JP2014225635A - Hollow sealing sheet and method of producing hollow package - Google Patents

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淳 石井
豊田 英志
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英志 豊田
裕之 千歳
Hiroyuki Chitose
裕之 千歳
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hollow sealing sheet capable of producing a hollow package having high reliability, and to provide a method of manufacturing the hollow package.SOLUTION: A hollow sealing sheet for sealing an electronic component in a hollow manner contains a resin and is controlled in resin entering property into a hollow part at 40°C or more and 100°C or less. A molding metal die having a 20 μm width slit is filled with the resin, and the amount of resin entering the slit is preferable to be 3 mm or less when the resin is pressurized for 10 minutes at pressure 10 kg/cm2 and temperature 150°C.

Description

本発明は、中空封止シート及び中空パッケージの製造方法に関する。   The present invention relates to a hollow sealing sheet and a method for manufacturing a hollow package.

半導体等の電子部品のパッケージの作製には、代表的に、基板や仮止め材等に固定された1又は複数の電子部品を封止樹脂にて封止し、必要に応じて封止物を電子部品単位のパッケージとなるようにダイシングするという手順が採用されている。このような封止樹脂としてハンドリング性が良好なシート状の封止樹脂が用いられている。また、中空封止シートの性能向上のために充填剤の配合量を増加させる手法として、封止用シートに混練により充填剤を配合する技術が提案されている(特許文献1)。   For the production of electronic component packages such as semiconductors, typically, one or more electronic components fixed to a substrate, a temporary fixing material or the like are sealed with a sealing resin, and a sealed object is provided as necessary. A procedure of dicing so as to form a package in units of electronic components is employed. As such a sealing resin, a sheet-shaped sealing resin having good handling properties is used. In addition, as a technique for increasing the blending amount of the filler in order to improve the performance of the hollow sealing sheet, a technique of blending the filler by kneading into the sealing sheet has been proposed (Patent Document 1).

特開2013−7028号公報JP 2013-7028 A

近年、半導体パッケージと並んで、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタや、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサ、加速度センサ等のMEMSと称される微小電子部品の開発が進められている。これらの電子部品は、それぞれ一般的に表面弾性波の伝播や光学系の維持、可動部材の可動性等を確保するための中空構造を有する。封止の際には、可動部材の作動信頼性や素子の接続信頼性を確保するよう中空構造を維持しつつ封止する必要がある。封止シートには、このような中空構造を有する中空パッケージへの需要への対応が求められている。   In recent years, along with semiconductor packages, microelectronic components called MEMS, such as SAW (Surface Acoustic Wave) filters, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensors, and acceleration sensors, are being developed. Each of these electronic components generally has a hollow structure for ensuring the propagation of surface acoustic waves, maintaining an optical system, the mobility of a movable member, and the like. When sealing, it is necessary to seal while maintaining the hollow structure so as to ensure the operation reliability of the movable member and the connection reliability of the element. The sealing sheet is required to meet the demand for a hollow package having such a hollow structure.

本発明の目的は、信頼性の高い中空パッケージを作製可能な中空封止シート及び中空パッケージの製造方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the hollow sealing sheet which can produce a highly reliable hollow package, and a hollow package.

本発明者らは、鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by adopting the following configuration, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、電子部品を中空封止するための中空封止シートであって、
樹脂を含み、
40℃以上100℃以下において中空部への樹脂進入性が制御されている。
That is, the present invention is a hollow sealing sheet for hollow sealing electronic components,
Including resin,
Resin penetration into the hollow part is controlled at 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

当該中空封止シートでは、40℃以上100℃以下において中空部への樹脂の進入性が制御されているので、中空封止の際に中空部への樹脂進入が抑制され、信頼性の高い中空パッケージを作製することができる。   In the hollow sealing sheet, since the resin penetration into the hollow part is controlled at 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, the resin penetration into the hollow part is suppressed during hollow sealing, and the hollow is highly reliable. A package can be produced.

当該中空封止シートでは、幅20μmのスリットを有する成形金型に前記樹脂を充填し、圧力10kg/cm、温度150℃で10分間前記樹脂を加圧した際の前記スリットへの樹脂進入量が3mm以下であることが好ましい。これにより、所定のスリットへの加熱加圧下での樹脂進入性が抑制されるので、より高い信頼性を有する中空パッケージを作製することができる。なお、樹脂進入量の測定は実施例の記載による。 In the hollow sealing sheet, the amount of resin entering the slit when the resin is filled in a molding die having a slit with a width of 20 μm and the resin is pressurized at a pressure of 10 kg / cm 2 and a temperature of 150 ° C. for 10 minutes. Is preferably 3 mm or less. Thereby, since the resin penetration property under the heating and pressurization to a predetermined slit is suppressed, a hollow package having higher reliability can be manufactured. In addition, the measurement of the amount of resin penetration is based on description of an Example.

当該中空封止シートでは、幅1μm以上100μm以下のスリットに対する樹脂進入量をスリット幅に対してプロットした際に、該プロットに極小値が存在することが好ましい。このような極小値が存在することについてのメカニズムは定かではないが、以下のように推定される。例えば中空封止シートが、無機充填剤やエラストマー粒子等のダイラタンシー付与性の微小粒子を含むと、スリット周辺領域においてダイラタンシー様作用が働き、樹脂のスリットへの進入が抑制される。スリット幅が微小粒子の粒径より充分に大きい場合には、ダイラタンシー様作用は弱く、樹脂が微小粒子とともにスリットに容易に進入して、樹脂進入量が大きくなる。スリット幅が小さくなるにつれて、ダイラタンシー様作用は強くなり、樹脂進入量も小さくなり、ある点で樹脂進入量が極小値をとることになる。そして、スリット幅がある一定の値以下となると、今度は微小粒子のスリットへの進入が規制され、樹脂成分のみがスリットに進入するようになる。樹脂のみの場合ではダイラタンシー様作用は弱くなるので、樹脂進入量は大きくなる。中空封止シートに負荷される力が一定である場合、スリット幅が小さいほど樹脂はスリットへと押し出されることになり、その結果、樹脂進入量がより大きくなる。このようにしてスリット幅に対する樹脂進入量のプロットに極小値が存在することとなると考えられる。また、当該現象を利用することにより、中空部のギャップ間隔に対するダイラタンシー様作用を最大化させるように中空封止シートの組成配合を設計することができ、より効率良く中空部への樹脂進入を規制して高信頼性の中空パッケージを作製することができる。   In the hollow sealing sheet, it is preferable that a minimum value exists in the plot when the amount of resin entering the slit having a width of 1 μm or more and 100 μm or less is plotted against the slit width. The mechanism for the existence of such a local minimum is not clear, but is estimated as follows. For example, when the hollow encapsulating sheet contains dilatancy-providing microparticles such as inorganic fillers and elastomer particles, a dilatancy-like action works in the slit peripheral region, and the resin is prevented from entering the slit. When the slit width is sufficiently larger than the particle size of the fine particles, the dilatancy-like action is weak, and the resin easily enters the slit together with the fine particles, so that the amount of resin penetration increases. As the slit width becomes smaller, the dilatancy-like action becomes stronger and the resin entry amount becomes smaller, and the resin entry amount takes a minimum value at a certain point. When the slit width becomes a certain value or less, entry of fine particles into the slit is restricted, and only the resin component enters the slit. In the case of resin alone, the dilatancy-like action is weakened, so that the amount of resin penetration increases. When the force applied to the hollow sealing sheet is constant, the smaller the slit width is, the more the resin is pushed out into the slit, and as a result, the amount of resin entering becomes larger. In this way, it is considered that there is a minimum value in the plot of the resin penetration amount against the slit width. In addition, by utilizing this phenomenon, the composition of the hollow sealing sheet can be designed to maximize the dilatancy-like effect on the gap gap of the hollow part, and the resin entry into the hollow part is more efficiently regulated. Thus, a highly reliable hollow package can be manufactured.

当該封止シートにおいて、前記極小値が2mm以下であることが好ましい。これにより、樹脂進入性をより高度に抑制することができ、中空パッケージの信頼性をさらに向上させることができる。   In the sealing sheet, the minimum value is preferably 2 mm or less. Thereby, resin penetration property can be suppressed more highly and the reliability of a hollow package can further be improved.

本発明には、一又は複数の電子部品を覆うように当該中空封止シートを該電子部品上に中空部を維持しながら積層する積層工程、及び
前記中空封止シートを硬化させて封止体を形成する封止体形成工程
を含む中空パッケージの製造方法である。
In the present invention, a laminating step of laminating the hollow sealing sheet on the electronic component so as to cover one or a plurality of electronic components while maintaining a hollow portion, and a sealing body by curing the hollow sealing sheet It is a manufacturing method of the hollow package including the sealing body formation process of forming.

本発明の製造方法では、中空部への樹脂進入性が制御された当該中空封止シートを用いているので、中空部を良好に確保しつつ、全体として高信頼性の中空パッケージを製造することができる。   In the production method of the present invention, since the hollow sealing sheet in which the resin penetration into the hollow part is controlled is used, a highly reliable hollow package is produced as a whole while ensuring a good hollow part. Can do.

本発明の一実施形態に係る中空封止シートを模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the hollow sealing sheet which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る中空パッケージの製造方法の一工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically 1 process of the manufacturing method of the hollow package which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る中空パッケージの製造方法の一工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically 1 process of the manufacturing method of the hollow package which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る中空パッケージの製造方法の一工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically 1 process of the manufacturing method of the hollow package which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の実施例における中空封止シートの切断面のSEM観察像である。It is a SEM observation image of the cut surface of the hollow sealing sheet in the Example of this invention. 成形金型のスリットへの樹脂進入量を測定するための成形金型の模式断面図である。It is a schematic cross section of the molding die for measuring the amount of resin entering the slit of the molding die. 成形金型の下金型の平面図である。It is a top view of the lower metal mold | die of a shaping die. 成形金型のスリットへの樹脂進入量を測定するための測定手順を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the measurement procedure for measuring the resin approach amount to the slit of a shaping die.

