およびE2は、分散(V1、V2、...)を計算し、パルスオフである(例えば、測定が所定の閾値を下回る)か、または高い分散(例えば、所定の閾値を上回るVn)を有する、測定値群を廃棄することによって、動的に決定され得る。分散を計算するための方法は、1つの可能性な方法として、標準偏差に関する、種々のアルゴリズムを使用することができる。
残っている(廃棄されない)測定値は、整合ネットワーク106に、システム100内の電力発生器102の現在の動作状態を通知するために使用されるものである(ブロック312および314)。電力発生器102が、パルスオン状態204、208にあるか、パルスオフ状態202、206、210にあるかを知ることによって、整合ネットワーク106は、その回路を調節し、プラズマチャンバ104内の負荷のインピーダンスを電力発生器102と正確に整合させ、反射電力を最小限にし、それによって、電力伝達を最大限にすることが可能である。
一実施形態では、継続的電力測定を行なうための方法は、Broukらによって出願され、2009年7月2日公開の米国特許出願公開第2009/0167290号「System, Method, and Apparatus for Monitoring Characteristics of RF Power」に説明された技法を使用し、それは、参照することによって本開示に組み込まれる。これらの測定は、周波数選択的であって、最短許容パルスオン時間の間、複数の測定を可能にする速度で、リアルタイムで生じる。
次に、図4を参照すると、示されるのは、処理部分400の例示的実施形態であり、図1を参照して説明されたセンサ110、112および/または分析部分108の一部として実装されてもよい。示されるように、処理部分400は、本実施形態では、第1の処理チェーン402、および第2の処理チェーン404を含み、各処理チェーン402、404は、アナログフロントエンド406、アナログ/デジタル(A/D)コンバータ408、変換部分410、および補正部分412を含む。
図4における構成要素の描写は、論理的であり、実際のハードウェア略図であることを意図するものではない。したがって、構成要素は、実際の実装では、組み合わせられるか、またはさらに分けられることができる。例えば、A/Dコンバータ408は、2つの別個のA/Dコンバータ(例えば、14ビットコンバータ)によって実現されてもよく、変換部分410は、ハードウェア、ファームウェア、および/またはソフトウェア構成要素の集合によって実現されてもよい。ある特定の実施形態では、例えば、変換部分および補正部分410、412は、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)によって実現される。
図4に描写された例示的実施形態では、第1および第2の処理チェーン402、404は、(例えば、順方向波および反射波センサと称され得る指向性結合器から)個別の順電圧アナログ−RF信号および逆電圧アナログ−RF信号を受信するように構成される。他の実施形態では、第1および第2の処理チェーン402、404は、電圧アナログ−RF信号および電流アナログ−RF信号を受信してもよい。明確にするために、処理部分400の動作は、単一処理チェーンを参照して説明されるが、1つ以上の付加的処理チェーン内において、対応する機能が実施され得ることを認識されたい。
図4を参照しながら、プラズマ負荷に印加される電力の電気特性を監視するための例示的方法を描写する流れ図500である、図5を同時に参照する。しかしながら、図5に描写された方法は、図4に描写された特定の実施形態に限定されないことを認識されたい。図5に示されるように、電力発生器(例えば、電力発生器102)によって発生する電力は、周波数範囲内にある複数の特定の周波数における電気特性を示す情報を含む信号を取得するためにサンプリングされる(ブロック502、504)。
例えば、周波数範囲は、周波数400KHz〜60MHzの範囲を含んでもよいが、本範囲は、例えば、システム100に電力を提供する電力発生器102の周波数に応じて、確かに変動してもよい。複数の特定の周波数は、特定の着目周波数であってもよく、これらの周波数はまた、さらに本明細書に論じられるように、処理チャンバ(例えば、処理チャンバ104)に印加される電力の周波数に応じて、変動してもよい。例えば、特定の周波数は、基本周波数、周波数のそれぞれの二次高調波および三次高調波、ならびにそのような周波数の相互変調積であってもよい。
図4を参照して示されるように、第1の処理チェーン402のアナログフロントエンド406は、順電圧アナログ−RF信号を変換器(図示せず)から受信し、デジタル変換のためのアナログ−RF信号を作成するように構成される。アナログフロントエンド406は、例えば、電圧分割器および前置フィルタを含んでもよい。示されるように、アナログ−RF信号が、アナログフロントエンド406によって処理されると、アナログ−RF信号は、A/Dコンバータ408によってデジタル化され、複数の特定の周波数における電気特性を示す情報を含む、デジタルRF信号のストリームを発生させる(ブロック506)。いくつかの実施形態では、例えば、14ビット精度で、1秒あたり、6,400万個のサンプルが、アナログ−RF信号から得られる。
