JP2014503791A - ナノポアおよびナノ流体デバイスにおける寸法のフィードバック制御 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィードバック・システムを用いて、たとえばナノチャネルおよびナノポアなどのナノ流体通路を制御された態様で閉じるか、または開く。通路が選択された寸法に達するか、または閉じるまで、電解質の存在下で通路内の酸化物層を成長させるか、または除去する。製作中に、ナノ流体通路の寸法の変化を測定する。通路を通るイオン電流レベルを用いて通路の寸法を定めてもよい。要素間の流体通路の選択的酸化によって、流体要素のアレイを通る流体の流れを制御できる。
【選択図】図1
Description
1)フィードバック制御によってナノ流体デバイスを製作する。
2)製作後にチャネルまたはポアのサイズを拡張するか、または狭くすることを可能にする。
3)水溶液またはその他の液体によるナノ流体デバイスの充填を容易にする。
当業者に認識されるとおり、本発明の局面はシステム、方法またはコンピュータ・プログラム製品として具現化されてもよい。したがって本発明の局面は、完全にハードウェアの実施形態、完全にソフトウェアの実施形態(ファームウェア、常駐ソフトウェア、マイクロコードなどを含む)、またはソフトウェアおよびハードウェアの局面を組み合わせた実施形態の形を取ってもよく、本明細書においてこれらはすべて一般的に「回路」、「モジュール」または「システム」と呼ばれることがある。さらに、本発明の局面は、媒体において具現化されるコンピュータ読取り可能プログラム・コードを有する1つまたはそれ以上のコンピュータ読取り可能媒体(単数または複数)において具現化されるコンピュータ・プログラム製品の形を取ってもよい。
Claims (23)
- 導電性の表面を有するナノ流体通路、および前記ナノ流体通路内の電解質を含むナノ流体デバイスを提供するステップと、
前記導電性の表面に電圧を印加することによって、前記ナノ流体通路の寸法を電気化学的に変更するステップと
を含む、方法。 - 前記導電性の表面を酸化することによって前記ナノ流体通路の前記寸法を減少させるステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記導電性の表面の厚さを減少させることによって前記ナノ流体通路の前記寸法を増加させるステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路にイオン電流が流れるようにするステップと、前記イオン電流をモニタするステップとをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ナノ流体デバイスは多数のナノ流体通路を有するナノフィルタ膜を含み、前記方法はさらに、前記膜内の前記ナノ流体通路の前記寸法を電気化学的に変更する前記ステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ナノフィルタ膜を通るイオン電流をモニタするステップをさらに含む、請求項5に記載の方法。
- 前記ナノ流体デバイスを提供する前記ステップは、
導体によって境界を定められた前記ナノ流体通路を含む基板を提供するステップと、
前記ナノ流体通路に電解質を充填するステップと
を含む、請求項6に記載の方法。 - 前記ナノ流体通路に対する目標寸法を設定するステップと、前記ナノ流体通路のサイズをモニタするステップと、前記目標寸法が達成されたときに前記ナノ流体通路の前記寸法を減少させるステップを中止するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路はナノポアである、請求項8に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路の前記寸法を減少させる前記ステップは、前記導体と前記電解質との間に電位を印加するステップを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路は前記基板内の表面チャネルである、請求項8に記載の方法。
- 前記基板は、内部に延在する多数のナノ流体通路を含む膜を含み、前記ナノ流体通路の各々は前記導体によって境界を定められており、前記方法はさらに、前記導体上に酸化物を電気化学的に形成することによって前記ナノ流体通路の前記寸法を減少させる前記ステップを含む、請求項7に記載の方法。
- 流体要素のアレイを提供するステップであって、前記流体要素の各々は、1つまたはそれ以上のナノ流体デバイスによって前記アレイ内の1つまたはそれ以上の他の流体要素に接続される、ステップと、
選択されたナノ流体通路における前記導電性の表面の上に酸化物層を電気化学的に成長させることによって、前記ナノ流体通路の1つまたはそれ以上を選択的に閉じるステップと
を含む、請求項2に記載の方法。 - 選択的に閉じる前記ステップは、前記導電性の表面と前記電解質との間に電位を印加するステップを含む、請求項13に記載の方法。
- 前記ナノ流体デバイスを形成する前記ステップは、
基板内に目標寸法よりも大きい寸法を有するナノ流体通路を形成するステップと、
前記基板上に導電層を形成することによって前記ナノ流体通路の前記寸法を減少させるステップと、
前記ナノ流体通路を電解質で充填するステップと
を含み、前記方法は、
前記ナノ流体通路が前記目標寸法を有するまで前記導電層を電気化学的に酸化するステップ
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記導電層を電気化学的に酸化する前記ステップは、前記電解質と前記導電層との間に電位を印加するステップを含む、請求項15に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路を通るイオン電流をモニタする前記ステップをさらに含む、請求項15または16に記載の方法。
- 前記ナノ流体通路はチャネルである、請求項15に記載の方法。
- 前記チャネルは前記基板の表面に開口部を有して形成され、前記方法はさらに、前記基板上に前記導電層を形成するときに前記開口部を閉じる前記ステップを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記導電層は、チタン、タングステンおよびタンタルからなる群より選択される、請求項15に記載の方法。
- 基板内にナノ流体通路を含むナノ流体デバイスを制御するためのコンピュータ・プログラム製品であって、前記ナノ流体通路は導電性の表面を含み、かつ電解質を含有し、前記コンピュータ・プログラム製品は、
媒体とともに具現化されるコンピュータ読取り可能プログラム・コードを有するコンピュータ読取り可能記憶媒体を含み、前記コンピュータ読取り可能プログラム・コードは、
前記電解質と前記導電性の表面との間に前記導電性の表面の酸化をもたらすために十分な電位を印加することを容易にするように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コードと、
前記ナノ流体通路を通るイオン電流をモニタするように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コードとを含む、コンピュータ・プログラム製品。 - 前記導電性の表面が酸化される際にイオン電流を継続的にモニタするように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コードをさらに含む、請求項21に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 所望のナノ流体通路サイズが達成されるまで、前記イオン電流をモニタすることと、前記電解質および前記導電性の表面の間に前記電位を印加することとを交互に行うように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コードをさらに含む、請求項21に記載のコンピュータ・プログラム製品。
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