JP2014177093A - Release film for production of green sheet and method of producing release film for production of green sheet - Google Patents

Release film for production of green sheet and method of producing release film for production of green sheet Download PDF

Info

Publication number
JP2014177093A
JP2014177093A JP2013054208A JP2013054208A JP2014177093A JP 2014177093 A JP2014177093 A JP 2014177093A JP 2013054208 A JP2013054208 A JP 2013054208A JP 2013054208 A JP2013054208 A JP 2013054208A JP 2014177093 A JP2014177093 A JP 2014177093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
layer
smoothing layer
release agent
release film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013054208A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6033134B2 (en
Inventor
Tomomi Fukaya
知巳 深谷
Shinya Ichikawa
慎也 市川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2013054208A priority Critical patent/JP6033134B2/en
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to KR1020157027459A priority patent/KR102037128B1/en
Priority to MYPI2015703183A priority patent/MY172241A/en
Priority to CN201380074564.3A priority patent/CN105189068B/en
Priority to SG11201507461SA priority patent/SG11201507461SA/en
Priority to PCT/JP2013/085198 priority patent/WO2014141570A1/en
Priority to TW103108758A priority patent/TWI551457B/en
Publication of JP2014177093A publication Critical patent/JP2014177093A/en
Priority to PH12015502151A priority patent/PH12015502151B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6033134B2 publication Critical patent/JP6033134B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B1/00Producing shaped prefabricated articles from the material
    • B28B1/30Producing shaped prefabricated articles from the material by applying the material on to a core or other moulding surface to form a layer thereon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/16Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/38Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538Roughness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/748Releasability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/16Capacitors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release film for production of green sheet which prevents occurrence of pinholes in the surface of a green sheet and enables production of a green sheet with high reliability.SOLUTION: A release film for production of a green sheet is used in production of a green sheet and includes a substrate having a first surface and a second surface, a smoothing layer formed on the first surface and a release agent layer formed on the surface of the smoothing layer opposite to the substrate. The smoothing layer is formed by heating a composition for formation of the smoothing layer containing a heat curable compound of an average molecular weight of 950 or smaller to harden the heat curable compound. The outer surface of the release agent layer has an arithmetic average roughness Raof 8 nm and a maximum protrusion height Rpof 50 nm or smaller.

Description

本発明は、グリーンシート製造用剥離フィルムおよびグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a release film for producing a green sheet and a method for producing a release film for producing a green sheet.

セラミックコンデンサーの製造において、グリーンシートを形成するためにグリーンシート製造用剥離フィルムが用いられている。   In the production of ceramic capacitors, a release film for producing a green sheet is used to form a green sheet.

グリーンシート製造用剥離フィルムは、一般に基材と剥離剤層とから構成される。グリーンシートは、このようなグリーンシート製造用剥離フィルム上に、セラミックス粒子とバインダー樹脂とを有機溶媒に分散、溶解させたセラミックスラリーを塗工して乾燥することで製造される。また、製造されたグリーンシートは、グリーンシート製造用剥離フィルムから剥離して、セラミックコンデンサーの製造に用いられる。   The release film for producing a green sheet is generally composed of a base material and a release agent layer. The green sheet is manufactured by applying and drying a ceramic slurry in which ceramic particles and a binder resin are dispersed and dissolved in an organic solvent on such a release film for manufacturing a green sheet. Moreover, the manufactured green sheet peels from the peeling film for green sheet manufacture, and is used for manufacture of a ceramic capacitor.

従来のグリーンシート製造用剥離フィルムを用いたグリーンシートの製造においては、グリーンシート製造用剥離フィルムの表面の凹凸がグリーンシートに転写されることで、グリーンシートの表面にピンホールが生じる等の問題があった。その結果、このようなグリーンシートを積層して製造されたセラミックコンデンサーにおいては、短絡による不具合が発生するという問題が生じていた。かかる問題を解決するために、グリーンシート製造用剥離フィルムの表面(キャスト面)には、非常に高い平滑性が求められている。   In the production of a green sheet using a conventional release film for producing a green sheet, problems such as the occurrence of pinholes on the surface of the green sheet due to the surface irregularities of the release film for producing a green sheet being transferred to the green sheet was there. As a result, the ceramic capacitor manufactured by laminating such green sheets has a problem that a malfunction due to a short circuit occurs. In order to solve such a problem, the surface (cast surface) of the release film for producing a green sheet is required to have very high smoothness.

そこで、表面が平滑なグリーンシート製造用剥離フィルムを製造する方法として、表面に微細な凹凸がある基材シートの一方の表面に、熱硬化樹脂液を塗布して、加熱、硬化させことにより形成された熱硬化樹脂層を設け、さらに剥離剤を塗布して剥離剤層を形成した剥離フィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, as a method for producing a release film for producing a green sheet with a smooth surface, it is formed by applying a thermosetting resin liquid to one surface of a substrate sheet with fine irregularities on the surface, and heating and curing it. There has been proposed a release film in which a thermosetting resin layer is provided and a release agent is further applied to form a release agent layer (see, for example, Patent Document 1).

また、近年のセラミックコンデンサーの小型化、高密度化に伴って、グリーンシートのさらなる薄膜化が求められている。しかしながら、従来のグリーンシート製造用剥離フィルムでは、薄いグリーンシートを製造しようとすると、グリーンシートの表面にピンホール等が生じてしまい、信頼性の高いグリーンシートを得るのが困難であった。   In addition, with the recent reduction in size and density of ceramic capacitors, further reduction in the thickness of green sheets has been demanded. However, in the conventional release film for producing a green sheet, if a thin green sheet is to be produced, a pinhole or the like is generated on the surface of the green sheet, and it is difficult to obtain a reliable green sheet.

特開2007−069360号公報JP 2007-069360 A

本発明の目的は、グリーンシートの表面にピンホールや部分的な厚みのばらつき等が発生するのを防止し、信頼性の高いグリーンシートを製造することが可能なグリーンシート製造用剥離フィルムを提供すること、また、グリーンシートの表面にピンホールや部分的な厚みのばらつき等が生じるのを防止することができるグリーンシート製造用剥離フィルムを製造する製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a release film for producing a green sheet that can prevent the occurrence of pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet and can produce a highly reliable green sheet. It is another object of the present invention to provide a production method for producing a release film for producing a green sheet capable of preventing the occurrence of pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet.

このような目的は、下記(1)〜(7)の本発明により達成される。
(1) グリーンシートの製造に用いられるグリーンシート製造用剥離フィルムであって、
第1の面と第2の面とを有する基材と、
前記基材の前記第1の面側に設けられた平滑化層と、
前記平滑化層の前記基材と反対の面側に設けられた剥離剤層とを有し、
前記平滑化層は、質量平均分子量が950以下の熱硬化性化合物を含む平滑化層形成用組成物を加熱して硬化させることにより形成されており、
前記剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記剥離剤層の外表面の最大突起高さRpが50nm以下であることを特徴とするグリーンシート製造用剥離フィルム。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (7) below.
(1) A release film for producing a green sheet used for producing a green sheet,
A substrate having a first surface and a second surface;
A smoothing layer provided on the first surface side of the substrate;
A release agent layer provided on the surface side opposite to the base material of the smoothing layer,
The smoothing layer is formed by heating and curing a composition for forming a smoothing layer containing a thermosetting compound having a mass average molecular weight of 950 or less,
The arithmetic average roughness Ra 1 of the outer surface of the release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer is 50 nm or less. Release film.

(2) 前記第1の面の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、前記第1の面の最大突起高さRpが80〜1000nmである上記(1)に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 (2) the arithmetic mean roughness Ra 2 of the first surface is 10 to 200 nm, and green according to the maximum projection height Rp 2 of the first surface is 80~1000Nm (1) Release film for sheet production.

(3) 前記平滑化層の平均膜厚が、0.2〜10μmである上記(1)または(2)に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。   (3) The release film for producing a green sheet according to (1) or (2), wherein an average film thickness of the smoothing layer is 0.2 to 10 μm.

(4) 前記熱硬化性化合物は、ビスフェノール型エポキシ化合物である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。   (4) The release film for producing a green sheet according to any one of (1) to (3), wherein the thermosetting compound is a bisphenol type epoxy compound.

(5) 前記平滑化層の前記基材と反対の面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記平滑化層の前記基材と反対の面の最大突起高さRpが50nm以下である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 (5) The arithmetic average roughness of the substrate opposite to the surface of the smoothing layer Ra 4 is a 8nm or less, and the maximum protrusion height of the substrate opposite to the surface of the smoothing layer Rp 4 is The release film for producing a green sheet according to any one of the above (1) to (4), which is 50 nm or less.

(6) 前記第2の面の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、前記第2の面の最大突起高さRpが80〜1000nmである上記(1)ないし(5)のいずれかに記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 (6) the second arithmetic mean roughness Ra 3 of the surface is 10 to 200 nm, and said second maximum projection height Rp 3 the surfaces to be above (1) to 80~1000Nm (5) A release film for producing a green sheet according to any one of the above.

(7) 上記(1)ないし(6)のいずれかに記載のグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法であって、
前記第1の面と前記第2の面とを有する前記基材を準備する基材準備工程と、
質量平均分子量950以下の前記熱硬化性化合物を含む前記平滑化層形成用組成物を、前記基材の前記第1の面側に塗布することにより塗布層を形成する塗布層形成工程と、
前記塗布層を加熱して硬化させることにより、前記平滑化層を形成する平滑化層形成工程と、
前記平滑化層の前記基材と反対の面側に、前記剥離剤層を形成する剥離剤層形成工程とを有し、
前記剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記剥離剤層の外表面の最大突起高さRpが50nm以下であることを特徴とするグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法。
(7) A method for producing a release film for producing a green sheet according to any one of (1) to (6) above,
A base material preparing step of preparing the base material having the first surface and the second surface;
A coating layer forming step of forming a coating layer by coating the smoothing layer forming composition containing the thermosetting compound having a mass average molecular weight of 950 or less on the first surface side of the substrate;
A smoothing layer forming step of forming the smoothing layer by heating and curing the coating layer;
A release agent layer forming step of forming the release agent layer on the surface side of the smoothing layer opposite to the substrate;
The arithmetic average roughness Ra 1 of the outer surface of the release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer is 50 nm or less. A method for producing a release film.

本発明によれば、グリーンシートの表面にピンホールや部分的な厚みのばらつき等が発生するのを防止し、信頼性の高いグリーンシートを製造することが可能なグリーンシート製造用剥離フィルムを提供することができる。特に、グリーンシート製造用剥離フィルムを構成する基材として、表面粗さの比較的大きい基材を用いた場合であっても、外表面の平滑性に優れたグリーンシート製造用剥離フィルムを提供することができる。このグリーンシート製造用剥離フィルムを用いれば、グリーンシートの表面にピンホールや部分的な厚みのばらつき等が生じるのを防ぐことができる。その結果、グリーンシートを積層してコンデンサを作製したときに、短絡による不具合が発生するのを防ぐことができる。また、本発明によれば、表面の平滑性に優れたグリーンシートを製造することができるグリーンシート製造用剥離フィルムを、容易かつ確実に製造することができる。   According to the present invention, there is provided a release film for producing a green sheet that can prevent the occurrence of pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet and can produce a highly reliable green sheet. can do. In particular, even when a substrate having a relatively large surface roughness is used as a substrate constituting the release film for producing a green sheet, a release film for producing a green sheet having excellent outer surface smoothness is provided. be able to. If this release film for producing a green sheet is used, pinholes, partial thickness variations and the like can be prevented from occurring on the surface of the green sheet. As a result, when a capacitor is produced by laminating green sheets, it is possible to prevent a problem due to a short circuit from occurring. Moreover, according to this invention, the peeling film for green sheet manufacture which can manufacture the green sheet excellent in the smoothness of the surface can be manufactured easily and reliably.

本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムの横断面図である。It is a cross-sectional view of a release film for producing a green sheet of the present invention.