示されるように、サンプリングされたRF信号が、デジタル化されると、電気特性を示す情報(デジタル形態)が、複数の特定の周波数のそれぞれに対して、時間ドメインから周波数ドメインへと、逐次的に変換される(ブロック508)。実施例として、図4に描写された変換部分410は、デジタルRF信号414、416のストリームを受信し、時間ドメインから周波数ドメインへと、デジタルストリーム414、416のそれぞれ内の情報を逐次的に変換し、順電圧ストリームおよび反射電圧ストリームの両方のための同相情報および直角位相情報の両方を提供する。
要求されないが、変換部分410は、いくつかの実施形態では、フーリエ変換が、ある時間にある周波数において、逐次的に実施されるように、第1の瞬間では、ある周波数において、フーリエ変換(例えば、単一周波数フーリエ係数計算)を実施し、次いで、後続のある瞬間では、別の周波数において、フーリエ変換を実施するようにプログラムされたフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)によって実現される。有益なことに、本アプローチは、従来の解決策において行なわれるような周波数範囲(例えば、400KHz〜60MHz)全体にわたって、フーリエ変換を行なうより高速かつ正確である。
図4に描写された実施形態では、デジタルRF信号の逐次的変換が行なわれる、特定の周波数f1−Nは、変換部分410によってアクセス可能であるテーブル418内に記憶される。本実施形態の変形例では、ユーザは、(例えば、マン・マシン・インターフェース114または他の入力手段を使用して)特定の周波数f1−Nを入れることが可能である。入れられた特定の周波数f1−Nは、例えば、周波数が、1つ以上のプラズマパラメータに影響を及ぼすため、着目周波数であり得る。実施例として、2つの周波数が、(例えば、2つの電力発生器を利用して)プラズマチャンバ104に印加される場合、8つの着目周波数が、存在し得る。すなわち、2つの基本周波数、その周波数のそれぞれの二次高調波および三次高調波、ならびに2つの周波数の2つの相互変調積である。
いくつかの実施形態では、デジタルストリーム414、416のそれぞれの256個のサンプルが、フーリエ変換を発生させるために使用され、多くの実施形態では、デジタルストリーム414、416のデータレートは、64メガビット/秒である。しかしながら、サンプルの数は、(例えば、精度を改善するために)増加または(例えば、ストリーム内の情報が変換される速度を増加させるために)減少されてもよいことが想定される。有益なことに、変換部分410の多くの実装では、デジタルストリーム414、416は、変換が、特定の周波数(例えば、周波数f1−N)のそれぞれにおいて、迅速(例えば、マイクロ秒毎)に実施されるように、継続的データストリームである(例えば、データのバッファが存在しない)。
図4に描写された実施形態に示されるように、変換部分410は、デジタル順電圧および反射電圧ストリーム414、416のそれぞれに対して、2つの出力(例えば、同相情報(I)および直角位相情報(Q))を提供し、4つの値はそれぞれ、次いで、補正部分412によって補正される。図4に描写されたように、いくつかの実施形態では、補正行列420が、変換部分410からの変換された情報を補正するために使用される。例えば、変換部分410によって提供された4つの値はそれぞれ、メモリ(例えば、不揮発性メモリ)内に記憶された補正行列によって乗算される。
多くの実施形態では、行列420は、既知の信号が測定され、補正係数が、センサ内の不正確性を補正するために生成される、較正プロセスの結果である。一実施形態では、メモリは、125メガヘルツのそれぞれに対して、1つの行列を含み、行列はそれぞれ、2×4行列である。代替実施形態では、別個の行列が、インピーダンスおよび電力のそれぞれのために使用される。したがって、250個の2×4行列が、いくつかの実施形態では、使用される。
示されるように、補正部分412による補正後、順電圧および反射電圧の補正された同相表現および直角位相表現を表す、4つの出力が、出力として提供される。
いくつかの実施形態では、(例えば、正弦関数および余弦関数の)ルックアップテーブルが、変換部分410においてフーリエ変換を実施するために使用される。フーリエ変換は、本方法論を使用して、比較的に迅速に実施され得るが、比較的に高精度が要求されるとき、記憶されたデータ量は、手に負えない場合がある。
他の実施形態では、直接デジタル合成(DDS)が、データの変換と併せて使用される。例えば、図6を参照すると、図6は、図4に描写された変換部分410の例示的実施形態を描写する、ブロック図である。図6を参照しながら、サンプリングされたRFデータの変換を行うための例示的方法を描写する流れ図である、図7を同時に参照する。示されるように、図6に例示的に描写された実施形態では、特定の周波数が、選択され(例えば、図4を参照して説明された特定の周波数f1−Nのうちの1つ)(ブロック700、702)、直接デジタル合成部分602が、周波数に対して、正弦波関数を合成する(ブロック704)。図6に描写された実施形態では、例えば、正弦関数および余弦関数の両方が、合成される。
