JP2014189563A - Tacky sheet, film for forming protective film, composite sheet for forming protective film, and marking method - Google Patents

Tacky sheet, film for forming protective film, composite sheet for forming protective film, and marking method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tacky sheet, etc. unlikely to entail, in a laminated state where a tacky sheet is pasted onto the side of one given surface of a processing target member or the protective film side, etc. thereof, inconveniences originating from contaminants generated on an occasion for marking the rear surface of the processing target member or the protective film, etc. thereof by applying a laser beam from the tacky sheet side; and a marking method.SOLUTION: In a tacky sheet 1 including a substrate 2 and a tackifier layer 3, the principal surface 1A of the tacky sheet 1 on the tackifier layer 3 side possesses, at least as a partial region, a first uneven surface region 1a consisting of an uneven surface. At the time of the use of the tacky sheet 1, one given surface of an adhesion target targeted for laser marking is laminated atop the tacky sheet 1 so as to cover the first uneven surface region 1a partially or entirely. At least a portion of the first recessed segment of the first uneven surface region 1a demarcates the principal surface 1A and a first gap portion without being contacted with the one given surface of the adhesion target so as to embody a diffusion route for contaminants generated on a laser marking occasion.

Description

本発明は、基材とその基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備える粘着シート、保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルム、ならびに粘着シートと保護膜形成用フィルムとを備えた保護膜形成用複合シートに関する。具体的には、半導体基板など被加工部材を個片化する加工、特に、いわゆるフェースダウン(face down)方式で実装される半導体装置を製造するためのダイシング加工(回転刃やレーザーを用いた切断加工である場合もあれば、ステスルダイシングのように被加工部材を局所的に改質して破断する場合もある。)に用いられる粘着シート、使用時に粘着シートに貼付される保護膜形成用フィルム、および上記の粘着シートと保護膜形成用フィルムとが積層されてなる保護膜形成用複合シートに関する。また、本発明は、上記の粘着シートおよび保護膜形成用複合シートのいずれかを用いたマーキング方法にも関する。さらに、本発明は、マーキングを有するチップの製造方法にも関する。   The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material, a protective film-forming film capable of forming a protective film, and a pressure-sensitive adhesive sheet and a protective film-forming film, It is related with the composite sheet for protective film formation provided with. Specifically, a process for separating a workpiece such as a semiconductor substrate into a piece, in particular, a dicing process for manufacturing a semiconductor device mounted by a so-called face down method (cutting using a rotary blade or a laser) In some cases, it may be processed, and in other cases, the processed member may be locally modified and broken, such as in stestle dicing.) Adhesive sheets used for), for forming a protective film attached to an adhesive sheet when used The present invention relates to a film and a composite sheet for forming a protective film in which the above-mentioned pressure-sensitive adhesive sheet and a protective film-forming film are laminated. The present invention also relates to a marking method using any one of the pressure-sensitive adhesive sheet and the protective film-forming composite sheet. Furthermore, the present invention also relates to a method for manufacturing a chip having a marking.

近年、いわゆるフェースダウン(face down)方式と呼ばれる実装法を用いた半導体装置の製造が行われている。フェースダウン方式においては、回路面上にバンプなどの電極を有する半導体チップが用いられ、該電極が配線基板と接合される。このため、半導体チップの回路面とは反対側の面(チップ裏面)は剥き出しとなることがある。   2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor devices have been manufactured using a so-called “face down” mounting method. In the face-down method, a semiconductor chip having electrodes such as bumps on a circuit surface is used, and the electrodes are bonded to a wiring board. For this reason, the surface (chip back surface) opposite to the circuit surface of the semiconductor chip may be exposed.

このため、裏面側には、半導体チップを保護するために、硬質の有機膜(以下「保護膜」とよぶ)が形成される場合が多い。保護膜には、当該半導体チップの品番等を表示するため、印字が施される。マーキング法としては、保護膜にレーザー光を照射し、保護膜表面を削り取り、文字等を形成するレーザーマーキング法が一般化している。   For this reason, a hard organic film (hereinafter referred to as “protective film”) is often formed on the back surface side in order to protect the semiconductor chip. The protective film is printed in order to display the product number of the semiconductor chip. As a marking method, a laser marking method is generally used in which a protective film is irradiated with laser light, the surface of the protective film is scraped off, and letters are formed.

レーザー光によりマーキングを行う際には、マーキングされる面が平坦でなければレーザー光の焦点が合わず、良好なマーキング性を得られない。しかし、ウエハが薄型化した結果、ウエハが反り、レーザー光源と印字部との距離が一定せずレーザー光の集光が困難になり、マーキング性が低下し、印字を行えないという不具合が発生している。ウエハの反りの原因は、ウエハ自体が薄くなったことに加え、保護膜形成時に膜が収縮し、収縮力によってウエハが変形することなどが考えられている。   When marking with a laser beam, unless the surface to be marked is flat, the laser beam is not focused and good marking properties cannot be obtained. However, as a result of thinning of the wafer, the wafer is warped, the distance between the laser light source and the printing part is not constant, and it becomes difficult to focus the laser beam, marking performance is deteriorated, and printing cannot be performed. ing. The cause of the warpage of the wafer is considered to be that the film itself shrinks when the protective film is formed and the wafer is deformed by the shrinkage force in addition to the thinning of the wafer itself.

保護膜が形成されたウエハの反りを矯正するため、特許文献1には、保護膜付ウエハに粘着シートを貼付し、該粘着シートの外周部をリングフレームで固定した上で、レーザー光によりマーキングするプロセスが提案されている。この方法では、保護膜付ウエハの保護膜側を粘着シートに貼付し、粘着シート側からレーザー光を照射してマーキングしている。この方法によれば、ウエハの反りが粘着シートにより矯正されるため、ウエハが平坦に維持され、レーザー光を用いたマーキング性が向上する。   In order to correct the warpage of the wafer on which the protective film is formed, in Patent Document 1, an adhesive sheet is attached to the wafer with the protective film, the outer periphery of the adhesive sheet is fixed with a ring frame, and then marking is performed with laser light. A process has been proposed. In this method, the protective film side of a wafer with a protective film is attached to an adhesive sheet, and marking is performed by irradiating a laser beam from the adhesive sheet side. According to this method, since the warpage of the wafer is corrected by the adhesive sheet, the wafer is maintained flat and the marking performance using laser light is improved.

特開2006−140348号公報JP 2006-140348 A

ここで、上記特許文献1の方法では、保護膜付ウエハの保護膜側を粘着シートに貼付し、粘着シート側からレーザー光を照射してマーキングしている。この方法では、レーザー光は粘着シートを透過し、レーザー光が保護膜表面を削り取ることでマーキングされる。この際、保護膜表面からは保護膜の熱分解物などが放出される。   Here, in the method of Patent Document 1, the protective film side of the wafer with the protective film is attached to the adhesive sheet, and marking is performed by irradiating laser light from the adhesive sheet side. In this method, the laser beam passes through the adhesive sheet, and the laser beam is marked by scraping off the surface of the protective film. At this time, a thermal decomposition product of the protective film is released from the surface of the protective film.

こうした熱分解物などの一部、例えば気相の物質は、保護膜と粘着シートとの界面に溜まり、再度固体化してレーザーマーキングされた保護膜表面に汚染物質として残着することがある。このような汚染物質が残着すると、レーザーマーキングしたイメージ(文字や図形など)を、CCD等を用いて認識しようとしたときに、残着した汚染物質によって当該イメージの識別が困難になるという不具合が生じるおそれがある。また、このような汚染物質は得られる半導体装置の機能を損なうおそれもある。   Some of these pyrolysates, for example, gas phase substances, may accumulate at the interface between the protective film and the pressure-sensitive adhesive sheet, solidify again, and remain as contaminants on the surface of the protective film that has been laser-marked. If such contaminants remain, the laser-marked image (characters, graphics, etc.) will be difficult to identify when it is attempted to recognize the image using a CCD or the like due to the remaining contaminants. May occur. Moreover, such contaminants may impair the function of the resulting semiconductor device.

また、上記のような不具合は、半導体ウエハの裏面側を粘着シートに貼付し、粘着シート側からウエハ裏面に直接レーザー光を照射してマーキングを行う際にも発生し、この場合には、シリコンなどのウエハ材料が昇華してガスとなったり微小な破片(デブリ)が生成したりして、これらがウエハに再付着してウエハの性能を損なうことがある。   In addition, the above-mentioned problems also occur when the back side of a semiconductor wafer is attached to an adhesive sheet, and marking is performed by direct laser irradiation from the adhesive sheet side to the back side of the wafer. In some cases, the wafer material sublimates into gas and fine fragments (debris) are generated, which reattach to the wafer and impair the performance of the wafer.

本発明は上記のような従来技術に鑑みてなされたものであり、半導体ウエハの裏面などの被加工部材の一の面に、直接、または保護膜形成用フィルムもしくは保護膜を介して、粘着シートが貼付された積層状態において、粘着シート側からレーザー光を照射して被加工部材の裏面または保護膜形成用フィルムもしくは保護膜にマーキングする際に、ウエハなどの被加工部材または保護膜形成用フィルムもしくは保護膜から発生する物質であって、上記の被加工部材などのレーザーマーキングされた部材の表面に付着してこれを汚染するおそれのある汚染性物質を効率よく除去し、マーキング適性の低下や、半導体装置などの被加工部材から製造される製品の汚染を防止しうる粘着シート、保護膜形成用フィルムおよび保護膜形成用複合シート、ならびにこれらのシートやフィルムを用いたマーキング方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the prior art as described above, and is a pressure-sensitive adhesive sheet directly on one surface of a member to be processed such as the back surface of a semiconductor wafer, or through a protective film-forming film or protective film. In the laminated state with affixed, when marking on the back surface of the processed member or the protective film forming film or protective film by irradiating the laser beam from the adhesive sheet side, the processed member such as a wafer or the protective film forming film Alternatively, a substance generated from a protective film, which efficiently removes a contaminating substance that may adhere to the surface of a laser-marked member such as the above-described workpiece and contaminate it, thereby reducing the marking suitability. , Pressure-sensitive adhesive sheet, protective film-forming film, and protective film-forming composite sheet that can prevent contamination of products manufactured from workpieces such as semiconductor devices As well as an object to provide a marking method using these sheets or films.

上記目的を達成するために、本発明者らが検討したところ、被加工部材の一の面または保護膜形成用フィルムもしくは保護膜にマーキングする際発生する汚染性物質を拡散させる経路を、被加工部材の一の面または保護膜形成用フィルムもしくは保護膜および粘着シートによって画成される空隙部によってあらかじめ設けておくことにより、被加工部材の一の面または保護膜の表面に汚染物質が残着する可能性を低減させることができるとの知見を得た。   In order to achieve the above object, the present inventors have examined a surface of a workpiece to be processed or a path for diffusing a pollutant generated when marking a protective film-forming film or protective film. Contaminants remain on one surface of the workpiece or the surface of the protective film by preliminarily providing it on one surface of the member or a gap defined by the protective film-forming film or protective film and the adhesive sheet. The knowledge that it is possible to reduce the possibility to do.

かかる知見に基づき完成された本発明は、第1に、基材と、前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シートであって、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面は、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域を有し、前記粘着シートの使用時には、レーザーマーキングの対象である被着体の一の面が、前記第1の凹凸面領域の一部または全部を覆うように前記粘着シート上に積層され、前記被着体の一の面と前記第1の凹凸面領域とが対向するように配置された状態において、前記第1の凹凸面領域の凹部のうち、前記被着体の一の面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記被着体の一の面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となることを特徴とする粘着シートを提供する(発明1)。   The present invention completed based on such knowledge is, firstly, a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material, the pressure-sensitive adhesive sheet of the pressure-sensitive adhesive sheet. The main surface on the agent layer side has a first uneven surface area composed of an uneven surface as at least a part of the main surface, and when the pressure-sensitive adhesive sheet is used, the adherend that is the object of laser marking is used. One surface is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet so as to cover a part or all of the first uneven surface region, and one surface of the adherend and the first uneven surface region are opposed to each other. The at least part of the concave portion located in the region covered with one surface of the adherend among the concave portions of the first uneven surface region is disposed on one surface of the adherend. The main surface and the gap are defined without contacting the gap, and the gap is generated during laser marking. It is the diffusion path of the contaminating substances to provide a pressure-sensitive adhesive sheet characterized by (invention 1).

本発明は、第2に、硬化して保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルムであって、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面は、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第2の凹凸面領域を有し、前記第2の凹凸面領域はレーザー光によりマーキング可能とされ、前記保護膜形成用フィルムの使用時には、基材と前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シートが、当該粘着シートの前記粘着剤層側の主面が前記第2の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムに積層され、前記保護膜形成用フィルムの前記第2の凹凸面領域と前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面とが対向するように配置された状態において、前記第2の凹凸面領域の凹部のうち、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となることを特徴とする保護膜形成用フィルムを提供する(発明2)。   Second, the present invention is a protective film-forming film that can be cured to form a protective film, wherein one main surface of the protective film-forming film is at least a part of the main surface, The second uneven surface area is formed of an uneven surface, and the second uneven surface area can be marked with a laser beam. When the protective film-forming film is used, one of the base material and the base material is used. The pressure-sensitive adhesive sheet provided with a pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface is formed with the protective film such that the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet covers part or all of the second uneven surface area. In the state where the second uneven surface area of the protective film-forming film and the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet are opposed to each other, Of the concave portion of the surface region, the adhesive of the adhesive sheet At least a part of the recess located in the region covered by the main surface on the layer side does not contact the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet, and defines the main surface and a void portion, and the void portion Provides a protective film-forming film characterized in that it serves as a diffusion path for pollutants generated during laser marking (Invention 2).

上記発明(発明2)において、前記第2の凹凸面領域は平面視で前記保護膜形成用フィルムの外周に接する部分を有することが好ましい(発明3)。   In the said invention (invention 2), it is preferable that the said 2nd uneven surface area | region has a part which touches the outer periphery of the said film for protective film formation by planar view (invention 3).

本発明は、第3に、基材と、前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備え、その前記粘着剤層側の主面が、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域を有する粘着シート、および硬化して保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルムを備えた保護膜形成用複合シートであって、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面が前記第1の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着シートに積層されてなり、前記第1の凹凸面領域の凹部のうち、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となることを特徴とする保護膜形成用複合シートを提供する(発明4)。   3rdly, this invention is equipped with the base material and the adhesive layer laminated | stacked on one main surface of the said base material, The main surface at the side of the said adhesive layer is at least one part of the said main surface. A protective sheet-forming composite sheet comprising a pressure-sensitive adhesive sheet having a first uneven surface area composed of an uneven surface as an area, and a protective film-forming film that can be cured to form a protective film, wherein the protective film is formed The protective film-forming film is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet so that one main surface of the film for film covers part or all of the first uneven surface area, and the concave portion of the first uneven surface area Among these, at least a part of the recess located in the region covered with one main surface of the protective film-forming film does not contact one main surface of the protective film-forming film and the main surface and the gap The voids are dirt generated during laser marking. To provide a composite sheet for forming a protective film, characterized in that the diffusion path of sex material (Invention 4).

本発明は、第4に、基材と前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シート、および上記発明(発明2、3)に係る保護膜形成用フィルムを備えた保護膜形成用複合シートであって、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面が前記第2の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着シートに積層されてなり、前記第2の凹凸面領域の凹部のうち、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となることを特徴とする保護膜形成用複合シートを提供する(発明5)。   Fourthly, the present invention provides a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material, and a protective film-forming film according to the above inventions (inventions 2 and 3). The protective film-forming composite sheet includes the protective film-forming film, such that a main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side covers part or all of the second uneven surface area. The pressure-sensitive adhesive sheet is laminated, and at least part of the concave portion located in a region covered by the main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side of the second concave-convex surface region is the pressure-sensitive adhesive sheet. The protective film is characterized in that it does not contact the main surface of the pressure-sensitive adhesive layer side and defines the main surface and a gap, and the gap serves as a diffusion path for a pollutant generated during laser marking. A composite sheet for forming is provided (Invention 5).

上記発明(発明5)において、前記粘着シートは上記発明(発明1)に係る粘着シートであって、前記第1の凹凸面領域は、その少なくとも一部が前記第2の凹凸面領域に対向するように位置することが好ましい(発明6)。   In the said invention (invention 5), the said adhesive sheet is an adhesive sheet which concerns on the said invention (invention 1), Comprising: At least one part of the said 1st uneven surface area | region opposes the said 2nd uneven surface area | region. It is preferable that they are located (Invention 6).

上記発明(発明4から6)において、前記空隙部のうち、平面視で、前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における使用時に被加工部材に貼付される領域である加工領域に位置する域内空隙部は、少なくとも一部が、平面視で、前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における前記加工領域以外の領域である非加工領域に位置する域外空隙部に連通していることが好ましい(発明7)。   In the above inventions (Inventions 4 to 6), in the gap portion, in a plan view, a region to be attached to a workpiece when used on the principal surface on the side distal to the base material of the protective film-forming composite sheet At least a part of the in-region gap portion located in the processing region is a region other than the processing region in the main surface on the side distal to the base material of the composite sheet for protective film formation in a plan view. It is preferable to communicate with the outer space located in the processing region (Invention 7).

上記発明(発明7)において、前記域外空隙部は、前記空隙部を開放系とする開口部を有し、前記開口部の周縁部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面、前記粘着シートの前記粘着剤層の側面および前記保護膜形成用フィルムの側面の少なくとも1つに位置することが好ましい(発明8)。   In the said invention (invention 7), the said outside space | gap part has an opening part which uses the said space | gap part as an open system, The peripheral part of the said opening part is the main surface by the side of the said adhesive layer of the said adhesive sheet, The said It is preferable to be located on at least one of the side surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet and the side surface of the protective film-forming film (Invention 8).

上記発明(発明5から8)において、前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における使用時に被加工部材に貼付される領域以外の領域に積層された、治具接着層をさらに備えることが好ましい(発明9)。   In the above inventions (Inventions 5 to 8), a jig laminated in a region other than a region to be pasted on a workpiece at the time of use on a main surface distal to the base material of the composite sheet for forming a protective film It is preferable to further include an adhesive layer (Invention 9).

上記発明(発明9)において、前記治具接着層の前記粘着シートに近位な主面は、少なくとも一領域において、前記粘着シートの主面に貼着することが好ましい(発明10)。   In the said invention (invention 9), it is preferable that the main surface proximal to the said adhesive sheet of the said jig | tool adhesion layer is affixed on the main surface of the said adhesive sheet in an at least 1 area | region (invention 10).

上記発明(発明9、10)において、前記治具接着層の前記粘着シートに近位な主面は、少なくとも一領域において、前記保護膜形成用フィルムの主面に貼着することが好ましい(発明11)。   In the said invention (invention 9 and 10), it is preferable that the main surface proximal to the said adhesive sheet of the said jig | tool adhesion layer is affixed on the main surface of the said film for protective film formation in at least 1 area | region (invention). 11).

本発明は、第5に、リングフレームに張設された上記発明(発明1)に係る粘着シートの前記粘着剤層側の主面が、被加工部材の一の面に貼付された積層状態において、前記粘着シート側からレーザー光を照射し、前記被加工部材の一の面にマーキングすることを特徴とするマーキング方法を提供する(発明12)。   Fifth, in the present invention, the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet according to the above-mentioned invention (invention 1) stretched on the ring frame is in a laminated state in which it is stuck to one surface of the workpiece. The present invention provides a marking method characterized by irradiating a laser beam from the pressure-sensitive adhesive sheet side to mark one surface of the workpiece (Invention 12).

本発明は、第6に、リングフレームに張設された上記発明(発明4から11)に係る保護膜形成用複合シートが備える前記保護膜形成用フィルムの一方の主面が、被加工部材の一の面に貼付された積層状態において、前記保護膜形成用複合シート側からレーザー光を照射し、前記保護膜形成用フィルムの他方の主面にマーキングすることを特徴とするマーキング方法を提供する(発明13)。   Sixth, the present invention provides that the main surface of the protective film-forming film included in the protective film-forming composite sheet according to the invention (inventions 4 to 11) stretched on the ring frame is a workpiece to be processed. There is provided a marking method characterized in that, in a laminated state attached to one surface, laser beam is irradiated from the protective film forming composite sheet side to mark the other main surface of the protective film forming film. (Invention 13).

本発明は、第7に、リングフレームに張設された上記発明(発明4から11)に係る保護膜形成用複合シートが備える前記保護膜形成用フィルムを硬化して保護膜とすることにより得られる保護膜含有複合シートにおける、前記保護膜の一方の主面が、被加工部材の一の面に固着している積層状態において、前記保護膜形成用複合シート側からレーザー光を照射し、前記保護膜の他方の主面にマーキングすることを特徴とするマーキング方法を提供する(発明14)。   7thly, this invention is obtained by hardening | curing the said film for protective film formation with which the composite sheet for protective film formation which concerns on the said invention (invention 4 to 11) stretched around the ring frame is used as a protective film. In the laminated state in which one main surface of the protective film is fixed to one surface of the member to be processed, in the protective film-containing composite sheet to be applied, laser light is irradiated from the protective film-forming composite sheet side, A marking method characterized by marking on the other main surface of the protective film (Invention 14).

本発明においては、粘着シートが貼付された半導体ウエハなどの被加工部材、または粘着シートに対向して配置される保護膜形成用フィルムもしくは当該フィルムから形成された保護膜に対して、該粘着シート越しにレーザー光を照射してマーキングを行う際に発生する汚染性物質を、あらかじめ設けられた空隙部からなる汚染性物質の拡散経路により拡散させることによって、マーキングされた部分および/またはその近傍に汚染物質が高濃度で付着する可能性を低減させることができる。したがって、本発明によれば、被加工部材から得られる半導体装置などの製品は、マーキング時の汚染が低減されているため、より高品質なものが得られやすい。   In the present invention, the pressure-sensitive adhesive sheet is applied to a workpiece to be processed such as a semiconductor wafer to which a pressure-sensitive adhesive sheet is attached, a protective film-forming film disposed opposite to the pressure-sensitive adhesive sheet, or a protective film formed from the film. By diffusing the pollutant generated when marking by irradiating the laser beam through the diffusion path of the pollutant consisting of a gap provided in advance, the marked part and / or its vicinity It is possible to reduce the possibility that contaminants adhere at a high concentration. Therefore, according to the present invention, a product such as a semiconductor device obtained from a workpiece is reduced in contamination at the time of marking, so that a higher quality product is easily obtained.

本発明の一実施形態に係る粘着シートの(a)概略断面図および(b)概略斜視図である。It is (a) schematic sectional drawing and (b) schematic perspective view of the adhesive sheet which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る保護膜形成用複合シートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る保護膜形成用フィルム積層体の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the film laminated body for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る保護膜形成用フィルムの使用状態を概念的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows notionally the use condition of the film for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の別の一実施形態に係る保護膜形成用複合シートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the composite sheet for protective film formation which concerns on another one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、界面接着調整層が設けられた保護膜形成用複合シートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the composite sheet for protective film formation provided with the interface adhesion adjustment layer based on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、界面接着調整層が設けられた粘着シートおよび治具接着層を備える保護膜形成用複合シートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the composite sheet for protective film formation provided with the adhesive sheet and jig | tool adhesion layer in which the interface adhesion adjustment layer was provided based on one Embodiment of this invention. 本発明の別の一実施形態に係る、治具接着層を備える保護膜形成用複合シートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the composite sheet for protective film formation provided with the jig | tool adhesion layer based on another one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る保護膜形成用複合シートと剥離シートと積層体の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention, a peeling sheet, and a laminated body. 本発明の一実施形態に係るマーキング方法を説明するための、粘着シートおよび被加工部材を含んでなる積層状態の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the lamination | stacking state which comprises the adhesive sheet and a to-be-processed member for demonstrating the marking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るマーキング方法を説明するための、保護膜形成用複合シートおよび被加工部材を含んでなる積層状態の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the lamination | stacking state containing the composite sheet for protective film formation and a to-be-processed member for demonstrating the marking method which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について説明する。
1.粘着シート
本発明の一実施形態に係る粘着シート1は、図1(a)に示されるように、基材2と、基材2の一方の主面に積層された粘着剤層3とを備え、粘着シート1の粘着剤層3側の主面1A(本明細書において「粘着シート第1主面」ともいう。)は、粘着シート第1主面1Aの少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域1aを有する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
1. Adhesive sheet The adhesive sheet 1 which concerns on one Embodiment of this invention is equipped with the base material 2 and the adhesive layer 3 laminated | stacked on one main surface of the base material 2, as FIG.1 (a) shows. The main surface 1A on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (also referred to as “pressure-sensitive adhesive sheet first main surface” in this specification) is an uneven surface as at least a partial region of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A. The first uneven surface area 1a is made of.

(1)基材
本実施形態に係る粘着シート1の基材2は、ダイシング工程の後に行われるエキスパンド工程などにおいて破断しない限り、その構成材料は特に限定されず、通常は樹脂系の材料を主材とするフィルムから構成される。そのフィルムの具体例として、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム、高密度ポリエチレン(HDPE)フィルム等のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン−ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。またこれらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムのような変性フィルムも用いられる。上記の基材2はこれらの1種からなるフィルムでもよいし、さらにこれらを2種類以上組み合わせた積層フィルムであってもよい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。
(1) Base material The base material 2 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to the present embodiment is not particularly limited as long as it is not broken in an expanding process or the like performed after the dicing process. Usually, a resin-based material is mainly used. Consists of film as material. Specific examples of such films include ethylene-copolymer films such as ethylene-vinyl acetate copolymer films, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer films, and ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer films; low density Polyethylene (LDPE) film, linear low density polyethylene (LLDPE) film, polyethylene film such as high density polyethylene (HDPE) film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, ethylene-norbornene copolymer film, Examples thereof include polyolefin films such as norbornene resin films; polyvinyl chloride films such as polyvinyl chloride films and vinyl chloride copolymer films; and fluororesin films. Further, modified films such as these crosslinked films and ionomer films are also used. The substrate 2 may be a film made of one of these, or may be a laminated film in which two or more of these are combined. In addition, “(meth) acrylic acid” in the present specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms.

本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10を用いて形成される保護膜付チップ(詳細は後述する。)は、レーザーマーキングされたマーキング保護膜付チップであり、レーザーマーキングのためのレーザーが基材2越しに照射されることから、基材2は、レーザー光の透過性に優れるものであることが好ましい。レーザーマーキングのためのレーザーの種類は特に限定されない。例えば、532nm、1064nmなどの波長を有するレーザーが例示される。レーザー光の透過性に優れる観点から、基材2を構成するフィルムとして、エチレン系共重合フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニル系フィルムなどが好ましい例として挙げられる。   A chip with a protective film (details will be described later) formed using the protective film-forming composite sheet 10 according to the present embodiment is a chip with a marking protective film that has been laser-marked. Since it irradiates through the base material 2, it is preferable that the base material 2 is excellent in the transmittance | permeability of a laser beam. The type of laser for laser marking is not particularly limited. For example, lasers having wavelengths such as 532 nm and 1064 nm are exemplified. From the viewpoint of excellent laser light transmittance, preferred examples of the film constituting the substrate 2 include an ethylene copolymer film, a polyolefin film, and a polyvinyl chloride film.

基材2を構成するフィルムは、エチレン系共重合フィルムおよびポリオレフィン系フィルムの少なくとも一種を備えることがより好ましい。
エチレン系共重合フィルムはそれを構成するモノマーの共重合比を変えることなどによりその機械特性を広範な範囲で制御することが容易である。このため、エチレン系共重合フィルムを備える基材2は本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10をダイシングシートとして使用する際に、ダイシングシートの基材として求められる機械特性を満たしやすい。また、エチレン系共重合フィルムは粘着剤層3に対する密着性が比較的高いため、本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10をダイシングシートとして使用した際に基材2と粘着剤層3との界面での剥離が生じにくい。
More preferably, the film constituting the substrate 2 comprises at least one of an ethylene copolymer film and a polyolefin film.
It is easy to control the mechanical properties of an ethylene copolymer film in a wide range by changing the copolymerization ratio of monomers constituting the ethylene copolymer film. For this reason, the base material 2 provided with the ethylene-based copolymer film easily satisfies the mechanical characteristics required as the base material of the dicing sheet when the protective film-forming composite sheet 10 according to this embodiment is used as the dicing sheet. In addition, since the ethylene copolymer film has relatively high adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer 3, when the protective film-forming composite sheet 10 according to this embodiment is used as a dicing sheet, the base material 2, the pressure-sensitive adhesive layer 3, Peeling at the interface is difficult to occur.

エチレン系共重合フィルムおよびポリオレフィン系フィルムは、ダイシングシートとしての特性に悪影響を及ぼす成分(例えば、ポリ塩化ビニル系フィルムなどでは、当該フィルムに含有される可塑剤が基材2から粘着剤層3へと移行し、さらに粘着剤層3の基材2に対向する側と反対側の面に分布して、粘着剤層3の被着体に対する粘着性を低下させる場合がある。)の含有量が少ないため、粘着剤層3の被着体に対する粘着性が低下するなどの問題が生じにくい。すなわち、エチレン系共重合フィルムおよびポリオレフィン系フィルムは化学的な安定性に優れる。   The ethylene copolymer film and the polyolefin film are components that adversely affect the properties as a dicing sheet (for example, in the case of a polyvinyl chloride film, the plasticizer contained in the film is transferred from the substrate 2 to the adhesive layer 3). And further distributed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 opposite to the side facing the substrate 2 to reduce the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 to the adherend). Since there are few, problems, such as the adhesiveness with respect to the adherend of the adhesive layer 3, fall, are hard to arise. That is, the ethylene copolymer film and the polyolefin film are excellent in chemical stability.

基材2は、上記の樹脂系材料を主材とするフィルム内に、顔料、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤が含まれていてもよい。顔料としては、例えば、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。また、フィラーとして、メラミン樹脂のような有機系材料、ヒュームドシリカのような無機系材料およびニッケル粒子のような金属系材料が例示される。こうした添加剤の含有量は特に限定されないが、基材2が、所望の機能(レーザーマーキングのために照射されるレーザー光の透過性もかかる機能に含まれる。)を果たし、平滑性や柔軟性を失わない範囲に留めるべきである。   The base material 2 may contain various additives such as pigments, flame retardants, plasticizers, antistatic agents, lubricants, fillers, and the like in a film mainly composed of the above-described resin-based material. Examples of the pigment include titanium dioxide and carbon black. Examples of the filler include organic materials such as melamine resin, inorganic materials such as fumed silica, and metal materials such as nickel particles. The content of such additives is not particularly limited, but the substrate 2 performs a desired function (including the function of transmitting laser light irradiated for laser marking), and is smooth and flexible. Should be kept within the range not to lose.

