JP2014191057A - Itoパターンの撮像装置及び撮像方法 - Google Patents

Itoパターンの撮像装置及び撮像方法 Download PDF

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隆之 深田
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Abstract

【課題】不可視性を高めたITOパターンについても、カメラによる撮像を可能とする撮像装置を提供する。
【解決手段】ITOパターンを撮像する撮像装置において、前記ITOパターンに照射する照明用の光源と前記ITOパターンを撮像するカメラとを備え、前記光源が、ITOパターン面に対する入射光軸の角度が0°よりも大きく20°以下となる範囲内になるように設置されており、前記カメラが、前記ITOパターン面に対する撮像光軸が前記入射光軸を前記入射光軸と前記ITOパターン面との交点から前記ITOパターン面に垂直に伸ばした仮想線に対して鏡像位置となるように設置されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、タッチパネルなどに使用されるITOパターンの撮像装置及び撮像方法に関する。
タッチパネルに用いられる透明電極は、スパッタなどで形成されるITOやIZOなどの金属酸化物が用いられている。最近では、低価格化を目的とした、銀ナノワイヤーや金属メッシュなどによる代替品も多く開発されているが、主流は未だにITO膜が多い。
ITO膜だけではタッチパネルは作成できず、これに対応する電気配線が必要となる。ガラスを基材としたタッチパネルではスパッタで銀やMo/Al/Mo(MAM)といった金属薄膜を使用することが多いが、PETフィルムを基材とするタッチパネルでは銅薄膜の他に、銀ペーストや銅ペーストを用いた印刷配線を使用することが多い。
銀ペーストを用いた印刷配線の場合、先に形成したITOパターンに合わせて印刷をする、いわゆるアライメント印刷を行う必要がある。その場合、先に形成したITOパターンをカメラで撮像し、その位置情報に基づいて位置合わせ(アライメント)を行い、印刷する。
そのためには、ITOのパターンがカメラで認識できることが必要であるが、本来ITOパターンは透明に近いため、人間の目と同じ可視光域では認識できないことが多い。透明であるということは、ITOパターンと基材(ガラスもしくはPETフィルムなど)とその光源における反射率、透過率、屈折率、色相がほぼ等しいということである。
ITOの場合、UV(紫外)域とIR(赤外)域に大きな反射率と吸収率(透過率と反射率の差)を持っており、基材との差が発生する。そのため、その波長の光を光源とする照明系であればカメラで撮像できることが多い。実際、従来より赤外光を使用したITO向けアライメント光源を装備したスクリーン印刷機は存在する。
しかし、最近では不可視性をさらに向上させるため、ITOと基材の間に光学調整層と呼ばれる薄膜を設けることが多い。この場合、可視光域よりも広い範囲で反射率、透過率を基材と揃えることができるため、従来の赤外光や紫外光でもITOのパターンを捕らえることが難しくなってきている。
パターンを認識するということは、パターンとそれ以外の部分の輝度差を検出するということである。ITOパターンでは、視認する角度を変えた場合、パターンの見え方が変わる場合があることが知られている。それは、ITOと基材の屈折率差があるため、ある角度での光路長が異なっており、反射率差に角度依存が発生することを示している。つまり、ある角度における反射率が基材とパターンとで異なるので、見る角度を変化させると輝度差の変化が発生し、カメラで検出できるようになるということである。
特開平10−171975号公報
本発明では上記のような、不可視性を高めたITOパターンについても、カメラによる撮像を可能とする撮像装置及び撮像方法を提供することを課題とした。
前記課題を解決するための第1の発明は、ITOパターンを撮像する撮像装置において、前記ITOパターンに照射する照明用の光源と前記ITOパターンを撮像するカメラとを備え、前記光源が、ITOパターン面に対する入射光軸の角度が0°よりも大きく20°以下となる範囲内になるように設置されており、前記カメラが、前記ITOパターン面に対する撮像光軸が前記入射光軸を前記入射光軸と前記ITOパターン面との交点から前記ITOパターン面に垂直に伸ばした仮想線に対して鏡像位置となるように設置されていることを特徴とした撮像装置である。
また、第2の発明は、ITOパターンを撮像する撮像方法において、撮像の対象物に照射する照明用の光源の照射面に対する入射光軸の角度を0°よりも大きく20°以下となる範囲内とし、撮像するカメラの前記照射面に対する撮像光軸の角度を、前記入射光軸と前記照射面との交点から前記照射面に垂直に伸ばした仮想線に対して鏡像位置に設置することを特徴とした撮像方法である。
また、前記第1または第2の発明において、光源波長としては、200〜1000nmの範囲とすることを特徴とする。