示されるように、RF電力パラメータを示すサンプルが、取得される(ブロック706)。図6に例示的に描写された実施形態では、順電圧および反射電圧の両方のデジタルサンプル614、616が、取得されるが、他の実施形態では、他のパラメータが、取得される(例えば、電圧および電流)。図7に示されるように、各選択された周波数に対して、選択された周波数における正弦波関数の積とRFデータの複数のサンプルが、生成される(ブロック708)。例えば、図6に描写された実施形態では、窓関数604が、(例えば、A/Dコンバータから取得された)デジタルRFサンプル614、616に実施された後、DDS602によって生成された正弦関数および余弦関数は、単一周波数フーリエ係数計算(SFFC)部分606における乗算器によって、各サンプルと乗算される。
示されるように、正弦波関数およびサンプルの積は、(例えば、SFFC606内の累算器によって)フィルタリングされ(ブロック710)、所望の数のデジタルRFサンプルが、利用されると(ブロック712)、フィルタリングされた積の正規化された値が、提供される(ブロック715)。いくつかの実施形態では、64個のサンプルが、利用され、他の実施形態では、256個が、利用されるが、これは、確かに要求されるものではなく、当業者は、サンプルの数が、フィルタの所望の帯域幅および応答に基づいて、選択されてもよいことを認識するであろう。さらに他の実施形態では、他の数のデジタルRFサンプルが、特定の周波数において、パラメータ(例えば、順電圧または反電圧)の値を取得するために利用される。
図7に示されるように、各特定の周波数(例えば、テーブル718内のN個の周波数のそれぞれ)に対して、ブロック702−714は、サンプリングされたRFデータの変換が、各着目周波数に対して逐次的に実施されるように実施される。一実施形態では、DDS602、窓関数604およびSFFCC606の部分は、FPGAによって実現される。しかしながら、これは、確かに要求されるものではなく、他の実施形態では、DDS部分602は、専用チップ(または、例えば、特定用途向け集積回路(ASIC))によって実現されてもよく、窓関数604およびSFFCC606部分は、(例えば、FPGAまたはASICによって)別個に実装される。
本開示の第2の部分は、電力発生器102が、任意の所与の時間において動作している周波数を(例えば、継続的に、自動的に、および自律的に)決定するための方法を対象とする。
次に、図8を参照すると、示されるのは、電力発生器102が動作している周波数を決定するために実装され得る処理部分の例示的実施形態である。図8における構成要素の描写は、論理的(例えば、機能的)であり、したがって、実際のハードウェア略図であることを意図するものではない。構成要素は、実際の実装では、組み合わせられるか、分配されるか、またはさらに分けられてもよい。さらに、図8に描写された機能は、ハードウェア(例えば、ASICまたはFPGA)、ファームウェア(例えば、マイクロコントローラまたはデジタル信号プロセッサの内蔵メモリ内で動作する)、またはソフトウェア(例えば、図1に描写されたように、分析部分108内で動作する)内に実装されてもよい。
図8を参照しながら、電力発生器102が任意の所与の時間で動作している周波数を決定するための例示的方法を描写する流れ図900である、図9を同時に参照する。しかしながら、図9に描写された方法は、図8に描写された特定の実施形態に限定されないことを認識されたい。
図8および9に示されるように、電力発生器102によって発生する電力信号(多くの場合、RF電力信号)は、電力発生器102の動作周波数を示す情報を含む、電力信号の一組のサンプル802を取得するためにサンプリングされる。システム100は、特定の用途およびシステム100内で使用される材料に基づいた、既知の範囲の動作周波数を有するため、特定の動作モードに関連する、既知の所定の最小および最大周波数が存在する。これらの最小および最大周波数は、着目周波数範囲を定義する。アルゴリズムは、周波数の関連範囲を採取し、検出の目的のために、その範囲をセグメントに分割する(ブロック902)。
次に、バッファ804は、処理に備えて、サンプル802を記憶する(ブロック904)。バッファ804は、データが十分に利用可能であることに関するステータス814を提供し、制御信号812を離散フーリエ変換(DFT)シーケンサ806から受信するように構成され、制御信号812は、デジタルシーケンサ806が、新しいデータをバッファ804内に受け入れる準備ができていないときを示す。
DFTシーケンサ806は、変換(DFT)のシーケンスをサンプル802に行い、最高レベルの電力が信号内に含まれる周波数を決定する。その周波数は、電力発生器102が動作している周波数と見なされる(ブロック906、908)。一実施形態では、変換のシーケンスは、最小間隔と最大間隔との間の均一間隔において、周波数を検出するために選択されることができる。別の実施形態では、シーケンスは、粗い間隔で開始し、最高電力を有する周波数範囲が狭められるにつれて、より微細な間隔で進められる。