粘着剤層3に照射するエネルギー線として紫外線を用いる場合には、基材2は紫外線に対して透過性を有することが好ましい。後述するように粘着剤層3はエネルギー線重合型の粘着剤組成物から構成されていてもよく、粘着剤層3に照射するエネルギー線として電子線を用いる場合には基材2は電子線の透過性を有していることが好ましい。   In the case where ultraviolet rays are used as the energy rays applied to the pressure-sensitive adhesive layer 3, the base material 2 is preferably permeable to the ultraviolet rays. As will be described later, the pressure-sensitive adhesive layer 3 may be composed of an energy beam polymerization-type pressure-sensitive adhesive composition. When an electron beam is used as the energy beam applied to the pressure-sensitive adhesive layer 3, the substrate 2 is made of an electron beam. It preferably has transparency.

また、基材2の粘着剤層3に対向する主面(以下、「基材対向面」ともいう。)2Aには、カルボキシル基、ならびにそのイオンおよび塩からなる群から選ばれる1種または2種以上を有する成分が存在することが好ましい。基材2における上記の成分と粘着剤層3に係る成分(粘着剤層3を構成する成分および架橋剤(γ)などの粘着剤層3を形成するにあたり使用される成分が例示される。)とが化学的に相互作用することにより、これらの間で剥離が生じる可能性を低減させることができる。基材対向面2Aにそのような成分を存在させるための具体的な手法は特に限定されない。たとえば、基材2自体を例えばエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、アイオノマー樹脂フィルム等として、基材2を構成する材料となる樹脂がカルボキシル基、ならびにそのイオンおよび塩からなる群から選ばれる1種または2種以上を有するものとするのであってもよい。基材対向面2Aに上記成分を存在させる他の手法として、基材2は例えばポリオレフィン系フィルムであって、基材対向面2A側にコロナ処理が施されていたり、プライマー層が設けられていたりしてもよい。また、基材2の基材対向面2Aと反対側の面には、所望の機能を果たすことができる限り、各種の塗膜が設けられていてもよい。   The main surface (hereinafter also referred to as “base material facing surface”) 2 </ b> A facing the pressure-sensitive adhesive layer 3 of the base material 2 is one or two selected from the group consisting of a carboxyl group and its ions and salts. It is preferred that there be a component having more than one species. The above-mentioned components in the substrate 2 and the components related to the pressure-sensitive adhesive layer 3 (components used for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 such as a component constituting the pressure-sensitive adhesive layer 3 and a crosslinking agent (γ) are exemplified.) Can interact with each other chemically to reduce the possibility of delamination between them. The specific method for making such a component exist in 2 A of base material opposing surfaces is not specifically limited. For example, the base material 2 itself is, for example, an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, an ionomer resin film, etc., and the resin constituting the base material 2 is selected from the group consisting of carboxyl groups and ions and salts thereof. One or two or more types may be included. As another method for causing the above component to exist on the substrate facing surface 2A, the substrate 2 is, for example, a polyolefin film, and is subjected to corona treatment on the substrate facing surface 2A side, or a primer layer is provided. May be. Various coating films may be provided on the surface of the substrate 2 opposite to the substrate facing surface 2A as long as a desired function can be achieved.

基材2の厚さは、ダイシング工程で切断されたりエキスパンド工程やピックアップ工程で破断したりする不具合が生じない限り、特に限定されない。好ましくは20μm以上450μm以下、より好ましくは25μm以上400μm以下、特に好ましくは50μm以上350μm以下の範囲にある。   The thickness of the base material 2 is not particularly limited as long as there is no problem that it is cut in the dicing process or broken in the expanding process or the picking process. Preferably they are 20 micrometers or more and 450 micrometers or less, More preferably, they are 25 micrometers or more and 400 micrometers or less, Especially preferably, they are the range of 50 micrometers or more and 350 micrometers or less.

本実施形態における基材2の破断伸度は、23℃、相対湿度50%のときに測定した値として100%以上であることが好ましく、特に200%以上1000%以下であることが好ましい。ここで、破断伸度はJIS K7161:1994(ISO 527−1 1993)に準拠した引張り試験における、試験片破壊時の試験片の長さの元の長さに対する伸び率である。上記の破断伸度が100%以上である基材2は、ダイシング工程後のエキスパンド工程の際に破断しにくく、被加工部材Wを切断して形成したチップを離間し易いものとなる。   The elongation at break of the substrate 2 in the present embodiment is preferably 100% or more, particularly preferably 200% or more and 1000% or less, as a value measured at 23 ° C. and a relative humidity of 50%. Here, the breaking elongation is an elongation ratio of the length of the test piece at the time of breaking the test piece with respect to the original length in the tensile test based on JIS K7161: 1994 (ISO 527-1 1993). The base material 2 having the elongation at break of 100% or more is not easily broken during the expanding process after the dicing process, and the chips formed by cutting the workpiece W are easily separated.

また、本実施形態における基材2の25%ひずみ時引張応力は5N/10mm以上15N/10mm以下であることが好ましく、最大引張応力は15MPa以上50MPa以下であることが好ましい。ここで25%ひずみ時引張応力および最大引張応力はJIS K7161:1994に準拠した試験により測定される。25%ひずみ時引張応力が5N/10mm未満であったり、最大引張応力が15MPa未満であったりすると、保護膜形成用複合シート10を被着部材Wに貼付した後、リングフレームなどの治具に固定した際、基材2が柔らかいために弛みが発生することが懸念され、この弛みは搬送エラーの原因となることがある。一方、25%ひずみ時引張応力が15N/10mmを超えたり、最大引張応力が50MPaを越えると、エキスパンド工程時にリングフレームなどの治具から粘着シート1が剥がれたりするなどの問題が生じやすくなることが懸念される。なお、上記の破断伸度、25%ひずみ時引張応力、最大引張応力は基材2における原反の長尺方向について測定した値を指す。   In addition, the tensile stress at 25% strain of the base material 2 in this embodiment is preferably 5 N / 10 mm or more and 15 N / 10 mm or less, and the maximum tensile stress is preferably 15 MPa or more and 50 MPa or less. Here, the tensile stress at the time of 25% strain and the maximum tensile stress are measured by a test according to JIS K7161: 1994. If the tensile stress at 25% strain is less than 5 N / 10 mm or the maximum tensile stress is less than 15 MPa, the protective film-forming composite sheet 10 is attached to the adherend W, and then attached to a jig such as a ring frame. When it is fixed, there is a concern that the base material 2 is soft, so that the slack may occur, and this slack may cause a conveyance error. On the other hand, if the tensile stress at 25% strain exceeds 15 N / 10 mm or the maximum tensile stress exceeds 50 MPa, problems such as peeling of the adhesive sheet 1 from a jig such as a ring frame during the expanding process are likely to occur. Is concerned. The elongation at break, the tensile stress at 25% strain, and the maximum tensile stress are values measured in the longitudinal direction of the original fabric in the substrate 2.

(2)粘着剤層
本実施形態に係る粘着シート1の粘着剤層3は、従来より公知の種々の粘着剤組成物により形成され得る。このような粘着剤組成物としては、何ら限定されるものではないが、たとえばゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル等の粘着剤組成物が用いられる。また、エネルギー線硬化型や加熱発泡型、水膨潤型の粘着剤組成物も用いることができる。
(2) Pressure-sensitive adhesive layer The pressure-sensitive adhesive layer 3 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment can be formed of various conventionally known pressure-sensitive adhesive compositions. The pressure-sensitive adhesive composition is not limited in any way, and for example, a pressure-sensitive adhesive composition such as rubber, acrylic, silicone, or polyvinyl ether is used. Moreover, an energy ray curable type, a heat-foaming type, or a water swelling type pressure-sensitive adhesive composition can also be used.

(2−1)第1の凹凸面領域
図1(a)に示されるように、粘着シート第1主面1Aは、その主面1Aの少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域1aを有する。粘着シート1の使用時には、レーザーマーキングの対象である被着体の一の面が、第1の凹凸面領域1aの一部または全部を覆うように粘着シート1上に積層される。被着体としては、半導体ウエハ等の被加工部材、硬化して保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルム、この保護膜形成用フィルムが硬化してなる保護膜などが例示される。以下、図2に示されるように、被着体が保護膜形成用フィルム4であり、粘着シート1と保護膜形成用フィルム4とによって、保護膜形成用複合シート10が構成されている場合を具体例として説明する。
(2-1) First Irregular Surface Area As shown in FIG. 1 (a), the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A is a first uneven surface as at least a part of the main surface 1A. It has an uneven surface area 1a. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 is used, one surface of the adherend that is the object of laser marking is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet 1 so as to cover a part or all of the first uneven surface area 1a. Examples of the adherend include a member to be processed such as a semiconductor wafer, a protective film forming film that can be cured to form a protective film, and a protective film formed by curing the protective film forming film. Hereinafter, as shown in FIG. 2, the adherend is the protective film forming film 4, and the protective film forming composite sheet 10 is configured by the adhesive sheet 1 and the protective film forming film 4. A specific example will be described.

この保護膜形成用複合シート10では、保護膜形成用フィルム4の一方の主面(粘着シート1に近位な側の主面)4Bと第1の凹凸面領域1aとが対向する状態となる。この状態において、第1の凹凸面領域1aに位置する凹部(本明細書において「第1の凹部」ともいう。)のうち、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bに覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bに接触せず、この主面4Bと空隙部を画成する。そして、この画成された空隙部は、レーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる。本明細書において、第1の凹部が画成に関与する空隙部を「第1の空隙部」ともいう。   In this protective film forming composite sheet 10, one main surface (main surface on the side proximal to the adhesive sheet 1) 4 </ b> B of the protective film forming film 4 and the first uneven surface area 1 a are opposed to each other. . In this state, of the recesses (also referred to as “first recesses” in the present specification) located in the first uneven surface region 1a, the region covered with one main surface 4B of the protective film forming film 4 At least a part of the concave portion located at is not in contact with one main surface 4B of the protective film-forming film 4, and defines the main surface 4B and a gap. The defined void portion becomes a diffusion path for the pollutant generated during laser marking. In the present specification, the void portion in which the first concave portion participates in the definition is also referred to as “first void portion”.

第1の空隙部の形状的特徴は、レーザーマーキングのために照射されたレーザーにより被着体から生成する汚染性物質の組成や量に応じて適宜設定される。なお、この汚染性物質として、デブリのような微小の固体、微小な液滴、気相物質などが例示される。第1の空隙部の形状は、第1の凹凸面領域1aの第1の凹部の平面視および断面視での形状的特徴、第1の凹凸面領域1aが貼着する被着体の一の面(被着体が上記のように保護膜形成用フィルム4である場合には一方の主面4B)の平面視および断面視での形状的特徴、被着体に粘着シート1を貼付させたこと基づく第1の凹部の変形の程度などによって決定される。   The shape characteristic of the first gap is appropriately set according to the composition and amount of the pollutant generated from the adherend by the laser irradiated for laser marking. Examples of the pollutant include a minute solid such as debris, a minute droplet, and a gas phase material. The shape of the first gap is the shape characteristic of the first concave portion of the first concave / convex surface region 1a in plan view and sectional view, and is one of the adherends to which the first concave / convex surface region 1a adheres. The surface feature (one main surface 4B when the adherend is the protective film-forming film 4 as described above), the shape characteristics in plan view and cross-sectional view, and the adhesive sheet 1 was adhered to the adherend. This is determined depending on the degree of deformation of the first recess.

第1の凹凸面領域1aの第1の凹部の形状的特徴は、その形成方法に基づき設定される。例えば、粘着シート第1主面1Aの一部の領域または全部の領域に対してショットブラスト、エッチングなどを直接行って梨地表面からなる第1の凹凸面領域1aを形成する場合には、第1の凹部は複数の微小凹部がランダムに近接しながら存在する表面が有する凹部となる。一方、ショットブラスト、放電、エッチングなどの手法を用いて形成された梨地表面を転写するような方法で第1の凹凸面領域1aが形成される場合には、第1の凹部は複数の微小突起がランダムに近接しながら存在する表面を有する凹部となる。あるいは、切削等の機械加工やめっき加工により形成した凹凸形状を有する表面を転写する方法で第1の凹凸面領域1aを形成してもよく、その転写回数は1回でもよく、複数回でもよい。第1の凹部によって作られる第1の凹凸面領域1aの平面視での形状、すなわち、パターンも限定されない。図1(b)には、第1の凹部が切削溝に対応する形状の複数が互いに交差する格子状のパターンを形作っている場合が示されている。   The shape feature of the first concave portion of the first uneven surface area 1a is set based on the forming method. For example, when the first uneven surface area 1a made of a satin surface is formed by directly performing shot blasting, etching, or the like on a partial area or the entire area of the first main surface 1A of the adhesive sheet, the first The concave portion is a concave portion having a surface on which a plurality of minute concave portions are present in close proximity at random. On the other hand, when the 1st uneven surface area | region 1a is formed by the method of transcribe | transferring the satin surface formed using methods, such as shot blasting, electric discharge, and etching, a 1st recessed part is a several microprotrusion. Becomes a recess having a surface that is present in close proximity to each other. Or the 1st uneven surface area | region 1a may be formed by the method of transcribe | transferring the surface which has the uneven | corrugated shape formed by machining or plating processing, such as cutting, The transfer frequency may be 1 time and may be multiple times . The shape in plan view of the first uneven surface area 1a formed by the first recess, that is, the pattern is not limited. FIG. 1B shows a case where the first concave portion forms a lattice-like pattern in which a plurality of shapes corresponding to the cutting grooves intersect each other.

粘着シート第1主面1Aと第1の凹凸面領域1aとの平面視における関係は任意である。図1に示されるように粘着シート第1主面1Aの一部の領域が第1の凹凸面領域1aであってもよいし、粘着シート第1主面1Aの全領域が第1の凹凸面領域1aであってもよい。なお、上記の関係は、第1の凹凸面領域1aが粘着剤層3の外周に接する部分を有するか否かによっても規定することができる。図1に示されるように粘着シート1では、第1の凹凸面領域1aが粘着剤層3の外周に接する部分を有さない。この場合には、粘着シート第1主面1Aの被着体が第1の凹凸面領域1aの全てを覆うように配置されるときには、レーザーマーキングの際に発生した汚染性物質を外気に排出させることなく、第1の空隙部内に拡散させることが可能となる。これに対し、粘着シート第1主面1Aの被着体が第1の凹凸面領域1aの一部を覆うように配置されるときには、第1の空隙部は外気への開口部を有するため、レーザーマーキングの際に発生した汚染性物質は、第1の空隙部を通じて外気に排出されることが可能となる。一方、第1の凹凸面領域1aが粘着剤層3の外周に接する部分を有する場合には、第1の空隙部は外気への開口部を粘着剤層の側面に有するため、被着体の形状や被着体の粘着シート第1主面1A上の配置にかかわらず、レーザーマーキングの際に発生した汚染性物質は、第1の空隙部を通じて外気に排出されることが可能となる。   The relationship between the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet and the first uneven surface region 1a in a plan view is arbitrary. As shown in FIG. 1, a part of the adhesive sheet first main surface 1A may be the first uneven surface area 1a, or the entire area of the adhesive sheet first main surface 1A is the first uneven surface. It may be region 1a. In addition, said relationship can be prescribed | regulated also by whether the 1st uneven surface area | region 1a has a part which touches the outer periphery of the adhesive layer 3. FIG. As shown in FIG. 1, in the pressure-sensitive adhesive sheet 1, the first uneven surface area 1 a does not have a portion in contact with the outer periphery of the pressure-sensitive adhesive layer 3. In this case, when the adherend of the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet is arranged so as to cover the entire first uneven surface area 1a, the pollutant material generated during the laser marking is discharged to the outside air. Without being diffused into the first gap. On the other hand, when the adherend of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A is arranged so as to cover a part of the first uneven surface area 1a, the first gap has an opening to the outside air. Contaminating substances generated during laser marking can be discharged to the outside air through the first gap. On the other hand, when the first uneven surface area 1a has a portion in contact with the outer periphery of the pressure-sensitive adhesive layer 3, the first gap portion has an opening to the outside air on the side surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Regardless of the shape or the arrangement of the adherend on the first main surface 1A of the adhesive sheet, the pollutant generated during the laser marking can be discharged to the outside air through the first gap.

粘着シート第1主面1Aに対向するように配置される被着体の一の面と第1の凹凸面領域1aとの平面視における関係も任意である。第1の凹凸面領域1aの全てが被着体の一の面に包含されていてもよいし、第1の凹凸面領域1aが被着体の一の面の全領域を包含していてもよい。前者の場合には、被着体に対してレーザーマーキングを行うことによって生じた汚染性物質は第1の空隙部内に拡散するため、汚染性物質の局所的な濃度が高まって被着体を汚染することが抑制される。一方、後者の場合には、被着体に対してレーザーマーキングを行うことによって生じた汚染性物質は、第1の空隙部を通じて外気に排出されることが可能となる。   The relationship in plan view between one surface of the adherend and the first uneven surface region 1a arranged to face the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet is also arbitrary. All of the first uneven surface region 1a may be included in one surface of the adherend, or the first uneven surface region 1a may include the entire region of one surface of the adherend. Good. In the former case, the pollutant generated by performing laser marking on the adherend diffuses into the first gap, so the local concentration of the pollutant increases and contaminates the adherend. Is suppressed. On the other hand, in the latter case, the pollutant generated by performing laser marking on the adherend can be discharged to the outside air through the first gap.

第1の凹凸面領域1aの第1の凹部の一例として、断面視での形状的な特徴が、幅が5μm以上500μm以下および/または深さが0.5μm以上5μm以下である場合が挙げられる。第1の凹部の幅が過度に狭い場合や深さが過度に浅い場合には、上記の汚染性物質の拡散が不十分となって、汚染性物質に基づく局所的な汚染の発生が抑制されにくくなるおそれが生じる。一方、第1の凹部の幅が過度に広い場合や深さが過度に深い場合には、レーザー光を照射した際に光量ばらつきがマーキングに影響を与える程度に大きくなるおそれが生じる。   As an example of the 1st recessed part of the 1st uneven surface area | region 1a, the case where the shape characteristic in a cross sectional view is 5 micrometers or more and 500 micrometers or less and / or the depth is 0.5 micrometers or more and 5 micrometers or less is mentioned. . When the width of the first recess is excessively narrow or the depth is excessively shallow, the diffusion of the pollutant is insufficient, and the occurrence of local contamination based on the pollutant is suppressed. It may become difficult. On the other hand, when the width of the first recess is excessively wide or the depth is excessively deep, there is a possibility that the variation in the amount of light when the laser light is irradiated becomes large enough to affect the marking.

本実施形態に係る粘着シート1が備える粘着剤層3は、エネルギー線の照射により重合反応を生じる成分を含有する、エネルギー線重合型の粘着剤組成物から構成される場合もある。この重合のためのエネルギー線としては、X線、紫外線のような電磁波、電子線などが例示される。これらのエネルギー線の中でも、設備設置に要するコストが低く、作業性にも優れる紫外線が好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment may be composed of an energy beam polymerization-type pressure-sensitive adhesive composition containing a component that causes a polymerization reaction upon irradiation with energy rays. Examples of energy rays for this polymerization include X-rays, electromagnetic waves such as ultraviolet rays, and electron beams. Among these energy rays, ultraviolet rays that are low in cost for installation of equipment and excellent in workability are preferable.

このように、粘着剤層3がエネルギー線重合型の粘着剤組成物から形成される場合であって、第1の凹凸面領域を転写加工によって形成する場合には、エネルギー線を照射する時機と、転写加工を行う時機との関係は特に限定されない。転写加工性を向上させる観点からは、エネルギー線の照射前に転写加工を行うことが好ましい場合がある。一方、転写して得られた形状の経時的安定性を高める(具体的には、凹凸部が経時的に平坦化する現象を生じにくくすることが例示される。)観点からは、エネルギー線の照射後に転写加工を行うことが好ましい場合がある。   Thus, when the pressure-sensitive adhesive layer 3 is formed from an energy ray polymerization-type pressure-sensitive adhesive composition, and the first uneven surface region is formed by transfer processing, the time to irradiate energy rays The relationship with the timing for performing transfer processing is not particularly limited. From the viewpoint of improving the transfer processability, it may be preferable to perform the transfer process before the irradiation with the energy rays. On the other hand, from the viewpoint of improving the temporal stability of the shape obtained by the transfer (specifically, it is difficult to cause the phenomenon that the uneven portion is flattened over time), It may be preferable to perform transfer processing after irradiation.

紫外線により重合しうる粘着剤組成物の一例として、次に説明するアクリル系重合体(α)およびエネルギー線重合性化合物(β)、さらに必要に応じ架橋剤(γ)などを含有する粘着剤組成物が挙げられる。   As an example of a pressure-sensitive adhesive composition that can be polymerized by ultraviolet rays, a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer (α) and an energy ray-polymerizable compound (β) described below, and a cross-linking agent (γ) as necessary. Things.

(2−2)アクリル系重合体(α)
本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物の一例はアクリル系重合体(α)を含有する。この粘着剤組成物から形成された粘着剤層3において、アクリル系重合体(α)は少なくともその一部が後述する架橋剤(γ)と架橋反応を行って架橋物として含有される場合もある。
(2-2) Acrylic polymer (α)
An example of the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to the present embodiment contains an acrylic polymer (α). In the pressure-sensitive adhesive layer 3 formed from this pressure-sensitive adhesive composition, at least a part of the acrylic polymer (α) may be contained as a cross-linked product by performing a cross-linking reaction with a cross-linking agent (γ) described later. .

アクリル系重合体(α)としては、従来公知のアクリル系の重合体を用いることができる。アクリル系重合体(α)の重量平均分子量(Mw)は、上記の粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物またはこれに溶媒を加えて得られる組成物からなる塗工液(本明細書において、これらの塗工液を「粘着層形成用塗工液」と総称する。)の塗工時の造膜性の観点から1万以上200万以下であることが好ましく、10万以上150万以下であることがより好ましい。また、アクリル系重合体(α)のガラス転移温度Tgは、好ましくは−70℃以上30℃以下、さらに好ましくは−60℃以上20℃以下の範囲にある。ガラス転移温度は、Fox式より計算することができる。   A conventionally known acrylic polymer can be used as the acrylic polymer (α). The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer (α) is a coating liquid (this specification) comprising the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 or a composition obtained by adding a solvent to this. These coating liquids are generally referred to as “adhesive layer-forming coating liquids” in terms of film-forming properties at the time of coating, and preferably from 10,000 to 2,000,000. More preferably, it is 10,000 or less. The glass transition temperature Tg of the acrylic polymer (α) is preferably in the range of −70 ° C. or higher and 30 ° C. or lower, more preferably −60 ° C. or higher and 20 ° C. or lower. The glass transition temperature can be calculated from the Fox equation.

上記アクリル系重合体(α)は、1種類のアクリル系モノマーから形成された単独重合体であってもよいし、複数種類のアクリル系モノマーから形成された共重合体であってもよいし、1種類または複数種類のアクリル系モノマーとアクリル系モノマー以外のモノマーとから形成された共重合体であってもよい。アクリル系モノマーとなる化合物の具体的な種類は特に限定されず、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、(メタ)アクリル酸エステル、その誘導体(アクリロニトリルなど)が具体例として挙げられる。   The acrylic polymer (α) may be a homopolymer formed from one type of acrylic monomer, or may be a copolymer formed from a plurality of types of acrylic monomers, It may be a copolymer formed from one or more types of acrylic monomers and monomers other than acrylic monomers. Specific types of the compound to be an acrylic monomer are not particularly limited, and specific examples include (meth) acrylic acid, itaconic acid, (meth) acrylic acid ester, and derivatives thereof (acrylonitrile, etc.).

(メタ)アクリル酸エステルについてさらに具体例を示せば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の鎖状骨格を有する(メタ)アクリレート;シクロへキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イミドアクリレート等の環状骨格を有する(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の水酸基以外の反応性官能基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。また、アクリル系モノマー以外のモノマーとして、エチレン、ノルボルネン等のオレフィン、酢酸ビニル、スチレンなどが例示される。なお、アクリル系モノマーがアルキル(メタ)アクリレートである場合には、そのアルキル基の炭素数は1から18の範囲であることが好ましい。   Specific examples of (meth) acrylic acid esters include chain skeletons such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. Cyclic skeletons such as cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and imide acrylate (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; glycidyl (meth) acrylate, N-methylamino Having a reactive functional group other than hydroxyl group, such as chill (meth) acrylate (meth) acrylate. Examples of monomers other than acrylic monomers include olefins such as ethylene and norbornene, vinyl acetate, and styrene. When the acrylic monomer is alkyl (meth) acrylate, the alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms.

本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物が、後述するようにアクリル系重合体(α)を架橋しうる架橋剤(γ)を含有している場合には、アクリル系重合体(α)が有する反応性官能基の種類は特に限定されず、架橋剤(γ)の種類などに基づいて適宜決定すればよい。例えば、架橋剤(γ)がポリイソシアネート化合物である場合には、アクリル系重合体(α)が有する反応性官能基として、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが例示される。これらのうちでも、架橋剤(γ)がポリイソシアネート化合物である場合には、イソシアネート基との反応性の高い水酸基を反応性官能基として採用することが好ましい。アクリル系重合体(α)に反応性官能基として水酸基を導入する方法は特に限定されない。一例として、アクリル系重合体(α)が2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有するアクリレートに基づく構成単位を骨格に含有する場合が挙げられる。   When the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment contains a cross-linking agent (γ) that can cross-link the acrylic polymer (α) as described later, acrylic The type of the reactive functional group possessed by the system polymer (α) is not particularly limited, and may be appropriately determined based on the type of the crosslinking agent (γ). For example, when the crosslinking agent (γ) is a polyisocyanate compound, examples of the reactive functional group that the acrylic polymer (α) has include a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group. Among these, when the crosslinking agent (γ) is a polyisocyanate compound, it is preferable to employ a hydroxyl group highly reactive with an isocyanate group as a reactive functional group. The method for introducing a hydroxyl group as a reactive functional group into the acrylic polymer (α) is not particularly limited. As an example, the acrylic polymer (α) may contain a structural unit based on an acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate in the skeleton.

アクリル系重合体(α)が反応性官能基を有する場合には、アクリル系重合体(α)を形成するためのモノマー換算で、全モノマーに対する反応性官能基の質量割合を1質量%以上20質量%以下程度とすることが好ましく、2質量%以上10質量%以下とすることがより好ましい。   When the acrylic polymer (α) has a reactive functional group, the mass ratio of the reactive functional group to all monomers is 1% by mass or more in terms of monomer for forming the acrylic polymer (α). It is preferable to set it as about mass% or less, and it is more preferable to set it as 2 mass% or more and 10 mass% or less.

(2−3)エネルギー線重合性化合物(β)
本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物が含有するエネルギー線重合性化合物(β)は、エネルギー線重合性基を有し、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けて重合反応することができる限り、具体的な構成は特に限定されない。エネルギー線重合性化合物(β)が重合することによって粘着剤層3の保護膜形成用フィルム4に対する粘着性を低下させることができる。
(2-3) Energy ray polymerizable compound (β)
The energy ray polymerizable compound (β) contained in the pressure sensitive adhesive composition for forming the pressure sensitive adhesive layer 3 according to the present embodiment has an energy ray polymerizable group and is irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. The specific configuration is not particularly limited as long as the polymerization reaction can be received. When the energy beam polymerizable compound (β) is polymerized, the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 to the protective film-forming film 4 can be reduced.

エネルギー線重合性基の種類は特に限定されない。その具体例として、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和結合を有する官能基などが挙げられる。粘着剤組成物が架橋剤(γ)を含有する場合には、架橋剤(γ)の架橋反応を行う部位と機能的に重複する可能性を少なくする観点から、エネルギー線重合性基はエチレン性不飽和結合を有する官能基であることが好ましく、その中でもエネルギー線が照射されたときの反応性の高さの観点から(メタ)アクリロイル基がより好ましい。   The kind of energy beam polymerizable group is not particularly limited. Specific examples thereof include a functional group having an ethylenically unsaturated bond such as a vinyl group or a (meth) acryloyl group. In the case where the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent (γ), the energy ray polymerizable group is ethylenic from the viewpoint of reducing the possibility of functional overlap with the site where the crosslinking agent (γ) undergoes a crosslinking reaction. A functional group having an unsaturated bond is preferable, and among them, a (meth) acryloyl group is more preferable from the viewpoint of high reactivity when irradiated with energy rays.

エネルギー線重合性化合物(β)の分子量は特に限定されない。その分子量が過度に小さい場合には、粘着剤組成物または粘着剤層3の製造過程においてその化合物が揮発することが懸念され、このとき粘着剤層3の組成の安定性が低下する。したがって、エネルギー線重合性化合物(β)の分子量は、重量平均分子量(Mw)として100以上とすることが好ましく、200以上とすることがより好ましく、300以上とすることが特に好ましい。   The molecular weight of the energy beam polymerizable compound (β) is not particularly limited. When the molecular weight is excessively small, there is a concern that the compound volatilizes during the production process of the pressure-sensitive adhesive composition or the pressure-sensitive adhesive layer 3, and at this time, the stability of the composition of the pressure-sensitive adhesive layer 3 decreases. Therefore, the molecular weight of the energy beam polymerizable compound (β) is preferably 100 or more, more preferably 200 or more, and particularly preferably 300 or more, as a weight average molecular weight (Mw).

エネルギー線重合性化合物(β)の少なくとも一部は、分子量が、重量平均分子量(Mw)として4,000以下であることが好ましい。このようなエネルギー線重合性化合物(β)として、エネルギー線重合性基を有する単官能モノマーおよび多官能のモノマーならびにこれらのモノマーのオリゴマーからなる群から選ばれる1種または2種以上からなる化合物が例示される。   At least a part of the energy beam polymerizable compound (β) preferably has a molecular weight of 4,000 or less as a weight average molecular weight (Mw). As such an energy ray polymerizable compound (β), a compound composed of one or more kinds selected from the group consisting of monofunctional monomers and polyfunctional monomers having an energy ray polymerizable group and oligomers of these monomers is used. Illustrated.