以下、本発明を好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
〈〈グリーンシート製造用剥離フィルム〉〉
本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムは、グリーンシートの製造に用いられるものである。そして、製造されたグリーンシートは、例えば、セラミックコンデンサー等の製造に用いられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments.
<Peeling film for manufacturing green sheets>
The release film for producing a green sheet of the present invention is used for producing a green sheet. And the manufactured green sheet is used for manufacture of a ceramic capacitor etc., for example.

図1は、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムの横断面図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a release film for producing a green sheet of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

図1に示すように、グリーンシート製造用剥離フィルム1は、第1の面111と第2の面112とを有する基材11と、基材11の第1の面111上に設けられた平滑化層12と、平滑化層12の基材と反対の面121(以下、「第3の面121」ということもある。)側に設けられた剥離剤層13を有している。すなわち、グリーンシート製造用剥離フィルム1は、図1に示すように、基材11と、平滑化層12と剥離剤層13とがこの順に互いに接合するように積層された三層構造をなすものである。   As shown in FIG. 1, the release film 1 for producing a green sheet includes a base material 11 having a first surface 111 and a second surface 112, and a smooth surface provided on the first surface 111 of the base material 11. And a release agent layer 13 provided on the side of the surface 121 opposite to the base material of the smoothing layer 12 (hereinafter also referred to as “third surface 121”). That is, as shown in FIG. 1, the release film 1 for producing a green sheet has a three-layer structure in which a base material 11, a smoothing layer 12, and a release agent layer 13 are laminated so as to be joined to each other in this order. It is.

なお、本明細書において、グリーンシート製造用剥離フィルムを用いてグリーンシートを製造する場合には、グリーンシートは、例えば、剥離剤層13の外表面131上に溶解したセラミックスラリーを塗工することで形成される。   In addition, in this specification, when manufacturing a green sheet using the release film for manufacturing a green sheet, the green sheet is applied with, for example, a ceramic slurry dissolved on the outer surface 131 of the release agent layer 13. Formed with.

本発明において、グリーンシート製造用剥離フィルムは、基材と剥離剤層との間に平滑化層を有するものである。そして、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムは、平滑化層が、所定の質量平均分子量が950以下の熱硬化性化合物を含む平滑化層形成用組成物を加熱して硬化されることにより形成されており、剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、剥離剤層の外表面の最大突起高さRpが50nm以下である点に特徴を有している。 In the present invention, the release film for producing a green sheet has a smoothing layer between the substrate and the release agent layer. And the peeling film for green sheet manufacture of this invention is formed when a smoothing layer is heated and hardened | cured the composition for smoothing layer formation containing the thermosetting compound whose predetermined | prescribed mass mean molecular weight is 950 or less. The arithmetic average roughness Ra 1 of the outer surface of the release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer is 50 nm or less. Yes.

このような特徴を有することにより、剥離剤層の外表面の平滑性に優れ、剥離性に優れたグリーンシート製造用剥離フィルムを得ることができる。このグリーンシート製造用剥離フィルムを用いてグリーンシートを製造すれば、グリーンシートの表面にピンホールや部分的な厚みのばらつき等が発生するのを防止し、信頼性の高いグリーンシートを製造することができる。その結果、グリーンシートを積層してコンデンサを作製したときに、短絡による不具合が発生するのを防ぐことができる。   By having such characteristics, it is possible to obtain a release film for producing a green sheet that is excellent in smoothness of the outer surface of the release agent layer and excellent in peelability. If a green sheet is manufactured using this green sheet manufacturing release film, pinholes and partial thickness variations are prevented from occurring on the surface of the green sheet, and a highly reliable green sheet is manufactured. Can do. As a result, when a capacitor is produced by laminating green sheets, it is possible to prevent a problem due to a short circuit from occurring.

ところで、基材として用いられるフィルムには、多様な表面粗さを有するものがあり、安価なフィルムほど表面粗さが比較的粗い傾向がある。このような表面粗さが比較的粗い基材を用いてグリーンシート製造用剥離フィルムを形成する場合であっても、基材の表面に、前記のような特徴を有する平滑化層を設けることで、基材の凹凸を的確に埋め込むことができる。その結果、平滑化層の基材と反対の面を平滑にすることができる。これにより、平滑化層の上に形成された剥離剤層の外表面に、基材の凹凸が影響してしまうのを防ぐことができ、剥離剤層の外表面の平滑性に優れたグリーンシート製造用剥離フィルムを得ることができる。   By the way, some films used as a substrate have various surface roughnesses, and the cheaper the film, the more likely the surface roughness is relatively rough. Even when a release film for producing a green sheet is formed using a substrate having such a relatively rough surface, a smoothing layer having the above-described characteristics can be provided on the surface of the substrate. The unevenness of the substrate can be embedded accurately. As a result, the surface of the smoothing layer opposite to the substrate can be smoothed. Thereby, it is possible to prevent the unevenness of the base material from affecting the outer surface of the release agent layer formed on the smoothing layer, and the green sheet having excellent smoothness of the outer surface of the release agent layer A release film for production can be obtained.

以下、本実施形態に係るグリーンシート製造用剥離フィルム1を構成する各層について順次説明する。   Hereinafter, each layer which comprises the peeling film 1 for green sheet manufacture which concerns on this embodiment is demonstrated one by one.

<基材11>
基材11は、グリーンシート製造用剥離フィルム1(以下、単に「剥離フィルム1」ということもある。)に、剛性、柔軟性等の物理的強度を付与する機能を有している。
<Substrate 11>
The base material 11 has a function of imparting physical strength such as rigidity and flexibility to the release film 1 for producing a green sheet (hereinafter sometimes simply referred to as “release film 1”).

基材11は、図1に示すように、第1の面111と第2の面112とを有する。
基材11を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂などのポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂やポリメチルペンテン樹脂などのポリオレフィン樹脂、ポリカーボネートなどのプラスチックからなるフィルムが挙げられ、単層フィルムであってもよいし、同種または異種の2層以上の多層フィルムであってもよい。これらの中でも特に、ポリエステルフィルムであるのが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであるのがより好ましく、更には二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。特に、ポリエステルフィルムは、その加工時や使用時等において、埃等が発生しにくいものである。そのため、例えば、ポリエステル樹脂を用いて製造した剥離フィルム1を使用して、グリーンシートを製造する場合に、埃等によるセラミックスラリー塗工不良等を効果的に防止することができる。その結果、ピンホール等がより少ないグリーンシートを製造することができる。
As shown in FIG. 1, the base material 11 has a first surface 111 and a second surface 112.
The material constituting the substrate 11 is not particularly limited, and examples thereof include polyester resins such as polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin and polyethylene naphthalate resin, polyolefin resins such as polypropylene resin and polymethylpentene resin, and polycarbonate. Examples thereof include a film made of plastic, and it may be a single layer film or a multilayer film of two or more layers of the same kind or different kinds. Among these, a polyester film is preferable, a polyethylene terephthalate film is more preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable. In particular, the polyester film is less prone to dust and the like during its processing and use. Therefore, for example, when a green sheet is manufactured using the release film 1 manufactured using a polyester resin, it is possible to effectively prevent a ceramic slurry coating failure due to dust or the like. As a result, a green sheet with fewer pinholes and the like can be manufactured.

また、基材11には、前記のような材料に加え、フィラー等を含有させてもよい。フィラーとしては、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、酸化アルミニウム等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。このようなフィラーを含むことにより、基材11の機械的強度を付与すると共に、表裏面の滑り性が向上し、ブロッキングを抑制することができる。   In addition to the above materials, the base material 11 may contain a filler or the like. Examples of the filler include silica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, aluminum oxide, and the like, and one or more of these can be used in combination. By including such a filler, the mechanical strength of the base material 11 can be imparted, the slipperiness of the front and back surfaces can be improved, and blocking can be suppressed.

また、基材11は、第1の面111の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、その最大突起高さRpが80〜1000nmであるのが好ましい。 In addition, the base material 11 preferably has an arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface 111 of 10 to 200 nm and a maximum protrusion height Rp 2 of 80 to 1000 nm.

特に、第1の面111の算術平均粗さRaは、15〜100nmであるのがより好ましく、第1の面111の算術平均粗さRaは、20〜50nmであるのがさらに好ましい。また、第1の面111の最大突起高さRpが90〜800nmであるのがより好ましく、第1の面111の最大突起高さRpが100〜600nmであるのがさらに好ましい。 In particular, the arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface 111, more preferably from 15 to 100 nm, the arithmetic mean roughness Ra 2 of the first surface 111, more preferably, it is 20 to 50 nm. The maximum projection height Rp 2 of the first surface 111 is more preferably from 90~800Nm, maximum projection height Rp 2 of the first surface 111 a and even more preferably 100-600 nm.

第1の面111の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRpが前記範囲内であると、後述する平滑化層12の膜厚が比較的薄いものであっても、基材11の第1の面111の凹凸をより好適に埋め込むことができ、平滑化層12の基材11と反対の面121をより平滑にすることができる。その結果、平滑化層12上に形成された剥離剤層13の外表面131に、基材11の第1の面111の凹凸が影響するのをさらに好適に防ぐことができる。 When the arithmetic average roughness Ra 2 and the maximum protrusion height Rp 2 of the first surface 111 are within the above ranges, even if the smoothing layer 12 described later has a relatively thin film thickness, The unevenness of the first surface 111 can be embedded more suitably, and the surface 121 opposite to the substrate 11 of the smoothing layer 12 can be made smoother. As a result, it is possible to more suitably prevent the unevenness of the first surface 111 of the substrate 11 from affecting the outer surface 131 of the release agent layer 13 formed on the smoothing layer 12.

また、第1の面111の算術平均粗さRa、および、その最大突起高さRpが前記範囲内である基材11は、比較的安価であるうえに入手が容易である。 In addition, the base 11 having the arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface 111 and the maximum protrusion height Rp 2 within the above range is relatively inexpensive and easily available.

また、第1の面111の算術平均粗さRaが前記上限値を超えると、平滑化層形成用組成物の構成材料等によっては、第1の面111の凹凸を十分に埋めることが困難であるため、剥離剤層13の膜厚を比較的厚くする必要が生じる場合がある。 Further, when the arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface 111 exceeds the upper limit value, it is difficult to sufficiently fill the unevenness of the first surface 111 depending on the constituent material of the smoothing layer forming composition. Therefore, it may be necessary to make the release agent layer 13 relatively thick.

なお、本明細書では、基材11の第1の面111の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRpは、JIS B0601−1994に準拠してミツトヨ社製表面粗さ測定機SV3000S4(触針式)により測定して求められる値である。そして、本明細書では、特に断りのない限り、「算術平均粗さおよび最大突起高さ」とは、前記のようにして測定して得られる値のことを指す。 In the present specification, the arithmetic average roughness Ra 2 and the maximum protrusion height Rp 2 of the first surface 111 of the base material 11 are in accordance with JIS B0601-1994, a surface roughness measuring instrument SV3000S4 (Mitutoyo Co., Ltd.). It is a value obtained by measurement by a stylus type). In the present specification, unless otherwise specified, the “arithmetic average roughness and maximum protrusion height” refer to values obtained by measurement as described above.

また、基材11は、第2の面112の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、その最大突起高さRpが80〜1000nmであるのが好ましい。特に、第2の面112の算術平均粗さRaが15〜100nmであるのがより好ましく、第2の面112の算術平均粗さRaが20〜50nmであるのがさらに好ましい。また、第2の面112の最大突起高さRpが90〜800nmであるのがより好ましく、第2の面112の最大突起高さRpが100〜600nmであるのがさらに好ましい。 Further, the substrate 11 is the arithmetic mean roughness Ra 3 of the second surface 112 is 10 to 200 nm, and the maximum projection height Rp 3 is preferably a 80~1000Nm. In particular, the arithmetic mean roughness Ra 3 of the second surface 112 is more preferably from 15 to 100 nm, the arithmetic mean roughness Ra 3 of the second surface 112 is an even more preferred 20 to 50 nm. The maximum projection height Rp 3 of the second surface 112 is more preferably from 90~800Nm, maximum projection height Rp 3 of the second surface 112 is an even more preferred 100-600 nm.