決定された動作周波数は、DFTシーケンサの結果が、変換が行なわれる周波数に依存するため、実際の動作周波数ではない場合がある。故に、フィルタリング構成要素808が、結果に及ぼす誤差および雑音の影響を低減させるために使用される。一実施形態では、フィルタ構成要素808は、現在の動作周波数と検出された動作周波数との間において、ステップの一部を行ない、開示される技術の部分が、反復的に動作するにつれて、周波数から周波数への遷移を平滑化する(ブロック910)。別の実施形態では、フィルタ808は、単に、最高電力成分を有する2つの隣接するサンプル点に対応する周波数間の中点をとる。フィルタ808は、電力発生器102の実際の動作周波数により近い結果810を送達し、雑音を除く。
示されるように、フィルタリングされた結果810は、次いで、整合ネットワーク106に伝送され、整合ネットワーク106によって使用され、システム100の特性を正確に決定するのに役立つ(ブロック912)。特に、結果810は、電力発生器102の動作周波数が、正確な測定を行なうために、既知でなければならないため、整合ネットワーク内の電圧、電流、および位相の正確な測定を行なうために使用される。
完了すると、プロセスは、システムを更新するために繰り返される(ブロック914)。好ましくは、図9に描写されたプロセスは、プロセスの1サイクルを完了するための時間が、実質的に、プラズマチャンバ104および電力発生器102が、それぞれ、特性および動作周波数を変化させるためにかかる時間より高速であるように実装される。したがって、ハードウェア内(例えば、FPGAまたはASIC内)の実装は、そのような実装が、他の手段の実装より比較的に高速であるため、有利である。
本開示の第3の部分は、電力発生器102が、パルス発生モードで動作しているとき、電力発生器102が動作している周波数を(例えば、継続的に、自動的に、および自律的に)決定するための方法を対象とする。
次に、図10を参照すると、示されるのは、電力発生器102が、パルス発生モードで動作しているとき、電力発生器102が動作している周波数を決定するために実装され得る処理部分1000の例示的実施形態である。図10における構成要素の描写は、論理的であり、したがって、実際のハードウェア略図であることが意図されるものではない。構成要素は、実際の実装では、組み合わせられるか、分配されるか、またはさらに分けられてもよい。さらに、図10に描写された機能は、ハードウェア(例えば、ASICまたはFPGA)、ファームウェア(例えば、マイクロコントローラまたはデジタル信号プロセッサ内の内蔵メモリ内で動作する)、またはソフトウェア(例えば、図1に描写されたような分析部分108内で動作する)内に実装されてもよい。
図10を参照しながら、電力発生器102が、また、パルス発生モードで動作しているとき、電力発生器102が、任意の所与の時間において動作している周波数を決定するための例示的方法を描写する流れ図1100である、図11を同時に参照する。しかしながら、図11に描写された方法は、図10に描写された特定の実施形態に限定されないことを認識されたい。
図10および11に示されるように、電力発生器102によって発生する電力信号(多くの場合、RF電力信号)は、電力検出器1014およびバッファ1004に伝送される。電力検出器1014は、電力信号が、電力をプラズマチャンバ104に送達しているかどうかを検出する。電力検出器1014は、本明細書に説明されるように具現化されてもよく(本開示の第1の部分に関して、電力発生器102が、電力信号をプラズマチャンバ104に送達しているかどうか、または電力発生器102が、電力信号をプラズマチャンバ104に送達していないかどうかを決定するための方法を対象とする)、または基本的感知能力(例えば、その入力において、電力信号を検出すると、制御信号を送信するように構成された単純回路の実装)を含む、他の手段を通して実装されてもよい。電力が検出されると、電力検出器1014は、その制御(または、ラッチ)信号をバッファ1004に送信し、バッファ1004が、データの記憶を開始(および、停止)すべきであるときを示す。
次に、電力発生器102によって発生する電力信号(周波数情報およびRF電力情報を含む)が、電力発生器102の動作周波数を示す情報を含む電力信号の一組のサンプルを取得するためにサンプリングされる。システム100は、特定の用途およびシステム100内で使用される材料に基づく、既知の範囲の動作周波数を有するため、具体的動作モードに関連する、既知の所定の最小および最大周波数が存在する。これらの最小および最大周波数は、着目周波数範囲を定義する。多くの実装では、周波数の関連範囲は、検出の目的のために、セグメントに分割される(ブロック1104)。
次に、バッファ1004は、処理に備えて、サンプルを記憶する(ブロック1106)。バッファ1004は、制御信号1018を電力検出器1014から受信するように構成される。電力検出器1014は、データが十分に利用可能であることに関するステータス1016を提供し、制御信号1012を離散フーリエ変換(DFT)シーケンサ1006から受信する。制御信号1012は、DFTシーケンサ1006が、次の一組のサンプルをバッファ1004から受信する準備ができていることを示す。
DFTシーケンサ1006は、変換(DFT)のシーケンスをサンプル1002に行い、最高レベルの電力が信号内に含まれる周波数を決定する。その周波数は、電力発生器102が動作している周波数であると見なされる(ブロック1108、1110)。一実施形態では、変換のシーケンスは、最小間隔と最大間隔との間の均一間隔において、周波数を検出するように選択されることができる。別の実施形態では、シーケンスは、粗間隔で開始し、最高電力を有する周波数範囲が狭められるにつれて、より微細な間隔で進められる。