上記の化合物の具体的な組成は特に限定されない。上記化合物の具体例として、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなどの鎖状骨格を有するアルキル(メタ)アクリレート;ジシクロペンタジエンジメトキシジ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどの環状骨格を有するアルキル(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、イタコン酸オリゴマー等のアクリレート系化合物などが挙げられる。これらの中でもアクリレート系化合物はアクリル系重合体(α)への相溶性が高いため好ましい。   The specific composition of the above compound is not particularly limited. Specific examples of the above compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth). ) Acrylate, 1,4-butylene glycol di (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate having a chain skeleton such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate; dicyclopentadiene dimethoxydi (meth) acrylate, isobornyl Alkyl (meth) acrylate having a cyclic skeleton such as (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, oligoester (meth) acrylate, urethane (meta Acrylate oligomer, epoxy-modified (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, and acrylate compounds such as itaconic acid oligomer. Among these, acrylate compounds are preferred because of their high compatibility with acrylic polymers (α).

エネルギー線重合性化合物(β)が一分子中に有するエネルギー線重合性基の数は限定されないが、複数であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、5以上であることが特に好ましい。   The number of energy beam polymerizable groups that the energy beam polymerizable compound (β) has in one molecule is not limited, but is preferably a plurality, more preferably 3 or more, and particularly preferably 5 or more. .

本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物に含有されるエネルギー線重合性化合物(β)の含有量は、アクリル系重合体(α)100質量部に対して50質量部以上300質量部以下とすることが好ましく、75質量部以上150質量部以下とすることがより好ましい。なお、本明細書において、各成分の含有量を示す「質量部」は固形分としての量を意味する。エネルギー線重合性化合物(β)の含有量をこのような範囲とすることにより、エネルギー線照射後の粘着剤層3の保護膜形成用フィルム4に対する粘着性と、エネルギー線照射前の粘着剤層3の保護膜形成用フィルム4に対する粘着性との差を十分に確保することができる。   The content of the energy beam polymerizable compound (β) contained in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment is 50 masses per 100 parts by mass of the acrylic polymer (α). Part to 300 parts by mass, more preferably 75 parts to 150 parts by mass. In the present specification, “part by mass” indicating the content of each component means an amount as a solid content. By setting the content of the energy ray polymerizable compound (β) in such a range, the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 after irradiation with the energy beam to the protective film-forming film 4 and the pressure-sensitive adhesive layer before irradiation with the energy beam The difference with the adhesiveness with respect to film 4 for protective film formation of 3 can fully be ensured.

エネルギー線重合性化合物(β)の他の例として、エネルギー線重合性化合物(β)がアクリル系重合体であって、エネルギー線重合線基を有する構成単位を主鎖または側鎖に有するものである場合が挙げられる。この場合には、エネルギー線重合性化合物(β)はアクリル系重合体(α)としての性質を有するため、粘着剤層3を形成するための組成物の組成が簡素化される、粘着剤層3におけるエネルギー線重合性基の存在密度を制御しやすいなどの利点を有する。   As another example of the energy beam polymerizable compound (β), the energy beam polymerizable compound (β) is an acrylic polymer, and has a structural unit having an energy beam polymerizable line group in the main chain or side chain. There are some cases. In this case, since the energy beam polymerizable compound (β) has properties as an acrylic polymer (α), the composition of the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is simplified. 3 has advantages such as easy control of the density of energy beam polymerizable groups.

上記のようなアクリル系重合体(α)の性質を有するエネルギー線重合性化合物(β)は、例えば次のような方法で調製することができる。水酸基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基を含有する(メタ)アクリレートに基づく構成単位およびアルキル(メタ)アクリレートに基づく構成単位を含んでなる共重合体であるアクリル系重合体と、上記の官能基と反応しうる官能基およびエネルギー線重合性基(例えばエチレン性二重結合を有する基)を1分子内に有する化合物とを反応させることにより、上記のアクリル系重合体にエネルギー線重合性基を付加させることができる。   The energy beam polymerizable compound (β) having the properties of the acrylic polymer (α) as described above can be prepared, for example, by the following method. Acrylic copolymer which is a copolymer comprising a structural unit based on (meth) acrylate and a structural unit based on alkyl (meth) acrylate containing a functional group such as hydroxyl group, carboxyl group, amino group, substituted amino group, and epoxy group By reacting a polymer with a compound having a functional group capable of reacting with the above functional group and an energy ray polymerizable group (for example, a group having an ethylenic double bond) in one molecule, the above acrylic heavy polymer is reacted. An energy beam polymerizable group can be added to the polymer.

エネルギー線として紫外線を用いる場合には、取り扱いのしやすさから波長200〜380nm程度の紫外線を含む近紫外線を用いればよい。紫外線量としては、エネルギー線重合性化合物(β)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選択すればよく、通常50〜500mJ/cm程度であり、100〜450mJ/cmが好ましく、200〜400mJ/cmがより好ましい。また、紫外線照度は、通常50〜500mW/cm程度であり、100〜450mW/cmが好ましく、200〜400mW/cmがより好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、UV−LEDなどが用いられる。 When ultraviolet rays are used as energy rays, near ultraviolet rays including ultraviolet rays having a wavelength of about 200 to 380 nm may be used for ease of handling. The amount of ultraviolet rays may be appropriately selected depending on the thickness of the type and pressure-sensitive adhesive layer 3 of the energy beam polymerizable compound (beta), it is usually 50 to 500 mJ / cm 2 about, 100~450mJ / cm 2 is 200 to 400 mJ / cm 2 is more preferable. Moreover, ultraviolet illuminance is about 50-500 mW / cm < 2 > normally, 100-450 mW / cm < 2 > is preferable and 200-400 mW / cm < 2 > is more preferable. There is no restriction | limiting in particular as an ultraviolet-ray source, For example, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, UV-LED etc. are used.

エネルギー線として電子線を用いる場合には、その加速電圧については、エネルギー線重合性化合物(β)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選定すればよく、通常加速電圧10〜1,000kV程度であることが好ましい。また、照射線量は、エネルギー線重合性化合物(β)が適切に硬化する範囲に設定すればよく、通常10〜1,000kradの範囲で選定される。電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。   When an electron beam is used as the energy beam, the acceleration voltage may be appropriately selected according to the type of the energy beam polymerizable compound (β) and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3. It is preferably about 000 kV. Moreover, what is necessary is just to set an irradiation dose in the range which an energy-beam polymeric compound ((beta)) hardens | cures appropriately, and is normally selected in the range of 10-1,000 krad. The electron beam source is not particularly limited, and for example, various electron beam accelerators such as a Cockloft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type are used. be able to.

(2−4)架橋剤(γ)
本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物は、前述のように、アクリル系重合体(α)と反応しうる架橋剤(γ)を含有してもよい。この場合には、本実施形態に係る粘着剤層3は、アクリル系重合体(α)と架橋剤(γ)との架橋反応により得られた架橋物を含有する。
(2-4) Crosslinking agent (γ)
As described above, the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment may contain a crosslinking agent (γ) that can react with the acrylic polymer (α). In this case, the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment contains a cross-linked product obtained by a cross-linking reaction between the acrylic polymer (α) and the cross-linking agent (γ).

架橋剤(γ)の種類としては、例えば、エポキシ系化合物、イソシアネート系化合物、金属キレート系化合物、アジリジン系化合物等のポリイミン化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、ジアルデヒド類、メチロールポリマー、金属アルコキシド、金属塩等が挙げられる。これらの中でも、架橋反応を制御しやすいことなどの理由により、架橋剤(γ)がポリイソシアネート化合物であることが好ましい。   Examples of the crosslinking agent (γ) include, for example, epoxy compounds, isocyanate compounds, metal chelate compounds, aziridine compounds and other polyimine compounds, melamine resins, urea resins, dialdehydes, methylol polymers, metal alkoxides, metals Examples include salts. Among these, it is preferable that the crosslinking agent (γ) is a polyisocyanate compound because it is easy to control the crosslinking reaction.

ここで、ポリイソシアネート化合物についてやや詳しく説明する。ポリイソシアネート化合物は1分子当たりイソシアネート基を2個以上有する化合物であって、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族ポリイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートなどの脂環式イソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどの鎖状骨格を有するイソシアネートが挙げられる。   Here, the polyisocyanate compound will be described in some detail. The polyisocyanate compound is a compound having two or more isocyanate groups per molecule, for example, aromatic polyisocyanate such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, bicycloheptane Alicyclic isocyanate compounds such as triisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate; isocyanates having a chain skeleton such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate Can be mentioned.

また、これらの化合物の、ビウレット体、イソシアヌレート体や、これらの化合物と、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の非芳香族性低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などの変性体も用いることができる。上記のポリイソシアネート化合物は1種類であってもよいし、複数種類であってもよい。   Also, biuret bodies, isocyanurate bodies of these compounds, adduct bodies that are reaction products of these compounds with non-aromatic low-molecular active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, trimethylolpropane, castor oil, etc. A modified product of can also be used. The polyisocyanate compound may be one type or a plurality of types.

本実施形態に係る粘着剤層3がアクリル系重合体(α)と架橋剤(γ)とに基づく架橋物を有する場合には、粘着剤層3に含有される架橋物に係る架橋密度を調整することによって、粘着剤層3の照射前貯蔵弾性率などの特性を制御することができる。この架橋密度は、粘着剤層3を形成するための組成物に含まれる架橋剤(γ)の含有量などを変えることによって調整することができる。具体的には、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物の架橋剤(γ)の含有量を、アクリル系重合体(α)100質量部に対して5質量部以上とすることで、粘着剤層3の照射前貯蔵弾性率などを適切な範囲に制御することが容易となる。この制御性を高める観点から、架橋剤(γ)の含有量は、アクリル系重合体(α)100質量部に対して10質量部以上とすることがより好ましく、20質量部以上とすることが特に好ましい。架橋剤(γ)の含有量の上限は特に限定されないが、含有量が過度に高い場合には、粘着剤層3の粘着性を後述する範囲に制御することが困難となる場合もあるため、アクリル系重合体(α)100質量部に対して50質量部以下とすることが好ましく、40質量部以下とすることがより好ましい。   When the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment has a cross-linked product based on the acrylic polymer (α) and the cross-linking agent (γ), the cross-linking density related to the cross-linked product contained in the pressure-sensitive adhesive layer 3 is adjusted. By doing so, characteristics, such as a storage elastic modulus before irradiation, of the adhesive layer 3 can be controlled. This crosslinking density can be adjusted by changing the content of the crosslinking agent (γ) contained in the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3. Specifically, the content of the crosslinking agent (γ) of the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (α). It becomes easy to control the storage elastic modulus before irradiation of the pressure-sensitive adhesive layer 3 to an appropriate range. From the viewpoint of enhancing this controllability, the content of the crosslinking agent (γ) is more preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 20 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (α). Particularly preferred. The upper limit of the content of the crosslinking agent (γ) is not particularly limited, but if the content is excessively high, it may be difficult to control the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 to a range described later. It is preferable to set it as 50 mass parts or less with respect to 100 mass parts of acrylic polymers ((alpha)), and it is more preferable to set it as 40 mass parts or less.

本実施形態に係る粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物が架橋剤(γ)を含有する場合には、その架橋剤(γ)の種類などに応じて、適切な架橋促進剤を含有することが好ましい。例えば、架橋剤(γ)がポリイソシアネート化合物である場合には、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物は有機スズ化合物などの有機金属化合物系の架橋促進剤を含有することが好ましい。   When the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment contains a cross-linking agent (γ), an appropriate cross-linking accelerator is added depending on the type of the cross-linking agent (γ). It is preferable to contain. For example, when the crosslinking agent (γ) is a polyisocyanate compound, the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 preferably contains an organic metal compound-based crosslinking accelerator such as an organic tin compound. .

(2−5)その他の成分
本実施形態に係る粘着シート1が備える粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物は、上記の成分に加えて、貯蔵弾性率調整剤、光重合開始剤、染料や顔料などの着色剤、難燃剤、フィラー等の各種添加剤を含有してもよい。
(2-5) Other components The pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to the present embodiment includes a storage elastic modulus adjuster and a photopolymerization initiator in addition to the above components. Further, it may contain various additives such as colorants such as dyes and pigments, flame retardants, and fillers.

貯蔵弾性率調整剤として粘着付与樹脂や長鎖アルキルアクリルオリゴマーなどが例示される。貯蔵弾性率調整剤の含有量は、その機能を安定的に発揮させる観点から、アクリル系重合体(α)100質量部に対して50質量部以上とすることが好ましく、75質量部以上とすることがより好ましく、100質量部以上とすることが特に好ましい。また、粘着剤層3に含有される粘着剤の凝集性を適切な程度に維持するため、貯蔵弾性率調整剤の含有量はアクリル系重合体(α)100質量部に対して500質量部以下とすることが好ましく、400質量部以下とすることがより好ましく、350質量部以下とすることが特に好ましい。   Examples of the storage modulus modifier include tackifier resins and long-chain alkyl acrylic oligomers. The content of the storage elastic modulus modifier is preferably 50 parts by mass or more, and 75 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (α) from the viewpoint of stably exhibiting the function. It is more preferable that the amount be 100 parts by mass or more. Moreover, in order to maintain the cohesiveness of the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer 3 to an appropriate level, the content of the storage modulus modifier is 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (α). Preferably, the amount is 400 parts by mass or less, and more preferably 350 parts by mass or less.

貯蔵弾性率調整剤が粘着付与樹脂を含有する場合において、その粘着付与樹脂の種類は特に限定されない。重合化ロジン、エステル化ロジンおよび不均化ロジンならびにこれらの水素添加樹脂などのロジン系の粘着付与樹脂であってもよいし、α−ピネン樹脂などのテルペン系の粘着付与樹脂であってもよいし、炭化水素樹脂などの石油系樹脂であってもよい。あるいは、クマロン樹脂、アルキル・フェノール樹脂、キシレン樹脂といった芳香族系の粘着付与樹脂であってもよい。   In the case where the storage modulus modifier contains a tackifying resin, the type of the tackifying resin is not particularly limited. Polymerized rosin, esterified rosin, disproportionated rosin, and rosin-based tackifying resins such as hydrogenated resins thereof, or terpene-based tackifying resins such as α-pinene resin may be used. Further, it may be a petroleum resin such as a hydrocarbon resin. Alternatively, aromatic tackifying resins such as coumarone resins, alkyl / phenol resins, and xylene resins may be used.

これらの異なる種類の粘着付与樹脂を組み合わせて用いることにより、貯蔵弾性率調整剤のアクリル系重合体(α)への相溶性が高まり、好ましい特性が得られる場合もある。その一例として、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物が、貯蔵弾性率調整剤として重合ロジンエステル(C1)を含有するとともに、水添ロジンエステル(C2)および炭化水素樹脂(C3)の少なくとも一方を含有する場合が挙げられる。上記の粘着付与樹脂を含有する場合には、粘着剤層3を形成するための組成物における重合ロジンエステル(C1)の含有量は、アクリル系重合体(α)100質量部に対して20質量部以下であることが好ましく、5質量部以上18質量部以下であることがより好ましく、7質量部以上15質量部以下であることが特に好ましい。粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物における水添ロジンエステル(C2)の含有量および炭化水素樹脂(C3)の含有量の総和は、粘着剤層3に含有される粘着剤の凝集性を高める観点から、アクリル系重合体(α)100質量部に対して50質量部以上とすることが好ましく、70質量部以上200質量部以下であることがより好ましく、90質量部以上170質量部以下であることが特に好ましい。   By using these different types of tackifying resins in combination, the compatibility of the storage modulus modifier with the acrylic polymer (α) is increased, and preferable characteristics may be obtained. As an example, the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 contains a polymerized rosin ester (C1) as a storage elastic modulus adjuster, as well as a hydrogenated rosin ester (C2) and a hydrocarbon resin (C3). The case where at least one of these is contained is mentioned. When the tackifying resin is contained, the content of the polymerized rosin ester (C1) in the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is 20 masses per 100 mass parts of the acrylic polymer (α). Part or less, more preferably 5 parts by weight or more and 18 parts by weight or less, and particularly preferably 7 parts by weight or more and 15 parts by weight or less. The total of the content of the hydrogenated rosin ester (C2) and the content of the hydrocarbon resin (C3) in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is the aggregation of the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer 3 From the viewpoint of enhancing the properties, it is preferably 50 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (α), more preferably 70 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, and 90 parts by mass or more and 170 parts by mass. It is particularly preferred that the amount is not more than parts.

長鎖アルキルアクリルオリゴマーは、炭素数が4以上18以下程度のアルキル(メタ)アクリレートが重合してなるオリゴマーであって、アルキル基部分の具体的な構成は特に限定されない。かかるオリゴマーを形成するためのモノマーの具体例として、ブチルアクリレートが挙げられる。   The long-chain alkyl acrylic oligomer is an oligomer obtained by polymerizing an alkyl (meth) acrylate having 4 to 18 carbon atoms, and the specific structure of the alkyl group portion is not particularly limited. A specific example of the monomer for forming such an oligomer is butyl acrylate.

光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤、アミンやキノン等の光増感剤などが挙げられ、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどが例示される。エネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を配合することにより照射時間、照射量を少なくすることができる。   Examples of photopolymerization initiators include photoinitiators such as benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds, and peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. When ultraviolet rays are used as energy rays, the irradiation time and irradiation amount can be reduced by blending a photopolymerization initiator.

(3)透過率
本実施形態に係る粘着シート1は、被着体にマーキングするためのレーザー光を基材2側から入射させたときの、粘着剤3側への透過率が70%以上であることが好ましい。かかる透過率は高ければ高いほど好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
(3) Transmittance The pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment has a transmittance to the pressure-sensitive adhesive 3 side of 70% or more when a laser beam for marking an adherend is incident from the base material 2 side. Preferably there is. The higher the transmittance is, the more preferable, 80% or more is more preferable, and 90% or more is more preferable.

(4)厚さ
本実施形態に係る粘着シート1が備える粘着剤層3の厚さは特に限定されない。粘着剤層3の被着体(ここでは、保護膜形成用フィルム4などのレーザーが照射される対象に加えて、リングフレーム等の治具なども含む。)に対する粘着性を適切に維持する観点から、粘着剤層3の厚さは1μm以上とすることが好ましく、2μm以上とすることがより好ましく、3μm以上とすることが特に好ましい。一方、ダイシング工程中にチップ欠けが生じる可能性を低減させる観点から、粘着剤層3の厚さは100μm以下とすることが好ましく、80μm以下とすることがより好ましく、50μm以下とすることが特に好ましい。
(4) Thickness The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment is not particularly limited. The viewpoint of appropriately maintaining the adhesiveness to the adherend of the pressure-sensitive adhesive layer 3 (here, in addition to the object to be irradiated with a laser such as the protective film-forming film 4, a jig such as a ring frame). Therefore, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and particularly preferably 3 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of reducing the possibility of chip chipping during the dicing process, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less. preferable.

2.保護膜形成用フィルム
本発明の一実施形態に係る保護膜形成用フィルムは、少なくとも一方の主面に後述する形状的特徴を備える。図2に示されるように、保護膜形成用フィルム4は、粘着シート第1主面1A上に積層されて、保護膜形成用複合シート10を構成する1要素となる。保護膜形成用フィルム4は、図3に示されるように、例えば二枚の剥離シート41,42に挟持された保護膜形成用フィルム積層体40として、流通したり保管されたりする場合もある。
2. Protective film-forming film The protective film-forming film according to one embodiment of the present invention has a shape feature to be described later on at least one main surface. As shown in FIG. 2, the protective film-forming film 4 is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1 </ b> A and becomes one element constituting the protective film-forming composite sheet 10. As shown in FIG. 3, the protective film forming film 4 may be distributed or stored, for example, as a protective film forming film laminate 40 sandwiched between two release sheets 41 and 42.

以下、保護膜形成用フィルム4について詳しく説明する。
保護膜形成用フィルム4は、次の機能を基本機能として果たす。
(機能1)被加工部材Wの保護膜形成用フィルム4が積層された面を保護する保護膜を形成可能であること
(機能2)保護膜形成用フィルム4またはこれから形成される保護膜(本明細書において、保護膜形成用フィルム4および保護膜を「保護膜等」と総称する場合もある。)が被加工部材Wと粘着シート1との間に配置されてダイシング工程に供されたときに、被加工部材Wと保護膜等との間での剥離および保護膜等と粘着シート1との間での剥離が生じにくいこと
(機能3)ダイシング工程後に行われるピックアップ工程において、被加工部材Wと保護膜等との間での剥離に優先して保護膜等と粘着シート1との間での剥離が生じること
(機能4)保護膜等の被加工部材Wに対向する面の反対側の面にレーザーマーキングなどにより刻印を行うことによって、視認性に優れるマークを有する保護膜を形成可能であること
Hereinafter, the protective film-forming film 4 will be described in detail.
The protective film-forming film 4 fulfills the following functions as basic functions.
(Function 1) It is possible to form a protective film for protecting the surface of the workpiece W on which the protective film forming film 4 is laminated. (Function 2) The protective film forming film 4 or a protective film formed from this (this book) In the specification, the protective film forming film 4 and the protective film may be collectively referred to as “protective film or the like.” When the protective film forming film 4 is disposed between the workpiece W and the pressure-sensitive adhesive sheet 1 and subjected to the dicing process. In addition, peeling between the workpiece W and the protective film or the like and peeling between the protective film or the like and the adhesive sheet 1 are less likely to occur (Function 3) In the pickup process performed after the dicing process, Peeling occurs between the protective film and the adhesive sheet 1 in preference to peeling between the protective film and the protective film (Function 4) The opposite side of the surface facing the workpiece W such as the protective film Engraved on the surface with laser marking etc. By performing the, it can form a protective film having a mark having excellent visibility

(1)第2の凹凸面領域
本実施形態に係る保護膜形成用フィルム4は、図3に示されるように、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4B(使用時に粘着シート1に近位な側に位置する主面)が、その主面4Bの少なくとも一部の領域として凹凸面からなる第2の凹凸面領域4aを有する。この第2の凹凸面領域4aはレーザー光によりマーキング可能に構成されている。第2の凹凸面領域4aの形成方法は特に限定されない。第1の凹凸面領域1aの形成方法と同様に、切削、ショットブラスト等の物理的手法、エッチング、めっきなどの化学的手法などを用いて形成された凹凸面を転写することによって形成されることが、典型例として挙げられる。
(1) Second uneven surface region As shown in FIG. 3, the protective film forming film 4 according to this embodiment has one main surface 4 </ b> B of the protective film forming film 4 (close to the pressure-sensitive adhesive sheet 1 when used). The main surface located on the lower side has a second uneven surface area 4a made of an uneven surface as at least a part of the main surface 4B. This 2nd uneven surface area | region 4a is comprised so that marking can be performed with a laser beam. The formation method of the 2nd uneven surface area | region 4a is not specifically limited. Similar to the method of forming the first uneven surface area 1a, the uneven surface formed by using a physical method such as cutting or shot blasting, a chemical method such as etching or plating, or the like is transferred. Is given as a typical example.

保護膜形成用フィルム4の使用時には、図4に一例が示されるように、粘着シート1と保護膜形成用フィルム4とは、粘着シート第1主面1Aが保護膜形成用フィルム4の一方の主面4上の第2の凹凸面領域4aの一部または全部を覆うように積層されて、保護膜形成用複合シート10が構成される。図4では、粘着シート第1主面1Aが第2の凹凸面領域4aの全部を覆う場合が例示されている。すなわち、平面視では、粘着シート第1主面1Aが、第2の凹凸面領域4aよりも広くなっている。粘着シート第1主面1Aと第2の凹凸面領域4aとの平面視での関係は特に限定されず、例えば、図5に示されるように、粘着シート第1主面1Aの全領域に第2の凹凸面領域4aが対向するように、粘着シート1と保護膜形成用フィルム4とは積層されていてもよい。   When the protective film forming film 4 is used, as shown in FIG. 4, the pressure sensitive adhesive sheet 1 and the protective film forming film 4 have a pressure sensitive adhesive sheet first main surface 1 </ b> A that is one of the protective film forming films 4. The protective sheet forming composite sheet 10 is configured by being laminated so as to cover a part or all of the second uneven surface area 4a on the main surface 4. In FIG. 4, the case where 1 A of adhesive sheet 1st main surfaces cover the whole 2nd uneven | corrugated surface area | region 4a is illustrated. That is, in the plan view, the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A is wider than the second uneven surface area 4a. The relationship in plan view between the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A and the second uneven surface area 4a is not particularly limited. For example, as shown in FIG. The pressure-sensitive adhesive sheet 1 and the protective film-forming film 4 may be laminated so that the two uneven surface areas 4a face each other.

粘着シート第1主面1Aにおける保護膜形成用フィルム4が積層される領域1bと、粘着シート第1主面1Aとの関係は特に限定されない。図4に示されるように領域1bは主面1Aの一部の領域であってもよいし、主面1Aの全領域が領域1bであって、保護膜形成用フィルム4は粘着シート第1主面1Aの全面を覆うように配置されていてもよい(図5)。   The relationship between the region 1b where the protective film forming film 4 is laminated on the first main surface 1A of the adhesive sheet and the first main surface 1A of the adhesive sheet is not particularly limited. As shown in FIG. 4, the region 1b may be a partial region of the main surface 1A, or the entire region of the main surface 1A is the region 1b, and the protective film-forming film 4 is the first main sheet of the adhesive sheet. You may arrange | position so that the whole surface 1A may be covered (FIG. 5).

こうして粘着シート1上に積層された保護膜形成用フィルム4の第2の凹凸面領域4aと粘着シート第1主面1Aとが対向する状態において、第2の凹凸面領域4aに位置する凹部(本明細書において「第2の凹部」ともいう。)のうち、粘着シート第1主面1Aに覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、粘着シート第1主面1Aに接触せず当該主面1Aと空隙部を画成する。そしてこの画成された空隙部は、レーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる。本明細書において、第2の凹部が画成に関与する空隙部を「第2の空隙部」ともいう。この第2の空隙部の形状的特徴は、第1の凹凸面領域1aの第1の凹部が関与して形成される第1の空隙部の形状的特徴と同様の特徴を有する。   In the state where the second uneven surface area 4a of the protective film-forming film 4 laminated on the adhesive sheet 1 and the first main surface 1A of the adhesive sheet face each other, the concave portion ( In this specification, it is also referred to as “second recess”), and at least part of the recess located in the region covered with the first main surface 1A of the adhesive sheet does not contact the first main surface 1A of the adhesive sheet. The main surface 1A and a gap are defined. The defined void portion becomes a diffusion path of the pollutant generated during laser marking. In the present specification, the void portion in which the second concave portion participates in the definition is also referred to as “second void portion”. The shape feature of the second gap portion has the same feature as the shape feature of the first gap portion formed by involving the first recess of the first uneven surface area 1a.

第2の空隙部は、さらに次の特徴も有する。すなわち、第2の凹凸面領域4aは平面視で保護膜形成用フィルム4の外周に接する部分を有してもよい。この場合には、第2の空隙部は閉空間とならず、外周部に接する部分における第2の凹部が関与して画成される第2の空隙部の一部分は第2の空隙部の開口部となる。この場合には、レーザー光が照射されたことにより生成する汚染性物質を、この開口部を通じて外部に排出させることが可能となる。   The second gap has the following characteristics. That is, the second uneven surface area 4a may have a portion that contacts the outer periphery of the protective film-forming film 4 in plan view. In this case, the second gap portion is not a closed space, and a part of the second gap portion defined by the second recess portion in contact with the outer peripheral portion is an opening of the second gap portion. Part. In this case, it is possible to discharge the pollutant generated by the laser light irradiation through the opening.

(2)組成
以下、保護膜形成用フィルム4がこれを形成するための組成物(本明細書において「保護膜形成用組成物」ともいう。)を硬化させて得られるものであって、具体的には、(1)シート形状維持性、(2)初期接着性および(3)硬化性を有するフィルムである場合を具体例として、保護膜形成用フィルム4の組成等について説明する。
(2) Composition Hereinafter, the protective film-forming film 4 is obtained by curing a composition for forming the protective film 4 (also referred to as “protective film-forming composition” in the present specification). Specifically, the composition and the like of the protective film-forming film 4 will be described by taking as an example a film having (1) sheet shape maintaining property, (2) initial adhesiveness, and (3) curability.

保護膜形成用フィルム4には、バインダー成分の添加により(1)シート形状維持性および(3)硬化性を付与することができ、バインダー成分としては、重合体成分(A)および硬化性成分(B)を含有する第1のバインダー成分または(A)成分および(B)成分の性質を兼ね備えた硬化性重合体成分(AB)を含有する第2のバインダー成分を用いることができる。
なお、保護膜形成用フィルム4を硬化までの間被着体に仮着させておくための機能である(2)初期接着性は、感圧接着性であってもよく、熱により軟化して接着する性質であってもよい。(2)初期接着性は、通常バインダー成分の諸特性や、後述する無機フィラーなどの充填材(C)の配合量の調整などにより制御される。
The protective film-forming film 4 can be provided with (1) sheet shape maintainability and (3) curability by adding a binder component. As the binder component, the polymer component (A) and the curable component ( The first binder component containing B) or the second binder component containing the curable polymer component (AB) having the properties of the component (A) and the component (B) can be used.
In addition, it is a function for temporarily attaching the protective film-forming film 4 to the adherend until curing (2) The initial adhesiveness may be pressure-sensitive adhesiveness and is softened by heat. The property of adhering may be sufficient. (2) The initial adhesiveness is usually controlled by various characteristics of the binder component, adjustment of the blending amount of the filler (C) such as an inorganic filler described later, and the like.

(第1のバインダー成分)
第1のバインダー成分は、重合体成分(A)と硬化性成分(B)を含有することにより、保護膜形成用フィルム4に(1)シート形状維持性と(3)硬化性を付与する。なお、第1のバインダー成分は、第2のバインダー成分と区別する便宜上、硬化性重合体成分(AB)を含有しない。
(First binder component)
The first binder component imparts (1) sheet shape maintaining property and (3) curability to the protective film forming film 4 by containing the polymer component (A) and the curable component (B). In addition, the 1st binder component does not contain a curable polymer component (AB) for the convenience of distinguishing from a 2nd binder component.