第2の面112の算術平均粗さRa、および、その最大突起高さRpが前記範囲内であると、剥離フィルム1をロール状に巻き取る際に、巻きずれ等が生じるのを好適に防ぐことができ、また、ロール状に巻き取って保管した際に、ブロッキングが発生することを防止することができる。具体的には、剥離フィルム1は、必要に応じて、紙製、プラスチック製または金属製等のコア材にロール状に巻き取り、保管することができる。この際に、第2の面112の算術平均粗さRa、および、その最大突起高さRpが前記範囲内であると、剥離フィルム1をロール状に巻き取る際に、空気抜けが良好になり、巻きずれを効果的に抑制することができる。そのため、剥離フィルム1を巻き取る際に、巻き取り張力を高める必要が無く、巻き取り張力に起因する巻き芯部の変形を抑制することが可能となる。また、ロール状の剥離フィルム1における第2の面112の算術平均粗さRa、および、その最大突起高さRpが前記範囲内であると、剥離剤層13と基材11の第2の面112とが密着することで生じるブロッキングの発生をより効果的に防止することができる。そのため、ロール状の剥離フィルム1の繰り出しを、容易に行うことができる。 When the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface 112 and the maximum protrusion height Rp 3 are within the above ranges, it is preferable that winding deviation or the like occurs when the release film 1 is wound into a roll shape. In addition, it is possible to prevent the occurrence of blocking when winding and storing in a roll shape. Specifically, the release film 1 can be wound and stored in a roll shape around a core material such as paper, plastic, or metal as necessary. At this time, when the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface 112 and the maximum protrusion height Rp 3 are within the above ranges, air release is good when the release film 1 is wound into a roll shape. Thus, winding deviation can be effectively suppressed. Therefore, when winding the release film 1, it is not necessary to increase the winding tension, and it is possible to suppress the deformation of the winding core portion caused by the winding tension. In addition, when the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface 112 and the maximum protrusion height Rp 3 in the roll-shaped release film 1 are within the above ranges, the release agent layer 13 and the second base material 11 The occurrence of blocking caused by the close contact with the surface 112 can be more effectively prevented. Therefore, the roll-shaped release film 1 can be easily fed out.

これに対して、第2の面112の算術平均粗さRaが前記下限値未満であると、ロール状に巻き取る際に、剥離フィルム1の表裏(基材11の第2の面112と剥離剤層13の外表面131)でブロッキングが発生しやすくなるおそれがある。 On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface 112 is less than the lower limit value, when winding up into a roll shape, the front and back of the release film 1 (with the second surface 112 of the base material 11 and There is a possibility that blocking is likely to occur on the outer surface 131) of the release agent layer 13.

また、基材11の平均膜厚は、特に限定されないが、10〜300μmであるのが好ましく、15〜200μmであるのがより好ましい。これにより、剥離フィルム1の柔軟性を適度なものとしつつ、引裂きや破断等に対する耐性を特に優れたものとすることができる。   Moreover, although the average film thickness of the base material 11 is not specifically limited, It is preferable that it is 10-300 micrometers, and it is more preferable that it is 15-200 micrometers. Thereby, while making the softness | flexibility of the peeling film 1 moderate, the tolerance with respect to tearing, a fracture | rupture, etc. can be made especially excellent.

<平滑化層12>
平滑化層12は、剥離剤層13の外表面131に対する、基材11の第1の面111の凹凸の影響を低減する機能を有している。
<Smoothing layer 12>
The smoothing layer 12 has a function of reducing the influence of the unevenness of the first surface 111 of the substrate 11 on the outer surface 131 of the release agent layer 13.

図1に示すように、平滑化層12は基材11の第1の面111上に設けられている。
平滑化層12は、所定の熱硬化性化合物を含む平滑化層形成用組成物で構成されたものである。また、平滑化層12は、加熱して硬化させることにより形成される。
As shown in FIG. 1, the smoothing layer 12 is provided on the first surface 111 of the substrate 11.
The smoothing layer 12 is composed of a smoothing layer forming composition containing a predetermined thermosetting compound. The smoothing layer 12 is formed by heating and curing.

かかる平滑化層形成用組成物は、前述したように、質量平均分子量が950以下の熱硬化性化合物を含むものである。特に、質量平均分子量が300〜700の熱硬化性化合物を含むものが好ましい。これにより、基材11の第1の面111に塗布して加熱する前の平滑化層形成用組成物の粘度を適度なものとすることができ、平滑化層形成用組成物は、適度な流動性を有するものとなる。このような平滑化層形成用組成物を用いて、基材11の第1の面111側に平滑化層12を形成することで、基材11の第1の面111の凹凸を好適に埋め込むことができる。その結果、平滑化層12の第3の面121に対して、基材11の凹凸が影響するのを防ぐことができ、平滑化層12の第3の面121を平滑にすることができる。したがって、平滑化層12上に形成された剥離剤層13の外表面131に対して、基材11の凹凸が影響してしまうのを防ぐことができ、剥離剤層13の外表面131を平滑にすることができる。   As described above, the smoothing layer-forming composition contains a thermosetting compound having a mass average molecular weight of 950 or less. In particular, those containing a thermosetting compound having a mass average molecular weight of 300 to 700 are preferable. Thereby, the viscosity of the composition for smoothing layer formation before apply | coating to the 1st surface 111 of the base material 11 and heating can be made moderate, and the composition for smoothing layer formation is moderate. It will have fluidity. By using such a composition for forming a smoothing layer, the smoothing layer 12 is formed on the first surface 111 side of the base material 11 so that the unevenness of the first surface 111 of the base material 11 is suitably embedded. be able to. As a result, it is possible to prevent the unevenness of the base material 11 from affecting the third surface 121 of the smoothing layer 12 and to smooth the third surface 121 of the smoothing layer 12. Therefore, it is possible to prevent the unevenness of the base material 11 from affecting the outer surface 131 of the release agent layer 13 formed on the smoothing layer 12, and to smooth the outer surface 131 of the release agent layer 13. Can be.

特に、基材11の第1の面111の表面の凹凸が比較的大きいものであっても、前記のような平滑化層形成用組成物の作用、効果により、第1の面111の凹凸を好適に埋め込むことができるため、剥離剤層13の外表面131の平滑性に優れた剥離フィルム1を得ることができる。   In particular, even if the unevenness of the surface of the first surface 111 of the substrate 11 is relatively large, the unevenness of the first surface 111 is reduced by the action and effect of the smoothing layer forming composition as described above. Since it can be embedded suitably, the release film 1 excellent in the smoothness of the outer surface 131 of the release agent layer 13 can be obtained.

これに対して、熱硬化性化合物の質量平均分子量が前記上限値を超えると、平滑化層形成用組成物の流動性が低下してしまい、平滑化層12が基材11の第1の面111の凹凸に沿って形成されてしまうおそれがある。その結果、平滑化層12の第3の面121は、基材11の第1の面の凹凸に追従した形状となってしまう可能性がある。   On the other hand, when the mass average molecular weight of the thermosetting compound exceeds the upper limit, the fluidity of the composition for forming a smoothing layer is lowered, and the smoothing layer 12 is the first surface of the substrate 11. There is a risk of forming along the irregularities 111. As a result, the third surface 121 of the smoothing layer 12 may have a shape that follows the unevenness of the first surface of the substrate 11.

また、質量平均分子量が前記範囲内の熱硬化性化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシエステル化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、およびビスフェノールF型エポキシエステル化合物などのビスフェノール型エポキシ化合物、メラミン化合物、および尿素化合物などのアミノ化合物などの他、イソシアネート化合物、オキサゾリン化合物、ウレタン化合物、アクリル化合物、フェノール化合物、アルキド化合物、ポリエステル化合物などが挙げられる。これらの中でも特に、ビスフェノール型エポキシ化合物であるのが好ましく、ビスフェノールA型エポキシエステル化合物であるのがより好ましい。これにより、基材11の第1の面111の表面の凹凸をより容易かつ確実に埋めることができるとともに、膜厚が比較的薄い平滑化層12であっても硬化性を特に優れたものとすることができる。   Examples of the thermosetting compound having a mass average molecular weight within the above range include bisphenol type epoxy compounds such as bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol A type epoxy ester compounds, bisphenol F type epoxy compounds, and bisphenol F type epoxy ester compounds. In addition to amino compounds such as compounds, melamine compounds, and urea compounds, isocyanate compounds, oxazoline compounds, urethane compounds, acrylic compounds, phenol compounds, alkyd compounds, polyester compounds, and the like can be given. Among these, a bisphenol type epoxy compound is particularly preferable, and a bisphenol A type epoxy ester compound is more preferable. Thereby, the unevenness of the surface of the first surface 111 of the substrate 11 can be filled more easily and reliably, and the curability is particularly excellent even with the smoothing layer 12 having a relatively thin film thickness. can do.

また、平滑化層形成用組成物は、質量平均分子量が前記範囲内の熱硬化性化合物を含むものであるが、必要に応じて、溶媒を含むものであってもよい。これにより、基材11の第1の面111に塗布する際の平滑化層形成用組成物の粘度を容易に調整することができる。   Moreover, although the composition for smoothing layer formation contains the thermosetting compound in which the mass mean molecular weight is the said range, it may contain a solvent as needed. Thereby, the viscosity of the composition for smoothing layer formation at the time of apply | coating to the 1st surface 111 of the base material 11 can be adjusted easily.

溶媒としては、例えば、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチルや酢酸ブチルなどの脂肪酸エステル、メチルエチルケトンやメチルイソブチルケトンなどのケトン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素等の有機溶媒等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これにより、平滑化層形成用組成物の、基材11の第1の面111に塗布して加熱する前の粘度を適度なものにすることが容易となる。   Examples of the solvent include organic solvents such as aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, fatty acid esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. 1 type or 2 types or more of them can be used in combination. Thereby, it becomes easy to make the viscosity before apply | coating to the 1st surface 111 of the base material 11 and heating the composition for smoothing layer formation moderate.

なお、平滑化層形成用組成物は、前途したような成分に加え、その他の成分が含まれていてもよい。その他の成分としては、触媒、染料、分散剤、帯電防止剤、硬化剤等が挙げられる。また、前記その他の成分を含む場合には、平滑化層形成用組成物中(固形分換算)における前記その他の成分の含有率は、0.1〜10質量%であることが好ましい。   In addition, the composition for smoothing layer formation may contain the other component in addition to the component which was ahead. Examples of other components include a catalyst, a dye, a dispersant, an antistatic agent, and a curing agent. Moreover, when the said other component is included, it is preferable that the content rate of the said other component in the composition for smoothing layer formation (solid content conversion) is 0.1-10 mass%.

また、溶媒を含む平滑化層形成用組成物中における、熱硬化性化合物の含有率は、特に限定されないが、0.5〜60質量%が好ましく、1〜45質量%がより好ましい。これにより、平滑化層形成用組成物の粘度を適当なものにすることが容易となる。   Moreover, the content rate of the thermosetting compound in the composition for smoothing layer formation containing a solvent is although it does not specifically limit, 0.5-60 mass% is preferable and 1-45 mass% is more preferable. Thereby, it becomes easy to make the viscosity of the composition for smoothing layer formation suitable.

また、平滑化層形成用組成物中(固形分換算)における、熱硬化性化合物の含有率は、特に限定されないが、90質量%以上が好ましく、95質量%以上がより好ましい。これにより、平滑化層形成用組成物の硬化性を特に優れたものとすることができる。   Moreover, the content rate of the thermosetting compound in the composition for smoothing layer formation (solid content conversion) is although it does not specifically limit, 90 mass% or more is preferable and 95 mass% or more is more preferable. Thereby, the sclerosis | hardenability of the composition for smoothing layer formation can be made especially excellent.