《第1実施形態》
[中空封止シート]
本実施形態に係る中空封止シートについて図1を参照しつつ説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る中空封止シートを模式的に示す断面図である。中空封止シート11は、代表的に、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の支持体11a上に積層された状態で提供される。なお、支持体11aには中空封止シート11の剥離を容易に行うために離型処理が施されていてもよい。
<< First Embodiment >>
[Hollow sealing sheet]
The hollow sealing sheet which concerns on this embodiment is demonstrated referring FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a hollow sealing sheet according to an embodiment of the present invention. The hollow sealing sheet 11 is typically provided in a state of being laminated on a support 11a such as a polyethylene terephthalate (PET) film. In addition, in order to peel the hollow sealing sheet 11 easily, the mold release process may be performed to the support body 11a.

中空封止シート11は、40℃以上100℃以下において中空部14(図2A参照)への樹脂進入性が制御されている。従って、中空封止シート11を用いて得られる中空パッケージ18(図2C参照)では、中空部14を確保することができ、電子部品の作動信頼性及び接続信頼性を高いレベルで得ることができる。   As for the hollow sealing sheet 11, resin penetration property to the hollow part 14 (refer FIG. 2A) is controlled in 40 to 100 degreeC. Therefore, in the hollow package 18 (see FIG. 2C) obtained using the hollow sealing sheet 11, the hollow portion 14 can be secured, and the operation reliability and connection reliability of the electronic components can be obtained at a high level. .

幅20μmのスリットを有する成形金型に中空封シート11を形成する樹脂を充填し、圧力10kg/cm、温度150℃で10分間前記樹脂を加圧した際の前記スリットへの樹脂進入量が3mm以下であることが好ましく、2mm以下がより好ましい。加熱加圧下での樹脂進入性を上記範囲とすることで、より高い信頼性を有する中空パッケージを作製することができる。 The amount of resin entering the slit when filling the molding die having a slit of 20 μm in width with the resin for forming the hollow sealing sheet 11 and pressurizing the resin for 10 minutes at a pressure of 10 kg / cm 2 and a temperature of 150 ° C. It is preferably 3 mm or less, and more preferably 2 mm or less. By setting the resin penetration under heating and pressurization within the above range, a hollow package having higher reliability can be manufactured.

中空封止シート11では、幅1μm以上100μm以下のスリットに対する樹脂進入量をスリット幅に対してプロットした際に、該プロットに極小値が存在することが好ましい。これにより、中空部への樹脂進入量を最小化するための中空封止シートの組成設計が可能となり、より信頼性の高い中空パッケージを製造することができる。   In the hollow sealing sheet 11, when the amount of resin entering a slit having a width of 1 μm or more and 100 μm or less is plotted against the slit width, it is preferable that a minimum value exists in the plot. Thereby, the composition design of the hollow sealing sheet for minimizing the amount of resin entering the hollow portion is possible, and a more reliable hollow package can be manufactured.

当該封止シートにおいて、前記極小値が2mm以下であることが好ましく、1mm以下であることがより好ましい。これにより、樹脂進入性をより高度に抑制することができ、中空パッケージの信頼性をさらに向上させることができる。   In the sealing sheet, the minimum value is preferably 2 mm or less, and more preferably 1 mm or less. Thereby, resin penetration property can be suppressed more highly and the reliability of a hollow package can further be improved.

中空封止シートを150℃で1時間熱硬化した後の20℃における線膨張率が、15ppm/K以下であることが好ましく、10ppm/K以下であることがより好ましい。これにより、中空パッケージにおける反りを良好に抑制することができる。線膨張率の測定方法は、以下のとおりである。幅4.9mm、長さ25mm、厚さ0.2mmの硬化前の中空封止シートを150℃で1時間硬化させる。硬化後の樹脂シートをTMA8310(リガク社製)にセットし、引張荷重4.9mN、昇温速度10℃/minで線膨張率を測定する。   The linear expansion coefficient at 20 ° C. after thermosetting the hollow sealing sheet at 150 ° C. for 1 hour is preferably 15 ppm / K or less, and more preferably 10 ppm / K or less. Thereby, the curvature in a hollow package can be suppressed favorably. The measuring method of the linear expansion coefficient is as follows. The hollow sealing sheet before hardening of width 4.9mm, length 25mm, and thickness 0.2mm is hardened at 150 degreeC for 1 hour. The cured resin sheet is set in TMA8310 (manufactured by Rigaku Corporation), and the linear expansion coefficient is measured at a tensile load of 4.9 mN and a temperature increase rate of 10 ° C./min.

中空封止シートを形成する樹脂組成物は、上述のような特性を好適に付与することができ、半導体チップ等の電子部品の樹脂封止に利用可能なものである限り特に限定されない。中でも、中空部付近での樹脂流動を規制し得る規制材料を含むことが好ましい。このような規制材料としては、エラストマーや高粘度エポキシ樹脂、高粘度フェノール樹脂等の高粘度物質や、無機充填剤等のダイラタンシー付与性の微小粒子を好適に用いることができる。   The resin composition forming the hollow sealing sheet is not particularly limited as long as it can suitably impart the above-described characteristics and can be used for resin sealing of electronic components such as semiconductor chips. Especially, it is preferable that the control material which can control the resin flow in the hollow part vicinity is included. As such a regulation material, high viscosity substances such as elastomers, high viscosity epoxy resins, and high viscosity phenol resins, and dilatancy imparting fine particles such as inorganic fillers can be suitably used.

高粘度物質の粘度としては、樹脂流動の規制の度合いや作業性等を考慮して適宜設定すればよいが、80℃において2000Pa・s以上30000Pa・s以下が好ましく、5000Pa・s以上25000以下がより好ましい。なお、粘度は、TAインスツルメント社製粘弾性測定装置ARESを用いて、パラレルプレート法により測定することができる。より詳細には、ギャップ100μm、回転プレート直径20mm、回転速度10s−1の条件にて、50℃から200℃の範囲で粘度を測定し、その際に得られる80℃での粘度を読み取ることで得られる。 The viscosity of the high-viscosity material may be appropriately set in consideration of the degree of regulation of resin flow, workability, and the like, but is preferably 2000 Pa · s to 30000 Pa · s at 80 ° C., preferably 5000 Pa · s to 25000. More preferred. The viscosity can be measured by a parallel plate method using a viscoelasticity measuring device ARES manufactured by TA Instruments. More specifically, by measuring the viscosity in the range of 50 ° C. to 200 ° C. under the conditions of a gap of 100 μm, a rotating plate diameter of 20 mm, and a rotational speed of 10 s −1 , and reading the viscosity at 80 ° C. obtained at that time can get.

具体的な成分として以下のA成分からE成分を含有するエポキシ樹脂組成物が好ましいものとして挙げられる。
A成分:エポキシ樹脂
B成分:フェノール樹脂
C成分:エラストマー
D成分:無機充填剤
E成分:硬化促進剤
As specific components, epoxy resin compositions containing the following components A to E are preferred.
A component: Epoxy resin B component: Phenol resin C component: Elastomer D component: Inorganic filler E component: Curing accelerator

(A成分)
熱硬化性樹脂としてのエポキシ樹脂(A成分)としては、特に限定されるものではない。例えば、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等の各種のエポキシ樹脂を用いることができる。これらエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし2種以上併用してもよい。
(A component)
It does not specifically limit as an epoxy resin (A component) as a thermosetting resin. For example, triphenylmethane type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, modified bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, modified bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type Various epoxy resins such as an epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin, and a phenoxy resin can be used. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂の硬化後の靭性及びエポキシ樹脂の反応性を確保する観点からは、エポキシ当量150〜250、軟化点もしくは融点が50〜130℃の常温で固形のものが好ましく、中でも、信頼性の観点から、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂が好ましい。   From the viewpoint of ensuring the toughness after curing of the epoxy resin and the reactivity of the epoxy resin, those having an epoxy equivalent of 150 to 250 and a softening point or melting point of 50 to 130 ° C. are preferably solid, and in particular, from the viewpoint of reliability. Therefore, triphenylmethane type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin are preferable.

また、低応力性の観点から、アセタール基やポリオキシアルキレン基等の柔軟性骨格を有する変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましく、アセタール基を有する変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、液体状で取り扱いが良好であることから、特に好適に用いることができる。   Also, from the viewpoint of low stress, a modified bisphenol A type epoxy resin having a flexible skeleton such as an acetal group or a polyoxyalkylene group is preferable, and a modified bisphenol A type epoxy resin having an acetal group is in a liquid state and is easy to handle. Therefore, it can be particularly preferably used.

エポキシ樹脂の重量平均分子量を大きくすると粘度も高くなり、エポキシ樹脂自体が上記規制材料として作用することができる。重量平均分子量としては上記規制材料として作用し得る程度であれば特に限定されないが、150以上が好ましく、300以上がより好ましい。   Increasing the weight average molecular weight of the epoxy resin also increases the viscosity, and the epoxy resin itself can act as the regulating material. Although it will not specifically limit if it is a grade which can act as said control material as a weight average molecular weight, 150 or more are preferable and 300 or more are more preferable.

エポキシ樹脂(A成分)の含有量は、エポキシ樹脂組成物全体に対して1〜10重量%の範囲に設定することが好ましい。   The content of the epoxy resin (component A) is preferably set in the range of 1 to 10% by weight with respect to the entire epoxy resin composition.