(A)重合体成分
重合体成分(A)は、保護膜形成用フィルム4に(1)シート形状維持性を付与することを主目的として保護膜形成用フィルム4に添加される。
上記の目的を達成するため、重合体成分(A)の重量平均分子量(Mw)は、通常20,000以上であり、20,000〜3,000,000であることが好ましい。重量平均分子量(Mw)の値は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー法(GPC)法(ポリスチレン標準)により測定される場合の値である。このような方法による測定は、たとえば、東ソー社製の高速GPC装置「HLC−8120GPC」に、高速カラム「TSK gurd column HXL−H」、「TSK Gel GMHXL」、「TSK Gel G2000 HXL」(以上、全て東ソー社製)をこの順序で連結したものを用い、カラム温度:40℃、送液速度:1.0mL/分の条件で、検出器を示差屈折率計として行われる。
なお、後述する硬化性重合体(AB)と区別する便宜上、重合体成分(A)は後述する硬化機能官能基を有しない。
(A) Polymer component The polymer component (A) is added to the protective film-forming film 4 mainly for the purpose of imparting (1) sheet shape maintaining property to the protective film-forming film 4.
In order to achieve the above object, the polymer component (A) has a weight average molecular weight (Mw) of usually 20,000 or more, preferably 20,000 to 3,000,000. The value of the weight average molecular weight (Mw) is a value when measured by a gel permeation chromatography method (GPC) method (polystyrene standard). The measurement by such a method is performed, for example, on a high-speed GPC device “HLC-8120GPC” manufactured by Tosoh Corporation, a high-speed column “TSK gold column HXL-H”, “TSK Gel GMHXL”, “TSK Gel G2000 HXL” (or more, The detector is used as a differential refractometer at a column temperature of 40 ° C. and a liquid feed rate of 1.0 mL / min.
In addition, for convenience to distinguish from the curable polymer (AB) described later, the polymer component (A) does not have a curing functional functional group described later.

重合体成分(A)としては、アクリル系重合体、ポリエステル、フェノキシ樹脂(後述する硬化性重合体(AB)と区別する便宜上、エポキシ基を有しないものに限る。)、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ゴム系重合体等を用いることができる。また、これらの2種以上が結合したもの、たとえば、水酸基を有するアクリル系重合体であるアクリルポリオールに、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを反応させることにより得られるアクリルウレタン樹脂等であってもよい。さらに、2種以上が結合した重合体を含め、これらの2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the polymer component (A), an acrylic polymer, polyester, phenoxy resin (for the purpose of distinguishing from the curable polymer (AB) described later, limited to those having no epoxy group), polycarbonate, polyether, polyurethane Polysiloxane, rubber polymer, etc. can be used. Further, it is an acrylic urethane resin obtained by reacting a urethane prepolymer having an isocyanate group at a molecular terminal with an acrylic polyol which is an acrylic polymer having a hydroxyl group, which is a combination of two or more of these. May be. Furthermore, two or more of these may be used in combination, including a polymer in which two or more are bonded.

(A1)アクリル系重合体
重合体成分(A)としては、アクリル系重合体(A1)が好ましく用いられる。アクリル系重合体(A1)のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは−60〜50℃、より好ましくは−50〜40℃、さらに好ましくは−40〜30℃の範囲にある。アクリル系重合体(A1)のガラス転移温度が高いと保護膜形成用フィルム4のプローブタック値は低下する傾向があり、また、硬化後における接着性が低下する傾向がある。したがって、アクリル系重合体(A1)のガラス転移温度(Tg)は、−40〜−5℃の範囲にあることが特に好ましい。
(A1) Acrylic polymer As the polymer component (A), an acrylic polymer (A1) is preferably used. The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer (A1) is preferably in the range of −60 to 50 ° C., more preferably −50 to 40 ° C., and further preferably −40 to 30 ° C. When the glass transition temperature of the acrylic polymer (A1) is high, the probe tack value of the protective film-forming film 4 tends to decrease, and the adhesiveness after curing tends to decrease. Therefore, the glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer (A1) is particularly preferably in the range of −40 to −5 ° C.

アクリル系重合体(A1)の重量平均分子量は、100,000〜1,500,000であることが好ましい。アクリル系重合体(A1)の重量平均分子量が高いと保護膜形成用フィルム4のプローブタック値は低下する傾向があり、また、硬化後における接着性が低下する傾向がある。したがってアクリル系重合体(A1)の重量平均分子量は600,000〜1,200,000であることがより好ましい。   The weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is preferably 100,000 to 1,500,000. When the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is high, the probe tack value of the protective film-forming film 4 tends to decrease, and the adhesiveness after curing tends to decrease. Accordingly, the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is more preferably 600,000 to 1,200,000.

アクリル系重合体(A1)は、少なくとも構成する単量体に、(メタ)アクリル酸エステルを含む。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、アルキル基の炭素数が1〜18であるアルキル(メタ)アクリレート、具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートなど;環状骨格を有する(メタ)アクリレート、具体的にはシクロアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレートなどが挙げられる。また、後述する熱による反応する官能基を有する単量体、水酸基を有する単量体、カルボキシル基を有する単量体、アミノ基を有する単量体として例示するもののうち、(メタ)アクリル酸エステルであるものを例示することができる。
The acrylic polymer (A1) contains (meth) acrylic acid ester in at least a constituent monomer.
As the (meth) acrylic acid ester, an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl ( (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, etc .; (meth) acrylate having a cyclic skeleton, specifically cycloalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl ( Examples include meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and imide (meth) acrylate. Among those exemplified as a monomer having a functional group that reacts by heat, a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group, and a monomer having an amino group, which will be described later, (meth) acrylic acid ester Can be illustrated.

アクリル系重合体(A1)を構成する単量体として、水酸基を有する単量体を用いてもよい。このような単量体を用いることで、アクリル系重合体(A1)に水酸基が導入され、保護膜形成用フィルム4が別途エネルギー線硬化性成分(B2)を含有する場合に、これとアクリル系重合体(A1)との相溶性が向上する。水酸基を有する単量体としては、2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル;N−メチロール(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。   A monomer having a hydroxyl group may be used as the monomer constituting the acrylic polymer (A1). When such a monomer is used, when a hydroxyl group is introduced into the acrylic polymer (A1) and the protective film-forming film 4 contains an energy ray-curable component (B2) separately, this and the acrylic polymer (A1). Compatibility with the polymer (A1) is improved. Examples of the monomer having a hydroxyl group include (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group such as 2-hydroxylethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; N-methylol (meth) acrylamide and the like.

アクリル系重合体(A1)を構成する単量体として、カルボキシル基を有する単量体を用いてもよい。このような単量体を用いることで、アクリル系重合体(A1)にカルボキシル基が導入され、保護膜形成用フィルム4が、別途エネルギー線硬化性成分(B2)を含有する場合に、これとアクリル系重合体(A1)との相溶性が向上する。カルボキシル基を有する単量体としては、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。後述する硬化性成分(B)として、エポキシ系熱硬化性成分を用いる場合には、カルボキシル基とエポキシ系熱硬化性成分中のエポキシ基が反応してしまうため、カルボキシル基を有する単量体の使用量は少ないことが好ましい。   As the monomer constituting the acrylic polymer (A1), a monomer having a carboxyl group may be used. When such a monomer is used, a carboxyl group is introduced into the acrylic polymer (A1), and the protective film-forming film 4 contains an energy ray-curable component (B2) separately. Compatibility with the acrylic polymer (A1) is improved. Examples of the monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid. When using an epoxy-based thermosetting component as the curable component (B) described below, the carboxyl group and the epoxy group in the epoxy-based thermosetting component react with each other. The amount used is preferably small.

アクリル系重合体(A1)を構成する単量体として、アミノ基を有する単量体を用いてもよい。このような単量体としては、モノエチルアミノ(メタ)アクリレート等のアミノ基を有する(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。   As a monomer constituting the acrylic polymer (A1), a monomer having an amino group may be used. Examples of such a monomer include (meth) acrylic acid esters having an amino group such as monoethylamino (meth) acrylate.

アクリル系重合体(A1)を構成する単量体として、このほか酢酸ビニル、スチレン、エチレン、α−オレフィン等を用いてもよい。   In addition, vinyl acetate, styrene, ethylene, α-olefin, or the like may be used as a monomer constituting the acrylic polymer (A1).

アクリル系重合体(A1)は架橋されていてもよい。架橋は、架橋される前のアクリル系重合体(A1)が水酸基等の架橋性官能基を有しており、保護膜形成用組成物中に架橋剤を添加することで架橋性官能基と架橋剤の有する官能基が反応することにより行われる。アクリル系重合体(A1)を架橋することにより、保護膜形成用フィルム4の凝集力を調節することが可能となる。   The acrylic polymer (A1) may be cross-linked. In the crosslinking, the acrylic polymer (A1) before being crosslinked has a crosslinkable functional group such as a hydroxyl group, and the crosslinkable functional group and the crosslinkable group are crosslinked by adding a crosslinker to the protective film forming composition. This is performed by the reaction of the functional group of the agent. By crosslinking the acrylic polymer (A1), the cohesive force of the protective film-forming film 4 can be adjusted.

架橋剤としては有機多価イソシアネート化合物、有機多価イミン化合物などが挙げられる。   Examples of the crosslinking agent include organic polyvalent isocyanate compounds and organic polyvalent imine compounds.

有機多価イソシアネート化合物としては、芳香族多価イソシアネート化合物、脂肪族多価イソシアネート化合物、脂環族多価イソシアネート化合物およびこれらの有機多価イソシアネート化合物の三量体、ならびにこれら有機多価イソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。   Examples of organic polyvalent isocyanate compounds include aromatic polyvalent isocyanate compounds, aliphatic polyvalent isocyanate compounds, alicyclic polyvalent isocyanate compounds, trimers of these organic polyvalent isocyanate compounds, and these organic polyvalent isocyanate compounds. Examples thereof include terminal isocyanate urethane prepolymers obtained by reacting with a polyol compound.

有機多価イソシアネート化合物として、具体的には、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート、3−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−2,4’−ジイソシアネート、リジンイソシアネート、およびこれらの多価アルコールアダクト体が挙げられる。   Specifically, as the organic polyvalent isocyanate compound, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′- Diisocyanate, diphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4′-diisocyanate, and lysine isocyanates thereof Examples thereof include polyhydric alcohol adducts.

有機多価イミン化合物として、具体的には、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネートおよびN,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)トリエチレンメラミン等を挙げることができる。   Specific examples of organic polyvalent imine compounds include N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylol. Mention may be made of methane-tri-β-aziridinylpropionate and N, N′-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide) triethylenemelamine.

架橋剤は架橋する前のアクリル系重合体(A1)100質量部に対して通常0.01〜20質量部、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは0.5〜5質量部の比率で用いられる。   A crosslinking agent is 0.01-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of acrylic polymers (A1) before bridge | crosslinking, Preferably it is 0.1-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-5 mass parts. Used in ratio.

本発明において、保護膜形成用フィルム4を構成する成分の含有量の態様について、重合体成分(A)の含有量を基準として定める場合、重合体成分(A)が架橋されたアクリル系重合体であるときは、その基準とする含有量は、架橋される前のアクリル系重合体の含有量である。   In the present invention, when the content of the component constituting the protective film-forming film 4 is determined with reference to the content of the polymer component (A), the acrylic polymer in which the polymer component (A) is crosslinked Is the content of the acrylic polymer before being crosslinked.

(A2)非アクリル系樹脂
また、重合体成分(A)として、ポリエステル、フェノキシ樹脂(後述する硬化性重合体(AB)と区別する便宜上、エポキシ基を有しないものに限る。)、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ゴム系重合体またはこれらの2種以上が結合したものから選ばれる非アクリル系樹脂(A2)の1種単独または2種以上の組み合わせを用いてもよい。このような樹脂としては、重量平均分子量が20,000〜100,000のものが好ましく、20,000〜80,000のものがさらに好ましい。
(A2) Non-acrylic resin In addition, as the polymer component (A), polyester, phenoxy resin (for the purpose of distinguishing from the curable polymer (AB) described later, only those having no epoxy group), polycarbonate, poly One type of non-acrylic resin (A2) selected from ethers, polyurethanes, polysiloxanes, rubber polymers, or a combination of two or more of these may be used, or a combination of two or more types. Such a resin preferably has a weight average molecular weight of 20,000 to 100,000, and more preferably 20,000 to 80,000.

非アクリル系樹脂(A2)のガラス転移温度は、好ましくは−30〜150℃、さらに好ましくは−20〜120℃の範囲にある。   The glass transition temperature of the non-acrylic resin (A2) is preferably -30 to 150 ° C, more preferably -20 to 120 ° C.

非アクリル系樹脂(A2)を、上述のアクリル系重合体(A1)と併用する場合には、非アクリル系樹脂(A2)の含有量は特に限定されない。非アクリル系樹脂(A2)とアクリル系重合体(A1)との質量比(A2:A1)において、通常1:99〜60:40、好ましくは1:99〜30:70の範囲にある。   When using a non-acrylic resin (A2) together with the above-mentioned acrylic polymer (A1), the content of the non-acrylic resin (A2) is not particularly limited. The mass ratio (A2: A1) between the non-acrylic resin (A2) and the acrylic polymer (A1) is usually in the range of 1:99 to 60:40, preferably 1:99 to 30:70.

(B)硬化性成分
硬化性成分(B)は、保護膜形成用フィルム4に硬化性を付与することを主目的として保護膜形成用フィルム4に添加される。硬化性成分(B)は、熱硬化性成分(B1)、またはエネルギー線硬化性成分(B2)を用いることができる。また、これらを組み合わせて用いてもよい。熱硬化性成分(B1)は、少なくとも加熱により反応する官能基を有する化合物を含有する。また、エネルギー線硬化性成分(B2)は、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を含有し、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けると重合硬化する。これらの硬化性成分が有する官能基同士が反応し、三次元網目構造が形成されることにより硬化が実現される。硬化性成分(B)は、重合体成分(A)と組み合わせて用いるため、保護膜形成用組成物の粘度を抑制し、取り扱い性を向上させる等の観点から、通常その重量平均分子量(Mw)は、10,000以下であり、100〜10,000であることが好ましい。
(B) Curable component The curable component (B) is added to the protective film-forming film 4 mainly for imparting curability to the protective film-forming film 4. As the curable component (B), a thermosetting component (B1) or an energy beam curable component (B2) can be used. Moreover, you may use combining these. The thermosetting component (B1) contains at least a compound having a functional group that reacts by heating. The energy ray-curable component (B2) contains a compound (B21) having a functional group that reacts by irradiation with energy rays, and is polymerized and cured when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. Curing is realized by the functional groups of these curable components reacting to form a three-dimensional network structure. Since the curable component (B) is used in combination with the polymer component (A), its weight average molecular weight (Mw) is usually from the viewpoint of suppressing the viscosity of the composition for forming a protective film and improving the handleability. Is 10,000 or less, and preferably 100 to 10,000.

(B1)熱硬化性成分
熱硬化性成分としては、たとえば、エポキシ系熱硬化性成分が好ましい。
エポキシ系熱硬化性成分は、エポキシ基を有する化合物(B11)を含有し、エポキシ基を有する化合物(B11)と熱硬化剤(B12)を組み合わせたものを用いることが好ましい。
(B1) Thermosetting component As the thermosetting component, for example, an epoxy thermosetting component is preferable.
The epoxy thermosetting component preferably contains a compound (B11) having an epoxy group and a combination of a compound (B11) having an epoxy group and a thermosetting agent (B12).

(B11)エポキシ基を有する化合物
エポキシ基を有する化合物(B11)(以下、「エポキシ化合物(B11)」ということがある。)としては、従来公知のものを用いることができる。具体的には、多官能系エポキシ樹脂や、ビスフェノールAジグリシジルエーテルやその水添物、オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェニレン骨格型エポキシ樹脂など、分子中に2官能以上有するエポキシ化合物が挙げられる。これらは1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(B11) Compound having an epoxy group As the compound (B11) having an epoxy group (hereinafter sometimes referred to as “epoxy compound (B11)”), a conventionally known compound can be used. Specifically, polyfunctional epoxy resin, bisphenol A diglycidyl ether and its hydrogenated product, orthocresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type Examples thereof include epoxy compounds having two or more functional groups in the molecule, such as epoxy resins and phenylene skeleton type epoxy resins. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

エポキシ化合物(B11)を用いる場合には、保護膜形成用フィルム4には、重合体成分(A)100質量部に対して、エポキシ化合物(B11)が、好ましくは1〜1,500質量部含まれ、より好ましくは3〜1,200質量部含まれる。エポキシ化合物(B11)が少ないと、保護膜形成用フィルム4の硬化後における接着性が低下する傾向がある。また、エポキシ化合物(B11)として、常温において固体であるもののみを用いた場合には、エポキシ化合物(B11)が少ない、すなわち、相対的に重合体成分(A)が多いと、保護膜形成用フィルム4のプローブタック値が上昇する傾向がある。なお、常温は25℃を指し、以下同じである。   When the epoxy compound (B11) is used, the protective film-forming film 4 preferably contains 1 to 1,500 parts by mass of the epoxy compound (B11) with respect to 100 parts by mass of the polymer component (A). More preferably, it is contained in 3 to 1,200 parts by mass. When there are few epoxy compounds (B11), there exists a tendency for the adhesiveness after hardening of the film 4 for protective film formation to fall. Further, when only the epoxy compound (B11) that is solid at room temperature is used, if the epoxy compound (B11) is small, that is, if the polymer component (A) is relatively large, the protective film is formed. The probe tack value of the film 4 tends to increase. The normal temperature indicates 25 ° C., and the same applies hereinafter.

このような傾向があることから、エポキシ化合物(B11)として、常温において固体であるもののみを用いるときは、重合体成分(A)100質量部に対して、エポキシ化合物(B11)が70〜150質量部含まれることが特に好ましい。   Since there exists such a tendency, when using only what is a solid at normal temperature as an epoxy compound (B11), an epoxy compound (B11) is 70-150 with respect to 100 mass parts of polymer components (A). It is particularly preferable that a part by mass is included.

(B12)熱硬化剤
熱硬化剤(B12)は、エポキシ化合物(B11)に対する硬化剤として機能する。好ましい熱硬化剤としては、1分子中にエポキシ基と反応しうる官能基を2個以上有する化合物が挙げられる。その官能基としてはフェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基および酸無水物などが挙げられる。これらのうち好ましくはフェノール性水酸基、アミノ基、酸無水物などが挙げられ、さらに好ましくはフェノール性水酸基、アミノ基が挙げられる。
(B12) Thermosetting agent The thermosetting agent (B12) functions as a curing agent for the epoxy compound (B11). A preferable thermosetting agent includes a compound having two or more functional groups capable of reacting with an epoxy group in one molecule. Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride. Of these, phenolic hydroxyl groups, amino groups, acid anhydrides and the like are preferable, and phenolic hydroxyl groups and amino groups are more preferable.

フェノール系硬化剤の具体的な例としては、多官能系フェノール樹脂、ビフェノール、ノボラック型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン系フェノール樹脂、ザイロック型フェノール樹脂、アラルキルフェノール樹脂が挙げられる。アミン系硬化剤の具体的な例としては、DICY(ジシアンジアミド)が挙げられる。これらは、1種単独で、または2種以上混合して使用することができる。   Specific examples of the phenolic curing agent include polyfunctional phenolic resin, biphenol, novolac type phenolic resin, dicyclopentadiene type phenolic resin, zylock type phenolic resin, and aralkylphenolic resin. A specific example of the amine curing agent is DICY (dicyandiamide). These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

熱硬化剤(B12)の含有量は、エポキシ化合物(B11)100質量部に対して、0.1〜500質量部であることが好ましく、1〜200質量部であることがより好ましい。熱硬化剤の含有量が少ないと、硬化後における接着性が低下する傾向がある。   It is preferable that it is 0.1-500 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy compounds (B11), and, as for content of a thermosetting agent (B12), it is more preferable that it is 1-200 mass parts. When there is little content of a thermosetting agent, there exists a tendency for the adhesiveness after hardening to fall.

(B13)硬化促進剤
硬化促進剤(B13)を、保護膜形成用フィルム4の熱硬化の速度を調整するために用いてもよい。硬化促進剤(B13)は、特に、熱硬化性成分(B1)として、エポキシ系熱硬化性成分を用いるときに好ましく用いられる。
(B13) Curing accelerator The curing accelerator (B13) may be used to adjust the rate of thermal curing of the protective film-forming film 4. The curing accelerator (B13) is particularly preferably used when an epoxy thermosetting component is used as the thermosetting component (B1).

好ましい硬化促進剤としては、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの3級アミン類;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダゾール類;トリブチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などが挙げられる。これらは1種単独で、または2種以上混合して使用することができる。   Preferred curing accelerators include tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl- Imidazoles such as 4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole; Organic phosphines such as tributylphosphine, diphenylphosphine, triphenylphosphine; And tetraphenylboron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triphenylphosphinetetraphenylborate. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

硬化促進剤(B13)は、エポキシ化合物(B11)および熱硬化剤(B12)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜1質量部の量で含まれる。硬化促進剤(B13)を上記範囲の量で含有することにより、高温度高湿度下に曝されても優れた接着性を有し、厳しいリフロー条件に曝された場合であっても高い信頼性を達成することができる。硬化促進剤(B13)を添加することで、保護膜形成用フィルム4の硬化後の接着性を向上させることができる。このような作用は硬化促進剤(B13)の含有量が多いほど強まる。   The curing accelerator (B13) is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy compound (B11) and the thermosetting agent (B12). Included in the amount of. By containing the curing accelerator (B13) in an amount within the above range, it has excellent adhesiveness even when exposed to high temperatures and high humidity, and has high reliability even when exposed to severe reflow conditions. Can be achieved. By adding the curing accelerator (B13), the adhesiveness after curing of the protective film-forming film 4 can be improved. Such an action becomes stronger as the content of the curing accelerator (B13) increases.

(B2)エネルギー線硬化性成分
保護膜形成用フィルム4がエネルギー線硬化性成分を含有することで、多量のエネルギーと長い時間を要する熱硬化工程を行うことなく保護膜形成用フィルム4の硬化を行うことができる。これにより、製造コストの低減を図ることができる。
(B2) Energy ray-curable component The protective film-forming film 4 contains an energy ray-curable component, so that the protective film-forming film 4 can be cured without performing a heat-curing step that requires a large amount of energy and a long time. It can be carried out. Thereby, the manufacturing cost can be reduced.

エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を単独で用いてもよいが、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)と光重合開始剤(B22)を組み合わせたものを用いることが好ましい。   As the energy ray-curable component, the compound (B21) having a functional group that reacts by irradiation with energy rays may be used alone, but the compound (B21) having a functional group that reacts by irradiation with energy rays and a photopolymerization initiator ( It is preferable to use a combination of B22).

(B21)エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物
エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)(以下「エネルギー線反応性化合物(B21)」ということがある。)としては、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート等のアクリレート系化合物が挙げられ、また、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートおよびイタコン酸オリゴマーなどのアクリレート系化合物等の重合可能な構造を有するアクリレート化合物であって、比較的低分子量のものが挙げられる。このような化合物は、分子内に少なくとも1つの重合性二重結合を有する。
(B21) Compound having a functional group that reacts upon irradiation with energy rays Compound (B21) having a functional group that reacts upon irradiation with energy rays (hereinafter sometimes referred to as “energy ray-reactive compound (B21)”) is specific. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate Examples include acrylate compounds such as acrylates, oligoester acrylates, urethane acrylate oligomers, epoxy acrylates, polyether acrylates, and esters. An acrylate compound having a polymerizable structure such as an acrylate compound such as a taconic acid oligomer and having a relatively low molecular weight can be used. Such a compound has at least one polymerizable double bond in the molecule.

エネルギー線反応性化合物(B21)を用いる場合、保護膜形成用フィルム4には、重合体成分(A)100質量部に対して、エネルギー線反応性化合物(B21)が、好ましくは1〜1,500質量部含まれ、より好ましくは3〜1,200質量部含まれる。   When the energy ray reactive compound (B21) is used, the energy ray reactive compound (B21) is preferably 1 to 1, with respect to 100 parts by mass of the polymer component (A). 500 parts by mass are contained, more preferably 3 to 1,200 parts by mass.

(B22)光重合開始剤
エネルギー線反応性化合物(B21)に光重合開始剤(B22)を組み合わせることで、重合硬化時間を短くし、ならびに光線照射量を少なくすることができる。
(B22) Photopolymerization initiator By combining the energy ray-reactive compound (B21) with the photopolymerization initiator (B22), the polymerization curing time can be shortened and the amount of light irradiation can be reduced.

このような光重合開始剤(B22)として具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサンソン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、1,2−ジフェニルメタン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドおよびβ−クロールアンスラキノンなどが挙げられる。光重合開始剤(B22)は1種類単独で、または2種類以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of such a photopolymerization initiator (B22) include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, and benzoin dimethyl ketal. 2,4-diethylthioxanthone, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, 1,2-diphenylmethane, 2-hydroxy- 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and β -Chloranthraquinone and the like. A photoinitiator (B22) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

光重合開始剤(B22)の配合割合は、エネルギー線反応性化合物(B21)100質量部に対して0.1〜10質量部含まれることが好ましく、1〜5質量部含まれることがより好ましい。光重合開始剤(B22)の配合割合が0.1質量部未満であると光重合の不足で満足な硬化性が得られないことがあり、10質量部を超えると光重合に寄与しない残留物が生成し、不具合の原因となることがある。   The blending ratio of the photopolymerization initiator (B22) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the energy ray reactive compound (B21). . If the blending ratio of the photopolymerization initiator (B22) is less than 0.1 parts by mass, sufficient curability may not be obtained due to insufficient photopolymerization, and if it exceeds 10 parts by mass, the residue does not contribute to photopolymerization. May cause a malfunction.

(第2のバインダー成分)
第2のバインダー成分は、硬化性重合体成分(AB)を含有することにより、保護膜形成用フィルム4に(1)シート形状維持性および(3)硬化性を付与する。
(Second binder component)
The second binder component imparts (1) sheet shape maintaining property and (3) curability to the protective film-forming film 4 by containing the curable polymer component (AB).

(AB)硬化性重合体成分
硬化性重合体成分は、硬化機能官能基を有する重合体である。硬化機能官能基は、互いに反応して三次元網目構造を構成しうる官能基であり、加熱により反応する官能基や、エネルギー線により反応する官能基が挙げられる。
(AB) Curable polymer component The curable polymer component is a polymer having a functional functional group. The curing functional group is a functional group that can react with each other to form a three-dimensional network structure, and examples thereof include a functional group that reacts by heating and a functional group that reacts by energy rays.

硬化機能官能基は、硬化性重合体(AB)の骨格となる連続構造の単位中に付加していてもよいし、末端に付加していてもよい。硬化機能官能基が硬化性重合体成分(AB)の骨格となる連続構造の単位中に付加している場合、硬化機能官能基は側鎖に付加していてもよいし、主鎖に直接付加していてもよい。硬化性重合体成分(AB)の重量平均分子量(Mw)は、保護膜形成用フィルム4に(1)シート形状維持性を付与する目的を達成する観点から、通常20,000以上である。   The functional functional group may be added to the unit of a continuous structure that becomes the skeleton of the curable polymer (AB) or may be added to the terminal. When the functional functional group is added in the unit of the continuous structure that becomes the skeleton of the curable polymer component (AB), the functional functional group may be added to the side chain or directly to the main chain. You may do it. The weight average molecular weight (Mw) of the curable polymer component (AB) is usually 20,000 or more from the viewpoint of achieving the purpose of imparting (1) sheet shape maintainability to the protective film-forming film 4.

加熱により反応する官能基としてはエポキシ基が挙げられる。エポキシ基を有する硬化性重合体成分(AB)としては、高分子量のエポキシ基含有化合物や、エポキシ基を有するフェノキシ樹脂が挙げられる。高分子量のエポキシ基含有化合物は、たとえば、特開2001−261789に開示されている。   An example of a functional group that reacts by heating is an epoxy group. Examples of the curable polymer component (AB) having an epoxy group include a high molecular weight epoxy group-containing compound and a phenoxy resin having an epoxy group. High molecular weight epoxy group-containing compounds are disclosed, for example, in JP-A-2001-261789.

また、上述のアクリル系重合体(A1)と同様の重合体であって、単量体として、エポキシ基を有する単量体を用いて重合したもの(エポキシ基含有アクリル系重合体)であってもよい。このような単量体としては、たとえばグリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。   Moreover, it is a polymer similar to the above-mentioned acrylic polymer (A1), which is polymerized using a monomer having an epoxy group as a monomer (epoxy group-containing acrylic polymer). Also good. Examples of such monomers include (meth) acrylic acid esters having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate.

エポキシ基含有アクリル系重合体を用いる場合、その好ましい態様はアクリル系重合体(A1)と同様である。   When an epoxy group-containing acrylic polymer is used, the preferred embodiment is the same as that of the acrylic polymer (A1).

エポキシ基を有する硬化性重合体成分(AB)を用いる場合には、硬化性成分(B)としてエポキシ系熱硬化性成分を用いる場合と同様、熱硬化剤(B12)や、硬化促進剤(B13)を併用してもよい。   When the curable polymer component (AB) having an epoxy group is used, the thermosetting agent (B12) or the curing accelerator (B13) is used as in the case of using an epoxy thermosetting component as the curable component (B). ) May be used in combination.

エネルギー線により反応する官能基としては、(メタ)アクリロイル基が挙げられる。エネルギー線により反応する官能基を有する硬化性重合体成分(AB)としては、ポリエーテルアクリレートなどの重合構造を有するアクリレート系化合物等であって、高分子量のものを用いることができる。   Examples of the functional group that reacts with energy rays include a (meth) acryloyl group. As the curable polymer component (AB) having a functional group that reacts with energy rays, an acrylate compound having a polymer structure such as polyether acrylate, and the like having a high molecular weight can be used.

また、たとえば側鎖に水酸基等の官能基Xを有する原料重合体に、官能基Xと反応しうる官能基Y(たとえば、官能基Xが水酸基である場合にはイソシアネート基等)およびエネルギー線照射により反応する官能基を有する低分子化合物を反応させて調製した重合体を用いてもよい。   In addition, for example, a raw material polymer having a functional group X such as a hydroxyl group in a side chain, a functional group Y that can react with the functional group X (for example, an isocyanate group when the functional group X is a hydroxyl group) and energy beam irradiation Alternatively, a polymer prepared by reacting a low molecular compound having a functional group that reacts with the above may be used.