決定された動作周波数は、DFTシーケンサ1006からの結果が、変換が行なわれる周波数に依存するため、実際の動作周波数ではない場合がある。故に、フィルタリング構成要素1008が、結果に及ぼす誤差および雑音の影響を低減させるために使用される。一実施形態では、フィルタ構成要素1008は、現在の動作周波数と検出された動作周波数との間において、ステップの一部を行ない、開示される技術の部分が、反復的に動作するにつれて、周波数から周波数への遷移を平滑化する(ブロック1112)。別の実施形態では、フィルタ1008は、単に、最高電力成分を有する2つの隣接するサンプル点に対応する周波数間の中点をとる。フィルタ1008は、電力発生器102の実際の動作周波数により近い結果1010を送達し、雑音を除く(ブロック1112)。
最後に、フィルタリングされた結果1010は、整合ネットワーク106に伝送され、整合ネットワーク106によって使用され、プラズマ処理システム100の特性を正確に決定するのに役立つ(ブロック1114)。特に、結果1010は、電力発生器102の動作周波数が、正確な測定を行なうために、既知でなければならないため、整合ネットワーク内の電圧、電流、および位相の正確な測定を行なうために使用される。
完了すると、プロセスは、システムを更新するために繰り返される(ブロック1116)。好ましくは、図11に描写されたプロセスは、プロセスの1サイクルを完了するための時間が、実質的に、プラズマチャンバ104および電力発生器102が、それぞれ、特性および動作周波数を変化させるためにかかる時間より高速であるように実装される。したがって、ハードウェア内(例えば、FPGAまたはASIC内)の実装は、そのような実装が、他の手段の実装より比較的に高速であるため、有利である。
結論として、本開示の技術は、とりわけ、電力発生器が、パルス発生モードで動作しているとき、電力発生器が、可変周波数モードで動作しているとき、および電力発生器が、パルス発生モードおよび可変周波数モードの両方で並行して動作しているとき、プラズマ処理チャンバに印加される電力の電気特性を測定するための方法および装置を提供する。当業者は、多数の変形例および代用が、開示された技術、その使用、および構成において行なわれ、本明細書に説明される実施形態によって達成されるものと実質的に同一の結果を達成してもよいことを容易に認識し得る。故に、本技術を本明細書に開示された例示的形態に限定する意図はない。多くの変形例、修正、および代替構造が、特許請求の範囲に表されるように、開示された技術の範囲および精神内にある。加えて、特定の構造および動作の詳細が、本明細書に図示および説明されるが、それらは、単に、例証の目的のために開示され、変更および修正が、本明細書に開示された新規技術の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によって容易に行なわれ得ることは、明らかに理解される。
Claims (17)
- プラズマ処理チャンバに印加されている電力の特性を測定するためのシステムであって、
電力信号を発生させるように構成された電力発生器であって、前記電力発生器は、パルス発生モードで動作するように構成可能であり、可変周波数モードで動作するように構成可能であり、かつパルス発生モードおよび可変周波数モードの両方で並行して動作するように構成可能である、電力発生器と、
前記電力発生器に結合されたプラズマ処理チャンバと、
前記電力発生器に結合され、かつ前記プラズマ処理チャンバに結合された整合ネットワークであって、前記整合ネットワークは、前記プラズマ処理チャンバの特性の変化に応答して、そのインピーダンスを調節するように構成可能である、整合ネットワークと、
前記電力発生器に結合され、かつ前記整合ネットワークに結合されたパルス状態検出器と、
前記電力発生器に結合され、かつ前記整合ネットワークに結合された周波数検出器と
を備える、システム。 - 前記パルス状態検出器は、
前記電力発生器がパルス発生モードで動作しているとき、前記電力発生器の状態を検出するように構成された電力信号振幅検出器と、
前記振幅検出器によって検出された電力信号振幅の一部を廃棄するように構成されたフィルタであって、廃棄される部分は、交絡事象によって影響を受け得る、フィルタと
を備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記交絡事象は、雑音、あるパルス発生状態から別のパルス発生状態への遷移の間の干渉、および遅延を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記パルス状態検出器は、
前記電力発生器がパルス発生モードで動作しているとき、前記電力発生器の状態を検出するように構成された電力検出器と、
振幅検出器によって検出された電力信号振幅の一部を廃棄するように構成されたフィルタであって、廃棄される部分は、交絡事象によって影響を受け得る、フィルタと
