JP2014209595A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 液体を貯留する処理槽と、
   パターンが第１の面に形成され透光性を有する処理対象基板を、その第１の面を前記処理槽内の液体の液面に密着させて保持する保持部と、
   前記保持部により保持された前記処理対象基板に対し、前記第１の面に対向する第２の面側よりレーザ光を照射する照射部と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 前記レーザ光の集点は前記処理対象基板の第１の面から前記パターンの高さの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記液体はガス飽和液又はガス過飽和液であることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板処理装置。
4. パターンが第１の面に形成され透光性を有する処理対象基板を、その第１の面を処理槽内の液体の液面に密着させて保持する工程と、
   保持した前記処理対象基板に対し、前記第１の面に対向する第２の面側よりレーザ光を照射する工程と、
   を有することを特徴とする基板処理方法。
5. パターンが第１の面に形成され透光性を有する処理対象基板を、その第１の面を処理槽内の薬液の液面に密着させて保持する工程と、
   前記第１の面を前記処理槽内の薬液の液面に密着させて保持した前記処理対象基板に対し、前記第１の面に対向する第２の面側よりレーザ光を照射する工程と、
   レーザ光の照射後、前記処理槽内の薬液を純水に置換する工程と、
   前記第１の面を前記処理槽内の純水の液面に密着させて保持した前記処理対象基板に対し、前記第１の面に対向する第２の面側よりレーザ光を照射する工程と、
   を有することを特徴とする基板処理方法。