この場合において、原料重合体が上述のアクリル系重合体(A)に該当するときは、その原料重合体の好ましい態様は、アクリル系重合体(A)と同様である。   In this case, when a raw material polymer corresponds to the above-mentioned acrylic polymer (A), the preferable aspect of the raw material polymer is the same as that of the acrylic polymer (A).

エネルギー線により反応する官能基を有する硬化性重合体成分(AB)を用いる場合には、エネルギー線硬化性成分(B2)を用いる場合と同様、光重合開始剤(B22)を併用してもよい。   When the curable polymer component (AB) having a functional group that reacts with energy rays is used, the photopolymerization initiator (B22) may be used in the same manner as when the energy ray curable component (B2) is used. .

第2のバインダー成分は、硬化性重合体成分(AB)と併せて、上述の重合体成分(A)や硬化性成分(B)を含有していてもよい。   The second binder component may contain the above-described polymer component (A) and curable component (B) in combination with the curable polymer component (AB).

保護膜形成用フィルム4には、バインダー成分のほか、以下の成分を含有させてもよい。   In addition to the binder component, the protective film-forming film 4 may contain the following components.

(C)充填材
保護膜形成用フィルム4は、無機フィラーなどの充填材(C)を含有していてもよい。以下、充填材(C)が無機フィラーである場合を具体例として説明する。充填材(C)としての無機フィラーを保護膜形成用フィルム4に配合することにより、硬化後の保護膜における熱膨張係数を調整することが可能となり、被加工部材Wに対して硬化後の保護膜の熱膨張係数を最適化することで、半導体装置など被加工部材Wから形成される製品(以下、「製品」と略記する。)の信頼性を向上させることができる。また、硬化後の保護膜の吸湿性を低減させることも可能となる。
(C) Filler The protective film-forming film 4 may contain a filler (C) such as an inorganic filler. Hereinafter, a case where the filler (C) is an inorganic filler will be described as a specific example. By blending the inorganic filler as the filler (C) in the protective film-forming film 4, it becomes possible to adjust the thermal expansion coefficient of the cured protective film and protect the workpiece W after curing. By optimizing the thermal expansion coefficient of the film, the reliability of a product (hereinafter abbreviated as “product”) formed from the workpiece W such as a semiconductor device can be improved. It is also possible to reduce the hygroscopicity of the protective film after curing.

さらに、保護膜にレーザーマーキングを施すことにより、レーザー光により削り取られた部分に充填材(C)としての無機フィラーが露出して、反射光が拡散するために白色に近い色を呈する。これにより、保護膜形成用フィルム4が後述する着色剤(D)を含有する場合、レーザーマーキング部分と他の部分にコントラスト差が得られ、印字が明瞭になるという効果がある。   Furthermore, by applying laser marking to the protective film, the inorganic filler as the filler (C) is exposed at the portion scraped off by the laser beam, and the reflected light diffuses to exhibit a color close to white. Thereby, when the film 4 for protective film formation contains the coloring agent (D) mentioned later, there exists an effect that a contrast difference is obtained by a laser marking part and another part, and printing becomes clear.

好ましい無機フィラーとしては、シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化鉄、炭化珪素、窒化ホウ素等の粉末、これらを球形化したビーズ、単結晶繊維およびガラス繊維等が挙げられる。これらのなかでも、シリカフィラーおよびアルミナフィラーが好ましい。上記充填材(C)としての無機フィラーは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。   Preferred inorganic fillers include powders of silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium oxide, iron oxide, silicon carbide, boron nitride, and the like, beads formed by spheroidizing these, single crystal fibers, glass fibers, and the like. Among these, silica filler and alumina filler are preferable. The inorganic filler as the filler (C) can be used alone or in admixture of two or more.

無機フィラーなどの充填材(C)の含有量は特に限定されない。当該含有量が過度に多い場合には被加工部材Wに対する接着性が低下し、過度に少ない場合には無機フィラーを含有させてマーキング部分の視認性を高める効果が得られにくくなること、および充填材(C)の組成を考慮して適宜設定すればよい。通常、保護膜形成用フィルム4を構成する全固形分の質量に占める割合として、充填材(C)の含有量が30質量%以上であることが好ましく、50〜80質量%であることがより好ましく、好ましくは60〜80質量%であることが特に好ましい。また、基材2が無機フィラーのような充填材(C)を含有する場合には、保護膜形成用フィルム4が含有する充填材(C)の保護膜形成用フィルム4の全固形分の質量に占める割合は、基材2が含有する充填材の基材2の全固形分の質量に占める割合よりも多いことが好ましい。   The content of the filler (C) such as an inorganic filler is not particularly limited. When the content is excessively large, the adhesiveness to the workpiece W decreases, and when it is excessively small, it is difficult to obtain the effect of increasing the visibility of the marking portion by containing an inorganic filler, and filling What is necessary is just to set suitably considering the composition of material (C). Usually, the content of the filler (C) is preferably 30% by mass or more and more preferably 50 to 80% by mass as a proportion of the total solid content constituting the protective film-forming film 4. It is particularly preferably 60 to 80% by mass. Moreover, when the base material 2 contains a filler (C) such as an inorganic filler, the mass of the total solid content of the protective film-forming film 4 of the filler (C) contained in the protective film-forming film 4 It is preferable that the ratio occupied in is larger than the ratio occupied in the mass of the total solid content of the base material 2 of the filler contained in the base material 2.

(D)着色剤
保護膜形成用フィルム4には、着色剤(D)を配合することができる。着色剤を配合することで、半導体装置などの製品を機器に組み込んだ際に、製品の周囲に配置された装置から発生する赤外線等により製品が誤作動することを防止することができる。また、レーザーマーキング等の手段により保護膜に刻印を行った場合に、文字、記号等のマークが認識しやすくなるという効果がある。すなわち、保護膜が形成された製品(半導体装置や半導体チップなど)では、保護膜の表面に品番等がレーザーマーキング法(レーザー光により保護膜表面を削り取り印字を行う方法)により印字されるが、保護膜が着色剤(D)を含有することで、保護膜のレーザー光により削り取られた部分とそうでない部分のコントラスト差が充分に得られ、視認性が向上する。
(D) Colorant Colorant (D) can be blended in the protective film-forming film 4. By blending the colorant, it is possible to prevent the product from malfunctioning due to infrared rays or the like generated from devices arranged around the product when a product such as a semiconductor device is incorporated into the device. In addition, when the protective film is engraved by means such as laser marking, there is an effect that marks such as characters and symbols can be easily recognized. That is, in products (semiconductor devices, semiconductor chips, etc.) on which a protective film is formed, the product number etc. is printed on the surface of the protective film by the laser marking method (a method in which the surface of the protective film is scraped off and printed by laser light). When the protective film contains the colorant (D), a sufficient difference in contrast between the portion of the protective film scraped by the laser beam and the portion that is not removed is obtained, and the visibility is improved.

着色剤としては、有機または無機の顔料および染料が用いられる。これらの中でも電磁波や赤外線遮蔽性の点から黒色顔料が好ましい。黒色顔料としては、カーボンブラック、酸化鉄、二酸化マンガン、アニリンブラック、活性炭等が用いられるが、これらに限定されることはない。半導体装置などの製品の信頼性を高める観点からは、カーボンブラックが特に好ましい。着色剤(D)は1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the colorant, organic or inorganic pigments and dyes are used. Among these, black pigments are preferable from the viewpoint of electromagnetic wave and infrared shielding properties. Examples of the black pigment include carbon black, iron oxide, manganese dioxide, aniline black, activated carbon, and the like, but are not limited thereto. Carbon black is particularly preferable from the viewpoint of increasing the reliability of products such as semiconductor devices. A coloring agent (D) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

着色剤(D)の配合量は、保護膜形成用フィルム4を構成する全固形分100質量部に対して、好ましくは0.1〜35質量部、さらに好ましくは0.5〜25質量部、特に好ましくは1〜15質量部である。   The blending amount of the colorant (D) is preferably 0.1 to 35 parts by mass, more preferably 0.5 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content constituting the protective film forming film 4. Especially preferably, it is 1-15 mass parts.

(E)カップリング剤
無機物と反応する官能基および有機官能基と反応する官能基を有するカップリング剤(E)を、保護膜形成用フィルムの被着体に対する接着性、密着性および/または保護膜の凝集性を向上させるために用いてもよい。また、カップリング剤(E)を使用することで、保護膜形成用フィルム4を硬化して得られる保護膜の耐熱性を損ないことなく、その耐水性を向上させることができる。このようなカップリング剤としては、チタネート系カップリング剤、アルミネート系カップリング剤、シランカップリング剤等が挙げられる。これらのうちでも、シランカップリング剤が好ましい。
(E) Coupling agent A coupling agent (E) having a functional group that reacts with an inorganic substance and a functional group that reacts with an organic functional group is bonded, adhered and / or protected to an adherend of a protective film-forming film. It may be used to improve the cohesiveness of the film. Moreover, the water resistance can be improved by using a coupling agent (E), without impairing the heat resistance of the protective film obtained by hardening | curing the film 4 for protective film formation. Examples of such coupling agents include titanate coupling agents, aluminate coupling agents, silane coupling agents, and the like. Of these, silane coupling agents are preferred.

シランカップリング剤としては、その有機官能基と反応する官能基が、重合体成分(A)、硬化性成分(B)や硬化性重合体成分(AB)などが有する官能基と反応する基であるシランカップリング剤が好ましく使用される。   As the silane coupling agent, the functional group that reacts with the organic functional group is a group that reacts with the functional group of the polymer component (A), the curable component (B), the curable polymer component (AB), and the like. Some silane coupling agents are preferably used.

このようなシランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシランなどが挙げられる。これらは1種単独で、または2種以上混合して使用することができる。
Examples of such silane coupling agents include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxy). Propyl) trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N -Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfane, methyltri Methoxysilane , Methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazolesilane. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

シランカップリング剤は、重合体成分(A)、硬化性成分(B)および硬化性重合体成分(AB)の合計100質量部に対して、通常0.1〜20質量部、好ましくは0.2〜10質量部、より好ましくは0.3〜5質量部の割合で含まれる。シランカップリング剤の含有量が0.1質量部未満だと上記の効果が得られない可能性があり、20質量部を超えるとアウトガスの原因となる可能性がある。   A silane coupling agent is 0.1-20 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of a polymer component (A), a curable component (B), and a curable polymer component (AB), Preferably it is 0.00. 2 to 10 parts by mass, more preferably 0.3 to 5 parts by mass. If the content of the silane coupling agent is less than 0.1 parts by mass, the above effect may not be obtained, and if it exceeds 20 parts by mass, it may cause outgassing.

(F)剥離剤
保護膜形成用フィルム4の被加工部材Wの面に対する密着性や粘着剤層3に対する密着性を調整するために、剥離剤を添加することもできる。剥離剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンなどのシリコーン化合物やフッ素化合物が挙げられる。
(F) Release agent A release agent may be added to adjust the adhesion of the protective film-forming film 4 to the surface of the workpiece W and the adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer 3. Examples of the release agent include silicone compounds such as polydimethylsiloxane, polyphenylmethylsiloxane, and polydiphenylsiloxane, and fluorine compounds.

これらの中でも、シリコーン化合物が好ましく、側鎖として芳香環含有基を有するオルガノポリシロキサンであって、かつ、25℃における動粘度が50〜100,000mm2/sであるものがより好ましい。ポリシロキサンとは、−Si(X)2−O−で表される単位構造(Xは側鎖を表す)が複数連結した化合物であり、この単位構造の数は特に限定されないが、通常3以上である。単位構造の数の増減により、上記の動粘度の値を制御することができる。   Among these, a silicone compound is preferable, and an organopolysiloxane having an aromatic ring-containing group as a side chain and a kinematic viscosity at 25 ° C. of 50 to 100,000 mm 2 / s is more preferable. Polysiloxane is a compound in which a plurality of unit structures represented by —Si (X) 2 —O— (X represents a side chain) are connected, and the number of unit structures is not particularly limited, but usually 3 or more. It is. The kinematic viscosity value can be controlled by increasing or decreasing the number of unit structures.

シリコーン化合物は、オルガノポリシロキサンのシロキサン部分により支持体との密着力を下げると共に、上記の芳香環含有基を側鎖に有することにより脂溶性が高く、保護膜形成用組成物中の他の成分との相溶性が高い。また、保護膜形成用組成物中の硬化成分(B)は、構成成分が芳香環を有する場合が多く、そのような場合にはシリコーン化合物の前記芳香環含有基により互いの相溶性がさらに高まる。   The silicone compound lowers the adhesion with the support by the siloxane portion of the organopolysiloxane and has a high lipid solubility by having the above aromatic ring-containing group in the side chain, and other components in the composition for forming a protective film High compatibility with. In addition, the curing component (B) in the composition for forming a protective film often has an aromatic ring as a constituent component, and in such a case, the compatibility of the silicone compound with the aromatic ring-containing group further increases. .

前記芳香環含有基は芳香環含有基であって、その例としては、フェニル基、アラルキル基が挙げられる。ここでいうアラルキル基とは、アルキル部が直鎖状または分岐鎖状であり、アルキル部の炭素数が好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3であり、アリール部の炭素数が好ましくは6〜10、より好ましくは6であるアラルキル基である。アラルキル基の好ましい例としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルイソプロピル基が挙げられる。前記芳香環含有基としては、アラルキル基が好ましい。   The aromatic ring-containing group is an aromatic ring-containing group, and examples thereof include a phenyl group and an aralkyl group. The term “aralkyl group” as used herein means that the alkyl part is linear or branched, the alkyl part preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and the aryl part preferably has carbon atoms. It is an aralkyl group that is 6 to 10, more preferably 6. Preferable examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, and a phenylisopropyl group. The aromatic ring-containing group is preferably an aralkyl group.

(G)汎用添加剤
保護膜形成用フィルム4には、上記の他に、必要に応じて各種添加剤が配合されてもよい。各種添加剤としては、レベリング剤、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、イオン捕捉剤、ゲッタリング剤、連鎖移動剤などが挙げられる。
(G) General-purpose additive In addition to the above, various additives may be added to the protective film-forming film 4 as necessary. Examples of various additives include leveling agents, plasticizers, antistatic agents, antioxidants, ion scavengers, gettering agents, chain transfer agents, and the like.

(3)厚さ
保護膜形成用フィルム4の厚さは特に限定されない。通常、3μm以上300μm以下の範囲であることが好ましく、保護膜形成用フィルム4から形成される保護膜が適切に機能する観点、生産性を高める観点、経済性を高める観点などから、保護膜形成用フィルム4の厚さは5μm以上250μm以下とすることがより好ましく、7μm以上200μm以下とすることが特に好ましい。
(3) Thickness The thickness of the protective film-forming film 4 is not particularly limited. Usually, it is preferably in the range of 3 μm or more and 300 μm or less. From the viewpoint that the protective film formed from the protective film-forming film 4 functions properly, from the viewpoint of increasing productivity, from the viewpoint of increasing economy, the protective film is formed. The thickness of the film 4 is more preferably 5 μm or more and 250 μm or less, and particularly preferably 7 μm or more and 200 μm or less.

3.保護膜形成用複合シート
(1)空隙部
図2に示されるように、本発明の一実施形態に係る保護膜形成用複合シート10は、前述の第1の凹凸面領域1aを一方の主面1Aに有する粘着シート1および第2の凹凸面領域4aを一方の主面4Bに有する保護膜形成用フィルム4の少なくとも一方を備えることにより、レーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる空隙部を有する。
3. Protective film-forming composite sheet (1) void portion As shown in FIG. 2, the protective film-forming composite sheet 10 according to one embodiment of the present invention has the above-described first uneven surface area 1a on one main surface. By providing at least one of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 having 1A and the protective film-forming film 4 having the second uneven surface region 4a on one main surface 4B, the diffusion path of the pollutant generated during laser marking and It has a void portion.

保護膜形成用複合シート10の空隙部を画成する構成要素に関し、次の場合が挙げられる。
(1−1)第1の凹凸面領域のみを有する場合
保護膜形成用複合シート10が第1の凹凸面領域1aのみを有する場合には、粘着シート1と貼合される保護膜形成用フィルム4は第2の凹凸面領域4aを有さない。かかる保護膜形成用フィルム4の一方(粘着剤層3に対向する側)の主面4Bが粘着シート1の第1の凹凸面領域1aの一部または全部を覆うように、保護膜形成用フィルム4と前記粘着シート1とは積層される。この関係を換言すれば、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bの外周は、全て第1の凹凸面領域1aに対向していてもよいし、その外周の一部が第1の凹凸面領域1aに対向していてもよいし、その外周の全てが第1の凹凸面領域1aに対向していなくてもよい。図2に示される構成では、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bの外周の全てが第1の凹凸面領域1aに対向している。
With respect to the components that define the voids of the composite sheet 10 for forming a protective film, the following cases can be cited.
(1-1) When only having the 1st uneven surface area When the protective film forming composite sheet 10 has only the 1st uneven surface area 1a, the protective film forming film bonded to the adhesive sheet 1 4 does not have the second uneven surface area 4a. The protective film-forming film so that the main surface 4B of one of the protective film-forming films 4 (the side facing the pressure-sensitive adhesive layer 3) covers part or all of the first uneven surface area 1a of the pressure-sensitive adhesive sheet 1. 4 and the adhesive sheet 1 are laminated. In other words, the outer periphery of one main surface 4B of the protective film forming film 4 may be entirely opposed to the first uneven surface region 1a, and a part of the outer periphery may be the first uneven surface. It may be opposed to the surface region 1a, or the entire outer periphery thereof may not be opposed to the first uneven surface region 1a. In the configuration shown in FIG. 2, the entire outer periphery of one main surface 4B of the protective film-forming film 4 is opposed to the first uneven surface area 1a.

こうして得られた保護膜形成用複合シート10では、第1の凹凸面領域1aの第1の凹部のうち、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bに覆われた領域1bに位置する凹部の少なくとも一部は、保護膜形成用フィルム4の一方の主面4Bに接触せず、この主面4Bと第1の空隙部を画成する。そして、この画成された空隙部は、レーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる。   In the protective film-forming composite sheet 10 obtained in this way, the concave portion located in the region 1b covered with the one main surface 4B of the protective film-forming film 4 among the first concave portions of the first concave-convex surface region 1a. At least a part of the main surface 4B of the protective film forming film 4 does not come into contact with the main surface 4B and defines a first gap. The defined void portion becomes a diffusion path for the pollutant generated during laser marking.

(1−2)第2の凹凸面領域のみを有する場合
保護膜形成用複合シート10が第2の凹凸面領域4aのみを有する場合には、保護膜形成用フィルム4と貼合される粘着シート1は第1の凹凸面領域1aを有さない。かかる粘着シート1の粘着シート第1主面1Aが保護膜形成用フィルム4の第2の凹凸面領域4aの一部または全部を覆うように、保護膜形成用フィルム4と粘着シート1とは積層される。この関係を換言すれば、粘着シート1の粘着シート第1主面1Aの外周は、全て第2の凹凸面領域4aに対向していてもよいし、その外周の一部が第2の凹凸面領域4aに対向していてもよいし、その外周が第2の凹凸面領域4aに対向する部分を有していなくてもよい。図3および4に示される構成では、粘着シート1の粘着シート第1主面1Aの外周において第2の凹凸面領域4aに対向している部分はない。図5に示される構成では、粘着シート1の粘着シート第1主面1Aの外周は第2の凹凸面領域4aに全て対向している。
(1-2) In the case of having only the second uneven surface region When the protective film forming composite sheet 10 has only the second uneven surface region 4a, the adhesive sheet to be bonded to the protective film forming film 4 1 does not have the 1st uneven surface area | region 1a. The protective film-forming film 4 and the pressure-sensitive adhesive sheet 1 are laminated so that the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 covers part or all of the second uneven surface area 4a of the protective film-forming film 4. Is done. In other words, the outer periphery of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 may all face the second uneven surface area 4a, or a part of the outer periphery may be the second uneven surface. It may be opposed to the region 4a, or the outer periphery thereof may not have a portion facing the second uneven surface region 4a. 3 and 4, there is no portion facing the second uneven surface area 4 a on the outer periphery of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1 </ b> A of the pressure-sensitive adhesive sheet 1. In the configuration shown in FIG. 5, the outer periphery of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1 </ b> A of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 is entirely opposed to the second uneven surface area 4 a.

こうして得られた保護膜形成用複合シート10では、第2の凹凸面領域4aの第2の凹部のうち、粘着シート第1主面1Aに覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、粘着シート第1主面1Aに接触せず、粘着シート第1主面1Aと第2の空隙部を画成する。そして、この画成された空隙部は、レーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる。   In the protective film-forming composite sheet 10 obtained in this way, at least a part of the recesses located in the region covered with the adhesive sheet first main surface 1A among the second recesses of the second uneven surface region 4a, Without contacting the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet, the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet and the second gap are defined. The defined void portion becomes a diffusion path for the pollutant generated during laser marking.

(1−3)第1の凹凸面領域および第2の凹凸面領域を有する場合
本実施形態に係る粘着シート1と本実施形態に係る保護膜形成用フィルム4とが積層される場合には、第1の空隙部および第2の空隙部が画成される。そして、この画成された空隙部は、これらの空隙部がレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となる。この場合における第2の空隙部と第1の空隙部との平面視における位置関係は特に限定されない。平面視で、第2の空隙部が形成されている領域と第1の空隙部が形成されている領域とは重複していてもよいし、独立していてもよい。これらの領域が重複している場合には、第1の空隙部と第2の空隙部とが一体となっている部分が存在してもよい。
(1-3) When having the first uneven surface area and the second uneven surface area When the adhesive sheet 1 according to the present embodiment and the protective film forming film 4 according to the present embodiment are laminated, A first gap and a second gap are defined. The defined voids serve as a diffusion path for the pollutant that these voids generate during laser marking. In this case, the positional relationship between the second gap and the first gap in plan view is not particularly limited. In a plan view, the region where the second gap is formed and the region where the first gap is formed may overlap or may be independent. When these regions overlap, there may be a portion where the first gap and the second gap are integrated.

ここで、空隙部(第1の空隙部からなるものであってもよいし、第2の空隙部からなるものであってもよいし、第1の空隙部および第2の空隙部からなるものであってもよい。)を、保護膜形成用複合シート10の基材2に遠位な主面10Aにおける使用時に被加工部材Wに貼付される領域である加工領域との関係で規定してもよい。具体的には、空隙部を、平面視で加工領域に位置する空隙部である域内空隙部と、平面視で、保護膜形成用複合シート10の基材2に遠位な主面10Aにおける加工領域以外の領域である非加工領域に位置する域外空隙部との関係で空隙部を規定してもよい。域内空隙部は、レーザーマーキングすべくレーザー光が照射されたときに、局所的に汚染性物質の濃度が高くなるおそれがあるため、域内空隙部と域外空隙部とは連通し、域内空隙部に存在する汚染性物質が域外空隙部へと拡散可能とされることが好ましい。   Here, a void portion (may be composed of a first void portion, may be composed of a second void portion, or is composed of a first void portion and a second void portion) Is defined in relation to a processing area that is an area that is affixed to the workpiece W during use on the main surface 10A distal to the base material 2 of the composite sheet 10 for forming a protective film. Also good. Specifically, the void portion is an inner void portion that is a void portion located in the processing region in plan view, and processing in the main surface 10A distal to the base material 2 of the protective film-forming composite sheet 10 in plan view. You may prescribe | regulate a space | gap part by the relationship with the outside space | gap part located in the non-processed area | region which is areas other than an area | region. The intra-region gap portion may be locally increased in concentration of the pollutant when the laser beam is irradiated to perform laser marking. It is preferred that the contaminating substances present are capable of diffusing into the voids outside the zone.

さらに、域内空隙部と域外空隙部とで、空隙部の形状を相違させてもよい。域内空隙部にはレーザー光が照射される可能性があるため、域内空隙部に基づくレーザー光の散乱が生じにくくなるように、域内空隙部を画成する凹部の幅は狭く、その深さは浅いことが好ましい場合もある。これに対し、域外空隙部は、レーザー光の散乱による影響を考慮する必要がないため、その幅を広くしたり深さを深くしたりすることが制限されにくい。そこで、域内空隙部を画成する凹部についてはその幅を狭くしたりその深さを浅くしたりする一方、域外空隙部を画成する凹部については、その幅を広くしたりその深さを深くしたりして、域内空隙部で発生した汚染性物質が域外空隙部へと拡散することが容易になるようにしてもよい。   Furthermore, you may make the shape of a space | gap part different in a space | gap part inside a region and a space | gap part outside a region. Since there is a possibility that the laser beam is irradiated to the intra-region gap, the width of the concave portion defining the intra-region gap is narrow and the depth thereof is set so that the laser beam is less likely to be scattered based on the intra-region gap. In some cases, shallowness is preferred. On the other hand, since it is not necessary to consider the influence due to the scattering of the laser light, it is difficult for the out-of-region gap to be widened or deepened. Therefore, the recesses that define the inner gaps are narrowed or reduced in depth, while the recesses that define the outer gaps are increased in width or depth. For example, the pollutant material generated in the inner space may be easily diffused into the outer space.

域外空隙部は、空隙部を開放系とする開口部を有していてもよい。この場合において、開口部の周縁部は、粘着シート第1主面1A、粘着シート1の粘着剤層3の側面および保護膜形成用フィルム4の側面の少なくとも1つに位置する。このように開口部を有し空隙部が開放系である場合には、レーザー光の照射によって発生した域内空隙部の汚染性物質が、域外空隙部へと拡散し、さらに開口部から空隙部外へと排出されることが可能となる。   The out-of-area gap portion may have an opening having the gap portion as an open system. In this case, the peripheral edge of the opening is located on at least one of the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1 </ b> A, the side surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1, and the side surface of the protective film forming film 4. In this way, when the opening is provided and the gap is an open system, the pollutant in the inner gap generated by the laser light irradiation diffuses to the outer gap, and further from the opening to the outside of the gap. It becomes possible to be discharged.

(2)その他の構成要素
(2−1)界面接着調整層
図6に示されるように、本実施形態に係る粘着シート1は、その粘着剤層3側の主面1Aの一部の領域1cを構成する要素として、界面接着調整層5を備えてもよい。本実施形態に係る粘着シート1において、界面接着剤層5は粘着剤層3の1要素として位置づけられるものとする。界面接着剤層5の平面視の形状は保護膜形成用フィルム4の平面視の形状に対応した形状とされ、界面接着剤層5によって粘着シート1の粘着シート第1主面1Aの保護膜形成用フィルム4に対する粘着性を制御して、保護膜等がその一の面に設けられたチップのピックアップを容易とすることができる。なお、粘着シート1の粘着シート第1主面1Aにおける保護膜形成用フィルム4を取り囲むように位置し、保護膜形成用フィルム4が積層されていない領域においては、粘着シート1または後述する治具接着層6の十分な接着性により、保護膜形成用複合シート10を治具に接着することができる。
(2) Other components (2-1) Interfacial adhesion adjusting layer As shown in FIG. 6, the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment is a partial region 1 c of the main surface 1 </ b> A on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side. An interfacial adhesion adjusting layer 5 may be provided as an element constituting the. In the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to this embodiment, the interface adhesive layer 5 is positioned as one element of the pressure-sensitive adhesive layer 3. The shape of the interfacial adhesive layer 5 in plan view is a shape corresponding to the shape of the protective film forming film 4 in plan view, and the interfacial adhesive layer 5 forms the protective film on the first main surface 1A of the adhesive sheet 1 of the adhesive sheet 1. The adhesiveness to the film 4 can be controlled to facilitate picking up a chip provided with a protective film or the like on one surface thereof. In addition, in the area | region where the film 4 for protective film formation in the adhesive sheet 1st main surface 1A of the adhesive sheet 1 is surrounded and the film 4 for protective film formation is not laminated | stacked, the adhesive sheet 1 or the jig | tool mentioned later Due to the sufficient adhesiveness of the adhesive layer 6, the protective film-forming composite sheet 10 can be adhered to a jig.

界面接着調整層5は、所定のフィルムであってもよいし、界面接着調整粘着剤層であってもよい。界面接着調整粘着剤層は、エネルギー線硬化性の粘着剤に予めエネルギー線照射を行い硬化させたものであることが好ましい。また、界面接着調整層5は、粘着剤層3を共通の方法で製造されたものであって、他の部分と性質が異なるように処理されたものであってもよい。例えば、粘着剤層3が前述のアクリル系重合体(α)などを含有する粘着剤組成物から形成されたものであって、粘着剤組成物に含有させる成分の重合反応を進行させるために照射したエネルギー線の照射量が相対的に多いために、重合反応の進行の程度が相対的に高く、結果的に粘着性が低下している部分であってもよい。あるいは、粘着剤層3の基材2に遠位な側の面の一領域であって、他の領域よりも粗面化され、結果的に粘着性が低下しているものであってもよい。レーザーマーキングのためのレーザーが界面接着調整層5越しに照射されることから、界面接着調整層5は、レーザー光の透過性に優れるものであることが好ましい。   The interface adhesion adjusting layer 5 may be a predetermined film or an interface adhesion adjusting pressure-sensitive adhesive layer. The interfacial adhesion-adjusting pressure-sensitive adhesive layer is preferably a layer obtained by previously irradiating an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive and curing it. The interfacial adhesion adjusting layer 5 may be the pressure-sensitive adhesive layer 3 manufactured by a common method, and may be processed so as to have different properties from other parts. For example, the pressure-sensitive adhesive layer 3 is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing the aforementioned acrylic polymer (α) and the like, and irradiation is performed to advance the polymerization reaction of the components contained in the pressure-sensitive adhesive composition. Since the irradiation amount of the energy beam is relatively large, the degree of progress of the polymerization reaction may be relatively high, and as a result, it may be a portion where the adhesiveness is lowered. Alternatively, it may be a region of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 on the side farther from the base material 2 and roughened than the other region, resulting in a decrease in the adhesiveness. . Since the laser for laser marking is irradiated through the interfacial adhesion adjusting layer 5, the interfacial adhesion adjusting layer 5 is preferably excellent in laser light transmittance.

界面接着調整層5からなる面である領域1cと粘着シート第1主面1Aとの平面視での関係は特に限定されない。図6に示されるように領域1cは粘着シート第1主面1Aの一部の領域であってもよいし、粘着シート第1主面1Aの全領域が領域1cであって、粘着シート1の基材2に遠位な側の面は全面が界面接着調整層5からなる面であってもよい。   The relationship in plan view between the region 1c, which is a surface composed of the interface adhesion adjusting layer 5, and the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A is not particularly limited. As shown in FIG. 6, the region 1 c may be a partial region of the adhesive sheet first main surface 1 </ b> A, or the entire region of the adhesive sheet first main surface 1 </ b> A is the region 1 c, The surface on the side farther from the base material 2 may be a surface entirely composed of the interface adhesion adjusting layer 5.