を備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記交絡事象は、雑音、あるパルス発生状態から別のパルス発生状態への遷移の間の干渉、および遅延を含む、請求項4に記載のシステム。
- 前記周波数検出器は、
前記電力発生器に結合されたバッファであって、前記バッファは、電力信号を受信するように構成され、所定の期間の間、前記受信された電力信号を記憶するように構成されている、バッファと、
前記バッファに結合された周波数成分シーケンサであって、前記周波数成分シーケンサは、前記周波数成分シーケンサが、前記周波数成分シーケンサが前記記憶された電力信号の受信および処理の準備ができたことを示す制御信号を前記バッファに送達すると、前記記憶された電力信号を前記バッファから受信するように構成されている、周波数成分シーケンサと、
前記周波数成分シーケンサに結合されたフィルタであって、前記フィルタは、周波数検出誤差の影響を低減させるように構成されている、フィルタと
を備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記電力発生器と前記バッファとの間に結合されたデジタルサンプラをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記周波数成分シーケンサは、離散フーリエ変換プロセッサを備える、請求項7に記載のシステム。
- 電力発生器によって発生した電力信号の特性を自律的に測定するための方法であって、前記電力信号は、プラズマ処理チャンバに印加され、前記方法は、
前記電力発生器の動作のパルスオン状態に対応する、電力信号が前記プラズマチャンバに送達されているときを検出することと、
前記送達された電力信号の主要動作周波数を識別することと、
前記電力発生器および前記プラズマチャンバの複数の特性を決定することと、
前記電力発生器および前記プラズマチャンバの前記決定された複数の特性に応答して、整合ネットワークを調節することと
を含む、方法。 - 前記送達された電力信号の前記識別された主要動作周波数をフィルタリングし、雑音およびサンプリング誤差を考慮することをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- 前記電力発生器の動作のパルスオン状態に対応する、電力信号が前記プラズマチャンバに送達されているときを検出することは、
前記送達された電力信号の振幅を測定することと、
前記測定された振幅が、所定の閾値を上回るか、下回るかを決定することと、
前記測定された信号が、パルスオン状態とパルスオフ状態との間の遷移近傍にあるかどうかを決定することと、
測定値が、遷移状態近傍にあると決定される場合、前記測定値を廃棄し、状態変化を宣言すること、または前記測定値が、遷移状態近傍にないと決定される場合、前記電力信号の正確な指標として、前記測定値を使用することと
を含む、請求項9に記載の方法。 - 前記測定された信号が、パルスオン状態とパルスオフ状態との間の遷移近傍にあるかどうかを決定することは、現在の測定値ならびに所定の数または構成可能な数の以前の測定値および所定の数または構成可能な数の後続測定値を比較することを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記電力信号のサンプルを取得することと、
測定値群のそれぞれが複数の個々のサンプルを含むように、前記サンプルを複数の測定値群に群化することと、
前記パルスオン状態の検出の後の1つ以上の測定値群を廃棄することと、
廃棄されていない前記測定値群を使用して、前記パルスオン状態の間、前記電力信号の特性を測定することと
を含む、請求項9に記載の方法。 - 前記廃棄された測定値群の数量は、前記電力信号の事前の知識に基づいて、前もってプログラムされている、請求項13に記載の方法。
- 前記廃棄された測定値群の数量は、前記測定値群のうちの特定の群が、計算された分散の範囲外にあるかどうかに基づいて、動的に決定される、請求項13に記載の方法。
- 前記送達された電力信号の主要動作周波数を識別することは、
前記送達された電力信号の複数のサンプルを収集および記憶することと、
所定の周波数範囲内の種々の周波数成分に対して、前記送達された電力信号の前記収集および記憶されたサンプルを処理することと、
前記サンプリングされた電力信号内に最高レベルの電力が存在する周波数成分を識別することと、
前記結果をフィルタリングし、雑音およびサンプリング誤差を考慮することと
を含む、請求項9に記載の方法。 - 電力発生器がパルス発生モードで動作しているとき、前記電力発生器が動作している周波数を決定するための方法であって、
前記電力発生器の動作のパルスオン状態に対応する、電力信号が前記プラズマチャンバに送達されているときを検出することであって、前記検出することは、
前記送達された電力信号の振幅を測定することと、
前記測定された振幅が、所定の閾値を上回るか、下回るかを決定することと、
前記測定された信号が、パルスオン状態とパルスオフ状態との間の遷移近傍にあるかどうかを決定することと、
測定値が、遷移状態近傍にあると決定される場合、前記測定値を廃棄し、状態変化を宣言することと、
前記測定値が、遷移状態近傍にないと決定される場合、前記電力信号の正確な指標として、前記測定値を使用することと
