JP2014506300A - メッキ方法及び亜鉛メッキ工程 - Google Patents

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Abstract

本発明は、レーザーとプラズマのうち一つ以上をAHSSの表面に照射してAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するか又は表面を改質することにより亜鉛メッキのような後処理工程を可能にする高強度鋼の表面処理方法及び表面処理装置を提供することを目的とし、これを達成するために、高強度鋼を加熱する加熱段階と、上記加熱段階で形成された上記高強度鋼の表面に形成されたMn系酸化物、Al系酸化物及びSi系酸化物のうち一つ以上を除去するように鋼板の表面にプラズマを照射する表面処理段階と、上記表面処理された高強度鋼をメッキするメッキ段階と、を含むメッキ方法を提供する。

Description

本発明は、鋼板のメッキ方法及びこれを用いた亜鉛メッキ工程に関し、より詳細には、高強度鋼の焼鈍中に表面に形成されるMn系酸化物、Al系酸化物、Si系酸化物のうち一つ以上をプラズマ又はプラズマとレーザーにより除去するメッキ方法及びこれを用いた亜鉛メッキ工程に関する。
最近、TWIP鋼(TWinning Induced Plasticity Steel)やTRIP鋼(TRransformation Induced Plasticity Steel)等の引張強度490MPa以上の高強度鋼(AHSS:Advanced High Strength Steel)が開発された。
しかしながら、このようなAHSSは、焼鈍熱処理時に高強度鋼に含まれているSi/Mn/Alが鋼板の表面に拡散されて数十〜数百nm水準のSi/Mn/Al系酸化物を形成するようになる。このようなSi/Mn/Al系酸化物は、溶融亜鉛メッキ時に溶融亜鉛の付着を防ぐため、未メッキの原因となる。
図1、2に示されたTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルからは、TWIP鋼の表面に、亜鉛がTWIP鋼に付着されることを防ぐMn系酸化物とAl系酸化物が存在することが確認できる。
一方、図3、4にはTRIP鋼の表面分析及び深さプロファイルが示されており、TRIP鋼の表面にSi系酸化物とMn系酸化物が存在することが確認できる。このようなSi系及びMn系酸化物によって、TWIP鋼と同様に、TRIP鋼の亜鉛メッキも困難である。
亜鉛メッキは、鋼材の電気化学的保護作用をする。したがって、亜鉛メッキが施されない場合、耐食性が低くなり外部フレーム用に適さなくなるため、高剛性・高強度鋼であるTWIP鋼やTRIP鋼を外部フレームに用いることができないという問題がある。
よって、AHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するための技術開発が求められている。これに関し、多様な方式でAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去したりSi/Mn/Al系酸化物の生成を防ぐための多様な試みが行われたが、未だ何の成果も出ていない。
特に、Si/Mn/Al酸化被膜は高強度鋼の表面に島状又は網状に配置されており結合力が強いため、これを除去するのは困難である。
本発明の目的は、レーザーとプラズマのうち一つ以上をAHSSの表面に照射してAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するか又は表面を改質することにより亜鉛メッキのような後処理工程を可能にする高強度鋼のメッキ方法及びメッキ装置を提供することである。
本発明の他の目的は、短時間で効果的にAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するか又は表面を改質することによりメッキ連続工程に適用されることができる高強度鋼のメッキ方法を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、焼鈍後の連続工程でメッキが可能であるメッキ方法及びメッキ工程を提供することである。
本発明は、上記のような課題を達成するために、下記のようなメッキ方法及び亜鉛メッキ工程を提供する。
本発明の一実施形態によれば、高強度鋼を加熱する加熱段階と、上記加熱段階で形成された上記高強度鋼の表面に形成されたMn系酸化物、Al系酸化物及びSi系酸化物のうち一つ以上を除去するようにプラズマを照射する表面処理段階と、上記表面処理された高強度鋼をメッキするメッキ段階と、を含むメッキ方法を提供する。
この際、上記表面処理段階において、上記プラズマを高強度鋼の表面に200〜900℃の温度で照射することができる。