界面接着調整層5からなる面である領域1cと保護膜形成用フィルム4が積層される領域1bとの平面視での関係も特に限定されない。図6に示されるように領域1bは領域1cの一部の領域であってもよいし、領域1cの全てが領域1bであって、保護膜形成用フィルム4は界面接着調整層5からなる面の全面を覆うように配置されていてもよい。   The relationship in plan view between the region 1c, which is a surface formed of the interface adhesion adjusting layer 5, and the region 1b on which the protective film forming film 4 is laminated is not particularly limited. As shown in FIG. 6, the region 1 b may be a partial region of the region 1 c, or the entire region 1 c may be the region 1 b, and the protective film forming film 4 may be a surface formed of the interface adhesion adjusting layer 5. It may be arranged so as to cover the entire surface.

(2−2)治具接着層
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10は、図7に示されるように、保護膜形成用複合シート10の保護膜形成用フィルム4側の主面10Aの一部の領域であって、主面10Aの外周に近位な領域10bに積層された治具接着層6を、さらに備えてもよい。治具接着層6は、リングフレームなどの治具を粘着シート1に対して固定するためのものである。治具接着層としては、芯材を有する両面粘着シートや、粘着剤の単層からなる層を採用することができる。
(2-2) Jig Adhesive Layer As shown in FIG. 7, the protective film-forming composite sheet 10 according to the present embodiment has a main surface 10 </ b> A on the protective film-forming film 4 side of the protective film-forming composite sheet 10. May be further provided with a jig adhesive layer 6 laminated on a region 10b that is a partial region of the main surface 10A and is proximal to the outer periphery of the main surface 10A. The jig adhesive layer 6 is for fixing a jig such as a ring frame to the adhesive sheet 1. As a jig | tool adhesion layer, the layer which consists of a double-sided adhesive sheet which has a core material, and the single layer of an adhesive can be employ | adopted.

上記のように、粘着シート1が界面接着調整層5を備える場合には、図7に示されるように、治具接着層6が設けられる領域10bは、保護膜形成用複合シート10の保護膜形成用フィルム4側の主面10Aの一部の領域であって、粘着シート第1主面1Aにおける界面接着調整層5が設けられている領域1cと平面視で重複しないように位置していてもよい。   As described above, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 includes the interface adhesion adjusting layer 5, as shown in FIG. 7, the region 10b where the jig adhesion layer 6 is provided is a protective film of the composite sheet 10 for forming a protective film. It is a partial region of the main surface 10A on the forming film 4 side, and is positioned so as not to overlap with the region 1c provided with the interface adhesion adjusting layer 5 in the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet in a plan view. Also good.

粘着シート第1主面1Aにおける保護膜形成用フィルム4が積層される領域1bと治具接着層6が設けられる領域10bとの関係も特に限定されない。図7に示されるように平面視で重複する領域を有さなくてもよいし、図8に示されるように平面視で重複する領域を有してもよい。すなわち、治具接着層6の粘着シート1に近位な主面は、少なくとも一領域において、粘着シート1の主面1Aに貼着していてもよいし、保護膜形成用フィルム4の他方の主面(使用時に被加工部材Wに貼付される主面、本明細書において「第1のフィルム主面」ともいう。)4Aに貼着していてもよい。   The relationship between the region 1b where the protective film forming film 4 is laminated on the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet and the region 10b where the jig adhesive layer 6 is provided is not particularly limited. As shown in FIG. 7, it is not necessary to have a region overlapping in plan view, or it is possible to have a region overlapping in plan view as shown in FIG. That is, the main surface proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet 1 of the jig adhesive layer 6 may be attached to the main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 in at least one region, or the other surface of the protective film-forming film 4 You may affix on 4A of main surfaces (the main surface stuck on the to-be-processed member W at the time of use, and also as "the 1st film main surface" in this specification).

(2−3)剥離シート
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10は、図9に記載されるように、その保護膜形成用フィルム4側の主面10Aを保護する目的で、その主面10Aに、剥離シート20の剥離面20Aが貼合されていてもよい。剥離シート20の構成は任意であり、プラスチックフィルムなどの支持部材を剥離剤等により剥離処理したものが例示される。プラスチックフィルムの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィンフィルムが挙げられる。剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系などを用いることができるが、これらの中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。剥離シート20の厚さについて特に制限はないが、通常20μm以上250μm以下程度である。
(2-3) Peeling Sheet The protective film-forming composite sheet 10 according to the present embodiment is, as shown in FIG. 9, for the purpose of protecting the main surface 10A on the protective film-forming film 4 side. The release surface 20A of the release sheet 20 may be bonded to the surface 10A. The configuration of the release sheet 20 is arbitrary, and examples include a support member such as a plastic film that has been subjected to a release treatment with a release agent or the like. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the release agent, silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based, and the like can be used, and among these, a silicone-based material that is inexpensive and provides stable performance is preferable. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the peeling sheet 20, Usually, it is about 20 micrometers or more and 250 micrometers or less.

(3)保護膜形成用複合シート−剥離シート積層体
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10に対して、図9に記載されるように剥離シート20が貼合されている場合には、その保護膜形成用複合シート−剥離シート積層体(本明細書において「PR積層体」ともいう。)100の状態で保管してもよい。PR積層体100の具体的構成として、長尺の剥離シート20に、所定の形状に加工された保護膜形成用複合シート10の複数が、剥離シート20の長尺方向に複数離間しつつ配置されてなり、PR積層体100が全体として長尺体である構成が例示される。このような構成の場合には、その長尺体を巻収して巻取体とし、その巻取体から、必要に応じてPR積層体100を繰り出して剥離シート20から保護膜形成用複合シート10を剥離して使用することが可能となる。
(3) Protective film-forming composite sheet-peeling sheet laminate When the release sheet 20 is bonded to the protective film-forming composite sheet 10 according to this embodiment as shown in FIG. The protective film-forming composite sheet-release sheet laminate (also referred to as “PR laminate” in this specification) 100 may be stored. As a specific configuration of the PR laminate 100, a plurality of composite sheets 10 for forming a protective film processed into a predetermined shape are disposed on a long release sheet 20 while being separated from each other in the longitudinal direction of the release sheet 20. Thus, a configuration in which the PR laminate 100 is a long body as a whole is exemplified. In the case of such a configuration, the long body is rolled up to form a wound body, and the PR laminated body 100 is unwound from the wound body as necessary to form a protective film-forming composite sheet from the release sheet 20. 10 can be peeled off and used.

4.粘着シートの製造方法
本実施形態に係る粘着シート1の製造方法は、粘着剤層3の一方の面に第1の凹凸面領域1aのための凹凸形状を付与する工程、および粘着剤層3を基材2の一の面に積層する工程を含む。これらの工程は独立していてもよいし、共通であって凹凸形成と積層とが同時に行われてもよい。
4). Manufacturing method of adhesive sheet The manufacturing method of the adhesive sheet 1 which concerns on this embodiment is the process of providing the uneven | corrugated shape for the 1st uneven surface area | regions 1a on the one surface of the adhesive layer 3, and the adhesive layer 3. Including a step of laminating on one surface of the substrate 2. These steps may be independent, or may be common and the formation of unevenness and lamination may be performed simultaneously.

粘着シート1の製造方法の一例を挙げれば、前述の粘着層形成用塗工液を、基材2の一方の主面上に、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター等により塗布して塗膜を形成し、この基材2の一方の主面上の塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層3を形成することができる。粘着層形成用塗工液は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層3を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。   If an example of the manufacturing method of the adhesive sheet 1 is given, on the one main surface of the base material 2, the above-mentioned coating liquid for adhesive layer formation will be applied by a die coater, curtain coater, spray coater, slit coater, knife coater, etc. The pressure-sensitive adhesive layer 3 can be formed by coating to form a coating film and drying the coating film on one main surface of the substrate 2. The adhesive layer forming coating liquid is not particularly limited in its properties as long as it can be applied, and may contain a component for forming the adhesive layer 3 as a solute or a dispersoid. There is also a case.

粘着層形成用塗工液が架橋剤(γ)を含有する場合には、上記の乾燥の条件(温度、時間など)を変えることにより、または加熱処理を別途設けることにより、塗膜内のアクリル系重合体(α)と架橋剤(γ)との架橋反応を進行させ、粘着剤層3内に所望の存在密度で架橋構造を形成させればよい。この架橋反応を十分に進行させるために、上記の方法などによって基材2に粘着剤層3を積層させた後、得られた粘着シート1を、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行ってもよい。   When the adhesive layer forming coating solution contains a crosslinking agent (γ), the acrylic in the coating film can be changed by changing the drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately providing a heat treatment. What is necessary is just to advance the crosslinking reaction of a type | system | group polymer ((alpha)) and a crosslinking agent ((gamma)), and to form a crosslinked structure in the adhesive layer 3 with desired presence density. In order to make this crosslinking reaction sufficiently proceed, after the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated on the substrate 2 by the above-described method or the like, the obtained pressure-sensitive adhesive sheet 1 is placed in an environment of, for example, 23 ° C. and a relative humidity of 50%. Curing may be performed such as standing for days.

粘着剤層3の一方の主面に凹凸形状を付与する方法は特に限定されない。凹凸形状を側面に有する円筒体を粘着剤層3の一方の主面上で転がして、その凹凸形状の反転形状に基づく形状を粘着剤層3の一方の主面に形成してもよい(転造)。転造以外の転写加工として、凹凸形状を一の面に有する原版を作製し、その面に粘着剤層の一方の主面を圧接させて、その面の凹凸形状の反転形状に基づく形状を粘着剤層3の一方の主面に形成してもよい。あるいは、粘着剤層3の一の面に対してショットブラスト、放電、エッチングなどの加工を施して凹凸形状を形成してもよい。   There is no particular limitation on the method of imparting the uneven shape to one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3. A cylindrical body having a concavo-convex shape on its side surface may be rolled on one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3, and a shape based on the inverted shape of the concavo-convex shape may be formed on one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 (rolling). Made). As a transfer process other than rolling, an original plate having a concavo-convex shape on one surface is prepared, and one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer is pressed against the surface, and a shape based on the inverted shape of the concavo-convex shape on the surface is adhered. It may be formed on one main surface of the agent layer 3. Alternatively, an uneven shape may be formed by performing processing such as shot blasting, electric discharge, etching, etc. on one surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3.

本実施形態に係る粘着シート1の製造方法の別の一例として、前述の剥離シート20のような剥離シート(以下、「第1剥離シート」ともいう。)を用意し、その剥離面上に前述の粘着層形成用塗工液を塗布して塗膜を形成し、これを乾燥させて粘着剤層3と第1剥離シートとからなる積層体を形成し、この積層体の粘着剤層3における第1剥離シートに遠位な側の主面を基材2の一方の主面に貼付して、粘着シート1と第1剥離シートとからなる積層体を得てもよい。この積層体における第1剥離シートは速やかに剥離してもよいし、粘着シート1の粘着剤層3側の面1Aに保護膜形成用フィルム4が形成されるまでの間粘着剤層3を保護していてもよい。   As another example of the method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to the present embodiment, a release sheet such as the above-described release sheet 20 (hereinafter, also referred to as “first release sheet”) is prepared, and the above-described release surface is provided on the release surface. An adhesive layer forming coating solution is applied to form a coating film, which is dried to form a laminate composed of the adhesive layer 3 and the first release sheet. You may stick the main surface of a distal side to a 1st peeling sheet to one main surface of the base material 2, and obtain the laminated body which consists of the adhesive sheet 1 and a 1st peeling sheet. The first release sheet in this laminate may be peeled off quickly, or the pressure-sensitive adhesive layer 3 is protected until the protective film-forming film 4 is formed on the surface 1A on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side of the pressure-sensitive adhesive sheet 1. You may do it.

ここで、上記の第1剥離シートの剥離面が、粘着剤層3の一方の主面が有すべき凹凸形状の反転形状を有していれば、粘着剤層3から第1剥離シートを剥離させることにより、粘着剤層3の一方の主面に所望の凹凸形状を付与することができる。第1剥離シートの剥離面に凹凸形状の反転形状を付与する方法は限定されない。転造などの転写加工でもよいし、ショットブラスト、放電、エッチングといった除去加工を施してもよい。なお、第1剥離シートが支持部材と剥離層とからなる場合には、支持部材の一方の主面に対して形状加工を施し、その後、その主面上に剥離層を形成することが好ましい場合もある。   Here, if the peeling surface of said 1st peeling sheet has the inverted shape of the uneven | corrugated shape which one main surface of the adhesive layer 3 should have, the 1st peeling sheet will be peeled from the adhesive layer 3. By making it, a desired uneven | corrugated shape can be provided to one main surface of the adhesive layer 3. FIG. There is no limitation on the method for imparting the inverted shape of the uneven shape to the release surface of the first release sheet. Transfer processing such as rolling may be performed, or removal processing such as shot blasting, electric discharge, and etching may be performed. In the case where the first release sheet is composed of a support member and a release layer, it is preferable to perform shape processing on one main surface of the support member and then form a release layer on the main surface. There is also.

かかる方法で粘着剤層3を形成する場合には、粘着剤層3が積層構造を有するように形成してもよい。具体的には、第1剥離シートの剥離面が有する形状を転写しやすい材料からなる粘着剤層を第1剥離シートの剥離面上に形成し、その後、その粘着剤層上に、そのような転写しやすい材料以外の材料からなる粘着剤層を形成して、粘着剤層3がこれらの層の積層体からなるようにしてもよい。このような方法を採用することにより、材料コストを低減させることができる場合もある。   When the pressure-sensitive adhesive layer 3 is formed by such a method, the pressure-sensitive adhesive layer 3 may be formed so as to have a laminated structure. Specifically, an adhesive layer made of a material that easily transfers the shape of the release surface of the first release sheet is formed on the release surface of the first release sheet, and then such an adhesive layer is formed on the adhesive layer. An adhesive layer made of a material other than the material that can be easily transferred may be formed, and the adhesive layer 3 may be made of a laminate of these layers. By adopting such a method, the material cost may be reduced.

こうして得られた粘着シート1は、このままの状態で完成品としてもよいし、粘着シート1の粘着剤層3にエネルギー線照射を行うことなどによって、粘着剤層3に含有される成分の重合反応を進行させてもよい。本明細書において、こうして重合反応が進行した粘着剤層3を備える粘着シート1を「照射後粘着シート」という場合もある。   The pressure-sensitive adhesive sheet 1 obtained in this way may be a finished product as it is, or by subjecting the pressure-sensitive adhesive layer 3 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 to energy ray irradiation or the like, the polymerization reaction of the components contained in the pressure-sensitive adhesive layer 3 May be advanced. In the present specification, the pressure-sensitive adhesive sheet 1 including the pressure-sensitive adhesive layer 3 having undergone the polymerization reaction in this way may be referred to as “post-irradiation pressure-sensitive adhesive sheet”.

上記のようにして得た粘着剤層3側の基材2に遠位な側の面に界面接着調整層5を形成してもよいし、粘着剤層3側の基材2に遠位な側の面を粘着シート第1主面1Aとして、その面に治具接着層6を積層してもよい。その形成・積層方法の具体例として、粘着剤層3の基材2に遠位な側の面に界面接着調整層5や治具接着層6を与える層状体を積層させ、その層状体が切断されるように層状体側からハーフカットを行って、層状体の不要部分を除去して、界面接着調整層5や治具接着層6を得る方法が挙げられる。あるいは、界面接着調整層5や治具接着層6を与える層状体を剥離シートの剥離面に積層させ、その剥離シートとその層状体との積層体における層状体側から、その層状体が切断されるハーフカットを行って、層状体の不要部分を除去し、こうして得られた形状加工がなされた層状体としての界面接着調整層5や治具接着層6と剥離シートとの積層体における層状体側の面と、粘着剤層3の基材2に遠位な側の面とを貼合し、上記の剥離シートを剥離する方法も挙げられる。   The interfacial adhesion adjusting layer 5 may be formed on the surface on the distal side of the base material 2 on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side obtained as described above, or it may be distal to the base material 2 on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side. The surface on the side may be the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A, and the jig adhesive layer 6 may be laminated on the surface. As a specific example of the forming and laminating method, a layered body that provides the interface adhesion adjusting layer 5 and the jig adhesive layer 6 is laminated on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 on the distal side, and the layered body is cut. As described above, there is a method of performing the half-cut from the layered body side to remove unnecessary portions of the layered body to obtain the interface adhesion adjusting layer 5 and the jig adhesion layer 6. Alternatively, a layered body that provides the interfacial adhesion adjusting layer 5 and the jig bonding layer 6 is laminated on the release surface of the release sheet, and the layered body is cut from the layered body side in the laminate of the release sheet and the layered body. Half-cutting is performed to remove unnecessary portions of the layered body, and the layered body side of the laminate of the interface adhesive adjusting layer 5 and the jig adhesive layer 6 and the release sheet as the layered body thus obtained is processed. The method of bonding the surface and the surface on the distal side to the base material 2 of the pressure-sensitive adhesive layer 3 and peeling the release sheet may also be mentioned.

上記の説明では、粘着剤層3の一方の主面に対して凹凸形状を付与する工程は、エネルギー線の照射前に行われているが、エネルギー線が照射された後に上記の形状付与加工が行われてもよい。   In said description, although the process of providing uneven | corrugated shape with respect to one main surface of the adhesive layer 3 is performed before irradiation of an energy ray, said shape provision process is performed after an energy ray is irradiated. It may be done.

5.保護膜形成用フィルムの製造方法
本実施形態に係る保護膜形成用フィルム4の製造方法は、保護膜形成用フィルム4の一方の面に第2の凹凸面領域4aのための凹凸形状を付与する工程を含む。
5. Method for Producing Protective Film Forming Film The method for producing the protective film forming film 4 according to the present embodiment imparts a concavo-convex shape for the second concavo-convex surface region 4 a to one surface of the protective film forming film 4. Process.

保護膜形成用フィルム4の製造方法の具体的な一例を挙げれば、次のとおりである。すなわち、保護膜形成用フィルムを形成するための組成物である保護膜形成用組成物を用意し、剥離シート41のような剥離シート(本明細書において「第2剥離シート」という。)の剥離面上に、その保護膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥させて保護膜形成用フィルム4とし、その保護膜形成用フィルム4の露出している面に剥離シート42の剥離面を貼合して、保護膜形成用フィルム4が2枚の剥離シート(第2剥離シートおよび剥離シート42)に挟持された積層体を形成する。次に、この積層体を第2剥離シート側から、第2剥離シートおよび保護膜形成用フィルム4が切断されるようにハーフカットして不要部分(第2剥離シートの一部および保護膜形成用フィルム4の一部)を除去し、保護膜形成用フィルム4の一方の主面(本明細書において「第2のフィルム主面」ともいう。)4Bの形状を、粘着シート1の粘着剤層3側の主面1Aの一部の領域1bに対応した形状とする。こうして、剥離シート42の剥離面上に、保護膜形成用フィルム4が積層され、当該フィルム4にさらに第2剥離シートが積層されてなる積層体が得られる。   It will be as follows if a specific example of the manufacturing method of the film 4 for protective film formation is given. That is, a protective film-forming composition, which is a composition for forming a protective film-forming film, is prepared, and a release sheet such as the release sheet 41 (hereinafter referred to as “second release sheet”) is peeled off. On the surface, the protective film-forming composition is applied to form a coating film, and the resulting coating film is dried to form a protective film-forming film 4, with the protective film-forming film 4 exposed. The release surface of the release sheet 42 is bonded to the surface to form a laminate in which the protective film-forming film 4 is sandwiched between two release sheets (second release sheet and release sheet 42). Next, this laminated body is half-cut from the second release sheet side so that the second release sheet and the protective film forming film 4 are cut, and unnecessary portions (a part of the second release sheet and the protective film forming) A part of the film 4 is removed, and the shape of one main surface (also referred to as “second film main surface” in this specification) 4B of the protective film-forming film 4 is changed to the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet 1. The shape corresponds to a partial region 1b of the main surface 1A on the 3 side. In this way, a laminate is obtained in which the protective film-forming film 4 is laminated on the release surface of the release sheet 42 and the second release sheet is further laminated on the film 4.

ここで、第2剥離シートの剥離面が、保護膜形成用フィルム4の第2の凹凸面領域のための凹凸形状の反転形状を有することにより、保護膜形成用フィルム4の第2剥離シートに対向する面に、所望の凹凸形状を形成することができる。第2剥離シートの剥離面に凹凸形状の反転形状を付与させる方法は限定されず、第1の剥離シートの剥離面に凹凸形状を付与する場合と同様に行えばよい。   Here, the release surface of the second release sheet has an inverted shape of the concavo-convex shape for the second concavo-convex surface region of the protective film-forming film 4, thereby forming the second release sheet of the protective film-forming film 4. A desired uneven shape can be formed on the opposing surfaces. A method for imparting the inverted shape of the uneven shape to the release surface of the second release sheet is not limited, and may be performed in the same manner as the case of providing the uneven shape to the release surface of the first release sheet.

かかる方法で保護膜形成用フィルム4を形成する場合には、保護膜形成用フィルム4が積層構造を有するように形成してもよい。具体的には、第2剥離シートの剥離面が有する形状を転写しやすい材料からなる第1の層を第2剥離シートの剥離面上に形成し、その後、その第1の層上に、そのような転写しやすい材料以外の材料からなる第2の層を形成して、保護膜形成用フィルム4がこれらの層の積層体からなるものとしてもよい。このような方法を採用することにより、材料コストを低減させることができる場合もある。例えば、第1の層は充填材や着色剤を含有しないものとすれば、材料コストが低減できるうえに、第2剥離シートの剥離面に付与した形状の転写性を向上させることができる場合もある。   When the protective film forming film 4 is formed by such a method, the protective film forming film 4 may be formed to have a laminated structure. Specifically, a first layer made of a material that easily transfers the shape of the release surface of the second release sheet is formed on the release surface of the second release sheet, and then, on the first layer, A second layer made of a material other than the material that can be easily transferred may be formed, and the protective film-forming film 4 may be made of a laminate of these layers. By adopting such a method, the material cost may be reduced. For example, if the first layer does not contain a filler or a colorant, the material cost can be reduced, and the transferability of the shape imparted to the release surface of the second release sheet can be improved. is there.

6.保護膜形成用複合シートの製造方法
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10は、上記の本実施形態に係る粘着シート1および本実施形態に係る保護膜形成用フィルム4の少なくとも一方を用い、粘着シートの粘着剤層側の主面と、保護膜形成用フィルムの一方の面(第2の凹凸面領域を有する場合には当該領域を有する面)とを貼合することにより製造することができる。
6). Method for Manufacturing Protective Film Forming Composite Sheet A protective film forming composite sheet 10 according to the present embodiment uses at least one of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 according to the present embodiment and the protective film forming film 4 according to the present embodiment. Manufacturing by bonding the main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side and one surface of the protective film-forming film (the surface having the region when the second uneven surface region is provided). Can do.

7.マーキング方法
本発明のいくつかの実施形態に係るマーキング方法について、以下、説明する。
7). Marking Method The marking method according to some embodiments of the present invention will be described below.

(第1のマーキング方法)
本発明の一実施形態に係るマーキング方法(本明細書において「第1のマーキング方法」ともいう。)では、まず、図10に示されるように、前述の第1の凹凸面領域1aを有する粘着シート第1主面1Aを、リングフレームRに張設するとともに、半導体ウエハなどの被加工部材Wの一の面WAに貼付して、積層状態とする。この積層状態において、粘着シート1側からレーザー光を照射し、被加工部材の一の面WAにマーキングする。
(First marking method)
In the marking method according to an embodiment of the present invention (also referred to as “first marking method” in the present specification), first, as shown in FIG. 10, an adhesive having the first uneven surface area 1 a described above. The sheet first main surface 1A is stretched on the ring frame R and attached to one surface WA of the workpiece W such as a semiconductor wafer to form a laminated state. In this laminated state, laser light is irradiated from the pressure-sensitive adhesive sheet 1 side to mark one surface WA of the workpiece.

第1のマーキング方法の場合には、被加工部材Wの一の面WAにマーキングが形成されたことによって汚染性物質が生じても、その汚染性物質は第1の凹凸面領域1aに基づく第1の空隙部を通じて拡散することが可能である。それゆえ、第1のマーキング方法によれば、汚染性物質が被加工部材Wの一の面WAに付着したことに起因する局所的な汚染が生じにくい。   In the case of the first marking method, even if a pollutant material is generated due to the marking formed on one surface WA of the workpiece W, the pollutant material is generated based on the first uneven surface area 1a. It is possible to diffuse through one void. Therefore, according to the first marking method, local contamination caused by the contaminating substance adhering to one surface WA of the workpiece W is unlikely to occur.

(第2のマーキング方法)
本発明の別の一実施形態に係るマーキング方法(本明細書において「第2のマーキング方法」ともいう。)では、まず、図11に示されるように、前述の第1の凹凸面領域1aおよび第2の凹凸面領域4aの少なくとも一方を有する保護膜形成用複合シート10をリングフレームRに張設するとともに、保護膜形成用複合シート10が備える保護膜形成用フィルム4の第1のフィルム主面4Aを、被加工部材Wの一の面WAに貼付して、積層状態とする。この積層状態において、保護膜形成用複合シート10側、具体的には、保護膜形成用複合シート10の被加工部材Wに遠位な側である基材2側からレーザー光を照射し、保護膜形成用フィルム4の一方の主面(第2のフィルム主面)4Bにマーキングする。
(Second marking method)
In a marking method according to another embodiment of the present invention (also referred to as “second marking method” in the present specification), first, as shown in FIG. The protective film forming composite sheet 10 having at least one of the second uneven surface areas 4a is stretched on the ring frame R, and the first film main film 4 of the protective film forming film 4 provided in the protective film forming composite sheet 10 is provided. The surface 4A is affixed to one surface WA of the workpiece W to obtain a laminated state. In this laminated state, protection is performed by irradiating the protective film forming composite sheet 10 side, specifically, by irradiating a laser beam from the base material 2 side, which is the distal side to the workpiece W of the protective film forming composite sheet 10. One main surface (second film main surface) 4B of the film forming film 4 is marked.

第2のマーキング方法の場合には、保護膜形成用フィルム4の第2のフィルム主面4Bにマーキングが形成されたことによって汚染性物質が生じても、その汚染性物質は、第1の凹凸面領域1aおよび第2の凹凸面領域4aの少なくとも一方に基づく第1の空隙部および第2の空隙部の少なくとも一方からなる空隙部を通じて拡散することが可能である。それゆえ、第2のマーキング方法によれば、汚染性物質が保護膜形成用フィルム4の第2のフィルム主面4Bに付着したことに起因する局所的な汚染が生じにくい。なお、第2のマーキング方法は第1のマーキング方法とはマーキング対象が相違し、第1のマーキング方法では被加工部材Wがマーキングされ、第2のマーキング方法では保護膜形成用フィルム4がマーキングされる。   In the case of the second marking method, even if the pollutant material is generated by forming the marking on the second film main surface 4B of the protective film forming film 4, the pollutant material is It is possible to diffuse through a gap formed by at least one of the first gap and the second gap based on at least one of the surface area 1a and the second uneven surface area 4a. Therefore, according to the second marking method, the local contamination due to the contaminating substance adhering to the second film main surface 4B of the protective film forming film 4 is hardly generated. The second marking method is different in marking object from the first marking method. In the first marking method, the workpiece W is marked, and in the second marking method, the protective film forming film 4 is marked. The

(第3のマーキング方法)
本発明のさらに別の一実施形態に係るマーキング方法(本明細書において「第3のマーキング方法」ともいう。)は、マーキング対象が保護膜形成用フィルム4から形成された保護膜であるという点で、第2のマーキング方法と異なる。具体的には、リングフレームRに張設された保護膜形成用複合シート10が備える保護膜形成用フィルム4を硬化して保護膜とすることにより得られる保護膜含有複合シートにおける、保護膜の一方の主面(粘着シート1に遠位な側の主面)が、被加工部材Wの一の面WAに固着している積層状態において、保護膜形成用複合シート側(具体的には粘着シート1の基材2側)からレーザー光を照射し、保護膜の他方の主面(粘着シート1に近位な側の主面)にマーキングする。
(Third marking method)
The marking method according to still another embodiment of the present invention (also referred to as “third marking method” in the present specification) is that the marking target is a protective film formed from the protective film-forming film 4. This is different from the second marking method. Specifically, the protective film in the protective film-containing composite sheet obtained by curing the protective film-forming film 4 provided in the protective film-forming composite sheet 10 stretched on the ring frame R to form a protective film. In the laminated state where one main surface (the main surface on the side distal to the adhesive sheet 1) is fixed to one surface WA of the workpiece W, the composite sheet side for protecting film formation (specifically, the adhesive) Laser light is irradiated from the base material 2 side of the sheet 1 to mark the other main surface of the protective film (main surface on the side proximal to the adhesive sheet 1).

保護膜は保護膜形成用フィルム4を硬化してなるものであるから、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域を有する場合には、保護膜も、この領域に対応する凹凸面領域を有し、その結果、粘着シート1および保護膜によっても、第2の空隙部に対応する空隙部が画成される。したがって、保護膜の粘着シート1に近位な側の主面にマーキングが形成されたことによって汚染性物質が生じても、その汚染性物質は、第2の凹凸面領域4aに対応する凹凸面領域および第1の凹凸面領域1aの少なくとも一方に基づく、第2の空隙部に対応する空隙部および第1の空隙部の少なくとも一方からなる空隙部を通じて拡散することが可能である。それゆえ、第3のマーキング方法によれば、汚染性物質が保護膜の粘着シート1に近位な側の主面に付着したことに起因する局所的な汚染が生じにくい。   Since the protective film is formed by curing the protective film-forming film 4, when the protective film-forming film 4 has the second uneven surface region, the protective film also has an uneven surface region corresponding to this region. As a result, a gap corresponding to the second gap is also defined by the adhesive sheet 1 and the protective film. Therefore, even if a pollutant is generated by forming a marking on the main surface of the protective film on the side proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet 1, the pollutant is an uneven surface corresponding to the second uneven surface area 4a. It is possible to diffuse through a void portion composed of at least one of a void portion corresponding to the second void portion and the first void portion based on at least one of the region and the first uneven surface area 1a. Therefore, according to the third marking method, the local contamination due to the contaminating substance adhering to the main surface on the side proximal to the adhesive sheet 1 of the protective film is less likely to occur.