また、平滑化層12の第3の面121の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、その最大突起高さRpが50nm以下であることが好ましい。特に、第3の面121の算術平均粗さRaが6nm以下であるのが好ましい。また、第3の面121の最大突起高さRpが、40nm以下であることが好ましい。 Also, arithmetic mean roughness of the third surface 121 of the smoothing layer 12 Ra 4 is a 8nm or less, and preferably has a maximum projection height Rp 4 is 50nm or less. Particularly, preferred arithmetic average roughness Ra 4 of the third surface 121 that is 6nm or less. In addition, it is preferable that the maximum protrusion height Rp 4 of the third surface 121 is 40 nm or less.

第3の面121の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRpが前記範囲内であると、剥離剤層13の外表面131に対する、基材11の表面の凹凸の影響をより好適に防ぐことができる。 When the arithmetic average roughness Ra 4 and the maximum protrusion height Rp 4 of the third surface 121 are within the above ranges, the influence of the unevenness of the surface of the base material 11 on the outer surface 131 of the release agent layer 13 is more preferably applied. Can be prevented.

これに対し、第3の面121の算術平均粗さRaが前記下限値未満であると、平滑化層12の構成材料等によっては、剥離剤層13との密着性が低下する可能性がある。一方、第3の面121の算術平均粗さRaが前記上限値を超えると、剥離剤層13と平滑化層12との間に、さらに新たな平滑化層を設ける必要が生じる場合がある。 On the other hand, if the arithmetic average roughness Ra 4 of the third surface 121 is less than the lower limit value, the adhesiveness to the release agent layer 13 may be lowered depending on the constituent material of the smoothing layer 12 and the like. is there. On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra 4 of the third surface 121 exceeds the upper limit, it may be necessary to provide a new smoothing layer between the release agent layer 13 and the smoothing layer 12. .

また、第3の面121の最大突起高さRpが前記下限値未満であると、剥離剤層13との密着性を向上させるために、平滑化層12の第3の面121上に、密着性を向上させるための処理を施す必要が生じる場合がある。一方、第3の面121の最大突起高さRpが前記上限値を超えると、剥離剤層13と平滑化層12との間に、さらに新たな平滑化層を設ける必要が生じる場合がある。 Further, if the maximum protrusion height Rp 4 of the third surface 121 is less than the lower limit value, in order to improve the adhesion with the release agent layer 13, on the third surface 121 of the smoothing layer 12, In some cases, it is necessary to perform a treatment for improving the adhesion. On the other hand, if the maximum protrusion height Rp 4 of the third surface 121 exceeds the upper limit, it may be necessary to provide a new smoothing layer between the release agent layer 13 and the smoothing layer 12. .

また、平滑化層12の平均膜厚は、特に限定されないが、0.2〜10μmであるのが好ましく、0.3〜5μmであるのがより好ましい。これにより、基材11の第1の面111の凹凸をより的確に埋め込むことができ、剥離フィルム1の外表面の平滑性をより高いものとすることができる。また、平滑化層12の柔軟性を適度なものとすることができる。   Moreover, the average film thickness of the smoothing layer 12 is not specifically limited, However, It is preferable that it is 0.2-10 micrometers, and it is more preferable that it is 0.3-5 micrometers. Thereby, the unevenness | corrugation of the 1st surface 111 of the base material 11 can be embedded more correctly, and the smoothness of the outer surface of the peeling film 1 can be made higher. Moreover, the softness | flexibility of the smoothing layer 12 can be made moderate.

これに対して、平滑化層12の平均膜厚が前記下限値未満であると、平滑化層形成用組成物を構成する成分等によっては、基材11の第1の面111の凹凸を十分に埋め込むために、第1の面111の表面粗さが比較的小さいものを用いる必要が生じる場合がある。また、平滑化層12の平均膜厚が前記上限値を超えると、平滑化層形成用組成物を構成する成分等によっては、平滑化層12の硬化収縮により剥離フィルム1にカールが発生し易くなり、剥離フィルム1の取扱性が低下する場合がある。   On the other hand, if the average film thickness of the smoothing layer 12 is less than the lower limit value, the unevenness of the first surface 111 of the substrate 11 may be sufficient depending on the components constituting the smoothing layer forming composition. Therefore, it may be necessary to use the first surface 111 having a relatively small surface roughness. Moreover, when the average film thickness of the smoothing layer 12 exceeds the above upper limit, depending on the components constituting the composition for forming the smoothing layer, curling of the release film 1 is likely to occur due to curing shrinkage of the smoothing layer 12. Therefore, the handleability of the release film 1 may be reduced.

<剥離剤層13>
剥離剤層13は、剥離フィルム1に剥離性を付与する機能を有している。
<Release layer 13>
The release agent layer 13 has a function of imparting peelability to the release film 1.

剥離剤層13は、図1に示すように、平滑化層12の第3の面121側に設けられている。   As shown in FIG. 1, the release agent layer 13 is provided on the third surface 121 side of the smoothing layer 12.

剥離剤層13は、平滑化層12の第3の面121に剥離剤層形成用組成物を塗布し、乾燥、硬化することにより形成された層である。
かかる剥離剤層形成用組成物は、剥離剤を含むものである。
The release agent layer 13 is a layer formed by applying a release agent layer forming composition to the third surface 121 of the smoothing layer 12, drying and curing.
Such a composition for forming a release agent layer contains a release agent.

剥離剤としては、アルキド系化合物、アクリル系化合物、シリコーン系化合物、長鎖アルキル基含有化合物、フッ素化合物等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、アルキド系化合物、アクリル系化合物、シリコーン系化合物、長鎖アルキル基含有化合物を用いるのが好ましい。これにより、適度な硬化性を有しつつ、グリーンシートに対する剥離性が特に優れた剥離剤層13を得ることができる。   Examples of the release agent include alkyd compounds, acrylic compounds, silicone compounds, long-chain alkyl group-containing compounds, fluorine compounds, and the like, and one or more of these can be used in combination. Among these, it is preferable to use an alkyd compound, an acrylic compound, a silicone compound, or a long-chain alkyl group-containing compound. As a result, it is possible to obtain the release agent layer 13 that has an appropriate curability and is particularly excellent in the peelability to the green sheet.

アルキド系化合物としては、具体例には、長鎖アルキル変性アルキド化合物、シリコーン変性アルキド化合物等の変性物等を用いることができる。また、アルキド系化合物を用いる場合には、剥離剤層形成用組成物には、さらに架橋剤や触媒を添加し、加熱硬化させる方法により、架橋構造を有するアルキド系化合物を有する剥離剤層13を得ることができる。   Specific examples of alkyd compounds include modified products such as long-chain alkyl-modified alkyd compounds and silicone-modified alkyd compounds. When an alkyd compound is used, a release agent layer 13 having an alkyd compound having a crosslinked structure is added to the release agent layer forming composition by a method in which a crosslinking agent or a catalyst is further added and cured. Can be obtained.

また、アクリル系化合物としては、具体例には、長鎖アルキル変性アクリル化合物、シリコーン変性アクリル化合物等の変性物等を用いることができる。また、剥離剤層形成用組成物がアクリル系化合物を含むものである場合には、剥離剤層形成用組成物には、さらに架橋剤や触媒を添加し、加熱硬化させる方法により、架橋構造を有するアクリル系化合物を有する剥離剤層13を得ることができる。   In addition, as the acrylic compound, for example, a modified product such as a long-chain alkyl-modified acrylic compound or a silicone-modified acrylic compound can be used. In addition, when the release agent layer forming composition contains an acrylic compound, the release agent layer forming composition is further added with a crosslinking agent or a catalyst, and then heated and cured to form an acrylic resin having a crosslinked structure. Thus, the release agent layer 13 having a system compound can be obtained.

また、シリコーン系化合物としては、具体例には、基本骨格としてジメチルポリシロキサンを有するシリコーン系化合物等を用いることができる。シリコーン系化合物としては、付加反応型、縮合反応型、紫外線硬化型、電子線硬化型等がある。付加反応型シリコーン系化合物は、反応性が高く生産性に優れ、縮合反応型と比較すると、製造後の剥離力の変化が小さい、硬化収縮が無い等のメリットがあるため、剥離剤層13を構成する剥離剤として使用することが好ましい。   Moreover, as a silicone type compound, the silicone type compound etc. which have a dimethylpolysiloxane as a basic skeleton can be used for a specific example. Examples of the silicone compound include an addition reaction type, a condensation reaction type, an ultraviolet curable type, and an electron beam curable type. The addition reaction type silicone compound has high reactivity and excellent productivity, and has advantages such as little change in peel force after production and no cure shrinkage compared to the condensation reaction type. It is preferable to use it as a constituent release agent.

上記付加反応型シリコーン系化合物の具体例としては、分子の末端および/または側鎖に、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜10のアルケニル基を2個以上備えたオルガノポリシロキサンが挙げられる。このような付加反応型シリコーン系化合物を用いる際には、架橋剤および触媒を併用することが好ましい。   As a specific example of the above addition reaction type silicone compound, two or more alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, hexenyl group and the like are provided at the terminal and / or side chain of the molecule. Organopolysiloxane is mentioned. When such an addition reaction type silicone compound is used, it is preferable to use a crosslinking agent and a catalyst in combination.

上記架橋剤としては、例えば1分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン、具体的には、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ポリ(ハイドロジェンシルセスキオキサン)等が挙げられる。   Examples of the crosslinking agent include, for example, organopolysiloxane having hydrogen atoms bonded to at least two silicon atoms in one molecule, specifically, a dimethylhydrogensiloxy group end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer. , Trimethylsiloxy group end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group end-capped methylhydrogenpolysiloxane, poly (hydrogensilsesquioxane), and the like.

また、上記触媒としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム等の白金属系化合物等が挙げられる。このような触媒を用いることにより、剥離剤層形成用組成物の硬化反応をより効率よく進行させることができる。   Examples of the catalyst include finely divided platinum, finely divided platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, white metal compounds such as palladium and rhodium, etc. Is mentioned. By using such a catalyst, the curing reaction of the composition for forming a release agent layer can be advanced more efficiently.

また、長鎖アルキル系化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール系重合体に炭素数8〜30の長鎖アルキルイソシアネートを反応させて得られたポリビニルカーバメートや、ポリエチレンイミンに炭素数8〜30の長鎖アルキルイソシアネートを反応させて得られたアルキル尿素誘導体などが用いられる。   Examples of the long chain alkyl compound include polyvinyl carbamate obtained by reacting a polyvinyl alcohol polymer with a long chain alkyl isocyanate having 8 to 30 carbon atoms, or polyethyleneimine and a long chain having 8 to 30 carbon atoms. An alkyl urea derivative obtained by reacting an alkyl isocyanate is used.

また、フッ素化合物としては、具体例には、フッ素シリコーン化合物、フッ素ボロン化合物等を用いることができる。   Moreover, as a fluorine compound, a fluorine silicone compound, a fluorine boron compound, etc. can be used for a specific example.

また、剥離剤層形成用組成物には、前述した剥離剤の他に、分散媒、溶媒が含まれていてもよい。分散媒および溶媒のうちの少なくとも一方を含むことにより、平滑化層12の第3の面121に塗布して乾燥させる前の、剥離剤層形成用組成物の粘度を適度なものとすることができる。   Further, the release agent layer forming composition may contain a dispersion medium and a solvent in addition to the release agent described above. By including at least one of the dispersion medium and the solvent, the viscosity of the composition for forming the release agent layer before applying to the third surface 121 of the smoothing layer 12 and drying can be made appropriate. it can.

分散媒または溶媒としては、例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチルなどの脂肪酸エステル、メチルエチルケトンなどのケトン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素等の有機溶媒が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the dispersion medium or solvent include aromatic solvents such as toluene, fatty acid esters such as ethyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, and organic solvents such as aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. Species or a combination of two or more can be used.