また、上記表面処理段階において、上記プラズマを200〜800℃の窒素雰囲気で照射し、上記雰囲気ガスをプラズマのフィーディングガスとして供給することができる。
また、上記表面処理段階において、上記高強度鋼を陰極に帯電させた後、上記プラズマと共にプラズマアークを上記高強度鋼の表面に照射することができる。
さらに、上記表面処理段階は、外部と遮断されたチャンバーで行われ、上記プラズマの照射距離を増大させるように上記チャンバーの内部のガスを吸入してチャンバーの内部の圧力を低くした後にプラズマを照射することができる。
また、上記表面処理段階は、プラズマを照射すると共に上記酸化被膜を除去するように上記高強度鋼に1064nm以下の波長を有するCWレーザーを照射することができる。
この際、上記レーザーは、1mm以下のスポットサイズを有するレーザー又は1mm以下の幅を有するレーザービームであることができる。
また、上記表面処理段階は、上記レーザーを上記プラズマと同一の地点に照射することができる。
本発明は、上述したメッキ方法で亜鉛メッキされたTWIP又はTRIP鋼を提供する。
本発明の他の実施形態によれば、焼鈍設備と、焼鈍中に鋼板の表面に生成されたMn系酸化物、Al系酸化物及びSi系酸化物のうち一つ以上を除去するように焼鈍設備の後方に設置され内部に200〜800℃の窒素雰囲気が形成された雰囲気チャンバーと上記酸化被膜を除去しプラズマを鋼板に照射するように上記雰囲気チャンバーの内部に配置されたプラズマ発生装置とを含む表面処理設備と、上記表面処理設備を通過した鋼板を亜鉛メッキするメッキ設備と、を含む亜鉛メッキ工程を提供する。
また、上記雰囲気チャンバーには雰囲気ガス吸入部が備えられ、上記プラズマ発生装置のフィーディングガスとして上記雰囲気ガスを用いるように上記雰囲気ガス吸入部は上記プラズマ発生装置のフィーディングガス供給部と連結されることができる。
また、上記鋼板の出入りを許容し且つ上記雰囲気チャンバーを密封する遮断部を含み、上記雰囲気チャンバーには雰囲気ガス吸入部、雰囲気ガスを供給する連通口及び内部圧力を測定する圧力センサーが備えられ、雰囲気チャンバーの内部圧力を大気圧より低く維持させることができる。
さらに、上記遮断部はシーリングロールを含み、上記シーリングロールとシーリングロールの回転軸は導電性材質で形成され、上記回転軸が陰極に接地されて上記雰囲気チャンバーの内部を通過する鋼板を陰極に接地し、上記プラズマ発生装置はプラズマと共にプラズマアークを照射するように鋼板から離隔されることができる。
また、上記プラズマ発生装置の前方又は後方に位置し上記鋼板の表面にレーザーを照射するレーザー発生装置をさらに含み、上記レーザー発生装置は1064nm以下の波長を有するCWレーザービーム照射装置であることができる。
また、上記表面処理設備は、上記焼鈍設備と上記メッキ設備の間のスナウトの内部に配置されることができる。
本発明は、レーザーとプラズマのうち一つ以上をAHSSの表面に照射してAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するか又は表面を改質することにより亜鉛メッキのような後処理工程を可能にする高強度鋼のメッキ方法及びメッキ装置を提供する。
また、本発明は、短時間で効果的にAHSSの表面のSi/Mn/Al系酸化物を除去するか又は表面を改質することによりメッキ連続工程に適用されることができる高強度鋼のメッキ方法を提供する。
また、本発明は、焼鈍後の連続工程でメッキが可能であるメッキ方法及びメッキ工程を提供する。
TWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 TWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 TRIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 TRIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 プラズマ照射装置で高強度鋼の酸化被膜を除去する表面処理装置の一例を示した図である。 350W大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて1秒間プラズマを照射したときのTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 350W大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて1秒間プラズマを照射したときのTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 350W大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて20秒間プラズマを照射したときのTWIP鋼の深さプロファイルを示したグラフである。 