(B成分)
フェノール樹脂(B成分)は、熱硬化性樹脂として用いることができるとともに、エポキシ樹脂(A成分)との間で硬化反応を生起するものであれば特に限定されるものではない。例えば、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂、レゾール樹脂、等が用いられる。これらフェノール樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
(B component)
The phenol resin (component B) is not particularly limited as long as it can be used as a thermosetting resin and causes a curing reaction with the epoxy resin (component A). For example, a phenol novolak resin, a phenol aralkyl resin, a biphenyl aralkyl resin, a dicyclopentadiene type phenol resin, a cresol novolak resin, a resole resin, or the like is used. These phenolic resins may be used alone or in combination of two or more.

フェノール樹脂としては、エポキシ樹脂(A成分)との反応性の観点から、水酸基当量が70〜250、軟化点が50〜110℃のものを用いることが好ましく、中でも硬化反応性が高いという観点から、フェノールノボラック樹脂を好適に用いることができる。また、信頼性の観点から、フェノールアラルキル樹脂やビフェニルアラルキル樹脂のような低吸湿性のものも好適に用いることができる。   From the viewpoint of reactivity with the epoxy resin (component A), it is preferable to use a phenolic resin having a hydroxyl equivalent weight of 70 to 250 and a softening point of 50 to 110 ° C., among which the curing reactivity is high. A phenol novolac resin can be preferably used. From the viewpoint of reliability, low hygroscopic materials such as phenol aralkyl resins and biphenyl aralkyl resins can also be suitably used.

エポキシ樹脂(A成分)とフェノール樹脂(B成分)の配合割合は、硬化反応性という観点から、エポキシ樹脂(A成分)中のエポキシ基1当量に対して、フェノール樹脂(B成分)中の水酸基の合計が0.7〜1.5当量となるように配合することが好ましく、より好ましくは0.9〜1.2当量である。   From the viewpoint of curing reactivity, the blending ratio of the epoxy resin (component A) and the phenol resin (component B) is a hydroxyl group in the phenol resin (component B) with respect to 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin (component A). It is preferable to mix | blend so that it may become 0.7-1.5 equivalent, More preferably, it is 0.9-1.2 equivalent.

フェノール樹脂の重量平均分子量を大きくすると粘度も高くなり、フェノール樹脂自体が上記規制材料として作用することができる。重量平均分子量としては上記規制材料として作用し得る程度であれば特に限定されないが、150以上が好ましく、300以上がより好ましい。   When the weight average molecular weight of the phenol resin is increased, the viscosity increases, and the phenol resin itself can act as the regulating material. Although it will not specifically limit if it is a grade which can act as said control material as a weight average molecular weight, 150 or more are preferable and 300 or more are more preferable.

なお、本明細書において、重量平均分子量の測定方法は以下の方法で測定することができる。試料をTHFに0.1wt%で溶解させて、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いてポリスチレン換算により重量平均分子量を測定する。詳しい測定条件は以下の通りである。
<重量平均分子量の測定条件>
GPC装置:東ソー製、HLC−8120GPC
カラム:東ソー製、(GMHHR−H)+(GMHHR−H)+(G2000HHR)
流量:0.8mL/min
濃度:0.1wt%
注入量:100μL
カラム温度:40℃
溶離液:THF
In addition, in this specification, the measuring method of a weight average molecular weight can be measured with the following method. A sample is dissolved in THF at 0.1 wt%, and the weight average molecular weight is measured by polystyrene conversion using GPC (gel permeation chromatography). Detailed measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions of weight average molecular weight>
GPC device: Tosoh HLC-8120GPC
Column: manufactured by Tosoh Corporation, (GMHHR-H) + (GMHHR-H) + (G2000HHR)
Flow rate: 0.8mL / min
Concentration: 0.1 wt%
Injection volume: 100 μL
Column temperature: 40 ° C
Eluent: THF

(C成分)
エポキシ樹脂(A成分)及びフェノール樹脂(B成分)とともに用いられるエラストマー(C成分)としては、例えば、各種アクリル系共重合体やゴム成分等を用いることができる。エポキシ樹脂(A成分)への分散性や、得られる中空封止シートの耐熱性、可撓性、強度を向上させることができるという観点から、ゴム成分を含むことが好ましい。このようなゴム成分としては、ブタジエン系ゴム、スチレン系ゴム、アクリル系ゴム、シリコーン系ゴムからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併せて用いてもよい。高粘度物質であるエラストマーを含むことで、中空部への樹脂進入を好適に規制することができる。
(C component)
As an elastomer (C component) used with an epoxy resin (A component) and a phenol resin (B component), various acrylic copolymers, rubber components, etc. can be used, for example. It is preferable that a rubber component is included from the viewpoint that the dispersibility in the epoxy resin (component A) and the heat resistance, flexibility, and strength of the resulting hollow sealing sheet can be improved. Such a rubber component is preferably at least one selected from the group consisting of butadiene rubber, styrene rubber, acrylic rubber, and silicone rubber. These may be used alone or in combination of two or more. By including an elastomer that is a high-viscosity substance, resin intrusion into the hollow portion can be suitably restricted.

中空封止シート11では、エラストマーのドメインが分散しており、ドメインの最大径が20μm以下であることが好ましい。これにより、エラストマーが中空部付近での樹脂の流動を規制する作用(ダイラタンシー様作用)を有する微小粒子として機能し、中空分への樹脂進入をより効率良く抑制することができる。エラストマーは局所的には集合又は凝集していてもよいが、ダイラタンシー様作用の観点から、全体的に一様に分散していることが好ましい。ドメインの最大径の上限は20μm以下であれば特に限定されないものの、15μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。また、ドメインの最大径の下限は、微細化の物理的な限界と可撓性付与の観点から、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましい。   In the hollow sealing sheet 11, elastomer domains are dispersed, and the maximum domain diameter is preferably 20 μm or less. Thereby, the elastomer functions as fine particles having an action (dilatancy-like action) for regulating the flow of the resin in the vicinity of the hollow portion, and the resin entry into the hollow portion can be more efficiently suppressed. The elastomer may be locally aggregated or agglomerated, but it is preferable that the elastomer is uniformly dispersed as a whole from the viewpoint of dilatancy-like action. Although the upper limit of the maximum diameter of the domain is not particularly limited as long as it is 20 μm or less, it is preferably 15 μm or less, and more preferably 10 μm or less. Further, the lower limit of the maximum diameter of the domain is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 0.3 μm or more, from the viewpoint of physical limitation of miniaturization and imparting flexibility.

エラストマー(C成分)の含有量は、エポキシ樹脂組成物全体の1.0〜3.5重量%であることが好ましく、1.5〜3重量%であることがより好ましい。エラストマー(C成分)の含有量が1.0重量%未満では、中空封止シート11の柔軟性及び可撓性を得るのが困難となり、さらには中空封止シートの反りを抑えた樹脂封止も困難となる。逆に上記含有量が3.5重量%を超えると、中空封止シート11の溶融粘度が高くなって電子部品の埋まり込み性が低下するとともに、中空封止シート11の硬化体の強度及び耐熱性が低下する傾向がみられる。   The content of the elastomer (component C) is preferably 1.0 to 3.5% by weight of the entire epoxy resin composition, and more preferably 1.5 to 3% by weight. If the content of the elastomer (component C) is less than 1.0% by weight, it becomes difficult to obtain the flexibility and flexibility of the hollow sealing sheet 11, and further the resin sealing that suppresses the warpage of the hollow sealing sheet It will also be difficult. Conversely, when the content exceeds 3.5% by weight, the melt viscosity of the hollow sealing sheet 11 is increased and the embedding property of the electronic component is lowered, and the strength and heat resistance of the cured body of the hollow sealing sheet 11 are reduced. Tend to decrease.

また、エラストマー(C成分)のエポキシ樹脂(A成分)に対する重量比率(C成分の重量/A成分の重量)は、0.5〜1.5の範囲に設定することが好ましい。上記重量比率が0.5未満の場合は、中空封止シート11の流動性をコントロールすることが困難となる一方、1.5を超えると中空封止シート11の電子部品への接着性が劣る傾向がみられるためである。   The weight ratio of the elastomer (component C) to the epoxy resin (component A) (weight of component C / weight of component A) is preferably set in the range of 0.5 to 1.5. When the weight ratio is less than 0.5, it becomes difficult to control the fluidity of the hollow sealing sheet 11, while when it exceeds 1.5, the adhesiveness of the hollow sealing sheet 11 to electronic components is inferior. This is because there is a tendency.

60℃における上記エラストマーの引張弾性率Eeの上記熱硬化性樹脂の引張弾性率Etに対する比Ee/Etが5×10−5以上1×10−2以下であることが好ましく、1×10−4以上5×10−3以下であることが好ましい。これにより、中空封止シートの製造過程における混練時に、混練部材及び熱硬化性樹脂からの剪断応力がエラストマーに有効に作用し、エラストマーの微小化を促進させることができる。なお、上記引張弾性率Ee及びEtの測定方法は、以下の手順で行うことができる。エラストマー及び熱硬化性樹脂の各シートを厚さ200μm、長さ400mm、幅10mmの短冊状にカッターナイフで切り出して測定サンプルとする。この測定サンプルを固体粘弾性測定装置(RSAIII、レオメトリックサイエンティフィック社製)を用いて、周波数1Hz、昇温速度10℃/minの条件下で、−50〜300℃での引張弾性率、及び損失弾性率を測定する。この測定の際の60℃における引張弾性率の値を読み取り、目的の引張弾性率Ee及びEtを得る。 The ratio Ee / Et of the elastic modulus Ee of the elastomer at 60 ° C. to the elastic modulus Et of the thermosetting resin is preferably 5 × 10 −5 or more and 1 × 10 −2 or less, and preferably 1 × 10 −4. It is preferably 5 × 10 −3 or less. Thereby, at the time of kneading in the production process of the hollow sealing sheet, the shear stress from the kneading member and the thermosetting resin effectively acts on the elastomer, and the miniaturization of the elastomer can be promoted. In addition, the measuring method of the said tensile elasticity modulus Ee and Et can be performed in the following procedures. Each sheet of elastomer and thermosetting resin is cut into a strip shape having a thickness of 200 μm, a length of 400 mm, and a width of 10 mm with a cutter knife to obtain a measurement sample. Using this measurement sample, a solid viscoelasticity measuring device (RSAIII, manufactured by Rheometric Scientific) under a condition of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 10 ° C./min, a tensile elastic modulus at −50 to 300 ° C., And measure the loss modulus. The value of the tensile modulus at 60 ° C. at the time of this measurement is read to obtain the target tensile modulus Ee and Et.