なお、剥離剤層形成用組成物には、前述したような成分に加え、その他の成分が含まれていてもよい。その他の成分としては、例えば、触媒、染料、分散剤、帯電防止剤、硬化剤等が挙げられる。また、前記その他の成分を含む場合には、剥離剤層形成用組成物における前記その他の成分の含有率は、0.1〜10質量%であることが好ましい。   In addition to the components as described above, the release agent layer forming composition may contain other components. Examples of other components include a catalyst, a dye, a dispersant, an antistatic agent, and a curing agent. Moreover, when the said other component is included, it is preferable that the content rate of the said other component in the composition for peeling agent layer forming is 0.1-10 mass%.

また、前述したように、剥離剤層13の外表面131は、算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、その最大突起高さRpが50nm以下である。特に、剥離剤層13の外表面131の算術平均粗さRaが6nm以下であるのが好ましい。また、剥離剤層13の外表面131の最大突起高さRpが40nm以下であることが好ましい。 As described above, the outer surface 131 of the release agent layer 13 has an arithmetic average roughness Ra 1 of 8 nm or less, and a maximum protrusion height Rp 1 of 50 nm or less. In particular, the arithmetic mean roughness Ra 1 of the outer surface 131 of the release agent layer 13 is preferably 6 nm or less. In addition, the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface 131 of the release agent layer 13 is preferably 40 nm or less.

剥離剤層13の外表面131の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRpが前記範囲内であると、グリーンシートを形成する際に、外表面131の比較的高平滑な面形状がグリーンシートに転写されることにより、グリーンシートの表面にピンホール等が発生するのをより好適に防ぐことができる。その結果、表面がより高平滑なグリーンシートを得ることができる。 When the arithmetic average roughness Ra 1 and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface 131 of the release agent layer 13 are within the above ranges, a relatively high smooth surface shape of the outer surface 131 is formed when the green sheet is formed. By being transferred to the green sheet, pinholes and the like can be more suitably prevented from occurring on the surface of the green sheet. As a result, a green sheet having a higher smooth surface can be obtained.

また、剥離剤層13は、平均膜厚が、0.01〜3μmであるのが好ましく、0.03〜1μmであるのがより好ましい。剥離剤層13の厚さが0.01μm未満であると、剥離剤層13を構成する材料等によっては、剥離剤層としての機能が十分に発揮されない場合がある。一方、剥離剤層13の厚さが3μmを超えると、剥離フィルム1をロール状に巻き取った際に、ブロッキングが発生し易いために、巻き取り不良が生じたり、巻き出し時の帯電性が高くなる等の問題が起こる場合がある。   Further, the release agent layer 13 preferably has an average film thickness of 0.01 to 3 μm, and more preferably 0.03 to 1 μm. If the thickness of the release agent layer 13 is less than 0.01 μm, the function as the release agent layer may not be sufficiently exhibited depending on the material constituting the release agent layer 13 or the like. On the other hand, when the thickness of the release agent layer 13 exceeds 3 μm, blocking tends to occur when the release film 1 is wound up in a roll shape. Problems such as highs may occur.

〈〈グリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法〉〉
次に、前述したようなグリーンシート製造用剥離フィルム1の製造方法の好適な実施形態について説明する。
<Method for producing release film for producing green sheet>
Next, a preferred embodiment of the method for producing the release film 1 for producing a green sheet as described above will be described.

本実施形態の剥離フィルム1の製造方法は、基材11を準備する基材準備工程と、所定の熱硬化性化合物を含む平滑化層形成用組成物を塗布して乾燥させることで塗布層を形成する塗布層形成工程と、塗布層を、加熱して硬化させることにより平滑化層12を形成する平滑化層形成工程と、平滑化層12の前記基材11と反対の面121側に、剥離剤層13を形成する剥離剤層形成工程とを有している。   The manufacturing method of the peeling film 1 of this embodiment is a base material preparation process which prepares the base material 11, and apply | coats an application layer by apply | coating and drying the composition for smoothing layer formation containing a predetermined thermosetting compound. On the surface 121 side of the smoothing layer 12 opposite to the substrate 11, the coating layer forming step to be formed, the smoothing layer forming step of forming the smoothing layer 12 by heating and curing the coating layer, A release agent layer forming step for forming the release agent layer 13.

以下、各工程について詳細に説明する。
<基材準備工程>
まず、基材11を準備する。
基材11としては、前述したような構成の基材11を用いることができる。
Hereinafter, each step will be described in detail.
<Base material preparation process>
First, the base material 11 is prepared.
As the base material 11, the base material 11 having the configuration described above can be used.

また、基材11の第1の面111に、酸化法などによる表面処理、あるいはプライマー処理を施すことができる。これにより、基材11と、基材11の第1の面111側に設けられる平滑化層12との密着性を特に優れたものとすることができる。   Further, the first surface 111 of the substrate 11 can be subjected to a surface treatment such as an oxidation method or a primer treatment. Thereby, the adhesiveness of the base material 11 and the smoothing layer 12 provided in the 1st surface 111 side of the base material 11 can be made especially excellent.

酸化法などによる表面処理としては、基材11の種類等に応じて適宜選択すればよいが、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理等が挙げられる。これらの中でも特に、平滑化層12との密着性に優れ、処理の操作が簡便である点から、コロナ放電処理を用いることがより好ましい。   The surface treatment by the oxidation method or the like may be appropriately selected according to the type of the substrate 11 and the like. For example, corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromium oxidation treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone treatment And ultraviolet irradiation treatment. Among these, it is more preferable to use a corona discharge treatment because it has excellent adhesion to the smoothing layer 12 and the treatment operation is simple.

<塗布層形成工程>
本工程では、まず、平滑化層形成用組成物を準備する。
<Coating layer formation process>
In this step, first, a smoothing layer forming composition is prepared.

平滑化層形成用組成物としては、前述したような熱硬化性化合物を単独で用いてもよいし、これに加え、必要に応じて前述したような溶媒やその他の成分を混合したものを用いてもよい。   As the composition for forming a smoothing layer, the thermosetting compound as described above may be used alone, or in addition to this, a mixture of a solvent and other components as described above may be used as necessary. May be.

次いで、基材11の第1の面111上に、液状をなす平滑化層形成用組成物を塗布する。これにより、塗布層を得る。前述したように、平滑化層形成用組成物は、適度な流動性を有するものであるため、基材11の第1の面111上に平滑化層形成用組成物を塗布して、乾燥することにより、基材11の第1の面111の凹凸を的確に埋め込み、外表面が平滑な塗布層を得ることができる。   Next, a liquid smoothing layer forming composition is applied onto the first surface 111 of the substrate 11. Thereby, a coating layer is obtained. As described above, since the smoothing layer-forming composition has an appropriate fluidity, the smoothing layer-forming composition is applied onto the first surface 111 of the substrate 11 and dried. Thereby, the unevenness | corrugation of the 1st surface 111 of the base material 11 can be filled exactly, and the coating layer with a smooth outer surface can be obtained.

平滑化層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ゲートロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。これらの中でも特に、グラビアコート法、バーコート法であるのがより好ましく、バーコート法であるのがさらに好ましい。これにより、目的とする厚さの塗布層を容易に形成することができる。   Examples of the method for applying the smoothing layer forming composition include a gravure coating method, a bar coating method, a spray coating method, a spin coating method, an air knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a gate roll coating method, Examples include a die coating method. Among these, the gravure coating method and the bar coating method are more preferable, and the bar coating method is more preferable. Thereby, the coating layer of the target thickness can be formed easily.

<平滑化層形成工程>
次に、塗布層形成工程により得られた塗布層を、加熱して硬化させることにより平滑化層12を形成する。
<Smoothing layer forming step>
Next, the smoothing layer 12 is formed by heating and hardening the coating layer obtained by the coating layer formation process.

本工程において、前記塗布層形成工程にて、基材11の第1の面111の凹凸を的確に埋め込んだ塗布層を、その外表面の平滑性を保持したまま硬化する。その結果、第3の面121が十分に平滑な平滑化層12を得ることができる。これにより、剥離剤層13の外表面131に対する、基材11の第1の面111の凹凸の影響をさらに好適に防ぐことができる。したがって、後述する剥離剤層形成工程において、剥離剤層13の外表面131の平滑性を優れたものとすることができる。   In this step, the coating layer in which the unevenness of the first surface 111 of the substrate 11 is appropriately embedded in the coating layer forming step is cured while maintaining the smoothness of the outer surface. As a result, the smoothing layer 12 having a sufficiently smooth third surface 121 can be obtained. Thereby, the influence of the unevenness | corrugation of the 1st surface 111 of the base material 11 with respect to the outer surface 131 of the releasing agent layer 13 can be prevented more suitably. Therefore, the smoothness of the outer surface 131 of the release agent layer 13 can be made excellent in the release agent layer forming step described later.

加熱方法としては、特に限定されないが、例えば、熱風乾燥炉などで加熱する方法等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a heating method, For example, the method etc. which heat with a hot air drying furnace etc. are mentioned.

また、加熱条件としては、特に限定されないが、加熱温度は、80〜150℃であるのが好ましく、加熱時間は5秒間〜1分間であるのが好ましい。これにより、平滑化層12の不本意な変質を防ぐことができるとともに、平滑化層12を特に効率よく形成することができる。その結果、最終的に得られる剥離フィルム1の生産性を向上させることができる。また、加熱温度が前記範囲のものであると、平滑化層形成用組成物が溶媒等を含むものである場合に、加熱時の溶媒等の蒸発を伴う、平滑化層12の反りやひび等の発生を特に防ぐことができる。   Moreover, it does not specifically limit as heating conditions, However, It is preferable that heating temperature is 80-150 degreeC, and it is preferable that heating time is 5 second-1 minute. Thereby, unintentional alteration of the smoothing layer 12 can be prevented, and the smoothing layer 12 can be formed particularly efficiently. As a result, productivity of the finally obtained release film 1 can be improved. Further, when the heating temperature is within the above range, when the smoothing layer forming composition contains a solvent or the like, warping or cracking of the smoothing layer 12 accompanied by evaporation of the solvent or the like during heating occurs. Can be especially prevented.

<剥離剤層形成工程>
次に、平滑化層12の基材11と反対の面121側に、剥離剤層13を形成する。
<Release agent layer forming step>
Next, the release agent layer 13 is formed on the surface 121 side of the smoothing layer 12 opposite to the substrate 11.

剥離剤層13を構成する剥離剤層形成用組成物として、前述したような材料を混合したものを用意する。   As the release agent layer forming composition constituting the release agent layer 13, a mixture of materials as described above is prepared.

次いで、平滑化層12の基材11と反対の面121上に、液状をなす剥離剤層形成用組成物を塗布した後、乾燥、硬化することで、剥離剤層13を得る。   Subsequently, after apply | coating the liquid release agent layer forming composition on the surface 121 opposite to the base material 11 of the smoothing layer 12, the release agent layer 13 is obtained by drying and hardening.

乾燥方法としては、特に限定されないが、例えば、熱風乾燥炉等を用いた乾燥方法が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a drying method, For example, the drying method using a hot air drying furnace etc. is mentioned.

また、乾燥条件としては、特に限定されないが、乾燥温度は、80〜150℃であるのが好ましく、乾燥時間は5秒間〜1分間であるのが好ましい。これにより、剥離剤層13の不本意な変質を防ぐことができるとともに、剥離剤層13を特に効率よく形成することができる。その結果、最終的に得られる剥離フィルム1の生産性を向上させることができる。   Moreover, it is although it does not specifically limit as drying conditions, It is preferable that drying temperature is 80-150 degreeC, and it is preferable that drying time is 5 second-1 minute. Thereby, unintentional alteration of the release agent layer 13 can be prevented, and the release agent layer 13 can be formed particularly efficiently. As a result, productivity of the finally obtained release film 1 can be improved.