プラズマとアークを共に照射するプラズマ発生装置の一例を示した図である。 プラズマとアークを共に照射するプラズマ発生装置の一例を示した図である。 大気圧プラズマ照射装置でプラズマとアークを共に照射したときのTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 大気圧プラズマ照射装置でプラズマとアークを共に照射したときのTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 大気圧プラズマ照射装置でプラズマとアークを共に照射したときのTRIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 大気圧プラズマ照射装置でプラズマとアークを共に照射したときのTRIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 レーザー照射装置で高強度鋼の酸化被膜を除去する表面処理装置の概略図である。 25WのCWレーザーでTWIP鋼の表面を照射した後のTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 25WのCWレーザーでTWIP鋼の表面を照射した後のTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。 空気雰囲気でパルスレーザーを照射したときの表面写真である。 窒素雰囲気でパルスレーザーを照射したときの表面写真である。 従来の亜鉛メッキ工程の概略図である。 本発明による亜鉛メッキ工程の概略図である。 本発明による亜鉛メッキ工程におけるシーリングロールの部分断面図である。
従来、レーザーを用いて鋼板の表面のFe酸化物層を除去する技術が提示されていた。しかしながら、鋼板の表面のFe酸化物層とは異なり、焼鈍過程で高強度鋼の表面に発生する酸化層は、数十〜数百nm程度の薄い層で島状(TWIP鋼)や網状(TRIP)に形成される。また、Si/Mn/Al系酸化物は、Fe酸化物層より結合力が10倍以上であるため、酸化物を除去するのに新たな方式が必要である。
よって、プラズマ、レーザー又はプラズマとレーザーを共に用いてSi/Mn/Al系酸化物を除去する方法を発明した。以下では、添付の図面及び分析資料を参照して本発明について詳細に説明する。
本発明において、Si/Mn/Al系酸化物、酸化被膜、酸化物層は、Si系酸化物、Mn系酸化物、Al系酸化物のうち一つ以上を含む酸化物、酸化被膜、酸化物層を意味する。
プラズマを用いたSi/Mn/Al系酸化物の除去
図5には、本発明で用いた表面処理装置が示されている。プラズマ発生器20は支持部25の母材Sの上方に配置され、プラズマ発生器20からのプラズマPが母材の表面に照射されるように構成した。
プラズマ発生器20からの距離lが遠くなるほど、プラズマPの温度は下がり、プラズマPの温度が下がると、プラズマPから母材Sに提供されるエネルギーが減少する。本発明では、このような点を利用してプラズマ発生器20と母材Sとの距離lを異ならせて同一の出力(350W)のプラズマ発生器20からプラズマPを照射し、その照射結果を下記表1に示した。この際、母材SとしてはTWIP鋼を用いた。
Figure 2014506300
上記表1において、プラズマ照射後のメッキ品質の改善の有無は、プラズマ照射前と対比して、プラズマを照射した試片を亜鉛メッキしたときに亜鉛メッキ品質が改善されたか否かを意味し、「○」は顕著に改善されたことを、「△」はわずかに改善されたことを、「×」は改善されなかったことを意味する。
表1からは、同一の出力のプラズマを照射しても、プラズマPと母材Sとの距離lが近ければプラズマPが照射された後にメッキ性が改善されたことが確認できた。
しかしながら、母材Sとの距離lが遠ければ、プラズマPが照射されてもメッキ性が改善されなかった。本実験で用いたプラズマ発生器20と母材Sとの距離が6mm以上のときにプラズマPの温度が200℃以下であるため、母材の表面におけるプラズマの温度が少なくとも200℃のときにプラズマPで母材のSi/Mn/Al系酸化物を除去することができることが分かる。
但し、プラズマの温度が900℃を超えると、プラズマによって母材が損傷されるため、母材の表面におけるプラズマの温度は900℃以下であることが好ましい。
図6、7は、350W大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて1秒間プラズマを照射したとき(上記表1の発明例2)のTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。照射前のTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイル(図1、2参照)と大きな差異はないが、表面におけるMn及びAl酸化物の量が減少したことが確認できる。