(D成分)
無機質充填剤(D成分)は、特に限定されるものではなく、従来公知の各種充填剤を用いることができ、例えば、石英ガラス、タルク、シリカ(溶融シリカや結晶性シリカ等)、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素の粉末が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。無機充填剤を含むことにより、中空封止シートに中空部付近におけるダイラタンシー様作用をより効率良く付与することができる。
(D component)
The inorganic filler (component D) is not particularly limited, and various conventionally known fillers can be used. For example, quartz glass, talc, silica (fused silica, crystalline silica, etc.), alumina, nitriding Examples thereof include aluminum, silicon nitride, and boron nitride powders. These may be used alone or in combination of two or more. By including the inorganic filler, the dilatancy-like action in the vicinity of the hollow portion can be more efficiently imparted to the hollow sealing sheet.

中でも、エポキシ樹脂組成物の硬化体の熱線膨張係数が低減することにより内部応力を低減し、その結果、電子部品の封止後の中空封止シート11の反りを抑制できるという点から、シリカ粉末を用いることが好ましく、シリカ粉末の中でも溶融シリカ粉末を用いることがより好ましい。溶融シリカ粉末としては、球状溶融シリカ粉末、破砕溶融シリカ粉末が挙げられるが、流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末を用いることが特に好ましい。中でも、平均粒径が54μm以下の範囲のものを用いることが好ましく、0.1〜30μmの範囲のものを用いることがより好ましく、0.5〜20μmの範囲のものを用いることが特に好ましい。   Among these, the silica powder reduces the internal stress by reducing the coefficient of thermal expansion of the cured epoxy resin composition, and as a result, the warp of the hollow sealing sheet 11 after sealing the electronic component can be suppressed. It is preferable to use a fused silica powder among the silica powders. Examples of the fused silica powder include spherical fused silica powder and crushed fused silica powder. From the viewpoint of fluidity, it is particularly preferable to use a spherical fused silica powder. Among them, those having an average particle diameter in the range of 54 μm or less are preferably used, those in the range of 0.1 to 30 μm are more preferable, and those in the range of 0.5 to 20 μm are particularly preferable.

なお、平均粒径は、母集団から任意に抽出される試料を用い、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することにより導き出すことができる。   The average particle diameter can be derived by using a sample arbitrarily extracted from the population and measuring it using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

無機質充填剤(D成分)の含有量は、好ましくはエポキシ樹脂組成物全体の70〜90体積%(シリカ粒子の場合、比重2.2g/cmであるので、81〜94重量%)であり、より好ましくは74〜85体積%(シリカ粒子の場合、84〜91重量%)であり、さらに好ましくは76〜83体積%(シリカ粒子の場合、85〜90重量%)である。無機質充填剤(D成分)の含有量が70体積%未満では、エポキシ樹脂組成物の硬化体の線膨張係数が大きくなるために、中空封止シート11の反りが大きくなる傾向がみられる。一方、上記含有量が90体積%を超えると、中空封止シート11の柔軟性や流動性が悪くなるために、電子部品との接着性が低下する傾向がみられる。 The content of the inorganic filler (component D) is preferably 70 to 90% by volume of the entire epoxy resin composition (81 to 94% by weight because the specific gravity is 2.2 g / cm 3 in the case of silica particles). More preferably, it is 74 to 85% by volume (84 to 91% by weight in the case of silica particles), and still more preferably 76 to 83% by volume (85 to 90% by weight in the case of silica particles). When the content of the inorganic filler (D component) is less than 70% by volume, the linear expansion coefficient of the cured product of the epoxy resin composition increases, and thus the warpage of the hollow sealing sheet 11 tends to increase. On the other hand, since the softness | flexibility and fluidity | liquidity of the hollow sealing sheet 11 will worsen when the said content exceeds 90 volume%, the tendency for adhesiveness with an electronic component to fall is seen.

(E成分)
硬化促進剤(E成分)は、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の硬化を進行させるものであれば特に限定されるものではないが、硬化性と保存性の観点から、トリフェニルホスフィンやテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等の有機リン系化合物や、イミダゾール系化合物が好適に用いられる。これら硬化促進剤は、単独で用いても良いし、他の硬化促進剤と併用しても構わない。
(E component)
The curing accelerator (component E) is not particularly limited as long as it allows curing of the epoxy resin and the phenol resin, but from the viewpoint of curability and storage stability, triphenylphosphine or tetraphenylphosphonium tetraphenyl. Organic phosphorus compounds such as borates and imidazole compounds are preferably used. These curing accelerators may be used alone or in combination with other curing accelerators.

硬化促進剤(E成分)の含有量は、エポキシ樹脂(A成分)及びフェノール樹脂(B成分)の合計100重量部に対して0.1〜5重量部であることが好ましい。   It is preferable that content of a hardening accelerator (E component) is 0.1-5 weight part with respect to a total of 100 weight part of an epoxy resin (A component) and a phenol resin (B component).

(その他の成分)
また、エポキシ樹脂組成物には、A成分からE成分に加えて、難燃剤成分を加えてもよい。難燃剤組成分としては、例えば水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化鉄、水酸化カルシウム、水酸化スズ、複合化金属水酸化物等の各種金属水酸化物を用いることができる。
(Other ingredients)
In addition to the A component to the E component, a flame retardant component may be added to the epoxy resin composition. As the flame retardant composition, various metal hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, iron hydroxide, calcium hydroxide, tin hydroxide, and complex metal hydroxide can be used.

金属水酸化物の平均粒径としては、エポキシ樹脂組成物を加熱した際に適当な流動性を確保するという観点から、平均粒径が1〜10μmであることが好ましく、さらに好ましくは2〜5μmである。金属水酸化物の平均粒径が1μm未満では、エポキシ樹脂組成物中に均一に分散させることが困難となるとともに、エポキシ樹脂組成物の加熱時における流動性が十分に得られない傾向がある。また、平均粒径が10μmを超えると、金属水酸化物(E成分)の添加量あたりの表面積が小さくなるため、難燃効果が低下する傾向がみられる。   The average particle diameter of the metal hydroxide is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm, from the viewpoint of ensuring appropriate fluidity when the epoxy resin composition is heated. It is. When the average particle size of the metal hydroxide is less than 1 μm, it becomes difficult to uniformly disperse in the epoxy resin composition, and the fluidity during heating of the epoxy resin composition tends to be insufficient. Moreover, since the surface area per addition amount of a metal hydroxide (E component) will become small when an average particle diameter exceeds 10 micrometers, the tendency for a flame-retardant effect to fall is seen.

また、難燃剤成分としては上記金属水酸化物のほか、ホスファゼン化合物を用いることができる。ホスファゼン化合物としては、例えばSPR−100、SA−100、SP−100(以上、大塚化学株式会社)、FP−100、FP−110(以上、株式会社伏見製薬所)等が市販品として入手可能である。   As the flame retardant component, a phosphazene compound can be used in addition to the metal hydroxide. As phosphazene compounds, for example, SPR-100, SA-100, SP-100 (above, Otsuka Chemical Co., Ltd.), FP-100, FP-110 (above, Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) and the like are available as commercial products. is there.

少量でも難燃効果を発揮するという観点から、式(1)又は式(2)で表されるホスファゼン化合物が好ましく、これらホスファンゼン化合物に含まれるリン元素の含有率は、12重量%以上であることが好ましい。
(式(1)中、nは3〜25の整数であり、R及びRは同一又は異なって、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、水酸基及びアリル基からなる群より選択される官能基を有する1価の有機基である。)
(式(2)中、n及びmは、それぞれ独立して3〜25の整数である。R及びRは同一又は異なって、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、水酸基及びアリル基からなる群より選択される官能基を有する1価の有機基である。Rは、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、水酸基及びアリル基からなる群より選択される官能基を有する2価の有機基である。)
The phosphazene compound represented by the formula (1) or the formula (2) is preferable from the viewpoint of exhibiting a flame retardant effect even in a small amount, and the content of phosphorus element contained in these phosphanzene compounds is 12% by weight or more. Is preferred.
(In the formula (1), n is an integer of 3 to 25, R 1 and R 2 are the same or different and are selected from the group consisting of an alkoxy group, a phenoxy group, an amino group, a hydroxyl group and an allyl group. A monovalent organic group having
(In the formula (2), n and m are each independently an integer of 3 to 25. R 3 and R 5 are the same or different and are composed of an alkoxy group, a phenoxy group, an amino group, a hydroxyl group and an allyl group. R 4 is a divalent organic group having a functional group selected from the group consisting of an alkoxy group, a phenoxy group, an amino group, a hydroxyl group and an allyl group. .)

また、安定性及びボイドの生成抑制という観点から、式(3)で表される環状ホスファゼンオリゴマーを用いることが好ましい。
(式(3)中、nは3〜25の整数であり、R及びRは同一又は異なって、水素、水酸基、アルキル基、アルコキシ基又はグリシジル基である。)
Moreover, it is preferable to use the cyclic phosphazene oligomer represented by Formula (3) from a viewpoint of stability and suppression of void formation.
(In Formula (3), n is an integer of 3 to 25, and R 6 and R 7 are the same or different and are hydrogen, a hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, or a glycidyl group.)