を含む、ことと、
前記送達された電力信号の主要動作周波数を識別することであって、前記識別することは、
前記送達された電力信号の複数のサンプルを収集および記憶することと、
所定の周波数範囲内の種々の周波数成分に対して、前記送達された電力信号の前記収集されたおよび記憶されたサンプルを処理することと、
前記サンプリングされた電力信号内に最高レベルの電力が存在する周波数成分を識別することと、
前記結果をフィルタリングし、雑音およびサンプリング誤差を考慮することと
を含む、ことと、
前記電力発生器および前記プラズマチャンバの複数の特性を決定することと、
前記電力発生器および前記プラズマチャンバの前記決定された複数の特性に応答して、整合ネットワークを調節することと
を含む、方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018074236A1 (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
JP2018067417A (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9320126B2 (en) * | 2012-12-17 | 2016-04-19 | Lam Research Corporation | Determining a value of a variable on an RF transmission model |
US9210790B2 (en) * | 2012-08-28 | 2015-12-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Systems and methods for calibrating a switched mode ion energy distribution system |
DE102014212439A1 (de) * | 2014-06-27 | 2015-12-31 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zum Betrieb eines Leistungsgenerators und Leistungsgenerator |
EP3029711B1 (en) * | 2014-12-03 | 2019-10-16 | Comet AG | Frequency tuning of a RF-generator within a plasma process |
KR102459432B1 (ko) * | 2015-06-16 | 2022-10-27 | 삼성전자주식회사 | 기판 제조 설비 및 그의 관리 방법 |
JP7289313B2 (ja) | 2017-11-17 | 2023-06-09 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | プラズマ処理のためのイオンバイアス電圧の空間的および時間的制御 |
JP7451540B2 (ja) * | 2019-01-22 | 2024-03-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ |
US11961712B2 (en) * | 2021-04-26 | 2024-04-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Combining the determination of single and mutual, preset preserving, impedance loads with advances in single and double sensor calibration techniques in the application of single and pairwise calibration of sensors |
US11942309B2 (en) | 2022-01-26 | 2024-03-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply with resonant switching |
US11670487B1 (en) | 2022-01-26 | 2023-06-06 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply control and data processing |
US20230336322A1 (en) * | 2022-04-18 | 2023-10-19 | Advanced Energy Industries, Inc. | Multi-level pulsing system |
US11978613B2 (en) | 2022-09-01 | 2024-05-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | Transition control in a bias supply |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5576629A (en) * | 1994-10-24 | 1996-11-19 | Fourth State Technology, Inc. | Plasma monitoring and control method and system |