具体的には、図6を参照すると、図1よりもMn1とAl2の振幅が減少したが、Fe3の振幅が成長したため、大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて1秒間プラズマを照射したとき、Mn/Al系酸化物が減少し、その代わりにFeが表面に露出したことが確認できる。
また、深さプロファイルである図7と2を対比すると、大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて1秒間プラズマを照射したとき、スパッタ時間の初期(表面)のMn1とAl2の分率が減少したことから、母材の表面のMn/Al系酸化物が減少したことが分かる。即ち、Fe分率と比べてMn/Alの分率が相対的に減少したことから、母材の表面のMn/Al系酸化物が減少したことが分かる。
なお、本発明の表面分析及び深さプロファイルでは20μm×20μmの試片を分析した。深さプロファイルにおけるスパッタ率は0〜15分では1.5nm/分であり、15〜30分では4.5nm/分であり、本発明はすべての表面分析及び深さプロファイルにおいて同一である。
また、図8は、350W大気圧プラズマ照射装置で母材と3mmの距離をおいて20秒間プラズマを照射したとき(上記表1の発明例3)のTWIP鋼の深さプロファイルを示したグラフである。図8のグラフを参照すると、上記図7と比べてMn/Al系酸化物が減少したことが確認できる。
即ち、図8と図2を比較すると、Mn/Al系酸化物が減少したことが明確に分かる。図8から分かるように、表面におけるAl酸化物とMn酸化物が大きく減少した。これに対し、表面におけるFeの分率は大きく上昇した(図2の場合はFeが表面にほぼなく、図8の場合はFeが15%以上ある)。これは、プラズマの照射によって、Mn/Al系酸化物が蒸発して表面から除去されて内部のFeが露出したためである。
本発明では、プラズマ照射時に炭化を防ぐために、プラズマ発生器のフィーディングガスとして窒素ガスを用いた。また、別途の雰囲気を造成せず、大気雰囲気で実験を行った。
プラズマとプラズマアークを用いたSi/Mn/Al系酸化物の除去
本実験では、プラズマを生成する過程でノズルの周囲にプラズマアークが発生した。一般に、プラズマアークは、母材の表面に損傷を与え、プラズマノズルの周囲のみに生成されるため、プラズマ発生器に非常に隣接した場合のみにプラズマアークを照射することができ、通常、プラズマと共に用いられない。
高強度鋼の表面のSi/Mn/Al系酸化物は表面に島状又は網状に形成され、これは、酸化物層が母材の表面と比べて相対的に高い位置にあることを意味する。プラズマアークは稲妻のように高い位置に供給されるため、このような点を考慮してプラズマアークエネルギーをSi/Mn/Al系酸化物の除去に用いた。
また、実験したプラズマ発生装置(出力:350W)の場合、プラズマアークはプラズマノズルの周囲のみに生成されるため、母材を陰極接地させることにより、イオンを加速させてイオン衝撃効果を極大化させる上、プラズマアークを母材の表面に引き下げる。
図9にはプラズマを照射するための表面処理装置が示されており、図10にはプラズマと共にプラズマアークを照射するための表面処理装置が示されている。
図9から分かるように、プラズマアークAは、一般のプラズマ発生器20から、プラズマ照射距離と比べて短い距離l1で照射される。しかしながら、図10では、母材Sを陰極30に接地することにより、プラズマPが加速すると共に、プラズマアークが照射される距離l2が増大する。
この際、プラズマ発生器20のフィーディングガスとしては、母材の表面における酸化を防ぐために、窒素ガスを用いた。
図11、12は、350W大気圧プラズマ照射装置でプラズマとアークを共に10秒間照射したときのTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。
図11、12の結果を照射前のTWIP鋼の表面分析結果である図1、2と対比すると、10秒間照射することにより、Mnは約66%程度減少し、Alは約90%程度減少したことが確認できる。また、図12では、表面におけるMnとAlの原子分率が大幅減少し、Feの原子分率が増大したことが確認できる。
これは、上記プラズマのみを20秒間照射したときの結果と類似した水準であり、プラズマとプラズマアークを共に用いる場合に照射時間を大幅減少させることができることが分かる。これは、プラズマとプラズマアークを共に照射する場合、短時間の照射のみでも十分なSi/Mn/Al系酸化物の除去が可能であるため、連続工程中のストリップにプラズマとプラズマアークを共に照射する装置を設置して亜鉛メッキまで連続的に行われることができることを意味する。具体的な亜鉛メッキ工程については後述する。