8.マーキングチップの製造方法
以下、本実施形態に係る粘着シート1および/または保護膜形成用複合シート10を用いて、半導体ウエハなどの被加工部材Wが個片化されてなるチップであって、一方の主面(具体的には、回路面と反対側の主面)にマーキングを有するチップであるマーキングチップを製造する複数の製造方法について説明する。
8). Method for Producing Marking Chip Hereinafter, a chip formed by separating a workpiece W such as a semiconductor wafer using the pressure-sensitive adhesive sheet 1 and / or the composite sheet 10 for forming a protective film according to the present embodiment, A plurality of manufacturing methods for manufacturing a marking chip, which is a chip having a marking on its main surface (specifically, the main surface opposite to the circuit surface) will be described.

(第1の製造方法)
第1の製造方法では、前述の第1のマーキング方法を実施することにより得られるマーキングされた被加工部材Wをダイシング加工して、被加工部材Wが個片化されてなるチップであって被加工部材Wの一の面WAに基づく面にマーキングを有するマーキングチップを得る。上記のダイシング加工の具体的な方法は特に限定されない。ブレード(回転刃)による切断であってもよいし、レーザーアブレーションによる切断であってもよい。これらの場合において、切断の形態はフルカットであってもよいし、ハーフカットであってもよい。さらにダイシング加工は、被加工部材Wをレーザー照射により局部的に改質し、その改質部分を引張り加工によって破断するステルスダイシングであってもよい。ダイシング加工の詳細が任意であることは、後述する第2の製造方法以降においても同様である。
(First manufacturing method)
In the first manufacturing method, a chip to be processed is obtained by dicing the marked workpiece W obtained by performing the first marking method described above, and the workpiece W is separated into pieces. A marking chip having a marking on a surface based on one surface WA of the processed member W is obtained. The specific method of said dicing process is not specifically limited. Cutting with a blade (rotating blade) or laser ablation may be used. In these cases, the form of cutting may be full cut or half cut. Further, the dicing process may be stealth dicing in which the workpiece W is locally modified by laser irradiation and the modified portion is broken by a tensile process. The details of the dicing process are also the same in the second manufacturing method and later described later.

かかる第1の製造方法により製造されたマーキングチップは、第1の空隙部を画成可能な粘着シート1が貼着する被加工部材Wの一の面WAにマーキングが行われている。このため、マーキングチップのマーキングが施された面が汚染性物質により汚染されている可能性は低減されている。それゆえ、第1の製造方法によれば、得られたマーキングチップに、汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   In the marking chip manufactured by the first manufacturing method, marking is performed on one surface WA of the workpiece W to which the pressure-sensitive adhesive sheet 1 capable of defining the first gap portion is attached. For this reason, the possibility that the surface on which the marking chip has been marked is contaminated with a contaminating substance is reduced. Therefore, according to the first manufacturing method, the resulting marking chip is unlikely to have a problem due to a pollutant.

(第2の製造方法)
第2の製造方法では、前述の第2のマーキング方法を実施することにより得られる、その粘着シート1に近位な側の主面(第2のフィルム主面)4Bにマーキングされた保護膜形成用フィルム4を備える保護膜形成用複合シート10および保護膜形成用複合シート10が貼付された被加工部材Wからなる積層構造体に対して、ダイシング加工を実施して、被加工部材Wが個片化してなるチップおよびそのチップにおける被加工部材Wの一の面WAに基づく面に貼付した保護膜用形成用フィルム4の小片(本明細書において「保護膜用形成用フィルム片」ともいう。)とからなるマーキングフィルム付チップを得る。
(Second manufacturing method)
In the second manufacturing method, a protective film formed on the principal surface (second film principal surface) 4B on the side proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet 1 obtained by performing the second marking method described above is formed. Dicing is performed on the laminated structure including the protective film-forming composite sheet 10 including the protective film 4 and the processed member W to which the protective film-forming composite sheet 10 is attached. A chip formed in one piece and a small piece of the protective film forming film 4 affixed to a surface based on one surface WA of the workpiece W in the chip (also referred to as “protective film forming film piece” in this specification). A chip with a marking film is obtained.

上記の方法により得られたマーキングフィルム付チップが備える保護膜用形成用フィルム片を硬化させてこれを保護膜片として、被加工部材Wのチップ、およびこのチップにおけるマーキングフィルム付チップの製造過程で粘着シート1に近位であった側の面に固着する保護膜片とからなるマーキング保護膜付チップを得る。   In the manufacturing process of the chip of the workpiece W and the chip with the marking film in the chip, the film for forming the protective film provided in the chip with the marking film obtained by the above method is cured and used as the protective film piece. A chip with a marking protective film comprising a protective film piece fixed to the surface that was proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet 1 is obtained.

かかる第2の製造方法によれば、マーキングフィルム付チップを得る工程において、第1の空隙部および第2の空隙部の少なくとも一方を画成する面である、保護膜形成用フィルム4における粘着シート1に近位な側の主面(第2のフィルム主面)4Bにマーキングが行われる。したがって、マーキングによって発生した汚染性物質は、第1の空隙部および/または第2の空隙部を通じて拡散可能である。具体的には、粘着シート1が第1の凹凸面領域を有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域を有しない場合には、第1の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有さず、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有する場合には、第2の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有する場合には、第1の空隙部および第2の空隙部に基づく空隙部(第1の空隙部からなる場合もあれば、第2の空隙部からなる場合もあれば、第1の空隙部と第2の空隙部とが作る空隙部である場合もある。)を通じて汚染性物質は拡散しうる。   According to the second manufacturing method, in the step of obtaining the chip with the marking film, the pressure-sensitive adhesive sheet in the protective film-forming film 4 that is a surface that defines at least one of the first gap and the second gap. Marking is performed on the main surface (second film main surface) 4B on the side proximal to 1. Therefore, the pollutant generated by the marking can be diffused through the first gap and / or the second gap. Specifically, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has a first uneven surface area and the protective film forming film 4 does not have a second uneven surface area, the pollutant is diffused through the first gap. Yes. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 does not have the first uneven surface area 1a and the protective film-forming film 4 has the second uneven surface area 4a, the pollutant can diffuse through the second gap. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface area 1a and the protective film forming film 4 has the second uneven surface area 4a, the first void and the void based on the second void. (It may consist of the first gap, may consist of the second gap, or may be a gap formed by the first gap and the second gap). Sexual substances can diffuse.

それゆえ、マーキングフィルム付チップのマーキングが施された面(保護膜用形成用フィルム片の第2のフィルム主面4Bに基づく面)は、汚染性物質により汚染されている可能性が低減されている。よって、第2の製造方法によれば、得られたマーキング保護膜付チップに汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   Therefore, the surface (the surface based on the second film main surface 4B of the protective film-forming film piece) on which the marking film-attached chip is marked is less likely to be contaminated with a contaminant. Yes. Therefore, according to the second manufacturing method, the resulting chip with the marking protective film is unlikely to be defective due to a pollutant.

この保護膜用形成用フィルム片の硬化方法は特に限定されず、その保護膜用形成用フィルム片を構成する材料に適した方法を行えばよい。エネルギー線による硬化する材料が含有されている場合には、紫外線、電子線などを照射すればよい。熱により硬化する材料が含有されている場合には、所定温度で適切な時間加熱すればよい。硬化するための作業を行ったのち養生することが好ましい場合には、適切な条件(例えば23℃、相対湿度50%の環境に7日間静置)で養生を実施してもよい。   The method for curing the protective film forming film piece is not particularly limited, and a method suitable for the material constituting the protective film forming film piece may be used. When a material that cures by energy rays is contained, ultraviolet rays, electron beams, or the like may be irradiated. When a material that cures by heat is contained, it may be heated at a predetermined temperature for an appropriate time. When it is preferable to perform curing after performing the work for curing, curing may be performed under appropriate conditions (for example, standing for 7 days in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity).

保護膜用形成用フィルム片の硬化は、保護膜用形成用フィルム片が粘着シート1から離間した状態において行われもよいし、粘着シート1に接した状態において行われてもよい。すなわち、保護膜用形成用フィルム片を硬化する工程とピックアップ工程との時間的な前後関係は限定されない。   Curing of the protective film-forming film piece may be performed in a state where the protective film-forming film piece is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet 1 or in a state where it is in contact with the pressure-sensitive adhesive sheet 1. That is, the temporal relationship between the step of curing the protective film forming film piece and the pickup step is not limited.

(第3の製造方法)
第3の製造方法では、まず、上記の第2のマーキング方法を実施することにより得られる、粘着シート1に近位な側の主面(第2のフィルム主面)4Bがマーキングされた保護膜形成用フィルム4を硬化させて、マーキングされた保護膜とする。その結果、保護膜形成用複合シート10から形成されマーキングされた保護膜を有する保護膜含有複合シートおよびこの保護膜含有複合シートが貼付された被加工部材Wからなる積層構造体が得られる。この積層構造体に対してダイシング加工を実施して、被加工部材Wが個片化してなるチップおよびこのチップの一方の主面に固着するマーキングされた保護膜の小片とからなるマーキング保護膜付チップを得る。
(Third production method)
In the third manufacturing method, first, the protective film on which the main surface (second film main surface) 4B on the side proximal to the adhesive sheet 1 is obtained by performing the second marking method described above. The forming film 4 is cured to form a marked protective film. As a result, a laminated structure including a protective film-containing composite sheet having a marked protective film formed from the protective film-forming composite sheet 10 and a workpiece W to which the protective film-containing composite sheet is attached is obtained. With a marking protective film comprising a chip formed by dividing a workpiece W into pieces and a small piece of a marked protective film fixed to one main surface of the chip by dicing the laminated structure. Get a chip.

かかる第3の製造方法によれば、マーキングフィルム付チップを得る工程において、第1の空隙部および第2の空隙部の少なくとも一方を画成する面である、保護膜形成用フィルム4における粘着シート1に近位な側の主面(第2のフィルム主面)4Bにマーキングが行われる。したがって、マーキングによって発生した汚染性物質は、第1の空隙部および/または第2の空隙部を通じて拡散可能である。具体的には、粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有しない場合には、第1の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有さず、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有する場合には、第2の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域を有する場合には、第1の空隙部および第2の空隙部に基づく空隙部(第1の空隙部からなる場合もあれば、第2の空隙部からなる場合もあれば、第1の空隙部と第2の空隙部とが作る空隙部である場合もある。)を通じて汚染性物質は拡散しうる。   According to the third manufacturing method, in the step of obtaining the chip with the marking film, the pressure-sensitive adhesive sheet in the protective film-forming film 4 which is a surface that defines at least one of the first gap and the second gap. Marking is performed on the main surface (second film main surface) 4B on the side proximal to 1. Therefore, the pollutant generated by the marking can be diffused through the first gap and / or the second gap. Specifically, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface area 1a and the protective film-forming film 4 does not have the second uneven surface area 4a, the pollutant substance passes through the first gap. Can spread. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 does not have the first uneven surface area 1a and the protective film-forming film 4 has the second uneven surface area 4a, the pollutant can diffuse through the second gap. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface region 1a and the protective film-forming film 4 has the second uneven surface region, the first void portion and the void portion based on the second void portion ( In some cases, the first void portion may be a second void portion, and in other cases, the void portion is formed by the first void portion and the second void portion. Material can diffuse.

それゆえ、マーキングフィルム付チップのマーキングが施された面(保護膜用形成用フィルム片の第2のフィルム主面4Bに基づく面)は、汚染性物質により汚染されている可能性が低減されている。よって、第3の製造方法によれば、得られたマーキング保護膜付チップに汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   Therefore, the surface (the surface based on the second film main surface 4B of the protective film-forming film piece) on which the marking film-attached chip is marked is less likely to be contaminated with a contaminant. Yes. Therefore, according to the third manufacturing method, the resulting chip with the marking protective film is unlikely to be defective due to a pollutant.

(第4の製造方法)
第4の製造方法では、前述の第3のマーキング方法を実施することにより得られる、保護膜がマーキングされた保護膜含有複合シートおよび保護膜含有複合シートが付着する被加工部材Wからなる積層構造体に対して、ダイシング加工を実施して、被加工部材Wのチップおよびこのチップの一方の主面に固着するマーキングされた保護膜の小片とからなるマーキング保護膜付チップを得る。
(Fourth manufacturing method)
In the fourth manufacturing method, a laminated structure comprising a protective film-containing composite sheet marked with a protective film and a workpiece W to which the protective film-containing composite sheet adheres, obtained by performing the third marking method described above. Dicing processing is performed on the body to obtain a chip with a marking protective film, which includes a chip of the workpiece W and a small piece of a marked protective film that is fixed to one main surface of the chip.

かかる第4の製造方法によれば、マーキングフィルム付チップを得る工程において、第1の空隙部および第2の空隙部に対応する空隙部の少なくとも一方を画成する面である、保護膜における粘着シート1に近位な側の主面にマーキングが行われる。したがって、マーキングによって発生した汚染性物質は、第1の空隙部および/または第2の空隙部に対応する空隙部を通じて拡散可能である。具体的には、粘着シート1が第1の凹凸面領域を有し、保護膜が第2の凹凸面領域に対応する凹凸面領域を有しない場合には、第1の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有さず、保護が第2の凹凸面領域4aに対応する凹凸面領域を有する場合には、第2の空隙部に対応する空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜が第2の凹凸面領域4aに対応する凹凸面領域を有する場合には、第1の空隙部および第2の空隙部に対応する空隙部に基づく空隙部(第1の空隙部からなる場合もあれば、第2の空隙部に対応する空隙部からなる場合もあれば、第1の空隙部と第2の空隙部に対応する空隙部とが作る空隙部である場合もある。)を通じて汚染性物質は拡散しうる。   According to the fourth manufacturing method, in the step of obtaining the chip with the marking film, the adhesive in the protective film, which is a surface that defines at least one of the first gap and the second gap. Marking is performed on the main surface on the side proximal to the sheet 1. Accordingly, the pollutant generated by the marking can be diffused through the gap corresponding to the first gap and / or the second gap. Specifically, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has a first uneven surface area and the protective film does not have an uneven surface area corresponding to the second uneven surface area, a pollutant substance passes through the first gap. Can spread. In the case where the pressure-sensitive adhesive sheet 1 does not have the first uneven surface region 1a and the protection has the uneven surface region corresponding to the second uneven surface region 4a, it is contaminated through the void corresponding to the second void. Material can diffuse. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface region 1a and the protective film has the uneven surface region corresponding to the second uneven surface region 4a, it corresponds to the first void portion and the second void portion. A void portion based on the void portion (which may be composed of a first void portion or a void portion corresponding to the second void portion, or corresponding to the first void portion and the second void portion) Contaminants may diffuse through the voids that are created by the gaps that form).

それゆえ、マーキング保護膜付チップのマーキングが施された面(保護膜片の粘着シート1に対向する面)は、汚染性物質により汚染されている可能性が低減されている。よって、第4の製造方法によれば、得られたマーキング保護膜付チップに汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   Therefore, the possibility that the surface of the chip with the marking protective film marked (the surface facing the adhesive sheet 1 of the protective film piece) is contaminated with a contaminant is reduced. Therefore, according to the fourth manufacturing method, the resulting chip with the marking protective film is unlikely to have a problem due to a contaminating substance.

(第5の製造方法)
第5の製造方法では、まず、リングフレームに張設された粘着シート1と、粘着シート第1主面1Aが、その一の面WAに積層された被加工部材Wとを備えた積層構造体を得る。次に、その積層構造体について、被加工部材W側からダイシングして被加工部材Wを個片化することにより複数のチップを形成して、この複数のチップのそれぞれの一の面に粘着シート1が貼付された積層状態とする。続いて、粘着シート1側(すなわち、粘着シート1の基材2側)からレーザー光を照射し、上記のチップの一の面にマーキングして、マーキングチップを得る。
(Fifth manufacturing method)
In the fifth manufacturing method, first, a laminated structure including an adhesive sheet 1 stretched on a ring frame and a workpiece W in which an adhesive sheet first main surface 1A is laminated on one surface WA. Get. Next, the laminated structure is diced from the workpiece W side to divide the workpiece W into pieces, thereby forming a plurality of chips, and an adhesive sheet on each surface of the plurality of chips. Let it be a laminated state with 1 attached. Subsequently, laser light is irradiated from the pressure-sensitive adhesive sheet 1 side (that is, the base material 2 side of the pressure-sensitive adhesive sheet 1), and marking is performed on one surface of the above chip to obtain a marking chip.

かかる第5の製造方法により製造されたマーキングチップは、第1の空隙部を画成可能な粘着シート1が貼着する被加工部材Wの一の面WAにマーキングが行われている。このため、マーキングチップのマーキングが施された面が汚染性物質により汚染されている可能性は低減されている。それゆえ、第5の製造方法によれば、得られたマーキングチップに、汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   In the marking chip manufactured by the fifth manufacturing method, marking is performed on one surface WA of the workpiece W to which the pressure-sensitive adhesive sheet 1 capable of defining the first gap portion is attached. For this reason, the possibility that the surface on which the marking chip has been marked is contaminated with a contaminating substance is reduced. Therefore, according to the fifth manufacturing method, the obtained marking chip is unlikely to have a problem due to a pollutant.

(第6の製造方法)
第6の製造方法では、まず、リングフレームに張設された保護膜形成用複合シート10と、保護膜形成用複合シート10が備える保護膜形成用フィルム4の第1のフィルム主面4Aがその一の面WAに積層された被加工部材Wとを備えた積層構造体を得る。次に、その積層構造体に対して、被加工部材W側からダイシング加工を実施して、被加工部材Wが個片化してなる複数のチップと、この複数のチップのそれぞれの一の面に貼付された保護膜形成用フィルム片とからなる複数のフィルム付チップを形成する。その結果、複数のフィルム付チップのそれぞれが粘着シート第1主面1Aに貼着した積層状態が得られる。この積層状態において、粘着シート1側からレーザー光を照射し、複数のフィルム付チップのそれぞれの保護膜形成用フィルム片側の面にマーキングして、マーキングフィルム付チップを得る。こうして得られたマーキングフィルム付チップの保護膜形成用フィルム片を硬化させて、マーキングされた保護膜がチップの一の面に積層されてなるマーキング保護膜付チップを得ることができる。
(Sixth manufacturing method)
In the sixth manufacturing method, first, the protective film forming composite sheet 10 stretched on the ring frame, and the first film main surface 4A of the protective film forming film 4 included in the protective film forming composite sheet 10 are A laminated structure including a workpiece W laminated on one surface WA is obtained. Next, dicing processing is performed on the laminated structure from the workpiece W side, and a plurality of chips formed by dividing the workpiece W into individual pieces and one surface of each of the plurality of chips. A plurality of film-attached chips comprising the attached protective film-forming film pieces are formed. As a result, a laminated state in which each of the plurality of film-attached chips is attached to the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface 1A is obtained. In this laminated state, a laser beam is irradiated from the pressure-sensitive adhesive sheet 1 side, and marking is performed on the surface of each of the plurality of film-coated chips on the protective film forming film side to obtain a chip with a marking film. The chip for protective film formation of the chip with marking film thus obtained is cured to obtain a chip with marking protective film in which the marked protective film is laminated on one surface of the chip.

かかる第6の製造方法によれば、マーキングフィルム付チップを得る工程において、第1の空隙部および第2の空隙部の少なくとも一方を画成する面である、保護膜形成用フィルム4(具体的にはダイシング加工により保護膜形成用フィルム片となっている。)における粘着シート1に近位な側の主面(第2のフィルム主面)4Bにマーキングが行われる。したがって、マーキングによって発生した汚染性物質は、第1の空隙部および/または第2の空隙部を通じて拡散可能である。具体的には、粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有しない場合には、第1の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有さず、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域4aを有する場合には、第2の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜形成用フィルム4が第2の凹凸面領域を有する場合には、第1の空隙部および第2の空隙部に基づく空隙部(第1の空隙部からなる場合もあれば、第2の空隙部からなる場合もあれば、第1の空隙部と第2の空隙部とが作る空隙部である場合もある。)を通じて汚染性物質は拡散しうる。   According to the sixth manufacturing method, in the step of obtaining the chip with the marking film, the protective film-forming film 4 (specifically, which is a surface that defines at least one of the first gap and the second gap) Is formed into a protective film-forming film piece by dicing), and marking is performed on the main surface (second film main surface) 4B on the side proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet 1. Therefore, the pollutant generated by the marking can be diffused through the first gap and / or the second gap. Specifically, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface area 1a and the protective film-forming film 4 does not have the second uneven surface area 4a, the pollutant substance passes through the first gap. Can spread. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 does not have the first uneven surface area 1a and the protective film-forming film 4 has the second uneven surface area 4a, the pollutant can diffuse through the second gap. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface region 1a and the protective film-forming film 4 has the second uneven surface region, the first void portion and the void portion based on the second void portion ( In some cases, the first void portion may be a second void portion, and in other cases, the void portion is formed by the first void portion and the second void portion. Material can diffuse.

それゆえ、マーキングフィルム付チップのマーキングが施された面(保護膜用形成用フィルム片の第2のフィルム主面4Bに基づく面)は、汚染性物質により汚染されている可能性が低減されている。よって、第6の製造方法によれば、得られたマーキング保護膜付チップに、汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   Therefore, the surface (the surface based on the second film main surface 4B of the protective film-forming film piece) on which the marking film-attached chip is marked is less likely to be contaminated with a contaminant. Yes. Therefore, according to the sixth manufacturing method, the resulting chip with the marking protective film is unlikely to be defective due to a pollutant.

(第7の製造方法)
第7の製造方法では、まず、リングフレームに張設された保護膜形成用複合シート10と、保護膜形成用複合シート10が備える保護膜形成用フィルム4の第1のフィルム主面4Aがその一の面WAに積層された被加工部材Wとを備えた積層構造体を得る。次に、その積層構造体に対して、被加工部材W側からダイシング加工を実施することにより、被加工部材Wが個片化してなる複数のチップと、この複数のチップのそれぞれの一の面に貼付された保護膜形成用フィルム片とからなる複数のフィルム付チップを形成する。続いて、この複数のフィルム付チップが備える保護膜形成用フィルム片を硬化させて、保護膜の小片がチップの一の面に積層されてなる保護膜付チップの複数を得る。その結果、複数の保護膜付チップのそれぞれが粘着シート第1主面1Aに貼着した積層状態が得られる。この積層状態において、粘着シート1側からレーザー光を照射して、複数の保護膜付チップのそれぞれの保護膜側の主面にマーキングして、マーキング保護膜付チップを得る。
(Seventh manufacturing method)
In the seventh manufacturing method, first, the protective film forming composite sheet 10 stretched on the ring frame, and the first film main surface 4A of the protective film forming film 4 included in the protective film forming composite sheet 10 are A laminated structure including a workpiece W laminated on one surface WA is obtained. Next, dicing processing is performed on the laminated structure from the workpiece W side, so that a plurality of chips formed by dividing the workpiece W into one piece and one surface of each of the plurality of chips A plurality of film-attached chips formed of a protective film-forming film piece attached to the film. Subsequently, the film pieces for forming a protective film included in the plurality of chips with a film are cured to obtain a plurality of chips with a protective film in which small pieces of the protective film are laminated on one surface of the chip. As a result, a stacked state is obtained in which each of the plurality of chips with protective film is adhered to the first main surface 1A of the pressure-sensitive adhesive sheet. In this laminated state, laser light is irradiated from the pressure-sensitive adhesive sheet 1 side to mark the main surface of each of the plurality of protective film-coated chips on the protective film side to obtain a chip with a marking protective film.

かかる第7の製造方法によれば、マーキングフィルム付チップを得る工程において、第1の空隙部および第2の空隙部に対応する空隙部の少なくとも一方を画成する面である、保護膜(具体的には保護膜は個片化されて小片となっている。)における粘着シート1に近位な側の主面にマーキングが行われる。したがって、マーキングによって発生した汚染性物質は、第1の空隙部および/または第2の空隙部に対応する空隙部を通じて拡散可能である。具体的には、粘着シート1が第1の凹凸面領域を有し、保護膜が第2の凹凸面領域に対応する凹凸面領域を有しない場合には、第1の空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有さず、保護が第2の凹凸面領域4aに対応する凹凸面領域を有する場合には、第2の空隙部に対応する空隙部を通じて汚染性物質は拡散しうる。粘着シート1が第1の凹凸面領域1aを有し、保護膜が第2の凹凸面領域4aに対応する凹凸面領域を有する場合には、第1の空隙部および第2の空隙部に対応する空隙部に基づく空隙部(第1の空隙部からなる場合もあれば、第2の空隙部に対応する空隙部からなる場合もあれば、第1の空隙部と第2の空隙部に対応する空隙部とが作る空隙部である場合もある。)を通じて汚染性物質は拡散しうる。   According to the seventh manufacturing method, in the step of obtaining the chip with the marking film, the protective film (specifically, a surface that defines at least one of the first gap and the second gap corresponding to the second gap) Specifically, the protective film is divided into small pieces, and the main surface on the side proximal to the adhesive sheet 1 is marked. Accordingly, the pollutant generated by the marking can be diffused through the gap corresponding to the first gap and / or the second gap. Specifically, when the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has a first uneven surface area and the protective film does not have an uneven surface area corresponding to the second uneven surface area, a pollutant substance passes through the first gap. Can spread. In the case where the pressure-sensitive adhesive sheet 1 does not have the first uneven surface region 1a and the protection has the uneven surface region corresponding to the second uneven surface region 4a, it is contaminated through the void corresponding to the second void. Material can diffuse. When the pressure-sensitive adhesive sheet 1 has the first uneven surface region 1a and the protective film has the uneven surface region corresponding to the second uneven surface region 4a, it corresponds to the first void portion and the second void portion. A void portion based on the void portion (which may be composed of a first void portion or a void portion corresponding to the second void portion, or corresponding to the first void portion and the second void portion) Contaminants may diffuse through the voids that are created by the gaps that form).

それゆえ、マーキング保護膜付チップのマーキングが施された面(保護膜片の粘着シート1に対向する面)は、汚染性物質により汚染されている可能性が低減されている。よって、第7の製造方法によれば、得られたマーキング保護膜付チップに汚染性物質を原因とする不具合が生じにくい。   Therefore, the possibility that the surface of the chip with the marking protective film marked (the surface facing the adhesive sheet 1 of the protective film piece) is contaminated with a contaminant is reduced. Therefore, according to the seventh manufacturing method, the resulting chip with the marking protective film is unlikely to be defective due to a pollutant.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、上記のマーキングチップの製造方法において、ダイシング加工がハーフカットを含んだりステルスダイシングであったりすることにより、複数の作業(ハーフカットまたは改質、および破断)を含む場合には、ダイシング加工のそれらの作業の間に、レーザーマーキングや保護膜形成用フィルム4から保護膜の形成が行われてもよい。   For example, in the manufacturing method of the above-described marking chip, when the dicing process includes a half cut or a stealth dicing and includes a plurality of operations (half cut or modification, and fracture), the dicing process is performed. During these operations, a protective film may be formed from the laser marking or the protective film-forming film 4.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.

(実施例1)
粘着シートが備える粘着剤層を形成するための粘着剤組成物として、アクリルポリマー(2−エチルヘキシルアクリレート/酢酸ビニル/ヒドロキシエチルアクリレート=45/40/15(質量比)、重量平均分子量=約50万)に、メタクリロイルオキシエチルアクリレートを80%当量(アクリルポリマー100質量部に対し16質量部)反応させたエネルギー線硬化型ポリマーエネルギー線硬化型ポリマー100質量部に、光重合開始剤(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア(登録商標)184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋インキ製造社製、BHS−8515)1.07質量部を配合(すべて固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物を得た。
Example 1
As an adhesive composition for forming an adhesive layer provided in the adhesive sheet, an acrylic polymer (2-ethylhexyl acrylate / vinyl acetate / hydroxyethyl acrylate = 45/40/15 (mass ratio), weight average molecular weight = about 500,000) ) Is reacted with 80% equivalent of methacryloyloxyethyl acrylate (16 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer) to 100 parts by mass of the energy beam curable polymer, and a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals) Co., Ltd., Irgacure (registered trademark) 184) 3.5 parts by mass, and isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., BHS-8515) 1.07 parts by mass (all blending ratio in terms of solid content) An agent composition was obtained.

上記の粘着剤組成物を厚さ100μmのポリエチレンフィルム上に塗布して、得られた塗膜を乾燥して、基材(厚さ:100μm)と粘着剤層(厚さ:10μm)とからなる粘着シート(総厚:110μm)を得た。得られた粘着シートに対して、紫外線照射装置(リンテック株式会社製、Adwill RAD−2000m/8)を用いて、紫外線照射(230mW/cm、190mJ/cm)を行い、粘着剤層内の重合可能な成分の重合反応を進行させた。 The above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a 100 μm-thick polyethylene film, and the resulting coating film is dried to form a substrate (thickness: 100 μm) and a pressure-sensitive adhesive layer (thickness: 10 μm). An adhesive sheet (total thickness: 110 μm) was obtained. The obtained pressure-sensitive adhesive sheet is irradiated with ultraviolet rays (230 mW / cm 2 , 190 mJ / cm 2 ) using an ultraviolet irradiation device (Adwill RAD-2000 m / 8, manufactured by Lintec Corporation). The polymerization reaction of the polymerizable component was allowed to proceed.

こうして粘着剤層の重合処理が施された粘着シートの粘着剤層側の面に、機械加工により幅1μmの溝が間隔2mmで複数形成された面を有する原版(以下、「ストライプ原版」ともいう。)の当該面を圧接することにより、原版の当該面に形成された形状の反転形状に基づく形状を有する領域を、第1の凹凸面領域として粘着剤層側の面に有する粘着シートを得た。   An original plate having a surface in which a plurality of grooves having a width of 1 μm are formed at a distance of 2 mm by machining on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet thus subjected to polymerization treatment of the pressure-sensitive adhesive layer (hereinafter also referred to as “stripe original plate”). .) Is pressure-contacted to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet having a region having a shape based on an inverted shape of the shape formed on the surface of the original plate on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side as a first uneven surface region. It was.