以上のような工程によれば、平滑性に優れ、剥離性に優れた信頼性の高い剥離フィルム1を、容易かつ確実に製造することができる。   According to the above process, the reliable peeling film 1 which was excellent in smoothness and excellent in peelability can be manufactured easily and reliably.

また、このような剥離フィルム1を用いてグリーンシートを製造すれば、グリーンシートの表面にピンホール等が生じるのを防止することができる。   Moreover, if a green sheet is manufactured using such a peeling film 1, it can prevent that a pinhole etc. arise on the surface of a green sheet.

なお、剥離フィルム1を用いてセラミックグリーンシートを製造する方法としては、例えば、剥離フィルムの剥離剤層の表面に、セラミック粉末分散スラリーを塗布、乾燥してグリーンシートを形成した後、剥離フィルムから剥離したグリーンシートを積層し、焼成して得られたセラミックシートに電極を形成する方法が挙げられる。これにより、セラミックコンデンサーを得ることができる。このように、剥離フィルム1を用いて形成されたグリーンシートによりセラミックコンデンサーを形成すれば、短絡による不具合の発生が防止された信頼性の高いセラミックコンデンサーを得ることができる。   In addition, as a method of manufacturing a ceramic green sheet using the release film 1, for example, a ceramic powder-dispersed slurry is applied to the surface of the release agent layer of the release film and dried to form a green sheet. A method may be mentioned in which electrodes are formed on a ceramic sheet obtained by laminating and firing the peeled green sheets. Thereby, a ceramic capacitor can be obtained. Thus, if a ceramic capacitor is formed with a green sheet formed using the release film 1, a highly reliable ceramic capacitor in which the occurrence of problems due to a short circuit is prevented can be obtained.

以上、本発明を好適実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail based on preferred embodiment, this invention is not limited to this.

例えば、前述した本実施形態では、基材は単層構造のものとして説明したが、これに限定されず、基材は、同種又は異種の2層以上の多層構造のものであってもよい。また、平滑化層、剥離剤層についても同様に、単層構造のものとして説明したが、これに限定されず、平滑化層、剥離剤層についても、それぞれ、同種又は異種の2層以上の多層構造をなすものであってもよい。   For example, in the above-described embodiment, the base material has been described as having a single layer structure, but the present invention is not limited to this, and the base material may have a multilayer structure of two or more layers of the same type or different types. In addition, the smoothing layer and the release agent layer are similarly described as having a single layer structure, but the present invention is not limited to this, and the smoothing layer and the release agent layer are each of the same or different two or more layers. It may have a multilayer structure.

また、例えば、前述した実施形態では、グリーンシート製造用剥離フィルムは、基材と、平滑化層と、剥離剤層とがこの順に互いに接合するように積層された三層構造をなすものとして説明したが、これに限定されず、平滑化層と、剥離剤層との間に中間層を設けてもよい。また、基材と、平滑化層との間に中間層を設けてもよい。このような中間層としては、平滑化層と、剥離剤層との密着性を向上させるものであってもよく、また、グリーンシート形成前のグリーンシート製造用剥離フィルムを巻き取る際の帯電の発生をより抑制させるものであってもよい。   Further, for example, in the embodiment described above, the release film for producing a green sheet is described as having a three-layer structure in which a base material, a smoothing layer, and a release agent layer are laminated in this order. However, the present invention is not limited to this, and an intermediate layer may be provided between the smoothing layer and the release agent layer. Moreover, you may provide an intermediate | middle layer between a base material and a smoothing layer. Such an intermediate layer may be one that improves the adhesion between the smoothing layer and the release agent layer, and is charged when the release film for producing the green sheet before winding the green sheet is wound up. You may suppress generation | occurrence | production more.

また、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法は、前述した方法に限定されるものではなく、必要に応じて任意の工程が追加されてもよい。   Moreover, the manufacturing method of the peeling film for green sheet manufacture of this invention is not limited to the method mentioned above, Arbitrary processes may be added as needed.

次に、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムの具体的実施例について説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   Next, although the specific Example of the peeling film for green sheet manufacture of this invention is described, this invention is not limited only to these Examples.

[1]グリーンシート製造用剥離フィルムの作製
(実施例1)
まず、基材としての二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み:38μm、第1の面の算術平均粗さRa:42nm、第1の面の最大突起高さRp:619nm、第2の面の算術平均粗さRa:42nm、第2の面の最大突起高さRp:619nm]を用意した。
[1] Production of release film for green sheet production (Example 1)
First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film as a substrate [thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface: 42 nm, maximum protrusion height Rp 2 of the first surface: 619 nm, of the second surface Arithmetic average roughness Ra 3 : 42 nm, maximum protrusion height Rp 3 : 619 nm on the second surface] was prepared.

次に、熱硬化性化合物としてのビスフェノールA型エポキシエステル化合物[日立化成ポリマー株式会社製「TA31−059D」、固形分濃度50質量%、質量平均分子量530]100質量部と、酸触媒のp−トルエンスルホン酸3質量部、およびトルエンと、メチルエチルケトンとを混合して固形分20質量%の平滑化層形成用組成物を得た。   Next, 100 parts by mass of a bisphenol A type epoxy ester compound as a thermosetting compound [“TA31-059D” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., solid content concentration 50 mass%, mass average molecular weight 530], and p- 3 parts by mass of toluenesulfonic acid, toluene, and methyl ethyl ketone were mixed to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% by mass.

得られた平滑化層形成用組成物を、マイヤーバー#4で、基材の第1の面に塗布し、塗布層を得た。   The obtained composition for smoothing layer formation was apply | coated to the 1st surface of a base material with Mayer bar # 4, and the coating layer was obtained.

次に、塗布層を、130℃で1分間加熱することにより、平滑化層(厚み1.3μm)を形成した。   Next, the coating layer was heated at 130 ° C. for 1 minute to form a smoothing layer (thickness: 1.3 μm).

さらに、剥離剤としての付加反応型シリコーン系化合物と架橋剤の混合物[信越化学工業株式会社製、商品名「シリコーンKS−847H」、固形分30質量%]100質量部をトルエンで希釈し、これに白金触媒[信越化学工業株式会社製、商品名「PL−50T」]2質量部を添加し、混合することにより得られた固形分1.5質量%の剥離剤層形成用組成物を、乾燥後の厚みが0.1μmとなるように前記平滑化層の基材と反対の面に均一に塗布した。その後、130℃で1分間乾燥させて剥離剤層を形成して、グリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。   Furthermore, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a release agent and a crosslinking agent [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “silicone KS-847H”, solid content 30% by mass] with toluene, 2 parts by mass of a platinum catalyst [trade name “PL-50T” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] was added to and mixed with a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. It coated uniformly on the surface opposite to the base material of the said smoothing layer so that the thickness after drying might be set to 0.1 micrometer. Then, it was made to dry at 130 degreeC for 1 minute, the release agent layer was formed, and the release film for green sheet manufacture was produced.

(実施例2)
実施例1の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み31μm、第1の面の算術平均粗さRa:29nm、第1の面の最大突起高さRp:257nm、第2の面の算術平均粗さRa:29nm、第2の面の最大突起高さRp:257nm]に変更した以外は、実施例1と同様にしてグリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。
(Example 2)
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film of Example 1 was converted into a biaxially stretched polyethylene terephthalate film [thickness 31 μm, arithmetic mean roughness Ra 2 of the first surface: 29 nm, maximum protrusion height Rp 2 : 257 nm of the first surface, A release film for producing a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface was 29 nm and the maximum protrusion height Rp 3 was 257 nm of the second surface. .

(実施例3)
実施例1の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み31μm、第1の面の算術平均粗さRa:15nm、第1の面の最大突起高さRp:98nm、第2の面の算術平均粗さRa:15nm、第2の面の最大突起高さRp:98nm]に変更し、平滑化層の厚みを0.4μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてグリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。
(Example 3)
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film of Example 1 was converted into a biaxially stretched polyethylene terephthalate film [thickness 31 μm, arithmetic mean roughness Ra 2 of the first surface: 15 nm, maximum projection height Rp 2 of first surface: 98 nm, Example 1 except that the arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface was changed to 15 nm and the maximum protrusion height Rp 3 of the second surface was 98 nm, and the thickness of the smoothing layer was changed to 0.4 μm. In the same manner as described above, a release film for producing a green sheet was produced.

(実施例4)
実施例1の平滑化層の厚みを1.8μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてグリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。
Example 4
A release film for producing a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the smoothing layer in Example 1 was changed to 1.8 μm.

(実施例5)
実施例1の平滑化層の厚みを2.3μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてグリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。
(Example 5)
A release film for producing a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the smoothing layer in Example 1 was changed to 2.3 μm.

(比較例1)
まず、基材としての二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み:38μm、第1の面の算術平均粗さRa:42nm、第1の面の最大突起高さRp:619nm、第2の面の算術平均粗さRa:42nm、第2の面の最大突起高さRp:619nm]を用意した。
(Comparative Example 1)
First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film as a substrate [thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface: 42 nm, maximum protrusion height Rp 2 of the first surface: 619 nm, of the second surface Arithmetic average roughness Ra 3 : 42 nm, maximum protrusion height Rp 3 : 619 nm on the second surface] was prepared.

次に、剥離剤としての付加反応型シリコーン系化合物と架橋剤の混合物[信越化学工業株式会社製、商品名「シリコーンKS−847H」、固形分30質量%]100質量部をトルエンで希釈し、これに白金触媒[信越化学工業株式会社製、商品名「PL−50T」]2質量部を添加し、混合することにより得られた固形分1.5質量%の剥離剤層形成用組成物を、乾燥後の厚みが0.1μmとなるように前記基材の第1の面上に均一に塗布した。その後、130℃で1分間乾燥させて剥離剤層を形成して、グリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。   Next, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a release agent and a crosslinking agent [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “silicone KS-847H”, solid content 30% by mass] with toluene, To this was added 2 parts by mass of a platinum catalyst [trade name “PL-50T” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] and mixed to obtain a release agent layer-forming composition having a solid content of 1.5% by mass. Then, it was applied uniformly on the first surface of the substrate so that the thickness after drying was 0.1 μm. Then, it was made to dry at 130 degreeC for 1 minute, the release agent layer was formed, and the release film for green sheet manufacture was produced.

(比較例2)
まず、基材としての二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み:38μm、第1の面の算術平均粗さRa:42nm、第1の面の最大突起高さRp:619nm、第2の面の算術平均粗さRa:42nm、第2の面の最大突起高さRp:619nm]を用意した。
(Comparative Example 2)
First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film as a substrate [thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface: 42 nm, maximum protrusion height Rp 2 of the first surface: 619 nm, of the second surface Arithmetic average roughness Ra 3 : 42 nm, maximum protrusion height Rp 3 : 619 nm on the second surface] was prepared.

次に、熱硬化性化合物としてのステアリル変性アルキド化合物とメチル化メラミン化合物との混合物[日立化成ポリマー株式会社製、商品名「テスファイン303」、固形分20質量%、質量平均分子量15000]100質量部と、酸触媒のp−トルエンスルホン酸3質量部とを混合して平滑化層形成用組成物を得た。   Next, a mixture of a stearyl-modified alkyd compound and a methylated melamine compound as a thermosetting compound [manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name “Tesfine 303”, solid content 20 mass%, mass average molecular weight 15000] 100 mass Part and 3 parts by mass of p-toluenesulfonic acid as an acid catalyst were mixed to obtain a smoothing layer forming composition.

得られた平滑化層形成用組成物を、マイヤーバー#4で、基材の第1の面に塗布し、塗布層を得た。   The obtained composition for smoothing layer formation was apply | coated to the 1st surface of a base material with Mayer bar # 4, and the coating layer was obtained.

次に、塗布層を、130℃で1分間加熱することにより、平滑化層(厚み1.0μm)を形成した。   Next, the coating layer was heated at 130 ° C. for 1 minute to form a smoothing layer (thickness: 1.0 μm).