これにより、ITOパターンの反射光をより鮮明に捉えることが出来るため、カメラによる撮像が可能になる。
本発明のITOパターンの撮像装置の構成及び撮像方法の説明を示す概略図 従来のITOパターンの撮像装置の構成及び撮像方法の説明を示す概略図 本発明のITOパターンの撮像装置の構成及び撮像方法の説明を示す上面図
本発明のITOパターンの撮像装置及び撮像方法について、本発明の撮像装置の構成及び撮像方法の説明を示す側面図を図1に、またその上面図を図3に示す。また、比較例の撮像装置の構成及び撮像方法の説明を示す側面図を図2に示す。
本発明の撮像装置及び撮像方法は、図1に示すように、対象のITOフィルムからなる基材5とその表面のITOパターン4に対し、ITOパターン4の表面(ITOパターン面)4aに垂直な仮想線6を想定し、その仮想線6に対して光源1と撮像用のカメラ2とを角度3だけ互いに反対向きに傾けた状態にしたことを特徴とする。より詳細には、光源1は、表面4aに対する入射光7の光軸である入射光軸の角度を角度3として設置されている。また、カメラ2は、表面4aから捕捉される反射光8の光軸、すなわち表面4aに対する撮像光軸が、光源1の入射光軸を当該入射光軸と表面4aとの交点Oから表面4aに垂直に伸ばした仮想線6に対して鏡像位置となるように設置されている。角度3は、例えば、0°を超え20°以下となる範囲内に設定される。ITOパターン4等の撮像の対象物一般に対しては、前記表面4aを、当該対象物の光源に対する照射面と置き換えることができる。
また、図3に示すように、上面から見て、対象(ここでは基材20上のITOパターン19)に対して光源15からの入射光17と撮像用のカメラ16への正反射光18が一直線に並ぶような配置とすることを特徴とする。この配置により、対象物からの正反射光を効率よく受光することができる。
それに対し、比較例の図2では、一般的な同軸落射照明を用いており、基材14上の対象となるITOパターン13に対して、光源からの出射光をハーフミラー10で反射させることにより真上より入射光11をあて、真上に反射した反射光12を撮像用のカメラ9で受光する方法である。この方法では、ITOの反射光の角度依存を利用できないため、十分な輝度差で撮像することが出来ない。
また、反射光の角度依存を利用するためにはなるべく単波長の光源を利用することが望ましい。これは、波長によって反射の角度依存の度合いが変化するため、多種の波長が混ざった光源では角度による輝度差が平均化されてしまい、うまく輝度差が出ないことが考えられる。
詳細な実施例について以下に示す。本発明の撮像方法にてITOパターンが撮像できることを確認した。ITOでパターンが形成されたPETフィルムを平面ステージ上に載せ、フィルムの垂直に対し20°傾けた位置にLED照明を設置した。LEDは中心波長500nmのもので、60mW程度の出力で、20mmφの範囲が照らせるものを使用した。また、撮像カメラを光源に対して鏡像位置で20°傾けて設置し、光源の正反射を取り込めるようにした。
その結果、従来は撮像できなかったITOパターンを撮像することができた。
本発明は、タッチパネルや薄型ディスプレイ等の製造工程において利用することができる。
1…光源
2…撮像用カメラ
3…角度
4…ITOパターン
4a…表面
5…基材
6…ITOパターンの表面に垂直な仮想線
7…入射光
8…反射光
9…撮像用カメラ
10…ハーフミラー
11…入射光
12…反射光
13…ITOパターン
14…基材
15…光源
16…撮像用カメラ
17…入射光
18…反射光
19…ITOパターン
20…基材
O…交点

Claims (4)

  1. ITOパターンを撮像する撮像装置において、
    前記ITOパターンに照射する照明用の光源と前記ITOパターンを撮像するカメラとを備え、
    前記光源が、ITOパターン面に対する入射光軸の角度が0°よりも大きく20°以下となる範囲内になるように設置されており、
    前記カメラが、前記ITOパターン面に対する撮像光軸が前記入射光軸を前記入射光軸と前記ITOパターン面との交点から前記ITOパターン面に垂直に伸ばした仮想線に対して鏡像位置となるように設置されていることを特徴とした撮像装置。
  2. 前記光源の波長を200〜1000nmの範囲とすることを特徴とした請求項1に記載の撮像装置。
  3. ITOパターンを撮像する撮像方法において、
    撮像の対象物に照射する照明用の光源の照射面に対する入射光軸の角度を0°よりも大きく20°以下となる範囲内とし、
    撮像するカメラの前記照射面に対する撮像光軸の角度を、前記入射光軸と前記照射面との交点から前記照射面に垂直に伸ばした仮想線に対して鏡像位置に設置することを特徴とした撮像方法。
  4. 前記光源の波長を200〜1000nmの範囲とすることを特徴とした請求項3に記載の撮像方法。
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