上記式(3)で表される環状ホスファゼンオリゴマーは、例えばFP−100、FP−110(以上、株式会社伏見製薬所)等が市販品として入手可能である。   As the cyclic phosphazene oligomer represented by the above formula (3), for example, FP-100, FP-110 (above, Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

ホスファゼン化合物の含有量は、エポキシ樹脂組成物中に含まれるエポキシ樹脂(A成分)、フェノール樹脂(B成分)、エラストマー(D成分)、硬化促進剤(E成分)及びホスファゼン化合物(その他の成分)を含む有機成分全体の10〜30重量%であることが好ましい。すなわち、ホスファゼン化合物の含有量が、有機成分全体の10重量%未満では、中空封止シート11の難燃性が低下するとともに、被着体(例えば、電子部品を搭載した基板等)に対する凹凸追従性が低下し、ボイドが発生する傾向がみられる。上記含有量が有機成分全体の30重量%を超えると、中空封止シート11の表面にタックが生じやすくなり、被着体に対する位置合わせをしにくくなる等作業性が低下する傾向がみられる。   The content of the phosphazene compound includes the epoxy resin (component A), phenol resin (component B), elastomer (component D), curing accelerator (component E) and phosphazene compound (other components) contained in the epoxy resin composition. It is preferable that it is 10 to 30 weight% of the whole organic component containing. That is, when the content of the phosphazene compound is less than 10% by weight of the whole organic component, the flame retardancy of the hollow sealing sheet 11 is lowered and the unevenness tracking with respect to the adherend (for example, a substrate mounted with an electronic component) Tend to be reduced and voids tend to occur. When the content exceeds 30% by weight of the whole organic component, tackiness is likely to occur on the surface of the hollow sealing sheet 11, and workability tends to be lowered, such as difficulty in alignment with the adherend.

また、上記金属水酸化物及びホスファゼン化合物を併用し、シート封止に必要な可撓性を確保しつつ、難燃性に優れた中空封止シート11を得ることもできる。両者を併用することにより、金属水酸化物のみを用いた場合の十分な難燃性と、ホスファゼン化合物のみを用いた場合は、十分な可撓性を得ることができる。   Moreover, the said metal hydroxide and a phosphazene compound can be used together, and the hollow sealing sheet 11 excellent in the flame retardance can also be obtained, ensuring the flexibility required for sheet sealing. By using both in combination, sufficient flame retardancy when only the metal hydroxide is used and sufficient flexibility can be obtained when only the phosphazene compound is used.

上記難燃剤のうち、樹脂封止の成型時における中空封止シートの変形性、電子部品や被着体の凹凸への追従性、電子部品や被着体への密着性の点から有機系難燃剤を用いるのが望ましく、特にホスファゼン系難燃剤が好適に用いられる。   Among the above flame retardants, it is difficult to form organic materials from the viewpoints of deformability of the hollow sealing sheet during molding of resin sealing, followability to unevenness of electronic parts and adherends, and adhesion to electronic parts and adherends. It is desirable to use a flame retardant, and a phosphazene flame retardant is particularly preferably used.

なお、エポキシ樹脂組成物は、上記の各成分以外に必要に応じて、カーボンブラックをはじめとする顔料等、他の添加剤を適宜配合することができる。   In addition to the above components, the epoxy resin composition can be appropriately mixed with other additives such as a pigment including carbon black as necessary.

(中空封止シートの作製方法)
中空封止シートの作製方法を以下に説明する。本実施形態の中空封止シートの製造方法は、エラストマーを含む混練物を調製する混練工程、及び前記混練物をシート状に成形して中空封止シートを得る成形工程を含む。
(Method for producing hollow sealing sheet)
A method for producing the hollow sealing sheet will be described below. The manufacturing method of the hollow sealing sheet of this embodiment includes the kneading | mixing process which prepares the kneaded material containing an elastomer, and the shaping | molding process which shape | molds the said kneaded material in a sheet form and obtains a hollow sealing sheet.

(混練工程)
まず、上述の各成分を混合することによりエポキシ樹脂組成物を調製する。混合方法は、各成分が均一に分散混合される方法であれば特に限定するものではない。その後、エラストマーを含む各配合成分を直接ニーダー等で混練することにより混練物を調製する。この際、中空封止シートのエラストマーがドメイン状に分散し、該ドメインの最大径が20μm以下となるように混練することが好ましい。
(Kneading process)
First, an epoxy resin composition is prepared by mixing the above-described components. The mixing method is not particularly limited as long as each component is uniformly dispersed and mixed. Then, a kneaded material is prepared by kneading each compounding component including the elastomer directly with a kneader or the like. At this time, it is preferable to knead so that the elastomer of the hollow sealing sheet is dispersed in a domain shape and the maximum diameter of the domain is 20 μm or less.

具体的には、上記A〜E成分及び必要に応じて他の添加剤の各成分をミキサーなど公知の方法を用いて混合し、その後、溶融混練することにより混練物を調製する。溶融混練する方法としては、特に限定されないが、例えば、ミキシングロール、加圧式ニーダー、押出機などの公知の混練機により、溶融混練する方法などが挙げられる。このようなニーダーとしては、例えば、軸方向の一部においてスクリュー羽のスクリュー軸からの突出量が他の部分のスクリュー羽のスクリュー軸からの突出量よりも小さい部分を有する混練用スクリュー、又は軸方向の一部においてスクリュー羽がない混練用スクリューを備えたニーダーを好適に用いることができる。スクリュー羽の突出量が小さい部分又はスクリュー羽がない部分では低せん断力かつ低攪拌となり、これにより混練物の圧縮率が高まって噛みこんだエアを排除可能となり、得られる混練物における気孔の発生を抑制することができる。   Specifically, the above components A to E and, if necessary, each component of other additives are mixed using a known method such as a mixer, and then kneaded to prepare a kneaded product. The method of melt kneading is not particularly limited, and examples thereof include a method of melt kneading with a known kneader such as a mixing roll, a pressure kneader, or an extruder. As such a kneader, for example, a kneading screw having a portion in which the protruding amount of the screw blade from the screw shaft in a part of the axial direction is smaller than the protruding amount of the screw blade of the other portion or the shaft A kneader equipped with a kneading screw having no screw blades in a part of the direction can be suitably used. Low shear force and low agitation in the part where the protruding amount of the screw wing is small or where there is no screw wing increases the compression rate of the kneaded product, and it is possible to eliminate the trapped air and generate pores in the obtained kneaded product Can be suppressed.

混練条件としては、温度が、上記した各成分の軟化点以上であれば特に制限されず、例えば30〜150℃、エポキン樹脂の熱硬化性を考慮すると、好ましくは40〜140℃、さらに好ましくは60〜120℃であり、時間が、例えば1〜30分間、好ましくは5〜15分間である。これによって、混練物を調製することができる。   The kneading conditions are not particularly limited as long as the temperature is equal to or higher than the softening point of each component described above. For example, when considering the thermosetting property of 30 to 150 ° C. and the epoxy resin, preferably 40 to 140 ° C., more preferably It is 60-120 degreeC, and time is 1 to 30 minutes, for example, Preferably it is 5 to 15 minutes. Thereby, a kneaded material can be prepared.

混練にニーダーを用いる場合、混練回転数r(rpm)の混練処理量t(kg/hr)に対する比r/tが60以上であることが好ましく、70以上がより好ましい。該比r/tが60以上であると、エラストマーを含む混練原料に充分な剪断応力が加わり、エラストマーの微小化を効率良く促進させることができる。上記混練回転数r(rpm)としては、200〜1000rpmが好ましく、混練処理量t(kg/hr)としては、3〜20kg/hrが好ましい。   When a kneader is used for kneading, the ratio r / t of the kneading rotation speed r (rpm) to the kneading treatment amount t (kg / hr) is preferably 60 or more, and more preferably 70 or more. When the ratio r / t is 60 or more, sufficient shear stress is applied to the kneaded raw material containing the elastomer, and the miniaturization of the elastomer can be promoted efficiently. The kneading rotation speed r (rpm) is preferably 200 to 1000 rpm, and the kneading throughput t (kg / hr) is preferably 3 to 20 kg / hr.

(成形工程)
得られる混練物をシート状に押出成形により成形することにより、中空封止シート11を得ることができる。具体的には、溶融混練後の混練物を冷却することなく高温状態のままで、押出成形することで、中空封止シート11を形成することができる。このような押出方法としては、特に制限されず、Tダイ押出法、ロール圧延法、ロール混練法、共押出法、カレンダー成形法などが挙げられる。押出温度としては、上記した各成分の軟化点以上であれば、特に制限されないが、エポキシ樹脂の熱硬化性および成形性を考慮すると、例えば40〜150℃、好ましくは、50〜140℃、さらに好ましくは70〜120℃である。以上により、中空封止シート11を形成することができる。
(Molding process)
The hollow encapsulated sheet 11 can be obtained by forming the obtained kneaded material into a sheet by extrusion molding. Specifically, the hollow encapsulating sheet 11 can be formed by extrusion molding without cooling the kneaded product after melt-kneading while keeping the high temperature state. Such an extrusion method is not particularly limited, and examples thereof include a T-die extrusion method, a roll rolling method, a roll kneading method, a co-extrusion method, and a calendar molding method. The extrusion temperature is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the softening point of each component described above, but considering the thermosetting property and moldability of the epoxy resin, for example, 40 to 150 ° C, preferably 50 to 140 ° C, Preferably it is 70-120 degreeC. Thus, the hollow sealing sheet 11 can be formed.

