JP2014210678A5 - - Google Patents
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Description
７８ｗｔ％濃度の硫酸：３５０ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：３２３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が１０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：３２３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が１０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
７８ｗｔ％濃度の硫酸：８９．７ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：５８８．３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が２０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：５８８．３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が２０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
７８ｗｔ％濃度の硫酸：１７９．５ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：４９３．５ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が３１ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：４９３．５ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が３１ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
７８ｗｔ％濃度の硫酸：２７８．２ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：３９４．８ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が５０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：３９４．８ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が５０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
７８ｗｔ％濃度の硫酸：４４８．７ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：２２４．３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が６０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：２２４．３ｇ
また、表１に示す、硫酸濃度が６０ｗｔである硫酸を含む水溶液は、以下の原料を混合することにより製造したものである。
７８ｗｔ％濃度の硫酸：５３８．５ｇ
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：１３４．５ｇ
表１に示す「３号」ケイ酸ソーダ水溶液は、２９ｗｔ％のケイ酸ソーダを含む水溶液である。また、表１に示す「３号希釈」ケイ酸ソーダ水溶液は、「３号」ケイ酸ソーダ水溶液の７００ｇに水３１５ｇを加えたものである。また、表１に示す「１号」ケイ酸ソーダ水溶液は、ケイ酸ソーダ濃度が３８ｗｔ％であり、モル比が２．１であるものである。
クエン酸：７ｇ
３５ｗｔ％濃度過酸化水素水：２０ｇ
水：１３４．５ｇ
表１に示す「３号」ケイ酸ソーダ水溶液は、２９ｗｔ％のケイ酸ソーダを含む水溶液である。また、表１に示す「３号希釈」ケイ酸ソーダ水溶液は、「３号」ケイ酸ソーダ水溶液の７００ｇに水３１５ｇを加えたものである。また、表１に示す「１号」ケイ酸ソーダ水溶液は、ケイ酸ソーダ濃度が３８ｗｔ％であり、モル比が２．１であるものである。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013087373A JP6114955B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013087373A JP6114955B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | シリカの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014210678A JP2014210678A (ja) | 2014-11-13 |
| JP2014210678A5 true JP2014210678A5 (ja) | 2014-12-25 |
| JP6114955B2 JP6114955B2 (ja) | 2017-04-19 |
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ID=51930740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013087373A Active JP6114955B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | シリカの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6114955B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5434719B1 (ja) * | 1970-07-29 | 1979-10-29 | ||
| JPS5913620A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-24 | Central Glass Co Ltd | シリカゲルの製造法 |
| JPS61178414A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-11 | Nippon Chem Ind Co Ltd:The | 高純度シリカおよびその製造方法 |
| JPS6212608A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-21 | Nippon Chem Ind Co Ltd:The | 高純度シリカ及びその製造方法 |
| JP2544633B2 (ja) * | 1987-09-01 | 1996-10-16 | 日本化学工業株式会社 | オルガノシリカの製造法 |
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2013
- 2013-04-18 JP JP2013087373A patent/JP6114955B2/ja active Active
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