(実施例2)
アクリル系ポリマー(アクリル酸ブチル55重量部とメタクリル酸メチル15重量部とメタクリル酸グリシジル20重量部とアクリル酸2−ヒドロキシエチル10重量部とを共重合してなる重量平均分子量90万、ガラス転移温度−28℃の共重合体)からなるバインダーポリマー100重量部、エポキシ樹脂の混合物(液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(分子量約370、エポキシ当量180〜200g/eq)60重量部、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂(分子量約1,600、エポキシ当量800〜900g/eq)10重量部、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(分子量約1,500〜1,800、エポキシ当量210〜230g/eq)30重量部)からなる熱硬化性成分100重量部、熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤(ジシアンジアミド2.4重量部、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製、2PHZ)2.4重量部)、カーボンブラック(平均粒径28nm)10重量部、溶融石英フィラー(平均粒径8μm)288重量部、合成シリカフィラー(平均粒径0.5μm)32重量部および希釈剤からなる、保護膜形成用フィルムを形成するための配合物を用意した。
(Example 2)
Acrylic polymer (weight average molecular weight 900,000, glass transition temperature obtained by copolymerizing 55 parts by weight of butyl acrylate, 15 parts by weight of methyl methacrylate, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate and 10 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate) 100 parts by weight of a binder polymer comprising a copolymer at -28 ° C, a mixture of epoxy resins (liquid bisphenol A type epoxy resin (molecular weight about 370, epoxy equivalent 180 to 200 g / eq) 60 parts by weight, solid bisphenol A type epoxy resin (Molecular weight about 1,600, epoxy equivalent 800-900 g / eq) 10 parts by weight, o-cresol novolac type epoxy resin (molecular weight about 1,500-1,800, epoxy equivalent 210-230 g / eq) 30 parts by weight 100 parts by weight of thermosetting component, thermally active latent epoxy Fat curing agent (2.4 parts by weight of dicyandiamide, 2.4 parts by weight of 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., 2PHZ)), 10 parts by weight of carbon black (average particle size 28 nm), A formulation for forming a film for forming a protective film, comprising 288 parts by weight of fused silica filler (average particle size 8 μm), 32 parts by weight of synthetic silica filler (average particle size 0.5 μm), and a diluent was prepared.

上記の保護膜形成用フィルムを形成するための配合物を、剥離シートの剥離面上に塗布して、得られた塗膜を乾燥(温度100℃、1分間)して、厚さ20μmの保護膜形成用フィルムと剥離シートとの積層体を得た。
実施例1において製造した粘着シートの粘着剤層側の面に、上記の積層体の保護膜形成用フィルムの面を貼付して、保護膜形成用複合シートを得た。なお、保護膜形成用フィルムは6インチ半導体ウエハの形状に対応した形状であった。
The composition for forming the protective film-forming film is applied onto the release surface of the release sheet, and the resulting coating film is dried (temperature 100 ° C., 1 minute) to protect 20 μm in thickness. A laminate of the film forming film and the release sheet was obtained.
The protective film-forming composite sheet was obtained by pasting the protective film-forming film surface of the laminate on the adhesive layer-side surface of the adhesive sheet produced in Example 1. The protective film-forming film had a shape corresponding to the shape of a 6-inch semiconductor wafer.

(実施例3)
ストライプ原版に作製した溝の幅を0.5μmとした以外は実施例1と同様の製造方法により粘着シートを得た。
(Example 3)
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained by the same production method as in Example 1 except that the width of the groove produced in the stripe original plate was 0.5 μm.

(実施例4)
ストライプ原版に作製した溝の幅を5μmとした以外は実施例1と同様の製造方法により粘着シートを得た。
Example 4
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained by the same production method as in Example 1 except that the width of the groove produced in the stripe original plate was changed to 5 μm.

(実施例5)
ストライプ原版に作製した溝の間隔を0.4mmとした以外は実施例1と同様の製造方法により粘着シートを得た。
(Example 5)
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained by the same production method as in Example 1 except that the interval between the grooves produced on the stripe original plate was 0.4 mm.

(実施例6)
ストライプ原版に作製した溝の間隔を6.0mmとした以外は実施例1と同様の製造方法により粘着シートを得た。
(Example 6)
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained by the same production method as in Example 1 except that the interval between the grooves produced on the stripe original plate was 6.0 mm.

(実施例7)
原版に形成したパターンを格子模様とした以外は実施例1と同様の製造方法(すなわち、溝幅1μm、溝間隔は2mmであった。)により粘着シートを得た。
(Example 7)
An adhesive sheet was obtained by the same manufacturing method as in Example 1 (that is, the groove width was 1 μm and the groove interval was 2 mm) except that the pattern formed on the original plate was a lattice pattern.

(比較例1)
実施例1において、粘着シートの作製にあたり、ストライプ原版への粘着剤層の圧接を行わず、粘着シート第1主面に第1の凹凸面領域を形成しなかったこと以外は実施例1と同様の製造方法により粘着シートを得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, in producing the pressure-sensitive adhesive sheet, the pressure-sensitive adhesive layer was not pressed against the stripe original plate, and the first uneven surface area was not formed on the pressure-sensitive adhesive sheet first main surface. An adhesive sheet was obtained by the production method.

(試験例1)粘着シートの透過率測定
実施例1において製造した粘着シート(基材と粘着剤との積層体である。)をUV−visスペクトル検査装置(島津製作社製)を用いて532nmおよび1064nmのそれぞれの波長の透過率を測定した。
測定の結果、532nmの透過率は81%であって、1064nmの透過率は84%であった。
(Test Example 1) Measurement of transmittance of pressure-sensitive adhesive sheet The pressure-sensitive adhesive sheet produced in Example 1 (a laminate of a base material and a pressure-sensitive adhesive) was 532 nm using a UV-vis spectrum inspection apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation). And transmittance at respective wavelengths of 1064 nm.
As a result of the measurement, the transmittance at 532 nm was 81%, and the transmittance at 1064 nm was 84%.

(試験例2)ガス抜け性の評価
6インチ未研磨シリコンウエハを、研削装置(ディスコ社製、DFG−840)を用いて#2000で150μm厚とした半導体ウエハを用意した。
(Test Example 2) Evaluation of gas release properties A 6-inch unpolished silicon wafer was prepared by using a grinding machine (DFG-840, manufactured by Disco Corporation) to make a semiconductor wafer having a thickness of 150 μm by # 2000.

実施例1,3から7ならびに比較例1および2において製造した粘着シートのそれぞれについて、粘着剤層側の面を上記の半導体ウエハの研磨面に貼付した。
また、実施例2において製造した保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルム側の面に、上記の半導体ウエハの研磨面に貼付した。続いて、保護膜形成用複合シートを有するウエハを130℃で2時間加熱し、保護膜形成用複合シートが備える保護膜形成フィルムを硬化して、粘着シートと保護膜付ウエハとの積層体を得た。
For each of the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples 1 and 3 to 7 and Comparative Examples 1 and 2, the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side was attached to the polished surface of the semiconductor wafer.
Moreover, it stuck on the grinding | polishing surface of said semiconductor wafer to the surface at the side of the film for protective film formation of the composite sheet for protective film formation manufactured in Example 2. FIG. Subsequently, the wafer having the protective sheet-forming composite sheet is heated at 130 ° C. for 2 hours to cure the protective film-forming film included in the protective film-forming composite sheet, and the laminate of the adhesive sheet and the protective film-attached wafer is formed. Obtained.

こうして得られた、粘着シートおよび半導体ウエハを備えた積層体(実施例2に係る積層体はさらに保護層を備える。)における粘着シートの外周部を、リングフレームで固定した。次いで、YAGレーザーマーカー(日立建機ファインテック社製、LM5000、レーザー波長:532nm)を用いて、上記の積層体の粘着シート側からレーザー光を照射し、縦400μm、横200μmの文字をマーキングした。   The outer peripheral portion of the pressure-sensitive adhesive sheet in the thus obtained laminate including the pressure-sensitive adhesive sheet and the semiconductor wafer (the laminate according to Example 2 further includes a protective layer) was fixed with a ring frame. Next, using a YAG laser marker (manufactured by Hitachi Construction Machinery Finetech Co., Ltd., LM5000, laser wavelength: 532 nm), laser light was irradiated from the pressure-sensitive adhesive sheet side of the above laminate, and characters of 400 μm length and 200 μm width were marked. .

ウエハまたは保護膜付ウエハと粘着シートとの界面にレーザー照射により発生した汚染性物質に基づく汚染が生じているか否かを目視にて確認することにより、ガス抜け性を評価した。評価基準は次のとおりとした。
A:ガス滞留なし
B:ガス滞留少ない
C:ガス滞留多い
ガス抜け性の評価結果を表2に示す。
The gas release property was evaluated by visually confirming whether or not contamination based on the contaminating substance generated by laser irradiation occurred at the interface between the wafer or the wafer with the protective film and the adhesive sheet. The evaluation criteria were as follows.
A: No gas stagnation B: Gas stagnation is low C: Gas stagnation is high Table 2 shows the evaluation results of gas release properties.

(試験例3)視認性評価および残差物の有無の確認
試験例2においてレーザーマーキングを経た粘着シートおよび半導体ウエハを備えた積層体に対して、ダイシング装置(DISCO社製、DFD−651)を使用してダイシング加工を行い、半導体ウエハまたは保護膜付ウエハを8mm×8mmのチップサイズに個片化した。得られたチップまたは保護膜付チップが粘着シート上に配置された構造体に対して、ダイボンダー(キャノンマシナリー社製、BESTEM−D02)を用いてピックアップ工程を行い、マーキングチップまたはマーキング保護膜付チップを得た。これらのチップにおけるマーキングされた文字をCCDカメラにて、読み取りが可能か否かを確認することにより、視認性を評価した。また、チップおよび保護膜付チップのマーキングされた側の面を光学顕微鏡により倍率100倍で観察し、汚染性物質に基づく残渣物の有無を確認した。
(Test Example 3) Visibility evaluation and confirmation of presence / absence of residual matter A dicing apparatus (manufactured by DISCO, DFD-651) was applied to a laminate including a pressure-sensitive adhesive sheet and a semiconductor wafer subjected to laser marking in Test Example 2. Dicing processing was performed, and the semiconductor wafer or the wafer with the protective film was separated into chips of 8 mm × 8 mm. For the structure in which the obtained chip or chip with protective film is disposed on the adhesive sheet, a pick-up process is performed using a die bonder (BESTEM-D02, manufactured by Canon Machinery Co., Ltd.), and the chip with marking chip or marking protective film Got. Visibility was evaluated by checking whether or not the marked characters on these chips could be read with a CCD camera. In addition, the marked surface of the chip and the chip with the protective film was observed with an optical microscope at a magnification of 100 times to confirm the presence or absence of a residue based on the pollutant.

視認性の評価の基準は次のとおりとした。
A:観察対象とした全てのチップの文字について読み取りが可能であった
B:文字が読み取れないチップがあった
C:観察対象としたいずれのチップの文字も読み取り不可能であった
残差物の有無の確認の判断基準は次のとおりとした。
A:観察対象とした全てのチップについて残差物は認められない
B:観察対象としたチップに残差物が認められるものがある
C:観察対象としたチップの多くに残差物が認められる
視認性の評価および残渣物の有無の確認の結果を表2に示す。
The evaluation criteria for visibility were as follows.
A: The characters of all the chips to be observed could be read. B: There was a chip that could not read the characters. C: The characters of any chip to be observed could not be read. The criteria for the presence / absence confirmation were as follows.
A: No residue is observed for all the chips to be observed. B: Some chips have residuals observed. C: Many of the chips to be observed have residuals. Table 2 shows the results of the visibility evaluation and the confirmation of the presence or absence of residues.

Figure 2014189563
Figure 2014189563

Figure 2014189563
Figure 2014189563

表2から分かるように、本発明の条件を満たす実施例により製造されたチップや保護膜付チップはマーキングに汚染されにくく、汚染に起因する不具合が生じにくい。   As can be seen from Table 2, the chip manufactured according to the example satisfying the conditions of the present invention and the chip with the protective film are not easily contaminated by the markings, and defects caused by the contamination are less likely to occur.

本発明は、半導体ウエハなどのデバイス関連部材からマーキングチップ保護膜付チップを製造する際に使用される粘着シートや保護膜形成用フィルム、保護膜形成用複合シートを提供する手段として好適に用いられる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitably used as a means for providing a pressure-sensitive adhesive sheet, a protective film-forming film, and a protective film-forming composite sheet used when manufacturing a chip with a marking chip protective film from a device-related member such as a semiconductor wafer. .

1…粘着シート
1A…粘着シート1の粘着剤層3側の主面(粘着シート第1主面)
1a…第1の凹凸面領域
1b…粘着シート第1主面1Aにおける保護膜形成用フィルム4が積層される領域
1c…界面接着調整層5からなる面である領域
2…基材
2A…基材2の粘着剤層3に対向する主面(基材対向面)
3…粘着剤層
4…保護膜形成用フィルム
4A…保護膜形成用フィルム4の他方の主面(使用時に被加工部材Wに貼付される主面、第1のフィルム主面)
4B…保護膜形成用フィルム4の一方の主面(粘着シート1に近位な側の主面、第2のフィルム主面)
4a…第2の凹凸面領域
40…保護膜形成用フィルム積層体
41…剥離シート
42…剥離シート
5…界面接着調整層
6…治具接着層
10…保護膜形成用複合シート
10A…保護膜形成用複合シート10の保護膜形成用フィルム4側の主面
10b…保護膜形成用複合シート10の保護膜形成用フィルム4側の主面10Aの一部の領域であって、主面10Aの外周に近位な領域(治具接着層6が設けられる領域)
20…剥離シート
20A…剥離シート20の剥離面
100…保護膜形成用複合シート−剥離シート積層体(PR積層体)
W…被加工部材
WA…被加工部材Wの一の面
R…リングフレーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Adhesive sheet 1A ... Main surface by the side of the adhesive layer 3 of the adhesive sheet 1 (adhesive sheet 1st main surface)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a ... 1st uneven | corrugated surface area | region 1b ... Area | region 1c where the protective film formation film 4 in the adhesive sheet 1st main surface 1A is laminated | stacked ... Area | region 2 which is a surface which consists of the interface adhesion adjustment layer 5 ... Base material 2A ... Base material Main surface facing the adhesive layer 3 of 2 (substrate facing surface)
3 ... Adhesive layer 4 ... Protective film forming film 4A ... The other main surface of the protective film forming film 4 (main surface to be attached to the workpiece W during use, first film main surface)
4B: One main surface of the protective film-forming film 4 (main surface on the side proximal to the adhesive sheet 1, second film main surface)
4a ... second uneven surface area 40 ... protective film forming film laminate 41 ... release sheet 42 ... release sheet 5 ... interfacial adhesion adjusting layer 6 ... jig adhesive layer 10 ... protective film forming composite sheet 10A ... protective film formation Main surface 10b on the protective film forming film 4 side of the composite sheet 10 for the protective film ... A part of the main surface 10A on the protective film forming film 4 side of the composite sheet 10 for forming the protective film, and the outer periphery of the main surface 10A Region proximal to the region (region where the jig bonding layer 6 is provided)
20 ... release sheet 20A ... release surface 100 of release sheet 20 ... protective sheet-forming composite sheet-release sheet laminate (PR laminate)
W: Workpiece member WA: One surface R of the workpiece member W: Ring frame

Claims (14)

基材と、前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シートであって、
前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面は、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域を有し、
前記粘着シートの使用時には、レーザーマーキングの対象である被着体の一の面が、前記第1の凹凸面領域の一部または全部を覆うように前記粘着シート上に積層され、
前記被着体の一の面と前記第1の凹凸面領域とが対向するように配置された状態において、
前記第1の凹凸面領域の凹部のうち、前記被着体の一の面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記被着体の一の面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となること
を特徴とする粘着シート。
A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material,
The main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side has, as at least a partial region of the main surface, a first uneven surface area composed of an uneven surface,
When using the pressure-sensitive adhesive sheet, one surface of the adherend to be laser-marked is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet so as to cover a part or all of the first uneven surface area,
In a state where one surface of the adherend and the first uneven surface region are arranged to face each other,
Of the recesses in the first uneven surface area, at least a part of the recesses located in an area covered by one surface of the adherend does not contact the one surface of the adherend and the main surface A pressure-sensitive adhesive sheet, wherein a gap portion is defined, and the gap portion serves as a diffusion path for a pollutant generated during laser marking.
硬化して保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルムであって、
前記保護膜形成用フィルムの一方の主面は、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第2の凹凸面領域を有し、
前記第2の凹凸面領域はレーザー光によりマーキング可能とされ、
前記保護膜形成用フィルムの使用時には、基材と前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シートが、当該粘着シートの前記粘着剤層側の主面が前記第2の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムに積層され、
前記保護膜形成用フィルムの前記第2の凹凸面領域と前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面とが対向するように配置された状態において、
前記第2の凹凸面領域の凹部のうち、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となること
を特徴とする保護膜形成用フィルム。
A protective film-forming film that can be cured to form a protective film,
One main surface of the protective film-forming film has, as at least a partial region of the main surface, a second uneven surface region composed of an uneven surface,
The second uneven surface area can be marked with a laser beam,
At the time of use of the protective film-forming film, a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material is the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet. It is laminated on the protective film-forming film so as to cover a part or all of the second uneven surface area,
In a state where the second uneven surface region of the protective film-forming film and the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet are arranged to face each other,
Of the recesses in the second uneven surface area, at least part of the recesses located in the area covered by the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet is the main part on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet. A film for forming a protective film, wherein the main surface and a void are defined without contacting the surface, and the void serves as a diffusion path for a pollutant generated during laser marking.
前記第2の凹凸面領域は平面視で前記保護膜形成用フィルムの外周に接する部分を有する、請求項2に記載の保護膜形成用フィルム。   The said 2nd uneven | corrugated surface area | region is a film for protective film formation of Claim 2 which has a part which touches the outer periphery of the said film for protective film formation by planar view. 基材と、前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備え、その前記粘着剤層側の主面が、当該主面の少なくとも一部の領域として、凹凸面からなる第1の凹凸面領域を有する粘着シート、および
硬化して保護膜を形成可能な保護膜形成用フィルムを備えた保護膜形成用複合シートであって、
前記保護膜形成用フィルムの一方の主面が前記第1の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着シートに積層されてなり、
前記第1の凹凸面領域の凹部のうち、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記保護膜形成用フィルムの一方の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となること
を特徴とする保護膜形成用複合シート。
A base material, and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material, wherein the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side is an uneven surface as at least a partial region of the main surface. A protective film-forming composite sheet comprising a pressure-sensitive adhesive sheet having an uneven surface area of 1 and a protective film-forming film that can be cured to form a protective film,
The protective film-forming film is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet so that one main surface of the protective film-forming film covers part or all of the first uneven surface area,
Of the recesses in the first uneven surface region, at least part of the recesses located in the region covered with one main surface of the protective film forming film is on one main surface of the protective film forming film. A composite sheet for forming a protective film, wherein the main surface and a void are defined without contact, and the void serves as a diffusion path for a pollutant generated during laser marking.
基材と前記基材の一方の主面に積層された粘着剤層とを備えた粘着シート、および請求項2または3に記載される保護膜形成用フィルムを備えた保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面が前記第2の凹凸面領域の一部または全部を覆うように、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着シートに積層されてなり、
前記第2の凹凸面領域の凹部のうち、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に覆われた領域に位置する凹部の少なくとも一部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面に接触せず当該主面と空隙部を画成し、前記空隙部はレーザーマーキングの際に生成する汚染性物質の拡散経路となること
を特徴とする保護膜形成用複合シート。
A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one main surface of the base material, and a protective film-forming composite sheet comprising the protective film-forming film according to claim 2 or 3. There,
The protective film-forming film is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet so that the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet covers part or all of the second uneven surface area,
Of the recesses in the second uneven surface area, at least part of the recesses located in the area covered by the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet is the main part on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet. A composite sheet for forming a protective film, wherein the main surface and a void are defined without contacting the surface, and the void serves as a diffusion path for a pollutant generated during laser marking.
前記粘着シートは請求項1に記載される粘着シートであって、前記第1の凹凸面領域は、その少なくとも一部が前記第2の凹凸面領域に対向するように位置する、請求項5に記載の保護膜形成用複合シート。   The pressure-sensitive adhesive sheet is the pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the first uneven surface area is positioned so that at least a part thereof faces the second uneven surface area. The composite sheet for protective film formation of description. 前記空隙部のうち、平面視で、前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における使用時に被加工部材に貼付される領域である加工領域に位置する域内空隙部は、少なくとも一部が、平面視で、前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における前記加工領域以外の領域である非加工領域に位置する域外空隙部に連通している、請求項4から6のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   Among the gaps, in a plan view, the inner gap located in a processing area that is an area that is affixed to a workpiece when used on the main surface on the distal side of the base material of the composite sheet for forming a protective film Is communicated with an outside void portion located in a non-working region that is a region other than the working region on the main surface distal to the base material of the composite sheet for forming a protective film in a plan view. The composite sheet for forming a protective film according to any one of claims 4 to 6. 前記域外空隙部は、前記空隙部を開放系とする開口部を有し、前記開口部の周縁部は、前記粘着シートの前記粘着剤層側の主面、前記粘着シートの前記粘着剤層の側面および前記保護膜形成用フィルムの側面の少なくとも1つに位置する、請求項7に記載の保護膜形成用複合シート。   The outer space portion has an opening portion with the space portion as an open system, and the peripheral edge portion of the opening portion is a main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side, and the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet. The composite sheet for forming a protective film according to claim 7, which is located on at least one of a side surface and a side surface of the protective film-forming film. 前記保護膜形成用複合シートの前記基材に遠位な側の主面における使用時に被加工部材に貼付される領域以外の領域に積層された、治具接着層をさらに備える、請求項5から8のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   The jig further comprises a jig adhesion layer laminated in a region other than a region to be pasted on a workpiece when the main surface of the protective film-forming composite sheet is distal to the base material. The composite sheet for protective film formation according to any one of 8. 前記治具接着層の前記粘着シートに近位な主面は、少なくとも一領域において、前記粘着シートの主面に貼着する、請求項9に記載の保護膜形成用複合シート。   10. The composite sheet for forming a protective film according to claim 9, wherein a main surface of the jig adhesive layer that is proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet is attached to the main surface of the pressure-sensitive adhesive sheet in at least one region. 前記治具接着層の前記粘着シートに近位な主面は、少なくとも一領域において、前記保護膜形成用フィルムの主面に貼着する、請求項9または10に記載の保護膜形成用複合シート。   11. The composite sheet for forming a protective film according to claim 9, wherein a main surface of the jig adhesive layer that is proximal to the pressure-sensitive adhesive sheet is attached to the main surface of the protective film-forming film in at least one region. . リングフレームに張設された請求項1に記載される粘着シートの前記粘着剤層側の主面が、被加工部材の一の面に貼付された積層状態において、
前記粘着シート側からレーザー光を照射し、前記被加工部材の一の面にマーキングすることを特徴とするマーキング方法。
In the laminated state in which the main surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1 stretched on the ring frame is affixed to one surface of the workpiece,
A marking method comprising irradiating a laser beam from the pressure-sensitive adhesive sheet side to mark one surface of the workpiece.
リングフレームに張設された請求項4から11のいずれか一項に記載される保護膜形成用複合シートが備える前記保護膜形成用フィルムの一方の主面が、被加工部材の一の面に貼付された積層状態において、
前記保護膜形成用複合シート側からレーザー光を照射し、前記保護膜形成用フィルムの他方の主面にマーキングすること
を特徴とするマーキング方法。
One main surface of the film for forming a protective film provided in the composite sheet for forming a protective film according to any one of claims 4 to 11 stretched on a ring frame is formed on one surface of a workpiece. In the affixed laminated state,
A marking method comprising irradiating a laser beam from the protective film-forming composite sheet side and marking the other main surface of the protective film-forming film.
リングフレームに張設された請求項4から11のいずれか一項に記載される保護膜形成用複合シートが備える前記保護膜形成用フィルムを硬化して保護膜とすることにより得られる保護膜含有複合シートにおける、前記保護膜の一方の主面が、被加工部材の一の面に固着している積層状態において、
前記保護膜形成用複合シート側からレーザー光を照射し、前記保護膜の他方の主面にマーキングすること
を特徴とするマーキング方法。
The protective film containing obtained by hardening | curing the said film for protective film formation with which the composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 4-11 stretched by the ring frame is equipped. In the composite sheet, in the laminated state where one main surface of the protective film is fixed to one surface of the workpiece,
A marking method comprising irradiating a laser beam from the protective film-forming composite sheet side and marking the other main surface of the protective film.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017149890A1 (en) * 2016-03-04 2017-09-08 リンテック株式会社 Protective film-forming composite sheet
KR20170114688A (en) * 2016-04-06 2017-10-16 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
KR20170116902A (en) * 2016-04-12 2017-10-20 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
JP2018081954A (en) * 2016-11-14 2018-05-24 日東電工株式会社 Sheet, tape, and method of manufacturing semiconductor device
WO2019203021A1 (en) * 2018-04-18 2019-10-24 リンテック株式会社 Workpiece processing sheet
JP6854983B1 (en) * 2019-04-26 2021-04-07 リンテック株式会社 A method for manufacturing a third laminated body, a method for manufacturing a fourth laminated body, a method for manufacturing a semiconductor device with a back surface protective film, and a third laminated body.
KR20210095079A (en) * 2020-01-21 2021-07-30 다싱 차이리아오 구펀요우시엔공쓰 Laser-debondable composition, laminate thereof, and laser-debonding method
JP2021109406A (en) * 2020-01-14 2021-08-02 日本カーバイド工業株式会社 Laminate and adhesive composition
JP7436097B2 (en) 2019-11-14 2024-02-21 リンテック株式会社 adhesive film

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006140348A (en) * 2004-11-12 2006-06-01 Lintec Corp Marking method and sheet used both for protective film formation and for dicing
JP2006192478A (en) * 2005-01-14 2006-07-27 Nitto Denko Corp Method for producing laser beam-machined product, and protective sheet for laser beam machining
JP2006203251A (en) * 2004-10-07 2006-08-03 Showa Denko Kk Production method for semiconductor device
JP2006294938A (en) * 2005-04-12 2006-10-26 Disco Abrasive Syst Ltd Rupturing method for adhesive film
JP2009154188A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Olympus Corp Laser machining method, laser machining tool, laser machining device
JP2010199541A (en) * 2009-01-30 2010-09-09 Nitto Denko Corp Dicing tape-integrated wafer back surface protective film
JP2011200884A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd Cutting machine, slitter provided with the same and method for cutting film
US20110291300A1 (en) * 2009-02-12 2011-12-01 Takashi Hirano Dicing sheet-attached film for forming semiconductor protection film, method for producing semiconductor device using the same, and semiconductor device
JP2012169441A (en) * 2011-02-14 2012-09-06 Lintec Corp Adhesive sheet for wafer processing, marking method using that sheet and manufacturing method of marking chip

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006203251A (en) * 2004-10-07 2006-08-03 Showa Denko Kk Production method for semiconductor device
JP2006140348A (en) * 2004-11-12 2006-06-01 Lintec Corp Marking method and sheet used both for protective film formation and for dicing
JP2006192478A (en) * 2005-01-14 2006-07-27 Nitto Denko Corp Method for producing laser beam-machined product, and protective sheet for laser beam machining
JP2006294938A (en) * 2005-04-12 2006-10-26 Disco Abrasive Syst Ltd Rupturing method for adhesive film
JP2009154188A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Olympus Corp Laser machining method, laser machining tool, laser machining device
JP2010199541A (en) * 2009-01-30 2010-09-09 Nitto Denko Corp Dicing tape-integrated wafer back surface protective film
US20110291300A1 (en) * 2009-02-12 2011-12-01 Takashi Hirano Dicing sheet-attached film for forming semiconductor protection film, method for producing semiconductor device using the same, and semiconductor device
JP2011200884A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd Cutting machine, slitter provided with the same and method for cutting film
JP2012169441A (en) * 2011-02-14 2012-09-06 Lintec Corp Adhesive sheet for wafer processing, marking method using that sheet and manufacturing method of marking chip

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017149890A1 (en) * 2016-03-04 2017-09-08 リンテック株式会社 Protective film-forming composite sheet
KR20170114688A (en) * 2016-04-06 2017-10-16 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
KR102046529B1 (en) * 2016-04-06 2019-11-19 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
KR102046532B1 (en) * 2016-04-12 2019-12-02 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
KR20170116902A (en) * 2016-04-12 2017-10-20 주식회사 엘지화학 Multilayer laser marking film and method for manufacturing the same
JP2018081954A (en) * 2016-11-14 2018-05-24 日東電工株式会社 Sheet, tape, and method of manufacturing semiconductor device
JPWO2019203021A1 (en) * 2018-04-18 2021-06-10 リンテック株式会社 Work sheet
WO2019203021A1 (en) * 2018-04-18 2019-10-24 リンテック株式会社 Workpiece processing sheet
JP7325403B2 (en) 2018-04-18 2023-08-14 リンテック株式会社 Work processing sheet
JP6854983B1 (en) * 2019-04-26 2021-04-07 リンテック株式会社 A method for manufacturing a third laminated body, a method for manufacturing a fourth laminated body, a method for manufacturing a semiconductor device with a back surface protective film, and a third laminated body.
JP7436097B2 (en) 2019-11-14 2024-02-21 リンテック株式会社 adhesive film
JP2021109406A (en) * 2020-01-14 2021-08-02 日本カーバイド工業株式会社 Laminate and adhesive composition
JP7339165B2 (en) 2020-01-14 2023-09-05 日本カーバイド工業株式会社 Laminate and adhesive composition
KR20210095079A (en) * 2020-01-21 2021-07-30 다싱 차이리아오 구펀요우시엔공쓰 Laser-debondable composition, laminate thereof, and laser-debonding method
JP2021116416A (en) * 2020-01-21 2021-08-10 達興材料股▲ふん▼有限公司 Composition releasable by laser, laminate of the same, and release method by laser
JP7133047B2 (en) 2020-01-21 2022-09-07 達興材料股▲ふん▼有限公司 LASER RELEASEABLE COMPOSITION, LAYER THEREOF, AND LASER RELEASE METHOD
KR102537045B1 (en) 2020-01-21 2023-05-26 다싱 차이리아오 구펀요우시엔공쓰 Laser-debondable composition, laminate thereof, and laser-debonding method
US11794381B2 (en) 2020-01-21 2023-10-24 Daxin Materials Corporation Laser-debondable composition, laminate thereof, and laser-debonding method

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