中空封止シート11の厚さは特に限定されないが、100〜2000μmであることが好ましい。上記範囲内であると、良好に電子部品を封止することができる。また、樹脂シートを薄型にすることで、発熱量を低減でき、硬化収縮が起こりにくくなる。この結果、パッケージ反り量を低減でき、より信頼性の高い中空パッケージが得られる。   Although the thickness of the hollow sealing sheet 11 is not specifically limited, It is preferable that it is 100-2000 micrometers. Within the above range, the electronic component can be satisfactorily sealed. Further, by making the resin sheet thin, the amount of heat generation can be reduced, and curing shrinkage hardly occurs. As a result, the amount of package warpage can be reduced, and a more reliable hollow package can be obtained.

このようにして得られた中空封止シートは、必要により所望の厚みとなるように積層して使用してもよい。すなわち、中空封止シートは、単層構造にて使用してもよいし、2層以上の多層構造に積層してなる積層体として使用してもよい。   The hollow sealing sheet thus obtained may be used by being laminated so as to have a desired thickness if necessary. That is, the hollow sealing sheet may be used in a single-layer structure, or may be used as a laminate formed by laminating two or more multilayer structures.

[中空パッケージの製造方法]
次に、上記中空封止シートを用いる本実施形態に係る中空パッケージの製造方法について図2A〜2Cを参照しつつ説明する。図2A〜2Cはそれぞれ、本発明の一実施形態に係る中空パッケージの製造方法の一工程を模式的に示す断面図である。本実施形態では、基板上に搭載された電子部品を中空封止シートにより中空封止して中空パッケージを作製する。なお、本実施形態では、電子部品としてSAWフィルタを用い、被着体としてプリント配線基板を用いているが、これら以外の要素を用いてもよい。例えば、電子部品としてコンデンサやセンサデバイス、発光素子、振動素子等の可動部を有し中空部を要する素子、被着体としてリードフレーム、テープキャリア等を用いることができる。いずれの要素を用いても、電子部品の樹脂封止による高度な保護を達成することができる。
[Method of manufacturing hollow package]
Next, the manufacturing method of the hollow package based on this embodiment using the said hollow sealing sheet is demonstrated, referring FIG. 2A to 2C are cross-sectional views schematically showing one step of the method for manufacturing the hollow package according to the embodiment of the present invention. In this embodiment, an electronic component mounted on a substrate is hollow sealed with a hollow sealing sheet to produce a hollow package. In the present embodiment, the SAW filter is used as the electronic component and the printed wiring board is used as the adherend, but other elements may be used. For example, an element having a movable part such as a capacitor, a sensor device, a light emitting element, and a vibration element as an electronic component and requiring a hollow part, and a lead frame, a tape carrier, etc. can be used as an adherend. Even if any element is used, a high degree of protection by resin sealing of the electronic component can be achieved.

(SAWチップ搭載基板準備工程)
SAWチップ搭載基板準備工程では、複数のSAWチップ13が搭載されたプリント配線基板12を準備する(図2A参照)。SAWチップ13は、所定の櫛形電極が形成された圧電結晶を公知の方法でダイシングして個片化することにより形成することができる。SAWチップ13のプリント配線基板12への搭載には、フリップチップボンダーやダイボンダーなどの公知の装置を用いることができる。SAWチップ13とプリント配線基板12とはバンプ等の突起電極13aを介して電気的に接続されている。また、SAWチップ13とプリント配線基板12との間は、SAWチップ表面での表面弾性波の伝播を阻害しないように中空部14を維持するようになっている。SAWチップ13とプリント配線基板12との間の距離は各要素の仕様によって決定され、一般的には15〜50μm程度である。
(SAW chip mounting substrate preparation process)
In the SAW chip mounting board preparing step, a printed wiring board 12 on which a plurality of SAW chips 13 are mounted is prepared (see FIG. 2A). The SAW chip 13 can be formed by dicing a piezoelectric crystal on which a predetermined comb-shaped electrode is formed by a known method. For mounting the SAW chip 13 on the printed wiring board 12, a known device such as a flip chip bonder or a die bonder can be used. The SAW chip 13 and the printed wiring board 12 are electrically connected via protruding electrodes 13a such as bumps. Further, a hollow portion 14 is maintained between the SAW chip 13 and the printed wiring board 12 so as not to inhibit the propagation of surface acoustic waves on the surface of the SAW chip. The distance between the SAW chip 13 and the printed wiring board 12 is determined by the specifications of each element, and is generally about 15 to 50 μm.

(封止工程)
封止工程では、SAWチップ13を覆うようにプリント配線基板12へ中空封止シート11を積層し、SAWチップ13を上記中空封止シートで樹脂封止する(図2B参照)。この中空封止シート11は、SAWチップ13及びそれに付随する要素を外部環境から保護するための封止樹脂として機能する。
(Sealing process)
In the sealing step, the hollow sealing sheet 11 is laminated on the printed wiring board 12 so as to cover the SAW chip 13, and the SAW chip 13 is resin-sealed with the hollow sealing sheet (see FIG. 2B). This hollow sealing sheet 11 functions as a sealing resin for protecting the SAW chip 13 and its accompanying elements from the external environment.

本実施形態では、上記中空封止シート11を採用することにより、SAWチップ13の被覆にプリント配線基板12上に貼り付けるだけでSAWチップ13を埋め込むことができ、中空パッケージの生産効率を向上させることができる。この場合、熱プレスやラミネータなど公知の方法により中空封止シート11をプリント配線基板12上に積層することができる。熱プレス条件としては、温度が、例えば、40〜100℃、好ましくは、50〜90℃であり、圧力が、例えば、0.1〜10MPa、好ましくは、0.5〜8MPaであり、時間が、例えば、0.3〜10分間、好ましくは、0.5〜5分間である。また、中空封止シート11のSAWチップ13及びプリント配線基板12への密着性および追従性の向上を考慮すると、好ましくは、減圧条件下(例えば0.1〜5kPa)において、プレスすることが好ましい。   In the present embodiment, by adopting the hollow sealing sheet 11, the SAW chip 13 can be embedded simply by sticking on the printed wiring board 12 to the coating of the SAW chip 13, thereby improving the production efficiency of the hollow package. be able to. In this case, the hollow sealing sheet 11 can be laminated on the printed wiring board 12 by a known method such as hot pressing or laminator. As hot press conditions, the temperature is, for example, 40 to 100 ° C., preferably 50 to 90 ° C., the pressure is, for example, 0.1 to 10 MPa, preferably 0.5 to 8 MPa, and the time For example, 0.3 to 10 minutes, preferably 0.5 to 5 minutes. Further, in consideration of improvement in adhesion and followability of the hollow sealing sheet 11 to the SAW chip 13 and the printed wiring board 12, it is preferable to press under reduced pressure conditions (for example, 0.1 to 5 kPa). .

中空封止シート11ではエラストマーの微小ドメインが分散しているので、中空部14への樹脂成分の進入が抑制されており、SAWチップ13の作動信頼性や接続信頼性を向上させることができる。   In the hollow sealing sheet 11, since the fine domains of the elastomer are dispersed, the resin component is prevented from entering the hollow portion 14, and the operation reliability and connection reliability of the SAW chip 13 can be improved.

(封止体形成工程)
封止体形成工程では、上記中空封止シートを熱硬化処理して封止体15を形成する(図2B参照)。中空封止シートの熱硬化処理の条件は、加熱温度として好ましくは100℃から200℃、より好ましくは120℃から180℃、加熱時間として好ましくは10分から180分、より好ましくは30分から120分の間、必要に応じて加圧しても良い。加圧の際は、好ましくは0.1MPaから10MPa、より好ましくは0.5MPaから5MPaを採用することができる。
(Sealing body forming process)
In the sealing body forming step, the hollow sealing sheet is thermoset to form the sealing body 15 (see FIG. 2B). The conditions of the thermosetting treatment of the hollow sealing sheet are preferably 100 to 200 ° C., more preferably 120 to 180 ° C. as the heating temperature, and preferably 10 to 180 minutes, more preferably 30 to 120 minutes as the heating time. You may pressurize as needed. In the pressurization, preferably 0.1 MPa to 10 MPa, more preferably 0.5 MPa to 5 MPa can be employed.

(ダイシング工程)
続いて、中空封止シート11、プリント配線基板12、及びSAWチップ13などの要素からなる封止体15のダイシングを行ってもよい(図2C参照)。これにより、SAWチップ13単位での中空パッケージ18を得ることができる。ダイシングは、通常、従来公知のダイシングシートにより上記封止体15を固定した上で行う。
(Dicing process)
Subsequently, dicing of the sealing body 15 including elements such as the hollow sealing sheet 11, the printed wiring board 12, and the SAW chip 13 may be performed (see FIG. 2C). Thereby, the hollow package 18 in the SAW chip 13 unit can be obtained. Dicing is usually performed after fixing the sealing body 15 with a conventionally known dicing sheet.

(基板実装工程)
必要に応じて、上記で得られた中空パッケージ18に対して再配線及びバンプを形成し、これを別途の基板(図示せず)に実装する基板実装工程を行うことができる。中空パッケージ18の基板への実装には、フリップチップボンダーやダイボンダーなどの公知の装置を用いることができる。
(Board mounting process)
If necessary, it is possible to perform a substrate mounting process in which rewiring and bumps are formed on the hollow package 18 obtained above and mounted on a separate substrate (not shown). For mounting the hollow package 18 on the substrate, a known device such as a flip chip bonder or a die bonder can be used.