図11、12と同様に、TRIPにプラズマと共にプラズマアークを照射した結果が図13、14に示されている。
図13、14の結果を照射前のTRIP鋼の表面分析結果である図3、4と対比すると、プラズマとプラズマアークを共に10秒間照射することにより、Si、Mnはグラフから確認できないほどに減少したことが確認できる。また、図14では、表面におけるMnとSiの原子分率が大幅減少し、Feの原子分率が増大したことが分かる。また、Feが表面に露出することにより、照射後のTRIP鋼のメッキ性が増大した。
母材を陰極に接地するために、母材を直接接地することも可能であるが、母材を支持する支持部を導電性部材で構成して支持部を接地する方式を用いるのがより好ましい。このように支持部が接地されることにより、母材の移動又は配置が自由になることができる。
レーザーを用いたSi/Mn/Al系酸化物の除去
本発明では、Si/Mn/Al系酸化物を除去するために、母材にレーザーを照射した。図15には、本発明によるレーザー照射装置を含む表面処理装置が示されている。
図15に示されているように、表面処理装置では、レーザー発生器10を支持部25の母材Sの上側に配置した後、母材の表面にレーザーを照射し、レーザー発生器10を移動しながら母材の表面の所定面積に対して一定の速度でレーザーLを照射した。レーザーが照射された後、照射された試片の表面を分析し、亜鉛メッキを行った。
下記表2及び図16、17に実験結果を示した。
Figure 2014506300
レーザーとしてはNd YAG 1064nmパルスレーザー(Pulse)とCWレーザー(Continuous Wave laser)を交互に用いて実験し、出力及び照射速度を異ならせて実験を行った。
上記表2において、レーザー照射後のメッキ品質の改善の有無は、レーザー照射前と対比して、レーザーを照射した試片を亜鉛メッキしたときに亜鉛メッキ品質が改善されたか否かを意味し、「○」は顕著に改善されたことを、「×」は改善されなかったことを意味する。
表2からは、衝撃量を与えてFe酸化物の除去に用いられるパルスレーザーでは、出力が高くて照射速度が遅い場合に酸化物を除去し、CWレーザーでは、出力が低くて照射速度が速い場合にもメッキ性が改善されたことが確認できた。
したがって、高出力の1064nm Nd YAGパルスレーザーと1064nm Nd YAG CWレーザーでSi/Mn/Al酸化物を除去することができることが確認できる。
特に、同一の出力のレーザーを用いた場合、パルスレーザー(比較例2)と比べ、CWレーザー(発明例5)を用いたときのメッキ性が顕著に改善された。したがって、CWレーザーを用いることがSi/Mn/Al酸化物の除去に有利である。
また、CWレーザーの場合、レーザービームとしてレーザーを照射することができるため、広幅を一回に照射することができるという長所がある。したがって、CWレーザーを用いて連続工程中のストリップに表面処理を施すことができる。
図16、17は、25WのCWレーザーでTWIP鋼の表面を照射した後のTWIP鋼の表面分析及び深さプロファイルを示したグラフである。
図16、17の結果を照射前のTWIP鋼の表面分析結果である図1、2と対比すると、Al酸化物層は表面からほぼ除去され、Mnも大幅減少したことが確認できる(図16参照)。また、図17からは、照射前に5%の水準にとどまった原子分率が10%を超え、これにより、CWレーザーの照射によりTWIP鋼の表面にFe層が露出することが確認できる。
図18には、レーザーを常温大気中で照射したときの鋼板の表面が示されている。図18からは、レーザーを大気雰囲気で照射すると、炭化によって鋼板の表面に炭化層が発生し、これは、以後の亜鉛メッキ時のメッキ性能に悪影響を及ぼすことが分かる。
図19には、レーザーを窒素雰囲気で照射したときの鋼板の表面が示されている。図19からは、レーザーを窒素雰囲気で照射したとき、炭化が発生せず、滑らかな表面を示したため、亜鉛メッキに有利であることが分かる。
また、レーザーのスポットサイズが1mm以下であるか又はレーザービームの幅が1mm以下であることが好ましい。同一の雰囲気、即ち、大気雰囲気でレーザーのスポットサイズを異ならせて鋼板に照射したとき、1mm以下のレーザーのスポットサイズでは、大気雰囲気であるにもかかわらず炭化が発生しなかった。したがって、窒素雰囲気でなくても、スポットサイズが1mm以下の場合は炭化を防ぐことができると考えられる。
また、レーザーの波長を1064nm、532nm、355nmに異ならせて実験したところ、1064nm、532nm、355nmのいずれでもSi/Mn/Al酸化物を除去することが確認できた。しかしながら、エネルギー効率の面において、レーザー波長は1064nmであることが好ましい。