さらに、剥離剤としての付加反応型シリコーン系化合物と架橋剤の混合物[信越化学工業株式会社製、商品名「シリコーンKS−847H」、固形分30質量%]100質量部をトルエンで希釈し、これに白金触媒[信越化学工業株式会社製、商品名「PL−50T」]2質量部を添加し、混合することにより得られた固形分1.5質量%の剥離剤層形成用組成物を、乾燥後の厚みが0.1μmとなるように前記平滑化層の基材と反対の面に均一に塗布した。その後、130℃で1分間乾燥させて剥離剤層を形成して、グリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。   Furthermore, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a release agent and a crosslinking agent [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “silicone KS-847H”, solid content 30% by mass] with toluene, 2 parts by mass of a platinum catalyst [trade name “PL-50T” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] was added to and mixed with a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. It coated uniformly on the surface opposite to the base material of the said smoothing layer so that the thickness after drying might be set to 0.1 micrometer. Then, it was made to dry at 130 degreeC for 1 minute, the release agent layer was formed, and the release film for green sheet manufacture was produced.

(比較例3)
まず、基材としての二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム[厚み:38μm、第1の面の算術平均粗さRa:42nm、第1の面の最大突起高さRp:619nm、第2の面の算術平均粗さRa:42nm、第2の面の最大突起高さRp:619nm]を用意した。
(Comparative Example 3)
First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film as a substrate [thickness: 38 μm, arithmetic average roughness Ra 2 of the first surface: 42 nm, maximum protrusion height Rp 2 of the first surface: 619 nm, of the second surface Arithmetic average roughness Ra 3 : 42 nm, maximum protrusion height Rp 3 : 619 nm on the second surface] was prepared.

次に、熱硬化性化合物としてのポリエステル化合物[東洋紡績(株)製、商品名「バイロン20SS」、固形分30質量%、質量平均分子量3000]80質量部と、架橋剤としてのメチル化メラミン化合物20質量部、酸触媒のp−トルエンスルホン酸3質量部、およびトルエンと、メチルエチルケトンとを混合して固形分20質量%の平滑化層形成用組成物を得た。   Next, 80 parts by mass of a polyester compound [manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name “Byron 20SS”, solid content 30% by mass, mass average molecular weight 3000] as a thermosetting compound, and a methylated melamine compound as a crosslinking agent 20 parts by mass, 3 parts by mass of p-toluenesulfonic acid as an acid catalyst, and toluene were mixed with methyl ethyl ketone to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% by mass.

得られた平滑化層形成用組成物を、マイヤーバー#4で、基材の第1の面に塗布し、塗布層を得た。   The obtained composition for smoothing layer formation was apply | coated to the 1st surface of a base material with Mayer bar # 4, and the coating layer was obtained.

次に、塗布層を、130℃で1分間加熱することにより、平滑化層(厚み1.2μm)を形成した。   Next, the coating layer was heated at 130 ° C. for 1 minute to form a smoothing layer (thickness 1.2 μm).

さらに、剥離剤としての付加反応型シリコーン系化合物と架橋剤の混合物[信越化学工業株式会社製、商品名「シリコーンKS−847H」、固形分30質量%]100質量部をトルエンで希釈し、これに白金触媒[信越化学工業株式会社製、商品名「PL−50T」]2質量部を添加し、混合することにより得られた固形分1.5質量%の剥離剤層形成用組成物を、乾燥後の厚みが0.1μmとなるように前記平滑化層の基材と反対の面に均一に塗布した。その後、130℃で1分間乾燥させて剥離剤層を形成して、グリーンシート製造用剥離フィルムを作製した。   Furthermore, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a release agent and a crosslinking agent [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “silicone KS-847H”, solid content 30% by mass] with toluene, 2 parts by mass of a platinum catalyst [trade name “PL-50T” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] was added to and mixed with a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. It coated uniformly on the surface opposite to the base material of the said smoothing layer so that the thickness after drying might be set to 0.1 micrometer. Then, it was made to dry at 130 degreeC for 1 minute, the release agent layer was formed, and the release film for green sheet manufacture was produced.

各実施例および各比較例のグリーンシート製造用剥離フィルムの構成等を表1にまとめて示した。   Table 1 summarizes the configurations and the like of the release films for producing green sheets of each Example and each Comparative Example.

なお、表中、熱硬化性化合物としてのビスフェノールA型エポキシエステル化合物[日立化成ポリマー株式会社製「TA31−059D」、固形分濃度50質量%]を「A1」、熱硬化性化合物としてのステアリル変性アルキド化合物とメチル化メラミン化合物との混合物[日立化成ポリマー株式会社製、商品名「テスファイン303」、固形分20質量%]を「A2」、熱硬化性化合物としてのポリエステル化合物[東洋紡績(株)製、商品名「バイロン20SS」、固形分30質量%]を「A3」と示した。   In the table, bisphenol A type epoxy ester compound [Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd. “TA31-059D”, solid content concentration 50 mass%] as thermosetting compound is “A1”, stearyl modification as thermosetting compound Mixture of alkyd compound and methylated melamine compound [manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name “Tesfine 303”, solid content 20% by mass] “A2”, polyester compound as a thermosetting compound [Toyobo Co., Ltd. ), Trade name “Byron 20SS”, solid content 30% by mass] is indicated as “A3”.

また、各実施例および各比較例の基材、平滑化層および剥離剤層の膜厚は、それぞれ、反射式膜厚計「F20」[フィルメトリックス株式会社製]にて測定した。   Moreover, the film thickness of the base material of each Example and each comparative example, the smoothing layer, and the release agent layer was measured with a reflective film thickness meter “F20” [manufactured by Filmetrics Co., Ltd.].

また、基材の第1の面の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRp、基材の第2の面の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRp、平滑化層の第3の面の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRp、剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaおよび最大突起高さRpは、それぞれ、ガラス板に両面テープを貼付し、両面テープ上に測定する側の面の反対面がガラス板側になるようにして固定し、JIS B0601−1994に準拠してミツトヨ社製表面粗さ測定機SV3000S4(触針式)にて測定した。 Further, the arithmetic average roughness Ra 2 and the maximum protrusion height Rp 2 of the first surface of the base material, the arithmetic average roughness Ra 3 and the maximum protrusion height Rp 3 of the second surface of the base material, and the smoothing layer The arithmetic average roughness Ra 4 and the maximum protrusion height Rp 4 of the third surface, the arithmetic average roughness Ra 1 and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer, respectively, a double-sided tape affixed to the glass plate And fixed on the double-sided tape so that the surface opposite to the surface to be measured is on the glass plate side, using a surface roughness measuring instrument SV3000S4 (stylus type) manufactured by Mitutoyo Corporation in accordance with JIS B0601-1994. It was measured.

Figure 2014177093
Figure 2014177093

[2]評価
以上のようにして得られたグリーンシート製造用剥離フィルムに関して、以下のような評価を行った。
[2] Evaluation Regarding the release film for producing a green sheet obtained as described above, the following evaluation was performed.

[2.1]ブロッキング性評価
各実施例および各比較例で得られたグリーンシート製造用剥離フィルムを、幅400mm、長さ5000mのロール状に巻き上げた。この剥離フィルムロールを40℃、湿度50%以下の環境下に30日間保管し、剥離フィルムロールの外観を目視にて観察し、以下の判断基準でブロッキング性を評価した。
[2.1] Evaluation of blocking property The release film for producing a green sheet obtained in each example and each comparative example was wound into a roll having a width of 400 mm and a length of 5000 m. This release film roll was stored in an environment of 40 ° C. and a humidity of 50% or less for 30 days, the appearance of the release film roll was visually observed, and the blocking property was evaluated according to the following criteria.

A:ロール状に巻き上げたときから変化がなかった(ブロッキング無し)
B:部分的に色目が異なる領域があった(ブロッキング傾向にあるものの使用可能)
C:広範な領域にわたって色目が異なった(ブロッキング有り)
上記評価Cのように表裏の密着によるブロッキングが発生して剥離フィルムロールの広範な領域にわたって色目が変化した場合、正常に巻き出すことができない場合がある。
A: There was no change from when it was rolled up (no blocking)
B: There was a region where the color was partially different (can be used although it tends to be blocking)
C: Color was different over a wide area (with blocking)
When blocking due to adhesion between the front and back surfaces occurs as in the evaluation C and the color changes over a wide area of the release film roll, the film may not be normally unwound.

[2.2]凹み数評価
ポリビニルブチラール樹脂をトルエン/エタノール混合溶剤(質量比6/4)にて溶解した塗工液を、各実施例および各比較例で得られたグリーンシート製造用剥離フィルムの剥離剤層の上(外表面)に、乾燥後の厚さが3μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させてポリビニルブチラール樹脂層を成形した。次いで、そのポリビニルブチラール樹脂層の表面にポリエステルテープを貼付した。次いで、グリーンシート製造用剥離フィルムをポリビニルブチラール樹脂層から剥離し、ポリビニルブチラール樹脂層をポリエステルテープに転写した。次いで、グリーンシート製造用剥離フィルムの剥離剤層に接触していたポリビニルブチラール樹脂層の面について、光干渉式表面形状観察装置「WYKO−1100」[株式会社Veeco社製]を用いて、PSIモード、50倍率にて、91.2×119.8μmの範囲に確認される剥離剤層の形状が転写された深さ150nm以上の凹みを数え、以下の判断基準で評価した。なお、下記評価Cの凹みが存在するグリーンシートでコンデンサを作製した場合、耐電圧低下によるショートが発生し易い傾向があった。
[2.2] Evaluation of the number of dents A release film for producing a green sheet obtained in each example and each comparative example was obtained by using a coating solution obtained by dissolving polyvinyl butyral resin in a toluene / ethanol mixed solvent (mass ratio 6/4). The release agent layer was coated on the outer surface (outer surface) so that the thickness after drying was 3 μm, and dried at 80 ° C. for 1 minute to form a polyvinyl butyral resin layer. Next, a polyester tape was attached to the surface of the polyvinyl butyral resin layer. Next, the release film for green sheet production was peeled from the polyvinyl butyral resin layer, and the polyvinyl butyral resin layer was transferred to a polyester tape. Next, with respect to the surface of the polyvinyl butyral resin layer that was in contact with the release agent layer of the release film for producing the green sheet, the PSI mode was used using a light interference type surface shape observation device “WYKO-1100” [manufactured by Veeco Corporation]. The number of dents with a depth of 150 nm or more to which the shape of the release agent layer confirmed in the range of 91.2 × 119.8 μm was transferred was counted at 50 magnifications, and evaluated according to the following criteria. In addition, when a capacitor was produced with a green sheet having a dent of the following evaluation C, a short circuit due to a decrease in withstand voltage tended to occur.

A:凹みの数が0個の場合
B:凹みの数が1〜5個の場合
C:凹みの数が6個以上の場合
これらの結果を表2に示す。
A: When the number of dents is 0 B: When the number of dents is 1 to 5 C: When the number of dents is 6 or more These results are shown in Table 2.

Figure 2014177093
Figure 2014177093

表2から明らかなように、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムは、その外表面の平滑性が優れたものであった。また、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムを用いて形成したグリーンシートには、粗大な凹み等はほとんど確認されなかった。また、本発明のグリーンシート製造用剥離フィルムを用いて形成したグリーンシートにより製造したセラミックコンデンサーには、短絡等の不具合の発生が確認されなかった。これに対して、比較例では満足な結果が得られなかった。   As is clear from Table 2, the release film for producing the green sheet of the present invention was excellent in the smoothness of the outer surface. Moreover, the coarse dent etc. were hardly confirmed by the green sheet formed using the peeling film for green sheet manufacture of this invention. Moreover, generation | occurrence | production of malfunctions, such as a short circuit, was not confirmed by the ceramic capacitor manufactured with the green sheet formed using the peeling film for green sheet manufacture of this invention. On the other hand, satisfactory results were not obtained in the comparative example.