《第2実施形態》
第1実施形態では、各配合成分をニーダー等で混練して混練物を調製し、この混練物を押出成形してシート状に形成している。これに対し、本実施形態では、各成分を有機溶剤等に溶解又は分散したワニスを塗工してシート状に形成する。塗工法では、エラストマーを溶剤等に溶解又は分散させた状態でシート成膜が可能であるので、エラストマーのドメインサイズを微小化することができる。
<< Second Embodiment >>
In the first embodiment, each compounding component is kneaded with a kneader or the like to prepare a kneaded product, and the kneaded product is extruded to form a sheet. On the other hand, in this embodiment, the varnish which melt | dissolved or disperse | distributed each component in the organic solvent etc. is applied, and it forms in a sheet form. In the coating method, since the sheet can be formed in a state where the elastomer is dissolved or dispersed in a solvent or the like, the domain size of the elastomer can be miniaturized.

ワニスを用いる具体的な作製手順としては、上記A〜E成分及び必要に応じて他の添加剤を常法に準じて適宜混合し、有機溶剤に均一に溶解あるいは分散させ、ワニスを調製する。ついで、上記ワニスをポリエステル等の支持体上に塗布し乾燥させることにより中空封止シート11を得ることができる。そして必要により、中空封止シートの表面を保護するためにポリエステルフィルム等の剥離シートを貼り合わせてもよい。剥離シートは封止時に剥離する。   As a specific production procedure using a varnish, the above components A to E and, if necessary, other additives are appropriately mixed according to a conventional method, and uniformly dissolved or dispersed in an organic solvent to prepare a varnish. Subsequently, the hollow sealing sheet 11 can be obtained by apply | coating the said varnish on support bodies, such as polyester, and making it dry. If necessary, a release sheet such as a polyester film may be bonded to protect the surface of the hollow sealing sheet. The release sheet peels at the time of sealing.

上記有機溶剤としては、特に限定されるものではなく従来公知の各種有機溶剤、例えばメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジエチルケトン、トルエン、酢酸エチル等を用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併せて用いてもよい。また通常、ワニスの固形分濃度が30〜95重量%の範囲となるように有機溶剤を用いることが好ましい。   The organic solvent is not particularly limited, and various conventionally known organic solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, dioxane, diethyl ketone, toluene, and ethyl acetate can be used. These may be used alone or in combination of two or more. In general, it is preferable to use an organic solvent so that the solid content concentration of the varnish is in the range of 30 to 95% by weight.

有機溶剤乾燥後のシートの厚みは、特に制限されるものではないが、厚みの均一性と残存溶剤量の観点から、通常、5〜100μmに設定することが好ましく、より好ましくは20〜70μmである。   Although the thickness of the sheet after drying the organic solvent is not particularly limited, it is usually preferably set to 5 to 100 μm, more preferably 20 to 70 μm, from the viewpoint of uniformity of thickness and the amount of residual solvent. is there.

以下に、この発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている材料や配合量等は、特に限定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、部とあるのは、重量部を意味する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail by way of example. However, the materials, blending amounts, and the like described in this example are not intended to limit the scope of the present invention only to those unless otherwise specified. The term “parts” means parts by weight.

[実施例1]
(中空封止シートの作製)
以下の成分をミキサーにてブレンドし、2軸混練機により、混練回転数を300rpm、混練処理量を5kg/hrとし、110℃で10分間溶融混練し、続いてTダイから押出しすることにより、厚さ200μmの中空封止シートを作製した。
[Example 1]
(Preparation of hollow sealing sheet)
By blending the following components with a mixer, using a twin-screw kneader, kneading rotation speed is 300 rpm, kneading treatment amount is 5 kg / hr, melt kneading at 110 ° C. for 10 minutes, and then extruding from a T die, A hollow sealing sheet having a thickness of 200 μm was produced.

エポキシ樹脂:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製、YSLV−80XY(エポキン当量200g/eq.軟化点80℃)) 3.4部
フェノール樹脂:ビフェニルアラルキル骨格を有するフェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851−SS(水酸基当量203g/eq.、軟化点67℃)) 3.6部
エラストマー:(三菱レーヨン社製、メタブレンC−132E) 2.3部
無機充填剤:球状溶融シリカ(電気化学工業社製、FB−9454FC)87.9部
シランカップリング剤:エポキシ基含有シランカップリング剤(信越化学工業(株)製、KBM−803) 0.5部
カーボンブラック(三菱化学(株)製、MA600) 0.1部
難燃剤:((株)伏見製薬所製、FP−100) 1.8部
硬化促進剤:イミダゾール系触媒(四国化成工業社製、2PHZ−PW) 0.4部
Epoxy resin: Bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., YSLV-80XY (epochine equivalent 200 g / eq. Softening point 80 ° C.)) 3.4 parts Phenol resin: phenol resin having biphenylaralkyl skeleton (Maywa) Manufactured by Kasei Co., Ltd., MEH-7851-SS (hydroxyl equivalent: 203 g / eq., Softening point: 67 ° C.)) 3.6 parts Elastomer: (Mitsubrene C-132E manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 2.3 parts Inorganic filler: spherical melting Silica (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., FB-9454FC) 87.9 parts Silane coupling agent: Epoxy group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-803) 0.5 part Carbon black (Mitsubishi Chemical) MA600) 0.1 parts Flame retardant: (FP-100, Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) 1.8 parts Curing accelerator: 0.4 part of imidazole catalyst (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., 2PHZ-PW)

[実施例2]
混練処理量を3.5kg/hrとしたこと以外は、実施例1と同様に中空封止シートを作製した。
[Example 2]
A hollow sealing sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the kneading amount was 3.5 kg / hr.

[実施例3]
混練回転数を500rpmとしたこと以外は、実施例1と同様に中空封止シートを作製した。
[Example 3]
A hollow sealing sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the kneading rotation speed was 500 rpm.

[実施例4]
混練回転数を1000rpmとしたこと以外は、実施例1と同様に中空封止シートを作製した。
[Example 4]
A hollow sealing sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the kneading rotation speed was 1000 rpm.

[実施例5]
実施例1と同じ成分を同じ配合量にてメチルエチルケトンとトルエンとの1:1混合溶剤に溶解ないし分散し、固形分40重量%のワニスを作製した。
[Example 5]
The same components as in Example 1 were dissolved or dispersed in a 1: 1 mixed solvent of methyl ethyl ketone and toluene at the same blending amount to prepare a varnish having a solid content of 40% by weight.

離型処理を施したPETフィルム上に、溶剤乾燥後の塗膜の厚さが50μmになるようにワニスを塗工し、次いで乾燥条件を120℃、3分として塗膜を乾燥させて、厚さ50μmの樹脂シートを得た。得られた樹脂シートを、ラミネータを用いて厚み200μmになるまで積層し、厚さ200μmの中空封止シートを作製した。   On the PET film subjected to the mold release treatment, the varnish was applied so that the thickness of the coating film after drying the solvent was 50 μm, and then the drying condition was 120 ° C. for 3 minutes to dry the coating film. A resin sheet having a thickness of 50 μm was obtained. The obtained resin sheet was laminated using a laminator to a thickness of 200 μm to produce a hollow sealing sheet having a thickness of 200 μm.

[比較例1]
混練回転数を100rpmとしたこと以外は、実施例1と同様に中空封止シートを作製した。
[Comparative Example 1]
A hollow sealing sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the kneading rotation speed was 100 rpm.

[比較例2]
混練回転数を50rpmとしたこと以外は、実施例1と同様に中空封止シートを作製した。
[Comparative Example 2]
A hollow sealing sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the kneading rotation speed was 50 rpm.

(中空封止シートの可撓性の評価)
実施例及び比較例の封止用シートを、幅60mm×長さ60mmに切り出し、中空封止シートの両端部(平面視で対向する辺)を把持し、ゆっくりと90°折り曲げて、可撓性を下記の基準により評価した。結果を表1に示す。
○:90°折り曲げても割れなかった。
△:90°折り曲げるとヒビが入った。
×:90°折り曲げると割れた。
(Evaluation of flexibility of hollow sealing sheet)
The sealing sheets of the examples and comparative examples were cut into a width of 60 mm and a length of 60 mm, gripped at both ends (sides opposed to each other in plan view) of the hollow sealing sheet, and slowly bent by 90 ° to be flexible. Was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
○: No cracking even when bent 90 °.
Δ: Cracked when bent at 90 °.
X: Cracked when bent at 90 °.

(エラストマーのドメインの観察)
作製した中空封止シートを150℃で1時間熱硬化して室温まで徐冷した後、得られた硬化物をカッターにて切断した。切断面をビューラー製自動研磨装置にて研磨し、研磨後の切断面をSEM(2000倍)により観察した。図3に、実施例1の中空封止シートの切断面のSEM観察像を示す。SEM観察像において黒色で示される領域がエラストマーのドメインである。次いで、この黒色で示されるエラストマーのドメインをランダムに50点選び、それらの最大径を測定して平均値をとることでドメインの最大径とした。他の実施例2〜5及び比較例1〜2についても同様にSEM観察及び最大径の測定を行った。最大径測定の結果を表1に示す。
(Observation of elastomer domains)
The produced hollow sealing sheet was heat-cured at 150 ° C. for 1 hour and gradually cooled to room temperature, and then the obtained cured product was cut with a cutter. The cut surface was polished by a Buhler automatic polishing apparatus, and the cut surface after polishing was observed with SEM (2000 times). In FIG. 3, the SEM observation image of the cut surface of the hollow sealing sheet of Example 1 is shown. A region shown in black in the SEM observation image is an elastomer domain. Next, 50 elastomer domains shown in black were selected at random, and their maximum diameters were measured and averaged to obtain the maximum domain diameter. SEM observation and measurement of the maximum diameter were similarly performed for other Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 and 2. The results of the maximum diameter measurement are shown in Table 1.