亜鉛メッキ工程への適用
図20には、従来の亜鉛メッキ工程が示されている。
冷間圧延されたコイルの鋼板100はペイオフリール(図示せず)と溶接器(図示せず)によって連続通板され、残留応力を除去するように最高温度700℃〜800℃まで上がる焼鈍設備110で熱処理され、加熱された鋼板100は亜鉛メッキに適した温度に維持される状態で、メッキ液、即ち、溶融亜鉛130aが充填されたメッキ槽130に引き込まれる。
この際、焼鈍設備110と亜鉛メッキ設備のメッキ槽130の間に連結される設備は、高温で熱処理された鋼板が大気に露出することによる表面酸化を防止するために提供されるスナウト120(snout)である。このような公知のスナウト120の内部には、表面酸化による鋼板のメッキ不良を防止するために、不活性ガスが充填される。
そして、加熱炉110、スナウト120及び、メッキ槽130のシンクロール132とスタビライジングロール134を通過したメッキ鋼板100は、メッキ槽の直上部に配置されるエアナイフ140でユーザーの所望のメッキ量に調整される。
その後、メッキ量の調整作業が終わったメッキ鋼板は、調質圧延機(図示せず)を経て適正な表面粗度が付与され形状が矯正されて切断機(図示せず)で切断された後、テンションリール(図示せず)で巻取されて最終のメッキコイル製品として生産される。
Si/Mn/Al系酸化被膜は焼鈍過程で熱処理されて高強度鋼の表面に形成され、図21には焼鈍設備と亜鉛メッキ設備の間の上記スナウトに表面処理装置を配置した本発明の高強度鋼用亜鉛メッキ工程が示されている。本発明の亜鉛メッキ工程では表面処理装置がスナウトに配置されるため、従来の設備のうちスナウトのみを変更するだけで活用度高く適用されることができる。
高強度鋼(例えば、TWIP、TRIP)コイルの鋼板200はペイオフリール(図示せず)と溶接器(図示せず)を通して連続通板され、焼鈍設備210で熱処理されてSi/Mn/Al系酸化被膜が形成され、酸化被膜が形成された鋼板200はスナウト220の内部に配置された表面処理設備を経た後、亜鉛メッキ設備の溶融亜鉛230aが充填されたメッキ槽230に引き込まれる。
表面処理設備300は、連続的に供給される鋼板200の表面を連続的に表面処理しなければならないため、短時間で高強度鋼板の表面に形成されたSi/Mn/Al系酸化被膜を除去するようにプラズマ発生装置310、311とレーザー発生装置320、321が両面にそれぞれ配置される。レーザー光を照射するレーザー発生装置320、321の間にはウィンドウ322、323が設置され、プラズマ発生装置310、311にはフィーディングガスを供給するポンプ336が連結される。
TRIP鋼の場合、Mn/Al酸化被膜の厚さが150〜200nm程度のTWIP鋼とは異なり、Si/Mn酸化被膜の厚さが50nm以下であるため、鋼種と酸化物の程度によってレーザー発生装置320、321が装着されなくても良い。
表面処理設備300の両側にシーリングロール342及びこれを固定する遮断部340が形成されることにより、表面処理設備300の内側と外側の空間を分離し、メッキ槽230から上がる亜鉛蒸気及び異物の流入を遮断する。
表面処理設備300の外壁には窒素ガス連通口330が形成され、窒素ガス連通口330にはポンプ332及び窒素ガス貯蔵部333が連結される。ポンプ332は、窒素ガス貯蔵部333からの窒素を表面処理設備300の内部に供給することにより、初期に窒素雰囲気を形成するようにすることができる。
一方、遮断部340又は表面処理設備300の外壁には内部の窒素ガスを吸入する吸入口335が形成され、この吸入口335は窒素ガス連通口から供給される窒素が高温の鋼板200によって加熱された高温の窒素ガスを吸入する。吸入口335にポンプ336が連結されることにより窒素ガスを吸入することができ、吸入された窒素ガスがプラズマ発生装置310、311のフィーディングガスとして供給されるか外部に吐出されることができる。
また、吸入されたガスは、鋼板200の表面から蒸発されたSi/Mn/Al系酸化物ガスを含んでいるため、集塵を経た後にプラズマ発生装置310、311に供給される。必要に応じて、吸入されたガスが処理設備に送られ、プラズマ発生装置に窒素ガス貯蔵部333からの窒素ガスが供給されることができる。
吸入口335に連結されたポンプ336はプラズマ発生装置310、311に高温の窒素ガスを供給するため、プラズマ発生装置310、311は常温の窒素ガスをフィーディングガスとして供給したときよりも高エネルギーのプラズマを照射することができる。したがって、低出力のプラズマ発生装置から高出力のプラズマ発生装置の性能が得られる。