US6472822B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pulsed RF power delivery for plasma processing |
US8192576B2 (en) * | 2006-09-20 | 2012-06-05 | Lam Research Corporation | Methods of and apparatus for measuring and controlling wafer potential in pulsed RF bias processing |
US8098185B2 (en) * | 2006-11-13 | 2012-01-17 | Battelle Memorial Institute | Millimeter and sub-millimeter wave portal |
WO2008065635A2 (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Dublin City University | A plasma system and measurement method |
GB2449151B (en) * | 2007-05-11 | 2009-07-01 | Sky Ind Inc | A method and device for estimation of the transmission characteristics of a radio frequency system |
US7822565B2 (en) * | 2007-12-31 | 2010-10-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for monitoring characteristics of RF power |
US7839223B2 (en) * | 2008-03-23 | 2010-11-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for advanced frequency tuning |
JP5319150B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
US20090308734A1 (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-17 | Schneider Automation Inc. | Apparatus and Method for Wafer Level Arc Detection |
DE102008037085B3 (de) * | 2008-08-08 | 2009-08-06 | Alstom Technology Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Dampferzeuger-Rohrwänden bestehend aus überwiegend 9-12% chromhaltigen, martensitischen Stählen |
US8659335B2 (en) * | 2009-06-25 | 2014-02-25 | Mks Instruments, Inc. | Method and system for controlling radio frequency power |
DE112012002442B4 (de) * | 2011-06-13 | 2018-12-27 | New York University | Magnetisches Speichersystem und Verfahren in verschiedenen Betriebsmodi |
-
2011
- 2011-06-30 US US13/173,355 patent/US20130006555A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-06-21 WO PCT/US2012/043622 patent/WO2013003205A1/en active Application Filing
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018074236A1 (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
JP2018067417A (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
WO2018074239A1 (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
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