(スリット付き成形金型での樹脂進入量の測定)
図4Aから図4Cに示すスリット付き成形金型を用い、スリットへの樹脂進入量を測定した。図4Aに示すように、成形金型100は、円盤の外周部分に立ち上がり部分を有する断面コの字状の下金型110と、円盤状の上金型120とからなり、下金型110と上金型120との間にスリットS、及び樹脂200を受け入れる空洞部が設けられている。上金型120の中心には測定サンプルである樹脂200の投入口Oが設けられている。図4Bに示すように、平面視での下金型110の立ち上がり部分の上面には、上面から所定深さで切り込まれた溝111が複数設けられている。各溝111の切込み深さは、上金型120と組み合わせた際に所定のスリットSの幅が得られるような値となっている。
(Measurement of resin ingress with a molding die with slits)
Using the molding die with slits shown in FIGS. 4A to 4C, the amount of resin entering the slit was measured. As shown in FIG. 4A, the molding die 100 includes a lower die 110 having a U-shaped cross section having a rising portion on the outer peripheral portion of the disk, and a disk-like upper die 120. A slit S and a cavity for receiving the resin 200 are provided between the upper mold 120 and the upper mold 120. At the center of the upper mold 120, an inlet O for a resin 200 as a measurement sample is provided. As shown in FIG. 4B, a plurality of grooves 111 cut from the upper surface at a predetermined depth are provided on the upper surface of the rising portion of the lower mold 110 in plan view. The depth of cut of each groove 111 is such a value that a predetermined width of the slit S can be obtained when combined with the upper mold 120.

実際の樹脂進入量の測定手順としては、図4Cに示すように、成形金型100に投入口Oから樹脂200を金型内に投入した後、投入口Oに加圧用のロッド130を差し込み、成形金型100全体を加熱しながらロッド130で加圧した際に、樹脂200がスリットS内にどの程度進入したかという基準で評価するという手順を採用した。このときのスリットSの内周端部から樹脂200の最大到達点までの距離Lを樹脂進入量として測定した。測定条件を以下に示すとともに、結果を表1に示す。   As an actual measurement procedure of the resin ingress amount, as shown in FIG. 4C, after the resin 200 is introduced into the molding die 100 from the insertion port O, the pressure rod 130 is inserted into the insertion port O. A procedure was adopted in which when the entire molding die 100 is heated and pressurized with the rod 130, the evaluation is based on the degree to which the resin 200 has entered the slit S. At this time, the distance L from the inner peripheral end of the slit S to the maximum arrival point of the resin 200 was measured as the resin ingress amount. The measurement conditions are shown below, and the results are shown in Table 1.

<測定条件>
加熱温度:150℃
圧力:10kg/cm
加圧時間:10分間
スリット幅:1μm、5μm、10μm、20μm、50μm
<Measurement conditions>
Heating temperature: 150 ° C
Pressure: 10 kg / cm 2
Pressurization time: 10 minutes Slit width: 1 μm, 5 μm, 10 μm, 20 μm, 50 μm

(パッケージ中空部への樹脂進入性の評価)
アルミニウム櫛形電極が形成された以下の仕様のSAWチップを下記ボンディング条件にてガラス基板に実装したSAWチップ実装基板を作製した。
(Evaluation of resin penetration into package hollow)
A SAW chip mounting substrate in which a SAW chip having the following specifications on which an aluminum comb electrode was formed was mounted on a glass substrate under the following bonding conditions was produced.

<SAWチップ>
チップサイズ:1.4×1.1mm□(厚さ150μm)
バンプ材質:Au 高さ30μm
バンプ数:6バンプ
チップ数:100個(10個×10個)
<SAW chip>
Chip size: 1.4 × 1.1mm □ (thickness 150μm)
Bump material: Au Height 30μm
Number of bumps: 6 bumps Number of chips: 100 (10 x 10)

<ボンディング条件>
装置:パナソニック電工(株)製
ボンディング条件:200℃、3N、1sec(超音波出力2W)
<Bonding conditions>
Equipment: manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd. Bonding conditions: 200 ° C., 3N, 1 sec (ultrasound output 2W)

得られたSAWチップ実装基板上に、以下に示す加熱加圧条件下、各中空封止シートを真空プレスにより貼付けた。   Each hollow sealing sheet was affixed on the obtained SAW chip mounting substrate by a vacuum press under the heating and pressing conditions shown below.

<貼り付け条件>
温度:60℃
加圧力:4MPa
真空度:1.6kPa
プレス時間:1分
<Paste conditions>
Temperature: 60 ° C
Applied pressure: 4 MPa
Degree of vacuum: 1.6 kPa
Press time: 1 minute

大気圧に開放した後、熱風乾燥機中、150℃、1時間の条件で中空封止シートを熱硬化させ、封止体を得た。ガラス基板側から電子顕微鏡(KEYENCE社製、商品名「デジタルマイクロスコープ」、200倍)により、SAWチップとガラス基板との間の中空部への樹脂の進入量を測定した。樹脂進入量は、中空封止シートによる封止前にガラス基板側から電子顕微鏡でSAWチップの端部の位置を確認及び記憶しておき、封止後に再度ガラス基板側から電子顕微鏡で観察し、封止前後での観察像を比較して、封止前に確認しておいたSAWチップの端部から中空部へ進入した樹脂の最大到達距離を測定し、これを樹脂進入量とした。樹脂進入量が20μm以下であった場合を「○」、20μmを超えていた場合を「×」として評価した。結果を表1に示す。
After opening to atmospheric pressure, the hollow sealing sheet was thermoset in a hot air dryer at 150 ° C. for 1 hour to obtain a sealed body. The amount of resin entering the hollow portion between the SAW chip and the glass substrate was measured from the glass substrate side with an electron microscope (manufactured by KEYENCE, trade name “Digital Microscope”, 200 times). The amount of resin entering is confirmed and memorized the position of the end of the SAW chip with an electron microscope from the glass substrate side before sealing with the hollow sealing sheet, and observed again with the electron microscope from the glass substrate side after sealing, The observation images before and after sealing were compared, and the maximum reach distance of the resin that entered the hollow portion from the end of the SAW chip that had been confirmed before sealing was measured, and this was taken as the amount of resin penetration. The case where the resin penetration amount was 20 μm or less was evaluated as “◯”, and the case where it exceeded 20 μm was evaluated as “×”. The results are shown in Table 1.

表1から分かるように、実施例1〜5の中空封止シートは可撓性が良好であった。一方、比較例1〜2ではヒビが生じ可撓性が劣っていた。また、実施例1〜5では、比較例1〜2と比較して金型のスリットへの樹脂進入量が抑制されていた。さらに、実施例1〜5のSAWチップパッケージでは、中空封止シートの樹脂成分の中空部への進入が抑制されており、高品質の中空パッケージを作製可能であることが分かる。比較例1〜2では中空部への樹脂進入量がいずれも20μmを超えていた。   As can be seen from Table 1, the hollow sealing sheets of Examples 1 to 5 had good flexibility. On the other hand, in Comparative Examples 1-2, cracks occurred and flexibility was inferior. Moreover, in Examples 1-5, compared with Comparative Examples 1-2, the resin approach amount to the slit of a metal mold | die was suppressed. Furthermore, in the SAW chip packages of Examples 1 to 5, it is found that the resin component of the hollow sealing sheet is prevented from entering the hollow portion, and a high-quality hollow package can be produced. In Comparative Examples 1 and 2, the amount of resin entering the hollow portion exceeded 20 μm.

11 中空封止シート
11a 支持体
13 SAWチップ
14 中空部
15 封止体
18 中空パッケージ
100 成形金型
110 下金型
111 溝
120 上金型
130 ロッド
200 樹脂
L 樹脂進入量
O 投入口
S スリット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Hollow sealing sheet 11a Support body 13 SAW chip 14 Hollow part 15 Sealing body 18 Hollow package 100 Molding die 110 Lower die 111 Groove 120 Upper die 130 Rod 200 Resin
L resin penetration
O inlet
S slit

Claims (5)

電子部品を中空封止するための中空封止シートであって、
樹脂を含み、
40℃以上100℃以下において中空部への樹脂進入性が制御された中空封止シート。
A hollow sealing sheet for hollow sealing electronic components,
Including resin,
A hollow sealing sheet in which resin penetration into a hollow portion is controlled at 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
幅20μmのスリットを有する成形金型に前記樹脂を充填し、圧力10kg/cm、温度150℃で10分間前記樹脂を加圧した際の前記スリットへの樹脂進入量が3mm以下である請求項1に記載の中空封止シート。 The resin penetration amount into the slit when filling the molding die having a slit with a width of 20 μm and pressurizing the resin for 10 minutes at a pressure of 10 kg / cm 2 and a temperature of 150 ° C. is 3 mm or less. The hollow sealing sheet according to 1. 幅1μm以上100μm以下のスリットに対する樹脂進入量をスリット幅に対してプロットした際に、該プロットに極小値が存在する請求項2に記載の中空封止シート。   The hollow sealing sheet according to claim 2, wherein when plotting a resin ingress amount with respect to a slit having a width of 1 μm or more and 100 μm or less with respect to the slit width, a minimum value exists in the plot. 前記極小値が2mm以下である請求項3に記載の中空封止シート。   The hollow sealing sheet according to claim 3, wherein the minimum value is 2 mm or less. 一又は複数の電子部品を覆うように請求項1〜4のいずれか1項に記載の中空封止シートを該電子部品上に中空部を維持しながら積層する積層工程、及び
前記中空封止シートを硬化させて封止体を形成する封止体形成工程
を含む中空パッケージの製造方法。
A lamination step of laminating the hollow sealing sheet according to any one of claims 1 to 4 while maintaining a hollow portion on the electronic component so as to cover one or a plurality of electronic components, and the hollow sealing sheet The manufacturing method of the hollow package including the sealing body formation process which hardens | cures and forms a sealing body.
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