吸入口335は、プラズマ発生装置310、311のフィーディングガスを供給すると共に、表面処理設備300の内部の圧力を大気圧より低く維持する役割を行うことができる。表面処理設備300の内部の圧力が大気圧より低く維持されることにより、プラズマ発生装置310、311のプラズマ照射距離及びプラズマアーク照射距離が増大し、鋼板200の揺れによってプラズマ発生装置310、311と鋼板200が衝突又は摩擦することを防止する。
また、表面処理設備300の内部に内部圧力を測定するセンサー360が配置されることにより、内部圧力を実時間で測定して内部圧力値を制御部390に提供する。
制御部390は、上記プラズマ発生装置310、311、レーザー発生装置320、321、ポンプ332、336及びセンサー360に連結されており、センサー360及び鋼種についての入力情報及びユーザーの操作により、各プラズマ発生装置310、311、レーザー発生装置320、321、ポンプ332、336を制御する。
また、シーリングロール342は帯電性素材で製作され、シーリングロール342のロール軸341に接地端子343を装着し(図22参照)、接地端子を陰極に接地させる。これにより、シーリングロール340及びシーリングロール340に接して表面処理設備300に入る鋼板200は陰極接地される。
鋼板200が陰極接地されない場合、プラズマ発生装置310、311から照射されるプラズマアークの距離は、接地される場合と比べて相対的に短くなる。したがって、鋼板200の表面にプラズマアークを照射するためには、鋼板200とプラズマ発生装置310、311の距離が相対的に短く維持されなければならないが、移送中の鋼板200に揺れが発生すると、鋼板200とプラズマ発生装置310、311との物理的な摩擦又は衝突を避けることができないため、プラズマアークを鋼板に照射することが困難になる。
本発明の実施例では、シーリングロール340を接地ロールとして用いたが、表面処理設備の内部に鋼板200に接触するロールを備え、そのロールのロール軸に接地端子を装着して鋼板を接地させても良い。
本表面処理設備300において、プラズマ発生装置310、311は、鋼板に照射されるプラズマの温度が200〜900℃であり、プラズマアークが共に照射されるように鋼板から離隔して配置される。鋼板200は陰極に接地されているため、プラズマ発生装置310、311からプラズマアークがプラズマと共に鋼板に照射されることができる。したがって、鋼板200の表面に形成された酸化被膜が速やかに除去されることができる。
プラズマ発生装置310、311は、鋼板の幅全体にプラズマとプラズマアークを一回で照射するように鋼板の幅に沿って複数個が連結されて配置されることが好ましい。
また、本発明において、レーザー発生装置320、321は、鋼板200の幅方向に平行なレーザービームを照射する。この際、レーザービームは、鋼板の表面に形成された酸化被膜を速やかに除去するように1064nm Nd‐YAG CWレーザーで照射される。また、炭化を防止するために、レーザービームの幅は1mm以下であることが好ましい。
また、本発明では、レーザー発生装置320、321におけるレーザーが照射される部分とプラズマ発生装置310、311におけるプラズマが発生する部分を整列して配置する。したがって、レーザービーム及びプラズマ、プラズマアークが鋼板200の特定地点の酸化被膜に照射されることにより、速やかに通過する鋼板の表面に形成された酸化被膜を連続的に除去することが可能となる。
本発明では、表面処理設備300の内部が800℃以下に維持されることが好ましい。これは、焼鈍設備において最高温度である800℃以上に維持する場合は更なる加熱装置が必要とされるためである。また、本発明では、表面処理設備300の内部が200℃以上の温度に維持されることが好ましい。これは、亜鉛槽230に引き込まれる鋼板200の温度を460℃程度にしなければならず、表面処理設備300の内部の温度が低い場合は更なる昇温装置を用いて亜鉛槽230に引き込まれる鋼板200の温度を昇温させなければならないためである。
本発明の亜鉛メッキ工程の手順は、下記の通りである。
まず、コイルから巻き出された鋼板200は、焼鈍設備210を通過した後、表面処理設備300に流入する。鋼板200は、表面処理設備300の内外を分離するシーリングロール342を通過しながらシーリングロール342によって陰極に接地される。表面処理設備300の内部は、吸入口335と窒素ガス連通口330及びセンサー360によるフィードバック制御により低圧(大気圧以下)の窒素雰囲気に維持される。
低圧の窒素雰囲気で鋼板200の両面にレーザービーム及びプラズマ、プラズマアークが共に照射される。これにより、焼鈍設備210で鋼板200の表面に形成されていたSi/Mn/Al系酸化被膜が除去され、鋼板200の表面が亜鉛メッキ可能状態となってシーリングロール342を経て表面処理設備300を抜け出る。