1・・・グリーンシート製造用剥離フィルム
11・・・基材
111・・・基材の第1の面
112・・・基材の第2の面
12・・・平滑化層
121・・・面(第3の面)
13・・・剥離剤層
131・・・剥離剤層の外表面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Release film 11 for green sheet manufacture ... Base material 111 ... 1st surface 112 of a base material ... 2nd surface 12 of a base material 12 ... Smoothing layer 121 ... Surface (Third aspect)
13 ... Release agent layer 131 ... Outer surface of release agent layer

Claims (7)

グリーンシートの製造に用いられるグリーンシート製造用剥離フィルムであって、
第1の面と第2の面とを有する基材と、
前記基材の前記第1の面側に設けられた平滑化層と、
前記平滑化層の前記基材と反対の面側に設けられた剥離剤層とを有し、
前記平滑化層は、質量平均分子量が950以下の熱硬化性化合物を含む平滑化層形成用組成物を加熱して硬化させることにより形成されており、
前記剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記剥離剤層の外表面の最大突起高さRpが50nm以下であることを特徴とするグリーンシート製造用剥離フィルム。
A release film for producing a green sheet used for producing a green sheet,
A substrate having a first surface and a second surface;
A smoothing layer provided on the first surface side of the substrate;
A release agent layer provided on the surface side opposite to the base material of the smoothing layer,
The smoothing layer is formed by heating and curing a composition for forming a smoothing layer containing a thermosetting compound having a mass average molecular weight of 950 or less,
The arithmetic average roughness Ra 1 of the outer surface of the release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer is 50 nm or less. Release film.
前記第1の面の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、前記第1の面の最大突起高さRpが80〜1000nmである請求項1に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 The arithmetic mean roughness of the first surface Ra 2 is 10 to 200 nm, and the first maximum projection height Rp 2 of surface peeling green sheet produced according to claim 1 which is 80~1000nm the film. 前記平滑化層の平均膜厚が、0.2〜10μmである請求項1または2に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。   The release film for producing a green sheet according to claim 1 or 2, wherein the smoothing layer has an average film thickness of 0.2 to 10 µm. 前記熱硬化性化合物は、ビスフェノール型エポキシ化合物である請求項1ないし3のいずれか1項に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。   The release film for producing a green sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermosetting compound is a bisphenol type epoxy compound. 前記平滑化層の前記基材と反対の面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記平滑化層の前記基材と反対の面の最大突起高さRpが50nm以下である請求項1ないし4のいずれか1項に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 The arithmetic average roughness Ra 4 of the surface of the smoothing layer opposite to the substrate is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 4 of the surface of the smoothing layer opposite to the substrate is 50 nm or less. The release film for manufacturing a green sheet according to any one of claims 1 to 4. 前記第2の面の算術平均粗さRaが10〜200nmであり、かつ、前記第2の面の最大突起高さRpが80〜1000nmである請求項1ないし5のいずれか1項に記載のグリーンシート製造用剥離フィルム。 The arithmetic average roughness Ra 3 of the second surface is 10 to 200 nm, and, in any one of from the maximum projection height Rp 3 of the second surface is no claim 1 wherein 80~1000Nm 5 The release film for green sheet manufacture as described. 請求項1ないし6のいずれか1項に記載のグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法であって、
前記第1の面と前記第2の面とを有する前記基材を準備する基材準備工程と、
質量平均分子量950以下の前記熱硬化性化合物を含む前記平滑化層形成用組成物を、前記基材の前記第1の面側に塗布することにより塗布層を形成する塗布層形成工程と、
前記塗布層を加熱して硬化させることにより、前記平滑化層を形成する平滑化層形成工程と、
前記平滑化層の前記基材と反対の面側に、前記剥離剤層を形成する剥離剤層形成工程とを有し、
前記剥離剤層の外表面の算術平均粗さRaが8nm以下であり、かつ、前記剥離剤層の外表面の最大突起高さRpが50nm以下であることを特徴とするグリーンシート製造用剥離フィルムの製造方法。
It is a manufacturing method of the peeling film for green sheet manufacture of any one of Claim 1 thru | or 6, Comprising:
A base material preparing step of preparing the base material having the first surface and the second surface;
A coating layer forming step of forming a coating layer by coating the smoothing layer forming composition containing the thermosetting compound having a mass average molecular weight of 950 or less on the first surface side of the substrate;
A smoothing layer forming step of forming the smoothing layer by heating and curing the coating layer;
A release agent layer forming step of forming the release agent layer on the surface side of the smoothing layer opposite to the substrate;
The arithmetic average roughness Ra 1 of the outer surface of the release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp 1 of the outer surface of the release agent layer is 50 nm or less. A method for producing a release film.
JP2013054208A 2013-03-15 2013-03-15 Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet Active JP6033134B2 (en)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013054208A JP6033134B2 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet
MYPI2015703183A MY172241A (en) 2013-03-15 2013-12-27 Release film for producing green sheet, and method of manufacturing release film for producing green sheet
CN201380074564.3A CN105189068B (en) 2013-03-15 2013-12-27 Tellite manufacture manufactures the manufacture method with stripping film with stripping film and tellite
SG11201507461SA SG11201507461SA (en) 2013-03-15 2013-12-27 Release film for green sheet manufacturing, and method for manufacturing release film for green sheet manufacturing
KR1020157027459A KR102037128B1 (en) 2013-03-15 2013-12-27 Release film for green sheet manufacturing, and method for manufacturing release film for green sheet manufacturing
PCT/JP2013/085198 WO2014141570A1 (en) 2013-03-15 2013-12-27 Release film for green sheet manufacturing, and method for manufacturing release film for green sheet manufacturing
TW103108758A TWI551457B (en) 2013-03-15 2014-03-12 Release film for producing green sheet and method of producing release film for producing green sheet
PH12015502151A PH12015502151B1 (en) 2013-03-15 2015-09-15 Release film for green sheet manufacturing, and method for manufacturing release film for green sheet manufacturing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013054208A JP6033134B2 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014177093A true JP2014177093A (en) 2014-09-25
JP6033134B2 JP6033134B2 (en) 2016-11-30

Family

ID=51536255

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013054208A Active JP6033134B2 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JP6033134B2 (en)
KR (1) KR102037128B1 (en)
CN (1) CN105189068B (en)
MY (1) MY172241A (en)
PH (1) PH12015502151B1 (en)
SG (1) SG11201507461SA (en)
TW (1) TWI551457B (en)
WO (1) WO2014141570A1 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016141008A (en) * 2015-01-30 2016-08-08 リンテック株式会社 Release film and method for producing release film
KR20190120225A (en) 2017-03-01 2019-10-23 도요보 가부시키가이샤 Release film for ceramic green sheet production and its manufacturing method
KR20210036404A (en) 2018-09-03 2021-04-02 도요보 가부시키가이샤 Release film for ceramic green sheet manufacturing
KR102267738B1 (en) 2020-04-23 2021-06-21 도레이첨단소재 주식회사 Release film
KR20220051338A (en) 2019-08-22 2022-04-26 미쯔비시 케미컬 주식회사 polyester film roll

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101880182B1 (en) 2018-01-02 2018-07-19 도레이첨단소재 주식회사 Release film
JP7102267B2 (en) * 2018-07-10 2022-07-19 リンテック株式会社 Release film for ceramic green sheet manufacturing process

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003191384A (en) * 2001-12-26 2003-07-08 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for release film
JP2007069360A (en) * 2005-09-02 2007-03-22 Lintec Corp High smoothness peeling sheet and its manufacturing method
JP2010105384A (en) * 2008-09-30 2010-05-13 Tdk Corp Release film, ceramic component sheet, method of manufacturing them, and method of manufacturing ceramic component
JP2012224011A (en) * 2011-04-21 2012-11-15 Lintec Corp Release film for ceramic green sheet manufacturing process

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5035023B2 (en) * 2008-02-29 2012-09-26 Tdk株式会社 SUPPORT SHEET AND METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER CERAMIC ELECTRONIC COMPONENT
JP5632336B2 (en) * 2010-07-29 2014-11-26 大日本印刷株式会社 Adhesive composition and method for producing thermosetting adhesive sheet

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003191384A (en) * 2001-12-26 2003-07-08 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for release film
JP2007069360A (en) * 2005-09-02 2007-03-22 Lintec Corp High smoothness peeling sheet and its manufacturing method
JP2010105384A (en) * 2008-09-30 2010-05-13 Tdk Corp Release film, ceramic component sheet, method of manufacturing them, and method of manufacturing ceramic component
JP2012224011A (en) * 2011-04-21 2012-11-15 Lintec Corp Release film for ceramic green sheet manufacturing process

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016141008A (en) * 2015-01-30 2016-08-08 リンテック株式会社 Release film and method for producing release film
CN105838274A (en) * 2015-01-30 2016-08-10 琳得科株式会社 Release film and manufacturing method of release film
KR20190120225A (en) 2017-03-01 2019-10-23 도요보 가부시키가이샤 Release film for ceramic green sheet production and its manufacturing method
KR20230128580A (en) 2017-03-01 2023-09-05 도요보 가부시키가이샤 Mold releasing film for manufacturing ceramic green sheet and method for manufacturing mold releasing film
KR20230129570A (en) 2017-03-01 2023-09-08 도요보 가부시키가이샤 Mold releasing film for manufacturing ceramic green sheet and method for manufacturing mold releasing film
KR20210036404A (en) 2018-09-03 2021-04-02 도요보 가부시키가이샤 Release film for ceramic green sheet manufacturing
KR20210038720A (en) 2018-09-03 2021-04-07 도요보 가부시키가이샤 Mold release film for ceramic green sheet production
KR20220051338A (en) 2019-08-22 2022-04-26 미쯔비시 케미컬 주식회사 polyester film roll
KR102267738B1 (en) 2020-04-23 2021-06-21 도레이첨단소재 주식회사 Release film

Also Published As

Publication number Publication date
TWI551457B (en) 2016-10-01
CN105189068B (en) 2017-09-29
KR102037128B1 (en) 2019-10-28
MY172241A (en) 2019-11-19
KR20150132229A (en) 2015-11-25
WO2014141570A1 (en) 2014-09-18
JP6033134B2 (en) 2016-11-30
CN105189068A (en) 2015-12-23
TW201434655A (en) 2014-09-16
SG11201507461SA (en) 2015-10-29
PH12015502151A1 (en) 2016-01-25
PH12015502151B1 (en) 2016-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6033134B2 (en) Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet
JP6033135B2 (en) Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet
JP6208047B2 (en) Peeling film for producing green sheet, method for producing peeling film for producing green sheet, method for producing green sheet, and green sheet
KR102023442B1 (en) Release film for use in producing green sheet
KR101325685B1 (en) Release Film
JP6091287B2 (en) Release film for green sheet manufacturing
KR20140011390A (en) Releasing film for ceramic green sheet production rrocesses
KR101715688B1 (en) Release films and methods of manufacturing the same
KR102223435B1 (en) Release film
JP2017105092A (en) Release film for ceramic green sheet manufacturing process
JP2017007226A (en) Release film for ceramic green sheet manufacturing process
JP2015193171A (en) Release sheet and method of manufacturing release sheet
KR20140019367A (en) Release agent composition and release film for forming ceramic green sheet
KR102069612B1 (en) Double-sided adhesive sheet
JP6339809B2 (en) Release film, green sheet manufacturing method, and multilayer ceramic electronic component manufacturing method
JP2015066908A (en) Release film for producing green sheet and method for producing release film for producing green sheet
JP5713302B2 (en) Release film
TW201634259A (en) Release film and manufacturing method of release film
KR101522942B1 (en) Carrier film for ceramic green sheet
JP2016193529A (en) Release film for ceramic green sheet production process and ceramic green sheet production method
JP7176990B2 (en) Coating liquid of release agent composition and method for producing release film for ceramic green sheet production process
KR20150010864A (en) Polyester releasing film having an improved surface property and the preparing process thereof
KR20240054624A (en) Release film, laminate including the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160628

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160829

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160927

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161025

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6033134

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250