その後、表面処理設備300を通過した鋼板200はメッキ槽230に引き込まれ、メッキ槽230のシンクロール232とスタビライジングロール234を通過したメッキ鋼板200はメッキ槽の直上部に配置されるエアナイフ240でユーザーの所望のメッキ量に調整される。
次いで、メッキ量調整作業が終わったメッキ鋼板は、調質圧延機(図示せず)を経て適正な表面粗度が付与され形状が矯正されて切断機(図示せず)で切断された後、テンションリール(図示せず)で巻取されて最終のメッキコイル製品として生産される。
200 鋼板
210 焼鈍設備
220 スナウト
230 メッキ槽
240 エアナイフ
300 表面処理設備
310、311 プラズマ発生装置
320、321 レーザー発生装置
330 窒素ガス連通口
340 遮断部
342 シーリングロール
360 センサー
390 制御部

Claims (15)

  1. 高強度鋼を加熱する加熱段階と、
    前記加熱段階で形成された前記高強度鋼の表面に形成されたMn系酸化物、Al系酸化物及びSi系酸化物のうち一つ以上を除去するようにプラズマを照射する表面処理段階と、
    前記表面処理された高強度鋼をメッキするメッキ段階と、
    を含む、メッキ方法。
  2. 前記表面処理段階において、前記プラズマを高強度鋼の表面に200〜900℃の温度で照射する、請求項1に記載のメッキ方法。
  3. 前記表面処理段階において、前記プラズマを200〜800℃の窒素雰囲気で照射し、
    前記雰囲気ガスをプラズマのフィーディングガスとして供給する、請求項1に記載のメッキ方法。
  4. 前記表面処理段階において、前記高強度鋼を陰極に帯電させた後、前記プラズマと共にプラズマアークを前記高強度鋼の表面に照射する、請求項1に記載のメッキ方法。
  5. 前記表面処理段階は、外部と遮断されたチャンバーで行われ、
    前記プラズマの照射距離を増大させるように前記チャンバーの内部のガスを吸入してチャンバーの内部の圧力を低くした後にプラズマを照射する、請求項3に記載のメッキ方法。
  6. 前記表面処理段階は、プラズマを照射すると共に前記酸化被膜を除去するように前記高強度鋼に1064nm以下の波長を有するCWレーザーを照射する、請求項4に記載の表面処理方法。
  7. 前記レーザーは、1mm以下のスポットサイズを有するレーザー又は1mm以下の幅を有するレーザービームである、請求項6に記載のメッキ方法。
  8. 前記表面処理段階は、前記レーザーを前記プラズマと同一の地点に照射する、請求項7に記載のメッキ方法。
  9. 請求項1から8のいずれか一項に記載のメッキ方法により亜鉛メッキされる、TWIP又はTRIP鋼。
  10. 焼鈍設備と、
    焼鈍中に鋼板の表面に生成されたMn系酸化物、Al系酸化物及びSi系酸化物のうち一つ以上を除去するように焼鈍設備の後方に設置され、内部に200〜800℃の窒素雰囲気が形成された雰囲気チャンバーと、前記酸化被膜を除去し、プラズマを鋼板に照射するように前記雰囲気チャンバーの内部に配置されたプラズマ発生装置と、を含む表面処理設備と、
    前記表面処理設備を通過した鋼板を亜鉛メッキするメッキ設備と、
    を含む、亜鉛メッキ工程。
  11. 前記雰囲気チャンバーには雰囲気ガス吸入部が備えられ、
    前記プラズマ発生装置のフィーディングガスとして前記雰囲気ガスを用いるように前記雰囲気ガス吸入部は前記プラズマ発生装置のフィーディングガス供給部と連結される、請求項10に記載の亜鉛メッキ工程。
  12. 前記鋼板の出入りを許容し且つ前記雰囲気チャンバーを密封する遮断部を含み、
    前記雰囲気チャンバーには雰囲気ガス吸入部、雰囲気ガスを供給する連通口及び内部圧力を測定する圧力センサーが備えられ、雰囲気チャンバーの内部圧力を大気圧より低く維持させる、請求項10に記載の亜鉛メッキ工程。
  13. 前記遮断部はシーリングロールを含み、
    前記シーリングロールとシーリングロールの回転軸は導電性材質で形成され、前記回転軸が陰極に接地されて前記雰囲気チャンバーの内部を通過する鋼板を陰極に接地し、
    前記プラズマ発生装置はプラズマと共にプラズマアークを照射するように鋼板から離隔される、請求項12に記載の亜鉛メッキ工程。
  14. 前記プラズマ発生装置の前方又は後方に位置し、前記鋼板の表面にレーザーを照射するレーザー発生装置をさらに含み、
    前記レーザー発生装置は1064nm以下の波長を有するCWレーザービーム照射装置である、請求項13に記載の亜鉛メッキ工程。
  15. 前記表面処理設備は、前記焼鈍設備と前記メッキ設備の間のスナウトの内部に配置される、請求項14に記載の亜鉛メッキ工程。
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